JPH1047524A - 電磁弁 - Google Patents
電磁弁Info
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- JPH1047524A JPH1047524A JP20023696A JP20023696A JPH1047524A JP H1047524 A JPH1047524 A JP H1047524A JP 20023696 A JP20023696 A JP 20023696A JP 20023696 A JP20023696 A JP 20023696A JP H1047524 A JPH1047524 A JP H1047524A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 弁体のリフトがプランジャのリフトと一致し
て、流量の増加又は消費エネルギーの少ない電磁弁を提
供する。 【解決手段】 弁座２ａに対して開閉移動する、磁性体
の球状弁体３と、弁体３を持ち上げることにより、弁の
開動作をするための非磁性体からなる弁体保持部５を有
するプランジャ４と、プランジャ４を収容するプランジ
ャチューブ６と、プランジャチューブ６の外側に配置さ
れた励磁コイル及び固定鉄心７と、固定鉄心７とプラン
ジャ４との間に配置され、弁体３を弁座２ａ側に付勢す
るばね８とで構成され、弁体３が弁体保持部５によって
保持された状態において、弁体３とプランジャ４との間
に隙間を設けた。
て、流量の増加又は消費エネルギーの少ない電磁弁を提
供する。 【解決手段】 弁座２ａに対して開閉移動する、磁性体
の球状弁体３と、弁体３を持ち上げることにより、弁の
開動作をするための非磁性体からなる弁体保持部５を有
するプランジャ４と、プランジャ４を収容するプランジ
ャチューブ６と、プランジャチューブ６の外側に配置さ
れた励磁コイル及び固定鉄心７と、固定鉄心７とプラン
ジャ４との間に配置され、弁体３を弁座２ａ側に付勢す
るばね８とで構成され、弁体３が弁体保持部５によって
保持された状態において、弁体３とプランジャ４との間
に隙間を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電磁弁に関し、特
に、空調機器、自動販売機などの冷凍・冷媒回路に使用
される電磁弁に関する。
に、空調機器、自動販売機などの冷凍・冷媒回路に使用
される電磁弁に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来、空調機器等に使用されて
いる電磁弁を示す断面図である。この電磁弁１０は、弁
本体２に形成された弁座２ａに対して開閉移動する弁体
３と、図示しない励磁コイルをオン・オフすることによ
りプランジャチューブ６内を摺動するプランジャ１４
と、プランジャ１４と一体に形成され、弁体３を持ち上
げることにより電磁弁１０の開動作をするための弁体ホ
ルダー１４ｃと、固定鉄心としての吸引子７と、この吸
引子７とプランジャ１４との間に配置され、弁体３を弁
座２ａ側に付勢するプランジャばね８等により構成され
る。
いる電磁弁を示す断面図である。この電磁弁１０は、弁
本体２に形成された弁座２ａに対して開閉移動する弁体
３と、図示しない励磁コイルをオン・オフすることによ
りプランジャチューブ６内を摺動するプランジャ１４
と、プランジャ１４と一体に形成され、弁体３を持ち上
げることにより電磁弁１０の開動作をするための弁体ホ
ルダー１４ｃと、固定鉄心としての吸引子７と、この吸
引子７とプランジャ１４との間に配置され、弁体３を弁
座２ａ側に付勢するプランジャばね８等により構成され
る。
【０００３】弁本体２には、流入口Ａと流出口Ｂが形成
され、弁本体２の上部は、凹状部となっており、この凹
状部の底面には弁座２ａが形成されている。上記凹状部
には、弁体３、弁体保持部１４ｃ等が位置し、弁本体２
と、プランジャ１４等によって囲まれた空間は弁室Ｃを
