JPH10502786A - 半導体チップ上で高電圧をスイッチングするためのmos回路装置 - Google Patents

半導体チップ上で高電圧をスイッチングするためのmos回路装置

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JPH10502786A JP8522534A JP52253496A JPH10502786A JP H10502786 A JPH10502786 A JP H10502786A JP 8522534 A JP8522534 A JP 8522534A JP 52253496 A JP52253496 A JP 52253496A JP H10502786 A JPH10502786 A JP H10502786A
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Abstract

(57)【要約】 たとえばフラッシュメモリのワード線上のプログラミング電圧としての高い負の電圧(−Vpp)をスイッチングするため、基板と同一の導電形のトランジスタによってのみ形成されている回路装置の2つの変形例が示されている。それにより、特別なテクノロジーを必要とする深い絶縁されたウェルが省略できる。

Description

【発明の詳細な説明】 半導体チップ上で高電圧をスイッチングするためのMOS回路装置 半導体チップ上に集積回路として電子回路を実現する際に、供給電圧よりも高 い正または負の電圧をチップ上で回路またはその一部に接続することがしばしば 必要とされる。その際高い正または負の電圧はチップに通常の供給電圧に追加し て供給するか、もしくはチャージポンプを用いてチップ上で供給電圧から発生す ることができる。いずれの場合にも、確実かつ迅速な接続が行われるように配慮 しなければならず、その際にスイッチにおける電圧降下は可能なかぎりわずかに しなければならない。 従って、新しい形式のフラッシュメモリでは、また将来は標準的なEEPRO Mでも、ワード線を選択するために負のワード線電圧をこれに与えることが必要 である。この場合選択されないワード線は0Vの電位に保たれる。メモリチップ 上にメモリセルのほかにたいてい追加的に存在している論理回路がMOS技術で 構成されており、またこのような回路はそれによって標準的に純粋に正の電圧に より作動させられるので、半導体チップの基板への負の電圧の絶縁が保証されな ければならない。これはたとえば絶縁されたウェルにより、いわゆる“トリプル ‐ウェル”技術で達成することができる。 その際p基板ではnチャネルトランジスタに対するpウェルが深いnウェル内 に配置され、またこれによりp基板から絶縁されている。このような深いウェル はたとえばドーピング材料として燐をもちいる際に典型的に1ないし3MeVの 高エネルギー注入により、またはより低いエネルギーおよび非常に長い拡散時間 により得られる。 本発明の課題は、半導体チップ上で純粋に正のスイッチングレベルを用いて負 または正の高電圧を接続するためのMOS回路装置であって、絶縁されたウェル を必要としない回路装置を提供することにある。 この課題は請求項1および3による回路装置により解決される。有利な実施態 様は従属請求項に示されている。 本発明による回路装置の特別な利点は、テクノロジー的な実現のために高価な 設備または拡散プロセスに対する長い加熱時間が必要でないことにある。これ以 外のプロセスも必要でない。なぜならば、CMOS技術ではトランジスタは基板 と同一の導電形で既にウェル内に実現されており、またこうしてこのようなプロ セスがCMOS技術の実現の際に既に存在しているからである。 本発明による回路装置は、フラッシュメモリまたはEEPROMメモリのワー ド線に負または別の実施態様では正のプログラミング電圧または消去電圧を接続 するために特によく適しており、その際にそれぞれただ1つのワード線を選択す ることができる。 以下、図面に示されている実施例により本発明を一層詳細に説明する。 図1は本発明による回路装置の第1の実施例、 図2は本発明による回路装置の第2の実施例、 図3は所望の出力電圧を得るために第1の実施例において与えるべき電圧を示 す図である。 図1に示されている回路装置は、第1の端子1に与えられる高い電圧Vppも しくは第2の端子2に与えられる高い負の電圧−Vppを制御端子3、4、5に る。その例はnウェル内に構成されたpチャネルトランジスタを有するp基板内 の集積回路としての回路装置の実現に関する。同様にしてもちろんn基板内にn チャネルトランジスタを実現することもできよう。第1の端子1と第2の端子2 との間に第1のトランジスタP1および第2のトランジスタP2から成る第1の 直列回路とそれに対して並列に第3のトランジスタP3および第4のトランジス タP4から成る第2の直列回路とが配置されている。第2および第4のトランジ スタP2、P4のゲート端子は同じく第2の端子2に接続されており、従って両 トランジスタP2、P4はダイオードにより実現された電流源として機能する。 