JPH105704A - ディスク形ワークの洗浄装置 - Google Patents
ディスク形ワークの洗浄装置Info
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- JPH105704A JPH105704A JP8183992A JP18399296A JPH105704A JP H105704 A JPH105704 A JP H105704A JP 8183992 A JP8183992 A JP 8183992A JP 18399296 A JP18399296 A JP 18399296A JP H105704 A JPH105704 A JP H105704A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークを乾燥させるスピンドライ機構を、イ
ンデックステーブルで縦向きの円周に沿って３６０度搬
送することなく、短い距離を効率よく移動できるように
構成する。 【解決手段】 洗浄装置の乾燥部３に、個別の乾燥位置
においてワークＷを高速回転させて乾燥させる複数のス
ピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃを、それぞれの
乾燥位置と、移送機構６に対するワークの受け渡し位置
３Ａとの間を、順番に往復動自在なるように配設する。
ンデックステーブルで縦向きの円周に沿って３６０度搬
送することなく、短い距離を効率よく移動できるように
構成する。 【解決手段】 洗浄装置の乾燥部３に、個別の乾燥位置
においてワークＷを高速回転させて乾燥させる複数のス
ピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃを、それぞれの
乾燥位置と、移送機構６に対するワークの受け渡し位置
３Ａとの間を、順番に往復動自在なるように配設する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
や光ディスク基板のような、実質的にディスク形をした
ワークを洗浄及び乾燥処理するための洗浄装置に関する
ものである。
や光ディスク基板のような、実質的にディスク形をした
ワークを洗浄及び乾燥処理するための洗浄装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の洗浄装置として、従来、特公平
５−７２０１１号公報や、特開昭３−９３０４０号公報
に記載のものが知られている。これらは、ワークをブラ
シにより洗浄する洗浄部と、洗浄したワークをスピンド
ライ機構により高速回転させて水切り乾燥させる乾燥部
とを有し、上記洗浄部に未処理ワークを１枚ずつ次々と
送り込んで洗浄すると共に、それを乾燥部に順次移送し
て乾燥させたあと、外部に取り出すものである。ところ
が、前者は、乾燥部が１つのスピンドライ機構しか有し
ていないため、ワークの送り速度がこのスピンドライ機
構の性能による制約を受け、スループットが余り良くな
いという欠点があった。また、後者は、複数のスピンド
ライ機構を備えているためスループットは良いが、各ス
ピンドライ機構をインデックステーブル上に一定間隔で
取り付け、このインデックステーブルを水平軸線の回り
で間欠的に一定角度ずつ回転させることにより、縦向き
の円周に沿って３６０度移動させる構成であるため、上
方に位置するスピンドライ機構からカバー等に付着した
液滴が他のスピンドライ機構上に落下し易いという問題
がある。また、一般にスピン乾燥に要する時間は洗浄に
要する時間より短いため、上記スピンドライ機構の数
を、洗浄部においてインデックステーブル上に設けられ
るワーク保持手段の数より少なくすることがあるが、こ
のような場合には、少数のスピンドライ機構を大径のイ
ンデックステーブルに取り付け、それらを縦向きの円周
に沿って３６０度回転させることになるため、スペース
的に無駄な設計構造となる。しかも、各スピンドライ機
構を間欠的に移動させる距離が長くなるため、その分移
動速度を速める必要があり、スピン乾燥しながら移動さ
せた場合に芯振れを起こし易いとか、制御が煩雑である
といった問題を生じ易い。
５−７２０１１号公報や、特開昭３−９３０４０号公報
に記載のものが知られている。これらは、ワークをブラ
シにより洗浄する洗浄部と、洗浄したワークをスピンド
ライ機構により高速回転させて水切り乾燥させる乾燥部
とを有し、上記洗浄部に未処理ワークを１枚ずつ次々と
送り込んで洗浄すると共に、それを乾燥部に順次移送し
て乾燥させたあと、外部に取り出すものである。ところ
が、前者は、乾燥部が１つのスピンドライ機構しか有し
ていないため、ワークの送り速度がこのスピンドライ機
構の性能による制約を受け、スループットが余り良くな
いという欠点があった。また、後者は、複数のスピンド
ライ機構を備えているためスループットは良いが、各ス
ピンドライ機構をインデックステーブル上に一定間隔で
取り付け、このインデックステーブルを水平軸線の回り
で間欠的に一定角度ずつ回転させることにより、縦向き
の円周に沿って３６０度移動させる構成であるため、上
方に位置するスピンドライ機構からカバー等に付着した
液滴が他のスピンドライ機構上に落下し易いという問題
がある。また、一般にスピン乾燥に要する時間は洗浄に
要する時間より短いため、上記スピンドライ機構の数
を、洗浄部においてインデックステーブル上に設けられ
るワーク保持手段の数より少なくすることがあるが、こ
のような場合には、少数のスピンドライ機構を大径のイ
ンデックステーブルに取り付け、それらを縦向きの円周
に沿って３６０度回転させることになるため、スペース
的に無駄な設計構造となる。しかも、各スピンドライ機
構を間欠的に移動させる距離が長くなるため、その分移
動速度を速める必要があり、スピン乾燥しながら移動さ
せた場合に芯振れを起こし易いとか、制御が煩雑である
といった問題を生じ易い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の基本的な課題
は、乾燥部における複数のスピンドライ機構をインデッ
クステーブルによって３６０度回転させることなく、短
い距離を効率よく移動できる構成として、インデックス
テーブルの使用に起因する上記従来の問題点を解消する
ことにある。本発明の従属的な課題は、複数のワークを
同時処理することができる効率的設計構造のワーク洗浄
装置を提供することにある。本発明の他の従属的な課題
は、未洗浄ワークの洗浄部への供給と、洗浄済ワークの
洗浄部から乾燥部への移送と、乾燥済ワークの乾燥部か
らの取り出しとを同時に行うことができる、ワークの搬
送効率の良いワーク洗浄装置を提供することにある。
は、乾燥部における複数のスピンドライ機構をインデッ
クステーブルによって３６０度回転させることなく、短
い距離を効率よく移動できる構成として、インデックス
テーブルの使用に起因する上記従来の問題点を解消する
ことにある。本発明の従属的な課題は、複数のワークを
同時処理することができる効率的設計構造のワーク洗浄
装置を提供することにある。本発明の他の従属的な課題
は、未洗浄ワークの洗浄部への供給と、洗浄済ワークの
洗浄部から乾燥部への移送と、乾燥済ワークの乾燥部か
らの取り出しとを同時に行うことができる、ワークの搬
送効率の良いワーク洗浄装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、処理すべきワークをローディング部から
洗浄部及び乾燥部へと連続的に送り込んで順次洗浄及び
乾燥したあと、アンローディング部に取り出す構成の洗
浄装置において、上記乾燥部を、個別の乾燥位置におい
てワークを高速回転させて乾燥させる複数のスピンドラ
イ機構を有していて、これらのスピンドライ機構が、そ
れぞれの乾燥位置と、上記移送機構に対してワークの受
け取りと手渡しとを行う受け渡し位置との間を、順番に
往復動するように構成したことを特徴としている。
め、本発明は、処理すべきワークをローディング部から
洗浄部及び乾燥部へと連続的に送り込んで順次洗浄及び
乾燥したあと、アンローディング部に取り出す構成の洗
浄装置において、上記乾燥部を、個別の乾燥位置におい
てワークを高速回転させて乾燥させる複数のスピンドラ
イ機構を有していて、これらのスピンドライ機構が、そ
れぞれの乾燥位置と、上記移送機構に対してワークの受
け取りと手渡しとを行う受け渡し位置との間を、順番に
往復動するように構成したことを特徴としている。
【０００５】本発明の具体的な構成態様によれば、上記
移送機構が、洗浄部にローディング部から未洗浄ワーク
を供給する第１ハンドラー、上記洗浄部から乾燥部に洗
浄済ワークを移送する第２ハンドラー、上記乾燥部から
アンローディング部に乾燥済ワークを取り出す第３ハン
ドラーで構成される。また、上記洗浄部は、ワークを保