形成する。この弁室Ｃは、弁本体２に形成された通路９
を介して流出口Ｂに通じている。
され、弁本体２の上部は、凹状部となっており、この凹
状部の底面には弁座２ａが形成されている。上記凹状部
には、弁体３、弁体保持部１４ｃ等が位置し、弁本体２
と、プランジャ１４等によって囲まれた空間は弁室Ｃを
形成する。この弁室Ｃは、弁本体２に形成された通路９
を介して流出口Ｂに通じている。
【０００４】プランジャ１４は磁性体からなり、略々円
柱状に形成され、弁本体２に一体に形成されたプランジ
ャチューブ６の中に摺動可能に位置する。このプランジ
ャ１４の上部の凹部１４ａには、プランジャばね８が設
けられ、プランジャ１４を弁座２ａ側に付勢し、弁体３
と弁座２ａ間の漏れを防止している。また、プランジャ
１４の下面には、弁体３に当接する部分に曲面からなる
凹部１４ｂが形成されている。
柱状に形成され、弁本体２に一体に形成されたプランジ
ャチューブ６の中に摺動可能に位置する。このプランジ
ャ１４の上部の凹部１４ａには、プランジャばね８が設
けられ、プランジャ１４を弁座２ａ側に付勢し、弁体３
と弁座２ａ間の漏れを防止している。また、プランジャ
１４の下面には、弁体３に当接する部分に曲面からなる
凹部１４ｂが形成されている。
【０００５】プランジャ１４の下部には、弁体保持部１
４ｃが形成される。弁体保持部１４ｃは、下面１４ｄか
ら突出する複数の突出腕であって、先端に突出部１４ｅ
が形成され、内側に位置する弁体３を引っかけて持ち上
げることができる。
４ｃが形成される。弁体保持部１４ｃは、下面１４ｄか
ら突出する複数の突出腕であって、先端に突出部１４ｅ
が形成され、内側に位置する弁体３を引っかけて持ち上
げることができる。
【０００６】弁体３は磁性体であって、球状に形成さ
れ、弁室Ｃにおいて、弁本体２に形成された弁座２ａと
ともに電磁弁１０を開閉する。この弁体３は、弁体保持
部１４ｃによって保持され、後述の励磁コイルの通電に
よりプランジャ１４及び弁体保持部１４ｃを介して上方
へ移動する。尚、弁体３と弁体保持部１４ｃの内側との
間にはわずかに隙間が存在するため、弁体３は弁体保持
部１４ｃに回動可能に保持される。
れ、弁室Ｃにおいて、弁本体２に形成された弁座２ａと
ともに電磁弁１０を開閉する。この弁体３は、弁体保持
部１４ｃによって保持され、後述の励磁コイルの通電に
よりプランジャ１４及び弁体保持部１４ｃを介して上方
へ移動する。尚、弁体３と弁体保持部１４ｃの内側との
間にはわずかに隙間が存在するため、弁体３は弁体保持
部１４ｃに回動可能に保持される。
【０００７】プランジャチューブ６内には、プランジャ
１４に対向して、固定鉄心としての吸引子７が配置され
る。また、プランジャチューブ６の外側の図示しない外
函内には励磁コイルが配設され、励磁コイルへ通電する
とプランジャ１４が吸引子７に向かって移動する。
１４に対向して、固定鉄心としての吸引子７が配置され
る。また、プランジャチューブ６の外側の図示しない外
函内には励磁コイルが配設され、励磁コイルへ通電する
とプランジャ１４が吸引子７に向かって移動する。
【０００８】次に、上記構成を有する電磁弁１０の作用
について説明する。図４は、励磁コイルの非通電時を示
し、弁は全閉状態にある。このとき、弁体３は、弁座２
ａに当接するとともに、プランジャばね８の付勢力によ
り、プランジャ１４の凹部１４ｂを介して弁座２ａ側に
付勢されている。そのため、弁体３の上部とプランジャ
１４の凹部１４ｂが当接している。また、弁体３と弁体
保持部１４ｃの内側との間には隙間がある。さらに、弁
体３は、弁体保持部１４ｃの下端部に形成された突出部
１４ｅには接触していない。
について説明する。図４は、励磁コイルの非通電時を示
し、弁は全閉状態にある。このとき、弁体３は、弁座２
ａに当接するとともに、プランジャばね８の付勢力によ
り、プランジャ１４の凹部１４ｂを介して弁座２ａ側に
付勢されている。そのため、弁体３の上部とプランジャ
