JPH1037000A - Surface roughening method and surface roughening device for aluminum sheet - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface roughening method and a surface roughening device for an aluminum sheet capable of forming uniform honeycomb pits on the surface of even an aluminum material contg. much copper component and lessening the deterioration of electrodes at this time. SOLUTION: This method electrochemically executes surface roughening by alternately arranging anodes and cathodes along the progressing route of the aluminum sheet opposite to the aluminum sheet in an aq. soln. mainly composed of nitric acid and using DC. The surface roughening is executed under the conditions that the ratio Lp/Ln of the length Lp with respect to the progressing direction of the aluminum sheet of the anode to the length Ln with respect to the progressing direction of the aluminum sheet of the cathode is 1 to 20, the ratio Ip/In of the current Ip flowing to the anodes to the current In flowing to the anodes is 1 to 20 and the cathode length Ln is 0.005 to 2V[m] when the moving speed of the aluminum sheet is defined as V[m/sec].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム板の
電気化学的な粗面化方法並びに粗面化装置に関するもの
である。特に、銅を０．１ｗｔ％以上含有するアルミニ
ウム板表面に、均一なハニカムピットを形成させるのに
好適な粗面化方法並びに粗面化装置に関する。本発明の
粗面化方法により電気化学的な粗面化を施したアルミニ
ウム板を、更に陽極酸化処理・親水化処理等を施すこと
により、平版印刷版用アルミニウム支持体を製造するこ
とができる。また、本発明の粗面化方法は、塗装などの
樹脂の被覆を形成させる前の下地処理として用いること
もできる。更に、機械的な粗面化や化学的なエッチング
と組み合わせて、平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造や塗装などの下地処理に好適な方法を提供する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for electrochemically roughening an aluminum plate. In particular, the present invention relates to a surface roughening method and a surface roughening apparatus suitable for forming uniform honeycomb pits on the surface of an aluminum plate containing 0.1 wt% or more of copper. By subjecting the aluminum plate which has been electrochemically surface-roughened by the surface-roughening method of the present invention to anodic oxidation treatment, hydrophilic treatment or the like, an aluminum support for a lithographic printing plate can be produced. Further, the surface roughening method of the present invention can also be used as a base treatment before forming a resin coating such as painting. Further, the present invention provides a method suitable for base treatment such as production of an aluminum support for a lithographic printing plate or painting, in combination with mechanical roughening or chemical etching.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来から金属板表面に、その深さや分布
を制御しながら均一な形状の凹凸を形成して表面積を増
加させ、被覆層の密着性や、表面の保水性を向上させる
方法が試みられている。そのひとつとして、機械的な粗
面化、化学的なエッチング、電気化学的な粗面化の１つ
以上を組み合わせた処理を施す方法が知られている。特
に、平版印刷版用アルミニウム支持体として好適な表面
形状を得る方法として硝酸または塩酸を主体とする水溶
液中で、交流または直流を用いた電気化学的な粗面化方
法が実用化されている。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been a method of increasing the surface area by forming unevenness of a uniform shape on the surface of a metal plate while controlling its depth and distribution, thereby improving the adhesion of a coating layer and the water retention of the surface. Attempted. As one of them, a method of performing a treatment combining one or more of mechanical roughening, chemical etching, and electrochemical roughening is known. In particular, as a method for obtaining a surface shape suitable as an aluminum support for a lithographic printing plate, an electrochemical roughening method using an alternating current or a direct current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid has been put to practical use.

【０００３】交流を用いた電気化学的な粗面化で均一な
ハニカムピットを生成する方法として、特公平５−６５
３６０号公報に記載された方法が知られている。前記公
報には、アルミニウム板のカソード時の電気量Ｑｃとア
ノード時の電気量Ｑａとの比（Ｑｃ／Ｑａ）が１〜２．
５の範囲であることが好適であり、２．５以上にすると
均一な砂目が形成されず、エネルギー効率が低下するこ
とが記載されている。また特開昭５５−１３７９９３号
公報には、交流を用いた電気化学的な粗面化方法におい
て、Ｑｃ／Ｑａが０．３〜０．９５の範囲であることが
好適であると記載されている。As a method for forming uniform honeycomb pits by electrochemical surface roughening using alternating current, Japanese Patent Publication No.
A method described in Japanese Patent Publication No. 360 is known. The publication discloses that the ratio (Qc / Qa) of the quantity of electricity Qc at the time of cathode and the quantity of electricity Qa at the time of anode of an aluminum plate is 1-2.
It is described that it is preferably in the range of 5, and if it is more than 2.5, uniform grain is not formed and energy efficiency is reduced. Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-137993 describes that it is preferable that Qc / Qa is in a range of 0.3 to 0.95 in an electrochemical surface roughening method using alternating current. I have.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記公
報に記載の粗面化方法は、不純物の多い（特に銅を０．
１ｗｔ％以上含有）アルミニウム板や、銅などの金属間
化合物が偏析したり、結晶方向の局部的な不揃いが存在
するなど、電気化学的な粗面化を均一に行うことができ
ない欠陥を有するアルミニウム板には、均一なハニカム
ピットを生成することが困難であった。However, the surface roughening method described in the above-mentioned publication has a large amount of impurities (particularly, copper is used in an amount of 0.1%).
1% by weight or more) Aluminum plate or aluminum having a defect that electrochemical surface roughening cannot be performed uniformly, such as segregation of intermetallic compounds such as copper and local irregularity of crystal direction. It was difficult to generate uniform honeycomb pits on the plate.

【０００５】また、最近エネルギー資源の有効活用から
汎用材料の利活用が望まれており、平版印刷版用アルミ
ニウム支持体も例外でなく、従来用いられていたアルミ
ニウムの純度が高いＪＩＳ Ａ １０５０材に代えて、
缶材やフィン材として用いられているＪＩＳ Ａ ３０
０４材やＪＩＳ Ａ １１００材を用いることが望まれ
ている。ところが、交流を用いてＪＩＳ Ａ１０５０材
を電気化学的な粗面化処理を行う際、電極の溶解を防止
するためにカソード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気
量Ｑａとの比（Ｑｃ／Ｑａ）が０．９５以下となる条件
で粗面化を行うのが一般的であったが、ＪＩＳ Ａ ３
００４材やＪＩＳ Ａ １１００材は不純物が多く、特
に銅成分が多く含まれているためにアルミニウム板のス
マット生成量が少なく、（Ｑｃ／Ｑａ）を１以上にしな
いと均一なハニカムピットの生成を行うことができず、
その結果主極として一般的に用いるカーボン電極の溶解
が著しく、連続操業に適さなかった。Recently, utilization of general-purpose materials has been desired in view of effective use of energy resources, and aluminum supports for lithographic printing plates are no exception, and JIS A 1050 materials, which have been conventionally used and have high purity of aluminum, are used. Instead to,
JIS A30 used as can material and fin material
It is desired to use 04 or JIS A 1100. However, when performing electrochemical surface-roughening treatment of JIS A1050 material using alternating current, the ratio (Qc / Qa) of the amount of electricity Qc at the time of the cathode and the amount of electricity Qa at the time of the anode in order to prevent melting of the electrodes. ) Is generally 0.95 or less, but JIS A 3
004 material and JIS A 1100 material contain a lot of impurities, especially a large amount of copper components, so that the amount of smut generated on the aluminum plate is small. If (Qc / Qa) is not set to 1 or more, uniform honeycomb pits are generated. Can not do,
As a result, the carbon electrode generally used as the main electrode was significantly dissolved, and was not suitable for continuous operation.