持する複数の保持手段と、該保持手段に保持されたワー
クを洗浄する少なくとも１つの洗浄機構とを有し、上記
保持手段が、上記第１ハンドラーからのワークの受け取
りと第２ハンドラーへのワークの手渡しとを行う受け渡
し位置と、上記洗浄機構によるワーク洗浄位置との間
を、順次且つ間欠的に移動自在である。
移送機構が、洗浄部にローディング部から未洗浄ワーク
を供給する第１ハンドラー、上記洗浄部から乾燥部に洗
浄済ワークを移送する第２ハンドラー、上記乾燥部から
アンローディング部に乾燥済ワークを取り出す第３ハン
ドラーで構成される。また、上記洗浄部は、ワークを保
持する複数の保持手段と、該保持手段に保持されたワー
クを洗浄する少なくとも１つの洗浄機構とを有し、上記
保持手段が、上記第１ハンドラーからのワークの受け取
りと第２ハンドラーへのワークの手渡しとを行う受け渡
し位置と、上記洗浄機構によるワーク洗浄位置との間
を、順次且つ間欠的に移動自在である。
【０００６】上記構成を有する本発明の洗浄装置は、乾
燥部に設けた複数のスピンドライ機構を、ワークの受け
渡し位置とそれぞれの乾燥位置との間で交互に往復動さ
せる構成であるため、大径のインデックステーブルに取
り付けたスピンドライ機構を縦向きの円周に沿って３６
０度回転させる従来方式に比べ、各スピンドライ機構の
移動距離が短く、その短い距離を短い時間で効率よく移
動させることができ、設置及び移動のためのスペースも
小さくて済む。しかも、スピンドライ機構の数が少ない
場合でも移動距離が長くなることがないため、移動速度
を速める必要もなく、移動速度を速める必要がないか
ら、スピン乾燥しながら移動させても芯振れを起こすこ
とがない。また、スピンドライ機構が３６０度回転しな
いため、カバー等に付着した液滴が他のスピンドライ機
構上に落下するという不都合も生じない。
燥部に設けた複数のスピンドライ機構を、ワークの受け
渡し位置とそれぞれの乾燥位置との間で交互に往復動さ
せる構成であるため、大径のインデックステーブルに取
り付けたスピンドライ機構を縦向きの円周に沿って３６
０度回転させる従来方式に比べ、各スピンドライ機構の
移動距離が短く、その短い距離を短い時間で効率よく移
動させることができ、設置及び移動のためのスペースも
小さくて済む。しかも、スピンドライ機構の数が少ない
場合でも移動距離が長くなることがないため、移動速度
を速める必要もなく、移動速度を速める必要がないか
ら、スピン乾燥しながら移動させても芯振れを起こすこ
とがない。また、スピンドライ機構が３６０度回転しな
いため、カバー等に付着した液滴が他のスピンドライ機
構上に落下するという不都合も生じない。
【０００７】本発明の１つの具体的な構成態様によれ
ば、上記乾燥部が３つのスピンドライ機構を有してい
て、第１及び第２のスピンドライ機構が、共通の軸線を
中心にして一定角度揺動自在の支持プレートにそれぞれ
取り付けられ、該支持プレートの揺動によって上記受け
渡し位置と自らの乾燥位置との間を往復動し、第３のス
ピンドライ機構が、上記第１及び第２のスピンドライ機
構の中間に配設されて、上記受け渡し位置と自らの乾燥
位置との間を往復動するようになっている。本発明にお
いて好ましくは、ワークを複数枚ずつ同時に処理可能な
るように構成されていることである。
ば、上記乾燥部が３つのスピンドライ機構を有してい
て、第１及び第２のスピンドライ機構が、共通の軸線を
中心にして一定角度揺動自在の支持プレートにそれぞれ
取り付けられ、該支持プレートの揺動によって上記受け
渡し位置と自らの乾燥位置との間を往復動し、第３のス
ピンドライ機構が、上記第１及び第２のスピンドライ機
構の中間に配設されて、上記受け渡し位置と自らの乾燥
位置との間を往復動するようになっている。本発明にお
いて好ましくは、ワークを複数枚ずつ同時に処理可能な
るように構成されていることである。
【０００８】本発明の好ましい他の具体的な構成態様に
よれば、上記第１、第２及び第３ハンドラーが、直線レ
ールに沿って往復動する１つのスライダに一定の間隔を
保って取り付けられていて、該スライダの１行程で、第
１ハンドラーによるローディング部から洗浄部への未洗
浄ワークの供給と、第２ハンドラーによる洗浄部から乾
燥部への洗浄済ワークの移送と、第３ハンドラーによる
乾燥部からローディング部への乾燥済ワークの取り出し
とが、同期的に行われるようになっている。この構成に
より、ワークの搬送を非常に効率的に行うことができ、
自動制御も容易である。
よれば、上記第１、第２及び第３ハンドラーが、直線レ
ールに沿って往復動する１つのスライダに一定の間隔を
保って取り付けられていて、該スライダの１行程で、第
１ハンドラーによるローディング部から洗浄部への未洗
浄ワークの供給と、第２ハンドラーによる洗浄部から乾
燥部への洗浄済ワークの移送と、第３ハンドラーによる
乾燥部からローディング部への乾燥済ワークの取り出し
とが、同期的に行われるようになっている。この構成に
より、ワークの搬送を非常に効率的に行うことができ、
自動制御も容易である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい一実施例
について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１に
示すワーク洗浄装置において、１は機体、２は該機体１
の内部に形成されたディスク形ワークＷを洗浄するため
の洗浄部、３は該洗浄部２に隣接して形成された洗浄済
ワークＷを乾燥するための乾燥部、４は上記機体１の一
側に形成された、未洗浄ワークＷを上記洗浄部２に供給
するためのローディング部、５は上記機体１の他側に形
成された、乾燥済ワークＷを上記乾燥部３から取り出す
ためのアンローディング部、６は上記各部間でのワーク
Ｗの移送を行う移送機構６を示している。
について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１に
示すワーク洗浄装置において、１は機体、２は該機体１
の内部に形成されたディスク形ワークＷを洗浄するため
の洗浄部、３は該洗浄部２に隣接して形成された洗浄済
ワークＷを乾燥するための乾燥部、４は上記機体１の一
側に形成された、未洗浄ワークＷを上記洗浄部２に供給
するためのローディング部、５は上記機体１の他側に形
成された、乾燥済ワークＷを上記乾燥部３から取り出す
ためのアンローディング部、６は上記各部間でのワーク
Ｗの移送を行う移送機構６を示している。
【００１０】上記洗浄部２は、水平軸線１０の回りを図
示しないギアドモータにより一定角度ずつ間欠的に回転
する円板形のインデックステーブル１１を有している。
このインデックステーブル１１の前面は、図２からも分
かるように、隔壁１２によって上下及び左右の４つの領
域１３に仕切られ、各領域１３内に、洗浄すべきワーク
Ｗを保持するための保持手段１４がそれぞれ設けられて
いる。これらの保持手段１４はいずれも、実質的に同じ
構成を持つ２組のワークチャック手段１５，１５を有し
ていて、横並び状態に配設されたこれらのワークチャッ
ク手段１５，１５によって２枚のワークをチャックでき
るようになっている。上記チャック手段１５は、インデ
ックステーブル１１に固定されたほぼ円形の支持基板１
７と、該支持基板１７に軸１９ａ，１９ｂで基端部を回
動自在に支持された一対のチャックアーム１８ａ，１８
ｂとを有しており、これらのチャックアーム１８ａ，１
８ｂの先端部はインデックステーブル１１の外部にまで
延出している。
示しないギアドモータにより一定角度ずつ間欠的に回転
する円板形のインデックステーブル１１を有している。
このインデックステーブル１１の前面は、図２からも分
かるように、隔壁１２によって上下及び左右の４つの領
域１３に仕切られ、各領域１３内に、洗浄すべきワーク
Ｗを保持するための保持手段１４がそれぞれ設けられて
いる。これらの保持手段１４はいずれも、実質的に同じ
構成を持つ２組のワークチャック手段１５，１５を有し
ていて、横並び状態に配設されたこれらのワークチャッ
ク手段１５，１５によって２枚のワークをチャックでき
るようになっている。上記チャック手段１５は、インデ
ックステーブル１１に固定されたほぼ円形の支持基板１
７と、該支持基板１７に軸１９ａ，１９ｂで基端部を回
動自在に支持された一対のチャックアーム１８ａ，１８
ｂとを有しており、これらのチャックアーム１８ａ，１
８ｂの先端部はインデックステーブル１１の外部にまで
延出している。
【００１１】第１軸１９ａに支持された長尺の第１チャ
ックアーム１８ａは、その先端部と基端部とに回転自在
に取り付けられた２個の溝付きローラ２０，２０を有
し、第２軸１９ｂに支持された短尺の第２チャックアー
ム１８ｂは、その先端部に回転自在に取り付けられた１
個の溝付きローラ２０を有しており、これら両チャック
