JPH1049868A - 磁気ディスク用基板の洗浄方法 - Google Patents
磁気ディスク用基板の洗浄方法Info
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 abstract description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 テキスチャー加工後の基板のスクラブ洗浄で
基板表面を高度に清浄化する。 【解決手段】 スクラブ洗浄に当りポリビニルアセター
ル系樹脂よりなるスクラブを用いて、スクラブ回転数１
４００〜１６００ｒｐｍで洗浄し、リンス水量２リット
ル／ｍｉｎ以上、リンス水シャワー時間１０〜３０ｓｅ
ｃでリンスする。 【効果】 スクラブ洗浄条件の最適化により、著しく良
好な洗浄効果を得ることができる。異物付着量の著しく
少ない磁気ディスク用基板を得ることができ、欠陥のな
い高品質の磁気ディスクを歩留り良く製造することが可
能となる。
基板表面を高度に清浄化する。 【解決手段】 スクラブ洗浄に当りポリビニルアセター
ル系樹脂よりなるスクラブを用いて、スクラブ回転数１
４００〜１６００ｒｐｍで洗浄し、リンス水量２リット
ル／ｍｉｎ以上、リンス水シャワー時間１０〜３０ｓｅ
ｃでリンスする。 【効果】 スクラブ洗浄条件の最適化により、著しく良
好な洗浄効果を得ることができる。異物付着量の著しく
少ない磁気ディスク用基板を得ることができ、欠陥のな
い高品質の磁気ディスクを歩留り良く製造することが可
能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク用基板
の洗浄方法に係り、特に、テキスチャー加工後の磁気デ
ィスク用基板のスクラブ洗浄を効率的に行う方法に関す
る。
の洗浄方法に係り、特に、テキスチャー加工後の磁気デ
ィスク用基板のスクラブ洗浄を効率的に行う方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ等の外部記憶装置として用
いられる磁気ディスクとしては、一般に、アルミニウム
合金基板にアルマイト処理やＮｉ−Ｐメッキ等の非磁性
メッキ処理を施した後に、Ｃｒ等の下地層を形成し、次
いでＣｏ系合金の磁性層を形成し、更に炭素質の保護層
を形成されたものが使用されている。
いられる磁気ディスクとしては、一般に、アルミニウム
合金基板にアルマイト処理やＮｉ−Ｐメッキ等の非磁性
メッキ処理を施した後に、Ｃｒ等の下地層を形成し、次
いでＣｏ系合金の磁性層を形成し、更に炭素質の保護層
を形成されたものが使用されている。
【０００３】近年、このような磁気ディスクについては
高密度化が図られ、それに伴ない、磁気ディスクと磁気
ヘッドとの間隔、即ち浮上量は益々小さくなり、最近で
は０．１５μｍ以下が要求されている。このように磁気
ヘッドの浮上量が著しく小さいため、磁気ディスク面に
突起があるとヘッドクラッシュを招き、ディスク表面を
傷つけることがある。また、ヘッドクラッシュに至らな
いような微小な突起でも情報の読み書きの際の種々のエ
ラーの原因となり易い。このため、磁気ディスクの製造
においては、基板へのゴミ等の異物（パーティクル）付
着による表面欠陥を低減するために基板の洗浄処理が重
要となっている。
高密度化が図られ、それに伴ない、磁気ディスクと磁気
ヘッドとの間隔、即ち浮上量は益々小さくなり、最近で
は０．１５μｍ以下が要求されている。このように磁気
ヘッドの浮上量が著しく小さいため、磁気ディスク面に
突起があるとヘッドクラッシュを招き、ディスク表面を
傷つけることがある。また、ヘッドクラッシュに至らな
いような微小な突起でも情報の読み書きの際の種々のエ
ラーの原因となり易い。このため、磁気ディスクの製造
においては、基板へのゴミ等の異物（パーティクル）付
着による表面欠陥を低減するために基板の洗浄処理が重
要となっている。
【０００４】一方、磁気ディスクは大容量化、高密度化
と並行して小型化も進められており、スピンドル回転用
のモーター等も益々小さくなっている。このため、モー
ターのトルクが不足し、磁気ヘッドが磁気ディスク面に
固着したまま浮上しないという現象が生じ易い。この磁
気ヘッドの固着を、磁気ヘッドと磁気ディスク表面との
