JPH1053547A - 水酸基含有ビニル化合物の精製方法 - Google Patents
水酸基含有ビニル化合物の精製方法Info
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- JPH1053547A JPH1053547A JP21065796A JP21065796A JPH1053547A JP H1053547 A JPH1053547 A JP H1053547A JP 21065796 A JP21065796 A JP 21065796A JP 21065796 A JP21065796 A JP 21065796A JP H1053547 A JPH1053547 A JP H1053547A
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- acrylate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルキル α−（ヒドロキシアルキル）アク
リレート（ＲＨＭＡ）などの水酸基含有ビニル化合物中
のアルデヒド類を効率よく分離、除去して高純度の水酸
基含有ビニル化合物を得る方法を提供する。 【解決手段】 水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、ア
ミン類およびその塩から選ばれる少なくとも１種の化合
物の水溶液で洗浄し、次いで得られる混合物を油層／水
層に分液するか、あるいはこの油層分を更に蒸留する。
リレート（ＲＨＭＡ）などの水酸基含有ビニル化合物中
のアルデヒド類を効率よく分離、除去して高純度の水酸
基含有ビニル化合物を得る方法を提供する。 【解決手段】 水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、ア
ミン類およびその塩から選ばれる少なくとも１種の化合
物の水溶液で洗浄し、次いで得られる混合物を油層／水
層に分液するか、あるいはこの油層分を更に蒸留する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は水酸基含有ビニル化
合物の精製方法、詳しくはアルキル α−（ヒドロキシ
アルキル）アクリレート類（以下、「ＲＨＭＡ」という
場合もある）に代表される水酸基含有ビニル化合物中の
不純物であるアルデヒド類を効率よく除去して高純度の
水酸基含有ビニル化合物を得る方法に関する。
合物の精製方法、詳しくはアルキル α−（ヒドロキシ
アルキル）アクリレート類（以下、「ＲＨＭＡ」という
場合もある）に代表される水酸基含有ビニル化合物中の
不純物であるアルデヒド類を効率よく除去して高純度の
水酸基含有ビニル化合物を得る方法に関する。
【０００２】
一般式（１）
【０００３】
【化３】
【０００４】（式中の記号は後記のとおりである）で表
される水酸基含有ビニル化合物は公知であり、例えば一
般式（２）
される水酸基含有ビニル化合物は公知であり、例えば一
般式（２）
【０００５】
【化４】
【０００６】（式中、Ｘは−ＣＮ基、−ＣＯＲ1基また
は−ＣＯＯＲ1基（ここで、Ｒ1は水素原子または有機残
基である））で表されるビニル系化合物とアルデヒド類
とを三級アミン化合物触媒の存在下に反応させて得られ
る（特開平７−２８５９０６号公報参照）。
は−ＣＯＯＲ1基（ここで、Ｒ1は水素原子または有機残
基である））で表されるビニル系化合物とアルデヒド類
とを三級アミン化合物触媒の存在下に反応させて得られ
る（特開平７−２８５９０６号公報参照）。
【０００７】上記水酸基含有ビニル化合物の一つである
ＲＨＭＡは、ビニル系化合物としてのアクリル酸エステ
ル類とアルデヒド類とを反応させることにより得られる
が、この反応の際には、２−メトキシメトキシメチレン
アクリル酸アルキルエステル、２−エトキシメトキシメ
チレンアクリル酸アルキルエステルなどの目的とするＲ
ＨＭＡと沸点の近い特異な不純物が副生するとして、特
開平５−７０４０８号公報には、このような特異な不純
物を除去する方法が提案されている。この方法は、上記
反応によって得られる粗ＲＨＭＡを水に溶解し、次いで
これら望ましくない不純物を特定の溶剤を用いて抽出除
去するというものである。
ＲＨＭＡは、ビニル系化合物としてのアクリル酸エステ
ル類とアルデヒド類とを反応させることにより得られる
が、この反応の際には、２−メトキシメトキシメチレン
アクリル酸アルキルエステル、２−エトキシメトキシメ
チレンアクリル酸アルキルエステルなどの目的とするＲ
ＨＭＡと沸点の近い特異な不純物が副生するとして、特
開平５−７０４０８号公報には、このような特異な不純
物を除去する方法が提案されている。この方法は、上記
反応によって得られる粗ＲＨＭＡを水に溶解し、次いで
これら望ましくない不純物を特定の溶剤を用いて抽出除
去するというものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ビニル系化合物とアル
デヒド類との反応によって得られる水酸基含有ビニル化
合物中には、未反応のアルデヒド類が混入するのを避け
ることはできない。しかし、このアルデヒド類が混入し
た水酸基含有ビニル化合物を、例えば重合体の製造に使
用した場合、重合性の低下、製品重合体の経時的着色な
どという問題が生じる。
デヒド類との反応によって得られる水酸基含有ビニル化
合物中には、未反応のアルデヒド類が混入するのを避け
ることはできない。しかし、このアルデヒド類が混入し
た水酸基含有ビニル化合物を、例えば重合体の製造に使
用した場合、重合性の低下、製品重合体の経時的着色な
どという問題が生じる。
【０００９】アルデヒド類の除去方法として、水酸基含
有ビニル化合物を水洗することが考えられるが、本発明
者らの研究によれば、この水洗処理によってもアルデヒ
ド類を充分除去することができず、通常、０．０５〜
０．１重量％程度の割合で残留することが分かった。ま
た、この水洗処理した水酸基含有ビニル化合物を更に蒸
留精製しても０．０２〜０．１重量％程度まで精製でき
るにすぎない。
有ビニル化合物を水洗することが考えられるが、本発明
者らの研究によれば、この水洗処理によってもアルデヒ
ド類を充分除去することができず、通常、０．０５〜
０．１重量％程度の割合で残留することが分かった。ま
た、この水洗処理した水酸基含有ビニル化合物を更に蒸
留精製しても０．０２〜０．１重量％程度まで精製でき
るにすぎない。
【００１０】また、前記特開昭５−７０４０８号公報の
方法によっても、アルデヒド類が水酸基含有ビニル化合
物と同様に水溶性であるため、溶剤抽出によってアルデ
ヒド類を分離、除去するのは困難である。
方法によっても、アルデヒド類が水酸基含有ビニル化合
物と同様に水溶性であるため、溶剤抽出によってアルデ
ヒド類を分離、除去するのは困難である。
【００１１】かくして、本発明の目的は、水酸基含有ビ
ニル化合物中のアルデヒド類を効率よく除去して高純度
の水酸基含有ビニル化合物を得る、新規な水酸基含有ビ
ニル化合物の精製方法を提供することにある。
ニル化合物中のアルデヒド類を効率よく除去して高純度
の水酸基含有ビニル化合物を得る、新規な水酸基含有ビ
ニル化合物の精製方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らの研究によれ
ば、水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩の水溶液、ある
いはアミン類またはその塩の水溶液で洗浄することによ
り水酸基含有ビニル化合物中のアルデヒド類を効率よく
除去できることが分かった。本発明は、このような知見
に基づいて完成されたものである。
ば、水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩の水溶液、ある
いはアミン類またはその塩の水溶液で洗浄することによ
り水酸基含有ビニル化合物中のアルデヒド類を効率よく
除去できることが分かった。本発明は、このような知見
に基づいて完成されたものである。
【００１３】すなわち、本発明は、一般式（１）
【００１４】
【化５】
【００１５】（式中、Ｘは−ＣＮ基、−ＣＯＲ1基また
は−ＣＯＲ1基（ここで、Ｒ1は水素原子または有機残基
である）を表し、Ｒ2は水素原子または有機残基を表
す）で表される水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、ア
ミン類およびその塩から選ばれる少なくとも１種の化合
物の水溶液で洗浄し、次いで油層／水層に分液すること
からなる水酸基含有ビニル化合物の精製方法である。
は−ＣＯＲ1基（ここで、Ｒ1は水素原子または有機残基
である）を表し、Ｒ2は水素原子または有機残基を表
す）で表される水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、ア
ミン類およびその塩から選ばれる少なくとも１種の化合
物の水溶液で洗浄し、次いで油層／水層に分液すること
からなる水酸基含有ビニル化合物の精製方法である。
【００１６】また、本発明は、上記一般式（１）で表さ
れる水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、アミン類およ