アーム１８ａ，１８ｂの各ローラ２０により、ワークＷ
の外周を異なる３点において回転自在なるように保持す
るものである。このとき、保持されたワークの中心は、
インデックステーブル１１の外周より外側に位置してい
る。上記ローラ２０は、好ましくは硬質ウレタンやその
他の合成樹脂により形成される。
ックアーム１８ａは、その先端部と基端部とに回転自在
に取り付けられた２個の溝付きローラ２０，２０を有
し、第２軸１９ｂに支持された短尺の第２チャックアー
ム１８ｂは、その先端部に回転自在に取り付けられた１
個の溝付きローラ２０を有しており、これら両チャック
アーム１８ａ，１８ｂの各ローラ２０により、ワークＷ
の外周を異なる３点において回転自在なるように保持す
るものである。このとき、保持されたワークの中心は、
インデックステーブル１１の外周より外側に位置してい
る。上記ローラ２０は、好ましくは硬質ウレタンやその
他の合成樹脂により形成される。
【００１２】上記一対のチャックアーム１８ａ，１８ｂ
は、ワークＷの受け渡しのため、１つのシリンダとカム
機構とで開閉できるように構成されている。即ち、図３
から分かるように、上記第１軸１９ａには、インデック
ステーブルの背後においてシリンダ２３により一定の角
度往復動される操作アーム２４が固定され、また、第１
軸１９ａ及び第２軸１９ｂにはそれぞれ、上記支持基板
１７内において第１カム部材２５ａ及び第２カム部材２
５ｂが固定され、第１カム部材２５ａにはカムローラ２
６が設けられ、第２カム部材２５ｂには該カムローラ２
６が当接するカム受け部２７が形成されている。そし
て、第１軸１９ａが図示の位置から、シリンダ２３の短
縮により時計方向へ回動されると、第１カム部材２５ａ
が回動してカムローラ２６で第２カム部材２５ｂのカム
受け部２７を押すことにより、該第２カム部材２５ｂ及
び第２軸１９ｂが反時計方向に回動し、それによって一
対のチャックアーム１８ａ，１８ｂが開放して、各ロー
ラ２０が保持しているワークＷの取り出しと、取り出し
た後へのワークＷの供給とが可能になる。
は、ワークＷの受け渡しのため、１つのシリンダとカム
機構とで開閉できるように構成されている。即ち、図３
から分かるように、上記第１軸１９ａには、インデック
ステーブルの背後においてシリンダ２３により一定の角
度往復動される操作アーム２４が固定され、また、第１
軸１９ａ及び第２軸１９ｂにはそれぞれ、上記支持基板
１７内において第１カム部材２５ａ及び第２カム部材２
５ｂが固定され、第１カム部材２５ａにはカムローラ２
６が設けられ、第２カム部材２５ｂには該カムローラ２
６が当接するカム受け部２７が形成されている。そし
て、第１軸１９ａが図示の位置から、シリンダ２３の短
縮により時計方向へ回動されると、第１カム部材２５ａ
が回動してカムローラ２６で第２カム部材２５ｂのカム
受け部２７を押すことにより、該第２カム部材２５ｂ及
び第２軸１９ｂが反時計方向に回動し、それによって一
対のチャックアーム１８ａ，１８ｂが開放して、各ロー
ラ２０が保持しているワークＷの取り出しと、取り出し
た後へのワークＷの供給とが可能になる。
【００１３】上記両カム部材２５ａ，２５ｂの間にはコ
イル２８ばねが張設されており、上記移送機構６の第１
ハンドラー３１（図１参照）で上記各ローラ２０間にワ
ークＷが送り込まれ、シリンダ２３が復帰すると、上記
コイルばね２８の付勢力によって両カム部材２５ａ，２
５ｂ及び両軸１９ａ，１９ｂが図示のワーク保持位置に
復帰し、一対のチャックアーム１８ａ，１８ｂが閉じて
３つのローラ２０間にワークＷの外周が保持される。図
中２９ａ，２９ｂは、ワーク保持状態での上記両カム部
材２５ａ，２５ｂの位置を規定するストッパで、保持す
るワークの径に応じてその位置を調節できるようになっ
ている。
イル２８ばねが張設されており、上記移送機構６の第１
ハンドラー３１（図１参照）で上記各ローラ２０間にワ
ークＷが送り込まれ、シリンダ２３が復帰すると、上記
コイルばね２８の付勢力によって両カム部材２５ａ，２
５ｂ及び両軸１９ａ，１９ｂが図示のワーク保持位置に
復帰し、一対のチャックアーム１８ａ，１８ｂが閉じて
３つのローラ２０間にワークＷの外周が保持される。図
中２９ａ，２９ｂは、ワーク保持状態での上記両カム部
材２５ａ，２５ｂの位置を規定するストッパで、保持す
るワークの径に応じてその位置を調節できるようになっ
ている。
【００１４】上記インデックステーブル１１の回りに
は、図１に示すように、該テーブルの上部から反時計方
向に順次、上記移送機構６により各保持手段１４へのワ
ークの受け渡しを行うワーク受け渡し位置２Ａ、洗浄機
構３５によりワークＷを洗浄する第１洗浄位置２Ｂ、同
第２洗浄位置２Ｃ、同第３洗浄位置２Ｄがそれぞれ設定
され、インデックステーブル１１が反時計方向へ９０度
ずつ間欠的に回転することにより、各領域１３内のワー
ク保持手段１４が、上述した各位置２Ａ〜２Ｄ間を順次
移動するようになっている。
は、図１に示すように、該テーブルの上部から反時計方
向に順次、上記移送機構６により各保持手段１４へのワ
ークの受け渡しを行うワーク受け渡し位置２Ａ、洗浄機
構３５によりワークＷを洗浄する第１洗浄位置２Ｂ、同
第２洗浄位置２Ｃ、同第３洗浄位置２Ｄがそれぞれ設定
され、インデックステーブル１１が反時計方向へ９０度
ずつ間欠的に回転することにより、各領域１３内のワー
ク保持手段１４が、上述した各位置２Ａ〜２Ｄ間を順次
移動するようになっている。
【００１５】上記各洗浄位置２Ｂ〜２Ｄに設けられた洗
浄機構３５は、実質的に同じ構成を有するものであるか
ら、ここでは下段の第２洗浄位置２Ｃに設けられた洗浄
機構３５について代表的に説明する。即ち、図４及び図
５に示すように上記洗浄機構３５は、保持手段１４に保
持された２枚のワークＷを洗浄するため、実質的に同じ
構成の２組のブラシ手段３６を有している。このブラシ
手段３６は、ワークＷの表裏両面を中心から外側に偏っ
た位置で挟持して洗浄する一対の円板形をした面ブラシ
３７ａ，３７ｂと、ワークＷの外周面を洗浄する１つの
円柱形をした外周ブラシ３８と、ワークＷの内周面を洗
浄する１つの円柱形をした内周ブラシ３９とを有してい
る。これらの各ブラシは、合成樹脂発泡体のような、ワ
ークＷを傷つけない素材で形成されている。
浄機構３５は、実質的に同じ構成を有するものであるか
ら、ここでは下段の第２洗浄位置２Ｃに設けられた洗浄
機構３５について代表的に説明する。即ち、図４及び図
５に示すように上記洗浄機構３５は、保持手段１４に保
持された２枚のワークＷを洗浄するため、実質的に同じ
構成の２組のブラシ手段３６を有している。このブラシ
手段３６は、ワークＷの表裏両面を中心から外側に偏っ
た位置で挟持して洗浄する一対の円板形をした面ブラシ
３７ａ，３７ｂと、ワークＷの外周面を洗浄する１つの
円柱形をした外周ブラシ３８と、ワークＷの内周面を洗
浄する１つの円柱形をした内周ブラシ３９とを有してい
る。これらの各ブラシは、合成樹脂発泡体のような、ワ
ークＷを傷つけない素材で形成されている。
【００１６】上記一対の面ブラシ３７ａ，３７ｂは、機
体１に相互の間隔を調節自在なるように支持されたホル
ダ３９ａ，３９ｂに回転自在に取り付けられていて、各
洗浄位置にワークＷが送られてくると、上記ホルダ３９
ａ，３９ｂの移動により該ワークの両面に当接し、図示
しない洗浄液供給手段から洗剤又は水あるいは純水等の
洗浄液の供給を受けながら、相互に同じ方向に回転して
該ワークを洗浄し、インデックス中は該ワークから離れ
るようになっている。また、上記内周ブラシ３９及び外
周ブラシ３８は、それぞれの軸線をワークの軸線と平行
に向けて配設され、それぞれ軸線方向に移動自在なるよ
う機体１に支持されている。そして、洗浄位置にワーク
が送られてくると前進して該ワークの内・外周面に当接
し、軸線方向に前後動しながら洗浄を行い、インデック
ス中は後退して該ワークから離れるようになっている。
上記一対の面ブラシ３７ａ，３７ｂと内周ブラシ３９及
び外周ブラシ３８は、洗浄部２の背後において図示しな
い共通のモータにより駆動回転されるようになってい
る。なお、洗浄中上記ワークＷは、上記面ブラシ３７
ａ，３７ｂが外側に偏寄した位置に当接して回転するた
め、該面ブラシに追随して従動回転する。
体１に相互の間隔を調節自在なるように支持されたホル
ダ３９ａ，３９ｂに回転自在に取り付けられていて、各
洗浄位置にワークＷが送られてくると、上記ホルダ３９
ａ，３９ｂの移動により該ワークの両面に当接し、図示
しない洗浄液供給手段から洗剤又は水あるいは純水等の
洗浄液の供給を受けながら、相互に同じ方向に回転して
該ワークを洗浄し、インデックス中は該ワークから離れ
るようになっている。また、上記内周ブラシ３９及び外
周ブラシ３８は、それぞれの軸線をワークの軸線と平行
に向けて配設され、それぞれ軸線方向に移動自在なるよ