接触を小さくすることにより防止する手段として、磁気
ディスクの基板表面に微細な溝を形成する、テクスチャ
ー加工と称する表面加工を施す処理が行われている。
と並行して小型化も進められており、スピンドル回転用
のモーター等も益々小さくなっている。このため、モー
ターのトルクが不足し、磁気ヘッドが磁気ディスク面に
固着したまま浮上しないという現象が生じ易い。この磁
気ヘッドの固着を、磁気ヘッドと磁気ディスク表面との
接触を小さくすることにより防止する手段として、磁気
ディスクの基板表面に微細な溝を形成する、テクスチャ
ー加工と称する表面加工を施す処理が行われている。
【０００５】従って、従来、磁気ディスクの製造に当っ
ては、前述のメッキ処理を施した基板は、テクスチャー
加工後、テキスチャー加工時に基板表面に付着した有機
物や微小なゴミを除去するために、スクラブ洗浄及び超
音波洗浄等の洗浄が行われ、次いで乾燥後、下地層、磁
性層及び保護層の成膜工程に供される。
ては、前述のメッキ処理を施した基板は、テクスチャー
加工後、テキスチャー加工時に基板表面に付着した有機
物や微小なゴミを除去するために、スクラブ洗浄及び超
音波洗浄等の洗浄が行われ、次いで乾燥後、下地層、磁
性層及び保護層の成膜工程に供される。
【０００６】具体的には、図２に示す如く、テキスチャ
ー加工後、スクラブ洗浄（前スクラブ洗浄）を行い、そ
の後、基板を洗浄水中にて超音波洗浄し、再度スクラブ
洗浄（後スクラブ洗浄）を行った後、超音波を照射する
メガシャワー後、スピンドライ乾燥が行われる。
ー加工後、スクラブ洗浄（前スクラブ洗浄）を行い、そ
の後、基板を洗浄水中にて超音波洗浄し、再度スクラブ
洗浄（後スクラブ洗浄）を行った後、超音波を照射する
メガシャワー後、スピンドライ乾燥が行われる。
【０００７】スクラブ洗浄は、図１に示すように、基板
１の両側に配置したロール状のスクラブ２に配管３から
洗浄水を供給しつつスクラブ２を回転させ、これを回転
する基板１に押し付けて基板１の両表面を擦り洗浄した
後、ノズル４からリンス水を基板１に向けてシャワーす
ることで実施されている。
１の両側に配置したロール状のスクラブ２に配管３から
洗浄水を供給しつつスクラブ２を回転させ、これを回転
する基板１に押し付けて基板１の両表面を擦り洗浄した
後、ノズル４からリンス水を基板１に向けてシャワーす
ることで実施されている。
【０００８】従来、スクラブ２としてはウレタンスポン
ジが用いられ、一般に、次のような条件で洗浄が行われ
ている。
ジが用いられ、一般に、次のような条件で洗浄が行われ
ている。
【０００９】基板回転数：８０ｒｐｍ スクラブ回転数：７５０ｒｐｍ スクラブの基板への押圧力：１００ｇ／ｃｍ2 洗浄水量：０．７５リットル／ｍｉｎ（基板の１表面当
り） スクラブによる擦り洗浄時間：４ｓｅｃ リンス水量：１．７５リットル／ｍｉｎ（基板の１表面
当り） リンス水シャワー時間：２ｓｅｃ
り） スクラブによる擦り洗浄時間：４ｓｅｃ リンス水量：１．７５リットル／ｍｉｎ（基板の１表面
当り） リンス水シャワー時間：２ｓｅｃ
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】前述の如く、磁気ディ
スクの高密度化に伴い、基板表面の欠陥を低減するため
に、基板表面のゴミ等の異物は極力少なくすることが必
要とされる。
スクの高密度化に伴い、基板表面の欠陥を低減するため
に、基板表面のゴミ等の異物は極力少なくすることが必
要とされる。
【００１１】しかしながら、従来、テキスチャー加工
後、図２に示すような一連の洗浄、乾燥工程を経て得ら
れる基板は、１表面当りゴミ等の異物が１０〜２０個付
着しており、十分に清浄であるとは言えない。
後、図２に示すような一連の洗浄、乾燥工程を経て得ら
れる基板は、１表面当りゴミ等の異物が１０〜２０個付
着しており、十分に清浄であるとは言えない。
【００１２】本発明は上記従来の問題点を解決し、テキ
スチャー加工後の基板のスクラブ洗浄で基板表面を高度
に清浄化することができる磁気ディスク用基板の洗浄方
法を提供することを目的とする。
スチャー加工後の基板のスクラブ洗浄で基板表面を高度
に清浄化することができる磁気ディスク用基板の洗浄方
法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク用