第3のトランジスタP3のゲート端子は第1および第2のトランジスタP1、P 2の接続点K1に、また第1のトランジスタP1のゲート端子は出力端子OUT を形成する第3のトランジスタP3および第4のトランジスタP4の接続点に接 続されている。トランジスタP1ないしP4はその際に、第2および第4のトラ ンジスタP2、P4が導通状態に切換えられている場合に、先ず第1および第2 のトランジスタP1、P2の接続点K1が第2の端子2にプルされ、従って第3 のトランジスタP3が導通し、またそれによって出力端子OUTを第1の端子1 に与えられている正の電位にプルし、従って第1のトランジスタP1が阻止する ように設定されている。第1のトランジスタP1の負荷区聞に対して並列に第5 のトランジンスタP5の負荷区間が接続されている。第5のトランジスタP5の ゲート端子は制御端子3に接続されている。 図1中に示されている回路装置のこの部分により、第1の端子1に半導体チッ プ供給電圧Vccが与えられているときに、端子2に与えられる高い負の電圧− Vppを、制御入力端3に与えられる入力信号INにより出力端子OUTに接続 することが既に可能である。これは図3中にIおよびIIを付されている時間間隔 に示されている。制御入力端3において入力信号INの状態が論理的高状態に相 当するかぎり、すなわちCMOS回路の際にはほぼ正の供給電圧Vccの値に相 当するかぎり、第5のトランジスタP5は阻止する。第2および第4のトランジ スタP2、P4が導通するので、トランジスタP1ないしP4の適当な設定に基 づいて第1および第2のトランジスタの接続点K1が第2の端子2における電位 −Vppにプルされ、従って第3のトランジスタP3が導通し、またそれによっ で出力端子OUTを、第1の端子1に与えられている供給電位Vccにプルし、 それによって第1のトランジスタP1は阻止し、また回路装置はそれによりこの 状態にロックされている。この状態は図3の時間間隔1に示されている。いま、 図3の時間間隔IIに示されているように、制御入力端3における入力信号INの 状態が論理的低状態に切換わると、すなわち0Vの値をとると、第5のトランジ スタP5が導通し、それによって接続点K1が供給電位Vccにプルされ、また それにより第3のトランジスタP3が阻止する。いま出力端子OUTが、導通し ている第4のトランジスタP4に基づいて、第2の端子2に与えられている高い 負の電位−Vppにプルされ、それによって第1のトランジスタP1が同じく導 通し、またそれにより回路が再びこの状態にロックされる。 第1の端子1に与えられている高い正の電圧Vppも出力端子OUTに通過接 続しなければならない場合には、これまでに説明した回路は図1中に示されてい る回路装置により補われなければならない。そのために第3のトランジスタP3 の負荷区間に第6のトランジスタP6の負荷区間が並列に接続されている。第1 の端子1と第6のトランジスタP6のゲート端子との間に第7のトランジスタP 7の負荷区間が接続されており、そのゲート端子は出力端子OUTに接続されて いる。第6のトランジスタP6のゲート端子は第1のnチャネルトランジスタN ており、その際に第1のnチャネルトランジスタN1のゲート端子は入力信号I Nに対する制御端子4に接続されている。第1のnチャネルトランジスタN1の ゲート端子はもちろん全く同様に制御端子3に接続されていてもよいであろう。 第1のnチャネルトランジスタN1はその端子のいずれでも高い負の電位−Vp pと接触し得ないので、それを深いウェル内に構成することは必要でない。出力 端子OUTに高い正の電圧Vppを通過接続するため、これが第1の端子1に供 給電圧Vccの代わりに与えられる。第2の端子2は浮動状態に保たれ、これは 高い負の電位−Vppに対する電源の切り離しにより、もしくはこの源の出力端 が高抵抗状態をとることにより行われる。 入力信号INがさらに引き続いて論理的低状態をとるかぎり、出力端子OUT は第4のトランジスタP4を介して第2の端子2に接続されている状態にとどま り、またこうして同じく浮動状熊を有する。これは図3の時聞区間IIIに示され ている。しかし、入力信号INが論理的高状態をとるときには、第5のトランジ スタP5は再び阻止し、他方において第1のnチャネルトランジスタN1は導通 し、またこうして第6のトランジスタP6のゲートに論理的低状態が与えられ、 それによってこれが導通状態になり、また出力端子OUTを第1の端子1に与え られている高い正の電位Vppにプルする。それにより第7のトランジスタP7 が確実に阻止し、従って第6のトランジスタP6は導通状態にとどまる。この場 合が図3の時間区間IVに示されている。 図1中に示されている本発明による回路装置をフラッシュメモリに使用する際 には、各ワード線にこのような回路装置が対応付けられ、また入力信号INの状 態の選択を介して、第1の端子1に与えられている高い正の電圧Vppまたは第 2の端子2に与えられている高い負の電圧−Vppが回路装置の出力端子OUT に、またこうしてフラッシュメモリのそのつどのワード線に必要な消去またはプ ログラミング電圧が与えられる。 