JPH10510838A - 接触水素添加分解 - Google Patents
接触水素添加分解Info
- Publication number
- JPH10510838A JPH10510838A JP8519831A JP51983196A JPH10510838A JP H10510838 A JPH10510838 A JP H10510838A JP 8519831 A JP8519831 A JP 8519831A JP 51983196 A JP51983196 A JP 51983196A JP H10510838 A JPH10510838 A JP H10510838A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cclf
- ccl
- fcf
- chf
- starting material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 title abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- -1 fluorine halogen Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 46
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 46
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 235000017168 chlorine Nutrition 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000004517 catalytic hydrocracking Methods 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(Cl)Cl BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKLFXAVIFCLZQS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F LKLFXAVIFCLZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMKLGBFKHKIUKZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(Cl)Cl FMKLGBFKHKIUKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JETINLPZEWINFD-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)C(F)(F)Cl JETINLPZEWINFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 2
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 2
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N pentafluoropropane Chemical compound FC(F)CC(F)(F)F MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUAMPXQALWYDBK-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3-hexafluoropropane Chemical compound FCC(F)(F)C(F)(F)F SUAMPXQALWYDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFCFZNZZFJRHSD-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloro-1,1,3,3,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)C(F)(F)Cl SFCFZNZZFJRHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIDLQDHQDQZVQM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichloro-1,1,2,3,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)C(F)(F)Cl AIDLQDHQDQZVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N dichloromethane Substances ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087091 dichlorotetrafluoroethane Drugs 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010903 husk Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/272—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions
- C07C17/278—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions of only halogenated hydrocarbons
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