【０００６】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであり、銅成分を多く含有するアルミニウム材でもそ
の表面に均一なハニカムピットを形成でき、しかもその
際電極の劣化も少ないアルミニウム板の粗面化方法並び
に粗面化装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it is possible to form uniform honeycomb pits on the surface of an aluminum material containing a large amount of a copper component, and at the same time, to reduce the deterioration of the electrode. It is an object to provide a roughening method and a roughening device.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的は、本発明に
係る下記の粗面化方法並びに粗面化装置により達成され
る。 （１）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて電気化学的に粗面化
を行う方法において、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、前記陽極
に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉｎとの比Ｉ
ｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、前記陰極長さＬｎ
が、アルミニウム板の移動速度をＶ〔ｍ／ｓｅｃ〕とし
たときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ〔ｍ〕、である条件で行
うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。 （２）アルミニウム板を順に （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｃ）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、の条件による粗面化 （ｄ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｅ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法。 （３）アルミニウム板を順に （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｂ）硝酸を主体とする水溶液中で直流を用いた電気化
学的な粗面化処理 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｄ）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、である条件による粗面化処理 （ｅ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｆ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法。 （４）アルミニウム板を順に （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｂ）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、である条件による粗面化処理 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｄ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法。 （５）前記（２）、（３）または（４）に記載された粗
面化方法により処理されたアルミニウム板を、更に陽極
酸化処理した後に親水化処理を行うことを特徴とする平
版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方法。 （６）陽極と陰極とを、陽極がを先頭になるように配置
し、直流を用いた電気化学的な粗面化処理をアルミニウ
ム板のカソード反応から開始することを特徴とする前記
（１）〜（５）の何れか一項に記載の粗面化方法。 （７）コンダクタロールを用いてアルミニウム板に給電
することを特徴とする前記（１）〜（６）の何れか一項
に記載の粗面化方法。 （８）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、アルミニウム板を前記電極と一定
間隔を保ちながら該電極間を通過させて電気化学的に粗
面化を行う装置であって、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極の印加電流Ｉｐと前記陰極の印加電流Ｉｎと
の比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎを、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、であることを特徴とする粗面化装置。 （９）コンダクタロールを用いてアルミニウム板に給電
することを特徴とする前記（８）に記載の粗面化装置。 （10）陽極を先頭に配置したことを特徴とする前記
（８）または（９）に記載の粗面化装置。The above object is achieved by the following roughening method and roughening apparatus according to the present invention. (1) In an aqueous solution mainly composed of nitric acid, an anode and a cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate so as to face the aluminum plate, and the surface is electrochemically roughened using a direct current. In the method, a length L of the anode in the direction of travel of the aluminum plate
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the ratio Ip of the current Ip flowing to the anode to the current In flowing to the cathode is Ip.
p / In is 1 to 20 and the cathode length Ln
Is performed under the condition of 0.005 V to 2 V [m] when the moving speed of the aluminum plate is V [m / sec]. (2) Aluminum plate in order (a) Mechanical roughening treatment (b) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in acid or alkali aqueous solution (c) Nitric acid mainly The anode and the cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate in the aqueous solution to be opposed to the aluminum plate, and the length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is measured using a direct current.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
(M) surface roughening under the conditions of (d) a lithographic plate characterized by performing an electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or a chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, and (e) anodizing treatment. A method for roughening an aluminum support for a printing plate. (3) Aluminum plate in order (a) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in acid or alkali aqueous solution (b) Electrochemistry using direct current in aqueous solution mainly containing nitric acid Rough surface treatment (c) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution or chemical etching treatment in acid or alkali aqueous solution (d) In aqueous solution mainly composed of nitric acid, facing aluminum plate An anode and a cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate, and the length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is measured using a direct current.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M] surface roughening treatment under the following conditions: (e) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, and (f) anodizing treatment. Surface roughening method for an aluminum support for a lithographic printing plate. (4) The aluminum plate is sequentially placed (a) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution (b) The aluminum plate is opposed to the aluminum plate in an aqueous solution mainly containing nitric acid. The anode and the cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate, and the length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is measured using a direct current.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M] surface roughening treatment under the following conditions: (c) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution; and (d) anodizing treatment. Surface roughening method for an aluminum support for a lithographic printing plate. (5) A lithographic printing plate comprising subjecting an aluminum plate treated by the surface roughening method described in the above (2), (3) or (4) to anodizing treatment and then hydrophilizing the plate. Surface roughening method for aluminum support. (6) The above-mentioned (1), wherein the anode and the cathode are arranged such that the anode is at the top, and the electrochemical surface roughening treatment using direct current is started from the cathode reaction of the aluminum plate. The surface roughening method according to any one of (1) to (5). (7) The surface roughening method according to any one of (1) to (6), wherein power is supplied to the aluminum plate using a conductor roll. (8) In an aqueous solution mainly composed of nitric acid, an anode and a cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate in opposition to the aluminum plate, and the aluminum plate is kept at a constant distance from the electrode. A device for electrochemically roughening the aluminum plate by passing through the gap, wherein a length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is L
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode with respect to the traveling direction of the aluminum plate is 1 to 20, and the ratio Ip / In of the current Ip applied to the anode to the current In applied to the cathode is 1 to 20. 20 and the cathode length Ln is determined by setting the moving speed of the aluminum plate to V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M], a surface roughening device. (9) The surface roughening apparatus according to (8), wherein power is supplied to the aluminum plate using a conductor roll. (10) The surface roughening apparatus according to the above (8) or (9), wherein the anode is disposed at the head.

【０００８】本発明によれば、アルミニウム板、特に銅
成分を多く含有するアルミニウム材でもその表面に均一
なハニカムピットを形成でき、しかもその際電極の劣化
も無い。According to the present invention, uniform honeycomb pits can be formed on the surface of an aluminum plate, particularly an aluminum material containing a large amount of copper components, and there is no deterioration of the electrodes.

【０００９】[0009]

【発明の実施の態様】以下、本発明の粗面化方法並びに
粗面化装置に関して詳細に説明する。本発明が対象とす
るアルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウム
を主成分として微量の異元素を含む合金板、またはアル
ミニウムがラミネートまたは蒸着されたプラスチックフ
ィルムの中から選ばれる。該アルミニウム合金に含まれ
る異元素には、珪素、鉄、ニッケル、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、チタン、バナジ
ウムなどがある。通常はアルミニウムハンドブック第４
版（１９９０、軽金属協会）に記載の、従来より公知の
素材のもの、例えばＪＩＳ Ａ １０５０材、ＪＩＳ
Ａ ３１０３材、ＪＩＳ Ａ ３００５材、ＪＩＳ Ａ
１１００材、ＪＩＳ Ａ ３００４材または引っ張り
強度を増す目的でこれらに５ｗｔ％以下のマグネシウム
を添加した合金を用いることが出来る。尚、以降の説明
において、上記のアルミニウム合金板やラミネート板を
含めてアルミニウム板と呼ぶことにする。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a roughening method and a roughening apparatus of the present invention will be described in detail. The aluminum plate targeted by the present invention is selected from a pure aluminum plate, an alloy plate containing a small amount of a different element containing aluminum as a main component, or a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, nickel, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, titanium, and vanadium. Normally Aluminum Handbook 4
Conventionally known materials described in the edition (1990, Japan Institute of Light Metals), for example, JIS A 1050 material, JIS
A 3103 material, JIS A 3005 material, JIS A
1100 materials, JIS A 3004 materials, or alloys to which 5 wt% or less of magnesium is added for the purpose of increasing tensile strength can be used. In the following description, the above-mentioned aluminum alloy plate and laminate plate will be referred to as an aluminum plate.

【００１０】上記アルミニウム板は通常のＤＣ鋳造法に
よるアルミニウム板の他、連続鋳造圧延法により製造さ
れたものでも良い。連続鋳造圧延の方法としては双ロー
ル法、ベルトキャスター法、ブロックキャスター法など
を用いることができる。本発明に用いられるアルミニウ
ム板の厚みも特に制限されるものではなく、使用目的に
応じて適宜設定された厚さで構わない。例えば平版印刷
版用支持体として使用する場合には、およそ０．１〜
０．６ｍｍ程度である。The aluminum plate may be manufactured by a continuous casting and rolling method in addition to an aluminum plate by a normal DC casting method. As a method of continuous casting and rolling, a twin roll method, a belt caster method, a block caster method, or the like can be used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is not particularly limited, and may be a thickness appropriately set according to the purpose of use. For example, when used as a support for a lithographic printing plate, about 0.1 to
It is about 0.6 mm.

【００１１】上記のアルミニウム板は、図１に示される
装置により粗面化される。図示されるように、この粗面
化装置１は、硝酸を主体とする電解液２が貯留された電
解槽３を複数個並設して構成される。電解槽３内には、
ドラム４がその表面の一部を電解液２中に浸没するよう
に配置されており、更にドラム４と所定間隔で対向する
ように一対の陽極５と陰極６とが配置されている。ま
た、この電解槽３は２個以上、好ましくは３〜５０個を
直列に配置することが好ましい。陽極５並びに陰極６に
は、それぞれ直流電源７ａ、７ｂを通じてコンダクタロ
ール８ａ、８ｂが接続されている。アルミニウム板９
は、コンダクタロール８ａ、８ｂとパスロール１０とで
挟持され、該コンダクタロール８ａ、８ｂにより給電さ
れた状態で矢印Ａ方向に搬送される。そして、電解液２
中で陽極５と陰極６とを通過する間に、その表面が電気
化学的作用により粗面化される。The aluminum plate is roughened by the apparatus shown in FIG. As shown in the figure, the surface roughening apparatus 1 is configured by arranging a plurality of electrolytic tanks 3 in which an electrolytic solution 2 mainly composed of nitric acid is stored. In the electrolytic cell 3,
The drum 4 is arranged so that a part of its surface is immersed in the electrolytic solution 2, and a pair of anodes 5 and cathodes 6 are arranged so as to face the drum 4 at a predetermined interval. Further, it is preferable that two or more, preferably 3 to 50 electrolytic cells 3 are arranged in series. Conductor rolls 8a and 8b are connected to the anode 5 and the cathode 6 through DC power supplies 7a and 7b, respectively. Aluminum plate 9
Is held between the conductor rolls 8a and 8b and the pass roll 10, and is conveyed in the direction of arrow A while being supplied with power by the conductor rolls 8a and 8b. And electrolyte 2
During its passage through the anode 5 and the cathode 6, its surface is roughened by electrochemical action.

【００１２】電解槽３は、縦型、フラット型、ラジアル
型など公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能である
が、ラジアル型電解槽がとくに好ましい。電解槽内を通
過する電解液２は、アルミニウム板９の進行に関してパ
ラレルでもカウンターでもよい。また、ひとつの電解槽
３には１個以上の直流電源７ａ、７ｂを接続することが
できる。As the electrolytic cell 3, an electrolytic cell used for a known surface treatment such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used, but a radial type electrolytic cell is particularly preferable. The electrolytic solution 2 passing through the electrolytic cell may be parallel or counter with respect to the progress of the aluminum plate 9. In addition, one or more DC power supplies 7a and 7b can be connected to one electrolytic cell 3.

【００１３】電解液２となる硝酸を主体とする水溶液
は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化
処理に用いるものを使用でき、例えば１〜１００ｇ／ｌ
の濃度の硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリ
ウム、硝酸アンモニウム、等の硝酸イオン、塩化アルミ
ニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、等の塩酸
イオンを有する塩酸または硝酸化合物の１つ以上を１ｇ
／ｌ〜飽和濃度まで添加して使用することができる。ま
た、この硝酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マン
ガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のア
ルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよ
い。好ましくは、硝酸０．５〜２ｗｔ％水溶液中にアル
ミニウムイオンが３〜５０ｇ／ｌとなるように塩化アル
ミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いること
が好ましい。液温は１０〜６０℃が好ましく、２０〜５
０℃がより好ましい。The aqueous solution mainly composed of nitric acid to be the electrolytic solution 2 may be the one used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal direct current or alternating current, for example, 1 to 100 g / l.
1 g of a nitric acid solution having a concentration of 1 g of at least one of a nitric acid ion such as aluminum nitrate, sodium nitrate, and ammonium nitrate, and a hydrochloric acid or a nitric acid compound having a hydrochloric acid ion such as aluminum chloride, sodium chloride, and ammonium chloride.
/ L to a saturated concentration. The metal contained in the aluminum alloy such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium and silica may be dissolved in the aqueous solution mainly containing nitric acid. Preferably, a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added to a 0.5 to 2 wt% aqueous solution of nitric acid so that aluminum ions are 3 to 50 g / l is used. The liquid temperature is preferably from 10 to 60 ° C, and from 20 to 5 ° C.
0 ° C. is more preferred.

