JPH10183400A - Surface roughening method for aluminum plate - Google Patents

Surface roughening method for aluminum plate

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JPH10183400A
JPH10183400A JP25536697A JP25536697A JPH10183400A JP H10183400 A JPH10183400 A JP H10183400A JP 25536697 A JP25536697 A JP 25536697A JP 25536697 A JP25536697 A JP 25536697A JP H10183400 A JPH10183400 A JP H10183400A
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JP
Japan
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treatment
aluminum plate
aqueous solution
aluminum
acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP25536697A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Nishino
温夫 西野
Yoshitaka Masuda
義孝 増田
Hirokazu Sawada
宏和 澤田
Akio Uesugi
彰男 上杉
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface roughening method which obviates the occurrence of streaks and unequal image quality and to obtain an aluminum base for planographic printing having high quality in spite of a low cost by subjecting an aluminum plate to an electrolytic polishing treatment in an aq. acidic soln. or aq. alkaline soln. between mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening after the mechanical surface roughening and before the electrochemical surface roughening. SOLUTION: An aq. soln. mainly composed of sulfuric acid or phosphoric acid is preferably used in the electrolytic polishing treatment in the aq. acidic soln. This soln. is more particularly preferably an aq. soln. contg. 20 to 90wt.% and further preferably 40 to 80wt.% sulfuric acid or phosphoric acid. The liquid temp. is 10 to 90 deg.C and more preferably 50 to 80 deg.C. The current density is 1 to 200A/dm<2> , more preferably 5 to 80A/dm<2> . The electrolytic time is selectable from a range of 1 to 180 seconds. A usable current is preferably a continuous DC. Usable electrode materials are preferably carbon for an anode material and silver, ferrite, iridium oxide or platinum for a cathode material, among which the silver is most adequate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体として使用されるアルミニウム板の粗面化方法に関す
るものである。特に、結晶粒の方位差に起因するストリ
ークスの発生しやすいアルミニウム板の粗面化に好適な
方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for roughening an aluminum plate used as a support for a lithographic printing plate. In particular, the present invention relates to a method suitable for roughening an aluminum plate in which streaks tend to occur due to a difference in crystal grain orientation.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来から金属板表面に、その深さや分布
を制御しながら均一な形状の凹凸を形成して表面積を増
加させ、被覆層の密着性や、表面の保水性を向上させる
方法が試みられている。そのひとつとして、機械的な粗
面化、化学的なエッチング、電気化学的な粗面化の１つ
以上を組み合わせた処理を施す方法が知られている。特
に、平版印刷版用アルミニウム支持体として好適な表面
形状を得る方法として硝酸または塩酸を主体とする水溶
液中で、交流または直流を用いた電気化学的な粗面化方
法が実用化されている。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been a method of increasing the surface area by forming unevenness of a uniform shape on the surface of a metal plate while controlling its depth and distribution, thereby improving the adhesion of a coating layer and the water retention of the surface. Attempted. As one of them, a method of performing a treatment combining one or more of mechanical roughening, chemical etching, and electrochemical roughening is known. In particular, as a method for obtaining a surface shape suitable as an aluminum support for a lithographic printing plate, an electrochemical roughening method using an alternating current or a direct current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid has been put to practical use.

【０００３】直流を用いた電気化学的な粗面化方法とし
て、特開平１ー１４１０９４号公報等に記載された方法
が知られている。また、交流を用いた電気化学的な粗面
化で均一なハニカムピットを生成する方法として、特公
平５−６５３６０号公報等に記載された方法が知られて
いる。前記特公平５−６５３６０号公報には、アルミニ
ウム板のカソード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量
Ｑａとの比（Ｑｃ／Ｑａ）が１〜２．５の範囲であるこ
とが好適であり、２．５以上にすると均一な砂目が形成
されず、エネルギー効率が低下することが記載されてい
る。また、同じく交流を用いた電気化学的な粗面化方法
に関して、特開昭５５−１３７９９３号公報には（Ｑｃ
／Ｑａ）が０．３〜０．９５の範囲であることが好適で
あると記載されている。[0003] As a method of electrochemical surface roughening using a direct current, a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-141094 is known. As a method for generating uniform honeycomb pits by electrochemical surface roughening using alternating current, a method described in Japanese Patent Publication No. 5-65360 is known. In Japanese Patent Publication No. 5-65360, it is preferable that the ratio (Qc / Qa) of the quantity of electricity Qc at the time of cathode and the quantity of electricity Qa at the time of anode of the aluminum plate is in the range of 1 to 2.5. , 2.5 or more, a uniform grain is not formed, and the energy efficiency is reduced. Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-137993 discloses an electrochemical surface roughening method using an alternating current (Qc
/ Qa) is preferably in the range of 0.3 to 0.95.

【０００４】また、特開昭６３−１７６１８８号公報に
は、電気化学的な粗面化処理を行った後に電解研磨処理
を行うことが有効であることが記載されている。更に、
特開平６−１３５１７５号公報には、機械的な粗面化の
後、または電気化学的な粗面化の前後に化学的エッチン
グすることが有効であることが記載されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-176188 discloses that it is effective to perform electrolytic polishing after performing electrochemical surface roughening. Furthermore,
JP-A-6-135175 describes that it is effective to perform chemical etching after mechanical surface roughening or before and after electrochemical surface roughening.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、アル
ミニウム板の粗面化は機械的粗面化、電気化学的な粗面
化、電解研磨、化学的エッチングを適宜組み合わせて行
われる。しかしながら、処理されるアルミニウム板に結
晶粒の方位差がある場合、化学的エッチングを施すとス
トリークスと呼ばれる畳目状の筋または面質ムラと呼ぶ
ザラツキが発生することがあった。そのため、アルミニ
ウム板の圧延工程の熱処理条件をシビアにしなければな
らず、工業的に不利であった。As described above, the surface roughening of the aluminum plate is performed by appropriately combining mechanical surface roughening, electrochemical surface roughening, electrolytic polishing, and chemical etching. However, in the case where the aluminum plate to be processed has a crystal orientation difference, when subjected to chemical etching, creasing-like streaks called streaks or roughness called surface unevenness may occur. Therefore, the heat treatment conditions in the aluminum plate rolling process must be severe, which is industrially disadvantageous.

【０００６】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、結晶粒の方位差に起因する処理ムラを発生しや
すいアルミニウム板でもストリークスや面質ムラが発生
しない粗面化方法を提供し、安価でありながらも高品質
の平版印刷版用アルミニウム支持体を提供することを目
的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a roughening method that does not cause streaks or surface quality unevenness even on an aluminum plate that is likely to cause processing unevenness due to the difference in crystal grain orientation. Another object of the present invention is to provide an inexpensive and high-quality aluminum support for a lithographic printing plate.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】発明者らは鋭意研究の結
果、アルミニウム板の粗面化のための一連の処理におい
て、酸、またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にして電解研磨処理を施すことにより、結晶粒の方位
差に起因する処理ムラ（ストリークス）または面質ムラ
の発生を軽減できることを見い出し、本発明を完成する
に至った。これは、電解研磨処理では、酸化皮膜を生成
しながら、かつこの酸化皮膜が水溶液中に溶解していく
ことでアルミニウム板が溶解されるため、アルミニウム
原子面の違いによる溶解速度の差が出にくくなったこと
によるものと考えられる。その際、電解研磨処理に用い
る、酸やアルカリ水溶液の濃度および温度は、化学的な
エッチング処理の液に比べて低く設定することが可能で
あり、またアルミニウム板の溶解量は通電量で管理でき
るため、平版印刷版用アルミニウム支持体の製造工程管
理がしやすい利点もある。Means for Solving the Problems As a result of diligent studies, the inventors have found that in a series of treatments for roughening an aluminum plate, electrolytic polishing is performed using an aluminum plate as an anode in an acid or alkali aqueous solution. As a result, it has been found that the occurrence of processing unevenness (streaks) or surface quality unevenness due to the difference in orientation of crystal grains can be reduced, and the present invention has been completed. This is because in the electropolishing process, the aluminum plate is dissolved by generating an oxide film and dissolving the oxide film in the aqueous solution, so that the difference in the dissolution rate due to the difference in the aluminum atomic plane is hard to appear. It is thought that it became. At that time, the concentration and temperature of the acid or alkali aqueous solution used for the electropolishing treatment can be set lower than the solution for the chemical etching treatment, and the amount of dissolution of the aluminum plate can be controlled by the amount of electricity. Therefore, there is an advantage that the manufacturing process of the aluminum support for a lithographic printing plate can be easily controlled.

【０００８】即ち、上記の目的は、本発明に係る下記の
粗面化方法により達成される。 （１）アルミニウム板を機械的な粗面化の後で、かつ、
電気化学的な粗面化の前に酸性水溶液中での電解研磨処
理を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方
法。 （２）アルミニウム板を順に （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｃ）酸性水溶液中で、直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 （ｄ）酸またはアルカリ水溶液中でのエッチング処理、
または、酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｅ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。 （３）アルミニウム板を順に （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｂ）硝酸を主体とする水溶液中で直流を用いた電気化
学的な粗面化処理 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｄ）硝酸を主体とする溶液中で、直流または交流を用
いた電気化学的な粗面化処理 （ｅ）酸またはアルカリ水溶液中でのエッチング処理、
または、酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｆ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。 （４）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にして処理する電解研磨工程を含むことを特徴とする
平版印刷版用アルミニウム板の粗面化方法。 （５）機械的な粗面化処理、電気化学的な粗面化処理、
化学的なエッチング処理、酸性水溶液中でのデスマット
処理、陽極酸化処理、親水化処理の中の１つ以上の処理
工程と、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を
陽極にして処理する電解研磨工程を組み合わせることを
特徴とする上記（４）に記載のアルミニウム板の粗面化
方法。 （６）アルミニウム板を順に （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理 （ｃ）酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学
的な租面化処理 （ｄ）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理 （ｅ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。 （７）アルミニウム板を順に （ａ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理 （ｂ）酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学
的な租面化処理 （ｃ）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理 （ｄ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。 （８）前記電解研磨処理の前、または後、または前後
に、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウムを０．０
１〜２ｇ／ｍ2 溶解させるエッチング処理を行うことを
特徴とする上記（１）〜（７）の何れか一項に記載の租
面化方法。 （９）アルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理、
またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽極にした
電解研磨処理の後に酸性水溶液中でのデスマット処理を
行うことを特徴とする上記（１）〜（８）の何れか一項
に記載の租面化方法。 （10）アルミニウム板がＤＣ鋳造法から中間焼鈍処理、
または均熱処理、または中間焼鈍処理と均熱処理とを省
いて製造されたアルミニウム板を用いることを特徴とす
る上記（１）〜（９）の何れか一項に記載の粗面化方
法。 （11）アルミニウム板が連続鋳造法から中間焼鈍処理を
省いて製造されたアルミニウム板を用いることを特徴と
する上記（１）〜（９）の何れか一項に記載の粗面化方
法。 （12）アルミニウム板が化学的エッチング処理した時に
結晶粒の方位差に起因するアルミ溶解速度差による凹凸
が原因の処理ムラが発生するアルミニウム板を用いるこ
とを特徴とする上記（１）〜（９）の何れか一項に記載
の粗面化方法。That is, the above object is achieved by the following surface roughening method according to the present invention. (1) After mechanical roughening of the aluminum plate, and
A surface roughening method for an aluminum plate, comprising performing an electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution before electrochemical surface roughening. (2) Aluminum plate in order (a) Mechanical surface roughening treatment (b) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution (c) Electrochemical surface roughening treatment in acidic aqueous solution using DC or AC (D) etching treatment in an acid or alkali aqueous solution,
Alternatively, a method for surface roughening an aluminum plate, comprising performing an electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, and (e) anodizing treatment. (3) Aluminum plate in order (a) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution (b) Electrochemical surface roughening treatment using direct current in aqueous solution mainly composed of nitric acid (c) Electrolysis in acidic aqueous solution Polishing treatment (d) Electrochemical surface roughening treatment using DC or AC in a solution mainly containing nitric acid (e) Etching treatment in an acid or alkali aqueous solution,
Alternatively, a method of surface roughening an aluminum plate, comprising performing (f) anodizing treatment in an acidic aqueous solution. (4) A method for roughening an aluminum plate for a lithographic printing plate, comprising an electrolytic polishing step of treating an aluminum plate as an anode in an aqueous acid or alkali solution. (5) mechanical surface roughening, electrochemical surface roughening,
At least one of chemical etching, desmutting in an acidic aqueous solution, anodizing, and hydrophilizing, and an electrolytic polishing process in which an aluminum plate is used as an anode in an acidic or alkaline aqueous solution. The method for roughening an aluminum plate according to the above (4), wherein the method is combined. (6) Aluminum plate in order (a) Mechanical roughening treatment (b) Chemical etching treatment in acid or alkali aqueous solution (c) Electrochemical taxation using direct current or alternating current in acidic aqueous solution Surface roughening method (d) An electrolytic polishing treatment using an aluminum plate as an anode in an aqueous acid or alkali solution, and (e) anodizing treatment. (7) Aluminum plate in order (a) Chemical etching treatment in acid or alkali aqueous solution (b) Electrochemical surface treatment using DC or AC in acidic aqueous solution (c) Acid or alkali aqueous solution A method of roughening an aluminum plate, comprising performing an electrolytic polishing treatment (d) anodization treatment using an aluminum plate as an anode in the inside. (8) Before, after, or before or after the electropolishing treatment, aluminum is added in an aqueous solution of acid or alkali to a concentration of 0.0
The method of any one of (1) to (7), wherein an etching treatment for dissolving 1 to 2 g / m 2 is performed. (9) chemical etching treatment in an alkaline aqueous solution,
Alternatively, the surface polishing method according to any one of the above (1) to (8), wherein a desmutting treatment is performed in an acidic aqueous solution after the electrolytic polishing treatment using an aluminum plate as an anode in an alkaline aqueous solution. . (10) The aluminum plate is processed from DC casting to intermediate annealing.
Alternatively, the surface roughening method according to any one of the above (1) to (9), wherein an aluminum plate manufactured without the soaking heat treatment or the intermediate annealing treatment and the soaking heat treatment is used. (11) The surface roughening method according to any one of the above (1) to (9), wherein the aluminum plate is an aluminum plate manufactured by omitting an intermediate annealing treatment from a continuous casting method. (12) The above-mentioned (1) to (9), wherein an aluminum plate is used in which unevenness due to unevenness due to a difference in the dissolution rate of aluminum due to a difference in crystal grain orientation occurs when the aluminum plate is chemically etched. )) The surface roughening method according to claim 1.

【０００９】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に関して
詳細に説明する。本発明の粗面化方法は、好適には以下
の連続処理から構成される。 ［実施形態１］アルミニウム板を下記の順に処理する。 （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理：この処理は、ア
ルミニウム板表面の圧延油、自然酸化皮膜、汚れなどを
除去し、次の電気化学的な粗面化を均一に行う目的で行
われる。この時のアルミニウム板の溶解量は１〜３０ｇ
／ｍ2 溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ2
溶解することがより好ましい。 （ｂ）硝酸または塩酸を主体とする水溶液中での直流又
は交流を用いた電気化学的な粗面化処理：この処理は、
平均直径約０．１〜３μｍのクレーターまたはハニカム
またはキュウビック状のピットをアルミニウム表面に３
０〜１００％の面積率で生成し、印刷版の非画像部の汚
れにくさと耐刷力が向上する作用がある。 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理：この
処理は、前記電気化学的な粗面化処理で生成した、水酸
化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生
成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷版とした
ときの汚れ性能を良化させる目的で行われる。この時の
アルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 溶解す
ることが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2 溶解することが
より好ましい。 （ｄ）陽極酸化処理：この処理は、アルミニウム板の表
面の耐磨耗性を高めるために行われる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The surface roughening method of the present invention preferably comprises the following continuous processing. [Embodiment 1] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution: This treatment is performed for the purpose of removing rolling oil, natural oxide film, dirt, and the like on the aluminum plate surface and uniformly performing the next electrochemical surface roughening. . At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is 1 to 30 g.
It is preferable to / m 2 dissolved, 1.5 to 20 / m 2
More preferably, it is dissolved. (B) Electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid:
Craters or honeycomb or cubic pits having an average diameter of about 0.1 to 3 μm
It is generated at an area ratio of 0 to 100%, and has an effect that the non-image portion of the printing plate is hardly stained and the printing durability is improved. (C) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution or chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution: the treatment mainly comprises aluminum hydroxide produced by the electrochemical surface roughening treatment. This is performed for the purpose of removing the smut component and smoothing the edge portions of the generated pits and improving the stain performance when the printing plate is obtained. Dissolution amount of the aluminum plate at this time preferably be 0.05-5 g / m 2 dissolution, and more preferably 0.1 to 3 g / m 2 dissolution. (D) Anodizing treatment: This treatment is performed to increase the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００１０】［実施形態２］図１乃至図３に示されるよ
うに、アルミニウム板を下記の順に処理する。 （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理：この処理は、前
記機械的な粗面化で生成した凹凸のエッジ部分を溶解
し、滑らかなうねりを持つ表面を得、汚れ性能がよい印
刷版を得る目的で行われる。この時のアルミニウム板の
溶解量は５〜２０ｇ／ｍ2 が好ましい。 （ｃ）硝酸または塩酸を主体とする水溶液中での直流又
は交流を用いた電気化学的な粗面化処理：この処理は、
平均直径約０．１〜３μｍのクレーターまたはハニカム
またはキュウビック状のピットをアルミニウム表面に３
０〜１００％の面積率で生成し、印刷版の非画像部の汚
れにくさと耐刷力を向上する作用がある。 （ｄ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理、または、酸性水溶液中での電解研磨処理：この
処理は、前記電気化学的な粗面化処理で生成した、水酸
化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生
成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷版とした
ときの汚れ性能を良化させる目的で行われる。この時の
アルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 溶解す
ることが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2 溶解することが
より好ましい。 （ｅ）陽極酸化処理：この処理は、アルミニウム板の表
面の耐磨耗性を高めるために行われる。[Embodiment 2] As shown in FIGS. 1 to 3, an aluminum plate is treated in the following order. (A) Mechanical roughening treatment (b) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution: This treatment dissolves the edges of the irregularities generated by the mechanical roughening, and provides a surface having a smooth undulation. To obtain a printing plate with good stain performance. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is preferably 5 to 20 g / m 2 . (C) Electrochemical surface roughening treatment using a direct current or an alternating current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid:
Craters or honeycomb or cubic pits having an average diameter of about 0.1 to 3 μm
It is generated at an area ratio of 0 to 100%, and has an effect of preventing the non-image portion of the printing plate from being stained and improving printing durability. (D) Chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, or electropolishing treatment in an acidic aqueous solution: This treatment mainly comprises aluminum hydroxide produced by the electrochemical surface roughening treatment. This is performed for the purpose of removing the smut component and smoothing the edge portions of the generated pits and improving the stain performance when the printing plate is obtained. Dissolution amount of the aluminum plate at this time preferably be 0.05-5 g / m 2 dissolution, and more preferably 0.1 to 3 g / m 2 dissolution. (E) Anodizing treatment: This treatment is performed to increase the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００１１】［実施形態３］図４乃至図７に示されるよ
うに、アルミニウム板を下記の順に処理する。 （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理：この処理は、ア
ルミニウム板表面の圧延油、自然酸化皮膜、汚れなどを
除去し、次の電気化学的な粗面化を均一に行う目的で行
われる。この時のアルミニウム板の溶解量は１〜３０ｇ
／ｍ2 溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ2
溶解することがより好ましい。 （ｂ）硝酸または塩酸を主体とする水溶液中での直流又
は交流を用いた電気化学的な粗面化処理：この処理は、
平均直径約０．１〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ムまたはキュウビック状のピットをアルミニウム表面に
３０〜１００％の面積率で生成し、印刷版の非画像部の
汚れにくさと耐刷力を向上する作用がある。 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理：この処理は、前
記電気化学的な粗面化で生成したスマットと、ピットの
エッジ部分またはピットが生成していないプラトーな部
分の溶解を行い、滑らかな凹凸を持つ表面を得る目的で
行われる。また、印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷
力を向上する作用がある。この時のアルミニウム板の溶
解量は１〜３０ｇ／ｍ2溶解することが好ましく、１．
５〜２０ｇ／ｍ2 溶解することがより好ましい。 （ｄ）硝酸または塩酸を主体とする水溶液中での直流又
は交流を用いた電気化学的な粗面化処理：この処理は、
平均直径約０．１〜３μｍのクレーターまたはハニカム
またはキュウビック状のピットをアルミニウム表面に３
０〜１００％の面積率で生成し、印刷版の非画像部の汚
れにくさと耐刷力を向上する作用がある。 （ｅ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理、または、酸性水溶液中での電解研磨処理：この
処理は、前記電気化学的な粗面化処理生成した、水酸化
アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成
したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷版としたと
きの汚れ性能を良化させる目的で行われる。この時のア
ルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 解するこ
とが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2溶解することがより
好ましい。 （ｆ）陽極酸化処理：この処理は、アルミニウム板の表
面の耐磨耗性を高めるために行われる。[Embodiment 3] As shown in FIGS. 4 to 7, an aluminum plate is treated in the following order. (A) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution: This treatment is performed for the purpose of removing rolling oil, natural oxide film, dirt, and the like on the aluminum plate surface and uniformly performing the next electrochemical surface roughening. . At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is 1 to 30 g.
It is preferable to / m 2 dissolved, 1.5 to 20 / m 2
More preferably, it is dissolved. (B) Electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid:
Craters or honeycombs or cubic pits having an average diameter of about 0.1 to 20 μm are formed on the aluminum surface at an area ratio of 30 to 100% to improve the resistance to non-image areas of the printing plate and the printing durability. There is action. (C) Electropolishing treatment in an acidic aqueous solution: This treatment dissolves the smut generated by the electrochemical surface roughening and the edge portion of the pit or a plateau portion where no pit is generated, and performs smoothing. This is performed for the purpose of obtaining a surface having various irregularities. Further, the non-image portion of the printing plate is less likely to be stained and has an effect of improving printing durability. At this time, the dissolution amount of the aluminum plate is preferably 1 to 30 g / m 2 , and
More preferably, 5 to 20 g / m 2 is dissolved. (D) Electrochemical surface roughening treatment using DC or AC in an aqueous solution mainly composed of nitric acid or hydrochloric acid:
Craters or honeycomb or cubic pits having an average diameter of about 0.1 to 3 μm
It is generated at an area ratio of 0 to 100%, and has an effect of preventing the non-image portion of the printing plate from being stained and improving printing durability. (E) Chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution or electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution: This treatment is mainly made of aluminum hydroxide produced by the electrochemical surface roughening treatment. This is performed for the purpose of removing the smut component, smoothing the edge portion of the generated pit, and improving the stain performance of the printing plate. Dissolution amount of the aluminum plate at this time preferably be solutions 0.05-5 g / m 2, and more preferably 0.1 to 3 g / m 2 dissolution. (F) Anodizing treatment: This treatment is performed to enhance the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００１２】［実施形態４］アルミニウム板を下記の順
に処理する。 （ａ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
化学的なエッチング処理 表面の自然酸化皮膜や汚れ、圧延油等を取り除き、表面
の状態を均一にする目的でアルミニウム板を０．１〜２
０g/ｍ2 溶解する。前段の処理に機械的な粗面化を行っ
たときは、機械的な粗面化で生成した急峻な凹凸を滑ら
かにする作用も兼ねる。 （ｂ）酸性水溶液中での直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 アルミニウム板表面に、平均直径０．１〜３μｍのピッ
トを生成する目的で行われる。但し、電気量を比較的高
く設定すると大きなうねりを持つ表面となる。この電気
化学的な粗面化処理で生成するスマット成分は、０．３
〜２ｇ／ｍ2 である。 （ｃ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
電解研磨処理 アルミニウム板の結晶粒の方位差に起因するストリーク
スや面質ムラを発生させないようにアルミニウム板をエ
ッチングする工程であり、電気化学的な粗面化処理で生
成したハニカムピットのエッジの部分を滑らかにする目
的で行われる。アルミニウム板の溶解量は０．１〜５g/
ｍ2 が好ましい。この電解研磨処理では、０．０１〜３
ｇ／ｍ2 の酸化皮膜またはスマット成分がアルミニウム
板表面に生成する。 （ｄ）陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために、陽極
酸化処理が施される。[Embodiment 4] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Chemical etching of aluminum plate in aqueous solution of acid or alkali Remove aluminum plate from 0.1 to 2 in order to remove natural oxide film, dirt, rolling oil, etc. on the surface and to make the surface state uniform.
Dissolve 0 g / m 2 . When mechanical roughening is performed in the preceding process, it also has the function of smoothing the steep irregularities generated by mechanical roughening. (B) Electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current in an acidic aqueous solution This is performed for the purpose of forming pits having an average diameter of 0.1 to 3 μm on the aluminum plate surface. However, when the amount of electricity is set relatively high, the surface has a large undulation. The smut component generated by this electrochemical graining treatment is 0.3%.
２2 g / m 2 . (C) Electropolishing treatment of an aluminum plate in an acid or alkali aqueous solution This is a step of etching the aluminum plate so as not to generate streaks or unevenness in surface quality due to a difference in the orientation of crystal grains of the aluminum plate. This is performed for the purpose of smoothing the edge portion of the honeycomb pit generated by the rough surface treatment. Dissolution amount of aluminum plate is 0.1-5g /
m 2 is preferred. In this electrolytic polishing process, 0.01 to 3
g / m 2 of oxide film or smut component is formed on the aluminum plate surface. (D) Anodizing treatment Anodizing treatment is performed to increase the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate.