１４の凹部１４ｂが当接している。また、弁体３と弁体
保持部１４ｃの内側との間には隙間がある。さらに、弁
体３は、弁体保持部１４ｃの下端部に形成された突出部
１４ｅには接触していない。
【０００９】励磁コイルに通電するとプランジャ１４が
上昇し、まず、弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅが弁体
３に当接し、さらにプランジャ１４が上昇すると、弁体
３は弁座２ａから離れ、弁体保持部１４ｃによって上方
へ持ち上げられる。そして、最終的に、図５に示す状態
となり、弁体３は、弁体保持部１４ｃによって支持さ
れ、電磁弁１０は弁開状態となる。
上昇し、まず、弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅが弁体
３に当接し、さらにプランジャ１４が上昇すると、弁体
３は弁座２ａから離れ、弁体保持部１４ｃによって上方
へ持ち上げられる。そして、最終的に、図５に示す状態
となり、弁体３は、弁体保持部１４ｃによって支持さ
れ、電磁弁１０は弁開状態となる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の電
磁弁１０においては、図５に示すように、磁気回路は、
図示しない励磁コイル、吸引子７、プランジャ１４、弁
体保持部１４ｃ、弁体３によって形成されるため、弁体
３は、弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅに当接した状態
で保持される。そのため、プランジャ１４のリフトγ２
から、弁体３の頂部３ａとプランジャ１４の凹部１４ｂ
の頂部１４ｂ’との間の隙間βを差し引いた寸法が弁体
３のリフトαとなる。すなわち、α＝γ２−βとなる。
そのため、弁体３のリフト以上にプランジャ１４を持ち
上げる必要があった。
磁弁１０においては、図５に示すように、磁気回路は、
図示しない励磁コイル、吸引子７、プランジャ１４、弁
体保持部１４ｃ、弁体３によって形成されるため、弁体
３は、弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅに当接した状態
で保持される。そのため、プランジャ１４のリフトγ２
から、弁体３の頂部３ａとプランジャ１４の凹部１４ｂ
の頂部１４ｂ’との間の隙間βを差し引いた寸法が弁体
３のリフトαとなる。すなわち、α＝γ２−βとなる。
そのため、弁体３のリフト以上にプランジャ１４を持ち
上げる必要があった。
【００１１】また、上記従来例においては、弁体３は磁
性体で形成されているが、仮に弁体３を非磁性体で形成
しても、弁室Ｃ内を流れる流体の吸込力により、弁体３
は弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅに当接した状態で保
持され、プランジャ１４のリフトγ２と弁体３のリフト
αとの関係は上述の場合と同様である。
性体で形成されているが、仮に弁体３を非磁性体で形成
しても、弁室Ｃ内を流れる流体の吸込力により、弁体３
は弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅに当接した状態で保
持され、プランジャ１４のリフトγ２と弁体３のリフト
αとの関係は上述の場合と同様である。
【００１２】そこで、本発明は、上記従来の電磁弁にお
ける問題点に鑑みてなされたものであって、弁体のリフ
トがプランジャのリフトと一致させることにより、従来
と同様のプランジャリフトとした場合には流量の増加が
可能となり、従来と同様の弁体リフトとした場合には消
費エネルギーが少なく、最高作動圧力差が大きい電磁弁
を提供することを目的とする。
ける問題点に鑑みてなされたものであって、弁体のリフ
トがプランジャのリフトと一致させることにより、従来
と同様のプランジャリフトとした場合には流量の増加が
可能となり、従来と同様の弁体リフトとした場合には消