【００１４】上記硝酸を主体とした水溶液中での電気化
学的な粗面化では、平均直径０．５〜３μｍのピットが
１×１０⁵ 〜６×１０⁶ 個／ｍｍ² の割合でピットが生
成していることが好ましい。但し、電気量を比較的多く
した時は、電解反応が集中し、３μｍを越えるハニカム
ピットも生成する。そこで、電気化学的な粗面化に使用
する直流として、リップル率が２０％以下の直流を用い
ることが好ましい。In the electrochemical surface roughening in an aqueous solution mainly containing nitric acid, pits having an average diameter of 0.5 to 3 μm are formed at a rate of 1 × 10 ^{5 to} 6 × 10 ⁶ pits / mm ^2. Preferably, it has been generated. However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction is concentrated, and honeycomb pits exceeding 3 μm are generated. Therefore, it is preferable to use a direct current having a ripple ratio of 20% or less as the direct current used for electrochemical surface roughening.

【００１５】陽極５はフェライト、酸化イリジウム、、
白金、白金をチタン、ニオブ、ジルコニウムなどのバル
ブ金属にクラッドまたはメッキしたものなど公知の酸素
発生用電極に用いる電極材料から選定して形成すること
が出来る。一方、陰極６はカーボン、白金、チタン、ニ
オブ、ジルコニウム、ステンレスや燃料電池用陰極に用
いる電極材料から選定して形成することができる。尚、
陽極５及び陰極６に使用する大きな電極を継ぎ目なしで
作成することは不可能なので、図２に示すように、複数
の電極片１１を絶縁物からなる厚さ１〜３０ｍｍのイン
シュレータ１２を介在させて、後述される所定長さとな
るように連結し、各電極片１１を電線１３で結線した構
造とすることが有利である。インシュレータ１２の材質
には塩化ビニル、テフロンなどが好ましい。The anode 5 is made of ferrite, iridium oxide,
It can be formed by selecting from known electrode materials used for an electrode for oxygen generation, such as platinum and platinum clad or plated on a valve metal such as titanium, niobium, and zirconium. On the other hand, the cathode 6 can be formed by selecting from carbon, platinum, titanium, niobium, zirconium, stainless steel, and an electrode material used for a fuel cell cathode. still,
Since it is impossible to form a large electrode used for the anode 5 and the cathode 6 without a seam, as shown in FIG. 2, a plurality of electrode pieces 11 are interposed between insulators 12 made of an insulator and having a thickness of 1 to 30 mm. Therefore, it is advantageous to form a structure in which the electrode pieces 11 are connected to each other by a wire 13 so as to be connected to a predetermined length described later. The material of the insulator 12 is preferably vinyl chloride, Teflon, or the like.

【００１６】コンダクタロール８ａ、８ｂを通じてアル
ミニウム板９に流れる電流密度は１０〜２００Ａ／ｄｍ
² が好ましく、またアルミニウム板９が陽極時の電気量
の総和は１００〜１０００Ｃ／ｄｍ² 好ましい。電気化
学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板９のア
ノード反応にあずかる電気量の総和は１０〜１０００Ｃ
／ｄｍ² が好ましく、１００〜６００Ｃ／ｄｍ² がとく
に好ましい。The current density flowing to the aluminum plate 9 through the conductor rolls 8a and 8b is 10 to 200 A / dm.
² , and the total amount of electricity when the aluminum plate 9 is an anode is preferably 100 to 1000 C / dm ² . The sum of the quantities of electricity involved in the anodic reaction of the aluminum plate 9 at the time when the electrochemical graining is completed is 10 to 1000 C
/ Dm ² is preferable, and 100 to 600 C / dm ² is particularly preferable.

【００１７】本発明は、上記の粗面化装置１において、
陽極５のアルミニウム板９の進行方向に関する長さＬｐ
と、陰極６のアルミニウム板９の進行方向に関する長さ
Ｌｎとの比（Ｌｐ／Ｌｎ）が１〜２０であり、かつ陽極
５の印加電流Ｉｐと陰極６の印加電流Ｉｎとの比（Ｉｐ
／Ｉｎ）が１〜２０であり、更に陰極長さＬｎを、アル
ミニウム板９の移動速度をＶ〔ｍ／ｓｅｃ〕とした時
に、０．００５Ｖ〜２Ｖ〔ｍ〕の長さとなるように設定
することを特徴とする。特に好ましくは、（Ｌｐ／Ｌ
ｎ）が２〜３、（Ｉｐ／Ｉｎ）が２〜３である。同一材
質の一体型の大型電極を作成することは困難なため、電
極片１１を図２に示したように複数個連結して用いるこ
とが好ましい。このとき、個々の電極片１１の長さ
（ａ）の合計をそれぞれＬｐ、Ｌｎとする。According to the present invention, in the above-described roughening device 1,
Length Lp of anode 5 with respect to traveling direction of aluminum plate 9
And the length Ln of the cathode 6 with respect to the traveling direction of the aluminum plate 9 (Lp / Ln) is 1 to 20, and the ratio (Ip) between the applied current Ip of the anode 5 and the applied current In of the cathode 6 is (Ip
/ In) is 1 to 20, and the cathode length Ln is set to be 0.005 V to 2 V [m] when the moving speed of the aluminum plate 9 is V [m / sec]. It is characterized by the following. Particularly preferably, (Lp / L
n) is 2-3, and (Ip / In) is 2-3. Since it is difficult to form an integrated large electrode of the same material, it is preferable to connect a plurality of electrode pieces 11 as shown in FIG. At this time, the sum of the lengths (a) of the individual electrode pieces 11 is defined as Lp and Ln, respectively.

【００１８】また、アルミニウム板９は、先に陽極５を
通過させる方が、生成するハニカムピットがより均一と
なり好ましい。即ち、電解槽３内において、アルミニウ
ム板９の進行方向に関して陽極５を先頭に配置し、アル
ミニウム板９のカソード反応から開始することが好まし
い。アルミニウム板を電気化学的に粗面化するにあた
り、アルミニウム板の溶解反応の開始点は、アルミニウ
ム板表面の酸化皮膜の分布、欠陥、性質に依存しやす
い。そこで、アルミニウム板のカソード反応を最初に行
うと、アルミニウム板表面の酸化皮膜がカソード反応に
よって溶解し、その結果、アルミニウム板のアノード反
応での反応開始点が増え、より均一なハニカムピットの
生成が可能となる。上記した条件で粗面化処理を行うこ
とにより、特に従来技術では困難とされていた、銅を
０．１ｗｔ％以上含有するするようなアルミニウム板に
均一なハニカムピットを生成することができる。The aluminum plate 9 is preferably passed through the anode 5 first, because the generated honeycomb pits become more uniform. That is, it is preferable that the anode 5 is placed at the head in the traveling direction of the aluminum plate 9 in the electrolytic bath 3 and the cathode reaction of the aluminum plate 9 is started. In electrochemically roughening the aluminum plate, the starting point of the dissolution reaction of the aluminum plate easily depends on the distribution, defects and properties of the oxide film on the surface of the aluminum plate. Therefore, when the cathodic reaction of the aluminum plate is performed first, the oxide film on the surface of the aluminum plate is dissolved by the cathodic reaction, and as a result, the reaction starting point in the anodic reaction of the aluminum plate increases, and more uniform honeycomb pits are generated. It becomes possible. By performing the surface roughening treatment under the above-described conditions, uniform honeycomb pits can be generated on an aluminum plate containing 0.1 wt% or more of copper, which has been particularly difficult in the related art.

【００１９】また、アルミニウム板９には、電解処理が
終了した後に、図示は省略するが、表面に付着した処理
液を次工程に持ち込まないために、ニップローラーによ
る液切りやスプレーによる水洗等の処理を施すことが好
ましい。After the electrolytic treatment, the aluminum plate 9 is not shown in the figure. However, in order to prevent the treatment liquid adhering to the surface from being carried to the next step, the aluminum plate 9 is drained by a nip roller or washed by spraying. Preferably, a treatment is applied.

【００２０】本発明に係る上記の粗面化装置１は、種々
の変更が可能である。例えば、図３に示されるように、
ひとつの電解槽３に、陽極５または陰極６のいずれかひ
とつの電極を配設し、陽極５を備える電解槽３ａと陰極
６を備える電解槽３ｂとを交互に配置してもよい。その
際、上述した陽極５と陰極６との配置順と同様に、陽極
５を備える電解槽３ａを先頭に配置することが好まし
い。この場合も同様に、（Ｌｐ／Ｌｎ）が１〜２０、
（Ｉｐ／Ｉｎ）が１〜２０、更にアルミニウム板９の移
動速度に関する陰極長さＬｎが０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕となるように、陽極５及び陰極６の長さが設定さ
れる。このように、ひとつの電解槽にひとつの電極を配
設する構成により、ひとつの電解槽に陽極５と陰極６と
を備える場合（図１参照）に比べて、個々の電極長さを
長くすることができ（例えば、図示されるように半円弧
状に延長）、その結果アルミニウム板９の搬送速度を高
速化でき、生産性を高めることができる。The surface roughening apparatus 1 according to the present invention can be variously modified. For example, as shown in FIG.
Either the anode 5 or the cathode 6 may be provided in one electrolytic cell 3, and the electrolytic cells 3 a having the anode 5 and the electrolytic cells 3 b having the cathode 6 may be arranged alternately. In that case, it is preferable to arrange the electrolytic cell 3a provided with the anode 5 at the head, similarly to the arrangement order of the anode 5 and the cathode 6 described above. In this case, similarly, (Lp / Ln) is 1 to 20,
(Ip / In) is 1 to 20, and the cathode length Ln relating to the moving speed of the aluminum plate 9 is 0.005 V to 2 V.
The lengths of the anode 5 and the cathode 6 are set so as to satisfy [m]. As described above, the configuration in which one electrode is provided in one electrolytic cell increases the length of each electrode as compared with the case where one electrolytic cell includes the anode 5 and the cathode 6 (see FIG. 1). (For example, extending in a semicircular shape as shown), and as a result, the conveying speed of the aluminum plate 9 can be increased, and the productivity can be increased.