3個または4個の炭素原子と1〜5個の弗素以外のハロゲンとを含む(各々の非−弗素ハロゲンは独立に塩素または臭素である)非環状飽和ハロフルオロカーボンおよびハイドロハロフルオロカーボンから選択される少なくとも一つの出発物質を接触水素添加分解をする方法であって、上記の非−弗素ハロゲンが塩素および臭素からなる基から独立に選択されそして非−弗素ハロゲン置換基が末端炭素上に含まれる方法が開示される。この方法は炭素上に支持された接触的に有効な量のパラジウムを含む触媒の存在で、上記の出発物質を約300℃またはそれより下の高い温度で反応させて水素添加分解生成物を生成することからなり、その場合この生成物の80モル%を越えるものが出発物質と同じ弗素置換基の分布を有する飽和化合物である。炭素支持体は約0.5wt%より少ない灰分含有率を有する。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の名称
接触水素添加分解発明の分野
本発明はハロフルオロカーボンおよびハイドロハロフルオロカーボンの接触水
素添加分解に関し、また一層特定的には、パラジウム含有触媒を使用するこれら
の物質の水素添加分解に関する。背 景
クロロフルオロカーボンおよびハイドロクロロフルオロカーボンの接触水素添
加分解のための種々な方法が知られている。例えば米国特許第2,942,036号明細
書は、活性炭上のパラジウム触媒の存在で1,2,2- トリクロロペンタフルオロプ
ロパンを水素と反応させて1,2,2- トリハイドロペンタフルオロプロパンを生成
することを開示している。その実施例では、実験条件下でのこの反応からの生成
物の一つはCF3CH=CF2である。炭素支持体はシリカを炭素から除去するために、
支持体上にパラジウムを付着する前にHF水溶液で処理されることができる。米国
特許第5,315,048号明細書は、1,2,3- トリクロロペンタフルオロプロパンがアル
ミナ上のパラジウムの存在で水素と接触されて1,1,1,2,3- ペンタフルオロプロ
パンが生成される方法を開示している。この特許では、炭素上のパラジウムで1,
2,3- トリクロロペンタフルオロプロパンを水素で還元するとHCF2CHFCF2HとHCF2
CHFCF2Clとの混合物が主として生成すると述べられている。米国特許第4,319,06
0号明細書は、1,1- ジクロロテトラフルオロエタンと1,2- ジクロロテトラフル
オロエタンとの混合物中に含まれる1,1- ジクロロテトラフルオロエタンが選択
的に変質されて1,1- ジクロロテトラフルオロエタンを実質的に含まない1,2- ジ
クロ
ロテトラフルオロエタンが生成される方法を開示している。この方法は水素添加
脱塩素触媒の存在で多量の1,2- 異性体と少量の1,1- 異性体とを含有する有機供
給組成物を気相で水素と接触することを包含する。C.GervasuttiらはJ.Fluorin
e Chem.19(1981/2)の1〜20ページでPd/Cによって接触される混合物中に存在
するCF3CCl2F異性体の選択的水素添加分解により、ジクロロテトラフルオロエタ
ンの異性体混合物から1,1,1,2- テトラフルオロエタンが生成したことを報じて
いる。他の異性体のCClF2CClF2は水素添加分解に対して一層安定であるようにみ
えまた一水素添加分解されて誘導されるCHF2CClF2へと部分的に転化されるのみ
であった。
米国特許第5,136,113号明細書は、低灰分炭素上のある種の金属(例えばパラ
ジウム)の触媒を使用することによるフルオロハロカーボンおよびフルオロハロ
ハイドロカーボンの接触水素添加分解を開示している。酸洗浄された炭素を含む
触媒を使用する他のいろいろな方法が研究されてきた。A.A.GolevaらはRuss.J
.Phys.Chem.442(1970年)の290〜291ページで、活性炭を触媒として使用す
ることにより1,1,2,2- テトラクロロエタンをオレフィントリクロロエチレン (
およびHCl)に脱水素塩素化することを開示している。塩酸で処理された活性炭は
トリクロロエチレンを生成することに関して未処理の試料より一層活性的である
ことが証明された。発明の概要
本発明は3個または4個の炭素原子と1〜5個の弗素以外のハロゲンとを含む
非環状飽和ハロフルオロカーボンおよびハイドロハロフルオロカーボンから選択
される少なくとも一つの出発物質を接触水素添加分解をする方法であって、上記
の非−弗素ハロゲンが塩素および臭素からな
る基から独立に選択されそして非−弗素ハロゲン置換基が末端炭素(つまり炭素
3個の化合物の第1および(または)第3の炭素、そして炭素4個の化合物の第
1のおよび(または)第4の炭素)上にある前記方法を提供する。この方法は炭
素上に支持された接触的に有効な量のパラジウムを含む触媒の存在で、上記の出
発物質を約300℃またはそれより下の高い温度で水素と反応させて水素添加分解
生成物を生成することからなり、その場合この生成物の80モル%を越えるものが
出発物質と同じ弗素置換基の分布を有する飽和化合物であり、上記の炭素支持体
が約0.5wt%より少ない灰分含有率を有する。詳細な説明
本発明の方法にとって好適な触媒をパラジウムを含みまた望むなら追加的な第
VIII族金属(例えばPt、Ru、RhまたはNi)を含んでよい。パラジウムは低灰分の
炭素上に支持される。触媒をつくるのに使用されるパラジウム含有物質はパラジ
ウム塩(例えば塩化パラジウム)であるのが好ましい。他の金属は、それが使用
される場合、慣用的な仕方で(例えば金属の可溶性塩として)支持体に添加され
てよい。
低灰分炭素上に支持されるパラジウムの濃度は、支持体を基準とし典型的には
約0.2〜約5wt%の範囲内にある。追加的な第VIII族金属が使用される場合、そ
の濃度は支持体を基準とし約3wt%またはそれより下であるが、パラジウムは通
常、支持される金属の少なくとも50wt%(望ましくは支持体上にある金属全体の
少なくとも80wt%)である。
低灰分炭素支持体は種々の方法によって製造されてよい。一つの方法は金属の
付着に先立って炭素支持体を酸で洗浄することである。酸処理は一つより多くの