図2は、高い正の電圧Vppもしくはの高い負の電圧−Vppをその出力端子 OUTに接続し得る本発明による別の回路装置を示す。電圧のいずれかが通過接 続されるかは、同様にいずれの状態を入力信号INがこの入力信号INまたは反 転 た別の入力端子70に与えられている制御信号MODEに関係する。この変形例 においても、高い負の電圧−Vppと接触し得るすべてのトランジスタは基板と 同一の導電形であり、p基板が仮定されている図2の例では、そこに示されてい るpチャネルトランジスタである。出力端子OUTと高い負の電圧−Vppに対 する第2の端子2との間に第1のトランジスタP10の負荷区間が接続されてい る。この第1のトランジスタP10のゲート端子と第2の端子2との間に第2の トランジスタP20の負荷区間が、またこれに対して並列に第3のトランジスタ P30の負荷区間が接続されている。この第3のトランジスタP30のゲート端 子はそのソース端子に接続されており、従ってこのトランジスタはダイオードと して接続されている。いま第2のトランジスタP20のゲート端子に高い負の電 圧が与えられると、この第2のトランジスタP20が導通し、それによって第1 のトランジスタP10のゲート端子が第2の端子2に与えられている高い負の電 圧−Vppにプルされる。それにより一方では第1のトランジスタP10が導通 し、それによって高い負の電圧−Vppが出力端子OUTに通過接続され、また 他方ではダイオードとして接続されている第3のトランジスタP30が導通し始 め、それによって第1のトランジスタP10のゲート端子が高い負の電圧−Vp pに保たれる。それにより、第2のトランジスタP20のゲート端子にパルス状 の負の電圧のみを印加することが可能である。これは約18Vの高い正の電圧パ ルスから電圧反転回路INVを用いて発生される。この電圧反転回路INVは従 来通常の仕方で、導通方向の極性のダイオードとして接続されている第5のトラ ンジスタP50と、阻止方向の極性のダイオードとして接続されておりまたコン デンサCと第5のトランジスタP50の接続点K5と接続されている第6のトラ ンジスタP60とに直列に接続されているコンデンサCを用いて形成されている 。 トランジスタP50、P60と接続されていないコンデンサCの端子は電圧反転 回路INVの入力端子を形成し、また阻止方向の極性のダイオードP60の陽極 は電圧反転回路INVの出力端子を形成している。 たとえばフラッシュメモリで多数のワード線の1つが負のプログラミング電圧 を印加されるべきであれば、ワード線の各々がこのような本発明による回路装置 の出力端子に接続することができる。回路装置の1つを選択するため、いま正( たとえば18V)の電圧パルスが選択すべき回路装置に与えられてよく、もしく は第2のトランジスタP20のゲート端子が第4のトランジスタP40の負荷区 てよい。この第4のトランジスタP40のゲート端子はその際に、反転されてい ない入力信号INを与えられる入力端子30に接続されている。入力信号INが 高状態をとると、第4のトランジスタP40が阻止し、従って負の電圧パルスが 電圧反転回路INVの出力端から第2のトランジスタP20のゲート端子へ通過 接続される。しかし、入力信号INが論理的低状態をとると、第4のトランジス タP40が導通し、従って負の電圧パルスが電圧反転回路INVの出力端から入 力端子40へ第4のトランジスタP40を経て導出される。フラッシュメモリの 種々のワード線に対応付けられている回路装置における入力信号INの状態の選 択によりこうして回路装置の1つ、従ってまたワード線の1つを選択できる。 図2には、さらに、たとえば文献「プロシーディングス・アイ・エス・エス・ シー・シー 1991」第260頁から知られているような、高い正の電圧Vp pを出力端子OUTに接続するための回路装置100が示されている。この回路 の出力端は第7のトランジスタP70を介して出力端子OUTに接続されており 、その際にこの第7のトランジスタP70のゲート端子は制御信号MODEに対 する入力端子70に接続されている。高い負の電−Vppが出力端子OUTに接 続されるべきときには、第7のトランジスタP70が阻止し、またこうして高い 負の電圧−Vppが高い正の電圧を接続するための回路装置100から絶縁され るように、入力端子70において制御信号MODEが論理的高状態をとらなけれ ばならない。なぜならば、この回路装置100は、深い絶縁されたウェル内に構 成されていてはならないnチャネルトランジスタをも有するからである。 高い正の電圧をスイッチングするための回路装置では、正の電圧に対する第1 の端子1と接地端子との間に第8のトランジスタP80および第1のnチャネル トランジスタN10から成る直列回路が接続されている。これらの両トランジス タのゲート端子は互いに接続されており、また第2のnチャネルトランジスタN 20の負荷区間を介して、入力信号INを与えられ得る制御端子50に接続され ている。