【００１３】［実施形態５］アルミニウム板を下記の順
に処理する。 （ａ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
電解研磨処理 アルミニウム板の結晶粒の方位差に起因するストリーク
スを発生させないようにアルミニウム板をエッチングす
る工程である。アルミニウム板を０．１〜２０g/ｍ2 溶
解することが好ましい。この電解研磨処理では、０．０
１〜８ｇ／ｍ2の酸化皮膜またはスマット成分がアルミ
ニウム板表面に生成する。また、前処理として機械的な
粗面化を行ったときは、機械的な粗面化で生成した急峻
な凹凸を滑らかにする作用も兼ねる。 （ｂ）酸性水溶液中での直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 実施形態４と同様である。 （ｃ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
化学的にエッチング処理 電気化学的な粗面化処理で生成したハニカムピットのエ
ッジの部分を滑らかにする目的、および、電気化学的な
粗面化処理で生成した水酸化アルミニウム成分を主体と
するスマット成分や酸化皮膜を除去する目的で行われ
る。アルミニウム板の溶解量は（前段の電気化学的な粗
面化処理で生成した酸化皮膜やスマット以外に）０．１
〜５ｇ／ｍ2 が好ましい。 （ｄ）陽極酸化処理 実施形態４と同様である。[Embodiment 5] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Electropolishing treatment of aluminum plate in aqueous solution of acid or alkali This is a step of etching the aluminum plate so as not to generate streaks caused by a difference in orientation of crystal grains of the aluminum plate. It is preferable to dissolve the aluminum plate in an amount of 0.1 to 20 g / m 2 . In this electrolytic polishing process, 0.0%
An oxide film or smut component of 1 to 8 g / m 2 is formed on the surface of the aluminum plate. Further, when mechanical roughening is performed as pre-processing, it also has an effect of smoothing steep irregularities generated by mechanical roughening. (B) Electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current in an acidic aqueous solution Same as in the fourth embodiment. (C) Chemical etching of an aluminum plate in an acid or alkali aqueous solution The purpose of smoothing the edge portion of the honeycomb pit generated by the electrochemical surface roughening treatment, and the electrochemical surface roughening It is performed for the purpose of removing a smut component and an oxide film mainly composed of an aluminum hydroxide component generated by the treatment. The dissolution amount of the aluminum plate is 0.1 (other than the oxide film and smut generated in the previous electrochemical surface roughening treatment).
~5g / m 2 is preferred. (D) Anodizing treatment Same as in the fourth embodiment.

【００１４】［実施形態６］アルミニウム板を下記の順
に処理する。 （ａ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
電解研磨処理 実施形態５と同様である。 （ｂ）酸性水溶液中での直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 実施形態４と同様である。 （ｃ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
電解研磨処理 実施形態４と同様である。 （ｄ）陽極酸化処理 実施形態４と同様である。[Embodiment 6] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Electropolishing of Aluminum Plate in Acid or Alkaline Aqueous Solution Same as in the fifth embodiment. (B) Electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current in an acidic aqueous solution Same as in the fourth embodiment. (C) Electropolishing of Aluminum Plate in Acid or Alkaline Aqueous Solution Same as in the fourth embodiment. (D) Anodizing treatment Same as in the fourth embodiment.

【００１５】［実施形態７］アルミニウム板を下記の順
に処理する。 （ａ）酸またはアルカリ水溶液中でのアルミニウム板の
電解研磨処理 実施形態５と同様である。 （ｂ）陽極酸化処理 実施形態４と同様である。[Embodiment 7] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Electropolishing of Aluminum Plate in Acid or Alkaline Aqueous Solution Same as in the fifth embodiment. (B) Anodizing treatment Same as in the fourth embodiment.

【００１６】［実施形態８］アルミニウム板を下記の順
に処理する。 （ａ）機械的な租面化処理 （ｂ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理 前記機械的な租面化で生成した凹凸のエッジ部分を溶解
し、滑らかなうねりを持つ表面を得、汚れ性能がよい印
刷版を得る目的で行われる。また、次の工程で行われ
る、酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学的
な租面化処理が均一に行われる目的で行う。アルミニウ
ム板の溶解量は１〜２０ｇ／ｍ2 が好ましい。 （ｃ）酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学
的な租面化処理 この処理は、平均直径０．３〜３μｍのハニカムピット
またはキュウビック状のピットをアルミニウム表面に３
０〜１００％の面積率で生成し、印刷版非画像部の汚れ
難さと耐刷性が向上する作用がある。 （ｄ）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理 この処理は、電気化学的な租面化処理で生成した水酸化
アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、ピッ
トのエッジの部分を滑らかにする目的で行われる。アル
ミニウム板の溶解量は０．０１〜５ｇ／ｍ2 が好まし
く、更に０．１〜１ｇ／ｍ2 が好ましく、特に０．１５
〜０．５ｇ／ｍ2 が好ましい。この処理を行うことで、
電気化学的な租面化で生成したピットのエッジ部分が滑
らかになり、印刷版にした時の汚れ難さが向上する。 （ｅ）陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。[Embodiment 8] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Mechanical surface roughening treatment (b) Chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution Dissolves the edge portion of the unevenness generated by the mechanical surface roughening, and forms a surface having a smooth undulation. This is performed for the purpose of obtaining a printing plate having good stain and stain performance. In addition, it is carried out for the purpose of uniformly performing the electrochemical graining treatment using DC or AC in an acidic aqueous solution, which is performed in the next step. The dissolution amount of the aluminum plate is preferably 1 to 20 g / m 2 . (C) Electrochemical surface flattening treatment using direct current or alternating current in an acidic aqueous solution In this treatment, honeycomb pits or cubic pits having an average diameter of 0.3 to 3 μm are formed on an aluminum surface.
It is generated at an area ratio of 0 to 100%, and has an effect of improving the stain resistance of the non-image portion of the printing plate and the printing durability. (D) Electropolishing treatment using an aluminum plate as an anode in an acid or alkali aqueous solution This treatment removes smut components mainly composed of aluminum hydroxide generated by electrochemical surface treatment and removes pit edges. This is done for the purpose of smoothing the part. Dissolution amount of the aluminum plate is preferably 0.01-5 g / m 2, still preferably 0.1 to 1 g / m 2, especially 0.15
-0.5 g / m < 2 > is preferable. By performing this process,
The edges of the pits generated by electrochemical erosion are smoothed, and the printing plate is less likely to become dirty. (E) Anodizing treatment Anodizing treatment is performed to increase the wear resistance of the surface of the aluminum plate.

【００１７】［実施形態９］アルミニウム板を下記の順
に処理する。 （ａ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理 機械的な租面化で生成した凹凸のエッジ部分を溶解し、
滑らかなうねりを持つ表面を得、汚れ性能がよい印刷版
を得る目的で行われる。また、次の工程で行われる、酸
性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学的な租面
化処理が均一に行われる目的で行う。アルミニウム板の
溶解量は１〜２０ｇ／ｍ2 が好ましい。 （ｂ）酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学
的な租面化処理 この処理は、平均直径０．３〜３μｍのハニカムピット
またはキュウビック状のピットをアルミニウム表面に３
０〜１００％の面積率で生成し、印刷版非画像部の汚れ
難さと耐刷性が向上する作用がある。 （ｃ）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理 この処理は、電気化学的な租面化処理で生成した水酸化
アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、ピッ
トのエッジの部分を滑らかにする目的で行われる。アル
ミニウム板の溶解量は０．０１〜５ｇ／ｍ2 が好まし
く、更に０．１〜１ｇ／ｍ2 が好ましく、特に０．１５
〜０．５ｇ／ｍ2 が好ましい。この処理を行うことで、
電気化学的な租面化で生成したピットのエッジ部分が滑
らかになり、印刷版にした時の汚れ難さが向上する。 （ｄ）陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。[Embodiment 9] An aluminum plate is treated in the following order. (A) Chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution Dissolves the edge portion of the unevenness generated by mechanical roughening,
This is performed for the purpose of obtaining a surface having a smooth undulation and obtaining a printing plate having good stain performance. In addition, it is carried out for the purpose of uniformly performing the electrochemical graining treatment using DC or AC in an acidic aqueous solution, which is performed in the next step. The dissolution amount of the aluminum plate is preferably 1 to 20 g / m 2 . (B) Electrochemical surface treatment using direct current or alternating current in an acidic aqueous solution In this treatment, honeycomb pits or cubic pits having an average diameter of 0.3 to 3 μm are formed on an aluminum surface.
It is generated at an area ratio of 0 to 100%, and has an effect of improving the stain resistance of the non-image portion of the printing plate and the printing durability. (C) Electropolishing treatment using an aluminum plate as an anode in an acid or alkali aqueous solution This treatment removes smut components mainly composed of aluminum hydroxide generated by electrochemical surface treatment and removes pit edges. This is done for the purpose of smoothing the part. Dissolution amount of the aluminum plate is preferably 0.01-5 g / m 2, still preferably 0.1 to 1 g / m 2, especially 0.15
-0.5 g / m < 2 > is preferable. By performing this process,
The edges of the pits generated by electrochemical erosion are smoothed, and the printing plate is less likely to become dirty. (D) Anodizing treatment Anodizing treatment is performed to increase the wear resistance of the surface of the aluminum plate.

【００１８】［実施形態１０］酸またはアルカリ水溶液
中での電解研磨処理の前、後または前後に酸またはアル
カリ水溶液中での化学的なエッチング処理を行うと、よ
り優れた平版印刷版用アルミニウム支持体とすることが
できる。酸またはアルカリ水溶液中での電解研磨処理の
前に行う、酸又はアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理を行うことで、電解研磨処理工程でのアルミ溶
解量を少なくすることができる。また、圧延油、研磨
剤、酸化皮膜、スマット成分などが取り除かれるため
に、電解研磨処理が均一に行われるようになる。酸また
はアルカリ水溶液中での電解研磨処理の後に行う、酸ま
たはアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理は、
電解研磨処理で生成した酸化皮膜やスマットなどの副生
成物を除去する目的で行われ、後の工程で行われる電気
化学的な粗面化を均一に行うことができ、また、陽極酸
化処理後のアルミニウム板をより優れた平版印刷版用ア
ルミニウム支持体とすることができる。[Embodiment 10] By performing a chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution before, after or before or after an electrolytic polishing treatment in an acid or alkaline aqueous solution, a more excellent aluminum support for a lithographic printing plate can be obtained. Can be a body. By performing a chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution before the electrolytic polishing treatment in an acid or alkali aqueous solution, the amount of aluminum dissolved in the electrolytic polishing treatment step can be reduced. Further, since the rolling oil, the abrasive, the oxide film, the smut component, and the like are removed, the electrolytic polishing treatment can be uniformly performed. The chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, which is performed after the electropolishing treatment in an acid or alkali aqueous solution,
The purpose of this process is to remove by-products such as oxide film and smut generated by the electropolishing process.Electrochemical surface roughening performed in the subsequent process can be performed uniformly. Can be used as a more excellent aluminum support for lithographic printing plates.

【００１９】［実施形態１１］実施形態１〜１０の何れ
かの方法において、化学的なエッチング処理をアルカリ
の水溶液を用いて行った場合またはアルカリ水溶液中で
アルミニウム板を陰極にした電解エッチング処理を行っ
た場合には、一般にアルミニウムの表面にはスマットが
生成するので燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、また
はこれらの２以上の酸を含む混酸でデスマット処理して
スマットを除去することが好ましい。[Embodiment 11] In the method according to any one of Embodiments 1 to 10, when the chemical etching treatment is performed using an aqueous alkali solution or the electrolytic etching treatment using an aluminum plate as a cathode in an alkaline aqueous solution is performed. When performed, generally, a smut is formed on the surface of aluminum. Therefore, it is preferable to remove the smut by desmutting with phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids. .

【００２０】［実施形態１２］機械的な粗面化処理に続
いて実施形態１〜１１の何れかに記載の処理を行うこと
により、電気化学的な粗面化で消費する電力を軽減でき
ると同時に、アルミニウムの結晶粒の方位差が起因の処
理ムラが目立ちにくくなる。[Embodiment 12] By performing the treatment according to any one of Embodiments 1 to 11 subsequent to the mechanical surface roughening treatment, it is possible to reduce the power consumed by electrochemical surface roughening. At the same time, processing unevenness due to the difference in the orientation of aluminum crystal grains becomes less noticeable.

【００２１】［実施形態１３］アルミニウム板として、
ＤＣ鋳造法から中間焼鈍処理、または均熱処理、または
中間焼鈍処理と均熱処理とを省いて製造されたアルミニ
ウム板を用いることが本発明の効果を出す上で特に好ま
しい。Embodiment 13 As an aluminum plate,
It is particularly preferable to use an aluminum plate manufactured by omitting the intermediate annealing treatment, the soaking treatment, or the intermediate annealing treatment and the soaking treatment from the DC casting method in order to obtain the effects of the present invention.

【００２２】［実施形態１４］アルミニウム板として、
連続鋳造法から中間焼鈍処理を省いて製造されたアルミ
ニウム板を用いることが本発明の効果を出す上で特に好
ましい。[Embodiment 14] As an aluminum plate,
It is particularly preferable to use an aluminum plate manufactured by omitting the intermediate annealing treatment from the continuous casting method in order to obtain the effects of the present invention.

【００２３】本発明に使用されるアルミニウム板は、純
アルミニウム板、アルミニウムを主成分として微量の異
元素を含む合金板、またはアルミニウムがラミネートま
たは蒸着されたプラスチックフィルムの中から選ばれ
る。該アルミニウム合金に含まれる異元素には、珪素、
鉄、ニッケル、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、
亜鉛、ビスマス、チタン、バナジウムなどがある。通常
はアルミニウムハンドブック第４版（１９９０、軽金属
協会）に記載の、従来より公知の素材のもの、例えばＪ
ＩＳ Ａ １０５０材、ＪＩＳ Ａ ３１０３材、ＪＩ
Ｓ Ａ ３００５材、ＪＩＳ Ａ １１００材、ＪＩＳ
Ａ ３００４材または引っ張り強度を増す目的でこれ
らに５ｗｔ％以下のマグネシウムを添加した合金を用い
ることが出来る。尚、以降の説明において、上記のアル
ミニウム合金板やラミネート板を含めてアルミニウム板
と呼ぶことにする。The aluminum plate used in the present invention is selected from a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, or a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The different elements contained in the aluminum alloy include silicon,
Iron, nickel, manganese, copper, magnesium, chromium,
Examples include zinc, bismuth, titanium, and vanadium. Conventionally known materials such as J described in the Aluminum Handbook 4th Edition (1990, Light Metal Association)
IS A 1050 material, JIS A 3103 material, JI
SA 3005 material, JIS A 1100 material, JIS
A 3004 material or an alloy to which 5 wt% or less of magnesium is added for the purpose of increasing the tensile strength can be used. In the following description, the above-mentioned aluminum alloy plate and laminate plate will be referred to as an aluminum plate.

【００２４】上記アルミニウム板は通常のＤＣ鋳造法に
よるアルミニウム板の他、連続鋳造圧延法により製造さ
れたものでも良い。連続鋳造圧延の方法としては双ロー
ル法、ベルトキャスター法、ブロックキャスター法など
を用いることができる。本発明は、結晶粒に方位差があ
るアルミニウム板に有効であり、このような結晶粒の方
位差は、均熱処理または冷間圧延処理の前の中間焼鈍を
省略したアルミニウム板や連続鋳造により製造したアル
ミニウム板に多く見られ、従って本発明は前記のアルミ
ニウム板に好適である。本発明に用いられるアルミニウ
ム板の厚みは特に制限されるものではなく、使用目的に
応じて適宜設定された厚さで構わない。例えば平版印刷
版用支持体として使用する場合には、およそ０．１〜
０．６ｍｍ程度である。以下に、各処理の好ましい態様
を説明する。The above-mentioned aluminum plate may be an aluminum plate manufactured by a normal casting method or a continuous casting and rolling method. As a method of continuous casting and rolling, a twin roll method, a belt caster method, a block caster method, or the like can be used. The present invention is effective for an aluminum plate having a crystal grain with a misorientation. Such a crystal grain misorientation can be produced by an aluminum plate or continuous casting without intermediate annealing before soaking or cold rolling. The present invention is suitable for the above-mentioned aluminum plate. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is not particularly limited, and may be a thickness appropriately set according to the purpose of use. For example, when used as a support for a lithographic printing plate, about 0.1 to
It is about 0.6 mm. Hereinafter, preferred modes of each processing will be described.

【００２５】〔機械的な粗面化処理〕本発明でいう機械
的な粗面化は、毛径が０．２〜０．９ｍｍの回転するナ
イロンブラシロールと、アルミニウム板表面に供給され
るスラリー液で機械的に粗面化処理することが有利であ
る。研磨剤としては公知の物が使用できるが、珪砂、石
英、水酸化アルミニウムまたはこれらの混合物が好まし
い。この機械的な粗面化処理に関しては、例えば特開平
６−１３５１７５号、特公昭５０−４００４７号各公報
に記載された方法を好適に使用できる。もちろんスラリ
ー液を吹き付ける方式、ワイヤーブラシを用いた方式、
凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に
転写する方式などを用いても良い。その他の方式とし
て、特開昭５５−７４８９８号、特開昭６１ー１６２３
５１号、特開昭６３−１０４８８９号各公報に記載され
た方法も適用可能である。[Mechanical surface roughening treatment] The mechanical surface roughening in the present invention is performed by rotating a nylon brush roll having a bristle diameter of 0.2 to 0.9 mm and a slurry supplied to the surface of an aluminum plate. It is advantageous to mechanically roughen with a liquid. Known abrasives can be used, but silica sand, quartz, aluminum hydroxide or a mixture thereof is preferred. Regarding the mechanical surface roughening treatment, for example, the methods described in JP-A-6-135175 and JP-B-50-40047 can be suitably used. Of course, the method of spraying the slurry liquid, the method using a wire brush,
For example, a method of transferring the surface shape of a rolling roll having irregularities to an aluminum plate may be used. Other methods are disclosed in JP-A-55-74898 and JP-A-61-1623.
51 and JP-A-63-104889 are also applicable.