費エネルギーが少なく、最高作動圧力差が大きい電磁弁
を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
弁座に対して開閉移動する球状弁体と、該弁体を持ち上
げることにより、弁の開動作をするための弁体保持部を
有するプランジャと、該プランジャを収容するプランジ
ャチューブと、該プランジャチューブの外側に配置され
た励磁コイル及び固定鉄心と、該固定鉄心と前記プラン
ジャとの間に配置され、前記弁体を前記弁座側に付勢す
るばねとからなり、前記励磁コイルに通電することによ
り弁開状態となる電磁弁において、前記弁体を磁性体に
より形成し、前記弁体保持部を非磁性体により形成する
とともに、前記弁体が前記弁体保持部によって保持され
た状態において、該弁体と前記プランジャとの間に隙間
を設けたことを特徴とする。
弁座に対して開閉移動する球状弁体と、該弁体を持ち上
げることにより、弁の開動作をするための弁体保持部を
有するプランジャと、該プランジャを収容するプランジ
ャチューブと、該プランジャチューブの外側に配置され
た励磁コイル及び固定鉄心と、該固定鉄心と前記プラン
ジャとの間に配置され、前記弁体を前記弁座側に付勢す
るばねとからなり、前記励磁コイルに通電することによ
り弁開状態となる電磁弁において、前記弁体を磁性体に
より形成し、前記弁体保持部を非磁性体により形成する
とともに、前記弁体が前記弁体保持部によって保持され
た状態において、該弁体と前記プランジャとの間に隙間
を設けたことを特徴とする。
【００１４】請求項１記載の発明によれば、磁性体であ
る弁体は、非磁性体である弁体保持部には吸引されるこ
とがなく、プランジャに当接した状態で持ち上げられる
ため、弁体のリフトはプランジャのリフトと一致する。
る弁体は、非磁性体である弁体保持部には吸引されるこ
とがなく、プランジャに当接した状態で持ち上げられる
ため、弁体のリフトはプランジャのリフトと一致する。
【００１５】
【発明の実施の形態】次に、本発明にかかる電磁弁の実
施の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。本発
明にかかる電磁弁１の構成要素であって、上記従来の電
磁弁１０と同一の構成要素については同一の参照番号を
付して詳細説明を省略する。
施の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。本発
明にかかる電磁弁１の構成要素であって、上記従来の電
磁弁１０と同一の構成要素については同一の参照番号を
付して詳細説明を省略する。
【００１６】図１に示すように、本発明にかかる電磁弁
１は、電磁弁１０に類似の構成を有し、電磁弁１と、電
磁弁１０を比較して相違する点は、電磁弁１０における
弁体保持部１４ｃがプランジャ１４に一体に磁性体とし
て形成されているのに対し、電磁弁１における弁体ホル
ダー５が非磁性体で構成されている点である。尚、プラ
ンジャ４と弁体ホルダー５は、溶接、ねじによる締結、
加締め、接着剤等によって結合される。また、弁体ホル
ダー５の内壁５ａと弁体３との間には、従来と同様若干
の隙間が設けられている。
１は、電磁弁１０に類似の構成を有し、電磁弁１と、電
磁弁１０を比較して相違する点は、電磁弁１０における
弁体保持部１４ｃがプランジャ１４に一体に磁性体とし
て形成されているのに対し、電磁弁１における弁体ホル
ダー５が非磁性体で構成されている点である。尚、プラ
ンジャ４と弁体ホルダー５は、溶接、ねじによる締結、
加締め、接着剤等によって結合される。また、弁体ホル
ダー５の内壁５ａと弁体３との間には、従来と同様若干
の隙間が設けられている。
【００１７】ここで、電磁弁１の動作を図２を参照しな
がら説明する。図２（ａ）は、励磁コイルの非通電時で
あって、電磁弁１の閉状態を示している。この状態で
は、プランジャ４の凹部４ｂを介してプランジャばね８
によって弁体３は弁座２ａに押し付けられている。その