う機体１に支持されている。そして、洗浄位置にワーク
が送られてくると前進して該ワークの内・外周面に当接
し、軸線方向に前後動しながら洗浄を行い、インデック
ス中は後退して該ワークから離れるようになっている。
上記一対の面ブラシ３７ａ，３７ｂと内周ブラシ３９及
び外周ブラシ３８は、洗浄部２の背後において図示しな
い共通のモータにより駆動回転されるようになってい
る。なお、洗浄中上記ワークＷは、上記面ブラシ３７
ａ，３７ｂが外側に偏寄した位置に当接して回転するた
め、該面ブラシに追随して従動回転する。
【００１７】上記洗浄機構３５はまた、洗浄液の飛散を
防止するためのカバー４１を有している。このカバー４
１は透明の合成樹脂製で、保持手段１４とブラシ手段３
６の必要な部分を覆うことができるように形成され、機
体１にインデックステーブル１１に対して接離自在なる
ように支持されている。そして、ワークの洗浄中はイン
デックステーブル１１に近接することにより洗浄部分を
覆い、インデックス中はインデックステーブル１１から
離れて隔壁１２や保持手段１４に衝突しないようになっ
ている。上記カバー４１には、ワークＷに洗浄液を噴射
するためのノズルが適宜位置に設けられている。
防止するためのカバー４１を有している。このカバー４
１は透明の合成樹脂製で、保持手段１４とブラシ手段３
６の必要な部分を覆うことができるように形成され、機
体１にインデックステーブル１１に対して接離自在なる
ように支持されている。そして、ワークの洗浄中はイン
デックステーブル１１に近接することにより洗浄部分を
覆い、インデックス中はインデックステーブル１１から
離れて隔壁１２や保持手段１４に衝突しないようになっ
ている。上記カバー４１には、ワークＷに洗浄液を噴射
するためのノズルが適宜位置に設けられている。
【００１８】上記構成の洗浄部２において、インデック
ステーブル１１上の各保持手段１４が、ワーク受け渡し
位置２Ａにおいて移送機構６の第１ハンドラー３１から
未洗浄ワークＷを受け取ると、該ワークは、インデック
ステーブル１１が９０度ずつ間欠的に回転することによ
り、上記第１洗浄位置２Ｂ、第２洗浄位置２Ｃ、第３洗
浄位置２Ｄに順次送られ、それぞれの洗浄位置で例えば
洗剤による洗浄、水による洗浄、純水による洗浄等を次
々に受けたあと、再び上記ワーク受け渡し位置２Ａに回
帰する。そして、この位置で上記移送機構６の第２ハン
ドラー３２によって保持手段１４から取り出される。洗
浄済ワークが取り出されたあとの保持手段１４には、第
１ハンドラー３１から未洗浄ワークが供給され、上記工
程が繰り返される。
ステーブル１１上の各保持手段１４が、ワーク受け渡し
位置２Ａにおいて移送機構６の第１ハンドラー３１から
未洗浄ワークＷを受け取ると、該ワークは、インデック
ステーブル１１が９０度ずつ間欠的に回転することによ
り、上記第１洗浄位置２Ｂ、第２洗浄位置２Ｃ、第３洗
浄位置２Ｄに順次送られ、それぞれの洗浄位置で例えば
洗剤による洗浄、水による洗浄、純水による洗浄等を次
々に受けたあと、再び上記ワーク受け渡し位置２Ａに回
帰する。そして、この位置で上記移送機構６の第２ハン
ドラー３２によって保持手段１４から取り出される。洗
浄済ワークが取り出されたあとの保持手段１４には、第
１ハンドラー３１から未洗浄ワークが供給され、上記工
程が繰り返される。
【００１９】洗浄部２から送られてきたワークＷを乾燥
させる上記乾燥部３は、該ワークＷを高速回転させて水
切り乾燥する第１〜第３の３つのスピンドライ機構４５
Ａ，４５Ｂ，４５Ｃを有しており、これらの各スピンド
ライ機構はそれぞれ、図６及び図７からも分かるよう
に、ワークＷを中心穴内において内周チャックする２組
のチャック手段４６，４６と、ワークＷの回りを取り囲
んで該ワークからの水の飛散を防止するカバー４７とを
備えている。上記各チャック手段４６は、ホルダ４８に
放射方向に移動調節自在なるように保持された３本のフ
ィンガー４９と、上記ホルダ４８を回転させるためのス
ピンドル５０とを有し、上記各フィンガー４９を内側に
寄せた状態でワークの中心穴内に挿入したあと、外側に
移動させることにより、各フィンガーの先端のローラ４
９ａでワークＷの内周をチャックするものである。これ
らのローラ４９ａはフィンガー４９に非回転状態に取り
付けられている。各スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，
４５Ｃにはそれぞれ１つのモータ５１が設けられ、この
モータ５１で２組のチャック手段４６，４６のスピンド
ル５０，５０が駆動回転されるようになっている。
させる上記乾燥部３は、該ワークＷを高速回転させて水
切り乾燥する第１〜第３の３つのスピンドライ機構４５
Ａ，４５Ｂ，４５Ｃを有しており、これらの各スピンド
ライ機構はそれぞれ、図６及び図７からも分かるよう
に、ワークＷを中心穴内において内周チャックする２組
のチャック手段４６，４６と、ワークＷの回りを取り囲
んで該ワークからの水の飛散を防止するカバー４７とを
備えている。上記各チャック手段４６は、ホルダ４８に
放射方向に移動調節自在なるように保持された３本のフ
ィンガー４９と、上記ホルダ４８を回転させるためのス
ピンドル５０とを有し、上記各フィンガー４９を内側に
寄せた状態でワークの中心穴内に挿入したあと、外側に
移動させることにより、各フィンガーの先端のローラ４
９ａでワークＷの内周をチャックするものである。これ
らのローラ４９ａはフィンガー４９に非回転状態に取り
付けられている。各スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，
４５Ｃにはそれぞれ１つのモータ５１が設けられ、この
モータ５１で２組のチャック手段４６，４６のスピンド
ル５０，５０が駆動回転されるようになっている。
【００２０】上記第１及び第２スピンドライ機構４５
Ａ，４５Ｂは、乾燥部３の左右両端寄りの相対する位置
に配設されて、それぞれの位置（乾燥位置）と、該乾燥
部３の中央上部に設定されたワーク受け渡し位置３Ａと
の間を、円周の一部に沿って個別に往復揺動するように
構成され、第３スピンドライ機構４５ｃは、上記第１及
び第２スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂの中間位置に配
設されて、その位置（乾燥位置）と上記ワーク受け渡し
位置３Ａとの間を上下方向に直線的に往復動するように
構成されている。
Ａ，４５Ｂは、乾燥部３の左右両端寄りの相対する位置
に配設されて、それぞれの位置（乾燥位置）と、該乾燥
部３の中央上部に設定されたワーク受け渡し位置３Ａと
の間を、円周の一部に沿って個別に往復揺動するように
構成され、第３スピンドライ機構４５ｃは、上記第１及
び第２スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂの中間位置に配
設されて、その位置（乾燥位置）と上記ワーク受け渡し
位置３Ａとの間を上下方向に直線的に往復動するように
構成されている。
【００２１】上述した点について更に詳細に説明する
と、乾燥部３の中央部には、図示しない駆動源により一
定角度だけ個別に往復回転する第１軸５３及び第２軸５
４が同軸状に設けられ、これら両軸にそれぞれ第１及び
第２の支持プレート５５，５６が固定されている。小径
の第１軸５３に固定されて図の左方向に延びる第１支持
プレート５５には、上記第１スピンドライ機構４５Ａが
取り付けられ、大径の第２軸５４に固定されて図の右方
向に延びる第２支持プレート５６には、上記第２スピン
ドライ機構４５Ｂが取り付けられている。そして、上記
第１軸５３が時計方向に約９０度回転すると、第１スピ
ンドライ機構４５Ａが円弧に沿ってワーク受け渡し位置
３Ａに移動し、第２軸５４が反時計方向に約９０度回転
すると、第２スピンドライ機構４５Ｂが円弧に沿ってワ
ーク受け渡し位置３Ａに移動するようになっている。こ
のとき、両スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂにおける２
組のチャック手段４６，４６は、乾燥位置においては上
下に並んで位置しているが、ワーク受け渡し位置３Ａで
は左右に並んで位置することになるため、ワークＷの受
け渡しに何ら支障を来すことはない。
と、乾燥部３の中央部には、図示しない駆動源により一
定角度だけ個別に往復回転する第１軸５３及び第２軸５
４が同軸状に設けられ、これら両軸にそれぞれ第１及び
第２の支持プレート５５，５６が固定されている。小径
の第１軸５３に固定されて図の左方向に延びる第１支持
プレート５５には、上記第１スピンドライ機構４５Ａが
取り付けられ、大径の第２軸５４に固定されて図の右方
向に延びる第２支持プレート５６には、上記第２スピン
ドライ機構４５Ｂが取り付けられている。そして、上記