【００２６】〔酸性水溶液中での電解研磨処理〕本発明
で言う酸性水溶液中でのアルミニウム板の電解研磨処理
において、公知の電解研磨に用いる水溶液が使用できる
が、好ましくは硫酸またはリン酸を主体とする水溶液で
ある。特に好ましくは、硫酸またはリン酸を２０〜９０
ｗｔ％、更に好ましくは４０〜８０ｗｔ％含有する水溶
液である。また、液温は１０〜９０℃、好ましくは５０
〜８０℃であり、電流密度は１〜２００Ａ／ｄｍ2 、好
ましくは５〜８０Ａ／ｄｍ2 であり、電解時間は１〜１
８０秒の範囲から選択できる。前記水溶液中に、硫酸、
リン酸、クロム酸、過酸化水素、クエン酸、硼酸、フッ
化水素酸、無水フタル酸などを１〜５０ｗｔ％添加して
も良い。また、アルミニウムはもちろんアルミニウム合
金中に含有する合金成分が０〜１０ｗｔ％含有していて
もよい。電流は直流、パルス直流、交流を用いることが
可能であるが、連続直流が好ましい。電解処理装置はフ
ラット型槽、ラジアル型槽など公知の電解処理に使われ
ているものを用いることができる。流速はアルミニウム
板に対して、パラレルフロー、カウンターフローどちら
でもよく、１〜４００ｃｍ／ｓｅｃの間から選定され
る。アルミニウム板と電極との距離は０．３〜３０ｃｍ
が好ましく、０．８〜２ｃｍがとくに好ましい。給電方
法はコンダクタロールを用いた直接給電方式を用いても
よいし、コンダクタロールを用いない間接給電方式（液
給電方式）を用いても良い。使用する電極材質、構造は
電解処理に使われている公知のものが使用可能である
が、陰極材質はカーボン、陽極材質は銀、フェライト、
酸化イリジウムまたは白金が好ましく、特に銀が最適で
ある。アルミニウム板の処理面は、上面でも下面でも両
面でもよい。[Electropolishing Treatment in Acidic Aqueous Solution] In the electropolishing treatment of the aluminum plate in the acidic aqueous solution referred to in the present invention, a known aqueous solution used for electropolishing can be used. Aqueous solution. Particularly preferably, sulfuric acid or phosphoric acid is 20 to 90%.
It is an aqueous solution containing 40 wt%, more preferably 40 to 80 wt%. The liquid temperature is 10 to 90 ° C., preferably 50 to 90 ° C.
To 80 ° C., the current density is 1 to 200 A / dm 2 , preferably 5 to 80 A / dm 2 , and the electrolysis time is 1 to 1
You can select from a range of 80 seconds. In the aqueous solution, sulfuric acid,
Phosphoric acid, chromic acid, hydrogen peroxide, citric acid, boric acid, hydrofluoric acid, phthalic anhydride and the like may be added in an amount of 1 to 50% by weight. In addition to aluminum, an alloy component contained in an aluminum alloy may be contained in an amount of 0 to 10% by weight. As the current, DC, pulse DC, and AC can be used, but continuous DC is preferable. As the electrolytic treatment apparatus, those used in known electrolytic treatment such as a flat type tank and a radial type tank can be used. The flow rate may be either parallel flow or counter flow with respect to the aluminum plate, and is selected from the range of 1 to 400 cm / sec. The distance between the aluminum plate and the electrode is 0.3-30cm
Is preferred, and 0.8 to 2 cm is particularly preferred. As a power supply method, a direct power supply method using a conductor roll may be used, or an indirect power supply method (liquid power supply method) without using a conductor roll may be used. Known electrode materials and structures used for electrolytic treatment can be used, but the cathode material is carbon, the anode material is silver, ferrite,
Preference is given to iridium oxide or platinum, most preferably silver. The processing surface of the aluminum plate may be the upper surface, the lower surface, or both surfaces.

【００２７】間接給電方式によって通電するときは、図
８に示すようなフラット型セルを用いても良い。またラ
ジアル型セルを用いてもよい。電解研磨処理を行う槽
は、ラジアル型セルを用いるとアルミニウム板の非処理
面に電流が流れないために効率よく電解研磨処理を行う
ことができ好ましい。陽極を配置した電解槽をフラット
型にするのは、両面からアルミニウム板に通電するた
め、電解電圧の減少が図れるためである。When power is supplied by the indirect power supply method, a flat cell as shown in FIG. 8 may be used. Further, a radial type cell may be used. The use of a radial cell in the tank for performing the electropolishing treatment is preferable because current does not flow to the non-processed surface of the aluminum plate, so that the electropolishing treatment can be performed efficiently. The reason why the electrolytic cell in which the anode is disposed is made flat is that electric current is applied to the aluminum plate from both sides, so that the electrolytic voltage can be reduced.

【００２８】間接給電方式を用いるときは、陽極が配置
された電解槽と陰極が配置された電解槽とを分離するこ
とが好ましい。陽極が配置された電解槽と陰極が配置さ
れた電解槽との間を通過するアルミニウム板は、電流が
流れることによる発熱でアルミニウムが溶断する可能性
があるため、冷却を目的として電解液をスプレーノズル
から吹き付けることが好ましい。また、間接給電方式を
用いるとき、陽極が配置された電解槽の液は酸性電解液
でもアルカリ性電解液でも良い。両面を電解研磨処理す
るときは片面ずつ順におこなってもよいし、同時に行っ
ても良い。また、両面同時に電解研磨処理を行うとき
は、それぞれの面に対向する陰極に流れる電流を別々に
制御することが好ましい。When the indirect power supply system is used, it is preferable to separate the electrolytic cell provided with the anode from the electrolytic cell provided with the cathode. The aluminum plate that passes between the electrolytic cell in which the anode is disposed and the electrolytic cell in which the cathode is disposed may be sprayed with an electrolytic solution for the purpose of cooling because aluminum may be melted due to heat generated by the flow of current. It is preferable to spray from a nozzle. When the indirect power supply method is used, the liquid in the electrolytic cell in which the anode is disposed may be an acidic electrolytic solution or an alkaline electrolytic solution. When performing electropolishing on both surfaces, they may be performed one by one in order or simultaneously. In addition, when performing the electropolishing treatment on both surfaces simultaneously, it is preferable to separately control the current flowing to the cathode facing each surface.

【００２９】間接給電方式を用いるときは、陽極の消耗
を抑止するため、陽極が配置された電解槽と電解研磨を
行う電解槽とを分離し、陽極が配置された電解槽の液組
成、温度等を電解研磨の条件よりも低く設定することが
好ましい。電解研磨処理を行ったアルミニウム板表面に
は、酸化皮膜やスマットなどの副生成物が０．０１〜１
０ｇ／ｍ2 生成する。この酸化皮膜やスマットなどの副
生成物が存在すると平版印刷版用アルミニウム支持対と
したとき好ましくないので、電解研磨処理の後工程とし
て酸又はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理
またはデスマット処理を行うことが好ましい。この場
合、アルミニウム溶解量は０．０１〜２ｇ／ｍ2 が望ま
しい。化学的なエッチング処理については、米国特許第
３８３４３９８号明細書に記載の他、公知の手段を用い
ることができる。電解研磨処理を行う前処理としても、
表面の状態が不均一だと電解研磨処理が均一に行われな
いので、酸又はアルカリ水溶液中でのエッチング処理を
行うことが最も好ましい。When the indirect power supply system is used, in order to suppress the consumption of the anode, the electrolytic cell in which the anode is disposed and the electrolytic cell for performing the electropolishing are separated, and the composition and temperature of the electrolytic cell in which the anode is disposed are determined. And the like are preferably set lower than the conditions for electrolytic polishing. By-products such as an oxide film and smut are present on the surface of the aluminum plate subjected to the electrolytic polishing treatment in an amount of 0.01 to 1%.
It produces 0 g / m 2 . If this by-product such as an oxide film or smut is present, it is not preferable when used as an aluminum support pair for a lithographic printing plate. It is preferred to do so. In this case, the amount of aluminum dissolved is desirably 0.01 to 2 g / m 2 . As for the chemical etching treatment, known means can be used in addition to the description in US Pat. No. 3,834,398. As a pretreatment for performing electropolishing,
If the state of the surface is not uniform, the electrolytic polishing treatment is not performed uniformly. Therefore, it is most preferable to perform the etching treatment in an acid or alkali aqueous solution.

【００３０】酸性水溶液中での電解研磨処理工程で、ア
ルミニウム板とこれに対向する陰極間の電解電圧は１〜
２０Ｖであることが好ましい。２０Ｖを越えると強い酸
化皮膜が生成し、次の工程での処理が均一に行われ難く
なるIn the electrolytic polishing process in an acidic aqueous solution, the electrolytic voltage between the aluminum plate and the cathode facing the aluminum plate is 1 to
It is preferably 20V. When the voltage exceeds 20 V, a strong oxide film is formed, and it is difficult to uniformly perform the processing in the next step.

【００３１】図８は、上記した電解研磨処理を実施する
のに好適な装置の一例を示す概略図である。図示される
ように、アルミニウム板Ｗは先ず給電槽１０に送られ、
ここで電解処理される。電解槽１０には電解液１１が貯
溜されており、アルミニウム板Ｗは対向配置された陽極
１２の間を通るようにパスロール１３により搬送され
る。陽極１２は複数個で構成され、直流電源２７に接続
されており、給液ノズル１４からは電解液１１がアルミ
ニウム板Ｗと陽極１２との間の空間を通過するように廃
液口１５に向かって送出される。給液ノズル１４及び廃
液口１５は、それぞれアルミニウム板Ｗの表裏両面側に
配設される。FIG. 8 is a schematic view showing an example of an apparatus suitable for performing the above-mentioned electrolytic polishing treatment. As shown, the aluminum plate W is first sent to the power supply tank 10,
Here, the electrolytic treatment is performed. The electrolytic solution 11 is stored in the electrolytic cell 10, and the aluminum plate W is transported by the pass roll 13 so as to pass between the anodes 12 arranged opposite to each other. The anode 12 is composed of a plurality of pieces and is connected to a DC power supply 27. Sent out. The liquid supply nozzle 14 and the waste liquid port 15 are respectively disposed on both front and back sides of the aluminum plate W.

【００３２】給電槽１０から搬出されたアルミニウム板
Ｗは、次いで電解研磨槽２０に送られる。この時、上記
給電槽１０と電解研磨槽２０との間を通過するアルミニ
ウム板Ｗを冷却するために、スプレーノズル１６から電
解処理に使用されるものと同一の電解液１１を噴射す
る。電解研磨槽２０には電解液１１が貯溜されており、
アルミニウム板Ａを陽極とした電解処理が行われる、ア
ルミニウム板Ｗと対向配置される陰極２１は複数に分割
され、インシュレータ２２を介して連結されている。各
陰極は、それぞれに対応する直流電源２７に接続され
る。また、アルミニウム板Ｗの陰極２１との反対側に
は、電流裏回りを防止するための摺動板２３が配設され
ている。陰極２１の下流側には給液ノズル２４が配設さ
れており、給液ノズル２４からは電解液１１がアルミニ
ウム板Ｗと陰極２１との間の空間を流通するように排出
される。また、給液ノズル２４からの電解液１１の供給
により電解研磨槽２０から溢出する余剰の電解液１１
は、電解研磨槽２０の上流側に付設された廃液槽２５の
廃液口２６を通じて系外に送液される。The aluminum plate W carried out of the power supply tank 10 is then sent to the electrolytic polishing tank 20. At this time, in order to cool the aluminum plate W passing between the power supply tank 10 and the electropolishing tank 20, the same electrolytic solution 11 as that used in the electrolytic treatment is sprayed from the spray nozzle 16. An electrolytic solution 11 is stored in the electrolytic polishing tank 20.
The cathode 21, which is subjected to the electrolytic treatment using the aluminum plate A as the anode, and is arranged to face the aluminum plate W, is divided into a plurality of parts and connected via the insulator 22. Each cathode is connected to a corresponding DC power supply 27. On the opposite side of the aluminum plate W from the cathode 21, a sliding plate 23 for preventing current from flowing behind is provided. A liquid supply nozzle 24 is provided downstream of the cathode 21, and the electrolytic solution 11 is discharged from the liquid supply nozzle 24 so as to flow through a space between the aluminum plate W and the cathode 21. In addition, the supply of the electrolytic solution 11 from the liquid supply nozzle 24 causes the excess electrolytic solution 11 overflowing from the electrolytic polishing tank 20.
Is sent out of the system through a waste liquid port 26 of a waste liquid tank 25 provided on the upstream side of the electropolishing tank 20.

【００３３】〔アルカリ水溶液中での電解研磨処理〕本
発明で言うアルカリ水溶液中での電解研磨処理は、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび
リン酸ナトリウムのようなアルカリ性物質の単独か、ま
たはそれらの混合物、またはアルカリ性物質と水酸化亜
鉛、水酸化アルミニウムとの混合物、またはこれらアル
カリ性物質と塩化ナトリウムあるいは塩化カリウム等の
塩類との混合物の水溶液を使用し、しかも電気的に脱酸
素材になるような電解液組成、温度および濃度でアルミ
ニウム板を陽極にして電解処理する場合のことをいう。
均一な酸化皮膜を安定的に生成するために、過酸化水
素、りん酸塩などを１ｗｔ％以下の濃度で添加してもよ
い。公知の電解研磨に用いる水溶液が使用できるが、好
ましくは水酸化ナトリウムを主体とする水溶液である。
好ましくは、水酸化ナトリウムを２〜３０ｗｔ％含有す
る水溶液であり、とくに水酸化ナトリウムを３〜２０％
含有する水溶液である。２ｗｔ％未満だと陽極酸化皮膜
が生成しやすくなり電解電圧が高くなりやすく、３０ｗ
ｔ％を超えると化学的な溶解力が強くなって、ストリー
クが見えやすくなる。液温は２０〜８０℃が好ましく、
特に３０〜５０℃が好ましい。２５℃未満だと陽極酸化
皮膜が生成しやすくなり、８０℃を超えると化学的な溶
解力が強くなって、ストリークが見えやすくなる。電流
密度は５〜２００Ａ／ｄｍ2 、さらに１０〜８０Ａ／ｄ
ｍ2 、特に１０〜６０Ａ／ｄｍ2 が好ましい。電解時間
は１〜６００秒の範囲から選択できる。また、アルカリ
水溶液中にアルミニウムは０．５〜１０ｗｔ％含有して
いることが好ましいが、１〜８ｗｔ％含有していること
が特に好ましい。アルミニウム濃度が０．５ｗｔ％未満
だと、廃液量が多くなると同時に晶析法によるアルカリ
の回収、アルミニウムの系外排出がし難くなる。アルカ
リ水溶液中のアルミニウム濃度が１０ｗｔ％を超える
と、強い酸化皮膜が生成しやすくなったり、アルカリ水
溶液の導電率が下がるために電解電圧が高くなる。勿
論、アルミニウム合金中に含有する合金成分が０〜１ｗ
ｔ％含有していてよい。[Electropolishing Treatment in Alkaline Aqueous Solution] The electropolishing treatment in the alkaline aqueous solution referred to in the present invention may be performed by using an alkaline substance such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and sodium phosphate alone or Alternatively, use an aqueous solution of a mixture thereof, or a mixture of an alkaline substance and zinc hydroxide or aluminum hydroxide, or a mixture of these alkaline substances and salts such as sodium chloride or potassium chloride, and electrically deoxidize the material. It refers to the case where an electrolytic treatment is performed using an aluminum plate as an anode at such an electrolytic solution composition, temperature and concentration.
In order to stably form a uniform oxide film, hydrogen peroxide, phosphate, or the like may be added at a concentration of 1 wt% or less. A known aqueous solution used for electrolytic polishing can be used, but an aqueous solution mainly containing sodium hydroxide is preferable.
Preferably, it is an aqueous solution containing 2 to 30% by weight of sodium hydroxide, and particularly 3 to 20% of sodium hydroxide.
It is an aqueous solution containing. When the content is less than 2 wt%, an anodic oxide film is easily formed, and the electrolytic voltage is easily increased.
When the content exceeds t%, the chemical dissolving power becomes strong, and streaks become easily visible. The liquid temperature is preferably 20 to 80 ° C,
Particularly, 30 to 50C is preferable. When the temperature is lower than 25 ° C., an anodic oxide film is easily formed, and when the temperature is higher than 80 ° C., the chemical dissolving power becomes strong, and streaks become easily visible. The current density is 5 to 200 A / dm 2 , further 10 to 80 A / d
m 2 , particularly preferably 10 to 60 A / dm 2 . The electrolysis time can be selected from the range of 1 to 600 seconds. The alkaline aqueous solution preferably contains 0.5 to 10% by weight of aluminum, and particularly preferably 1 to 8% by weight. If the aluminum concentration is less than 0.5% by weight, the amount of waste liquid increases, and at the same time, it becomes difficult to recover alkali by crystallization and discharge aluminum out of the system. When the aluminum concentration in the alkaline aqueous solution exceeds 10% by weight, a strong oxide film is easily formed, and the conductivity of the alkaline aqueous solution is lowered, so that the electrolytic voltage is increased. Of course, the alloy component contained in the aluminum alloy is 0 to 1 w
t% may be contained.

【００３４】電流は直流、パルス直流、交流を用いるこ
とが可能である。パルス直流または連続直流がとくに好
ましい。図９に連続直流の一例を示した。連続直流は商
用交流を整流素子を用いた整流回路で直流に変換した
後、平滑化回路で平滑化した連続直流を用いることが設
備コストでは好ましい。整流回路、平滑回路は、一般的
なものが使用可能である。連続直流のリップル率は、０
〜８０％が好ましい。図１０に示したパルス直流では、
通電時間Ｔｏｎと休止時間Ｔｂのｄｕｔｙ比が１００：
１〜１：１００、１パルスあたりの通電時間Ｔｏｎは１
ｍｓｅｃ〜２００ｓｅｃであることが好ましい。波形の
立ち上がり時間、立下り時間は０〜１０秒が好ましい。
パルス直流の電流の休止時間Ｔｂに流れる電流Ｉｂは０
が好ましいが、０にすることは困難なため、Ｉｂの電流
密度は０〜１０Ａ／ｄｍ2 とすることが好ましい。As the current, a direct current, a pulse direct current, or an alternating current can be used. Pulsed DC or continuous DC is particularly preferred. FIG. 9 shows an example of continuous DC. As for continuous DC, it is preferable in terms of equipment cost to use a continuous DC obtained by converting a commercial AC into a DC by a rectifier circuit using a rectifying element and smoothing the DC by a smoothing circuit. General rectifier circuits and smoothing circuits can be used. The ripple rate of continuous DC is 0
~ 80% is preferred. In the pulse DC shown in FIG.
The duty ratio of the energizing time Ton and the rest time Tb is 100:
1-1: 100, energization time Ton per pulse is 1
The time is preferably from msec to 200 sec. The rise time and fall time of the waveform are preferably from 0 to 10 seconds.
The current Ib flowing during the pause time Tb of the pulse DC current is 0
However, since it is difficult to set the current density to 0, the current density of Ib is preferably set to 0 to 10 A / dm 2 .

【００３５】電解処理装置はフラット型槽、ラジアル型
槽など公知の電解処理に使われているものを用いること
ができる。電解処理装置は複数をならべて、アルミニウ
ム板が順次通過して処理するようにしてもよい。流速は
アルミニウム板に対して、パラレルフロー、カウンター
フローどちらでもよく、アルミニウム板と電極の間の平
均流速は１０〜４００ｃｍ／秒が好ましく、とくに１５
〜２００ｃｍ／秒が好ましい。平均流速が１０ｃｍ／秒
未満だと、アルカリ水溶液中のアルミ濃度を高く設定し
たときにストリークが見え易くなり、４００ｃｍ／秒を
超えるとポンプの動力費が大きくなって経済的でない。
アルカリ水溶液は、スリット状の吹き出し口を有する吹
き出しノズルから給液し、平均流速をコントロールする
ことがとくに好ましい。アルミニウム板と電極との距離
は０．３〜３０ｃｍが好ましい。As the electrolytic treatment apparatus, those used in known electrolytic treatment such as a flat type tank and a radial type tank can be used. A plurality of electrolytic processing apparatuses may be arranged so that aluminum plates are sequentially passed to perform the processing. The flow rate may be either parallel flow or counter flow with respect to the aluminum plate, and the average flow rate between the aluminum plate and the electrode is preferably 10 to 400 cm / sec, and particularly
~ 200 cm / sec is preferred. When the average flow rate is less than 10 cm / sec, streaks are easily seen when the aluminum concentration in the alkaline aqueous solution is set high, and when the average flow rate exceeds 400 cm / sec, the power cost of the pump increases, which is not economical.
It is particularly preferable that the alkaline aqueous solution is supplied from a blowing nozzle having a slit-shaped blowing port to control the average flow rate. The distance between the aluminum plate and the electrode is preferably 0.3 to 30 cm.

【００３６】給電方法はコンダクタロールを用いた直接
給電方式を用いてもよいし、コンダクタロールを用いな
い液給電方式（間接給電方式）を用いても良い。使用す
る電極材質、構造は電解処理に使われている公知のもの
が使用可能である。液給電方式を用いるときは、陽極が
配置された電解槽と陰極が配置された電解槽とを分離す
ることが好ましい。陽極が配置された電解槽と陰極が配
置された電解槽との間を通過するアルミニウム板は、電
流が流れることによる発熱でアルミニウムが溶断する可
能性があるため、冷却を目的として電解液をスプレーノ
ズルから吹き付けることが好ましい。As the power supply method, a direct power supply method using a conductor roll may be used, or a liquid power supply method without using a conductor roll (indirect power supply method) may be used. Known electrode materials and structures used for electrolytic treatment can be used. When the liquid supply system is used, it is preferable to separate the electrolytic cell provided with the anode from the electrolytic cell provided with the cathode. The aluminum plate that passes between the electrolytic cell in which the anode is disposed and the electrolytic cell in which the cathode is disposed may be sprayed with an electrolytic solution for the purpose of cooling because aluminum may be melted due to heat generated by the flow of current. It is preferable to spray from a nozzle.