びその塩から選ばれる少なくとも１種の化合物の水溶液
で洗浄した後、油層／水層に分液し、次いで該油層分を
蒸留することからなる水酸基含有ビニル化合物の精製方
法である。
れる水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、アミン類およ
びその塩から選ばれる少なくとも１種の化合物の水溶液
で洗浄した後、油層／水層に分液し、次いで該油層分を
蒸留することからなる水酸基含有ビニル化合物の精製方
法である。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の水酸基含有ビニル化合物
は、上記一般式（１）で表される化合物であり、例えば
前記の一般式（２）で表されるビニル系化合物とアルデ
ヒド類とを反応させることにより得られる。この水酸基
含有ビニル化合物には、Ｘが−ＣＮ基であるアクリロニ
トリル系化合物、Ｘが−ＣＯＲ1基であるケトン系化合
物、およびＸが−ＣＯＯＲ1基であるアクリレート系化
合物がある。本発明においては、これらのうちアクリレ
ート系化合物が好適である。
は、上記一般式（１）で表される化合物であり、例えば
前記の一般式（２）で表されるビニル系化合物とアルデ
ヒド類とを反応させることにより得られる。この水酸基
含有ビニル化合物には、Ｘが−ＣＮ基であるアクリロニ
トリル系化合物、Ｘが−ＣＯＲ1基であるケトン系化合
物、およびＸが−ＣＯＯＲ1基であるアクリレート系化
合物がある。本発明においては、これらのうちアクリレ
ート系化合物が好適である。
【００１８】一般式（１）のＲ2は、上記アルデヒド類
に由来する基であって、水素原子または有機残基であ
る。
に由来する基であって、水素原子または有機残基であ
る。
【００１９】上記アルデヒド類としては、アルデヒド含
有化合物、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレル
アルデヒド、イソブチルアルデヒド、ビバリンアルデヒ
ド、シクロヘキシルアルデヒド、シクロヘキセンアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、アニスアル
デヒド、フルラールなど；オキシメチレン化合物、例え
ばホルムアルデヒドの重合体（８〜１００量体）である
パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドの２０〜５０
重量％水溶液（水和ホルムアルデヒド）、ホルムアルデ
ヒドの濃度が２０〜５０重量％であるメタノール水溶液
などを挙げることができる。これらのうち、アセトアル
デヒド、パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドの２
０〜５０重量％水溶液およびホルムアルデヒドの濃度が
２０〜５０重量％であるメタノール水溶液が好適であ
る。
有化合物、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレル
アルデヒド、イソブチルアルデヒド、ビバリンアルデヒ
ド、シクロヘキシルアルデヒド、シクロヘキセンアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、アニスアル
デヒド、フルラールなど；オキシメチレン化合物、例え
ばホルムアルデヒドの重合体（８〜１００量体）である
パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドの２０〜５０
重量％水溶液（水和ホルムアルデヒド）、ホルムアルデ
ヒドの濃度が２０〜５０重量％であるメタノール水溶液
などを挙げることができる。これらのうち、アセトアル
デヒド、パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドの２
０〜５０重量％水溶液およびホルムアルデヒドの濃度が
２０〜５０重量％であるメタノール水溶液が好適であ
る。
【００２０】かくして、一般式（１）のＲ2で表される
置換基の代表例としては、水素原子、炭素数１〜１８の
鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数４〜６のシクロ
アルキル基および炭素数６〜８のアリール基を挙げるこ
とができる。これらのうち、特に水素原子、炭素数１〜
８のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、およびア
リール基、例えばフェニル基などが好適である。
置換基の代表例としては、水素原子、炭素数１〜１８の
鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数４〜６のシクロ
アルキル基および炭素数６〜８のアリール基を挙げるこ
とができる。これらのうち、特に水素原子、炭素数１〜
８のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、およびア
リール基、例えばフェニル基などが好適である。
【００２１】一般式（１）および（２）のＲ1で表され
る有機残基は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３
〜１０のシクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜８
のヒドロキシアルキル基、−（ＣＨ2）mＮＲ10Ｒ20基、
−（ＣＨ2）mＮ+Ｒ10Ｒ20Ｒ30・Ｍ-基、または−（Ｃ2
Ｈ4Ｏ）nＲ40基である。ここで、Ｒ10、Ｒ20およびＲ30
は、それぞれ独立して、炭素数１〜８の直鎖状または分
岐状のアルキル基であり、ｍは２〜５の整数であり、Ｍ
-はＣｌ-、Ｂｒ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＨＣＯＯ-、Ｓ
Ｏ4 2 -、またはＰＯ4 3-であり、Ｒ40は炭素数１〜１８の
直鎖状または分岐状のアルキル基であり、ｎは１〜８０
の整数である。
る有機残基は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３
〜１０のシクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜８
のヒドロキシアルキル基、−（ＣＨ2）mＮＲ10Ｒ20基、
−（ＣＨ2）mＮ+Ｒ10Ｒ20Ｒ30・Ｍ-基、または−（Ｃ2
Ｈ4Ｏ）nＲ40基である。ここで、Ｒ10、Ｒ20およびＲ30
は、それぞれ独立して、炭素数１〜８の直鎖状または分
岐状のアルキル基であり、ｍは２〜５の整数であり、Ｍ
-はＣｌ-、Ｂｒ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＨＣＯＯ-、Ｓ
Ｏ4 2 -、またはＰＯ4 3-であり、Ｒ40は炭素数１〜１８の
直鎖状または分岐状のアルキル基であり、ｎは１〜８０
の整数である。
【００２２】一般式（１）および（２）のＲ1で表され
る置換基として好適なものとしては、水素原子、炭素数
１〜１８の鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数４〜
６のシクロアルキル基、炭素数６〜８のアリール基、お
よび炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基を挙げること
ができる。
る置換基として好適なものとしては、水素原子、炭素数
１〜１８の鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数４〜
６のシクロアルキル基、炭素数６〜８のアリール基、お
よび炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基を挙げること
ができる。
【００２３】一般式（１）で表される水酸基含有ビニル
化合物のうち、好適なものとしてのアクリレート系化合
物の代表例を挙げると次のとおりである。
化合物のうち、好適なものとしてのアクリレート系化合
物の代表例を挙げると次のとおりである。
【００２４】メチル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート エチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−プロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソプロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｔｅｒｔ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレ
ート ｎ−オクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソオクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ２−エチルヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ラウリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ステアリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート メチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート エチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート ｎ−プロピル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート イソプロピル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート ｎ−ブチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレー
ト イソブチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレー
ト ｔｅｒｔ−ブチル α−（１−ヒドロキシエチル）アク
リレート ｎ−オクチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート イソオクチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート ２−エチルヘキシル α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート ラウリル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート ステアリル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレー
ト メチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレート エチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレート ｎ−プロピル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート イソプロピル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート ｎ−ブチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレ
ート イソブチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレ
ート ｔｅｒｔ−ブチル α−（１−ヒドロキシフェニル）ア
クリレート ｎ−オクチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート イソオクチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート ２−エチルヘキシル α−（１−ヒドロキシフェニル）
アクリレート ラウリル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレー
ト ステアリル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレ
ート シクロペンチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレー
ト シクロヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリレー
ト シクロペンチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリ
レート シクロヘキシル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリ
レート シクロペンチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アク
リレート シクロヘキシル α−（１−ヒドロキシフェニル）アク
リレート フェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｏ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｐ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｏ−メチルフェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ｐ−メチルフェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（ヒドロキシメチ
ル）アクリレート フェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｏ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｐ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｐ−メチルフェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（ヒドロキシメチ
ル）アクリレート フェニル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート ｏ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート ｐ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート ｐ−ニトロフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート ｐ−メチルフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（１−ヒドロキシ
エチル）アクリレート フェニル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレー
ト ｏ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ｐ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ｐ−ニトロフェニル α−（１−ヒドロキシフェニル）
アクリレート ｐ−メチルフェニル α−（１−ヒドロキシフェニル）
アクリレート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（１−ヒドロキシ
フェニル）アクリレート ２−ヒドロキシエチル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ２−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート ４−ヒドロキシブチル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ２−ヒドロキシエチル α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート ２−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシエチ
ル）アクリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシエチ
ル）アクリレート ４−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシエチ
ル）アクリレート ２−ヒドロキシエチル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ２−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ４−ヒドロキシブチル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート 上記化合物のうちでも、 メチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート エチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−プロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソプロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｔｅｒｔ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレ
ート ｎ−オクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソオクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ２−エチルヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ラウリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ステアリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート シクロヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリレー
ト フェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ２−ヒドロキシエチル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ２−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート が特に好適である。
レート エチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−プロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソプロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｔｅｒｔ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレ
ート ｎ−オクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソオクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ２−エチルヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ラウリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ステアリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート メチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート エチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート ｎ−プロピル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート イソプロピル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート ｎ−ブチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレー
ト イソブチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレー
ト ｔｅｒｔ−ブチル α−（１−ヒドロキシエチル）アク
リレート ｎ−オクチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート イソオクチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレ
ート ２−エチルヘキシル α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート ラウリル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート ステアリル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレー
ト メチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレート エチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレート ｎ−プロピル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート イソプロピル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート ｎ−ブチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレ
ート イソブチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレ
ート ｔｅｒｔ−ブチル α−（１−ヒドロキシフェニル）ア
クリレート ｎ−オクチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート イソオクチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリ
レート ２−エチルヘキシル α−（１−ヒドロキシフェニル）
アクリレート ラウリル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレー
ト ステアリル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレ
ート シクロペンチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレー
ト シクロヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリレー
ト シクロペンチル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリ
レート シクロヘキシル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリ
レート シクロペンチル α−（１−ヒドロキシフェニル）アク
リレート シクロヘキシル α−（１−ヒドロキシフェニル）アク
リレート フェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｏ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｐ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｏ−メチルフェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ｐ−メチルフェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（ヒドロキシメチ
ル）アクリレート フェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｏ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｐ−メトキシフェニル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ｐ−メチルフェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（ヒドロキシメチ
ル）アクリレート フェニル α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート ｏ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート ｐ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート ｐ−ニトロフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート ｐ−メチルフェニル α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（１−ヒドロキシ
エチル）アクリレート フェニル α−（１−ヒドロキシフェニル）アクリレー
ト ｏ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ｐ−メトキシフェニル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ｐ−ニトロフェニル α−（１−ヒドロキシフェニル）
アクリレート ｐ−メチルフェニル α−（１−ヒドロキシフェニル）
アクリレート ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル α−（１−ヒドロキシ
フェニル）アクリレート ２−ヒドロキシエチル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ２−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート ４−ヒドロキシブチル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ２−ヒドロキシエチル α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート ２−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシエチ
ル）アクリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシエチ
ル）アクリレート ４−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシエチ
ル）アクリレート ２−ヒドロキシエチル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ２−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート ４−ヒドロキシブチル α−（１−ヒドロキシフェニ
ル）アクリレート 上記化合物のうちでも、 メチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート エチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−プロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソプロピル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｎ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ｔｅｒｔ−ブチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレ
ート ｎ−オクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート イソオクチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ２−エチルヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリ
レート ラウリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ステアリル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート シクロヘキシル α−（ヒドロキシメチル）アクリレー
ト フェニル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート ２−ヒドロキシエチル α−（ヒドロキシメチル）アク
リレート ２−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート ３−ヒドロキシプロピル α−（ヒドロキシメチル）ア
クリレート が特に好適である。
【００２５】本発明の方法により精製する水酸基含有ビ
ニル化合物としては、例えば前記特開昭７−２８５９０
６号公報記載の方法にしたがって、前記の一般式（２）
で表されるビニル系化合物とアルデヒド類とを三級アミ
ン化合物触媒の存在下、かつ反応終了時において水相を
形成するに足る水の存在下に反応させ、得られる反応混
合物を油層／水層に分液して、油層分として回収される
粗水酸基含有ビニル化合物が用いられる。勿論、水層中
に残留する水酸基含有ビニル化合物を適当な抽出剤、例
えば一般式（２）のビニル系化合物で抽出し、これを上
記油層分に加えたものも使用することができる。また、
この粗水酸基含有ビニル化合物は次の洗浄処理に先だっ
て水洗してもよい。このようにして得られる粗水酸基含
有ビニル化合物中には、目的物である水酸基含有ビニル
化合物のほかに、未反応の一般式（２）で表されるビニ
ル系化合物およびアルデヒド類、ならびに副生物などが
含まれている。上記反応を有機溶媒中で行う場合には、
この有機溶媒が粗水酸基含有ビニル化合物中に含まれる
こともある。
ニル化合物としては、例えば前記特開昭７−２８５９０
６号公報記載の方法にしたがって、前記の一般式（２）
で表されるビニル系化合物とアルデヒド類とを三級アミ
ン化合物触媒の存在下、かつ反応終了時において水相を
形成するに足る水の存在下に反応させ、得られる反応混
合物を油層／水層に分液して、油層分として回収される
粗水酸基含有ビニル化合物が用いられる。勿論、水層中
に残留する水酸基含有ビニル化合物を適当な抽出剤、例
えば一般式（２）のビニル系化合物で抽出し、これを上
記油層分に加えたものも使用することができる。また、
この粗水酸基含有ビニル化合物は次の洗浄処理に先だっ
て水洗してもよい。このようにして得られる粗水酸基含
有ビニル化合物中には、目的物である水酸基含有ビニル
化合物のほかに、未反応の一般式（２）で表されるビニ
ル系化合物およびアルデヒド類、ならびに副生物などが
含まれている。上記反応を有機溶媒中で行う場合には、
この有機溶媒が粗水酸基含有ビニル化合物中に含まれる
こともある。
【００２６】なお、本発明の方法により精製する水酸基
含有ビニル化合物は、その製造法によって限定されるも
のではなく、不純物としてアルデヒド類を含む粗水酸基
含有ビニル化合物であればいずれでもよい。
含有ビニル化合物は、その製造法によって限定されるも
のではなく、不純物としてアルデヒド類を含む粗水酸基
含有ビニル化合物であればいずれでもよい。
【００２７】本発明の精製方法によれば、先ず、上記の
粗水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、アミン類および
その塩から選ばれる少なくとも１種の化合物の水溶液で
洗浄する。
粗水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、アミン類および
その塩から選ばれる少なくとも１種の化合物の水溶液で
洗浄する。
【００２８】上記亜硫酸塩とは、亜硫酸塩および亜硫酸
水素塩を意味し、その代表例としては、亜硫酸水素のア
ルカリ金属塩および亜硫酸のアルカリ金属塩、例えば亜
硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜硫酸水素
セシウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸
セシウムなどを挙げることができる。
水素塩を意味し、その代表例としては、亜硫酸水素のア
ルカリ金属塩および亜硫酸のアルカリ金属塩、例えば亜
硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜硫酸水素
セシウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸
セシウムなどを挙げることができる。
【００２９】上記アミン類の代表例としては、アニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン、ジフェニルアミン、ｏ−フェニルレンジアミン、
ｐ−フェニレンジアミンなどの芳香族アミン類；リシ
ン、メチオニンなどのアミノ酸類；ヒドラジン、ヒドラ
ジンヒドラート、フェニルヒドラジン、ｐ−ニトロフェ
ニルヒドラジン、２，４−ジニトロフェニルヒドラジ
ン、アミノグアニジンなどのヒドラジン類；ヒドロキシ
ルアミン；ジエチレントリアミンなどを挙げることがで
きる。
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン、ジフェニルアミン、ｏ−フェニルレンジアミン、
ｐ−フェニレンジアミンなどの芳香族アミン類；リシ
ン、メチオニンなどのアミノ酸類；ヒドラジン、ヒドラ
ジンヒドラート、フェニルヒドラジン、ｐ−ニトロフェ
ニルヒドラジン、２，４−ジニトロフェニルヒドラジ
ン、アミノグアニジンなどのヒドラジン類；ヒドロキシ
ルアミン；ジエチレントリアミンなどを挙げることがで
きる。
【００３０】また、上記アミン類の塩の代表例として
は、上記アミン類と塩酸、リン酸、硫酸などの無機酸、
およびマレイン酸、（メタ）アクリル酸、コハク酸、シ
ュウ酸などの有機酸との塩を挙げることができる。
は、上記アミン類と塩酸、リン酸、硫酸などの無機酸、
およびマレイン酸、（メタ）アクリル酸、コハク酸、シ
ュウ酸などの有機酸との塩を挙げることができる。
【００３１】これら亜硫酸塩、アミン類およびその塩の
なかでも、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウ
ム、ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、硫
酸ヒドロキシルアミン、ヒドラジン、フェニルヒドラジ
ンなどが好適に用いられる。
なかでも、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウ
ム、ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、硫
酸ヒドロキシルアミン、ヒドラジン、フェニルヒドラジ
ンなどが好適に用いられる。
【００３２】上記洗浄処理は、粗水酸基含有ビニル化合
物と上記化合物の水溶液とを緊密に接触させればよく、
通常、高撹拌下に両者を混合すればよい。この洗浄処理
により、粗水酸基含有ビニル化合物中のアルデヒド類は
上記化合物と塩を形成することから、粗水酸基含有ビニ
ル化合物からアルデヒド類を水層中に効果的に移行させ
ることができる。上記洗浄処理は２回以上繰り返して行
ってもよい。
物と上記化合物の水溶液とを緊密に接触させればよく、
通常、高撹拌下に両者を混合すればよい。この洗浄処理