基板の洗浄方法は、磁気ディスク用基板に回転するスク
ラブを押し付けて洗浄し、リンス水をシャワーする磁気
ディスク用基板の洗浄方法において、ポリビニルアセタ
ール系樹脂よりなるスクラブを用いて、スクラブ回転数
１４００〜１６００ｒｐｍ，リンス水量２リットル／ｍ
ｉｎ以上、リンス水シャワー時間１０〜３０ｓｅｃで洗
浄することを特徴とする。
基板の洗浄方法は、磁気ディスク用基板に回転するスク
ラブを押し付けて洗浄し、リンス水をシャワーする磁気
ディスク用基板の洗浄方法において、ポリビニルアセタ
ール系樹脂よりなるスクラブを用いて、スクラブ回転数
１４００〜１６００ｒｐｍ，リンス水量２リットル／ｍ
ｉｎ以上、リンス水シャワー時間１０〜３０ｓｅｃで洗
浄することを特徴とする。
【００１４】なお、本発明において、リンス水量は基板
の１表面当りの水量を示す。
の１表面当りの水量を示す。
【００１５】本発明によれば、従来のウレタン製スクラ
ブをポリビニルアセタール系樹脂製スクラブに代えるこ
とで、洗浄後の異物付着個数を約１／２〜１／３に低減
できる。また、スクラブ回転数を従来の７５０ｒｐｍか
ら１５００±１００ｒｐｍとすること、リンス水量を従
来の１．７リットル／ｍｉｎから２リットル／ｍｉｎ以
上とすること、及びリンス水シャワー時間を従来の２ｓ
ｅｃから１０〜３０ｓｅｃとすることにより、各々、洗
浄後の異物付着個数を大幅に低減することができ、本発
明では、これらのスクラブ洗浄条件の最適化により、著
しく良好な洗浄効果を得ることができる。
ブをポリビニルアセタール系樹脂製スクラブに代えるこ
とで、洗浄後の異物付着個数を約１／２〜１／３に低減
できる。また、スクラブ回転数を従来の７５０ｒｐｍか
ら１５００±１００ｒｐｍとすること、リンス水量を従
来の１．７リットル／ｍｉｎから２リットル／ｍｉｎ以
上とすること、及びリンス水シャワー時間を従来の２ｓ
ｅｃから１０〜３０ｓｅｃとすることにより、各々、洗
浄後の異物付着個数を大幅に低減することができ、本発
明では、これらのスクラブ洗浄条件の最適化により、著
しく良好な洗浄効果を得ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を説明
する。
する。
【００１７】本発明においては、スクラブ洗浄用スクラ
ブとして、ポリビニルアセタール系樹脂（ポリビニルホ
ルマールを含む広義のポリビニルアセタール樹脂）製ス
クラブを用い、スクラブ回転数１４００〜１６００ｒｐ
ｍで洗浄を行う。このスクラブ回転数が１４００ｒｐｍ
未満でも１６００ｒｐｍを超えても洗浄後の異物残存量
が多くなる。
ブとして、ポリビニルアセタール系樹脂（ポリビニルホ
ルマールを含む広義のポリビニルアセタール樹脂）製ス
クラブを用い、スクラブ回転数１４００〜１６００ｒｐ
ｍで洗浄を行う。このスクラブ回転数が１４００ｒｐｍ
未満でも１６００ｒｐｍを超えても洗浄後の異物残存量
が多くなる。
【００１８】本発明において、リンス水量は２リットル
／ｍｉｎ以上とする。このリンス水量が２リットル／ｍ
ｉｎ未満では、十分な洗浄効果が得られない。リンス水
量は過度に多くても洗浄効果の向上効果に大差はなく、
徒に使用水量が増え好ましくない。一般に、リンス水量
は２〜３リットル／ｍｉｎとするのが好ましい。
／ｍｉｎ以上とする。このリンス水量が２リットル／ｍ
ｉｎ未満では、十分な洗浄効果が得られない。リンス水
量は過度に多くても洗浄効果の向上効果に大差はなく、
徒に使用水量が増え好ましくない。一般に、リンス水量
は２〜３リットル／ｍｉｎとするのが好ましい。
【００１９】また、リンス水シャワー時間は１０〜３０
秒とする。このリンス水シャワー時間が１０秒未満では
十分な洗浄効果が得られない。リンス水シャワー時間が
３０秒を超えてもリンス工程時間が徒に長くなり、ま
た、リンス水量が大量になり、洗浄効率が悪くなる。こ
のため、リンス水シャワー時間は１０〜３０秒とする。
秒とする。このリンス水シャワー時間が１０秒未満では
十分な洗浄効果が得られない。リンス水シャワー時間が
３０秒を超えてもリンス工程時間が徒に長くなり、ま
た、リンス水量が大量になり、洗浄効率が悪くなる。こ
のため、リンス水シャワー時間は１０〜３０秒とする。