酸で実施できるが、最初の酸処理には一般に弗化水素酸以外の酸が使用される。
最初の酸処理のために使用するのが好ましい
酸は燐も含まず、また硫黄も含まない。最初の酸処理で使用されうる酸の例には
酢酸のような有機酸および塩酸または硝酸のような無機酸がある。塩酸を使用す
るのが好ましい。第2の酸処理では、これを採用する場合、弗化水素酸を使用す
るのが有利である。通常、炭素は、酸処理後にそれが約0.5wt%より少ない、そ
して望ましくは約0.3wt%より少ない灰分を含有するように酸で処理される。酸
処理に関しては、植物をベースとする炭素例えばココナッツの外皮をベースとす
る炭素が好ましい。好ましい態様を以下に述べる。
脱イオン水中で調製された酸の1モル溶液中に炭素支持体をゆっくり撹拌しつ
つ一晩浸漬する。次に炭素支持体を分離しそして脱イオン水で、洗浄液のpHが約
3となるまで洗浄する。好ましくは次に、脱イオン水中で調製された酸の1モル
溶液中に炭素支持体をゆっくり撹拌しつつ12〜24時間再度浸漬する。次に標準的
方法によって試験する場合に洗浄液が酸の陰イオン (例えばCl-またはNO3 -)を実
質的に含まなくなるまで炭素支持体を脱イオン水で洗浄する。次に炭素支持体を
分離しそして120℃で乾燥する。必要ならば、洗浄した炭素を、脱イオン水中で
調製された1モル濃度のHF中に室温で約48時間、時々撹拌しつつ浸漬する。炭素
支持体を分離しそして洗浄液のpHが4より大きくなるまで脱イオン水で洗浄する
。次に炭素支持体を空気中で150℃で乾燥し、続いてこの炭素支持体を支持体と
して使用するのに先立って空気中で約3時間300℃で蝦焼する。酸洗浄された炭
素触媒を製造することに関する一層の詳細については米国特許第5,136,113号明
細書が参考になる。
本発明は出発化合物と同一の分布(つまり同一の数および同一の相対的位置)
の弗素置換基を有する製品化合物への選択性を提供する。本発明は3個の炭素原
子と4個以下の塩素とを分子内に含むクロロフルオロ
カーボン(例えば、CCl3CF2CClF2、CCl2FCF2CCl2F、CCl2FCF2CClF2、CCl3CF2CF3
、CCl2FCF2CF3、CClF2CF2CClF2およびCClF2CF2CF3)の水素添加分解を包含する。
本発明はまた、3個の炭素と、(i)3個以下の塩素および1個の水素とを分子内
に含む(例えばCHCl2CF2CClF2、CHClFCF2CCl2F、CCl2FCF2CHF2、CCl3CF2CHF2、C
HClFCF2CClF2、CHCl2CF2CF3、CHF2CF2CClF2およびCHClFCF2CF3)、(ii)2個の塩
素および2個の水素を分子内に含む(例えば、CHClFCF2CHClF、CHCl2CF2CHF2およ
びCClF2CF2CH2Cl)、(iii)1個の塩素および2個の水素を分子内に含む(例えば、
CHClFCF2CHF2、CH2FCF2CClF2およびCH2ClCF2CF3)または(iv)1個の塩素および3
個の水素を分子内に含む(例えばCH2ClCF2CHF2、CH2FCF2CHClFおよびCH3CF2CClF2
)ハイドロクロロフルオロカーボンの水素添加分解も包含する。本発明はさらに
、4個の炭素と5個以下の塩素とを分子内に含むクロロフルオロカーボン(例え
ばCClF2CF2CF2CClF2およびCCl2FCF2CF2CF3)の水素添加分解および4個の炭素と
4個以下の塩素と1個の水素とを分子内に含むハイドロクロロフルオロカーボン
(例えばCClF2CF2CF2CHF2、CHClFCF2CF2CF3およびCClF2CF2CHFCF3)の水素添加分
解を包含する。塩素または水素によってうめられない原子価は弗素によってうめ
られる。末端炭素の両方が弗素でないハロゲンを含む態様が注目に値する。ただ
一つの炭素が非−弗素ハロゲンを含む態様もまた注目に値する。
本発明に従って好適な温度、接触時間および中間的な循環(もし応用可能なら
ば)を用いる結果、出発物質のすべての塩素が水素によって置換される、選択率
の高い(すなわち転化される出発物質の量に基き80モル%を超える)水素添加分
解の生成物を得ることができる。例えば、本発明はCCl2FCF2CClF2を水素と反応
してCH2FCF2CHF2を高い選択率で得る
方法、CCl3CF2CF3を水素と反応してCH3CF2CF3を高い選択率で得る方法、CCl2FCF2
CF3を水素と反応してCH2FCF2CF3を高い選択率で得る方法、CClF2CF2CClF2を水
素と反応してCHF2CF2CHF2を高い選択率で得る方法、CClF2CF2CF2CClF2を水素と
反応してCHF2CF2CF2CHF2を高い選択率で得る方法、CHF2CF2CF2CClF2を水素と反
応してCHF2CF2CF2CHF2を高い選択率で得る方法、CCl3CF2CClF2を水素と反応して
CH3CF2CHF2を高い選択率で得る方法、CCl2FCF2CCl2Fを水素と反応してCH2FCF2CH2
Fを高い選択率で得る方法、CClF2CF2CF3を水素と反応してCHF2CF2CF3を高い選
択率で得る方法、CHCl2CF2CClF2を水素と反応してCH3CF2CHF2を高い選択率で得
る方法、CHClFCF2CCl2Fを水素と反応してCH3CF2CHF2を高い選択率で得る方法、C
Cl3CF2CHF2を水素と反応してCH3CF2CHF2を高い選択率で得る方法、CHClFCF2CClF2
を水素と反応してCH2FCF2CHF2を高い選択率で得る方法、CCl2FCF2CHF2を水素と
反応してCH2FCF2CHF2を高い選択率で得る方法、CHCl2CF2CF3を水素と反応してCH3
CF2CF3を高い選択率で得る方法、CHF2CF2CClF2を水素と反応してCHF2CF2CHF2を
高い選択率で得る方法、CHClFCF2CF3を水素と反応してCH2FCF2CF3を高い選択率
で得る方法、CCl2FCF2CF2CF3を水素と反応してCH2FCF2CF2CF3を高い選択率で得
る方法およびCHClFCF2CF2CF3を水素と反応してCH2FCF2CF2CF3を高い選択率で得