【００２１】また、本発明に係る上記の粗面化装置１
は、図４に示されるように、先頭に陽極５のみを備える
電解槽３ａを配置し、次いで陰極６と陽極５とを陰極６
が先頭となるように配置した電解槽３を複数個並設し、
最終に陰極６のみを備える電解槽３ｂを配置してもよ
い。この場合も同様に、陽極５のみを備える電解槽３ａ
内の陽極５並びに陰極６のみを備える電解槽３ｂ内の陰
極６も含めて、（Ｌｐ／Ｌｎ）が１〜２０、（Ｉｐ／Ｉ
ｎ）が１〜２０、更にアルミニウム板９の移動速度に関
する陰極長さＬｎが０．００５Ｖ〜２Ｖ〔ｍ〕となるよ
うに、陽極５並びに陰極６の長さが設定される。Further, the above-mentioned roughening device 1 according to the present invention.
As shown in FIG. 4, an electrolytic cell 3a having only the anode 5 at the head is arranged, and then the cathode 6 and the anode 5 are connected to each other.
A plurality of electrolytic cells 3 arranged so that
Finally, an electrolytic cell 3b having only the cathode 6 may be arranged. In this case, similarly, the electrolytic cell 3a including only the anode 5
(Lp / Ln) is 1 to 20, (Ip / In) including the cathode 6 in the electrolytic cell 3b having only the anode 5 and the cathode 6 therein.
The length of the anode 5 and the length of the cathode 6 are set so that n) is 1 to 20 and the cathode length Ln relating to the moving speed of the aluminum plate 9 is 0.005 V to 2 V [m].

【００２２】本発明の粗面化方法は、機械的な粗面化、
化学的なエッチング、陽極酸化処理、親水化処理などの
うち１つ以上と組み合わせて表面処理することにより、
平版印刷版用支持体として好適な表面を有するアルミニ
ウム板を得ることができる。以下に、本発明の粗面化方
法を併用した平版印刷版用アルミニウム支持体の製造工
程を説明する。The surface roughening method of the present invention comprises the steps of:
By surface treatment in combination with one or more of chemical etching, anodizing treatment, hydrophilic treatment, etc.
An aluminum plate having a surface suitable as a lithographic printing plate support can be obtained. Hereinafter, a process for producing an aluminum support for a lithographic printing plate using the surface roughening method of the present invention will be described.

【００２３】［製造工程−その１］アルミニウム板を下
記の（ａ）〜（ｅ）の順に処理する。 （ａ）機械的な粗面化処理：毛径が０．２〜０．９ｍｍ
の回転するナイロンブラシロールと、アルミニウム板表
面に供給されるスラリー液で機械的に粗面化処理するこ
とが有利である。もちろんスラリー液を吹き付ける方
式、ワイヤーブラシを用いた方式、凹凸を付けた圧延ロ
ールの表面形状をアルミニウム板に転写する方式などを
用いても良い。ここで、研磨剤としては公知の物が使用
できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまたはこれ
らの混合物が好ましい。この機械的な粗面化処理に関し
ては、例えば特開平６−１３５１７５号公報、特公昭５
０−４００４７号公報に記載された処理条件を好適に採
用することができる。 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、上記の機械的な粗面化により生成した凹凸のエ
ッジ部分を溶解し、滑らかなうねりを持つ表面を得、汚
れ性能がよい平版印刷版用を得る目的で行われる。この
ときのアルミニウム板の溶解量は、５〜２０ｇ／ｍ² が
好ましい。 （ｃ）本発明に係る電気化学的な粗面化処理：この処理
は、上記処理されたアルミニウム板の表面に、更に平均
直径約０．５〜３μｍのハニカム状のピットを３０〜１
００％の面積率で生成する目的で行われる。また、この
処理は、平版印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力を
向上する作用がある。 （ｄ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、上記の電気化学的な粗面化処理の際に生成した
水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去
と、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、平版印
刷版としたときの汚れ性能を良化させる目的で行われ
る。このときのアルミニウム板の溶解量は０．０５〜５
ｇ／ｍ² 溶解することが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ²
溶解することがより好ましい。 （ｅ）陽極酸化処理：この処理は、アルミニウム板の表
面の耐磨耗性を高めるために、陽極酸化皮膜を成膜する
ために行われる。[Manufacturing process-1] An aluminum plate is treated in the following order (a) to (e). (A) Mechanical roughening treatment: bristle diameter is 0.2 to 0.9 mm
It is advantageous to mechanically roughen the surface with a rotating nylon brush roll and a slurry liquid supplied to the aluminum plate surface. Of course, a method of spraying a slurry liquid, a method of using a wire brush, or a method of transferring the surface shape of a roll with irregularities to an aluminum plate may be used. Here, known abrasives can be used, but silica sand, quartz, aluminum hydroxide or a mixture thereof is preferred. This mechanical surface roughening treatment is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-135175,
The processing conditions described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-40047 can be suitably adopted. (B) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: this treatment dissolves the edge portion of the unevenness generated by the mechanical roughening, This is performed for the purpose of obtaining a surface having a smooth undulation and obtaining a lithographic printing plate having a good stain performance. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is preferably 5 to ²⁰ g / m ² . (C) Electrochemical surface roughening treatment according to the present invention: In this treatment, honeycomb-shaped pits having an average diameter of about 0.5 to 3 μm are further formed on the surface of the treated aluminum plate in an amount of 30 to 1 μm.
This is performed for the purpose of generating with an area ratio of 00%. In addition, this processing has the effect of improving the durability of the non-image portion of the lithographic printing plate and improving the printing durability. (D) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: This treatment removes aluminum hydroxide generated during the above-mentioned electrochemical surface roughening treatment. This is performed for the purpose of removing the main smut component, smoothing the edges of the generated pits, and improving the stain performance when a lithographic printing plate is obtained. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is 0.05 to 5
g / m ^2, preferably 0.1 to 3 g / m ²
More preferably, it is dissolved. (E) Anodizing treatment: This treatment is performed to form an anodized film in order to increase the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００２４】［製造工程−その２］アルミニウム板を下
記の（ｆ）〜（ｋ）の順に処理する。 （ｆ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、アルミニウム板表面の圧延油、自然酸化皮膜、
汚れなどを除去し、次の電気化学的な粗面化を均一に行
う目的で行われる。このときのアルミニウム板の溶解量
は、１〜３０ｇ／ｍ² 溶解することが好ましく、１．５
〜２０ｇ／ｍ² 溶解することがより好ましい。 （ｇ）硝酸を主体とする水溶液中での直流を用いた電気
化学的な粗面化処理（但し、本発明外）：この処理は、
上記処理されたアルミニウム板の表面に平均直径約１〜
２０μｍのハニカム状のピットを３０〜１００％の面積
率で生成し、平版印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷
力を向上させる目的で行われる。 （ｈ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、上記の電気化学的粗面化処理により生成したス
マットと、ピットのエッジ部分またはピットが生成して
いないプラトーな部分の溶解を行い、滑らかな凹凸を持
つ表面を得る目的で行われる。またこの処理は、平版印
刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する作用が
ある。このときのアルミニウム板の溶解量は、１〜３０
ｇ／ｍ² 溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ
² 溶解することがより好ましい。 （ｉ）本発明に係る電気化学的な粗面化処理：この処理
は、アルミニウム板の表面に平均直径約０．５〜３μｍ
のハニカム状のピットを３０〜１００％の面積率で生成
する目的で行われる。また、この処理は、平版印刷版の
非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する作用がある。 （ｊ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、上記の本発明による電気化学的粗面化処理の際
に生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成
分の除去と、生成したピットのエッジ部分を滑らかに
し、平版印刷版としたときの汚れ性能を良化させる目的
で行われる。このときのアルミニウム板の溶解量は、
０．０５〜５ｇ／ｍ² 溶解することが好ましく、０．１
〜３ｇ／ｍ² 溶解することがより好ましい。 （ｋ）陽極酸化処理：この処理は、アルミニウム板の表
面の耐磨耗性を高めるために、陽極酸化皮膜を成膜する
ために行われる。[Manufacturing process-No. 2] The aluminum plate is treated in the following order (f) to (k). (F) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: This treatment is performed by using a rolling oil, a natural oxide film,
This is performed for the purpose of removing dirt and the like and uniformly performing the next electrochemical surface roughening. The dissolution amount of the aluminum plate at this time is preferably 1 to 30 g / m ² ,
It is more preferable to dissolve in an amount of ２０20 g / m ² . (G) Electrochemical surface-roughening treatment using a direct current in an aqueous solution mainly composed of nitric acid (however, outside the present invention):
An average diameter of about 1 to 1
This is performed for the purpose of generating 20 μm honeycomb-shaped pits at an area ratio of 30% to 100%, and to prevent the non-image portion of the lithographic printing plate from being stained and to improve the printing durability. (H) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: This treatment involves the smut generated by the above-mentioned electrochemical surface roughening treatment and the edge portion of the pit. Alternatively, a plateau where no pits are formed is dissolved to obtain a surface having smooth irregularities. In addition, this processing has an effect of improving the durability of the non-image portion of the lithographic printing plate and improving the printing durability. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is 1 to 30.
g / m ^2, preferably 1.5 to ²⁰ g / m ^2
2 It is more preferable to dissolve. (I) Electrochemical surface roughening treatment according to the present invention: This treatment applies an average diameter of about 0.5 to 3 μm to the surface of an aluminum plate.
Is formed at an area ratio of 30 to 100%. In addition, this processing has the effect of improving the durability of the non-image portion of the lithographic printing plate and improving the printing durability. (J) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: This treatment is performed by the hydroxylation generated during the electrochemical surface roughening treatment according to the present invention. This is performed for the purpose of removing the smut component mainly composed of aluminum, smoothing the edges of the generated pits, and improving the stain performance when a lithographic printing plate is obtained. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is
Preferably, 0.05 to 5 g / m ^{2 is} dissolved.
It is more preferable to dissolve in an amount of ³ g / m ² . (K) Anodizing treatment: This treatment is performed to form an anodized film in order to increase the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００２５】［製造工程−その３］アルミニウム板を下
記の（ｌ）〜（ｏ）の順に処理する。 （ｌ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、アルミニウム板表面の圧延油、自然酸化皮膜、
汚れなどを除去し、次の電気化学的な粗面化を均一に行
う目的で行われる。このときのアルミニウム板の溶解量
は、１〜３０ｇ／ｍ² 溶解することが好ましく、１．５
〜２０ｇ／ｍ² 溶解することがより好ましい。 （ｍ）本発明に係る電気化学的な粗面化処理：この処理
は、アルミニウム板の表面に平均直径約０．５〜３μｍ
のハニカム状のピットを３０〜１００％の面積率で生成
する目的で行われる。また、この処理は、平版印刷版の
非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する作用がある。 （ｎ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、上記の本発明による電気化学的粗面化処理の際
に生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成
分の除去と、生成したピットのエッジ部分を滑らかに
し、平版印刷版としたときの汚れ性能を良化させる目的
で行われる。このときのアルミニウム板の溶解量は、
０．０５〜５ｇ／ｍ² 溶解することが好ましく、０．１
〜３ｇ／ｍ² 溶解することがより好ましい。 （ｏ）陽極酸化処理：この処理は、アルミニウム板の表
面の耐磨耗性を高めるために、陽極酸化皮膜を成膜する
ために行われる。[Manufacturing process-No. 3] The aluminum plate is treated in the following order (l) to (o). (L) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: This treatment is performed by using a rolling oil on a surface of an aluminum plate, a natural oxide film,
This is performed for the purpose of removing dirt and the like and uniformly performing the next electrochemical surface roughening. The dissolution amount of the aluminum plate at this time is preferably 1 to 30 g / m ² ,
It is more preferable to dissolve in an amount of ２０20 g / m ² . (M) Electrochemical surface-roughening treatment according to the present invention: This treatment applies an average diameter of about 0.5 to 3 μm
Is formed at an area ratio of 30 to 100%. In addition, this processing has the effect of improving the durability of the non-image portion of the lithographic printing plate and improving the printing durability. (N) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: this treatment is carried out by the hydroxylation generated during the above-mentioned electrochemical graining treatment according to the present invention. This is performed for the purpose of removing the smut component mainly composed of aluminum, smoothing the edges of the generated pits, and improving the stain performance when a lithographic printing plate is obtained. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is
Preferably, 0.05 to 5 g / m ^{2 is} dissolved.
It is more preferable to dissolve in an amount of ³ g / m ² . (O) Anodizing treatment: This treatment is performed to form an anodized film in order to enhance the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００２６】上記に挙げた各処理工程において、本発明
に係る電気化学的粗面化以外は、従来より平版印刷版用
アルミニウム支持体の製造に用いられている処理条件で
構わないが、以下にその代表的なものを述べる。In each of the above-mentioned processing steps, processing conditions conventionally used for manufacturing an aluminum support for a lithographic printing plate may be used, except for the electrochemical surface roughening according to the present invention. The typical ones are described below.