第１軸５３が時計方向に約９０度回転すると、第１スピ
ンドライ機構４５Ａが円弧に沿ってワーク受け渡し位置
３Ａに移動し、第２軸５４が反時計方向に約９０度回転
すると、第２スピンドライ機構４５Ｂが円弧に沿ってワ
ーク受け渡し位置３Ａに移動するようになっている。こ
のとき、両スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂにおける２
組のチャック手段４６，４６は、乾燥位置においては上
下に並んで位置しているが、ワーク受け渡し位置３Ａで
は左右に並んで位置することになるため、ワークＷの受
け渡しに何ら支障を来すことはない。
【００２２】一方、第３スピンドライ機構４５Ｃは、第
３支持プレート５７上に取り付けられていて、該支持プ
レート５７が、シリンダ等により昇降自在の昇降アーム
５８の上端に取り付けられ、該昇降アーム５８の昇降に
よって自らの乾燥位置とワーク受け渡し位置３Ａとの間
を直線的に往復動するものである。
３支持プレート５７上に取り付けられていて、該支持プ
レート５７が、シリンダ等により昇降自在の昇降アーム
５８の上端に取り付けられ、該昇降アーム５８の昇降に
よって自らの乾燥位置とワーク受け渡し位置３Ａとの間
を直線的に往復動するものである。
【００２３】上記構成を有する乾燥部３において、上記
３つのスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃは、決
められた周期で交互にワーク受け渡し位置３Ａに移動し
て、移送機構６の第２ハンドラー３２から洗浄済のワー
クＷを受け取り、それぞれの乾燥位置に復帰してその位
置でスピン乾燥を行う。そして、図８Ａの状態から、第
１スピンドライ機構４５Ａが保持したワークＷの乾燥が
終了すると、同図Ｂに示すように、該第１スピンドライ
機構４５Ａはワーク受け渡し位置３Ａに移動し、移送機
構６の第３ハンドラー３３に乾燥済ワークを手渡すと共
に、第２ハンドラー３２から洗浄済のワークを受け取
り、同図Ｃに示すように、乾燥位置に復帰してそのスピ
ン乾燥を行う。
３つのスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃは、決
められた周期で交互にワーク受け渡し位置３Ａに移動し
て、移送機構６の第２ハンドラー３２から洗浄済のワー
クＷを受け取り、それぞれの乾燥位置に復帰してその位
置でスピン乾燥を行う。そして、図８Ａの状態から、第
１スピンドライ機構４５Ａが保持したワークＷの乾燥が
終了すると、同図Ｂに示すように、該第１スピンドライ
機構４５Ａはワーク受け渡し位置３Ａに移動し、移送機
構６の第３ハンドラー３３に乾燥済ワークを手渡すと共
に、第２ハンドラー３２から洗浄済のワークを受け取
り、同図Ｃに示すように、乾燥位置に復帰してそのスピ
ン乾燥を行う。
【００２４】次に、同図Ｄ〜Ｅに示すように、第２スピ
ンドライ機構４５Ｂが同様の動作を行ったあと、同図Ｆ
〜Ａに示すように、第３スピンドライ機構４５Ｃが同様
の動作を行うというように、３つのスピンドライ機構４
５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃが順次上記工程を繰り返す。この
ときの各スピンドライ機構の動作周期は、前記洗浄部２
におけるインデックステーブル１１の間欠回転の周期と
同期している。上記スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，
４５Ｃが動作する順序は、上記のものに限定されない。
上記乾燥部３内には、各スピンドライ機構４５Ａ，４５
Ｂ，４５Ｃに保持されたワークＷの表裏両面にリンス液
を供給するためのノズルを設けておき、リンスしながら
乾燥できるようにしておくことが望ましい。
ンドライ機構４５Ｂが同様の動作を行ったあと、同図Ｆ
〜Ａに示すように、第３スピンドライ機構４５Ｃが同様
の動作を行うというように、３つのスピンドライ機構４
５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃが順次上記工程を繰り返す。この
ときの各スピンドライ機構の動作周期は、前記洗浄部２
におけるインデックステーブル１１の間欠回転の周期と
同期している。上記スピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，
４５Ｃが動作する順序は、上記のものに限定されない。
上記乾燥部３内には、各スピンドライ機構４５Ａ，４５
Ｂ，４５Ｃに保持されたワークＷの表裏両面にリンス液
を供給するためのノズルを設けておき、リンスしながら
乾燥できるようにしておくことが望ましい。
【００２５】このように、複数のスピンドライ機構をワ
ーク受け渡し位置とそれぞれの乾燥位置との間で交互に
往復動させる構成は、それらをインデックステーブル上
に並べて縦向きの円周に沿って３６０度回転させる従来
方式に比べ、各スピンドライ機構の移動距離が短くな
り、その短い距離を短い時間で効率よく移動させること
ができる。しかも、設置及び移動のためのスペースも小
さくて済む。また、高速で長い距離を移動させることが
ないため、移動中にワークを高速回転させても、芯振れ
を起こすことがない。更に、スピンドライ機構を縦向き
の円周に沿って３６０度回転させないから、カバー等に
付着した液滴が他のスピンドライ機構上に落下するとい
う不都合も生じない。
ーク受け渡し位置とそれぞれの乾燥位置との間で交互に
往復動させる構成は、それらをインデックステーブル上
に並べて縦向きの円周に沿って３６０度回転させる従来
方式に比べ、各スピンドライ機構の移動距離が短くな
り、その短い距離を短い時間で効率よく移動させること
ができる。しかも、設置及び移動のためのスペースも小
さくて済む。また、高速で長い距離を移動させることが
ないため、移動中にワークを高速回転させても、芯振れ
を起こすことがない。更に、スピンドライ機構を縦向き
の円周に沿って３６０度回転させないから、カバー等に
付着した液滴が他のスピンドライ機構上に落下するとい
う不都合も生じない。
【００２６】ワークＷを移送する上記移送機構６は、機
体１の上部において洗浄部２と乾燥部３との間に延びる
１本の直線レール６０と、該直線レール６０に沿って一
定距離往復動する１つのスライダ６１と、該スライダ６
１にワークＷの軸線方向に変移可能なるように取り付け
られたバー部材６２と、該バー部材６２の両端部と中央
部とに等間隔で取り付けられた上記第１ハンドラー３
１、第２ハンドラー３２及び第３ハンドラー３３とを有
している。
体１の上部において洗浄部２と乾燥部３との間に延びる
１本の直線レール６０と、該直線レール６０に沿って一
定距離往復動する１つのスライダ６１と、該スライダ６
１にワークＷの軸線方向に変移可能なるように取り付け
られたバー部材６２と、該バー部材６２の両端部と中央
部とに等間隔で取り付けられた上記第１ハンドラー３
１、第２ハンドラー３２及び第３ハンドラー３３とを有
している。
【００２７】バー部材６２の左端に設けられた上記第１
ハンドラー３１は、未洗浄ワークをローディング部４か
ら洗浄部２に供給するためのもので、上記バー部材６２
に固定された支持部材６５に、複数のフィンガーでワー
クの内周をチャックする２組のチャック手段６６，６６
を横並び状態に備えている。そして、これらのチャック
手段６６，６６でそれぞれ、ローディング部４の２つの
トレー６７，６７に収容されている未洗浄ワークＷをチ
ャックし、直線レール６０に沿うスライダ６１の移動に
よって上記洗浄部２のワーク受け渡し位置２Ａまでそれ
を移送し、その位置に待機している保持手段１４の２つ
のチャック手段１５，１５に供給するものである。
ハンドラー３１は、未洗浄ワークをローディング部４か
ら洗浄部２に供給するためのもので、上記バー部材６２
に固定された支持部材６５に、複数のフィンガーでワー
クの内周をチャックする２組のチャック手段６６，６６
を横並び状態に備えている。そして、これらのチャック
手段６６，６６でそれぞれ、ローディング部４の２つの
トレー６７，６７に収容されている未洗浄ワークＷをチ
ャックし、直線レール６０に沿うスライダ６１の移動に
よって上記洗浄部２のワーク受け渡し位置２Ａまでそれ
を移送し、その位置に待機している保持手段１４の２つ
のチャック手段１５，１５に供給するものである。
【００２８】バー部材６２の中間に設けられた上記第２
ハンドラー３２は、上記洗浄部２から乾燥部３に洗浄済
ワークを移送するもので、図９からも分かるように、上
記バー部材６２に固定された支持部材６９に、ワークＷ
の外周を複数の溝付きローラ７２によりチャックする２
組のチャック手段７０，７０を横並び状態に備えてい
る。そして、これらのチャック手段７０，７０でそれぞ
れ、洗浄部２のワーク受け渡し位置２Ａに待機している
保持手段１４の２つのチャック手段１５，１５から洗浄