る方法を提供する。出発物質の混合物もまた用いられてよい。例えばCCl2FCF2CF3
とCClF2CF2CClF2との混合物が水素と反応されてCHF2CF2CHF2およびCH2FCF2CF3
との混合物を高い選択率で生成されることができる。
本発明はCCl2FCF2CF3とCClF2CF2CClF2との混合物(例えば1:9〜9:1の比
の)の選択的な2段階水素添加分解のための方法も提供する。この2段階方法の
第1段階においては、CCl2FCF2CF3が約200℃より低い
温度で水素と選択的に反応されて、CH2FCF2CF3とCClF2CF2CClF2とを含む混合物
が得られる。第2段階においては、CClF2CF2CClF2が約200℃より高い温度で水素
と反応されて、CHF2CF2CHF2が得られる。第2段階を実施するのに先立って第1
段階のCH2FCF2CF3を回収するのが通常好ましい。一般に第1段階ではCHClFCF2CF3
とCF2ClCF2CHF2とがある程度生成するので、これらは第2段階の反応体に含め
られてよい。反応の両段階からの生成物は、それぞれの最初の出発化合物と同数
の弗素原子を含む実施的に飽和した化合物であり、また最初の出発物質より少な
い弗素原子を含むオレフィン系の共生成物および生成物を10%より少く含む。
本発明の水素添加分解は高い温度で実施される。温度は通常約300℃またはそ
れより低い。一般に約150°〜250℃の温度で満足な反応速度が得られる。水素添
加分解の生成物の収率をかなりなものにするためには、使用される水素の量は一
般に、有機出発物質1モルあたり少なくとも約0.5モルである。多くの態様で望
まれる収率を得るには少なくとも化学量論的である量の水素が用いられる。反応
器での全般的な温度上昇を減少するための熱吸収体として役立てることに加えて
、多くの態様で望まれる収率を得るために、かなり過剰な水素を用いることもま
た有利でありうる。
圧力は決定的ではない。大気圧またはこれを越える圧力が最も便利であり、従
って好ましい。
本発明の実施は以下の非限定的な実施例からさらに明白となるであろう。
実施例 1炭素支持体
実施例で使用される炭素支持体は、約2.6wt%の灰分含有率を有する
(洗浄前に)4×8メッシユ(約4.7mm×2.4mm)の商業等級のココナッツ外皮カ
ーボンであった。塩酸洗浄の後、炭素支持体は約0.1wt%より少ない灰分含有率
を有した。CClF2CF2CClF2 とCCl2FCF2CF3との異性体混合物の製造
400mlのHastellyTM ニッケル合金の振盪管に米国特許第5,157,171号明細書に
例示のように製造された、CCl3Fで変性された無水塩化アルミニウム(3.0g)を装
入した。振盪管を密封し、−78℃に冷却しそして排気しそして窒素でパージした
。次にCCl2F2(50g、0.41モル)を振盪管に装入した。温度の低い振盪管を防護
囲いの中に入れそして25g(0.25モル)のテトラフルオロエチレンを装入した。
反応器を15分にわたって60℃に温めた。この際に圧力は80psig(653kPa)に上昇
した。温度をさらに1.3時間60℃に維持し、その後80℃に上げ、そして1時間保
ち、その間圧力は112〜115psig(873〜894kPa)に上昇した。冷却および排出の後
、54.7gの透明な上澄み液が得られた。19F NMRによりこの液体を分析すると、
生成物が13.9%のCClF2CF2CClF2と53.5%のCCl2FCF2CF3および他の生成物を含有
することが示された。次に生成物の異性体混合物をこの反応混合物から蒸留によ
って回収した。CClF2CF2CClF2 とCCl2FCF2CF3との異性体混合物の水素添加分解
上記の手順によって異なる二つの操作から出発物質を製造しそして水素添加分
解の実験のために一緒にした。これらの出発物質はCClF2CF2CClF2(CFC-216ca)41
.3%とCCl2FCF2CF3(CFC-216cb)58.7%との比で存在した。CFC-216caとCFC-216cb
とのこの液体異性体混合物、0.3ml/分を蒸発しそして水素300cc/分と混合した
。蒸発したこの混合物を、4×8メッシユ(4.7mm×2.4mm)の酸洗浄した低灰分
の炭素上に支持された2wt%のパラジウムが46g入った、流動化砂浴内で150℃
に
加熱された外径1インチ×長さ13インチ(25.4mm×330mm)の反応器に通過した。
反応開始後約4時間して慣用のガスクロマトグラフィーを用いて有機生成物を分
析すると、CCl2FCF2CF3の転化はほとんど完璧であり、CClF2CF2CClF2の約6%が
一水素添加分解生成物(つまり、HCFC-226cbまたはCF2ClCF2CF2H)に転化されるこ
とが示された。
次に有機出発物質と水素とを反応器に通過させつつ反応器の温度を約4時間27
5℃に上昇した。この4時間の終了とともに温度を150℃に戻した。150℃で約8
時間操作の後、有機生成物を分析すると、CCl2FCF2CF3の転化は依然としてほと
んど完璧であり、1,1- ジハイドロヘキサフルオロプロパン(HFC-236cb)への選択
率が約70%であり、また1−ハイドロ−1−クロロヘキサフルオロプロパン(HC
FC-226ca)への選択率が約23%であることが示された。CClF2CF2CClF2の転化率
はほとんど零であり、また出発物質の弗素が損耗することに由来する生成物は約
5%より少ないことが示された。CF3CCl2CF3 の水素添加分解の比較
3ml/時の液体CF3CCl2CF3を蒸発しそして10cc/分の水素と混合した。この蒸
気混合物を、酸洗浄された炭素上に支持された0.5wt%のパラジウム7.2gの入っ
た、流動化砂浴を使用して150℃に保持された外径0.5インチ×長さ8インチ(12
.7mm×203mm)のHastellyTM ニッケル合金の反応器に通過した。慣用のガスクロ
マトグラフィーを用いて有機生成物を分析すると、出発物質の約90%が転化され