により、粗水酸基含有ビニル化合物中のアルデヒド類は
上記化合物と塩を形成することから、粗水酸基含有ビニ
ル化合物からアルデヒド類を水層中に効果的に移行させ
ることができる。上記洗浄処理は２回以上繰り返して行
ってもよい。
【００３３】上記化合物の水溶液中の濃度には特に制限
はないが、通常、１〜５０重量％の濃度で使用される。
また、この水溶液の使用量については、上記化合物がア
ルデヒド類の０．５〜５モル倍量、好ましくは１〜２モ
ル倍量となるように適宜決定すればよい。
はないが、通常、１〜５０重量％の濃度で使用される。
また、この水溶液の使用量については、上記化合物がア
ルデヒド類の０．５〜５モル倍量、好ましくは１〜２モ
ル倍量となるように適宜決定すればよい。
【００３４】上記洗浄処理を行った後の粗水酸基含有ビ
ニル化合物と上記化合物の水溶液との混合物は油層／水
層に分液する。かくして、アルデヒド類の含有量が著し
く低減された水酸基含有ビニル化合物が油層分として得
られる。この分液は、通常、上記混合物を靜置して行え
ばよく、分離した油層分は常法によって回収すればよ
い。
ニル化合物と上記化合物の水溶液との混合物は油層／水
層に分液する。かくして、アルデヒド類の含有量が著し
く低減された水酸基含有ビニル化合物が油層分として得
られる。この分液は、通常、上記混合物を靜置して行え
ばよく、分離した油層分は常法によって回収すればよ
い。
【００３５】上記油層分としてのアルデヒド類を分離、
除去した水酸基含有ビニル化合物を更に蒸留することに
より、残留する未反応のビニル系化合物やその他の不純
物を除去して高純度の製品水酸基含有ビニル化合物とす
ることができる。なお、この蒸留の前に、上記油層分を
水洗してもよい。すなわち、上記油層分に、その０．１
〜２重量倍程度の水を添加し、高撹拌下に混合して、両
者を緊密に接触させた後、混合物を靜置して油層／水層
に分液し、この油層分を蒸留してもよい。
除去した水酸基含有ビニル化合物を更に蒸留することに
より、残留する未反応のビニル系化合物やその他の不純
物を除去して高純度の製品水酸基含有ビニル化合物とす
ることができる。なお、この蒸留の前に、上記油層分を
水洗してもよい。すなわち、上記油層分に、その０．１
〜２重量倍程度の水を添加し、高撹拌下に混合して、両
者を緊密に接触させた後、混合物を靜置して油層／水層
に分液し、この油層分を蒸留してもよい。
【００３６】上記蒸留精製によって得られる製品水酸基
含有ビニル化合物は、そのアルデヒド類、副生物などの
不純物の含有量が著しく低減された、きわめて高純度な
ものである。
含有ビニル化合物は、そのアルデヒド類、副生物などの
不純物の含有量が著しく低減された、きわめて高純度な
ものである。
【００３７】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。
説明する。
【００３８】なお、実施例で用いたＲＨＭＡとしてのメ
チル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート（ＭＨＭ
Ａ）、エチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート
（ＥＨＭＡ）およびｎ−ブチル α−（ヒドロキシメチ
ル）アクリレート（ＢＨＭＡ）の合成、およびアルデヒ
ド類の定量は次の方法にしたがって行った。
チル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート（ＭＨＭ
Ａ）、エチル α−（ヒドロキシメチル）アクリレート
（ＥＨＭＡ）およびｎ−ブチル α−（ヒドロキシメチ
ル）アクリレート（ＢＨＭＡ）の合成、およびアルデヒ
ド類の定量は次の方法にしたがって行った。
【００３９】ＭＨＭＡの合成 撹拌機、温度計、冷却間およびバブリング管を備えた１
０００ｍｌ四つ口フラスコにメチルアクリレート４３０
ｇ（５モル）、３５％ホルマリン水溶液５１ｇ（０．６
モル）、重合禁止剤としてｐ−メトキシハイドロキノン
０．４ｇ（１０００ｐｐｍ対メチルアクリレート）、お
よび触媒として３０％トリメチルアミン５９ｇ（０．３
モル）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温４０℃
にて６時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混
合物を油層／水層に分液し、油層分として粗ＭＨＭＡ４
３０ｇを得た。この粗ＭＨＭＡ中にはＭＨＭＡが１１重
量％、アルデヒド類が１０００ｐｐｍ（ホルムアルデヒ
ド換算）が含まれていた。 ＥＨＭＡの合成 上記と同じ四つ口フラスコにエチルアクリレート４００
ｇ（４モル）、３７％ホルマリン水溶液８１ｇ（１モ
ル）、重合禁止剤としてｐ−メトキシハイドロキノン
０．４ｇ（１０００ｐｐｍ対エチルアクリレート）、お
よび触媒として３０％トリメチルアミン９８ｇ（０．５
モル）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温６０℃
にて３時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混
合物を油層／水層に分液し、油層分として粗ＥＨＭＡ４
００ｇを得た。この粗ＥＨＭＡ中にはＥＨＭＡが２５重
量％、アルデヒド類が１３００ｐｐｍ（ホルムアルデヒ
ド換算）が含まれていた。
０００ｍｌ四つ口フラスコにメチルアクリレート４３０
ｇ（５モル）、３５％ホルマリン水溶液５１ｇ（０．６
モル）、重合禁止剤としてｐ−メトキシハイドロキノン
０．４ｇ（１０００ｐｐｍ対メチルアクリレート）、お
よび触媒として３０％トリメチルアミン５９ｇ（０．３
モル）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温４０℃
にて６時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混
合物を油層／水層に分液し、油層分として粗ＭＨＭＡ４
３０ｇを得た。この粗ＭＨＭＡ中にはＭＨＭＡが１１重
量％、アルデヒド類が１０００ｐｐｍ（ホルムアルデヒ
ド換算）が含まれていた。 ＥＨＭＡの合成 上記と同じ四つ口フラスコにエチルアクリレート４００
ｇ（４モル）、３７％ホルマリン水溶液８１ｇ（１モ
ル）、重合禁止剤としてｐ−メトキシハイドロキノン
０．４ｇ（１０００ｐｐｍ対エチルアクリレート）、お
よび触媒として３０％トリメチルアミン９８ｇ（０．５
モル）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温６０℃
にて３時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混
合物を油層／水層に分液し、油層分として粗ＥＨＭＡ４
００ｇを得た。この粗ＥＨＭＡ中にはＥＨＭＡが２５重
量％、アルデヒド類が１３００ｐｐｍ（ホルムアルデヒ
ド換算）が含まれていた。
【００４０】ＢＨＭＡの合成 上記と同じ四つ口フラスコにｎ−ブチルアクリレート２
５６ｇ（２モル）、３５％ホルマリン水溶液８６ｇ（１
モル）、重合禁止剤としてｐ−メトキシハイドロキノン
０．３ｇ（１０００ｐｐｍ対ブチルアクリレート）、お
よび触媒として３０％トリメチルアミン９８ｇ（０．５
モル）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温６０℃
にて４時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混
合物を油層／水層に分液し、油層分を分離した。この油
層分に３０ｍｌの純水を添加して混合、撹拌した後、混
合物を靜置して油層／水層に分液し、油層分として粗Ｂ
ＨＭＡ２２０ｇを得た。この粗ＢＨＭＡ中にはＢＨＭＡ
が４０重量％、アルデヒド類が２８００ｐｐｍ（ホルム
アルデヒド換算）が含まれていた。
５６ｇ（２モル）、３５％ホルマリン水溶液８６ｇ（１
モル）、重合禁止剤としてｐ−メトキシハイドロキノン
０．３ｇ（１０００ｐｐｍ対ブチルアクリレート）、お
よび触媒として３０％トリメチルアミン９８ｇ（０．５
モル）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温６０℃
にて４時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混
合物を油層／水層に分液し、油層分を分離した。この油
層分に３０ｍｌの純水を添加して混合、撹拌した後、混
合物を靜置して油層／水層に分液し、油層分として粗Ｂ
ＨＭＡ２２０ｇを得た。この粗ＢＨＭＡ中にはＢＨＭＡ
が４０重量％、アルデヒド類が２８００ｐｐｍ（ホルム
アルデヒド換算）が含まれていた。
【００４１】アルデヒド類の定量 アルデヒド類の含有量はすべてホルムアルデヒドに換算
して示した。
して示した。
【００４２】試薬：０．２％ＭＢＴＨ（３−メチル−２
−ベンゾチアゾロンヒドラジン塩酸塩）、０．６％硫酸
第二鉄アンモニウム水溶液、およびホルムアルデヒド標
準液（ＪＩＳ Ｋ１５０２にて濃度を測定）を用いた。
−ベンゾチアゾロンヒドラジン塩酸塩）、０．６％硫酸
第二鉄アンモニウム水溶液、およびホルムアルデヒド標
準液（ＪＩＳ Ｋ１５０２にて濃度を測定）を用いた。
【００４３】方法：ホルムアルデヒド標準液を段階的に