【００３７】陰極材質はカーボン、銀、ニッケル、純
鉄、ステンレス、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニ
ウム、ハフニウムが好ましい。陽極材質はフェライト、
白金、白金族系が好ましい。白金または白金族系を用い
るときは、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニウムな
どのバルブ金属に白金をクラッドまたはメッキして用い
ることが好ましい。電解処理装置は、公知の装置を用い
ることができる。アルミニウム板の処理面は、上面でも
下面でも両面でもよい。間接給電方式を用いるときは、
陽極の消耗を抑止するため、陽極が配置された電解槽と
電解研磨を行う電解槽とを分離し、陽極が配置された電
解槽の液組成、温度等は電解研磨の条件よりも低く設定
することが好ましい。The cathode material is preferably carbon, silver, nickel, pure iron, stainless steel, titanium, tantalum, niobium, zirconium, or hafnium. Anode material is ferrite,
Platinum and platinum group metals are preferred. When platinum or a platinum group metal is used, it is preferable to use platinum by cladding or plating platinum on a valve metal such as titanium, tantalum, niobium, and zirconium. As the electrolytic treatment device, a known device can be used. The processing surface of the aluminum plate may be the upper surface, the lower surface, or both surfaces. When using the indirect power supply method,
In order to suppress the consumption of the anode, the electrolytic bath in which the anode is disposed and the electrolytic bath for performing electropolishing are separated, and the liquid composition, temperature, etc. of the electrolytic bath in which the anode is disposed are set lower than the conditions of the electrolytic polishing. Is preferred.

【００３８】電解研磨処理を行ったアルミニウム板表面
には、酸化皮膜やスマットなどの副生成物が０．０１〜
１０ｇ／ｍ2 生成する。この酸化皮膜やスマットなどの
副生成物が存在すると平版印刷版用アルミニウム支持対
としたとき好ましくないので、電解研磨処理の後工程と
して酸又はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処
理、アルミニウム板を陰極にした電解エッチング処理、
またはデスマット処理を行うことがさらに好ましい。電
解研磨処理を行う前処理としても、表面の状態が不均一
だと電解研磨処理が均一に行われないので、酸又はアル
カリ水溶液中での化学的なエッチング処理またはアルミ
ニウム板を陰極にした電解エッチング処理を行うことが
さらに好ましい。By-products such as oxide films and smut are present on the surface of the aluminum plate subjected to the electrolytic polishing treatment in an amount of from 0.01 to 0.01%.
It produces 10 g / m 2 . The presence of this by-product such as an oxide film or smut is not preferable when used as an aluminum support pair for a lithographic printing plate. Electrolytic etching with cathode,
Alternatively, it is more preferable to perform a desmut treatment. Even as a pretreatment for performing the electropolishing process, if the surface condition is not uniform, the electropolishing process is not performed uniformly, so a chemical etching process in an acid or alkali aqueous solution or an electrolytic etching using an aluminum plate as a cathode It is more preferred to perform the treatment.

【００３９】〔酸またはアルカリ水溶液中でのエッチン
グ処理〕本発明で言う酸またはアルカリ水溶液中での化
学的なエッチング処理については、米国特許第３８３４
３９８号明細書に記載の他、公知の手段を用いることが
出来る。酸性水溶液に用いることのできる酸またはアル
カリとしては、特開昭５７−１６９１８号公報などに記
載されているものを単独または組み合わせて用いること
が出来る。液温は常温〜９５℃で、１〜１２０秒間処理
することが好ましい。酸性水溶液の濃度は０．５〜６５
ｗｔ％が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解している
アルミニウムは０．５〜５ｗｔ％が好ましい。アルカリ
水溶液の濃度は５〜３０ｗｔ％が好ましく、さらにアル
カリ水溶液中に溶解しているアルミニウムは１〜３０ｗ
ｔ％が好ましい。酸性水溶液としては特に硫酸が好まし
い。硫酸濃度とアルミニウム濃度は常温で晶出しない範
囲から選択することが好ましい。エッチング処理が終了
した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニッ
プローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うこ
とが好ましい。[Etching Treatment in Acid or Alkaline Aqueous Solution] The chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution in the present invention is described in US Pat.
In addition to the method described in Japanese Patent No. 398, known means can be used. As the acid or alkali that can be used in the acidic aqueous solution, those described in JP-A-57-16918 or the like can be used alone or in combination. The liquid temperature is preferably from room temperature to 95 ° C. for 1 to 120 seconds. The concentration of the acidic aqueous solution is 0.5 to 65
wt% is preferable, and the amount of aluminum dissolved in the acidic aqueous solution is preferably 0.5 to 5 wt%. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 5 to 30 wt%, and the aluminum dissolved in the alkaline aqueous solution is 1 to 30 wt%.
t% is preferred. Sulfuric acid is particularly preferred as the acidic aqueous solution. The sulfuric acid concentration and the aluminum concentration are preferably selected from a range that does not crystallize at room temperature. After the completion of the etching process, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying so as not to bring the processing solution into the next step.

【００４０】〔酸性水溶液中でのデスマット処理〕化学
的なエッチングを塩基の水溶液を用いて行った場合、一
般にアルミニウムの表面にはスマットが生成するので、
燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸またはこれらの２以
上の酸を含む混酸を用いてデスマット処理する。さらに
酸性水溶液中にはアルミニウムが０〜５ｗｔ％が溶解し
ていても良い。液温は常温〜９５℃で実施され、処理時
間は１〜１２０秒が好ましい。デスマット処理が終了し
た後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップ
ローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うこと
が好ましい。[Desmut Treatment in Acidic Aqueous Solution] When chemical etching is performed using an aqueous solution of a base, smut is generally formed on the surface of aluminum.
Desmut treatment is performed using phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid or a mixed acid containing two or more of these acids. Further, 0 to 5 wt% of aluminum may be dissolved in the acidic aqueous solution. The liquid temperature is from room temperature to 95 ° C., and the treatment time is preferably from 1 to 120 seconds. After the end of the desmutting treatment, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying so as not to bring the treatment liquid into the next step.

【００４１】〔硝酸を主体とする水溶液〕本発明でいう
硝酸を主体とする水溶液は、後述される直流もしくは交
流を用いた電気化学的な粗面化処理に使用される。この
硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流または交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
１〜１００ｇ／ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、
硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン、塩
化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等
の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸化合物の１つ以上
を１ｇ／ｌ〜飽和濃度まで添加して使用することができ
る。また、この硝酸を主体とする水溶液中には、鉄、
銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリ
カ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解してい
てもよい。好ましくは、硝酸０．５〜２ｗｔ％水溶液中
にアルミニウムイオンが３〜５０ｇ／ｌとなるように塩
化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用い
ることが好ましい。温度は１０〜９０℃が好ましく、４
０〜８０℃がより好ましい。[Aqueous solution mainly composed of nitric acid] The aqueous solution mainly composed of nitric acid according to the present invention is used in an electrochemical surface roughening treatment using DC or AC described later. The aqueous solution mainly composed of nitric acid can be used for the usual electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current,
Aluminum nitrate in a 1 to 100 g / l nitric acid aqueous solution,
One or more of nitric acid ions such as sodium nitrate and ammonium nitrate, and hydrochloric acid or nitric acid compounds having hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride can be added to a concentration of 1 g / l to a saturated concentration. Also, in the aqueous solution mainly composed of nitric acid, iron,
Metals contained in aluminum alloys such as copper, manganese, nickel, titanium, magnesium and silica may be dissolved. Preferably, a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added to a 0.5 to 2 wt% aqueous solution of nitric acid so that aluminum ions are 3 to 50 g / l is used. The temperature is preferably 10 to 90 ° C., and 4
0-80 degreeC is more preferable.

【００４２】〔塩酸を主体とする水溶液〕本発明でいう
塩酸を主体とする水溶液は、後述される直流もしくは交
流を用いた電気化学的な粗面化処理に使用される。この
塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流または交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
１〜１００ｇ／ｌの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、
硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン、塩
化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等
の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸化合物の１つ以上
を１ｇ／ｌ〜飽和濃度まで添加して使用することができ
る。また、この塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、
銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリ
カ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解してい
てもよい。好ましくは、硝酸０．５〜２ｗｔ％水溶液中
にアルミニウムイオンが３〜５０ｇ／ｌとなるように塩
化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用い
ることが好ましい。更に、次亜塩素酸を添加してもよ
い。温度は１０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃がよ
り好ましい。[Aqueous solution mainly containing hydrochloric acid] The aqueous solution mainly containing hydrochloric acid according to the present invention is used for electrochemical surface roughening treatment using DC or AC described later. The aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid can be used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal DC or AC,
1 to 100 g / l hydrochloric acid aqueous solution, aluminum nitrate,
One or more of nitric acid ions such as sodium nitrate and ammonium nitrate, and hydrochloric acid or nitric acid compounds having hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride can be added to a concentration of 1 g / l to a saturated concentration. The aqueous solution mainly containing hydrochloric acid contains iron,
Metals contained in aluminum alloys such as copper, manganese, nickel, titanium, magnesium and silica may be dissolved. Preferably, a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added to a 0.5 to 2 wt% aqueous solution of nitric acid so that aluminum ions are 3 to 50 g / l is used. Further, hypochlorous acid may be added. The temperature is preferably from 10 to 60C, more preferably from 20 to 50C.

【００４３】〔交流を用いた電気化学的な粗面化処理〕
本発明でいう交流を用いた電気化学的な粗面化処理と
は、電解液中でアルミニウム板とこれに対向する電極間
に交流電流を加え、電気化学的に粗面化する方法をい
う。電解液は、公知の交流を用いた電気化学的な粗面化
処理に使用するものを用いることができるが、前記硝酸
を主体とする水溶液または塩酸を主体とする水溶液を用
いることが有利である。温度は１０〜８０℃が好まし
く、４０〜６０℃がより好ましい。硝酸を主体とした水
溶液中での電気化学的な粗面化では、平均直径０．５〜
３μｍのピットが１×１０5 〜６×１０6 個／ｍｍ2 の
割合で生成していることが好ましい。但し、電気量を比
較的多くしたときは、電解反応が集中し、３μｍを越え
るハニカムピットも生成する。結晶粒の方位差に起因す
るストリークスを見えにくくするには、ハニカムピット
が密に生成していることが好ましい。ハニカムピットの
占める割合は６０〜１００％であることが好ましく、と
くに８０〜１００％であることが好ましい。電気化学的
な粗面化に用いる交流電源波形は、サイン波、矩形波、
台形波、三角波などを用いることができるが、矩形波ま
たは台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。図１１
を参照してより具体的に説明すると、台形波において、
電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１ｍｓｅ
ｃが好ましく、とくに１〜１０ｍｓｅｃが好ましい。電
源回路のインピーダンスの影響のため、ｔｐが１未満で
あると電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要
となり、電源の設備コストが高くなる。１０ｍｓｅｃよ
り大きくなると、ある一定の電気量を加えるための時間
が長くかかり、電気化学的な粗面化に用いる設備の大型
化につながり、設備コストがかさむ。電気化学的な粗面
化に用いる交流の１サイクルの条件が、アルミニウム板
のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃとの比
（ｔｃ／ｔａ）が１〜２０、アルミニウム板がアノード
時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａとの比（Ｑｃ
／Ｑａ）が０．３〜２０、アノード反応時間ｔａが５〜
１０００ｍｓｅｃ、の範囲にあることが好ましい。特
に、（ｔｃ／ｔａ）は２．５〜１５であること、（Ｑｃ
／Ｑａ）は２．５〜１５であることがより好ましい。ア
ルミニウム板表面に均一なハニカムピットを生成させる
ためには、アルミニウム板表面の酸化皮膜の分布と水酸
化アルミニウムを主体とするスマットの生成され方のバ
ランスが重要になってくる。酸化皮膜の分布はアルミニ
ウム板のアノード反応のときのピッティング反応の開始
点の分布を意味する。スマットの生成のされ方は、一度
ピッティング反応が起こった部分に再度ピッティング反
応が起こることを阻止し、ハニカムピットを分散するう
えで重要な役割を担っている。スマットはアルミニウム
板がアノード反応の時も反応が起きている界面近傍のア
ルミニウムイオン濃度がリッチになり、水酸化アルミニ
ウムとなって析出する。また、アルミニウム板がカソー
ド反応の時に水素ガスを発生し、界面のｐＨがアルミニ
ウム析出領域となって析出する。特に、水酸化アルミニ
ウムはカソード反応の直前のアノード反応でピッティン
グが行われた部分に析出し易く、ピットにふたをするよ
うな形でスマットが生成するため、その部分には電流が
流れにくくなり、電流を集中させない役目をする。電気
化学的な粗面化が終了したアルミニウム板の表面には、
０．８ｇ／ｍ2 以上の水酸化アルミニウムを主体とする
スマットが生成されているとき、平均直径０．５〜３μ
ｍのハニカムピットが均一に分散している。（ｔｃ／ｔ
ａ）が１未満であると、アルミニウム板のアノード反応
で生成した酸化皮膜の溶解によるピッティング反応の開
始点が少なくなり、均一なハニカムピットが生成できな
くなる。（ｔｃ／ｔａ）が２０より大きいと、アルミニ
ウム板のアノード反応で生成した酸化皮膜が溶解されす
ぎ、ピッティング反応の開始点が多くなりすぎ、均一な
ハニカムピットが生成されず、表面積が増えなくなる。
（Ｑｃ／Ｑａ）が０．３未満であると、アルミニウム板
のアノード反応で生成した酸化皮膜の溶解によるピッテ
ィング反応の開始点が少なくなり、均一なハニカムピッ
トが生成できなくなる。（Ｑｃ／Ｑａ）が２０より大き
いと、アルミニウム板のアノード反応で生成した酸化皮
膜が溶解されすぎ、ピッティング反応の開始点が多くな
りすぎ、均一なハニカムピットが生成されず、表面積が
増えなくなる。電流密度は、台形波のピーク値で電流の
アノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃとも
に１０〜２００Ａ／ｄｍ2 が好ましい。（Ｉｃ／Ｉａ）
は、０．３〜２０の範囲にあることが好ましい。電気化
学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノ
ード反応にあずかる電気量の総和は１０〜１０００Ｃ／
ｄｍ2 が好ましく、１００〜６００Ｃ／ｄｍ2 が特に好
ましい。本発明の交流を用いた電気化学的な粗面化に用
いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など公知
の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平
５−１９５３００号公報に記載のようなラジアル型電解
槽がとくに好ましい。電解槽内を通過する電解液は、ア
ルミニウムウェブの進行とパラレルでもカウンターでも
よい。ひとつの電解槽には１個以上の交流電源が接続す
ることができる。[Electrochemical surface roughening treatment using alternating current]
The electrochemical surface-roughening treatment using alternating current in the present invention refers to a method of applying an alternating current between an aluminum plate and an electrode facing the aluminum plate in an electrolytic solution to electrochemically roughen the surface. As the electrolytic solution, those used for electrochemical surface roughening treatment using a known alternating current can be used, but it is advantageous to use an aqueous solution mainly containing nitric acid or an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid. . The temperature is preferably from 10 to 80C, more preferably from 40 to 60C. In electrochemical surface roughening in an aqueous solution mainly composed of nitric acid, the average diameter is 0.5 to
It is preferable that pits of 3 μm are generated at a rate of 1 × 10 5 to 6 × 10 6 / mm 2 . However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction concentrates and honeycomb pits exceeding 3 μm are also generated. In order to make it difficult to see the streaks caused by the difference in the orientation of crystal grains, it is preferable that honeycomb pits are densely formed. The proportion occupied by the honeycomb pits is preferably from 60 to 100%, particularly preferably from 80 to 100%. The AC power supply waveform used for electrochemical roughening is a sine wave, square wave,
Although a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like can be used, a rectangular wave or a trapezoidal wave is preferable, and a trapezoidal wave is particularly preferable. FIG.
More specifically, with reference to, in a trapezoidal wave,
The time tp from the time when the current reaches 0 to the peak is 1 ms.
c is preferable, and 1 to 10 msec is particularly preferable. Due to the influence of the impedance of the power supply circuit, if tp is less than 1, a large power supply voltage is required at the time of rising of the current waveform, and the equipment cost of the power supply increases. If it is longer than 10 msec, it takes a long time to apply a certain amount of electricity, which leads to an increase in the size of the equipment used for electrochemical surface roughening, and increases the equipment cost. The condition of one cycle of alternating current used for electrochemical surface roughening is that the ratio (tc / ta) of the anode reaction time ta to the cathode reaction time tc of the aluminum plate is 1 to 20, and the amount of electricity when the aluminum plate is the anode. The ratio of Qc to the quantity of electricity Qa at the anode (Qc
/ Qa) is 0.3 to 20, and the anode reaction time ta is 5 to 5.
It is preferably in the range of 1000 msec. In particular, (tc / ta) is 2.5 to 15, (Qc
/ Qa) is more preferably from 2.5 to 15. In order to form uniform honeycomb pits on the surface of the aluminum plate, it is important to balance the distribution of the oxide film on the surface of the aluminum plate and the generation of the smut mainly composed of aluminum hydroxide. The distribution of the oxide film means the distribution of the starting point of the pitting reaction at the time of the anodic reaction of the aluminum plate. The manner in which the smut is generated plays an important role in preventing the pitting reaction from occurring again in the portion where the pitting reaction has occurred once and dispersing the honeycomb pits. When the aluminum plate undergoes an anodic reaction, the smut becomes rich in the aluminum ion concentration near the interface where the reaction is occurring, and precipitates as aluminum hydroxide. Further, the aluminum plate generates hydrogen gas at the time of the cathode reaction, and the pH at the interface is deposited as an aluminum deposition region. In particular, aluminum hydroxide tends to precipitate in the pitted area of the anodic reaction immediately before the cathodic reaction, and smut is formed in such a way as to cover the pits. It serves to keep the current from being concentrated. On the surface of the aluminum plate that has been electrochemically roughened,
When a smut mainly composed of aluminum hydroxide of 0.8 g / m 2 or more is produced, the average diameter is 0.5 to 3 μm.
m honeycomb pits are uniformly dispersed. (Tc / t
If a) is less than 1, the starting point of the pitting reaction due to the dissolution of the oxide film generated by the anodic reaction of the aluminum plate is reduced, and uniform honeycomb pits cannot be generated. When (tc / ta) is larger than 20, the oxide film formed by the anodic reaction of the aluminum plate is too dissolved, the starting point of the pitting reaction becomes too large, uniform honeycomb pits are not formed, and the surface area does not increase. .
If (Qc / Qa) is less than 0.3, the starting point of the pitting reaction due to the dissolution of the oxide film generated by the anodic reaction of the aluminum plate is reduced, and uniform honeycomb pits cannot be generated. When (Qc / Qa) is larger than 20, the oxide film formed by the anodic reaction of the aluminum plate is too dissolved, the starting point of the pitting reaction becomes too large, uniform honeycomb pits are not formed, and the surface area does not increase. . The current density is preferably 10 to 200 A / dm 2 on both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current at the peak value of the trapezoidal wave. (Ic / Ia)
Is preferably in the range of 0.3 to 20. The total amount of electricity participating in the anodic reaction of the aluminum plate at the time when the electrochemical surface roughening is completed is 10 to 1000 C /
dm 2 is preferred, and 100 to 600 C / dm 2 is particularly preferred. As the electrolytic cell used for electrochemical surface roughening using alternating current of the present invention, an electrolytic cell used for a known surface treatment such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used. A radial electrolytic cell as described in the gazette is particularly preferred. The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel or counter to the progress of the aluminum web. One or more AC power supplies can be connected to one electrolytic cell.

【００４４】交流を用いた電気化学的な粗面化には、図
１２に示した装置を用いることができる。電解槽を２つ
以上用いるときには電解条件は同じでもよいし、異なっ
ていてもよい。図示されるように、アルミニウム板Ｗは
主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムロ
ーラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続す
る主極５３ａ，５３ｂにより電解処理される。電解液５
５は電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジア
ルドラムローラ５２と主極５３ａ，５３ｂとの間の電解
液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたア
ルミニウム板Ｗは、次いで補助陽極槽５７で電解処理さ
れる。この補助陽極槽５７には補助陽極５８がアルミニ
ウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極
５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流通するように
供給される。The apparatus shown in FIG. 12 can be used for electrochemical surface roughening using alternating current. When two or more electrolytic cells are used, the electrolytic conditions may be the same or different. As shown in the figure, the aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 immersed and disposed in a main electrolytic cell 50, and is subjected to electrolytic treatment by main electrodes 53a and 53b connected to an AC power supply 51 in a transport process. . Electrolyte 5
5 is supplied from an electrolyte supply port 54 to an electrolyte passage 57 between the radial drum roller 52 and the main poles 53a and 53b through a slit 56. The aluminum plate W treated in the main electrolytic cell 50 is then subjected to electrolytic treatment in an auxiliary anode cell 57. An auxiliary anode 58 is disposed in the auxiliary anode tank 57 so as to face the aluminum plate W, and the electrolytic solution 55 is supplied so as to flow through the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W.