ていることが示された。水素を含む生成物は15.7%の2,2- ジハイドロヘキサフ
ルオロプロパン(HFC-236fa)、54.3%の2−クロロ−2−ハイドロヘキサフル
オロプロパン(HCFC-226da)、12.3%の2−ハイドロペンタフルオロプロペンおよ
び1.7%の1,2,2- トリハイドロペンタフルオロプロパン(HFC-245fa)お
よび少量の別な化合物を含有した。
水素流量を30cc/分に増加して本実施例を反復した。慣用のガスクロマトグラ
フィーを用いて有機生成物を分析すると、出発物質の転化がほとんど完璧である
ことが示された。水素含有生成物は、24.8%の2,2- ジハイドロヘキサフルオロ
プロパン(HFC-236fa)、54.6%の2−クロロ−2−ハイドロヘキサフルオロプロ
パン(HCFC-226da)および19.8%の1,2,2- トリハイドロペンタフルオロプロパ
ン(HFC-245fa)と少量の他の化合物を含有した。
この実験は酸洗浄された炭素上に支持されたパラジウムを触媒として用い、ま
た出発化合物の二つの塩素が内部炭素上にある場合、弗素を出発物質より一つ少
なく含むオレフィン生成物および(または)飽和生成物がかなりの量、生成され
うることを例示する。
実施例 2CHF2CF2CF2CClF2(HCFC-3281cc) →CHF2CF2CF2CHF2(HFC-338pcc)
液体HCFC-3281cc(2ml/時)を蒸発し、水素(10cc/分)と混合しそして、酸
洗浄された炭素上の0.3wt%パラジウムが4.0g入った、流動砂浴中で275℃に保
持された6インチ×0.5インチ(152mm×12.7mm)のHaste11oyTM ニッケル合金の
反応器に通過させた。約5時間の操作の後、慣用のガスクロマトグラフィーを用
いて分析すると、約38%のHCFC-3281cc、59%のHFC-338pccおよび少量の他の生
成物が示された。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】1996年11月26日
【補正内容】
請求の範囲
1.3個または4個の炭素原子と1〜5個の弗素以外のハロゲンとを含む非環状
飽和ハロフルオロカーボンおよびハイドロハロフルオロカーボンから選択される
出発物質K混合物を接触水素添加分解をする方法であって、上記の非−弗素ハロ
ゲンが塩素および臭素からなる基から独立に選択されそして非−弗素ハロゲン置
換基が末端炭素上にある前記方法において、炭素上に支持された接触的に有効な
量のパラジウムを含む触媒の存在で、上記の出発物質を約300℃またはそれより
下の高い温度で水素と反応させて水素添加分解生成物を生成することからなり、
その場合この生成物の80モル%を越えるものが出発物質と同じ弗素置換基の分布
を有する飽和化合物であり、上記の炭素支持体が約0.5wt%より少ない灰分含有
率を有する前記方法。
2.出発物質がCCl3CF2CClF2、CCl2FCF2CCl2F、CCl2FCF2CClF2、CCl3CF2CF3、CC
l2FCF2CF3、CClF2CF2CClF2およびCClF2CF2CF3からなる群から選択される請求項
1記載の方法。
3.出発物質がCHCl2CF2CClF2、CHClFCF2CCl2F、CCl2FCF2CHF2、CCl3CF2CHF2、C
HClFCF2CClF2、CHCl2CF2CF3、CHF2CF2CClF2およびCHClFCF2CF3からなる群から選
択される請求項1記載の方法。
4.出発物質がCHClFCF2CHClF、CHCl2CF2CHF2およびCClF2CF2CH2Clからなる群か
ら選択される請求項1記載の方法。
5.出発物質がCHClFCF2CHF2、CH2FCF2CClF2およびCH2ClCF2CF3からなる群から
選択される請求項1記載の方法。
6.出発物質がCH2ClCF2CHF2、CH2FCF2CHClFおよびCH3CF2CClF2からなる群から
選択される請求項1記載の方法。
7.出発物質がCClF2CF2CF2CClF2およびCCl2FCF2CF2CF3からなる群から
選択される請求項1記載の方法。
8.出発物質がCClF2CF2CF2CHF2、CHClFCF2CF2CF3およびCClF2CF2CHFCF3からな
る群から選択される請求項1記載の方法。
9.第1段階にCCl2FCF2CF3が200℃より低い温度で水素と選択的に反応されてCH2
FCF2CF3とCClF2CF2CClF2とを含有する混合物が生成され、また第2段階にCClF2
CF2CClF2が200℃より高い温度で水素と反応されてCHF2CF2CHF2が生成される、CC
l2FCF2CF3とCClF2CF2CClF2との混合物を水素添加分解するための請求項1記載の
方法。
10.第2段階を実施するのに先立って、第1段階のCH2FCF2CF3が回収される請求
項9記載の方法。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 レイオウ,ベリユール・ノツト・マリカル
ジユーナ
アメリカ合衆国デラウエア州19809−1213.
ウイルミントン.ジヨージタウンアベニユ
ー1
(72)発明者 シーバート,アレン・ケイプロン
アメリカ合衆国メリーランド州21921−
2059.エルクトン.レツトレイン215