４個以上ピペットでとり、５０ｍｌメスフラスコに入れ
る。そこへ、ＭＢＴＨ試薬５ｍｌを加えた後、３０分放
置する。次いで、硫酸第二鉄アンモニウム試薬１０ｍｌ
を加え、１０分放置した後、純水にて５０ｍｌに希釈し
た後、発色を完全にするため、更に３０分放置する。こ
の液を６２０ｎｍの波長で、各々吸光度を測定し、検量
線を作成する。同様の操作にて未知試料のアルデヒド類
濃度をホルムアルデヒド換算にて測定する。 実施例１ 粗ＥＨＭＡ１００ｇに５重量％ヒドラジン水溶液３ｇを
添加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行
った。その後、混合物を靜置して、油層／水層に分液し
た。この油層分を更に分別蒸留して精製ＥＨＭＡを得
た。そして、この精製ＥＨＭＡ中のアルデヒド類の含有
量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含
有量とともに表１に示した。
４個以上ピペットでとり、５０ｍｌメスフラスコに入れ
る。そこへ、ＭＢＴＨ試薬５ｍｌを加えた後、３０分放
置する。次いで、硫酸第二鉄アンモニウム試薬１０ｍｌ
を加え、１０分放置した後、純水にて５０ｍｌに希釈し
た後、発色を完全にするため、更に３０分放置する。こ
の液を６２０ｎｍの波長で、各々吸光度を測定し、検量
線を作成する。同様の操作にて未知試料のアルデヒド類
濃度をホルムアルデヒド換算にて測定する。 実施例１ 粗ＥＨＭＡ１００ｇに５重量％ヒドラジン水溶液３ｇを
添加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行
った。その後、混合物を靜置して、油層／水層に分液し
た。この油層分を更に分別蒸留して精製ＥＨＭＡを得
た。そして、この精製ＥＨＭＡ中のアルデヒド類の含有
量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含
有量とともに表１に示した。
【００４４】なお、表１の「処理前」とは、洗浄処理前
の粗ＥＨＭＡ中のアルデヒド類の含有量、「処理後」と
は、洗浄処理後の油層分中のアルデヒド類の含有量、ま
た「蒸留後」とは、蒸留後の精製ＥＨＭＡ中のアルデヒ
ド類の含有量を示す。
の粗ＥＨＭＡ中のアルデヒド類の含有量、「処理後」と
は、洗浄処理後の油層分中のアルデヒド類の含有量、ま
た「蒸留後」とは、蒸留後の精製ＥＨＭＡ中のアルデヒ
ド類の含有量を示す。
【００４５】実施例２〜３ 実施例１において、５重量％ヒドラジン水溶液の添加量
を１．５ｇ（実施例２）または６ｇ（実施例３）に変更
した以外は実施例１と同様にして精製ＥＨＭＡを得た。
そして、この精製ＥＨＭＡ中のアルデヒド類の含有量を
測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含有量
とともに表１に示した。
を１．５ｇ（実施例２）または６ｇ（実施例３）に変更
した以外は実施例１と同様にして精製ＥＨＭＡを得た。
そして、この精製ＥＨＭＡ中のアルデヒド類の含有量を
測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含有量
とともに表１に示した。
【００４６】実施例４ 実施例１において、５重量％ヒドラジン水溶液を用いた
洗浄処理を２回繰り返した以外は実施例１と同様にして
精製ＥＨＭＡを得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアル
デヒド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のア
ルデヒド類の含有量とともに表１に示した。
洗浄処理を２回繰り返した以外は実施例１と同様にして
精製ＥＨＭＡを得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアル
デヒド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のア
ルデヒド類の含有量とともに表１に示した。
【００４７】実施例５ 粗ＭＨＭＡ１００ｇに５重量％ヒドラジン水溶液２ｇを
添加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行
った。その後、混合物を靜置し、油層／水層に分液し
た。この油層分を更に分別蒸留して精製ＭＨＭＡを得
た。そして、この精製ＭＨＭＡのアルデヒド類の含有量
を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含有
量とともに表１に示した。
添加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行
った。その後、混合物を靜置し、油層／水層に分液し
た。この油層分を更に分別蒸留して精製ＭＨＭＡを得
た。そして、この精製ＭＨＭＡのアルデヒド類の含有量
を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含有
量とともに表１に示した。
【００４８】実施例６ 粗ＢＨＭＡ１００ｇに１０％ヒドラジン水溶液３ｇを添
加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行っ
た。その後、混合物を靜置し、油層／水層に分液した。
この油層分を更に分別蒸留して精製ＢＨＭＡを得た。そ
して、この精製ＭＨＭＡのアルデヒド類の含有量を測定
した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含有量とと
もに表１に示した。
加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行っ
た。その後、混合物を靜置し、油層／水層に分液した。
この油層分を更に分別蒸留して精製ＢＨＭＡを得た。そ
して、この精製ＭＨＭＡのアルデヒド類の含有量を測定
した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の含有量とと
もに表１に示した。
【００４９】実施例７ 粗ＥＨＭＡ１００ｇに１０重量％塩酸ヒドロキシルアミ
ン水溶液３ｇを添加し、強い撹拌下に３０分間接触させ
て洗浄処理を行った。その後、混合物を靜置し、油層／
水層に分液した。この油層分を更に分別蒸留して精製Ｅ
ＨＭＡを得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアルデヒド
類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒ
ド類の含有量とともに表１に示した。
ン水溶液３ｇを添加し、強い撹拌下に３０分間接触させ
て洗浄処理を行った。その後、混合物を靜置し、油層／
水層に分液した。この油層分を更に分別蒸留して精製Ｅ
ＨＭＡを得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアルデヒド
類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒ
ド類の含有量とともに表１に示した。
【００５０】実施例８ 粗ＥＨＭＡ１００ｇに１０重量％亜硫酸水素ナトリウム
水溶液４．５ｇを添加し、強い撹拌下に３０分間接触さ
せて洗浄処理を行った。その後、混合物を靜置し、油層
／水層に分液した。この油層分を更に分別蒸留して精製
ＥＨＭＡを得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアルデヒ
ド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデ
ヒド類の含有量とともに表１に示した。
水溶液４．５ｇを添加し、強い撹拌下に３０分間接触さ
せて洗浄処理を行った。その後、混合物を靜置し、油層
／水層に分液した。この油層分を更に分別蒸留して精製
ＥＨＭＡを得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアルデヒ
ド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデ
ヒド類の含有量とともに表１に示した。
【００５１】実施例９ 粗ＥＨＭＡ１００ｇに５重量％ヒドラジン水溶液３ｇを
添加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行
った。その後、混合物を靜置し、油層／水層に分液し
た。さらに、この油層分に純水３ｇを添加し、強い撹拌
下に３０分間接触させた後、靜置して油層／水層に分液
した。引続き、この油層分を分別蒸留して精製ＥＨＭＡ
を得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアルデヒド類の含
有量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の
含有量とともに表１に示した。
添加し、強い撹拌下に３０分間接触させて洗浄処理を行
った。その後、混合物を靜置し、油層／水層に分液し
た。さらに、この油層分に純水３ｇを添加し、強い撹拌
下に３０分間接触させた後、靜置して油層／水層に分液
した。引続き、この油層分を分別蒸留して精製ＥＨＭＡ