ため、弁体ホルダー５の突出部５ｂと弁体３は接触せ
ず、突出部５ｂを通る鉛直線と弁体３の表面が交わる点
３ｂとはβだけ離間している。また、吸引子７の下面７
ａとプランジャ４の上面４ｃとの間にはγ１の隙間があ
る。
がら説明する。図２（ａ）は、励磁コイルの非通電時で
あって、電磁弁１の閉状態を示している。この状態で
は、プランジャ４の凹部４ｂを介してプランジャばね８
によって弁体３は弁座２ａに押し付けられている。その
ため、弁体ホルダー５の突出部５ｂと弁体３は接触せ
ず、突出部５ｂを通る鉛直線と弁体３の表面が交わる点
３ｂとはβだけ離間している。また、吸引子７の下面７
ａとプランジャ４の上面４ｃとの間にはγ１の隙間があ
る。
【００１８】励磁コイルに通電すると、図２（ｂ）に示
すように、プランジャ４の上昇とともに弁体ホルダー５
も上昇し、まず突出部５ｂが上記交点３ｂにおいて弁体
３に当接する。この状態で、吸引子７の下面７ａとプラ
ンジャ４の上面４ｃとの間隔をγ１’とすると、弁体３
の頂部３ａとプランジャ４に形成された凹部４ｂの頂部
４ｂ’との距離はβとなるため、γ１’＝γ１−βの関
係がある。
すように、プランジャ４の上昇とともに弁体ホルダー５
も上昇し、まず突出部５ｂが上記交点３ｂにおいて弁体
３に当接する。この状態で、吸引子７の下面７ａとプラ
ンジャ４の上面４ｃとの間隔をγ１’とすると、弁体３
の頂部３ａとプランジャ４に形成された凹部４ｂの頂部
４ｂ’との距離はβとなるため、γ１’＝γ１−βの関
係がある。
【００１９】さらに、弁体３が上昇し、吸引子７の下面
７ａとプランジャ４の上面４ｃとが当接した状態を示し
たのが図２（ｃ）である。この状態では、弁体ホルダー
５が非磁性体で形成されているため、磁気回路は、図示
しない励磁コイル、吸引子７、プランジャ４、弁体３に
よって構成され、磁力により、弁体３は突出部５ｂから
離れ凹部４ｂに接触する。従って、図２（ａ）の弁閉状
態と同様に、弁体ホルダー５の突出部５ｂを通る鉛直線
と弁体３の表面が交わる点３ｂまでの距離はβとなる。
そのため、弁体３のリフトαは、プランジャ４のリフト
γ１に等しくなる。
７ａとプランジャ４の上面４ｃとが当接した状態を示し
たのが図２（ｃ）である。この状態では、弁体ホルダー
５が非磁性体で形成されているため、磁気回路は、図示
しない励磁コイル、吸引子７、プランジャ４、弁体３に
よって構成され、磁力により、弁体３は突出部５ｂから
離れ凹部４ｂに接触する。従って、図２（ａ）の弁閉状
態と同様に、弁体ホルダー５の突出部５ｂを通る鉛直線
と弁体３の表面が交わる点３ｂまでの距離はβとなる。
そのため、弁体３のリフトαは、プランジャ４のリフト
γ１に等しくなる。
【００２０】ここで、本発明にかかる電磁弁１と従来の
電磁弁１０の動作を比較しながら両者の性能を比較す
る。図３は、電磁弁１と電磁弁１０の励磁コイルによる
吸引力及びプランジャばね８による弾性力の大きさと、
プランジャ４、１４及び弁体３のリフトとの関係を示し
たものである。同図において、曲線Ｍが励磁コイルによ
る吸引力、直線Ｆがばね８の弾性力を示す。曲線Ｍの実
線は励磁コイルに電圧Ｖ1を加えた場合、破線は電圧Ｖ1
より低い電圧Ｖ2を加えた場合を示す。まず、電磁弁１
及び電磁弁１０のそれぞれの励磁コイルに電圧Ｖ1を加
え、直線Ｆは両電磁弁１、１０において共通とする。
電磁弁１０の動作を比較しながら両者の性能を比較す
る。図３は、電磁弁１と電磁弁１０の励磁コイルによる
吸引力及びプランジャばね８による弾性力の大きさと、
プランジャ４、１４及び弁体３のリフトとの関係を示し
たものである。同図において、曲線Ｍが励磁コイルによ
る吸引力、直線Ｆがばね８の弾性力を示す。曲線Ｍの実
線は励磁コイルに電圧Ｖ1を加えた場合、破線は電圧Ｖ1
より低い電圧Ｖ2を加えた場合を示す。まず、電磁弁１
及び電磁弁１０のそれぞれの励磁コイルに電圧Ｖ1を加
え、直線Ｆは両電磁弁１、１０において共通とする。