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.3個または4個の炭素原子と1〜5個の弗素以外のハロゲンとを含む非環状 飽和ハロフルオロカーボンおよびハイドロハロフルオロカーボンから選択される 少なくとも一つの出発物質を接触水素添加分解をする方法であって、上記の非− 弗素ハロゲンが塩素および臭素からなる基から独立に選択されそして非−弗素ハ ロゲン置換基が末端炭素上にある前記方法において、炭素上に支持された接触的 に有効な量のパラジウムを含む触媒の存在で、上記の出発物質を約300℃または それより下の高い温度で水素と反応させて水素添加分解生成物を生成することか らなり、その場合この生成物の80モル%を越えるものが出発物質と同じ弗素置換 基の分布を有する飽和化合物であり、上記の炭素支持体が約0.5wt%より少ない 灰分含有率を有する前記方法。 2.出発物質がCCl3CF2CClF2、CCl2FCF2CCl2F、CCl2FCF2CClF2、CCl3CF2CF3、CC l2FCF2CF3、CClF2CF2CClF2およびCClF2CF2CF3からなる群から選択される請求項 1記載の方法。 3.出発物質がCHCl2CF2CClF2、CHClFCF2CCl2F、CCl2FCF2CHF2、CCl3CF2CHF2、C HClFCF2CClF2、CHCl2CF2CF3、CHF2CF2CClF2およびCHClFCF2CF3からなる群から選 択される請求項1記載の方法。 4.出発物質がCHClFCF2CHClF、CHCl2CF2CHF2およびCClF2CF2CH2Clからなる群か ら選択される請求項1記載の方法。 5.出発物質がCHClFCF2CHF2、CH2FCF2CClF2およびCH2ClCF2CF3からなる群から 選択される請求項1記載の方法。 6.出発物質がCH2ClCF2CHF2、CH2FCF2CHClFおよびCH3CF2CClF2からなる群から 選択される請求項1記載の方法。 7.出発物質がCClF2CF2CF2CClF2およびCCl2FCF2CF2CF3からなる群から 選択される請求項1記載の方法。 8.出発物質がCClF2CF2CF2CHF2、CHClFCF2CF2CF3およびCClF2CF2CHFCF3からな る群から選択される請求項1記載の方法。 9.第1段階にCCl2FCF2CF3が約200℃より低い温度で水素と選択的に反応されて CH2FCF2CF3とCClF2CF2CClF2とを含有する混合物が生成され、 また第2段階にCClF2CF2CClF2が約200℃より高い温度で水素と反応されてCHF2 CF2CHF2が生成される、CCl2CF2CF3とCClF2CF2CClF2との混合物を水素添加分解す るための請求項1記載の方法。 10.第2段階を実施するのに先立って、第1段階のCH2FCF2CF3が回収される請求 項9記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/362,331 US5523501A (en) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | Catalytic hydrogenolysis |
US08/362,331 | 1994-12-22 | ||
PCT/US1995/015791 WO1996019426A1 (en) | 1994-12-22 | 1995-12-06 | Catalytic hydrogenolysis |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10510838A true JPH10510838A (ja) | 1998-10-20 |
Family
ID=23425659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8519831A Pending JPH10510838A (ja) | 1994-12-22 | 1995-12-06 | 接触水素添加分解 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5523501A (ja) |
EP (1) | EP0799172B1 (ja) |
JP (1) | JPH10510838A (ja) |
DE (1) | DE69516178T2 (ja) |
ES (1) | ES2145322T3 (ja) |
WO (1) | WO1996019426A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011162339A1 (ja) * | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | 2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
WO2022163746A1 (ja) * | 2021-01-29 | 2022-08-04 | Agc株式会社 | 水素還元反応によるハイドロフルオロカーボンの製造方法 |
WO2024150830A1 (ja) * | 2023-01-13 | 2024-07-18 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタン化合物の製造方法及びフルオロオレフィンの製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824826A (en) * | 1997-06-27 | 1998-10-20 | Alliedsignal Inc. | Process for the preparation of 1,1,2,3,3,4-hexafluorobutane |
CN1225441C (zh) | 1998-06-02 | 2005-11-02 | 纳幕尔杜邦公司 | 从CClF2CClFCF3和CClF2CClFCF3同HF共沸物制备六氟丙烯的方法 |
JP2002516888A (ja) | 1998-06-02 | 2002-06-11 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ヘキサフルオロプロペン、および随意に他のフッ素含有ハロゲン化炭化水素の製造方法 |
US6583328B1 (en) | 1999-04-05 | 2003-06-24 | Pcbu Services, Inc. | Method for the preparation of 1,1,1,3,3-pentafluoropropene and 1,1,1,3,3-pentafluoropropane |
KR100365582B1 (ko) * | 2000-04-14 | 2002-12-26 | 한국과학기술연구원 | 팔라듐 촉매를 제조하기 위한 활성탄의 전처리 방법 |