【００４５】〔直流を用いた電気化学的な粗面化〕本発
明でいう直流を用いた電気化学的な粗面化処理とは、電
解液中でアルミニウム板とこれに対向する電極間に直流
電流を加え、電気化学的に粗面化する方法をいう。電解
液は、公知の直流を用いた電気化学的な粗面化処理に使
用するものを用いることができるが、前記硝酸を主体と
する水溶液または塩酸を主体とする水溶液を用いること
が有利である。温度は１０〜８０℃が好ましく、２５〜
５０℃がより好ましい。直流を用いた電気化学的な粗面
化に用いる処理装置は公知の直流を用いたものを使用す
ることが出来るが、特開平１ー１４１０９４号公報に記
載されているように一対以上の陽極と陰極を交互に並べ
た装置を用いることが好ましい。その他の公知の装置の
例としては特開平６−３２８８７６号、特開平８−６７
０７８号、特開昭６１−１９１１５号、特公昭５７−４
４７６０号各公報などに記載されている装置を挙げるこ
とができる。また、アルミニウム板に接触するコンダク
タロールと、これに対向する陰極との間に、直流電流を
加え、アルミニウム板を陽極にして電気化学的な粗面化
処理を行っても良い。電解処理が終了した後には、処理
液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる
液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。電
気化学的な粗面化に使用する直流は、リップル率が２０
％以下であることが好ましい。電流密度は１０〜２００
Ａ／ｄｍ2 が好ましく、アルミニウム板が陽極時の電気
量は１００〜１０００Ｃ／ｄｍ2 が好ましい。陽極はフ
ェライト、酸化イリジウム、白金、白金をチタン、ニオ
ブ、ジルコニウムなどのバルブ金属にクラッドまたはメ
ッキしたものなど公知の酸素発生用電極から選定して用
いることが出来る。陰極はカーボン、白金、チタン、ニ
オブ、ジルコニウム、ステンレスや燃料電池用陰極に用
いる電極から選定して用いることができる[Electrochemical surface-roughening using direct current] The electrochemical surface-roughening treatment using direct current as referred to in the present invention means that a direct current is applied between an aluminum plate and an electrode facing the same in an electrolytic solution. A method of applying an electric current to electrochemically roughen the surface. As the electrolytic solution, those used for the electrochemical surface roughening treatment using a known direct current can be used, but it is advantageous to use the aqueous solution mainly containing nitric acid or the aqueous solution mainly containing hydrochloric acid. . The temperature is preferably from 10 to 80 ° C, and from 25 to
50 ° C. is more preferred. As a processing apparatus used for electrochemical surface roughening using a direct current, a known apparatus using a direct current can be used. However, as described in JP-A-1-140994, a pair of anodes or more is used. It is preferable to use a device in which cathodes are alternately arranged. Examples of other known devices include JP-A-6-328876 and JP-A-8-67.
No. 078, JP-A-61-19115 and JP-B-57-4.
An apparatus described in each of the 4760 publications can be used. Alternatively, a direct current may be applied between the conductor roll in contact with the aluminum plate and the cathode facing the aluminum roll to perform electrochemical surface roughening treatment using the aluminum plate as the anode. After the completion of the electrolytic treatment, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying so as not to bring the treatment liquid into the next step. The direct current used for electrochemical roughening has a ripple rate of 20
% Is preferable. Current density is 10-200
Preferably A / dm 2, the aluminum plate electric quantity during anode is preferably not 100~1000C / dm 2. The anode can be selected from known oxygen generating electrodes such as ferrite, iridium oxide, platinum, and platinum clad or plated with a valve metal such as titanium, niobium, or zirconium. The cathode can be selected from carbon, platinum, titanium, niobium, zirconium, stainless steel, and an electrode used for a fuel cell cathode.

【００４６】〔陽極酸化処理〕アルミニウム板の表面の
耐磨耗性を高めるために、陽極酸化処理が施される。こ
の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸
化皮膜を形成するものならば、いかなるものでも使用す
ることができる。一般には硫酸、リン酸、シュウ酸、ク
ロム酸、またはそれらの混合液が用いられる。それらの
電解質の濃度は電解質の種類によって適宣決められる。
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によって変わるの
で一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１
〜８０ｗｔ％、液温は５〜７０℃、電流密度１〜６０Ａ
／ｄｍ2 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜３００
秒の範囲にあれば適当である。硫酸法は通常直流電流で
処理が行われるが、交流を用いることも可能である。陽
極酸化皮膜の量は，１〜１０ｇ／ｍ2 の範囲が適当であ
る。１ｇ／ｍ2 よりも少ないと耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付きやすくなって、同
時にキズの部分にインキが付着する、いわゆるキズ汚れ
が生じやすくなる。[Anodic Oxidation Treatment] Anodizing treatment is performed to increase the abrasion resistance of the surface of the aluminum plate. As the electrolyte used for the anodizing treatment, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixture thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined by the type of electrolyte.
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally.
~ 80wt%, liquid temperature 5 ~ 70 ° C, current density 1 ~ 60A
/ Dm 2 , voltage 1 to 100 V, electrolysis time 10 seconds to 300
It is appropriate if it is in the range of seconds. In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current, but an alternating current can also be used. The amount of the anodic oxide film is suitably in the range of 1 to 10 g / m 2 . When the amount is less than 1 g / m 2 , the printing durability is insufficient, and the non-image portion of the lithographic printing plate is easily damaged, and at the same time, the ink adheres to the scratched portion, that is, so-called scratch stain is easily generated. .

【００４７】〔親水化処理〕陽極酸化処理が施された
後、アルミニウム板の表面には必要により親水化処理が
施される。本発明に使用される親水化処理としては、米
国特許第２７１４０６６号、第３１８１４６１号、第３
２８０７３４号及び第３９０２７３４号各明細書に開示
されているようなアルカリ金属シリケート（例えば珪酸
ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、ア
ルミニウム板が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬される
か、また電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３
号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム、お
よび、米国特許第３２７６８６８号、第４１５３４６１
号および第４６８９２７２号各明細書に開示されている
ようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用い
られる。[Hydrophilic treatment] After the anodic oxidation treatment, the surface of the aluminum plate is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. Examples of the hydrophilic treatment used in the present invention include U.S. Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, and
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in each of 2807334 and 3902734. In this method, an aluminum plate is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. Other Japanese Patent Publication No. 36-22063
Potassium fluoride zirconate disclosed in US Pat. No. 3,276,868 and US Pat. No. 4,153,461.
And the method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in the specifications of Japanese Patent No. 4689272 and No. 4689272.

【００４８】〔封孔処理〕粗面化処理及び陽極酸化処理
後、封孔処理を施すことも好ましい。かかる封孔処理
は、熱水および無機塩または有機塩を含む熱水溶液への
浸漬ならびに水蒸気浴等によって行われる。[Sealing Treatment] After the surface roughening treatment and the anodic oxidation treatment, it is preferable to perform a sealing treatment. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath or the like.

【００４９】上記の如く本発明に係る粗面化処理と各種
処理とを組み合わせてのアルミニウム板の表面処理によ
り、下記の物性値の範囲にある優れた平版印刷版用アル
ミニウム支持体を製造することができる。 （１）ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定した値を用いて
定義した表面形状が下記の範囲にある。 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．１μｍとしたＡＦ
Ｍを用いて１００μｍ角の測定範囲で測定し、近似三点
法により求めた表面積をａ、上部投影面積をｂとしたと
き、ａ／ｂの値（比表面積）が１．１５〜１．５。 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が１．９μｍとしたＡＦ
Ｍを用いて２４０μｍ角の測定範囲で測定した平均表面
粗さが０．３５〜１．０μｍ。 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が１．９μｍとしたＡＦ
Ｍを用いて２４０μｍ角の測定範囲で測定した傾斜度が
３０度以上の割合が５〜４０％。 アルミニウム板の表面が粗面化によって起伏を有する
平版印刷版用支持体で、原子間力顕微鏡により、０．１
μｍ分解能で、５０μｍ角を計測した際の表面傾斜度分
布の傾斜度が４５度以上の割合が５％以上５０％以下で
あることを特徴とする平版印刷版用支持体。 （２）感光層を塗布する前のＪＩＳ Ｚ９７４１−１９
８３に規定の８５度光沢度が３０以下。 （３）走査型電子顕微鏡で、倍率７５０倍で観察したと
き、８０μｍの視野の中に、平均直径０．１〜３μｍの
ハニカムピットが占める面積の割合が３０〜１００％の
物性値をそれぞれ満足する。 （４）水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．１μｍまたは
１．９μｍとしたＡＦＭを用いて１００μｍ角または２
４０μｍ角の測定範囲で測定したボックスカウンティン
グ法、スケール変換法、カバー法、回転半径法、密度相
関関数法などで求めたフラクタル次元が２．１〜２．５
である。特に、交流又は直流を用いた電気化学的な粗面
化で生成したハニカムピットの密度が、走査型電子顕微
鏡で、倍率７５０倍で観察したとき、８０μｍの視野の
中に、平均直径０．１〜３μｍのハニカムピットがしめ
る面積の割合が６０〜１００％、更に好ましくは８０〜
１００％であると、結晶粒に起因するストリークや面質
ムラの発生を最小にすることができる。本発明により得
られる陽極酸化処理後の平版印刷版用アルミニウム支持
体は、光沢度の値が以下の範囲である。 ２０度光沢度：０．１〜２ ４５度光沢度：１〜１０ ６０度光沢度：１〜１０ ７５度光沢度：１〜１０ ８５度光沢度：５〜５０ 表面粗さは、 Ｒａ：０．３〜１μｍ Ｒｔ：１〜８μｍ Ｒｚ：１〜８μｍ Ｒ ：１０〜３０μｍ Ｒｐ：０．５〜５μｍ Ｓ ：１０〜１００μｍ Ｓｍ：２０〜１００μｍ 色度座標ｘ，ｙ、及び三刺激値のＹは、 Ｙ値：１０〜１００ ｘ値：０．１〜０．５ ｙ値：０．１〜０．５ 明度指数Ｌ* 、及びクロマティクネス指数ａ* 、ｂ
* は、 Ｌ* ：３５〜９０ ａ* ：−４〜＋４ ｂ* ：−４〜＋４ 色差を表わすデルタＥ* ａｂは、１枚のプレートの任意
の点を測定した時３以下である。As described above, an excellent aluminum support for a lithographic printing plate having the following physical property values is produced by surface treatment of an aluminum plate by combining the surface roughening treatment and various treatments according to the present invention. Can be. (1) The surface shape defined using the value measured by AFM (atomic force microscope) is in the following range. AF with a resolution of 0.1 μm in the horizontal (X, Y) direction
M is measured in a measuring range of 100 μm square using M, and when the surface area obtained by the approximate three-point method is a and the upper projected area is b, the value of a / b (specific surface area) is 1.15 to 1.5. . AF with a resolution of 1.9 μm in the horizontal (X, Y) direction
The average surface roughness measured in a measuring range of 240 μm square using M is 0.35 to 1.0 μm. AF with a resolution of 1.9 μm in the horizontal (X, Y) direction
The ratio of inclination of 30 degrees or more measured in a measuring range of 240 μm square using M is 5 to 40%. A lithographic printing plate support in which the surface of an aluminum plate has undulations due to surface roughening.
A support for a lithographic printing plate, characterized in that the ratio of the gradient of the surface gradient distribution at the time of measuring a 50 μm square at a μm resolution of 45 ° or more is 5% or more and 50% or less. (2) JIS Z9741-19 before coating the photosensitive layer
The 85 degree glossiness specified in 83 is 30 or less. (3) When observed with a scanning electron microscope at a magnification of 750, the ratio of the area occupied by honeycomb pits having an average diameter of 0.1 to 3 μm in a visual field of 80 μm satisfies the physical property values of 30 to 100%, respectively. I do. (4) 100 μm square or 2 μm using an AFM having a resolution of 0.1 μm or 1.9 μm in the horizontal (X, Y) direction
The fractal dimension obtained by a box counting method, a scale conversion method, a cover method, a radius of gyration method, a density correlation function method, or the like measured in a measurement range of 40 μm square is 2.1 to 2.5.
It is. In particular, when observed at a magnification of 750 times with a scanning electron microscope at a magnification of 750 times, the density of honeycomb pits formed by electrochemical surface roughening using AC or DC showed an average diameter of 0.1 μm in a visual field of 80 μm. The ratio of the area formed by the honeycomb pits having a size of 3 to 3 μm is 60 to 100%, and more preferably 80 to 100%.
When it is 100%, generation of streaks and unevenness in surface quality due to crystal grains can be minimized. The lithographic printing plate aluminum support obtained by the present invention after the anodizing treatment has a gloss value in the following range. 20 degree glossiness: 0.1 to 245 degree glossiness: 1 to 10 60 degree glossiness: 1 to 10 75 degree glossiness: 1 to 1085 degree glossiness: 5 to 50 The surface roughness is Ra: 0. 3 to 1 μm Rt: 1 to 8 μm Rz: 1 to 8 μm R: 10 to 30 μm Rp: 0.5 to 5 μm S: 10 to 100 μm Sm: 20 to 100 μm The chromaticity coordinates x, y and the tristimulus value Y are Y value: 10 to 100 x value: 0.1 to 0.5 y value: 0.1 to 0.5 Lightness index L * and chromaticness index a * , b
* : L * : 35 to 90 a * : -4 to +4 b * : -4 to +4 Delta E * ab representing a color difference is 3 or less when an arbitrary point on one plate is measured.

【００５０】このようにして得られた平版印刷版用支持
体の上には、従来より知られている感光層を設けて、感
光性平版印刷版を得ることができ、これを製版処理して
得た平版印刷版は優れた性能を有している。この感光層
中に用いられる感光性物質は特に限定されるものではな
く、通常、感光性平版印刷版に用いられているものを使
用できる。例えば特開平６−１３５１７５号公報に記載
のような各種のものを使用することが出来る。また、感
光層はネガ型でもポジ型でもよい。アルミニウム板は感
光層を塗布する前に必要に応じて有機下塗層（中間層）
が設けられる。この下塗層に設けられる有機下塗層とし
ては従来より知られているものを用いることができ、例
えば特開平６−１３５１７５号公報に記載のものを用い
ることができる。また、感光層の上には真空焼き付け時
のリスフィルムとの密着性を良好にするためにマット層
を設けるなどしてもよい。更に、現像時のアルミニウム
の溶け出しを防ぐ目的で裏面にバックコート層を設けて
もよい。A conventionally known photosensitive layer is provided on the lithographic printing plate support thus obtained, and a photosensitive lithographic printing plate can be obtained. The resulting lithographic printing plate has excellent performance. The photosensitive substance used in the photosensitive layer is not particularly limited, and those usually used for photosensitive lithographic printing plates can be used. For example, various types described in JP-A-6-135175 can be used. Further, the photosensitive layer may be either a negative type or a positive type. Aluminum undercoat layer (intermediate layer) if necessary before coating the photosensitive layer
Is provided. As the organic undercoat layer provided on the undercoat layer, those conventionally known can be used, and for example, those described in JP-A-6-135175 can be used. Further, a mat layer may be provided on the photosensitive layer in order to improve the adhesion to the lith film during vacuum printing. Further, a back coat layer may be provided on the back surface for the purpose of preventing the dissolution of aluminum during development.

【００５１】本発明は片面のみでなく両面を処理したＰ
Ｓ版の製造にも適応できる。更に、本発明は、平版印刷
版用アルミニウム支持体の粗面化のみならず、あらゆる
アルミニウム板の粗面化にも応用できる。According to the present invention, P is treated not only on one side but also on both sides.
It can also be applied to the production of S plates. Further, the present invention can be applied not only to the roughening of the aluminum support for lithographic printing plates, but also to the roughening of any aluminum plate.

【００５２】[0052]

【実施例】以下の実施例により、本発明をより明確にす
ることができる。但し、本発明はこれら実施例により何
ら制限されるものではない。 （実施例１）冷間圧延工程前の中間焼鈍処理を省略し、
酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチングでス
トリークスが発生しやすくなった厚さ０．２４ｍｍ、幅
１０３０ｍｍの、ＪＩＳ Ａ １０５０アルミニウム板
を用いて処理を行った。まず、比重１．１２の硅砂と水
の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面
に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラシに
より機械的な粗面化を行った。ナイロンブラシの材質は
６・１０ナイロンを使用し、毛長５０ｍｍ、毛の直径は
０．２９５ｍｍであった。ナイロンブラシはΦ３００ｍ
ｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛
した。この回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２
本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍで
あった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータ
の負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつけ
る前の負荷に対して７ｋｗプラスになるまで押さえつけ
た。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同
じであった。その後、表１の処理を行った。The present invention can be further clarified by the following examples. However, the present invention is not limited by these examples. (Example 1) The intermediate annealing treatment before the cold rolling step was omitted,
The treatment was performed using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.24 mm and a width of 1030 mm, in which streaks were easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. First, while a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 was supplied to the surface of an aluminum plate as a polishing slurry liquid, mechanical roughening was performed with a rotating roller-shaped nylon brush. The nylon brush was made of nylon 6/10, and had a bristle length of 50 mm and a bristle diameter of 0.295 mm. Nylon brush is Φ300m
A hole was made in a stainless steel tube having a diameter of m and the hair was planted so as to be dense. Three rotating brushes were used. 2 at the bottom of the brush
The distance between the book support rollers (Φ200 mm) was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus the load before pressing the brush roller against the aluminum plate. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. Then, the processing of Table 1 was performed.

【００５３】[0053]

【表１】 [Table 1]

【００５４】尚、表１中のエッチング方法は以下の通り
である。 ・リン酸水溶液中での電解研磨処理（実施例１−１）：
アルミニウム板を、リン酸６０ｗｔ％含有する水溶液６
０℃で、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 で７０秒間アルミニウ
ム板を陽極にして電解研磨処理を行った。その後、水洗
処理を行った。 ・硫酸水溶液中での電解研磨処理（実施例１−２）：ア
ルミニウム板を、硫酸５０ｗｔ％含有する水溶液６０℃
で、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 で３０秒間アルミニウム板
を陽極にして電解研磨処理を行った。その後、水洗処理
を行った。 ・ＮａＯＨ溶液中での化学的なエッチング処理（比較例
１）：アルミニウム板を、ＮａＯＨ２６ｗｔ％、アルミ
ニウムイオン６．５ｗｔ％含有する水溶液６０℃に３０
秒間浸漬してアルミニウム板のエッチング処理を行っ
た。その後、水洗処理を行った。 実施例１−１、実施例１−１並びに比較例１により処理
されたアルミニウム板の表面を走査型電子顕微鏡で観察
したところ、ブラシとスラリー液で生成した凹凸の尖っ
た部分が溶解され、滑らかな、５〜３０μｍピッチのう
ねりをもつ表面であった。The etching method in Table 1 is as follows. -Electropolishing treatment in phosphoric acid aqueous solution (Example 1-1):
An aqueous solution containing an aluminum plate containing 60 wt% of phosphoric acid 6
Electrolytic polishing was performed at 0 ° C. at a current density of 20 A / dm 2 for 70 seconds using the aluminum plate as an anode. Thereafter, a water washing treatment was performed. -Electropolishing treatment in sulfuric acid aqueous solution (Example 1-2): An aqueous solution containing an aluminum plate at 50 wt% sulfuric acid at 60 ° C.
Then, electrolytic polishing was performed at a current density of 20 A / dm 2 for 30 seconds using the aluminum plate as an anode. Thereafter, a water washing treatment was performed. Chemical etching treatment in a NaOH solution (Comparative Example 1): An aluminum plate was heated to an aqueous solution containing 26 wt% of NaOH and 6.5 wt% of aluminum ions at 60 ° C.
The aluminum plate was etched by dipping for 2 seconds. Thereafter, a water washing treatment was performed. When the surface of the aluminum plate treated in Example 1-1, Example 1-1, and Comparative Example 1 was observed with a scanning electron microscope, the sharp portions formed by the brush and the slurry liquid were dissolved and the surface was smooth. The surface had a swell of 5 to 30 μm pitch.

【００５５】（実施例２）冷間圧延工程前の中間焼鈍処
理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエ
ッチングでストリークスが発生しやすくなった厚さ０．
２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳ Ａ １０５０アル
ミニウム板を用いて、下記の順に連続的に処理を行っ
た。 （ａ）アルミニウム板を、硫酸５０ｗｔ％含有する水溶
液７０℃で、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 で４０秒間アルミ
ニウム板を陽極にして電解研磨処理を行った。その後、
スプレーによる水洗を行った。 （ｂ）交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処
理を行った。このときの電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液
（アルミニウムイオン０．５ｗｔ％、アンモニウムイオ
ン０．００７ｗｔ％含む）、液温４５℃であった。交流
電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時
間ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波
交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な
粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用
いた。電流密度は、電流のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、
電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２３
０Ｃ／ｄｍ2 であった。補助陽極には電源から流れる電
流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を
行った。 （ｃ）硫酸５０ｗｔ％含有する水溶液７０℃で、電流密
度４Ａ／ｄｍ2 で２．５秒間アルミニウム板を陽極にし
て電解研磨処理を行った。アルミニウム板を約０．１ｇ
／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化
を行った時に生成した水酸化アルミニウムを主体とする
スマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を
溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで
水洗した。 （ｄ）液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理を行った。その後、ス
プレーによる水洗を行った。 （ｅ）親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５ｗｔ
％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプレー
で水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップ
ローラで液切りを行った。 以上の如く処理されたアルミニウム板の表面を日本電子
製ＦＥＳＥＭで観察したところ、平均直径０．５〜３．
０μｍのハニカムピットが生成していた。また、このア
ルミニウム板の表面には結晶粒の方位差に起因するスト
リークスは発生していなかった。更に、このアルミニウ
ム板に中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚
２．０ｇ／ｍ2 のネガ型ＰＳ版を作成した。このＰＳ版
を用いて印刷したところ、良好な印刷版であった。(Example 2) The intermediate annealing treatment before the cold rolling step was omitted, and the thickness was increased to a value that streaks were easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution.
Using a JIS A 1050 aluminum plate having a width of 24 mm and a width of 1030 mm, the treatment was continuously performed in the following order. (A) The aluminum plate was subjected to electrolytic polishing at 70 ° C. in an aqueous solution containing 50 wt% of sulfuric acid at a current density of 20 A / dm 2 for 40 seconds using the aluminum plate as an anode. afterwards,
Washing with a spray was performed. (B) Electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an AC voltage. At this time, the electrolytic solution was a 1 wt% aqueous solution of nitric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions and 0.007 wt% of ammonium ions), and the liquid temperature was 45 ° C. The AC power supply waveform performs electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave AC with a time tp until the current value reaches a peak from zero to a peak of 1 msec, a duty ratio of 1: 1. Was. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density is 60 A / dm 2 at the peak value of the current,
The amount of electricity is 23 as the sum of the amount of electricity when the aluminum plate is the anode.
It was 0 C / dm 2 . 5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode. Thereafter, water washing by spraying was performed. (C) Electrolytic polishing was performed at 70 ° C. in an aqueous solution containing 50 wt% of sulfuric acid at a current density of 4 A / dm 2 for 2.5 seconds using an aluminum plate as an anode. About 0.1g of aluminum plate
/ M 2 dissolved, removal of a smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was performed using alternating current at the preceding stage, and dissolution of the edge portion of the generated pit, and edge portion Was smoothed. Then, it was washed with water by spraying. (D) An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C. using a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 and an anodized film amount of 2.4 g.
/ M 2 . Thereafter, water washing by spraying was performed. (E) Sodium silicate 2.5 wt% for the purpose of hydrophilic treatment
%, And immersed in an aqueous solution of 70 ° C. for 14 seconds, then washed with a spray and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. When the surface of the aluminum plate treated as described above was observed with a JEOL FESEM, the average diameter was 0.5 to 3.0.
Honeycomb pits of 0 μm were generated. In addition, no streaks due to the difference in crystal grain orientation occurred on the surface of the aluminum plate. Further, the intermediate layer and the photosensitive layer were applied to the aluminum plate and dried to prepare a negative PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 . When printing was performed using this PS plate, a good printing plate was obtained.