【００２７】前記処理（ｂ）、（ｈ）、（ｊ）及び
（ｎ）の電解研磨に用いる水溶液は、好ましくは硫酸ま
たはリン酸を主体とする水溶液である。この水溶液の硫
酸またはリン酸濃度は２０〜９０ｗｔ％、好ましくは４
０〜８０ｗｔ％であり、その他の成分として硫酸、リン
酸、クロム酸、過酸化水素、クエン酸、硼酸、フッ化水
素酸、無水フタール酸などを１〜５０ｗｔ％含有してい
ても良い。また、アルミニウムはもちろんアルミニウム
合金中に含有する合金成分が０〜１０ｗｔ％含有してい
てよい。また、液温は１０〜９０℃、好ましくは５０〜
８０℃である。電解は、電流密度１〜１００Ａ／ｄ
ｍ² 、好ましくは５〜８０Ａ／ｄｍ² で、１〜１８０秒
行われる。電流は直流、パルス直流、交流を用いること
が可能であるが、連続直流が好ましい。電解処理装置は
フラット型槽、ラジアル型槽など公知の電解処理に使わ
れているものを用いることができる。流速はアルミニウ
ム板に対して、パラレルフロー、カウンターフローどち
らでもよく、０．０１〜１００００ｃｍ／ｍｉｎの間か
ら選定される。アルミニウム板と電極との距離は０．３
〜１０ｃｍが好ましく、０．８〜２ｃｍがとくに好まし
い。給電方法はコンダクタロールを用いた直接給電方式
を用いてもよいし、コンダクタロールを用いない間接給
電方式（液給電方式）を用いても良い。使用する電極材
質、構造は電解処理に使われている公知のものが使用可
能であるが、陰極材質はカーボン、陽極材質はフェライ
ト、酸化イリジウムまたは白金が好ましい。アルミニウ
ム板の処理面は、上面でも下面でも両面でもよい。The aqueous solution used for the electropolishing in the treatments (b), (h), (j) and (n) is preferably an aqueous solution mainly containing sulfuric acid or phosphoric acid. The aqueous solution has a sulfuric acid or phosphoric acid concentration of 20 to 90% by weight, preferably 4 to 90% by weight.
It is 0 to 80 wt%, and may contain 1 to 50 wt% of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrogen peroxide, citric acid, boric acid, hydrofluoric acid, phthalic anhydride, and the like as other components. In addition to aluminum, an alloy component contained in an aluminum alloy may be contained in an amount of 0 to 10 wt%. The liquid temperature is 10 to 90 ° C, preferably 50 to 90 ° C.
80 ° C. The electrolysis has a current density of 1 to 100 A / d
m ² , preferably 5 to 80 A / dm ² for 1 to 180 seconds. As the current, DC, pulse DC, and AC can be used, but continuous DC is preferable. As the electrolytic treatment apparatus, those used in known electrolytic treatment such as a flat type tank and a radial type tank can be used. The flow rate may be either parallel flow or counter flow with respect to the aluminum plate, and is selected from the range of 0.01 to 10000 cm / min. The distance between the aluminum plate and the electrode is 0.3
10 cm to 10 cm is preferable, and 0.8 to 2 cm is particularly preferable. As a power supply method, a direct power supply method using a conductor roll may be used, or an indirect power supply method (liquid power supply method) without using a conductor roll may be used. As the electrode material and structure to be used, known materials used for electrolytic treatment can be used, but the cathode material is preferably carbon, and the anode material is preferably ferrite, iridium oxide or platinum. The processing surface of the aluminum plate may be the upper surface, the lower surface, or both surfaces.

【００２８】また、同じく前記処理（ｂ）、（ｈ）、
（ｊ）及び（ｎ）の、アルカリ水溶液中での化学的なエ
ッチング処理については、米国特許第３８３４３９８号
明細書に記載の他に公知の手段を用いることが出来る。
酸性水溶液に用いることのできる酸またはアルカリとし
ては、特開昭５７−１６９１８号公報などに記載されて
いるものを単独または組み合わせて用いることが出来
る。液温は４０〜９０℃で、１〜１２０秒間処理するこ
とが好ましい。酸性水溶液の濃度は０．５〜２５ｗｔ％
が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解しているアルミ
ニウムは０．５〜５ｗｔ％が好ましい。アルカリ水溶液
の濃度は５〜３０ｗｔ％が好ましく、さらにアルカリ水
溶液中に溶解しているアルミニウムは１〜３０ｗｔ％が
好ましい。エッチング処理が終了した後には、処理液を
次工程に持ち込まないためにアルミニウム板をニップロ
ーラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが
好ましい。化学的なエッチングを塩基の水溶液を用いて
行った場合、一般にアルミニウムの表面にはスマットが
生成するので、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸また
はこれらの２以上の酸を含む混酸で処理する。さらに酸
性水溶液中には、アルミニウムが０〜５ｗｔ％が溶解し
ていても良い。液温は常温から７０℃で実施され、処理
時間は１〜３０秒が好ましい。デスマット処理が終了し
た後には、処理液を次工程に持ち込まないためにアルミ
ニウム板をニップローラーによる液切りとスプレーによ
る水洗を行うことが好ましい。Further, the processes (b), (h),
For the chemical etching treatment in (j) and (n) in an aqueous alkali solution, known means can be used in addition to the method described in US Pat. No. 3,834,398.
As the acid or alkali that can be used in the acidic aqueous solution, those described in JP-A-57-16918 or the like can be used alone or in combination. The treatment is preferably performed at a liquid temperature of 40 to 90 ° C. for 1 to 120 seconds. The concentration of the acidic aqueous solution is 0.5 to 25 wt%
Preferably, the amount of aluminum dissolved in the acidic aqueous solution is 0.5 to 5% by weight. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 5 to 30 wt%, and the aluminum dissolved in the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 30 wt%. After the completion of the etching process, it is preferable that the aluminum plate be drained with a nip roller and washed with water to prevent the treatment liquid from being carried to the next step. When chemical etching is performed using an aqueous solution of a base, smut is generally formed on the surface of aluminum. Therefore, treatment with phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is performed. . Furthermore, 0 to 5 wt% of aluminum may be dissolved in the acidic aqueous solution. The solution temperature is from room temperature to 70 ° C., and the processing time is preferably from 1 to 30 seconds. After the end of the desmutting treatment, it is preferable that the aluminum plate be drained with a nip roller and washed with water by spraying so as not to bring the treatment liquid into the next step.