US7329786B2 (en) * | 2001-09-28 | 2008-02-12 | Great Lakes Chemical Corporation | Processes for producing CF3CFHCF3 |
US7223351B2 (en) * | 2003-04-17 | 2007-05-29 | Great Lakes Chemical Corporation | Fire extinguishing mixtures, methods and systems |
US20050038302A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Hedrick Vicki E. | Systems and methods for producing fluorocarbons |
EP2043980B1 (en) | 2006-06-27 | 2015-04-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | 1,2,3,3,3-pentafluoropropene production processes |
US7928271B2 (en) * | 2006-09-05 | 2011-04-19 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing 1,2,3,3,3-pentafluoropropene and related azeotropic compositions |
CN113226548B (zh) * | 2018-12-26 | 2023-07-28 | 可隆工业株式会社 | 催化剂、其制备方法、包括其的电极、包括该电极的膜-电极组件和包括该组件的燃料电池 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2942036A (en) * | 1957-12-13 | 1960-06-21 | Allied Chem | Manufacture of halopropane |
US4319060A (en) * | 1980-12-08 | 1982-03-09 | Allied Chemical Corporation | Process for producing 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane substantially free of 1,1-dichloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane |
JP2531205B2 (ja) * | 1987-11-13 | 1996-09-04 | 旭硝子株式会社 | 1,1,1,2−テトラフルオロエタンの製造法 |
CA1337434C (en) * | 1988-06-21 | 1995-10-24 | Shunichi Samejima | Process for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
EP0580181A1 (en) * | 1989-02-02 | 1994-01-26 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing a hydrogen-containing 2,2-difluoropropane |
US5157171A (en) * | 1989-10-16 | 1992-10-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for chlorofluoropropanes |
DE4115496A1 (de) * | 1991-05-11 | 1992-11-12 | Loedige Maschbau Gmbh Geb | Mischwerkzeug |
US5136113A (en) * | 1991-07-23 | 1992-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
US5315048A (en) * | 1993-09-30 | 1994-05-24 | Alliedsignal Inc. | Preparation of 1,1,1,2,3-pentafluoropropane by reduction of 1,2,3-trichloropentafluropropane |
JPH07138194A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-05-30 | Daikin Ind Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 |
-
1994
- 1994-12-22 US US08/362,331 patent/US5523501A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-12-06 WO PCT/US1995/015791 patent/WO1996019426A1/en active IP Right Grant
- 1995-12-06 ES ES95942992T patent/ES2145322T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-06 DE DE69516178T patent/DE69516178T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-06 EP EP95942992A patent/EP0799172B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-06 JP JP8519831A patent/JPH10510838A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011162339A1 (ja) * | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | 2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