【００５６】（実施例３）実施例２において、（ｅ）の
珪酸ソーダ水溶液に浸漬しない以外は全く同じ条件で行
った。処理したアルミニウム板の表面には結晶粒の方位
差に起因するストリークスは発生していなかった。ま
た、このアルミニウム板に中間層とポジ型感光層を塗
布、乾燥してＰＳ版を作成した。このＰＳ版を印刷した
ところ、良好な印刷版であった。(Example 3) The procedure was performed in the same manner as in Example 2 except that (e) was not immersed in the aqueous sodium silicate solution. No streak caused by the difference in crystal grain orientation was generated on the surface of the treated aluminum plate. Further, an intermediate layer and a positive photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate.

【００５７】（実施例４）冷間圧延工程前の中間焼鈍処
理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエ
ッチングでストリークスが発生しやすくなった厚さ０．
２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳ Ａ １０５０アル
ミニウム板を用いて、下記の順に連続的に処理を行っ
た。 （ａ）比重１．１２の硅砂と水の懸濁液を研磨スラリー
液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転す
るローラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行
った。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用
し、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．２９５ｍｍであっ
た。ナイロンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒
に穴をあけて密になるように植毛した。この回転ブラシ
は３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２
００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラ
はブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシロー
ラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７
ｋｗプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向
はアルミニウム板の移動方向と同じであった。 （ｂ）アルミニウム板を、硫酸５０ｗｔ％含有する水溶
液７０℃で、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 で３０秒間アルミ
ニウム板を陽極にして電解研磨処理を行った。これによ
り、前段のブラシとスラリー液で生成した凹凸の尖った
部分を溶解し、滑らかな、５〜３０μｍピッチのうねり
をもつ表面とした。その後スプレーによる水洗を行っ
た。 （ｃ）交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処
理を行った。このときの電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液
（アルミニウムイオン０．５ｗｔ％、アンモニウムイオ
ン０．００７ｗｔ％含む）、液温４５℃であった。交流
電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時
間ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波
交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な
粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用
いた。電流密度は、電流のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、
電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２０
０Ｃ／ｄｍ2 であった。補助陽極には電源から流れる電
流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を
行った。 （ｄ）硫酸５０ｗｔ％含有する水溶液７０℃で、電流密
度１０Ａ／ｄｍ2 で１１秒間アルミニウム板を陽極にし
て電解研磨処理を行った。これにより、アルミニウム板
を約１ｇ／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的
な粗面化を行った時に生成した水酸化アルミニウムを主
体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッ
ジ部分が溶解し、エッジ部分が滑らかにした。その後、
スプレーで水洗した。 （ｅ）液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理を行った。その後、ス
プレーによる水洗を行った。 （ｆ）親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５ｗｔ
％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプレー
で水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップ
ローラで液切りを行った。 以上の如く処理されたアルミニウム板の表面を日本電子
製ＦＥＳＥＭで観察したところ、５〜３０μｍの大きな
うねりに、平均直径０．５〜３．０μｍのハニカムピッ
トが重畳していた。また、このアルミニウム板の表面に
は結晶粒の方位差に起因するストリークスは発生してい
なかった。更に、このアルミニウム板に中間層および感
光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のネガ型
ＰＳ版を作成した。このＰＳ版を用いて印刷したとこ
ろ、良好な印刷版であった。Example 4 The intermediate annealing treatment before the cold rolling step was omitted, and the thickness at which streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution was set to 0.
Using a JIS A 1050 aluminum plate having a width of 24 mm and a width of 1030 mm, the treatment was continuously performed in the following order. (A) While supplying a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 as a polishing slurry liquid to the surface of an aluminum plate, mechanical roughening was performed with a rotating roller-shaped nylon brush. The nylon brush was made of nylon 6/10, and had a bristle length of 50 mm and a bristle diameter of 0.295 mm. The nylon brush was planted so that holes were made in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm to make it dense. Three rotating brushes were used. Two support rollers under the brush (Φ2
00 mm) was 300 mm. The brush roller has a load of the drive motor for rotating the brush, which is 7% of the load before pressing the brush roller against the aluminum plate.
Pressed down to kw plus. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. (B) The aluminum plate was subjected to electrolytic polishing at 70 ° C. in an aqueous solution containing 50 wt% of sulfuric acid at a current density of 20 A / dm 2 for 30 seconds using the aluminum plate as an anode. As a result, the sharp portions of the irregularities generated by the brush and the slurry liquid at the previous stage were dissolved to obtain a smooth surface having a swell of 5 to 30 μm pitch. Thereafter, washing with water was performed by spraying. (C) Electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an AC voltage. At this time, the electrolytic solution was a 1 wt% aqueous solution of nitric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions and 0.007 wt% of ammonium ions), and the liquid temperature was 45 ° C. The AC power supply waveform performs electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave AC with a time tp until the current value reaches a peak from zero to a peak of 1 msec, a duty ratio of 1: 1. Was. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density is 60 A / dm 2 at the peak value of the current,
The quantity of electricity is the sum of the quantity of electricity when the aluminum plate is the anode, 20
It was 0 C / dm 2 . 5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode. Thereafter, water washing by spraying was performed. (D) At 70 ° C. in an aqueous solution containing 50% by weight of sulfuric acid, electrolytic polishing was performed at an electric current density of 10 A / dm 2 for 11 seconds using an aluminum plate as an anode. As a result, about 1 g / m 2 of the aluminum plate was dissolved, and a smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was performed using alternating current at the preceding stage was removed. The edge part melted and the edge part became smooth. afterwards,
Washed with spray. (E) An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C., a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 and an anodized film amount of 2.4 g.
/ M 2 . Thereafter, water washing by spraying was performed. (F) For the purpose of hydrophilic treatment, 2.5 wt% sodium silicate
%, And immersed in an aqueous solution of 70 ° C. for 14 seconds, then washed with a spray and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. When the surface of the aluminum plate treated as described above was observed with a JEOL FESEM, honeycomb pits having an average diameter of 0.5 to 3.0 μm were superimposed on large undulations of 5 to 30 μm. In addition, no streaks due to the difference in crystal grain orientation occurred on the surface of the aluminum plate. Further, the intermediate layer and the photosensitive layer were applied to the aluminum plate and dried to prepare a negative PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 . When printing was performed using this PS plate, a good printing plate was obtained.

【００５８】（実施例５）実施例４において、（ｆ）の
珪酸ソーダ水溶液に浸漬しない以外は全く同じ条件で行
った。処理したアルミニウム板の表面には結晶粒の方位
差に起因するストリークスは発生していなかった。ま
た、このアルミニウム板に中間層とポジ型感光層を塗
布、乾燥してＰＳ版を作成した。このＰＳ版を印刷した
ところ、良好な印刷版であった。Example 5 The same procedure as in Example 4 was carried out except that (f) the sodium silicate aqueous solution was not immersed. No streak caused by the difference in crystal grain orientation was generated on the surface of the treated aluminum plate. Further, an intermediate layer and a positive photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate.

【００５９】（実施例６）冷間圧延工程前の中間焼鈍処
理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエ
ッチングでストリークスが発生しやすくなった厚さ０．
２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳ Ａ １０５０アル
ミニウム板を用いて、下記の順に連続的に処理を行っ
た。 （ａ）アルミニウム板を、リン酸７０ｗｔ％含有する水
溶液７０℃で、電流密度４０Ａ／ｄｍ2 で２０秒間アル
ミニウム板を陽極にして電解研磨処理を行った。その
後、スプレーによる水洗を行った。 （ｂ）直流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処
理を行った。このときの電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液
（アルミニウムイオン０．５ｗｔ％、アンモニウムイオ
ン０．００７ｗｔ％含む）、液温４５℃であった。アノ
ードにはチタンを用いた。電解には、リップル率２０％
以下の直流電圧を用いた。電流密度５０Ａ／ｄｍ2 、電
気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で４００
Ｃ／ｄｍ2であった。また、陰極と陽極は一対であっ
た。その後、スプレーによる水洗を行った。 （ｃ）リン酸７０ｗｔ％含有する水溶液７０℃で、電流
密度４０Ａ／ｄｍ2 で１５秒間アルミニウム板を陽極に
して電解研磨処理を行った。その後スプレーで水洗し
た。 （ｄ）交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処
理を行った。このときの電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液
（アルミニウムイオン０．５ｗｔ％、アンモニウムイオ
ン０．００７ｗｔ％含む）、液温４５℃であった。交流
電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時
間ＴＰが１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波
交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な
粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用
いた。電流密度は、電流のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、
電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１５
０Ｃ／ｄｍ2 であった。補助陽極には電源から流れる電
流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を
行った。 （ｅ）リン酸７０ｗｔ％含有する水溶液７０℃で、電流
密度２０Ａ／ｄｍ2 で５秒間アルミニウム板を陽極にし
て電解研磨処理を行った。これにより、アルミニウム板
を約１ｇ／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的
な粗面化を行った時に生成した水酸化アルミニウムを主
体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッ
ジ部分が溶解し、エッジ部分が滑らかにした。その後ス
プレーで水洗した。 （ｆ）液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理を行った。その後、ス
プレーによる水洗を行った。 （ｇ）親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５ｗｔ
％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプレー
で水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップ
ローラで液切りを行った。 以上の如く処理されたアルミニウム板の表面を日本電子
製ＦＥＳＥＭで観察したところ、５〜２０μｍの大きな
うねりに、平均直径０．５〜３．０μｍのハニカムピッ
トが重畳していた。また、このアルミニウム板の表面に
は結晶粒の方位差に起因するストリークスは発生してい
なかった。更に、このアルミニウム板に中間層および感
光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のネガ型
ＰＳ版を作成した。このＰＳ版を用いて印刷したとこ
ろ、良好な印刷版であった。(Example 6) The intermediate annealing treatment before the cold rolling step was omitted, and the thickness at which streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution was set to 0.
Using a JIS A 1050 aluminum plate having a width of 24 mm and a width of 1030 mm, the treatment was continuously performed in the following order. (A) The aluminum plate was subjected to electrolytic polishing at 70 ° C. in an aqueous solution containing 70 wt% of phosphoric acid at a current density of 40 A / dm 2 for 20 seconds using the aluminum plate as an anode. Thereafter, water washing by spraying was performed. (B) Electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using a DC voltage. At this time, the electrolytic solution was a 1 wt% aqueous solution of nitric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions and 0.007 wt% of ammonium ions), and the liquid temperature was 45 ° C. Titanium was used for the anode. 20% ripple rate for electrolysis
The following DC voltage was used. The current density is 50 A / dm 2 , and the quantity of electricity is 400 in total of the quantity of electricity when the aluminum plate is the anode.
C / dm 2 . The cathode and the anode were a pair. Thereafter, water washing by spraying was performed. (C) Electrolytic polishing was performed at 70 ° C. in an aqueous solution containing 70% by weight of phosphoric acid at a current density of 40 A / dm 2 for 15 seconds using an aluminum plate as an anode. Then, it was washed with water by spraying. (D) Electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an AC voltage. At this time, the electrolytic solution was a 1 wt% aqueous solution of nitric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions and 0.007 wt% of ammonium ions), and the liquid temperature was 45 ° C. The AC power supply waveform is an electrochemical roughening process using a trapezoidal rectangular wave AC with a time TP until the current value reaches a peak from zero to a peak, a duty ratio of 1: 1, and a carbon electrode as a counter electrode. Was. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density is 60 A / dm 2 at the peak value of the current,
The quantity of electricity is 15 as the sum of the quantity of electricity when the aluminum plate is the anode.
It was 0 C / dm 2 . 5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode. Thereafter, water washing by spraying was performed. (E) At 70 ° C. in an aqueous solution containing 70 wt% of phosphoric acid, an electrolytic polishing treatment was performed at a current density of 20 A / dm 2 for 5 seconds using an aluminum plate as an anode. As a result, about 1 g / m 2 of the aluminum plate was dissolved, and a smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was performed using alternating current at the preceding stage was removed. The edge part melted and the edge part became smooth. Then, it was washed with water by spraying. (F) An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C. using a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 and an anodized film amount of 2.4 g.
/ M 2 . Thereafter, water washing by spraying was performed. (G) For the purpose of hydrophilic treatment, 2.5 wt% sodium silicate
%, And immersed in an aqueous solution of 70 ° C. for 14 seconds, then washed with a spray and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. Observation of the surface of the aluminum plate treated as described above with a JEOL FESEM revealed that honeycomb pits having an average diameter of 0.5 to 3.0 μm overlapped large undulations of 5 to 20 μm. In addition, no streaks due to the difference in crystal grain orientation occurred on the surface of the aluminum plate. Further, the intermediate layer and the photosensitive layer were applied to the aluminum plate and dried to prepare a negative PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 . When printing was performed using this PS plate, a good printing plate was obtained.

【００６０】（実施例７）実施例６において、（ｇ）の
珪酸ソーダ水溶液に浸漬しない以外は全く同じ条件で行
った。処理したアルミニウム板の表面には結晶粒の方位
差に起因するストリークスは発生していなかった。ま
た、このアルミニウム板に中間層とポジ型感光層を塗
布、乾燥してＰＳ版を作成した。このＰＳ版を印刷した
ところ、良好な印刷版であった。(Example 7) The same procedure as in Example 6 was carried out except that (g) the aqueous sodium silicate solution was not immersed. No streak caused by the difference in crystal grain orientation was generated on the surface of the treated aluminum plate. Further, an intermediate layer and a positive photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate.

【００６１】（実施例８）実施例６において、電解研磨
処理に用いるリン酸水溶液を５０ｗｔ％の硫酸水溶液と
した以外は実施例６と同様にアルミニウム板を処理し
た。処理したアルミニウム板の表面には結晶粒の方位差
に起因するストリークスは発生していなかった。Example 8 An aluminum plate was treated in the same manner as in Example 6, except that the phosphoric acid aqueous solution used in the electropolishing treatment was a 50 wt% aqueous sulfuric acid solution. No streak caused by the difference in crystal grain orientation was generated on the surface of the treated aluminum plate.

【００６２】〔実施例９〕ＤＣ鋳造法で中間焼鈍処理お
よび均熱処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中での
化学的なエッチング処理でストリークスが発生しやすく
なった厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、ＪＩＳ
Ａ １０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の処
理を行った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の水酸化アルミニウムと水との懸濁液を研
磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しなが
ら、回転するローラー状ナイロンブラシにより機械的な
粗面化を行った。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイ
ロンを使用し、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍ
であった。ナイロンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス
製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラ
シは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ
２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシロー
ラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシロ
ーラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して
６ｋｗプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方
向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。その
後、水洗した。アルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍ
ｉｎであった。 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、硫酸４０ｗｔ％含有する水溶液７０
℃で、電流密度５０Ａ／ｄｍ2 でアルミニウム板を陽極
にして電解研磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量
は５ｇ／ｍ2 であった。その後スプレーによる水洗を行
った。 （ｃ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、ＮａＯＨ５ｗｔ％、アルミニウムイ
オン０．５ｗｔ％含有する水溶液、３５℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は１ｇ／ｍ2 であった。その後、水洗処理を
行った。 （ｄ）デスマット処理 次に硫酸１０ｗｔ％含有する水溶液、４５℃に浸漬して
デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。 （ｅ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１０ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で直流電圧を用い、電流密
度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 にな
るように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによ
る水洗を行った。 このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が起因のス
トリークス、面質ムラは観察されなかった。また、この
アルミニウム板に中間層および感光層を塗布、乾燥し、
乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のポジ型ＰＳ版を作成した。こ
のＰＳ版を用いて印刷したところ、良好な印刷版であっ
た。Example 9 The intermediate casting process and the soaking process were omitted in the DC casting method, and a streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. JIS of 1030mm
The following processes were continuously performed using A1050 aluminum plate. (A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of aluminum hydroxide and water having a specific gravity of 1.12 to the surface of an aluminum plate as a polishing slurry liquid, a mechanical roughening treatment is performed by a rotating roller-shaped nylon brush. Surface treatment was performed. Nylon brush is made of 6/10 nylon, hair length 50mm, hair diameter 0.48mm
Met. The nylon brush was planted so that holes were made in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm to make it dense. Three rotating brushes were used. Two support rollers under the brush (Φ
200 mm) was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 6 kW plus the load before pressing the brush roller against the aluminum plate. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. Then, it was washed with water. The moving speed of the aluminum plate is 50m / m
was in. (B) Electropolishing in an acidic aqueous solution An aqueous solution containing an aluminum plate containing 40 wt% of sulfuric acid
Electrolytic polishing was performed at a temperature of 50 ° C. and a current density of 50 A / dm 2 using an aluminum plate as an anode. The dissolution amount of the aluminum plate was 5 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed by spraying. (C) Etching Treatment in Alkaline Aqueous Solution An aluminum plate was immersed in an aqueous solution containing 5 wt% of NaOH and 0.5 wt% of aluminum ions at 35 ° C. to perform an etching treatment on the aluminum plate. The dissolution amount of the aluminum plate was 1 g / m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (D) Desmutting treatment Next, a desmutting treatment was performed by immersing in an aqueous solution containing 10% by weight of sulfuric acid at 45 ° C. Thereafter, a water washing treatment was performed. (E) Anodizing treatment An aqueous solution of 10 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C. using a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 and an anodized film amount of 2.4 g / m 2. Anodizing treatment was performed so that Thereafter, water washing by spraying was performed. No streak or surface quality unevenness due to the crystal grain orientation was observed on the surface of this aluminum plate. The intermediate layer and the photosensitive layer are applied to the aluminum plate, dried,
A positive PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 was prepared. When printing was performed using this PS plate, a good printing plate was obtained.

【００６３】〔実施例１０〕ＤＣ鋳造法で中間焼鈍処理
および均熱処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中で
の化学的なエッチング処理でストリークスが発生しやす
くなった厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、ＪＩＳ
Ａ １０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の
処理を行った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、硫酸４０ｗｔ％含有する水溶液７０
℃で、電流密度５０A/dｍ2 でアルミニウム板を陽極に
して電解研磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量は
１０ｇ／ｍ2 であった。その後スプレーによる水洗を行
った。 （ｃ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、ＮａＯＨ５ｗｔ％、アルミニウムイ
オン０．５ｗｔ％含有する水溶液、４５℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は１ｇ／ｍ2 であった。その後、水洗処理を
行った。 （ｄ）デスマット処理 次に硝酸１ｗｔ％含有する水溶液、４５℃に浸漬してデ
スマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。 （ｅ）電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液（アル
ミニウムイオン０．５ｗｔ％、アンモニウムイオン０．
００７ｗｔ％含む）、液温５０℃であった。交流電源波
形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが
１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用
いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処
理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電
流密度は電流のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、電気量はア
ルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２００Ｃ／ｄｍ
2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を
分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。 （ｆ）酸性水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、硫酸４０ｗｔ％含有する水溶液７０
℃で、電流密度５０A/dｍ2 でアルミニウム板を陽極に
して電解研磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量は
０．８ｇ／ｍ2 であった。その後スプレーによる水洗を
行った。 （ｇ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、ＮａＯＨ５ｗｔ％、アルミニウムイ
オン０．５ｗｔ％含有する水溶液、３５℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は０．２ｇ／ｍ2 であった。 （ｈ）酸性水溶液中でのデスマット処理 その後、水洗処理を行った。次に硫酸２５ｗｔ％含有す
る水溶液、６０℃に浸漬してデスマット処理を行った。
その後、水洗処理を行った。 （ｉ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で直流電圧を用い、電流密
度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 にな
るように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによ
る水洗を行った。 このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が起因のス
トリークス、面質ムラは発生していなかった。また、こ
のアルミニウム板に中間層および感光層を塗布、乾燥
し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のポジ型ＰＳ版を作成し
た。このＰＳ版を用いて印刷したところ、良好な印刷版
であった。Example 10 The intermediate casting process and the soaking process were omitted in the DC casting method, and a streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. JIS of 1030mm
The following processes were continuously performed using A1050 aluminum plate. (A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 to the surface of an aluminum plate as a polishing slurry, mechanical surface roughening is performed by a rotating roller-like nylon brush. went.
The nylon brush was made of nylon 6/10, and had a bristle length of 50 mm and a bristle diameter of 0.48 mm. The nylon brush was planted so that holes were made in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm to make it dense. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) below the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 6 kW plus the load before pressing the brush roller against the aluminum plate. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. Then, it was washed with water. The moving speed of the aluminum plate was 50 m / min. (B) Electropolishing in an acidic aqueous solution An aqueous solution containing an aluminum plate containing 40 wt% of sulfuric acid
Electrolytic polishing was performed at a temperature of 50 ° C. and a current density of 50 A / dm 2 using an aluminum plate as an anode. The dissolution amount of the aluminum plate was 10 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed by spraying. (C) Etching Treatment in Alkaline Aqueous Solution The aluminum plate was immersed in an aqueous solution containing 5 wt% of NaOH and 0.5 wt% of aluminum ions at 45 ° C. to perform an etching treatment on the aluminum plate. The dissolution amount of the aluminum plate was 1 g / m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (D) Desmutting treatment Next, an aqueous solution containing 1 wt% of nitric acid was immersed in 45 ° C. to perform desmutting treatment. Thereafter, a water washing treatment was performed. (E) Electrochemical surface-roughening treatment Electrochemical surface-roughening treatment was performed continuously using an AC voltage. At this time, the electrolytic solution was a 1 wt% nitric acid aqueous solution (aluminum ion 0.5 wt%, ammonium ion 0.1 wt%).
007 wt%), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power supply waveform was subjected to an electrochemical surface roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave AC with a time TP until the current value reaches a peak from zero to a peak, a duty ratio of 1: 1, and a carbon electrode as a counter electrode. . Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density is 60 A / dm 2 at the peak value of the current, and the amount of electricity is 200 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate is the anode.
Was 2 . 5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode. Thereafter, water washing by spraying was performed. (F) Electropolishing treatment in acidic aqueous solution An aqueous solution containing an aluminum plate containing 40% by weight of sulfuric acid
Electrolytic polishing was performed at a temperature of 50 ° C. and a current density of 50 A / dm 2 using an aluminum plate as an anode. The dissolution amount of the aluminum plate was 0.8 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed by spraying. (G) Etching Treatment in Alkaline Aqueous Solution An aluminum plate was immersed in an aqueous solution containing 5 wt% of NaOH and 0.5 wt% of aluminum ions at 35 ° C. to perform an etching treatment on the aluminum plate. The dissolution amount of the aluminum plate was 0.2 g / m 2 . (H) Desmut treatment in acidic aqueous solution After that, a water washing treatment was performed. Next, it was immersed in an aqueous solution containing 25% by weight of sulfuric acid at 60 ° C. to perform desmut treatment.
Thereafter, a water washing treatment was performed. (I) Anodizing treatment An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C. using a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 , and an anodized film amount of 2.4 g / m 2. Anodizing treatment was performed so that Thereafter, water washing by spraying was performed. No streaks or uneven surface quality due to the orientation of the crystal grains occurred on the surface of the aluminum plate. Further, the intermediate layer and the photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a positive PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 . When printing was performed using this PS plate, a good printing plate was obtained.