済のワークを受け取り、直線レール６０に沿うスライダ
６１の移動によってそれを上記乾燥部３のワーク受け渡
し位置３Ａまで移送し、その位置に待機している何れか
のスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃの２つのチ
ャック手段４６，４６に供給するものである。
ハンドラー３２は、上記洗浄部２から乾燥部３に洗浄済
ワークを移送するもので、図９からも分かるように、上
記バー部材６２に固定された支持部材６９に、ワークＷ
の外周を複数の溝付きローラ７２によりチャックする２
組のチャック手段７０，７０を横並び状態に備えてい
る。そして、これらのチャック手段７０，７０でそれぞ
れ、洗浄部２のワーク受け渡し位置２Ａに待機している
保持手段１４の２つのチャック手段１５，１５から洗浄
済のワークを受け取り、直線レール６０に沿うスライダ
６１の移動によってそれを上記乾燥部３のワーク受け渡
し位置３Ａまで移送し、その位置に待機している何れか
のスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃの２つのチ
ャック手段４６，４６に供給するものである。
【００２９】上記チャック手段７０は、相互間の間隔が
調節自在の一対のアーム７１ａ，７１ｂを有していて、
一方のアーム７１ａに２つの溝つきローラ７２，７２を
取り付けると共に、他方のアーム７１ｂ方に１つの溝付
きローラ７２を取り付け、これら３つのローラでワーク
Ｗの外周をチャックするものである。しかし、支持部材
７１ｂにも２つのローラを取り付けることができる。上
記第２ハンドラー３２の各ローラ７２でワークをチャッ
クする位置と、洗浄部２における保持手段１４の各ロー
ラ２０でワークをチャックする位置とは、互いに異なっ
ており、これにより、ワークＷの受け渡し時に上記ロー
ラ同士の位置競合が生じないようにしている。
調節自在の一対のアーム７１ａ，７１ｂを有していて、
一方のアーム７１ａに２つの溝つきローラ７２，７２を
取り付けると共に、他方のアーム７１ｂ方に１つの溝付
きローラ７２を取り付け、これら３つのローラでワーク
Ｗの外周をチャックするものである。しかし、支持部材
７１ｂにも２つのローラを取り付けることができる。上
記第２ハンドラー３２の各ローラ７２でワークをチャッ
クする位置と、洗浄部２における保持手段１４の各ロー
ラ２０でワークをチャックする位置とは、互いに異なっ
ており、これにより、ワークＷの受け渡し時に上記ロー
ラ同士の位置競合が生じないようにしている。
【００３０】バー部材６２の右端に設けられた上記第３
ハンドラー３３は、上記乾燥部３から乾燥済ワークをア
ンローディング部５に取り出すもので、図６からも分か
るように、上記バー部材６２に固定された支持部材７４
に、ワークＷの外周を複数の溝付きローラによりチャッ
クする２組のチャック手段７５，７５を横並び状態に備
えている。そして、これらのチャック手段７５，７５で
それぞれ、乾燥部３のワーク受け渡し位置３Ａに待機し
ている何れかのスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５
Ｃの２つのチャック手段４６，４６から乾燥済ワークを
受け取り、直線レール６０に沿うスライダ６１の移動に
よってそれを上記アンローディング部５の第４ハンドラ
ー８０の位置まで移送し、該第４ハンドラー８０の２組
のチャック手段８１，８１に手渡すものである。上記チ
ャック手段８１は、複数のフィンガでワークの内周をチ
ャックする、上記第２ハンドラー３２のチャック手段７
０と実質的に同じ構成のものが用いられる。
ハンドラー３３は、上記乾燥部３から乾燥済ワークをア
ンローディング部５に取り出すもので、図６からも分か
るように、上記バー部材６２に固定された支持部材７４
に、ワークＷの外周を複数の溝付きローラによりチャッ
クする２組のチャック手段７５，７５を横並び状態に備
えている。そして、これらのチャック手段７５，７５で
それぞれ、乾燥部３のワーク受け渡し位置３Ａに待機し
ている何れかのスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５
Ｃの２つのチャック手段４６，４６から乾燥済ワークを
受け取り、直線レール６０に沿うスライダ６１の移動に
よってそれを上記アンローディング部５の第４ハンドラ
ー８０の位置まで移送し、該第４ハンドラー８０の２組
のチャック手段８１，８１に手渡すものである。上記チ
ャック手段８１は、複数のフィンガでワークの内周をチ
ャックする、上記第２ハンドラー３２のチャック手段７
０と実質的に同じ構成のものが用いられる。
【００３１】ワークＷを受け取った上記第４ハンドラー
８０は、アンローディング部５に置かれているトレー８
２内の所定の位置に、それらのワークを順次収容する。
上記第１ハンドラー３１によるローディング部４から洗
浄部２への未洗浄ワークの供給と、第２ハンドラー３２
による洗浄部２から乾燥部３への洗浄済ワークの移送
と、第３ハンドラー３３による乾燥部３からローディン
グ部４への乾燥済ワークの取り出しとは、上記スライダ
６１の１行程で同時に行われる。
８０は、アンローディング部５に置かれているトレー８
２内の所定の位置に、それらのワークを順次収容する。
上記第１ハンドラー３１によるローディング部４から洗
浄部２への未洗浄ワークの供給と、第２ハンドラー３２
による洗浄部２から乾燥部３への洗浄済ワークの移送
と、第３ハンドラー３３による乾燥部３からローディン
グ部４への乾燥済ワークの取り出しとは、上記スライダ
６１の１行程で同時に行われる。
【００３２】従って、上記ローディング部４から洗浄部
２のワーク受け渡し位置２Ａまでの距離と、洗浄部２の
ワーク受け渡し位置２Ａから乾燥部３のワーク受け渡し
位置３Ａまでの距離と、乾燥部３のワーク受け渡し位置
３Ａからローディング部４までの距離とは、互いに等距
離で、それは上記３つのハンドラー３１，３２，３３の
配設間隔と同じであると共に、上記スライダ６１が移動
する距離とも等しい設定になっている。
２のワーク受け渡し位置２Ａまでの距離と、洗浄部２の
ワーク受け渡し位置２Ａから乾燥部３のワーク受け渡し
位置３Ａまでの距離と、乾燥部３のワーク受け渡し位置
３Ａからローディング部４までの距離とは、互いに等距
離で、それは上記３つのハンドラー３１，３２，３３の
配設間隔と同じであると共に、上記スライダ６１が移動
する距離とも等しい設定になっている。
【００３３】上記実施例では、洗浄部２の３箇所に洗浄
機構３５を配設して、３種類の異なる洗浄液による洗浄
にも対応できるようにしているが、洗浄条件によっては
洗浄機構３５をいずれか１箇所又は２箇所に配設しても
良く、また、インデックステーブル１１に搭載する保持
手段１４の数も４つに限るものではなく、テーブルの前
面を３つの領域に区画して３つの保持手段を搭載するよ
うにしても良い。同様に、乾燥部３に設けるスピンドラ
イ機構についても、実施例ではその数が３つであるが、
条件によっては何れか２つにすることもできる。
機構３５を配設して、３種類の異なる洗浄液による洗浄
にも対応できるようにしているが、洗浄条件によっては
洗浄機構３５をいずれか１箇所又は２箇所に配設しても
良く、また、インデックステーブル１１に搭載する保持
手段１４の数も４つに限るものではなく、テーブルの前
面を３つの領域に区画して３つの保持手段を搭載するよ
うにしても良い。同様に、乾燥部３に設けるスピンドラ
イ機構についても、実施例ではその数が３つであるが、
条件によっては何れか２つにすることもできる。
【００３４】更に、上記実施例では、第１、第２、第３
ハンドラー３１，３２，３３と保持手段１４及びスピン
ドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃにそれぞれ２組のワ
ークチャック手段を設けると共に、洗浄機構３５に２組
のブラシ手段３６を設けることにより、２枚のワークを
同時処理できるようにしているが、上記ワークチャック
手段及びブラシ手段の数を減増することにより、一時に
１枚又は３枚以上のワークを処理するように構成するこ
ともできる。
ハンドラー３１，３２，３３と保持手段１４及びスピン
ドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃにそれぞれ２組のワ
ークチャック手段を設けると共に、洗浄機構３５に２組
のブラシ手段３６を設けることにより、２枚のワークを
同時処理できるようにしているが、上記ワークチャック
手段及びブラシ手段の数を減増することにより、一時に
１枚又は３枚以上のワークを処理するように構成するこ
ともできる。
【００３５】また、上記実施例では、洗浄が終ったワー
クＷを第２ハンドラー３２で外周チャックして乾燥部３