を得た。そして、この精製ＥＨＭＡのアルデヒド類の含
有量を測定した。結果を洗浄処理前後のアルデヒド類の
含有量とともに表１に示した。
【００５２】比較例１ 粗ＥＨＭＡ１００ｇに純水１０ｇを添加し、強い撹拌下
に３０分間接触させて洗浄処理を行った。その後、混合
物を靜置して、油層／水層に分液した。この油層分を更
に分別蒸留した。このように処理したＥＨＭＡ中のアル
デヒド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のア
ルデヒド類の含有量とともに表１に示した。
に３０分間接触させて洗浄処理を行った。その後、混合
物を靜置して、油層／水層に分液した。この油層分を更
に分別蒸留した。このように処理したＥＨＭＡ中のアル
デヒド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のア
ルデヒド類の含有量とともに表１に示した。
【００５３】比較例２ 粗ＢＨＭＡ１００ｇに純水１０ｇを添加し、強い撹拌下
に３０分間接触させて洗浄処理を行った。その後、混合
物を靜置して、油層／水層に分液した。この油層分を更
に分別蒸留した。このように処理したＢＨＭＡ中のアル
デヒド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のア
ルデヒド類の含有量とともに表１に示した。
に３０分間接触させて洗浄処理を行った。その後、混合
物を靜置して、油層／水層に分液した。この油層分を更
に分別蒸留した。このように処理したＢＨＭＡ中のアル
デヒド類の含有量を測定した。結果を洗浄処理前後のア
ルデヒド類の含有量とともに表１に示した。
【００５４】
【表１】
【００５５】
【発明の効果】本発明の方法によれば、水酸基含有ビニ
ル化合物中のアルデヒド類を効率よく除去することがで
きる。
ル化合物中のアルデヒド類を効率よく除去することがで
きる。
【００５６】また、本発明の方法によれば、高純度の水
酸基含有ビニル化合物を効率よく製造することができ
る。
酸基含有ビニル化合物を効率よく製造することができ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｘは−ＣＮ基、−ＣＯＲ1基または−ＣＯＯＲ1
基（ここで、Ｒ1は水素原子または有機残基である）を
表し、Ｒ2は水素原子または有機残基を表す）で表され
る水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、アミン類および
その塩から選ばれる少なくとも１種の化合物の水溶液で
洗浄し、次いで油層／水層に分液することからなる水酸
基含有ビニル化合物の精製方法。 - 【請求項２】 一般式（１） 【化２】 （式中、Ｘは−ＣＮ基、−ＣＯＲ1基または−ＣＯＯＲ1
基（ここで、Ｒ1は水素原子または有機残基である）を
表し、Ｒ2は水素原子または有機残基を表す）で表され
る水酸基含有ビニル化合物を亜硫酸塩、アミン類および
その塩から選ばれる少なくとも１種の化合物の水溶液で
洗浄した後、油層／水層に分液し、次いで該油層分を蒸
留することからなる水酸基含有ビニル化合物の精製方
法。 - 【請求項３】 水酸基含有ビニル化合物が一般式（１）
においてＸが−ＣＯＯＲ1基（ここで、Ｒ1は水素原子、
炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭
素数４〜６のシクロアルキル基、炭素数６〜８のアリー
ル基、または炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基であ
る）であり、Ｒ2が水素原子、炭素数１〜１８の鎖状ま
たは分岐状のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキ
ル基または炭素数６〜８のアリール基である化合物であ
る請求項１または２記載の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21065796A JPH1053547A (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 水酸基含有ビニル化合物の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21065796A JPH1053547A (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 水酸基含有ビニル化合物の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1053547A true JPH1053547A (ja) | 1998-02-24 |
Family
ID=16592949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21065796A Pending JPH1053547A (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 水酸基含有ビニル化合物の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1053547A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319228A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
| EP1752475A1 (en) * | 2005-08-11 | 2007-02-14 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Lactone ring-containing polymer having few foreign matters and not easily causing gelation, and its applications |
| JP2007084451A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Fujifilm Corp | 水酸基含有ビニル化合物の製造方法 |
| WO2009084320A1 (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-09 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | α－ヒドロキシメチルアクリレート化合物類及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-08-09 JP JP21065796A patent/JPH1053547A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319228A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
| EP1752475A1 (en) * | 2005-08-11 | 2007-02-14 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Lactone ring-containing polymer having few foreign matters and not easily causing gelation, and its applications |
| JP2007070607A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-03-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | 異物が少なくゲル化し難いラクトン環含有重合体およびその用途 |
| JP2007084451A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Fujifilm Corp | 水酸基含有ビニル化合物の製造方法 |
| JP4740701B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2011-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 水酸基含有ビニル化合物の製造方法 |
| WO2009084320A1 (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-09 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | α－ヒドロキシメチルアクリレート化合物類及びその製造方法 |
| JP5596978B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2014-10-01 | 株式会社日本触媒 | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物類及びその製造方法 |
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