【００６４】〔実施例１１〕実施例１０の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５
ｗｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプ
レーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニ
ップローラで液切りを行った。この処理したアルミニウ
ム板に中間層とネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を
作成した。このＰＳ版を印刷したところ良好な印刷版で
あった。このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が
起因のストリークス、面質ムラは発生していなかった。[Embodiment 11] For the purpose of hydrophilizing the substrate after the anodizing treatment of Embodiment 10, sodium silicate 2.5
It was immersed for 14 seconds in an aqueous solution of 70% by weight, then washed with water and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to the treated aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate. No streaks or uneven surface quality due to the orientation of the crystal grains occurred on the surface of the aluminum plate.

【００６５】〔実施例１２〕ＤＣ鋳造法で中間焼鈍処理
および均熱処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中で
の化学的なエッチング処理でストリークスが発生しやす
くなった厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、ＪＩＳ
Ａ １０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の
処理を行った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）アルカリ水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、水酸化ナトリウム９ｗｔ％、アルミ
ニウムを３ｗｔ％含有する水溶液で、電流密度２０Ａ／
ｄｍ2 でアルミニウム板を陽極にして連続直流を用いて
電解研磨処理を行った。アルカリ水溶液の液温は３５℃
であった。アルミニウム板の溶解量は１０ｇ／ｍ2 であ
った。アルミニウム板と電極間の平均流速は、８０ｃｍ
／秒であった。 （ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理 硫酸２５ｗｔ％、アルミニウムを０．５ｗｔ％を含有す
る水溶液６０℃で６０秒間デスマット処理を行った。 （ｄ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で直流電圧を用い、電流密
度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 にな
るように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによ
る水洗を行った。 このようにして処理したアルミニウム板の表面を目視に
より観察したところ、結晶粒の方位が起因のストリーク
ス、面質ムラは発生していなかった。また、このアルミ
ニウム板に中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜
厚２．０ｇ／ｍ 2 のポジ型ＰＳ版を作成した。このＰＳ
版を用いて印刷したところ、良好な印刷版であった。[Example 12] Intermediate annealing treatment by DC casting method
And omit soaking, in acid or alkali aqueous solution
Streak easily formed by chemical etching
JIS with thickness of 0.24mm and width of 1030mm
 The following are continuously performed using A1050 aluminum plate.
Processing was performed. (A) Mechanical surface roughening treatment A suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 is used as a polishing slurry liquid.
To the surface of the aluminum plate
The surface was mechanically roughened with a nylon brush.
Nylon brush is made of 6/10 nylon, bristle
The length was 50 mm and the hair diameter was 0.48 mm. Niro
The brush has a hole in a stainless steel cylinder of Φ300mm.
The hair was planted so as to be dense. Use three rotating brushes
Was. Of two support rollers (Φ200mm) under the brush
The distance was 300 mm. Brush roller turns the brush
The load of the driving motor to rotate the brush roller
6kW plus for the load before pressing down on the plate
Pressed down until it became. The direction of rotation of the brush is aluminum
It was the same as the moving direction of the rubber plate. Then, it was washed with water. A
The moving speed of the luminium plate was 50 m / min. (B) Electropolishing treatment in an aqueous alkaline solution.
Aqueous solution containing 3 wt% of lithium and current density of 20 A /
dmTwoUsing an aluminum plate as the anode and using continuous direct current
Electropolishing was performed. The temperature of the alkaline aqueous solution is 35 ° C
Met. Dissolution rate of aluminum plate is 10g / mTwoIn
Was. The average flow velocity between the aluminum plate and the electrode is 80 cm
/ Sec. (C) Desmut treatment in acidic aqueous solution Contains 25% by weight of sulfuric acid and 0.5% by weight of aluminum
Desmut treatment was performed at 60 ° C. for 60 seconds. (D) Anodizing treatment Sulfuric acid concentration 15 wt% aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C (aluminum
(Including 0.5 wt% of ions)
Degree 2A / dmTwoAnd the amount of anodic oxide film is 2.4 g / mTwoNana
Anodizing treatment was performed as follows. Then spray
Was washed with water. Visually inspect the surface of the aluminum plate treated in this way.
Observation revealed that streaks caused by crystal grain orientation
And surface quality unevenness did not occur. Also this aluminum
Apply and dry the intermediate layer and photosensitive layer on a nickel plate
2.0g / m thickness TwoA positive PS plate was prepared. This PS
When printing was performed using the plate, a good printing plate was obtained.

【００６６】〔実施例１３〕実施例１２の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５
ｗｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプ
レーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニ
ップローラで液切りを行った。この処理したアルミニウ
ム板に中間層とネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を
作成した。このＰＳ版を印刷したところ良好な印刷版で
あった。このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が
起因のストリークス、面質ムラは発生していなかった。Example 13 The substrate after the anodic oxidation treatment of Example 12 was treated with sodium silicate 2.5
It was immersed for 14 seconds in an aqueous solution of 70% by weight, then washed with water and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to the treated aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate. No streaks or uneven surface quality due to the orientation of the crystal grains occurred on the surface of the aluminum plate.

【００６７】〔実施例１４〕ＤＣ鋳造法で均熱処理およ
び中間焼鈍処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中で
の化学的なエッチング処理でストリークスが発生しやす
くなった厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、ＪＩＳ
Ａ １０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の
処理を行った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）アルカリ水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、水酸化ナトリウム１５ｗｔ％アルミ
ニウムを１ｗｔ％含有する水溶液３５℃で、電流密度４
０Ａ／ｄｍ2 で、アルミニウム板と電極間の平均流速が
２０ｃｍ／秒で、アルミニウム板を陽極にして電解研磨
処理を行った。アルミニウム板の溶解量は１０ｇ／ｍ2
であった。その後スプレーによる水洗を行った。 （ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理 次に硫酸２５ｗｔ％含有する水溶液、６０℃に６０秒間
浸漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を
行った。 （ｄ）電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。装置は図４に示したものを２つ用いた。このとき
の電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン
０．５ｗｔ％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含
む）、液温５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼ
ロからピークに達するまでの時間ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄ
ｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン
電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補
助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流の
ピーク値で６０A/dｍ2 、電気量はアルミニウム板が陽
極時の電気量の総和で２３０C/dｍ2 であった。補助陽
極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その
後、スプレーによる水洗を行った。 （ｅ）アルカリ水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、水酸化ナトリウム１５ｗｔ％、アル
ミニウムを１ｗｔ％含有する水溶液４５℃で、電流密度
４０Ａ／ｄｍ2 、アルミニウム板と電極間の平均流速が
２０ｃｍ／秒で、でアルミニウム板を陽極にして電解研
磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量は１ｇ／ｍ2
であった。その後スプレーによる水洗を行った。 （ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理 次に硫酸２５ｗｔ％含有する水溶液、６０℃に３０秒間
浸漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を
行った。 （ｇ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で直流電圧を用い、電流密
度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４g/ｍ 2 になる
ように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによる
水洗を行った。 このようにして処理したアルミニウム板の表面を目視に
より観察したところ、結晶粒の方位が起因のストリーク
ス、面質ムラは発生していなかった。また、このアルミ
ニウム板の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、
平均直径０．５〜２μｍのハニカムピットが均一かつ密
に生成していた。また、このアルミニウム板の平均表面
粗さは０．５μｍであった。このアルミニウム板に中間
層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/ｍ2 のポ
ジ型ＰＳ版を作成した。このＰＳ版を用いて印刷したと
ころ、良好な印刷版であった。[Example 14] The soaking treatment was performed by the DC casting method.
And intermediate annealing treatments are omitted.
Streak easily formed by chemical etching
JIS with thickness of 0.24mm and width of 1030mm
 The following are continuously performed using A1050 aluminum plate.
Processing was performed. (A) Mechanical surface roughening treatment A suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 is used as a polishing slurry liquid.
To the surface of the aluminum plate
The surface was mechanically roughened with a nylon brush.
Nylon brush is made of 6/10 nylon, bristle
The length was 50 mm and the hair diameter was 0.48 mm. Niro
The brush has a hole in a stainless steel cylinder of Φ300mm.
The hair was planted so as to be dense. Use three rotating brushes
Was. Of two support rollers (Φ200mm) under the brush
The distance was 300 mm. Brush roller turns the brush
The load of the driving motor to rotate the brush roller
6kW plus for the load before pressing down on the plate
Pressed down until it became. The direction of rotation of the brush is aluminum
It was the same as the moving direction of the rubber plate. Then, it was washed with water. A
The moving speed of the luminium plate was 50 m / min. (B) Electropolishing treatment in an alkaline aqueous solution
In an aqueous solution containing 1 wt% of aluminum at 35 ° C., the current density was 4
0A / dmTwoAnd the average flow velocity between the aluminum plate and the electrode is
Electropolishing at 20 cm / sec using aluminum plate as anode
Processing was performed. Dissolution rate of aluminum plate is 10g / mTwo
Met. Thereafter, washing with water was performed by spraying. (C) Desmut treatment in acidic aqueous solution Next, an aqueous solution containing 25% by weight of sulfuric acid at 60 ° C. for 60 seconds
It was immersed for desmutting. After that,
went. (D) Electrochemical surface roughening treatment Electrochemical surface roughening treatment is performed continuously using AC voltage.
Was. Two devices shown in FIG. 4 were used. At this time
Is an aqueous solution of 1 wt% nitric acid (aluminum ion
0.5wt%, containing 0.007wt% ammonium ion
E), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power supply waveform has a current value of zero.
The time tp from b to the peak is 1 msec, d
carbon ratio using trapezoidal rectangular wave alternating current
Electrochemical surface roughening treatment was performed using the electrode as a counter electrode. Supplement
Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density is
60A / dm at peak valueTwoThe quantity of electricity is positive on the aluminum plate
230C / dm in total of electricity at extreme timesTwoMet. Auxiliary sun
5% of the current flowing from the power supply was diverted to the pole. That
Thereafter, washing with water by spraying was performed. (E) Electropolishing treatment in alkaline aqueous solution
Current density at 45 ° C in an aqueous solution containing 1 wt% minium
40A / dmTwoThe average flow velocity between the aluminum plate and the electrode
At 20 cm / sec, the aluminum plate is used as an anode
Polishing was performed. Dissolution rate of aluminum plate is 1g / mTwo
Met. Thereafter, washing with water was performed by spraying. (F) Desmut treatment in acidic aqueous solution Next, an aqueous solution containing 25 wt% of sulfuric acid, at 60 ° C. for 30 seconds
It was immersed for desmutting. After that,
went. (G) Anodizing treatment Sulfuric acid concentration 15 wt% aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C (aluminum
(Including 0.5 wt% of ions)
Degree 2A / dmTwoAnd the amount of anodic oxide film is 2.4 g / m Twobecome
Anodizing treatment was performed as described above. Then by spray
Washing was performed. Visually inspect the surface of the aluminum plate treated in this way.
Observation revealed that streaks caused by crystal grain orientation
And surface quality unevenness did not occur. Also this aluminum
When observing the surface of the nickel plate with a scanning electron microscope,
Honeycomb pits with an average diameter of 0.5 to 2 μm are uniform and dense
Had been generated. Also, the average surface of this aluminum plate
The roughness was 0.5 μm. Intermediate to this aluminum plate
Apply layer and photosensitive layer, dry, dry film thickness 2.0g / mTwo No po
J-shaped PS plate was created. When printing using this PS plate
At this time, it was a good printing plate.

【００６８】〔実施例１５〕実施例１４の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５
ｗｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプ
レーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニ
ップローラで液切りを行った。この処理したアルミニウ
ム板に中間層とネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を
作成した。このＰＳ版を印刷したところ良好な印刷版で
あった。また、このアルミニウム板の表面には結晶粒の
方位が起因のストリークス、面質ムラは発生していなか
った。Example 15 The substrate after the anodic oxidation treatment of Example 14 was treated with sodium silicate 2.5
It was immersed for 14 seconds in an aqueous solution of 70% by weight, then washed with water and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to the treated aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate. In addition, no streak or surface quality unevenness due to the crystal grain orientation was generated on the surface of the aluminum plate.

【００６９】〔実施例１６〕ＤＣ鋳造法で均熱処理およ
び中間焼鈍処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中で
の化学的なエッチング処理でストリークスが発生しやす
くなった厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、ＪＩＳ
Ａ １０５０アルミニウム板を用いて連続的に処理を
行った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）アルカリ水溶液中での電解研磨処理 アルミニウム板を、水酸化ナトリウム１５ｗｔ％アルミ
ニウムを１ｗｔ％含有する水溶液３５℃で、電流密度４
０Ａ／ｄｍ2 で、アルミニウム板と電極間の平均流速が
２０ｃｍ／秒で、アルミニウム板を陽極にして電解研磨
処理を行った。アルミニウム板の溶解量は１０ｇ／ｍ2
であった。その後スプレーによる水洗を行った。 （ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理 次に硫酸２５ｗｔ％含有する水溶液、６０℃に６０秒間
浸漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を
行った。 （ｄ）電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。装置は図４に示したものを２つ用いた。このとき
の電解液は、硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン
０．５ｗｔ％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含
む）、液温６５℃であった。交流電源波形は電流値がゼ
ロからピークに達するまでの時間ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄ
ｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン
電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補
助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流の
ピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、電気量はアルミニウム板が
陽極時の電気量の総和で１５０Ｃ／ｄｍ2 であった。補
助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。そ
の後、スプレーによる水洗を行った。 （ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理 次に硫酸２５ｗｔ％含有する水溶液、６０℃に３０秒間
浸漬して（４）の工程で生成した水酸化アルミニウムを
主体とするスマットを除去するデスマット処理を行っ
た。その後、水洗処理を行った。 （ｆ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で直流電圧を用い、電流密
度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 にな
るように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによ
る水洗を行った。 このようにして処理したアルミニウム板の表面を目視に
より観察したところ、結晶粒の方位が起因のストリーク
ス、面質ムラは発生していなかった。また、このアルミ
ニウム板の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、
平均直径０．５μｍのハニカムピットが均一かつ密に生
成していた。また、このアルミニウム板の平均表面粗さ
は０．５μｍであった。このアルミニウム板に中間層お
よび感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 の
ポジ型ＰＳ版を作成した。このＰＳ版を用いて印刷した
ところ、良好な印刷版であった。Embodiment 16 The soaking process and the intermediate annealing process were omitted in the DC casting method, and the streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. JIS of 1030mm
The treatment was continuously performed using an A1050 aluminum plate. (A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 to the surface of an aluminum plate as a polishing slurry, mechanical surface roughening is performed by a rotating roller-like nylon brush. went.
The nylon brush was made of nylon 6/10, and had a bristle length of 50 mm and a bristle diameter of 0.48 mm. The nylon brush was planted so that holes were made in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm to make it dense. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) below the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 6 kW plus the load before pressing the brush roller against the aluminum plate. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. Then, it was washed with water. The moving speed of the aluminum plate was 50 m / min. (B) Electropolishing in an alkaline aqueous solution An aluminum plate was subjected to an aqueous solution containing 15% by weight of sodium hydroxide and 1% by weight of aluminum at 35 ° C and a current density of 4%.
Electropolishing was performed at 0 A / dm 2 , an average flow rate between the aluminum plate and the electrode of 20 cm / sec, and using the aluminum plate as an anode. Dissolution amount of aluminum plate is 10 g / m 2
Met. Thereafter, washing with water was performed by spraying. (C) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, a desmutting treatment was performed by immersing in an aqueous solution containing 25% by weight of sulfuric acid at 60 ° C for 60 seconds. Thereafter, a water washing treatment was performed. (D) Electrochemical surface-roughening treatment Electrochemical surface-roughening treatment was continuously performed using an AC voltage. Two devices shown in FIG. 4 were used. The electrolytic solution at this time was a 1 wt% aqueous solution of nitric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions and 0.007 wt% of ammonium ions), and the liquid temperature was 65 ° C. In the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches a peak from zero is 1 msec, d
Electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 60 A / dm 2 at the peak value of the current, and the amount of electricity was 150 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode. Thereafter, water washing by spraying was performed. (E) Desmut treatment in an acidic aqueous solution Next, a desmut treatment is performed in which an aqueous solution containing 25 wt% of sulfuric acid is immersed in 60 ° C. for 30 seconds to remove the smut mainly composed of aluminum hydroxide generated in the step (4). Was. Thereafter, a water washing treatment was performed. (F) Anodization treatment An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C. using a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 , and an anodized film amount of 2.4 g / m 2. Anodizing treatment was performed so that Thereafter, water washing by spraying was performed. When the surface of the aluminum plate treated in this manner was visually observed, no streak or surface quality unevenness due to the crystal grain orientation occurred. When the surface of this aluminum plate was observed with a scanning electron microscope,
Honeycomb pits having an average diameter of 0.5 μm were uniformly and densely formed. The average surface roughness of this aluminum plate was 0.5 μm. The intermediate layer and the photosensitive layer were applied to the aluminum plate and dried to prepare a positive PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 . When printing was performed using this PS plate, a good printing plate was obtained.

【００７０】〔実施例１７〕実施例１６の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で、珪酸ソーダ２．５
ｗｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプ
レーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニ
ップローラで液切りを行った。この処理したアルミニウ
ム板に中間層とネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を
作成した。このＰＳ版を印刷したところ良好な印刷版で
あった。また、このアルミニウム板の表面には結晶粒の
方位が起因のストリークス、面質ムラは発生していなか
った。Example 17 The substrate after the anodizing treatment of Example 16 was treated with sodium silicate 2.5
It was immersed for 14 seconds in an aqueous solution of 70% by weight, then washed with water and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to the treated aluminum plate and dried to prepare a PS plate. When this PS plate was printed, it was a good printing plate. In addition, no streak or surface quality unevenness due to the crystal grain orientation was generated on the surface of the aluminum plate.

【００７１】〔実施例１８〕アルミニウム板を、連続鋳
造法で中間焼鈍処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液
中での化学的なエッチング処理でストリーク、面質ムラ
が発生しやすくなったものとした以外は、実施例８と全
く同様に処理した。このようにして処理したアルミニウ
ム板の表面を目視により観察したところ、結晶粒の方位
が起因のストリークス、面質ムラは発生していなかっ
た。また、このアルミニウム板に中間層および感光層を
塗布、乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ 2 のポジ型ＰＳ版
を作成した。このＰＳ版を用いて印刷したところ、良好
な印刷版であったExample 18 An aluminum plate was continuously cast.
The intermediate annealing treatment is omitted in the manufacturing method, and acid or alkali aqueous solution
And uneven surface quality due to chemical etching process
Example 8 and Example 8 except that
The same treatment was performed. Aluminum treated in this way
The surface of the crystal plate was visually observed,
No streaks and uneven surface quality caused by
Was. Also, an intermediate layer and a photosensitive layer are formed on this aluminum plate.
Coating, drying, dry film thickness 2.0g / m TwoPositive PS version
It was created. When printing using this PS plate,
Printing plate

【００７２】〔実施例１９〕ＤＣ鋳造法で中間焼鈍処理
と均熱処理とを省略し、酸またはアルカリ水溶液中での
化学的なエッチングでストリークスが発生しやすくなっ
た厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳ Ａ １
０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の処理を行
った。 （ａ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、ＮａＯＨ２７ｗｔ％、アルミニウム
イオン６．５ｗｔ％含有する水溶液、７０℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は１０ｇ／ｍ2 であった。その後、水洗処
理を行った。 （ｂ）デスマット処理 次に硝酸１ｗｔ％含有する水溶液、４５℃に１０秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 （ｃ）硝酸水溶液中での電気化学的な粗面化処理 図１１の交流電圧と図１２の装置を２槽用いて連続的に
電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、
硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン０．５ｗｔ
％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含む）、液温
５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピー
クに達するまでの時間Ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比
１：１、６０Ｈｚ、台形の矩形波交流を用いて、カーボ
ン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。
補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流
のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、電気量はアルミニウム板
が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2 であった。
補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、スプレーによる水洗を行った。 （ｄ）アルカリ水溶液中でのアルミニウム板を陽極にし
た電解研磨 アルミニウム板を、ＮａＯＨ９ｗｔ％、アルミニウムイ
オン３ｗｔ％含有する水溶液、３５℃で、直流を用い
て、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 でアルミニウム板の電解研
磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量は０．３ｇ／
ｍ2 であった。その後、水洗処理を行った。 （ｅ）デスマット処理 その後、水洗処理を行った。次に、硫酸２５ｗｔ％含有
する水溶液、６０℃に浸漬してデスマット処理を行っ
た。その後、水洗処理を行った。 （ｆ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用い、電流
密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 に
なるように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーに
よる水洗を行った。 このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が起因のス
トリークス、面質ムラは発生していなかった。このアル
ミニウム板の表面をＳＥＭで観察したところ、塩酸電解
グレイン特有のピットが全面に均一に生成していた。こ
のアルミニウム板の平均表面粗さは約０．３５μｍであ
った。このアルミニウム板に中間層及び感光層を塗布、
乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のポジ型ＰＳ版を作成
した。このＰＳ版を用いて印刷したところ。良好な印刷
版であった。[Embodiment 19] In the DC casting method, the intermediate annealing treatment and the soaking treatment were omitted, and streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. JIS A1 of 1030mm
The following treatments were continuously performed using a 050 aluminum plate. (A) Etching Treatment in Alkaline Aqueous Solution An aluminum plate was immersed in an aqueous solution containing 27 wt% of NaOH and 6.5 wt% of aluminum ions at 70 ° C. to perform an etching treatment on the aluminum plate. The dissolution amount of the aluminum plate was 10 g / m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (B) Desmut treatment Next, an aqueous solution containing 1 wt% of nitric acid was immersed in 45 ° C for 10 seconds to perform desmut treatment. Thereafter, a water washing treatment was performed. (C) Electrochemical surface-roughening treatment in an aqueous nitric acid solution Electrochemical surface-roughening treatment was continuously performed using the AC voltage shown in FIG. 11 and two devices shown in FIG. The electrolyte at this time is
Nitric acid 1wt% aqueous solution (aluminum ion 0.5wt
% And ammonium ion 0.007 wt%), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power supply waveform is obtained by performing electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave AC with a time Tp of 1 msec for the current value to reach a peak, a duty ratio of 1: 1, 60 Hz, and a trapezoid. went.
Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 60 A / dm 2 at the peak value of the current, and the amount of electricity was 250 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode.
Thereafter, water washing by spraying was performed. (D) Electropolishing using an aluminum plate as an anode in an alkaline aqueous solution An aluminum plate was prepared by subjecting an aluminum plate to an aqueous solution containing 9% by weight of NaOH and 3% by weight of aluminum ions at 35 ° C. using a direct current at a current density of 20 A / dm 2 . Electropolishing was performed. The dissolution amount of the aluminum plate is 0.3 g /
m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (E) Desmut treatment After that, a water washing treatment was performed. Next, a desmut treatment was performed by immersion in an aqueous solution containing 25 wt% of sulfuric acid at 60 ° C. Thereafter, a water washing treatment was performed. (F) Anodizing treatment An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C., a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 , and an anodized film amount of 2.4 g / m 2. Anodizing treatment was performed to obtain 2 . Thereafter, water washing by spraying was performed. No streaks or uneven surface quality due to the orientation of the crystal grains occurred on the surface of the aluminum plate. When the surface of this aluminum plate was observed by SEM, pits specific to hydrochloric acid electrolytic grains were uniformly formed on the entire surface. The average surface roughness of this aluminum plate was about 0.35 μm. Apply the intermediate layer and photosensitive layer to this aluminum plate,
After drying, a positive PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 was prepared. After printing using this PS plate. It was a good printing plate.