この第2のnチャネルトランジスタN20のゲート端子は、反転された P80および第1のnチャネルトランジスタN10の接続点は高い正の電圧をス イッチングするためのこの回路装置の出力端子を形成しており、また第9のトラ ンジスタP90のゲート端子に接続されており、この第9のトランジスタの負荷 区間は第1の端子1と第8のトランジスタP80および第1のnチャネルトラン ジスタN10のゲート端子の接続点との間に配置されている。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.半導体チップ上で高電圧(Vpp、−Vpp)をスイッチングするためのM OS回路装置において、 第2のトランジスタ(P2)と直列に正の電圧に対する第1の端子(1)と高 い負の電圧に対する第2の端子(2)との間に配置されている第1のトランジス タ(P1)と、 第4のトランジスタ(P4)と直列に第1の端子(1)と第2の端子(2)と の間に配置されている第3のトランジスタ(P3)とを有し、 第2および第4のトランジスタ(P2、P4)のゲート端子が第2の端子(2 に接続されており、 第1のトランジスタ(P1)のゲート端子が出力端子(OUT)を形成してい る第3および第4のトランジスタ(P3、P4)の接続点に接続されており、 第3のトランジスタ(P3)のゲート端子が第1および第2のトランジスタ( P1、P2)の接続点に接続されており、 第5のトランジスタ(P5)がその負荷区間で第1のトランジスタ(P1)の 負荷区間に対して並列に接続されており、またこの第5のトランジスタ(P5) のゲート端子が入力信号(IN)に対する制御端子(3)を形成しており、 トランジスタが基板と同一の導電形でウェル内に構成されており、また トランジスタ(P1…P4)が、第1の端子(1)に正の電圧(Vcc、Vp p)、第2の端子(2)に負の電圧(−Vpp)また制御端子(3)に論理的高 状態が与えられる際に、先ず第1のトランジスタ(P1)と第2のトランジスタ (P2)との間の接続点が第2の端子へプルされるように設定されている ことを特徴とするMOS回路装置。 2.第3のトランジスタ(P3)の負荷区間に対して並列に第6のトランジスタ (P6)の負荷区聞が接続されており、そのゲート端子が第8のトランジスタ( 第8のトランジスタ(N1)のゲート端子が入力信号(IN)に対する制御端 子(4)に接続されており、 第1の端子と第6のトランジスタ(P6)のゲート端子との間に第7のトラン ジスタ(P7)の負荷区間が形成されており、そのゲート端子が出力端子(OU T)に接続されており、また 第6および第7のトランジスタ(P6、P7)が基板と同一の導電形でウェル 内に、また第8のトランジスタ(N1)が基板と逆の導電形で構成されている ことを特徴とする請求項1記載のMOS回路装置。 3.半導体チップ上で高電圧をスイッチングするためのMOS回路装置において 、 その負荷区間で出力端子(OUT)と高い負の電圧(−Vpp)に対する第2 の端子(2)との間に接続されている第1のトランジスタ(P10)と、 その負荷区間で第1のトランジスタ(P10)のゲート端子と第2の端子(2 )との間に接続されている第2のトランジスタ(P20)と、 その負荷区間で第2のトランジスタ(P20)の負荷区間に対して並列に接続 されており、またそのゲート端子がそのソース端子に接続されている第3のトラ ンジスタ(P30)とを有し、 トランジスタが半導体基板と同一の導電形で少なくとも1つのウェル内に構成 されており、また 第2のトランジスタ(P20)のゲート端子が電圧反転回路(INV)を介し て高い正の電圧パルスに対する端子に接続されている ことを特徴とするMOS回路装置。 4.第2のトランジスタ(P20)のゲート端子が第4のトランジスタ(P40 ) 続されており、 第4のトランジスタ(P40)のゲート端子が入力信号(IN)に対する制御 端子(30)に接続されており、また 第4のトランジスタ(P40)が半導体基板と同一の導電形でウェル内に構成 されている ことを特徴とする請求項3記載のMOS回路装置。 5.コンデンサ(C)を有する電圧反転回路(INV)が形成されており、その 第1の端子が電圧反転回路(INV)の入力端子を形成しており、またその第2 の端子が、導通方向の極性のダイオードとして接続されている第5のトランジス タ(P50)を介して接地端子に、また阻止方向の極性のダイオードとして接続 されている第6のトランジスタ(P60)を介して電圧反転回路の出力端子に接 続されており、 またトランジスタが半導体基板と同一の導電形で少なくとも1つのウェル内に 構成されている ことを特徴とする請求項3または4記載のMOS回路装置。 6.出力端子が第7のトランジスタ(P70)を介して高い正の電圧(Vpp) をスイッチングするための回路装置(100)に接続されており、その際に第7 のトランジスタ(P70)のゲート端子が制御信号(MODE)に対する制御端 子(70)に接続されていることを特徴とする請求項3ないし5の1つに記載の MOS回路装置。
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