に移送し、それをスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４
５Ｃで内周チャックしてスピン乾燥させるようにしてい
る。しかし、それとは逆に、第２ハンドラー３２でワー
クを内周チャックして乾燥部３に移送し、スピンドライ
機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃで外周チャックしてスピン
乾燥させるようにすることもできる。これにより、該乾
燥部において、スピンドライ機構がワークを内周をチャ
ックする場合に生じ易い、スピン乾燥時にフィンガやロ
ーラなどからの液滴がワーク伝いに外方に飛散して、該
ワークの表面に螺旋状のシミを残すといった問題を解決
することができる。なおこの場合に、上記スピンドライ
機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃのワークチャック手段が、
ワークの外周をチャックする複数のローラをそれぞれ駆
動源に接続して、それらを高速で駆動回転できるように
構成されることは、改めて言うまでもないことである。
クＷを第２ハンドラー３２で外周チャックして乾燥部３
に移送し、それをスピンドライ機構４５Ａ，４５Ｂ，４
５Ｃで内周チャックしてスピン乾燥させるようにしてい
る。しかし、それとは逆に、第２ハンドラー３２でワー
クを内周チャックして乾燥部３に移送し、スピンドライ
機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃで外周チャックしてスピン
乾燥させるようにすることもできる。これにより、該乾
燥部において、スピンドライ機構がワークを内周をチャ
ックする場合に生じ易い、スピン乾燥時にフィンガやロ
ーラなどからの液滴がワーク伝いに外方に飛散して、該
ワークの表面に螺旋状のシミを残すといった問題を解決
することができる。なおこの場合に、上記スピンドライ
機構４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃのワークチャック手段が、
ワークの外周をチャックする複数のローラをそれぞれ駆
動源に接続して、それらを高速で駆動回転できるように
構成されることは、改めて言うまでもないことである。
【００３６】
【発明の効果】このように本発明によれば、乾燥部にお
ける複数のスピンドライ機構をワーク受け渡し位置とそ
れぞれの乾燥位置との間で交互に往復動させるようにし
たことにより、それらをインデックステーブル上に並べ
て縦向きの円周に沿って３６０度回転させる従来方式に
比べ、各スピンドライ機構の移動距離を短くして短い時
間で効率よく移動させることができるばかりでなく、そ
の設置及び移動のためのスペースも小さくて済み、ま
た、高速で長い距離を移動させることがないため、移動
中にワークを高速回転させても芯振れを起こすことがな
く、更に、カバー等に付着した液滴が他のスピンドライ
機構上に落下することもない。
ける複数のスピンドライ機構をワーク受け渡し位置とそ
れぞれの乾燥位置との間で交互に往復動させるようにし
たことにより、それらをインデックステーブル上に並べ
て縦向きの円周に沿って３６０度回転させる従来方式に
比べ、各スピンドライ機構の移動距離を短くして短い時
間で効率よく移動させることができるばかりでなく、そ
の設置及び移動のためのスペースも小さくて済み、ま
た、高速で長い距離を移動させることがないため、移動
中にワークを高速回転させても芯振れを起こすことがな
く、更に、カバー等に付着した液滴が他のスピンドライ
機構上に落下することもない。
【図１】本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す正面図
である。
である。
【図２】図１における洗浄部の要部拡大図である。
【図３】図２における要部の正面図である。
【図４】図１における洗浄部の要部拡大図である。
【図５】図５の部分破断側面図である。
【図６】図１における乾燥部の拡大正面図である。
【図７】図６の横断平面図である。
【図８】Ａ〜Ｆは乾燥部の動作を説明するための説明図
である。
である。
【図９】搬送機構におけるハンドラーの拡大正面図であ
る。
る。
２ 洗浄部 ３ 乾燥部 ２Ａ，３Ａ ワーク受け渡し位置 ２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ
洗浄位置 ４ ローディング部 ５ アンローディ
ング部 ６ 搬送機構 １４ 保持手段 ３１ 第１ハンドラー ３２ 第２ハンド
ラー ３３ 第３ハンドラー ３５ 洗浄機構 ４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ スピンドライ機構 ５３，５４ 軸 ５５，５６，５７
支持プレート ６０ 直線レール ６１ スライダ
洗浄位置 ４ ローディング部 ５ アンローディ
ング部 ６ 搬送機構 １４ 保持手段 ３１ 第１ハンドラー ３２ 第２ハンド
ラー ３３ 第３ハンドラー ３５ 洗浄機構 ４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ スピンドライ機構 ５３，５４ 軸 ５５，５６，５７
支持プレート ６０ 直線レール ６１ スライダ
Claims (5)
- 【請求項１】ディスク形ワークを洗浄するための洗浄
部、洗浄したワークを乾燥するための乾燥部、未洗浄ワ
ークを上記洗浄部に供給するためのローディング部、乾
燥済ワークを上記乾燥部から取り出すためのアンローデ
ィング部、上記各部間でのワークの移送を行う移送機構
を有し、処理すべきワークを上記ローディング部から連
続的に送り込んで順次洗浄及び乾燥したあと、アンロー
ディング部に取り出すようになっている洗浄装置におい
て、 上記乾燥部が、個別の乾燥位置においてワークを高速回
転させて乾燥させる複数のスピンドライ機構を有してい
て、これらのスピンドライ機構が、それぞれの乾燥位置
と、上記移送機構に対してワークの受け取りと手渡しと
を行う受け渡し位置との間を、順番に往復動する構成で
ある、ことを特徴とするディスク形ワークの洗浄装置。 - 【請求項２】ディスク形ワークを洗浄する洗浄部、洗浄
したワークを乾燥する乾燥部、上記洗浄部にローディン
グ部から未洗浄ワークを供給するための第１ハンドラ
ー、上記洗浄部から乾燥部に洗浄済ワークを移送するた
めの第２ハンドラー、上記乾燥部からアンローディング
部に乾燥済ワークを取り出すための第３ハンドラーを有
し、 上記洗浄部が、ワークを保持する複数の保持手段と、該
保持手段に保持されたワークを洗浄する少なくとも１つ
の洗浄機構とを有していて、上記保持手段が、上記第１
ハンドラーからのワークの受け取りと第２ハンドラーへ
のワークの手渡しとを行う受け渡し位置と、上記洗浄機
構によるワーク洗浄位置との間を、順次且つ間欠的に移
動自在であり、 上記乾燥部が、個別の乾燥位置においてワークを高速回
転させて乾燥させる複数のスピンドライ機構を有してい
て、これらのスピンドライ機構が、それぞれの乾燥位置
と、上記移送機構に対してワークの受け取りと手渡しと
を行う受け渡し位置との間を、順番に往復動する構成で
ある、ことを特徴とするディスク形ワークの洗浄装置。 - 【請求項３】請求項１又は２に記載の洗浄装置におい
て、上記乾燥部が３つのスピンドライ機構を有してい
て、第１及び第２のスピンドライ機構が、共通の軸線を
中心にして一定角度揺動自在の支持プレートにそれぞれ
取り付けられ、該支持プレートの揺動によって上記受け
渡し位置と自らの乾燥位置との間を往復動し、第３のス
ピンドライ機構が、上記第１及び第２のスピンドライ機
構の中間に配設されて、上記受け渡し位置と自らの乾燥
位置との間を往復動するもの。 - 【請求項４】請求項１乃至３の何れかに記載の洗浄装置
において、ワークを複数枚ずつ同時に処理可能なるよう
に構成されているもの。 - 【請求項５】請求項２に記載の洗浄装置において、上記
第１、第２及び第３ハンドラーが、直線レールに沿って
往復動する１つのスライダに一定の間隔を保って取り付
けられていて、該スライダの１行程で、第１ハンドラー
によるローディング部から洗浄部への未洗浄ワークの供
給と、第２ハンドラーによる洗浄部から乾燥部への洗浄
済ワークの移送と、第３ハンドラーによる乾燥部からロ
ーディング部への乾燥済ワークの取り出しとが、同期的
に行われるようになっているもの。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8183992A JPH105704A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | ディスク形ワークの洗浄装置 |