【００２１】ここで、両電磁弁１、１０の弁体３のリフ
トを同一にするとともに、弁全開時のプランジャ４、１
４の位置を基準に考えると、弁全閉時の電磁弁１のプラ
ンジャ４のストロークは点Ｘ、同じく弁全閉時の電磁弁
１０のプランジャ１４のストロークは点Ｙで表される。
トを同一にするとともに、弁全開時のプランジャ４、１
４の位置を基準に考えると、弁全閉時の電磁弁１のプラ
ンジャ４のストロークは点Ｘ、同じく弁全閉時の電磁弁
１０のプランジャ１４のストロークは点Ｙで表される。
【００２２】従来の電磁弁１０においては、上述のとお
り、弁体３は常に弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅに当
接した状態を維持しながらプランジャばね８の上昇に伴
って上昇するため、電磁弁１０を全開状態、すなわち弁
体３のリフトをαとするためには、プランジャ1４のリ
フトγ２は、上述のとおりα＋βとしなければならな
い。
り、弁体３は常に弁体保持部１４ｃの突出部１４ｅに当
接した状態を維持しながらプランジャばね８の上昇に伴
って上昇するため、電磁弁１０を全開状態、すなわち弁
体３のリフトをαとするためには、プランジャ1４のリ
フトγ２は、上述のとおりα＋βとしなければならな
い。
【００２３】一方、本発明にかかる電磁弁１において
は、弁体３のリフトはプランジャ４のリフトと一致する
ため、電磁弁１を全開するにはプランジャ４のリフトγ
をαとすればよい。従って、図３より明らかなように、
従来の電磁弁１０では、網掛部分に相当する仕事を余計
にしなければ、本発明の電磁弁１と同様の弁開度は得ら
れないこととなる。これは、プランジャばね８の弾性力
に対抗するために要する仕事である。逆に言えば、本発
明にかかる電磁弁１は、従来の電磁弁１０に比較して上
記仕事の分だけ消費エネルギーが低減されることとな
る。
は、弁体３のリフトはプランジャ４のリフトと一致する
ため、電磁弁１を全開するにはプランジャ４のリフトγ
をαとすればよい。従って、図３より明らかなように、
従来の電磁弁１０では、網掛部分に相当する仕事を余計
にしなければ、本発明の電磁弁１と同様の弁開度は得ら
れないこととなる。これは、プランジャばね８の弾性力
に対抗するために要する仕事である。逆に言えば、本発
明にかかる電磁弁１は、従来の電磁弁１０に比較して上
記仕事の分だけ消費エネルギーが低減されることとな
る。
【００２４】また、図１及び図４における電磁弁１及び
電磁弁１０において、流入口Ａ側に高圧の流体が存在
し、流出口Ｂ側に低圧流体が存在する場合を考えると、
この圧力差によって弁体３が弁座２ａに押しつけられる
ことになる。そして、圧力差が大きい程、弁体３に加わ
る力は大きくなり、弁体３を上昇させるにはより大きな
吸引力が必要となる。
電磁弁１０において、流入口Ａ側に高圧の流体が存在
し、流出口Ｂ側に低圧流体が存在する場合を考えると、
この圧力差によって弁体３が弁座２ａに押しつけられる
ことになる。そして、圧力差が大きい程、弁体３に加わ
る力は大きくなり、弁体３を上昇させるにはより大きな
吸引力が必要となる。
【００２５】上述のように、電磁弁１と電磁弁１０とで
同一の弁リフトを得るためには、電磁弁１０の方がβだ
けより大きなプランジャリフトが必要となる。そのた
め、図２（ａ）の弁閉時における電磁弁１のプランジャ
４の上面４ｃと吸引子７の下面７ａ間の隙間γ１は、図
４の弁閉時における電磁弁１０のプランジャ１４の上面
１４ｆと吸引子７の下面７ａ間の隙間γ２よりβだけ小
さくて済む。従って、励磁コイルへの印加電圧を等しく
した場合（同図においてＶ1とした場合）には、電磁弁
１の方がより大きな吸引力を得ることができる。
同一の弁リフトを得るためには、電磁弁１０の方がβだ
けより大きなプランジャリフトが必要となる。そのた
め、図２（ａ）の弁閉時における電磁弁１のプランジャ
４の上面４ｃと吸引子７の下面７ａ間の隙間γ１は、図
４の弁閉時における電磁弁１０のプランジャ１４の上面