【００２９】前記処理（ｇ）の、本発明以外の直流を用
いた電気化学的な粗面化処理とは、アルミニウム板とこ
れに対向する電極間に直流電流を加え、電気化学的に粗
面化する方法を言う。硝酸を主体とする水溶液は、通常
の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用
いるものを使用でき、１〜１００ｇ／ｌの塩酸または硝
酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸
アンモニウム、等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩
化ナトリウム、塩化アンモニウム、等の塩酸イオンを有
する塩酸または硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／ｌ〜飽和
濃度まで添加して使用することができる。また硝酸を主
体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、
チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中
に含まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、硝
酸０．５〜２ｗｔ％水溶液中にアルミニウムイオンが３
〜５０ｇ／ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アル
ミニウムを添加した液を用いることが好ましい。温度は
１０〜６０℃が好ましく、２５〜５０℃がより好まし
い。この直流を用いた電気化学的な粗面化に用いる処理
装置は、この種の公知の装置を使用することが出来る
が、特開平１ー１４１０９４号公報に記載されているよ
うに一対以上の陽極と陰極を交互に並べた装置を用いる
ことが好ましい。その他の公知の装置の例としては特開
平６−３２８８７６号、特開平８−６７０７８号、特開
昭６１−１９１１５号、特公昭５７−４４７６０号各公
報などに記載されている装置を挙げることができる。ま
た、アルミニウム板に接触するコンダクタロールと、こ
れに対向する陰極との間に、直流電流を加え、アルミニ
ウム板を陽極にして電気化学的な粗面化処理を行っても
良い。また、使用する直流はリップル率が２０％以下で
あることが好ましい。電流密度は１０〜２００Ａ／ｄｍ
² が好ましく、アルミニウム板が陽極時の電気量は１０
０〜１０００Ｃ／ｄｍ² が好ましい。陽極はフェライ
ト、酸化イリジウム、、白金、白金をチタン、ニオブ、
ジルコニウムなどのバルブ金属にクラッドまたはメッキ
したものなど公知の酸素発生用電極から選定して用いる
ことが出来る。陰極はカーボン、白金、チタン、ニオ
ブ、ジルコニウム、ステンレスや燃料電池用陰極に用い
る電極から選定して用いることができる。この粗面化処
理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないた
めにアルミニウム板をニップローラーによる液切りとス
プレーによる水洗を行うことが好ましい。In the treatment (g), the electrochemical surface roughening treatment using a direct current other than the present invention means that a direct current is applied between an aluminum plate and an electrode facing the aluminum plate to electrochemically roughen the surface. Say how to As the aqueous solution mainly composed of nitric acid, one used for the electrochemical surface roughening treatment using ordinary direct current or alternating current can be used. 1 to 100 g / l aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid is added to aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate. One or more of a hydrochloric acid or a nitric acid compound having a chloride ion such as nitrate ion, aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride, etc. can be added to a concentration of 1 g / l to a saturated concentration. In an aqueous solution mainly composed of nitric acid, iron, copper, manganese, nickel,
Metals contained in aluminum alloys such as titanium, magnesium and silica may be dissolved. Preferably, aluminum ions are contained in a 0.5 to 2 wt% aqueous solution of nitric acid.
It is preferable to use a liquid to which aluminum chloride and aluminum nitrate are added so as to be 50 g / l. The temperature is preferably from 10 to 60 ° C, more preferably from 25 to 50 ° C. As a processing apparatus used for electrochemical surface roughening using this direct current, a known apparatus of this type can be used. As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-141094, one or more pairs of anodes are used. It is preferable to use a device in which the cathode and the cathode are alternately arranged. Examples of other known devices include those described in JP-A-6-328876, JP-A-8-67078, JP-A-61-19115, and JP-B-57-44760. it can. Alternatively, a direct current may be applied between the conductor roll in contact with the aluminum plate and the cathode facing the aluminum roll to perform electrochemical surface roughening treatment using the aluminum plate as the anode. Further, the direct current used preferably has a ripple rate of 20% or less. Current density is 10 to 200 A / dm
² is preferable, and the quantity of electricity when the aluminum plate is an anode is 10
0 to 1000 C / dm ² is preferred. The anode is ferrite, iridium oxide, platinum, platinum is titanium, niobium,
A known electrode for oxygen generation, such as clad or plated valve metal such as zirconium, can be used. The cathode can be selected from carbon, platinum, titanium, niobium, zirconium, stainless steel, and an electrode used for a fuel cell cathode. After the surface-roughening treatment is completed, it is preferable that the aluminum plate be drained with a nip roller and washed with water by spraying so as not to bring the treatment liquid into the next step.

【００３０】前記（ｅ）、（ｋ）及び（ｏ）の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成するものならば、いかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、また
はそれらの混合液が用いられる。また、それら電解質の
濃度は電解質の種類によって適宣決められる。陽極酸化
の処理条件は、用いる電解質によって変わるので一概に
特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０ｗ
ｔ％、液温は５〜７０℃、電流密度１〜６０Ａ／ｄ
ｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜３００秒の
範囲にあれば適当である。硫酸法は通常直流電流で処理
が行われるが、交流を用いることも可能である。陽極酸
化皮膜の量は、１〜１０ｇ／ｍ² の範囲が適当である。
１ｇ／ｍ² よりも少ないと耐刷性が不十分であったり、
平版印刷版の非画像部に傷が付きやすくなって、同時に
キズの部分にインキが付着する、いわゆるキズ汚れが生
じやすくなる。As the electrolyte used in the anodic oxidation treatment of the above (e), (k) and (o), any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film. Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixture thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte. The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. However, generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80 watts.
t%, liquid temperature is 5 to 70 ° C, current density is 1 to 60 A / d
It is appropriate that m ² , voltage is 1 to 100 V, and electrolysis time is 10 seconds to 300 seconds. In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current, but an alternating current can also be used. The amount of the anodic oxide film is suitably in the range of 1 to 10 g / m ² .
If the amount is less than 1 g / m ² , the printing durability will be insufficient,
The non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched, and at the same time, the so-called scratch stain, in which ink adheres to the scratched portion, easily occurs.

【００３１】陽極酸化処理が施された後、アルミニウム
板の表面には必要により親水化処理が施される。本発明
に使用される親水化処理としては、米国特許第２７１４
０６６号、第３１８１４６１号、第３２８０７３４号及
び第３９０２７３４号各明細書に開示されているような
アルカリ金属シリケート（例えば珪酸ナトリウム水溶
液）法がある。この方法においては、アルミニウム板が
珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬されるか、また電解処理
される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示され
ているフッ化ジルコン酸カリウム、および、米国特許第
３２７６８６８、第４１５３４６１号および第４６８９
２７２号各明細書に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法などが用いられる。また、粗面
化処理及び陽極酸化処理後、封孔処理を施したものも好
ましい。かかる封孔処理は、熱水および無機塩または有
機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴等によっ
て行われる。After the anodic oxidation treatment, the surface of the aluminum plate is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. US Patent No. 2714 describes a hydrophilic treatment used in the present invention.
No. 066, No. 3,181,461, No. 3,280,734 and No. 3,902,734, for example, there are alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) methods. In this method, an aluminum plate is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063, and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689.
No. 272, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in each specification, and the like. Further, those subjected to a sealing treatment after the surface roughening treatment and the anodic oxidation treatment are also preferable. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath or the like.

【００３２】上記の如く本発明に係る粗面化処理と各種
処理とを組み合わせのアルミニウム板の表面処理によ
り、下記の物性値の範囲にある優れた平版印刷版用アル
ミニウム支持体を製造することができる。 （１）ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定した値を用いて
定義した表面形状が下記の範囲にある。 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．１μｍとしたＡＦ
Ｍを用いて１００μｍ角の測定範囲で測定し、近似三点
法により求めた表面積をａ、上部投影面積をｂとしたと
き、ａ／ｂの値（比表面積）が１．１５〜１．５。 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が１．９μｍとしたＡＦ
Ｍを用いて２４０μｍ角の測定範囲で測定した平均表面
粗さが０．３５〜１．０μｍ 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が１．９μｍとしたＡＦ
Ｍを用いて２４０μｍ角の測定範囲で測定した傾斜度が
３０度以上の割合が５〜４０％。 （２）感光層を塗布する前のＪＩＳ Ｚ９７４１−１９
８３に規定の８５度光沢度が３０以下。 （３）走査型電子顕微鏡で、倍率７５０倍で観察したと
き、８０μｍの視野の中に、平均直径０．５〜２０μｍ
のハニカムピットが占める面積の割合が３０〜１００％
の物性値を満足する。 （４）水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．１μｍまたは
１．９μｍとしたＡＦＭを用いて１００μｍ角または２
４０μｍ角の測定範囲で測定したボックスカウンティン
グ法、スケール変換法、カバー法、回転半径法、密度相
関関数法などで求めたフラクタル次元が２．１〜２．５
である。As described above, by performing the surface treatment of the aluminum plate by combining the surface roughening treatment and various treatments according to the present invention, an excellent aluminum support for a lithographic printing plate having the following physical property values can be produced. it can. (1) The surface shape defined using the value measured by AFM (atomic force microscope) is in the following range. AF with a resolution of 0.1 μm in the horizontal (X, Y) direction
M is measured in a measuring range of 100 μm square using M, and when the surface area obtained by the approximate three-point method is a and the upper projected area is b, the value of a / b (specific surface area) is 1.15 to 1.5. . AF with a resolution of 1.9 μm in the horizontal (X, Y) direction
AF with an average surface roughness of 0.35 to 1.0 μm measured in a measurement range of 240 μm square using M and a resolution of 1.9 μm in the horizontal (X, Y) direction.
The ratio of inclination of 30 degrees or more measured in a measuring range of 240 μm square using M is 5 to 40%. (2) JIS Z9741-19 before coating the photosensitive layer
The 85 degree glossiness specified in 83 is 30 or less. (3) When observed at a magnification of 750 with a scanning electron microscope, the average diameter is 0.5 to 20 μm in a field of view of 80 μm.
30% to 100% of the area occupied by honeycomb pits
Satisfies the physical properties of (4) 100 μm square or 2 μm using an AFM having a resolution of 0.1 μm or 1.9 μm in the horizontal (X, Y) direction
The fractal dimension obtained by a box counting method, a scale conversion method, a cover method, a radius of gyration method, a density correlation function method, or the like measured in a measurement range of 40 μm square is 2.1 to 2.5.
It is.