US8530710B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-09-10 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
WO2022163746A1 (ja) * | 2021-01-29 | 2022-08-04 | Agc株式会社 | 水素還元反応によるハイドロフルオロカーボンの製造方法 |
WO2024150830A1 (ja) * | 2023-01-13 | 2024-07-18 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタン化合物の製造方法及びフルオロオレフィンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69516178T2 (de) | 2000-12-21 |
DE69516178D1 (de) | 2000-05-11 |
ES2145322T3 (es) | 2000-07-01 |
EP0799172A1 (en) | 1997-10-08 |
EP0799172B1 (en) | 2000-04-05 |
US5523501A (en) | 1996-06-04 |
WO1996019426A1 (en) | 1996-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5136113A (en) | Catalytic hydrogenolysis | |
CA2539936C (en) | Process for the preparation of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and 1,1,1,2,3-pentafluoropropane | |
WO1990007482A1 (en) | Aluminum fluoride catalyst compositions and use thereof in a chlorofluorination process for preparing 1,1-dichloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane | |
JPH10510838A (ja) | 接触水素添加分解 | |
WO2005037744A1 (en) | Process for the preparation of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane | |
US5120883A (en) | Catalytic process for producing CCl3 CF3 | |
US5481051A (en) | 2,2-dichlorohexafluoropropane hydrogenolysis | |
WO2007019353A1 (en) | Process for the preparation of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and 1,1,1,2,3-pentafluoropropane | |
US5545774A (en) | Process for the manufacture of 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane | |
JPH06505237A (ja) | 水素および少なくとも5個の弗素置換基を含有しているハロゲン−置換されたプロパン類の製造方法 | |
JPH05507028A (ja) | フッ素と少なくとも1種の他のハロゲンとを含有するハロゲン置換炭化水素の水素化脱ハロゲンに使用するための貴金属触媒の活性化 | |
US6291729B1 (en) | Halofluorocarbon hydrogenolysis | |
US20040102660A1 (en) | Processes for halogenating compounds | |
AU2002343436A1 (en) | Materials and methods for the production and purification of chlorofluorocarbons and hydrofluorocarbons | |
JP3876951B2 (ja) | フルオロシクロペンテン類の製造方法 | |
US6218587B1 (en) | Catalytic hydrogenolysis | |
JPH08504207A (ja) | ハロカーボンのフッ素含量を低減する方法 | |
US5463152A (en) | Halofluorocarbon hydrogenolysis | |
JPH10510206A (ja) | 水素化触媒及び水素化法 | |
US5602288A (en) | Catalytic process for producing CF3 CH2 F | |
JP2773390B2 (ja) | ペンタフルオロエタンの製法 | |
JPH03271237A (ja) | ペルハロゲン化エタン誘導体の選択的水素化分解 | |
JPH0495037A (ja) | 1,1,1,2―エトラフルオロエタンの精製法 | |
Rao et al. | Catalytic Process for Producing CCL3CF3 |