１４ｆと吸引子７の下面７ａ間の隙間γ２よりβだけ小
さくて済む。従って、励磁コイルへの印加電圧を等しく
した場合（同図においてＶ1とした場合）には、電磁弁
１の方がより大きな吸引力を得ることができる。
【００２６】これを図３を参照しながら説明すると、弁
の全閉状態から電磁弁１０のプランジャ１４を上昇させ
た場合に、電磁弁１０の突出部１４ｅが弁体３に当接す
る位置はＸ点である。一方、電磁弁１のプランジャ４を
上昇させた場合に、突出部５ｂが弁体３に当接する位置
はＺ点である。ここで、励磁コイルによる吸引力とプラ
ンジャばね８の弾性力の差を、Ｘ点においてＦ1、Ｚ点
においてＦ2とすると、Ｆ2＞Ｆ1となる。従って、印加
電圧が等しい場合には、電磁弁１の方がより大きな流体
の圧力差に対抗して弁体を引き上げることができる。す
なわち、電磁弁１の最高作動圧力差の方が大きくなる。
の全閉状態から電磁弁１０のプランジャ１４を上昇させ
た場合に、電磁弁１０の突出部１４ｅが弁体３に当接す
る位置はＸ点である。一方、電磁弁１のプランジャ４を
上昇させた場合に、突出部５ｂが弁体３に当接する位置
はＺ点である。ここで、励磁コイルによる吸引力とプラ
ンジャばね８の弾性力の差を、Ｘ点においてＦ1、Ｚ点
においてＦ2とすると、Ｆ2＞Ｆ1となる。従って、印加
電圧が等しい場合には、電磁弁１の方がより大きな流体
の圧力差に対抗して弁体を引き上げることができる。す
なわち、電磁弁１の最高作動圧力差の方が大きくなる。
【００２７】また、電磁弁１０には上記と同様に電圧Ｖ
1を印加し、電磁弁１にはこの電圧Ｖ1より低い電圧Ｖ2
（破線）を印加し、Ｚ点における励磁コイルの吸引力と
プランジャばね８の圧縮力の差Ｆ2’をＦ2’＝Ｆ1とな
るようにすれば、両者の最高作動圧力差が同じ値とな
る。従って、この場合には、電磁弁１０に比べて電磁弁
１の方がより小さな印加電圧で済むことになり、消費エ
ネルギーがより小さくなる。
1を印加し、電磁弁１にはこの電圧Ｖ1より低い電圧Ｖ2
（破線）を印加し、Ｚ点における励磁コイルの吸引力と
プランジャばね８の圧縮力の差Ｆ2’をＦ2’＝Ｆ1とな
るようにすれば、両者の最高作動圧力差が同じ値とな
る。従って、この場合には、電磁弁１０に比べて電磁弁
１の方がより小さな印加電圧で済むことになり、消費エ
ネルギーがより小さくなる。
【００２８】上述の比較は、弁体３のリフトを同一にし
た場合のものであるが、本発明にかかる電磁弁１と従来
の電磁弁１０において、プランジャ４、１４のリフトを
同一にした場合には、電磁弁１の弁体リフトが電磁弁１
０の弁体リフトよりβだけ大きくなる。従って、この場
合には、電磁弁１の方が弁体リフトの増加だけ流量が増
加するという効果がある。
た場合のものであるが、本発明にかかる電磁弁１と従来
の電磁弁１０において、プランジャ４、１４のリフトを
同一にした場合には、電磁弁１の弁体リフトが電磁弁１
０の弁体リフトよりβだけ大きくなる。従って、この場
合には、電磁弁１の方が弁体リフトの増加だけ流量が増
加するという効果がある。
【００２９】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、弁体のリ
フトがプランジャのリフトと一致するため、従来と同様
のプランジャリフトとした場合には流量の増加が可能と
なり、従来と同様の弁体リフトとした場合には消費エネ
ルギーが少なく、より最高作動圧力差の大きい電磁弁を
提供することが可能となる。
フトがプランジャのリフトと一致するため、従来と同様
のプランジャリフトとした場合には流量の増加が可能と
なり、従来と同様の弁体リフトとした場合には消費エネ
ルギーが少なく、より最高作動圧力差の大きい電磁弁を
提供することが可能となる。
【図１】本発明にかかる電磁弁を示す断面図である。
【図２】図１の弁体近傍を示す断面図であって、（ａ）
は弁の全閉時、（ｂ）は弁体がプランジャによって持ち
上げられる直前の状態、（ｃ）は全開時を示す。