【００３３】このようにして得られた平版印刷版用支持
体の上には、従来より知られている感光層を設けて、感
光性平版印刷版を得ることができ、これを製版処理して
得た平版印刷版は優れた性能を有している。この感光層
中に用いられる感光性物質は特に限定されるものではな
く、通常、感光性平版印刷版に用いられているものを使
用できる。例えば特開平６−１３５１７５号公報に記載
のような各種のものを使用することが出来る。また、感
光層はネガ型でもポジ型でもよい。アルミニウム板は感
光層を塗布する前に必要に応じて有機下塗層（中間層）
が設けられる。この下塗層に設けられる有機下塗層とし
ては従来より知られているものを用いることができ、例
えば特開平６−１３５１７５号公報に記載のものを用い
ることができる。また、感光層の上には真空焼き付け時
のリスフィルムとの密着性を良好にするために、マット
層を設けるなどしてもよい。更に、現像時のアルミニウ
ムの溶け出しを防ぐ目的で、裏面にバックコート層を設
けてもよい。A conventionally known photosensitive layer is provided on the lithographic printing plate support thus obtained to obtain a photosensitive lithographic printing plate. The resulting lithographic printing plate has excellent performance. The photosensitive substance used in the photosensitive layer is not particularly limited, and those usually used for photosensitive lithographic printing plates can be used. For example, various types described in JP-A-6-135175 can be used. Further, the photosensitive layer may be either a negative type or a positive type. Aluminum undercoat layer (intermediate layer) if necessary before coating the photosensitive layer
Is provided. As the organic undercoat layer provided on the undercoat layer, those conventionally known can be used, and for example, those described in JP-A-6-135175 can be used. Further, a mat layer may be provided on the photosensitive layer in order to improve the adhesion to the lith film during vacuum printing. Further, a back coat layer may be provided on the back surface for the purpose of preventing aluminum from melting during development.

【００３４】更に、本発明の粗面化方法は、片面のみで
なく両面を処理した平版印刷版の製造にも適応できる。Further, the surface roughening method of the present invention can be applied to the production of a lithographic printing plate in which not only one side but also both sides are treated.

【００３５】以下の実施例により、本発明をより明確に
することができる。但し、本発明はこれら実施例により
何ら限定されるものではない。 （実施例１）厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、Ｊ
ＩＳ Ａ ３００４材からなるアルミニウム板を用いて
以下の処理を行った。 （ａ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６ｗｔ％、ア
ルミニウムイオン濃度６．５ｗｔ％、液温７０℃の水溶
液でエッチング処理を行い、アルミニウム板を６．０ｇ
／ｍ² 溶解した。その後、水洗を行った。 （ｂ）液温６０℃の硫酸濃度２５ｗｔ％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、デスマット処理
を行い、その後水洗した。 （ｃ）硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン０．５
ｗｔ％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含む）、
液温４５℃で、カーボン電極を対極として、直流電流を
用いて電気化学的な粗面化処理を行った。使用した直流
のリップル率は２０％であった。この時、陽極と陰極は
それぞれ別の電解槽に設置し（図３に示す装置参照）、
陰極が設置された電解槽１０個と、陽極が設置された電
解槽９個はそれぞれ交互に配置した。アルミニウム板に
はコンダクタロールを用いて給電した。アルミニウム板
の移動速度Ｖを０．５ｍ／ｓｅｃとしたとき、それぞれ
の電解槽において、アルミニウム板の陰極長さＬｎは、
０．２Ｖ（ｍ）、陽極長さＬｐは０．８Ｖ（ｍ）であっ
た。また、電流密度は電流のピーク値で５０Ａ／ｄｍ²
であった。その後、水洗を行った。このアルミニウム板
を、液温６０℃の硫酸濃度２５ｗｔ％水溶液（アルミニ
ウムイオンを０．５ｗｔ％含む）に６０秒間漬けてデス
マット処理を行い、水洗した後に走査型電子顕微鏡を用
いて倍率７５０倍で表面を観察したところ、その表面に
平均直径約０．５〜３μｍの均一なハニカムピットが生
成していた。The present invention can be further clarified by the following examples. However, the present invention is not limited by these examples. (Example 1) J having a thickness of 0.24 mm and a width of 1030 mm, J
The following treatment was performed using an aluminum plate made of IS A 3004 material. (A) An aluminum plate was etched with an aqueous solution having a sodium hydroxide concentration of 26 wt%, an aluminum ion concentration of 6.5 wt%, and a liquid temperature of 70 ° C., and the aluminum plate was 6.0 g.
/ M ² dissolved. Then, it was washed with water. (B) Desmut treatment was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid (containing 0.5% by weight of aluminum ion) at a liquid temperature of 60 ° C., followed by washing with water. (C) 1 wt% nitric acid aqueous solution (aluminum ion 0.5
wt%, ammonium ion 0.007wt%),
At a liquid temperature of 45 ° C., electrochemical surface roughening treatment was performed using a DC current with a carbon electrode as a counter electrode. The DC ripple rate used was 20%. At this time, the anode and the cathode are installed in separate electrolytic cells, respectively (see the apparatus shown in FIG. 3),
Ten electrolytic cells provided with a cathode and nine electrolytic cells provided with an anode were alternately arranged. Power was supplied to the aluminum plate using a conductor roll. When the moving speed V of the aluminum plate is 0.5 m / sec, the cathode length Ln of the aluminum plate in each electrolytic cell is:
The anode length Lp was 0.2 V (m) and the anode length Lp was 0.8 V (m). The current density was 50 A / dm ² at the peak value of the current.
Met. Then, it was washed with water. This aluminum plate is immersed in a 25% by weight sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum ion) at a liquid temperature of 60 ° C. for 60 seconds to perform desmut treatment, washed with water, and then subjected to surface scanning at 750 × magnification using a scanning electron microscope. As a result, uniform honeycomb pits having an average diameter of about 0.5 to 3 μm were formed on the surface.

【００３６】（実施例２）実施例１の（ａ）、（ｂ）及
び（ｃ）の処理を行ったアルミニウム板を、苛性ソーダ
濃度２６ｗｔ％、アルミニウムイオン濃度６．５ｗｔ％
の水溶液でエッチング処理を行い、このアルミニウム板
を０．１ｇ／ｍ² 溶解して、（ｃ）の直流を用いて電気
化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピッ
トのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。
その後、水洗した。次に、液温６０℃の硫酸濃度２５ｗ
ｔ％水溶液（アルミニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）
でデスマット処理をおこない、その後水洗を行った。次
に、液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニ
ウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用い、
電流密度２Ａ／ｄｍ² で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ
² になるように陽極酸化処理を行った。その後、水洗を
行った。処理されたアルミニウム板の表面を走査型電子
顕微鏡で観察したところ、平均直径０．５〜３．０μｍ
のピットが均一に生成していた。このアルミニウム板に
中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚１．８ｇ
／ｍ² のポジ型平版印刷版を作成した。この平版印刷版
を用いて印刷したところ、良好な印刷画像が得られた。(Example 2) The aluminum plate subjected to the treatments (a), (b) and (c) of Example 1 was treated with a sodium hydroxide concentration of 26 wt% and an aluminum ion concentration of 6.5 wt%.
The aluminum plate was subjected to etching treatment with an aqueous solution of 0.1 g / m ^2, and aluminum hydroxide produced when electrochemical surface roughening was performed using a direct current of (c) was mainly used. The smut component was removed, and the edges of the generated pits were dissolved to smooth the edges.
Then, it was washed with water. Next, a sulfuric acid concentration of 25 w at a liquid temperature of 60 ° C.
t% aqueous solution (containing 0.5 wt% aluminum ion)
To perform a desmutting treatment, and thereafter, a water washing was performed. Next, with a 15 wt% sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C., using a DC voltage,
The current density is 2 A / dm ² and the amount of anodic oxide film is 2.4 g / m 2
Anodizing treatment was performed to obtain ² . Then, it was washed with water. When the surface of the treated aluminum plate was observed with a scanning electron microscope, the average diameter was 0.5 to 3.0 μm.
Pits were uniformly generated. The intermediate layer and the photosensitive layer are applied to this aluminum plate and dried, and the dried film thickness is 1.8 g.
/ M ² was prepared as a positive planographic printing plate. When printing was performed using this lithographic printing plate, a good printed image was obtained.