【００２０】本発明において、スクラブ材質、スクラブ
回転数、リンス水量及びリンス水シャワー時間を上記の
ものとすること以外は、通常のスクラブ洗浄条件を採用
することができ、その他のスクラブ洗浄条件は、例えば
次のような値を採用するのが好ましい。
回転数、リンス水量及びリンス水シャワー時間を上記の
ものとすること以外は、通常のスクラブ洗浄条件を採用
することができ、その他のスクラブ洗浄条件は、例えば
次のような値を採用するのが好ましい。
【００２１】基板回転数：６０〜１００ｒｐｍ スクラブの基板への押圧力：１００〜２００ｇ／ｃｍ2 洗浄水量：０．７５〜１．５リットル／ｍｉｎ スクラブによる擦り洗浄時間：４〜１０ｓｅｃ また、本発明において、スクラブ洗浄以外の洗浄及び乾
燥条件についても特に制限はなく常法に従って実施する
ことができる。
燥条件についても特に制限はなく常法に従って実施する
ことができる。
【００２２】なお、スクラブ洗浄は、一般に、図２に示
す如く、超音波洗浄の前と後に実施される。本発明に係
る特定のスクラブ材質、スクラブ回転数、リンス水量及
びリンス水シャワー時間を採用するスクラブ洗浄は、前
スクラブ洗浄及び後スクラブ洗浄のうちの両方であって
もいずれか一方であっても良いが、少なくとも、微小な
ゴミの除去に特に有効と考えられる後スクラブ洗浄につ
いて、本発明に係るスクラブ洗浄条件を採用するのが好
適である。
す如く、超音波洗浄の前と後に実施される。本発明に係
る特定のスクラブ材質、スクラブ回転数、リンス水量及
びリンス水シャワー時間を採用するスクラブ洗浄は、前
スクラブ洗浄及び後スクラブ洗浄のうちの両方であって
もいずれか一方であっても良いが、少なくとも、微小な
ゴミの除去に特に有効と考えられる後スクラブ洗浄につ
いて、本発明に係るスクラブ洗浄条件を採用するのが好
適である。
【００２３】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２４】実施例１ 図２に示す如く、テキスチャー加工後の磁気ディスク用
基板を、下記条件で前スクラブ洗浄、超音波洗浄、後ス
クラブ洗浄及びメガシャワーした後、スピンドライし、
得られた基板の１表面当りの異物付着個数（サンプル１
０個の平均値）を調べ、結果を表１に示した。
基板を、下記条件で前スクラブ洗浄、超音波洗浄、後ス
クラブ洗浄及びメガシャワーした後、スピンドライし、
得られた基板の１表面当りの異物付着個数（サンプル１
０個の平均値）を調べ、結果を表１に示した。
【００２５】前スクラブ洗浄 スクラブ材質：ウレタン 基板回転数：８０ｒｐｍ スクラブ回転数：７５０ｒｐｍ スクラブの基板への押圧力：１５０ｇ／ｃｍ2 洗浄水量：０．７５リットル／ｍｉｎ スクラブによる擦り洗浄時間：４ｓｅｃ リンス水量：１．５リットル／ｍｉｎ リンス水シャワー時間：６ｓｅｃ超音波洗浄 洗浄時間：１５０ｓｅｃ後スクラブ洗浄 スクラブ材質：ポリビニルアセタール系樹脂（鐘紡社製
「ベルクリン」） 基板回転数：８０ｒｐｍ スクラブ回転数：１５００ｒｐｍ スクラブの基板への押圧力：１５０ｇ／ｃｍ2 洗浄水量：０．７５リットル／ｍｉｎ スクラブによる擦り洗浄時間：４ｓｅｃ リンス水量：２リットル／ｍｉｎ リンス水シャワー時間：１０ｓｅｃメガシャワー シャワー時間：８ｓｅｃスピンドライ 乾燥時間：８ｓｅｃ 実施例２，３、比較例１〜８ 後スクラブ洗浄の洗浄条件を表１に示すものとしたこと
以外は実施例１と同様にしてテキスチャー加工後の磁気
ディスク用基板の洗浄及び乾燥を行い、得られた基板の
１表面当りの異物付着個数を調べ、結果を表１に示し
た。
「ベルクリン」） 基板回転数：８０ｒｐｍ スクラブ回転数：１５００ｒｐｍ スクラブの基板への押圧力：１５０ｇ／ｃｍ2 洗浄水量：０．７５リットル／ｍｉｎ スクラブによる擦り洗浄時間：４ｓｅｃ リンス水量：２リットル／ｍｉｎ リンス水シャワー時間：１０ｓｅｃメガシャワー シャワー時間：８ｓｅｃスピンドライ 乾燥時間：８ｓｅｃ 実施例２，３、比較例１〜８ 後スクラブ洗浄の洗浄条件を表１に示すものとしたこと
以外は実施例１と同様にしてテキスチャー加工後の磁気
ディスク用基板の洗浄及び乾燥を行い、得られた基板の
１表面当りの異物付着個数を調べ、結果を表１に示し