は弁の全閉時、（ｂ）は弁体がプランジャによって持ち
上げられる直前の状態、（ｃ）は全開時を示す。
【図３】本発明にかかる電磁弁と従来の電磁弁におけ
る、励磁コイルによる吸引力及びプランジャばねによる
弾性力と、プランジャのリフトとの関係を示すグラフで
ある。
る、励磁コイルによる吸引力及びプランジャばねによる
弾性力と、プランジャのリフトとの関係を示すグラフで
ある。
【図４】従来の電磁弁を示す断面図である。
【図５】図４の弁体近傍を示す断面図である。
１ 電磁弁 ２ 弁本体 ３ 弁体 ４ プランジャ ５ 弁体ホルダー ６ プランジャチューブ ７ 吸引子 ８ プランジャばね
Claims (1)
- 【請求項１】 弁座に対して開閉移動する球状弁体と、
該弁体を持ち上げることにより、弁の開動作をするため
の弁体保持部を有するプランジャと、該プランジャを収
容するプランジャチューブと、該プランジャチューブの
外側に配置された励磁コイル及び固定鉄心と、該固定鉄
心と前記プランジャとの間に配置され、前記弁体を前記
弁座側に付勢するばねとからなり、前記励磁コイルに通
電することにより弁開状態となる電磁弁において、 前記弁体を磁性体により形成し、前記弁体保持部を非磁
性体により形成するとともに、前記弁体が前記弁体保持
部によって保持された状態において、該弁体と前記プラ
ンジャとの間に隙間を設けたことを特徴とする電磁弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20023696A JP3616462B2 (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 電磁弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20023696A JP3616462B2 (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 電磁弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1047524A true JPH1047524A (ja) | 1998-02-20 |
| JP3616462B2 JP3616462B2 (ja) | 2005-02-02 |
Family
ID=16421081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20023696A Expired - Fee Related JP3616462B2 (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 電磁弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3616462B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004116349A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Tgk Co Ltd | 可変容量圧縮機用容量制御弁 |
-
1996
- 1996-07-30 JP JP20023696A patent/JP3616462B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004116349A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Tgk Co Ltd | 可変容量圧縮機用容量制御弁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3616462B2 (ja) | 2005-02-02 |
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