| US08/873,735 US5810028A (en) | 1996-06-25 | 1997-06-12 | Washing apparatus for disc-like workpieces |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8183992A JPH105704A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | ディスク形ワークの洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH105704A true JPH105704A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=16145431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8183992A Withdrawn JPH105704A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | ディスク形ワークの洗浄装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5810028A (ja) |
| JP (1) | JPH105704A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004145928A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用アルミニウム基板およびその製造方法、ならびに磁気ディスク |
| JP2008135171A (ja) * | 2007-12-28 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法 |
| CN109573522A (zh) * | 2018-11-21 | 2019-04-05 | 深圳市钧诚精密制造有限公司 | 磁碟清洗交付方法、设备以及存储介质 |
| JP2020058970A (ja) * | 2018-10-09 | 2020-04-16 | 株式会社スギノマシン | 洗浄装置、及び、対象物の洗浄及び乾燥方法 |
| CN113351605A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-09-07 | 湖北韩泰智能设备有限公司 | 一种工件自锁翻转夹具工装 |
| CN113976526A (zh) * | 2021-11-01 | 2022-01-28 | 西安市康铖机械制造有限公司 | 一种航空机械零部件打磨用清洁装置 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6138694A (en) * | 1998-03-06 | 2000-10-31 | Scp Global Technologies | Multiple stage wet processing platform and method of use |
| TW484184B (en) | 1998-11-06 | 2002-04-21 | Canon Kk | Sample separating apparatus and method, and substrate manufacturing method |
| US6672358B2 (en) * | 1998-11-06 | 2004-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Sample processing system |
| JP2000150836A (ja) * | 1998-11-06 | 2000-05-30 | Canon Inc | 試料の処理システム |
| US6516816B1 (en) * | 1999-04-08 | 2003-02-11 | Applied Materials, Inc. | Spin-rinse-dryer |
| JP2002353081A (ja) | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Canon Inc | 板部材の分離装置及び分離方法 |
| JP2002353423A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Canon Inc | 板部材の分離装置及び処理方法 |
| US6797075B2 (en) * | 2002-05-09 | 2004-09-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Ferris wheel-like stripping or cleaning mechanism for semiconductor fabrication |
| TW200415674A (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-16 | Applied Materials Inc | Hydrophilic components for a spin-rinse-dryer |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5177514A (en) * | 1988-02-12 | 1993-01-05 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for coating a photo-resist film and/or developing it after being exposed |
| US5357645A (en) * | 1989-04-09 | 1994-10-25 | System Seiko Co., Ltd. | Apparatus for cleaning and drying hard disk substrates |
| JP2648638B2 (ja) * | 1990-11-30 | 1997-09-03 | 三菱マテリアル株式会社 | ウェーハの接着方法およびその装置 |
| US5404894A (en) * | 1992-05-20 | 1995-04-11 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Conveyor apparatus |
| JP3110218B2 (ja) * | 1992-09-25 | 2000-11-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体洗浄装置及び方法、ウエハカセット、専用グローブ並びにウエハ受け治具 |
-
1996
- 1996-06-25 JP JP8183992A patent/JPH105704A/ja not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-06-12 US US08/873,735 patent/US5810028A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004145928A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用アルミニウム基板およびその製造方法、ならびに磁気ディスク |
| JP2008135171A (ja) * | 2007-12-28 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法 |
| JP2020058970A (ja) * | 2018-10-09 | 2020-04-16 | 株式会社スギノマシン | 洗浄装置、及び、対象物の洗浄及び乾燥方法 |
| CN109573522A (zh) * | 2018-11-21 | 2019-04-05 | 深圳市钧诚精密制造有限公司 | 磁碟清洗交付方法、设备以及存储介质 |
| CN113351605A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-09-07 | 湖北韩泰智能设备有限公司 | 一种工件自锁翻转夹具工装 |
| CN113976526A (zh) * | 2021-11-01 | 2022-01-28 | 西安市康铖机械制造有限公司 | 一种航空机械零部件打磨用清洁装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5810028A (en) | 1998-09-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030902 |