JPH10511069A - 光電センサ装置および緯糸測定貯留装置 - Google Patents
光電センサ装置および緯糸測定貯留装置Info
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- JPH10511069A JPH10511069A JP9505491A JP50549196A JPH10511069A JP H10511069 A JPH10511069 A JP H10511069A JP 9505491 A JP9505491 A JP 9505491A JP 50549196 A JP50549196 A JP 50549196A JP H10511069 A JPH10511069 A JP H10511069A
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- D03D—WOVEN FABRICS; METHODS OF WEAVING; LOOMS
- D03D47/00—Looms in which bulk supply of weft does not pass through shed, e.g. shuttleless looms, gripper shuttle looms, dummy shuttle looms
- D03D47/34—Handling the weft between bulk storage and weft-inserting means
- D03D47/36—Measuring and cutting the weft
- D03D47/361—Drum-type weft feeding devices
- D03D47/367—Monitoring yarn quantity on the drum
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.スキャン領域(3)を長手方向(D)を横切る方向に通過する糸(Y)を検 出する光電センサ装置(S)であって、スキャン領域を照らす光源(L、L′) と光の変化に応答しスキャン領域に向けられ、電子的評価回路(C)に接続され た少なくとも一つのレシーバ(R1、R2)とを備え、さらに、前記糸(Y)お よび前記レシーバの受光表面(4、5)の間に配列されたスリット穴(A1、A )とを備える光電センサ装置(S)において、 少なくとも二つの近接したレシーバ(R1、R2)が、前記レシーバ(R1、 R2)の受光表面(4、5)が各々スリット穴(A1、A2)を上流に配列した 状態で前記スキャン領域(3)に向けられ、前記スリット穴(A1、A2)の各 々は長い断面主軸(6)と主軸(6)に基本的に直交する短い断面副軸(7)と を備える幾何学的形状を有し、かつ、前記スリット穴(A1、A2)は前記一つ のスリット穴(A1)の断面主軸(6)が隣接するスリット穴(A2)の断面主 軸(6)を横切る方向に90度以下の鋭角に配列されていることを特徴とするセ ンサ装置。 2.前記受光表面(4、5)の各々は光の入射する方向においてほぼ円形であり 、かつ、前記上流のスリット穴(A1、A2)の前記断面主軸の長さは前記受光 表面の直径よりも短いことを特徴とする請求項1に記載のセンサ装置。 3.両レシーバ(R1、R2)は、差動回路として形成されている評価回路(C )に共に接続されていることを特徴とする請求項1または2に記載のセンサ装置 。 4.貯留体(B)から回転式に頭上を通り引き出し可能な緯糸(Y)の引き出し センサとしての光電センサ装置(S)を備え、前記センサ装置が前記貯留体(B )の軸方向に交互に配列された少なくとも二つの光電レシーバ(R1、R2)と 、前記貯留体(B)上のスキャン領域(3)を照らす少なくとも一つの 光源(L)と、前記スキャン領域(3)を通る前記緯糸(Y)の各通過の際前記 レシーバに生ずる光の変化から有用な信号が発生されるようにした電子的評価回 路(C)とを備える緯糸の測定貯留装置(F)であって、前記スキャン領域(3 )と前記レシーバ(R1、R2)との間にスリット穴(A1、A2)が設けられ 、かつ、前記一つのスリット穴(A1)は他のスリット穴(A2)に対し90度 以下の鋭角に配列されていることを特徴とする緯糸の測定貯留装置。 5.前記一つのスリット穴(A1)は前記貯留体(B)の周方向に、前記他のス リット穴(A2)は前記貯留体(B)の軸線方向に延在していることを特徴とす る請求項4に記載の測定貯留装置。 6.前記一つのスリット穴(A1)の仮想延長線は前記他のスリット穴(A2) に交差していることを特徴とする請求項4に記載の測定貯留装置。 7.前記二つのスリット穴(A1、A2)はT状に配列されていることを特徴と する請求項5に記載の測定貯留装置。 8.前記二つのスリット穴(A1、A2)の各々は、矩形、両面凹または両面凸 形状を有することを特徴とする請求項4ないし7の少なくとも一つに記載の測定 貯留装置。 9.前記二つのスリット穴(A1、A2)は、同じ形状を有することを特徴とす る請求項4ないし8の少なくとも一つに記載の測定貯留装置。 10.前記スリット穴(A1、A2)は、糸の引き出しの際に可能な長手方向糸 の方向(D)の全ての向きに対して、前記糸(Y)の前記スリット穴(A1、A )上での移動が幾何学的に、または時間的に同じとなることが不可能となるよう に配列されていることを特徴とする請求項4ないし9の少なくとも一つに記載の 測定貯留装置。 11.反射器(8)が前記スキャン領域(3)の下の前記貯留体(B)上に配列 され、前記貯留体(B)の外に静止して配列されているハウジング(23)はそ の内部にブロック状ホルダ(26)を配列し、ブロック状ホルダは前記スキャン 領域(3)に面しチャンネル(28、29、30)が終わる表面(27)を有し 、チャンネルは前記スキャン領域(3)に向けられ前記ホルダに配列された少な くとも一つの光源(L)と前記ホルダに配列され好ましくは半導体である二つの レシーバに関連し、かつ、前記レシーバ(R1、R2)の前記チャンネル(28 、29)の開口はほぼ矩形を有するスリット穴(A1、A2)として形成されて いることを特徴とする請求項4に記載の測定貯留装置。 12.前記チャンネル(28、29、30)は、前記貯留体(B)の共通軸方向 面内に位置され、前記光源(L)の前記チャンネル(30)は前記貯留体(B) の半径方向面(X)に対し約- 27度傾斜され、かつ、前記一のレシーバ(R2 )の前記一のチャンネル(28)は約+ 22度そして前記他のレシーバ(R1) の前記他のチャンネル(29)は約+ 32度前記半径方向面に対して傾斜されて いることを特徴とする請求項11に記載の測定貯留装置。 13.透明のカバーペーン(31)が前記ホルダ(26)の表面(27)に配列 されていることを特徴とする請求項11および12に記載の測定貯留装置。 14.前記貯留体(B)の軸線方向で見て前記スリット穴(A1、A2)間の距 離は各スリット穴(A1、A2)の幅にほぼ対応することを特徴とする請求項1 1に記載の測定貯留装置。 15.前記スリット穴(A1、A2)の各々またはスリット穴(A1、A2)の 両方は、好ましくは前記ホルダ(26)の表面(27)で、または、前記チャン ネル(28、29)の一つの開口内で、マウント内に選択可能な好ましくは調節 可能な回転位置状態で保持された小さな穴付きプレートに切り出されていること を特徴とする請求項4ないし14の少なくとも一つに記載の測定貯留装置。
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