【００３７】（実施例３）実施例１の（ａ）、（ｂ）及
び（ｃ）の処理を行ったアルミニウム板を、苛性ソーダ
濃度２６ｗｔ％、アルミニウムイオン濃度６．５ｗｔの
水溶液でエッチング処理を行い、このアルミニウム板を
０．１ｇ／ｍ² 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的
な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを
主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエ
ッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その
後、水洗した。次に、液温６０℃の硫酸濃度２５ｗｔ％
水溶液（アルミニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）でデ
スマット処理を行い、その後水洗を行った。次に、液温
３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオ
ンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用い、電流密度
２Ａ／ｄｍ² で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ² になる
ように陽極酸化処理を行った。その後、水洗を行った。
次に、親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５ｗｔ
％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬して、その後水洗、
乾燥した。処理されたアルミニウム板の表面を走査型電
子顕微鏡で観察したところ、平均直径０．５〜３．０μ
ｍのピットが均一に生成していた。このアルミニウム板
に中間層及び感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚２ｇ／ｍ
²のネガ型平版印刷版を作成した。この平版印刷版を用
いて印刷したところ、良好な印刷画像が得られた。(Example 3) The aluminum plate subjected to the treatments (a), (b) and (c) of Example 1 was etched with an aqueous solution having a sodium hydroxide concentration of 26 wt% and an aluminum ion concentration of 6.5 wt%. This aluminum plate was dissolved in 0.1 g / m ² , and a smut component mainly composed of aluminum hydroxide produced when electrochemical surface roughening was performed using alternating current in the preceding stage, and pits produced Was melted to smooth the edge portion. Then, it was washed with water. Next, a sulfuric acid concentration of 25 wt% at a liquid temperature of 60 ° C.
Desmut treatment was performed with an aqueous solution (containing 0.5 wt% of aluminum ions), and then water washing was performed. Next, using a 15% by weight aqueous solution of sulfuric acid (containing 0.5% by weight of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C., using a DC voltage, the current density is 2 A / dm ² , and the anodic oxide film amount becomes 2.4 g / m ² . Anodizing treatment was performed as described above. Then, it was washed with water.
Next, for the purpose of hydrophilization treatment, sodium silicate 2.5 wt.
%, Immersed in an aqueous solution of 70 ° C. for 14 seconds, and then washed with water,
Dried. When the surface of the treated aluminum plate was observed with a scanning electron microscope, the average diameter was 0.5 to 3.0 μm.
m pits were uniformly generated. The intermediate layer and the photosensitive layer are applied to this aluminum plate and dried, and the dried film thickness is 2 g / m2.
It created the ² of the negative-working lithographic printing plate. When printing was performed using this lithographic printing plate, a good printed image was obtained.

【００３８】[0038]

【発明の効果】本発明を実施することで、アルミニウム
板に均一なハニカムピットを生成することが可能とな
る。特に、銅を０．１ｗｔ％以上含有するアルミニウム
材料に均一なハニカムピットを生成することができ、し
かもその際電極の劣化も無く連続操業に有利である。According to the present invention, uniform honeycomb pits can be formed on an aluminum plate. In particular, uniform honeycomb pits can be formed on an aluminum material containing 0.1 wt% or more of copper, and in that case, there is no deterioration of the electrode, which is advantageous for continuous operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 本発明に係る粗面化装置の一例を示す概略構
成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a surface roughening device according to the present invention.

【図２】 本発明で用いる電極を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing an electrode used in the present invention.

【図３】 本発明に係る粗面化装置の他の例を示す概略
構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing another example of the surface roughening device according to the present invention.

【図４】 本発明に係る粗面化装置の他の例を示す概略
構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing another example of the surface roughening device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 粗面化装置 ２ 電解液 ３、３ａ、３ｂ 電解槽 ４ ドラム ５ 陽極 ６ 陰極 ７ａ、７ｂ 直流電源 ８ａ、８ｂ コンダクタロール ９ アルミニウム板 １０ パスロール １１ 電極片 １２ インシュレータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Roughening apparatus 2 Electrolyte 3, 3a, 3b Electrolytic tank 4 Drum 5 Anode 6 Cathode 7a, 7b DC power supply 8a, 8b Conductor roll 9 Aluminum plate 10 Pass roll 11 Electrode piece 12 Insulator

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｆ 3/20 Ｃ２５Ｆ 3/20 7/00 7/00 Ｌ Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification code Reference number in the agency FI Technical display location C25F 3/20 C25F 3/20 7/00 7/00 L

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニ
ウム板に対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って
交互に陽極と陰極とを配置し、直流を用いて電気化学的
に粗面化を行う方法において、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、である条件で行うことを特徴とするアルミニウ
ム板の粗面化方法。An anode and a cathode are alternately arranged along an advancing path of an aluminum plate in an aqueous solution mainly containing nitric acid so as to face the aluminum plate, and electrochemically roughen the surface using a direct current. A length L of the anode in the direction of travel of the aluminum plate.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M] a method for roughening an aluminum plate, which is performed under the following conditions: 【請求項２】 アルミニウム板を順に （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｃ）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、の条件による粗面化 （ｄ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｅ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法。2. An aluminum plate is sequentially treated with (a) mechanical roughening treatment, (b) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution. In the main aqueous solution, an anode and a cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate in opposition to the aluminum plate, and the length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is measured using a direct current.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
(M) surface roughening under the conditions of (d) a lithographic plate characterized by performing an electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or a chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, and (e) anodizing treatment. A method for roughening an aluminum support for a printing plate. 【請求項３】 アルミニウム板を順に （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｂ）硝酸を主体とする水溶液中で直流を用いた電気化
学的な粗面化処理 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｄ）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、である条件による粗面化処理 （ｅ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｆ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法。3. An aluminum plate is sequentially subjected to (a) electrolytic polishing in an acidic aqueous solution, or chemical etching in an acid or alkaline aqueous solution, and (b) direct current in an aqueous solution mainly containing nitric acid. Electrochemical surface roughening treatment (c) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in acid or alkali aqueous solution (d) Facing aluminum plate in aqueous solution mainly composed of nitric acid The anode and the cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate, and the length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is determined by using a direct current.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M] surface roughening treatment under the following conditions: (e) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, and (f) anodizing treatment. Surface roughening method for an aluminum support for a lithographic printing plate. 【請求項４】 アルミニウム板を順に （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｂ）硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニウム板に
対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って交互に陽
極と陰極とを配置し、直流を用いて、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極に流れる電流Ｉｐと前記陰極に流れる電流Ｉ
ｎとの比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎが、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、である条件による粗面化処理 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 （ｄ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法。4. An aluminum plate is sequentially formed on an aluminum plate by (a) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, and (b) an aqueous solution mainly containing nitric acid. An anode and a cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate so as to face each other, and using a direct current, a length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is used.
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the direction of travel of the aluminum plate is 1 to 20, and the current Ip flowing to the anode and the current Ip flowing to the cathode are
The ratio Ip / In to n is 1 to 20, and the cathode length Ln is such that the moving speed of the aluminum plate is V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M] surface roughening treatment under the following conditions: (c) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution; and (d) anodizing treatment. Surface roughening method for an aluminum support for a lithographic printing plate. 【請求項５】 請求項２、請求項３または請求項４に記
載された粗面化方法により処理されたアルミニウム板
を、更に陽極酸化処理した後に親水化処理を行うことを
特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方
法。5. A lithographic printing method comprising subjecting an aluminum plate, which has been treated by the surface roughening method according to claim 2, to anodizing treatment, and then performing a hydrophilic treatment. A method for roughening an aluminum support for a plate. 【請求項６】 陽極と陰極とを、陽極が先頭になるよう
に配置し、直流を用いた電気化学的な粗面化処理をアル
ミニウム板のカソード反応から開始することを特徴とす
る請求項１〜５の何れか一項に記載の粗面化方法。6. The method according to claim 1, wherein the anode and the cathode are arranged such that the anode is at the top, and the electrochemical surface-roughening treatment using direct current is started from the cathode reaction of the aluminum plate. The surface roughening method according to any one of claims 1 to 5. 【請求項７】 コンダクタロールを用いてアルミニウム
板に給電することを特徴とする請求項１〜６の何れか一
項に記載の粗面化方法。7. The surface roughening method according to claim 1, wherein power is supplied to the aluminum plate using a conductor roll. 【請求項８】 硝酸を主体とする水溶液中で、アルミニ
ウム板に対向して該アルミニウム板の進行経路に沿って
交互に陽極と陰極とを配置し、アルミニウム板を前記電
極と一定間隔を保ちながら該電極間を通過させて電気化
学的に粗面化を行う装置であって、 前記陽極のアルミニウム板の進行方向に関する長さＬ
ｐと、前記陰極のアルミニウム板の進行方向に関する長
さＬｎとの比Ｌｐ／Ｌｎが１〜２０であり、 前記陽極の印加電流Ｉｐと前記陰極の印加電流Ｉｎと
の比Ｉｐ／Ｉｎが１〜２０であり、かつ、 前記陰極長さＬｎを、アルミニウム板の移動速度をＶ
〔ｍ／ｓｅｃ〕としたときに、０．００５Ｖ〜２Ｖ
〔ｍ〕、であることを特徴とする粗面化装置。8. In an aqueous solution mainly composed of nitric acid, an anode and a cathode are alternately arranged along the traveling path of the aluminum plate so as to face the aluminum plate, and the aluminum plate is kept at a constant distance from the electrode. An apparatus for electrochemically surface-roughening by passing between the electrodes, wherein a length L of the anode in the traveling direction of the aluminum plate is L
The ratio Lp / Ln of p to the length Ln of the cathode in the traveling direction of the aluminum plate is 1 to 20, and the ratio Ip / In of the applied current Ip to the anode and the applied current In to the cathode is 1 to 20. 20 and the cathode length Ln is determined by setting the moving speed of the aluminum plate to V
0.005V to 2V when [m / sec]
[M], a surface roughening device. 【請求項９】 コンダクタロールを用いてアルミニウム
板に給電することを特徴とする請求項８に記載の粗面化
装置。9. The surface roughening apparatus according to claim 8, wherein power is supplied to the aluminum plate using a conductor roll. 【請求項１０】 陽極を先頭に配置したことを特徴とす
る請求項８または請求項９に記載の粗面化装置。10. The surface roughening apparatus according to claim 8, wherein an anode is arranged at the head.