た。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１より明らかなように、本発明のスクラ
ブ洗浄条件を採用することにより、著しく良好な洗浄結
果を得ることができる。
ブ洗浄条件を採用することにより、著しく良好な洗浄結
果を得ることができる。
【００２８】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の磁気ディス
ク用基板の洗浄方法によれば、テキスチャー加工により
基板表面に付着したゴミ等の異物を効率的に洗浄除去す
ることができ、異物付着量の著しく少ない磁気ディスク
用基板を得ることができる。
ク用基板の洗浄方法によれば、テキスチャー加工により
基板表面に付着したゴミ等の異物を効率的に洗浄除去す
ることができ、異物付着量の著しく少ない磁気ディスク
用基板を得ることができる。
【００２９】従って、本発明に従ってスクラブ洗浄した
基板を用いることにより、欠陥のない高品質の磁気ディ
スクを歩留り良く製造することが可能となる。
基板を用いることにより、欠陥のない高品質の磁気ディ
スクを歩留り良く製造することが可能となる。
【図１】スクラブ洗浄の実施方法を示す斜視図である。
【図２】テキスチャー加工後の洗浄、乾燥工程を示す工
程図である。
程図である。
１ 基板 ２ スクラブ ３ 配管 ４ ノズル
Claims (1)
- 【請求項１】 磁気ディスク用基板に回転するスクラブ
を押し付けて洗浄し、リンス水をシャワーする磁気ディ
スク用基板の洗浄方法において、 ポリビニルアセタール系樹脂よりなるスクラブを用い
て、スクラブ回転数１４００〜１６００ｒｐｍ，リンス
水量２リットル／ｍｉｎ以上、リンス水シャワー時間１
０〜３０ｓｅｃで洗浄することを特徴とする磁気ディス
ク用基板の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8207069A JPH1049868A (ja) | 1996-08-06 | 1996-08-06 | 磁気ディスク用基板の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8207069A JPH1049868A (ja) | 1996-08-06 | 1996-08-06 | 磁気ディスク用基板の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1049868A true JPH1049868A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16533692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8207069A Pending JPH1049868A (ja) | 1996-08-06 | 1996-08-06 | 磁気ディスク用基板の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1049868A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018535172A (ja) * | 2015-10-02 | 2018-11-29 | コーニング インコーポレイテッド | 除去可能なガラス表面処理および粒子付着を低下させる方法 |
| CN109037106A (zh) * | 2013-10-03 | 2018-12-18 | 株式会社荏原制作所 | 基板清洗装置 |
-
1996
- 1996-08-06 JP JP8207069A patent/JPH1049868A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109037106A (zh) * | 2013-10-03 | 2018-12-18 | 株式会社荏原制作所 | 基板清洗装置 |
| JP2018535172A (ja) * | 2015-10-02 | 2018-11-29 | コーニング インコーポレイテッド | 除去可能なガラス表面処理および粒子付着を低下させる方法 |
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