【００７３】〔実施例２０〕実施例１９の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で珪酸ソーダ２．５ｗ
ｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプレ
ーで水洗し、乾燥した。各処理及び水洗の後にはニップ
ローラで液切を行った。このアルミニウム板に中間層と
ネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を作成した。この
ＰＳ版を用いて印刷したところ。良好な印刷版であっ
た。[Embodiment 20] The substrate after the anodic oxidation treatment of Embodiment 19 was subjected to sodium silicate 2.5 w
The sample was immersed in a 70% aqueous solution of t% for 14 seconds, then washed with a spray and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a PS plate. After printing using this PS plate. It was a good printing plate.

【００７４】〔実施例２１〕ＤＣ鋳造法で中間焼鈍処理
と均熱処理とを省略し、酸またはアルカリ水溶液中での
化学的なエッチングでストリークスが発生しやすくなっ
た厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳ Ａ １
０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の処理を行
った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、ＮａＯＨ２７ｗｔ％、アルミニウム
イオン６．５ｗｔ％含有する水溶液、７０℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は１０ｇ／ｍ2 であった。その後、水洗処
理を行った。 （ｃ）デスマット処理 次に硝酸１ｗｔ％含有する水溶液、４５℃に１０秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 （ｄ）硝酸水溶液中での電気化学的な粗面化処理 図１１の交流電圧と図１２の装置を２槽用いて連続的に
電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、
硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン０．５ｗｔ
％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含む）、液温
５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピー
クに達するまでの時間Ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比
１：１、６０Ｈｚ、台形の矩形波交流を用いて、カーボ
ン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。
補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流
のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、電気量はアルミニウム板
が陽極時の電気量の総和で２３０Ｃ／ｄｍ2 であった。
補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、スプレーによる水洗を行った。 （ｅ）アルカリ水溶液中でのアルミニウム板を陽極にし
た電解研磨 アルミニウム板を、ＮａＯＨ９ｗｔ％、アルミニウムイ
オン３ｗｔ％含有する水溶液、３５℃で、直流を用い
て、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 でアルミニウム板の電解研
磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量は１ｇ／ｍ2
であった。その後、水洗処理を行った。 （ｆ）デスマット処理 その後、水洗処理を行った。次に、硫酸２５ｗｔ％含有
する水溶液、６０℃に浸漬してデスマット処理を行っ
た。その後、水洗処理を行った。 （ｇ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用い、電流
密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 に
なるように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーに
よる水洗を行った。 このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が起因のス
トリークス、面質ムラは発生していなかった。このアル
ミニウム板の表面をＳＥＭで観察したところ、塩酸電解
グレイン特有のピットが全面に均一に生成していた。こ
のアルミニウム板の平均表面粗さは約０．３５μｍであ
った。このアルミニウム板に中間層及び感光層を塗布、
乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のポジ型ＰＳ版を作成
した。このＰＳ版を用いて印刷したところ。良好な印刷
版であった。[Example 21] The intermediate casting process and the soaking process were omitted in the DC casting method, and a streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. JIS A1 of 1030mm
The following treatments were continuously performed using a 050 aluminum plate. (A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 to the surface of an aluminum plate as a polishing slurry, mechanical surface roughening is performed by a rotating roller-like nylon brush. went.
The nylon brush was made of nylon 6/10, and had a bristle length of 50 mm and a bristle diameter of 0.48 mm. The nylon brush was planted so that holes were made in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm to make it dense. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) below the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 6 kW plus the load before pressing the brush roller against the aluminum plate. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. Then, it was washed with water. The moving speed of the aluminum plate was 50 m / min. (B) Etching Treatment in Alkaline Aqueous Solution The aluminum plate was immersed in an aqueous solution containing 27 wt% of NaOH and 6.5 wt% of aluminum ions at 70 ° C. to perform an etching treatment on the aluminum plate. The dissolution amount of the aluminum plate was 10 g / m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (C) Desmut treatment Next, an aqueous solution containing 1 wt% of nitric acid was immersed in 45 ° C for 10 seconds to perform desmut treatment. Thereafter, a water washing treatment was performed. (D) Electrochemical surface-roughening treatment in an aqueous nitric acid solution Electrochemical surface-roughening treatment was continuously performed using the AC voltage shown in FIG. 11 and two devices shown in FIG. The electrolyte at this time is
Nitric acid 1wt% aqueous solution (aluminum ion 0.5wt
% And ammonium ion 0.007 wt%), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power supply waveform is obtained by performing electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave AC with a time Tp of 1 msec for the current value to reach a peak, a duty ratio of 1: 1, 60 Hz, and a trapezoid. went.
Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 60 A / dm 2 at the peak value of the current, and the quantity of electricity was 230 C / dm 2 as the sum of the quantity of electricity when the aluminum plate was the anode.
5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode.
Thereafter, water washing by spraying was performed. (E) Electropolishing using an aluminum plate as an anode in an alkaline aqueous solution An aluminum plate was prepared by subjecting an aluminum plate to an aqueous solution containing 9 wt% of NaOH and 3 wt% of aluminum ions at 35 ° C. using a direct current at a current density of 20 A / dm 2 . Electropolishing was performed. Dissolution amount of aluminum plate is 1 g / m 2
Met. Thereafter, a water washing treatment was performed. (F) Desmut treatment After that, a water washing treatment was performed. Next, a desmut treatment was performed by immersion in an aqueous solution containing 25 wt% of sulfuric acid at 60 ° C. Thereafter, a water washing treatment was performed. (G) Anodizing treatment An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C., a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 , and an anodized film amount of 2.4 g / m 2. Anodizing treatment was performed to obtain 2 . Thereafter, water washing by spraying was performed. No streaks or uneven surface quality due to the orientation of the crystal grains occurred on the surface of the aluminum plate. When the surface of this aluminum plate was observed by SEM, pits specific to hydrochloric acid electrolytic grains were uniformly formed on the entire surface. The average surface roughness of this aluminum plate was about 0.35 μm. Apply the intermediate layer and photosensitive layer to this aluminum plate,
After drying, a positive PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 was prepared. After printing using this PS plate. It was a good printing plate.

【００７５】〔実施例２２〕実施例２１の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で珪酸ソーダ２．５ｗ
ｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプレ
ーで水洗し、乾燥した。各処理及び水洗の後にはニップ
ローラで液切を行った。このアルミニウム板に中間層と
ネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を作成した。この
ＰＳ版を用いて印刷したところ。良好な印刷版であっ
た。Example 22 The substrate after the anodic oxidation treatment of Example 21 was subjected to sodium silicate 2.5 w
The sample was immersed in a 70% aqueous solution of t% for 14 seconds, then washed with a spray and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a PS plate. After printing using this PS plate. It was a good printing plate.

【００７６】〔実施例２３〕ＤＣ鋳造法で中間焼鈍処理
と均熱処理とを省略し、酸またはアルカリ水溶液中での
化学的なエッチングでストリークスが発生しやすくなっ
た厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳ Ａ １
０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の処理を行
った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、ＮａＯＨ２７ｗｔ％、アルミニウム
イオン６．５ｗｔ％含有する水溶液、７０℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は１０ｇ／ｍ2 であった。その後、水洗処
理を行った。 （ｃ）デスマット処理 次に硝酸１ｗｔ％含有する水溶液、４５℃に１０秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 （ｄ）硝酸水溶液中での電気化学的な粗面化処理 図１１の交流電圧と図１２の装置を２槽用いて連続的に
電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、
硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン０．５ｗｔ
％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含む）、液温
８０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピー
クに達するまでの時間Ｔｐが１ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比
１：１、６０Ｈｚ、台形の矩形波交流を用いて、カーボ
ン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。
補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流
のピーク値で６０Ａ／ｄｍ2 、電気量はアルミニウム板
が陽極時の電気量の総和で１３０Ｃ／ｄｍ2 であった。
補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、スプレーによる水洗を行った。 （ｅ）アルカリ水溶液中でのアルミニウム板を陽極にし
た電解研磨 アルミニウム板を、ＮａＯＨ９ｗｔ％、アルミニウムイ
オン３ｗｔ％含有する水溶液、３５℃で、直流を用い
て、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 でアルミニウム板の電解研
磨処理を行った。アルミニウム板の溶解量は０．３ｇ／
ｍ2 であった。その後、水洗処理を行った。 （ｆ）デスマット処理 その後、水洗処理を行った。次に、硫酸２５ｗｔ％含有
する水溶液、６０℃に浸漬してデスマット処理を行っ
た。その後、水洗処理を行った。 （ｇ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１５ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で、直流電圧を用い、電流
密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ2 に
なるように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーに
よる水洗を行った。 このアルミニウム板の表面には結晶粒の方位が起因のス
トリークス、面質ムラは発生していなかった。このアル
ミニウム板の表面をＳＥＭで観察したところ、塩酸電解
グレイン特有のピットが全面に均一に生成していた。こ
のアルミニウム板の平均表面粗さは約０．３５μｍであ
った。このアルミニウム板に中間層及び感光層を塗布、
乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ2 のポジ型ＰＳ版を作成
した。このＰＳ版を用いて印刷したところ。良好な印刷
版であった。Example 23 In the DC casting method, the intermediate annealing process and the soaking process were omitted, and streak was easily generated by chemical etching in an acid or alkali aqueous solution. JIS A1 of 1030mm
The following treatments were continuously performed using a 050 aluminum plate. (A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 to the surface of an aluminum plate as a polishing slurry, mechanical surface roughening is performed by a rotating roller-like nylon brush. went.
The nylon brush was made of nylon 6/10, and had a bristle length of 50 mm and a bristle diameter of 0.48 mm. The nylon brush was planted so that holes were made in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm to make it dense. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) below the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 6 kW plus the load before pressing the brush roller against the aluminum plate. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum plate. Then, it was washed with water. The moving speed of the aluminum plate was 50 m / min. (B) Etching Treatment in Alkaline Aqueous Solution The aluminum plate was immersed in an aqueous solution containing 27 wt% of NaOH and 6.5 wt% of aluminum ions at 70 ° C. to perform an etching treatment on the aluminum plate. The dissolution amount of the aluminum plate was 10 g / m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (C) Desmut treatment Next, an aqueous solution containing 1 wt% of nitric acid was immersed in 45 ° C for 10 seconds to perform desmut treatment. Thereafter, a water washing treatment was performed. (D) Electrochemical surface-roughening treatment in an aqueous nitric acid solution Electrochemical surface-roughening treatment was continuously performed using the AC voltage shown in FIG. 11 and two devices shown in FIG. The electrolyte at this time is
Nitric acid 1wt% aqueous solution (aluminum ion 0.5wt
%, Ammonium ion 0.007 wt%), and the liquid temperature was 80 ° C. The AC power supply waveform is obtained by performing electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave AC with a time Tp of 1 msec for the current value to reach a peak, a duty ratio of 1: 1, 60 Hz, and a trapezoid. went.
Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 60 A / dm 2 at the peak value of the current, and the amount of electricity was 130 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was an anode.
5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode.
Thereafter, water washing by spraying was performed. (E) Electropolishing using an aluminum plate as an anode in an alkaline aqueous solution An aluminum plate was prepared by subjecting an aluminum plate to an aqueous solution containing 9 wt% of NaOH and 3 wt% of aluminum ions at 35 ° C. using a direct current at a current density of 20 A / dm 2 . Electropolishing was performed. The dissolution amount of the aluminum plate is 0.3 g /
m 2 . Thereafter, a water washing treatment was performed. (F) Desmut treatment After that, a water washing treatment was performed. Next, a desmut treatment was performed by immersion in an aqueous solution containing 25 wt% of sulfuric acid at 60 ° C. Thereafter, a water washing treatment was performed. (G) Anodizing treatment An aqueous solution of 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 wt% of aluminum ions) at a liquid temperature of 35 ° C., a DC voltage, a current density of 2 A / dm 2 , and an anodized film amount of 2.4 g / m 2. Anodizing treatment was performed to obtain 2 . Thereafter, water washing by spraying was performed. No streaks or uneven surface quality due to the orientation of the crystal grains occurred on the surface of the aluminum plate. When the surface of this aluminum plate was observed by SEM, pits specific to hydrochloric acid electrolytic grains were uniformly formed on the entire surface. The average surface roughness of this aluminum plate was about 0.35 μm. Apply the intermediate layer and photosensitive layer to this aluminum plate,
After drying, a positive PS plate having a dry film thickness of 2.0 g / m 2 was prepared. After printing using this PS plate. It was a good printing plate.

【００７７】〔実施例２４〕実施例２３の陽極酸化処理
後の基板に、親水化処理する目的で珪酸ソーダ２．５ｗ
ｔ％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、その後スプレ
ーで水洗し、乾燥した。各処理及び水洗の後にはニップ
ローラで液切を行った。このアルミニウム板に中間層と
ネガ型感光層を塗布、乾燥してＰＳ版を作成した。この
ＰＳ版を用いて印刷したところ。良好な印刷版であっ
た。Example 24 The substrate after the anodizing treatment of Example 23 was treated with sodium silicate 2.5 w
The sample was immersed in a 70% aqueous solution of t% for 14 seconds, then washed with a spray and dried. After each treatment and washing with water, the liquid was drained with a nip roller. An intermediate layer and a negative photosensitive layer were applied to this aluminum plate and dried to prepare a PS plate. After printing using this PS plate. It was a good printing plate.

【００７８】〔比較例２〕ＤＣ鋳造法で均熱処理および
中間焼鈍処理を省略し、酸またはアルカリ水溶液中での
化学的なエッチング処理でストリークスが発生しやすく
なった厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍの、ＪＩＳ
Ａ １０５０アルミニウム板を用いて連続的に以下の処
理を行った。 （ａ）機械的な粗面化処理 比重１．１２の珪砂と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛
長５０ｍｍ、毛の直径は０．４８ｍｍであった。ナイロ
ンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用し
た。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の
距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して６ｋｗプラスに
なるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウ
ム板の移動方向と同じであった。その後、水洗した。ア
ルミニウム板の移動速度は５０ｍ／ｍｉｎであった。 （ｂ）アルカリ水溶液中での化学的エッチング処理 次にＮａＯＨ濃度９ｗｔ％、アルミニウムを３ｗｔ％含
有する水溶液で、アルミニウム板を８ｇ／ｍ2 溶解する
処理を行った。その後、水洗処理を行った。 （ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理 硫酸１０ｗｔ％、アルミニウムを０．５ｗｔ％を含有す
る水溶液でデスマット処理を行った。 （ｄ）陽極酸化処理 液温３５℃の硫酸濃度１０ｗｔ％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５ｗｔ％含む）で直流電圧を用い、電流密
度２／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ／ｍ 2 になる
ように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによる
水洗を行った。このようにして処理したアルミニウム板
の表面を目視により観察したところ、結晶粒の方位が起
因のストリークス、面質ムラは劣っていた。[Comparative Example 2]
Omit the intermediate annealing treatment, and
Streak is easily generated by chemical etching
JIS with a thickness of 0.24 mm and a width of 1030 mm
A The following processes were continuously performed using an A1050 aluminum plate.
Was done. (A) Mechanical surface roughening treatment A suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 is used as a polishing slurry liquid.
To the surface of the aluminum plate
The surface was mechanically roughened with a nylon brush.
Nylon brush is made of 6/10 nylon, bristle
The length was 50 mm and the hair diameter was 0.48 mm. Niro
The brush has a hole in a stainless steel cylinder of Φ300mm.
The hair was planted so as to be dense. Use three rotating brushes
Was. Of two support rollers (Φ200mm) under the brush
The distance was 300 mm. Brush roller turns the brush
The load of the driving motor to rotate the brush roller
6kW plus for the load before pressing down on the plate
Pressed down until it became. The direction of rotation of the brush is aluminum
It was the same as the moving direction of the rubber plate. Then, it was washed with water. A
The moving speed of the luminium plate was 50 m / min. (B) Chemical etching treatment in alkaline aqueous solution Next, NaOH concentration 9 wt%, aluminum 3 wt%
8 g / m of aluminum plateTwoDissolve
Processing was performed. Thereafter, a water washing treatment was performed. (C) Desmut treatment in acidic aqueous solution Contains 10% by weight of sulfuric acid and 0.5% by weight of aluminum
Desmut treatment was performed with an aqueous solution. (D) Anodizing treatment 10% by weight sulfuric acid aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C (aluminum
(Including 0.5 wt% of ions)
Degree 2 / dmTwoAnd the amount of anodic oxide film is 2.4 g / m Twobecome
Anodizing treatment was performed as described above. Then by spray
Washing was performed. Aluminum plate treated in this way
When the surface of the crystal was visually observed, the orientation of the crystal grains
The resulting streaks and surface unevenness were inferior.

【００７９】[0079]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
アルミニウム板の結晶粒の方位差に起因する処理ムラを
発生することなく、アルミニウム板に均一な粗面化処理
を施すことが可能となり、安価なアルミニウム板でも平
版印刷版用アルミニウム支持体として使用することがで
きる。また、アルミ溶解量は通電量でコントロールでき
るためコンピュ−ターを使った生産管理システムで管理
しやすい。さらに電解研磨処理に用いる酸またはアルカ
リ水溶液の濃度および温度は、化学的なエッチングの液
に比べて低く設定することが可能なため、調整や管理が
しやすい利点がある。As described above, according to the present invention,
An aluminum plate can be subjected to a uniform surface roughening process without causing processing unevenness due to a difference in crystal grain orientation of the aluminum plate. Even an inexpensive aluminum plate can be used as an aluminum support for a lithographic printing plate. be able to. Also, since the amount of aluminum dissolution can be controlled by the amount of electricity, it can be easily managed by a production management system using a computer. Furthermore, since the concentration and temperature of the aqueous acid or alkali solution used for the electropolishing treatment can be set lower than those of the chemical etching solution, there is an advantage that adjustment and management are easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明に係る実施形態２の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 1 is a schematic view showing a part of a process according to a second embodiment of the present invention.

【図２】本発明に係る実施形態２の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 2 is a schematic view illustrating a part of a process according to a second embodiment of the present invention.

【図３】本発明に係る実施形態２の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 3 is a schematic view illustrating a part of a process according to a second embodiment of the present invention.

【図４】本発明に係る実施形態３の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 4 is a schematic view illustrating a part of a process according to a third embodiment of the present invention.

【図５】本発明に係る実施形態３の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 5 is a schematic view showing a part of the process of Embodiment 3 according to the present invention.

【図６】本発明に係る実施形態３の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 6 is a schematic view showing a part of the process of Embodiment 3 according to the present invention.

【図７】本発明に係る実施形態３の工程の一部を示す模
式図である。FIG. 7 is a schematic view showing a part of the process of Embodiment 3 according to the present invention.

【図８】本発明において電解研磨処理に使用する電解研
磨処理装置の一例を示す概略図である。FIG. 8 is a schematic view showing an example of an electropolishing apparatus used for electropolishing in the present invention.

【図９】本発明において電解研磨処理に使用する直流電
流の一例を示す波形図である。FIG. 9 is a waveform chart showing an example of a direct current used for an electropolishing process in the present invention.

【図１０】電解研磨処理に使用する直流電流の他の例を
示す波形図である。FIG. 10 is a waveform diagram showing another example of the direct current used for the electropolishing process.

【図１１】本発明において交流を用いた電気化学的な粗
面化処理に用いる交流波形の一例を示す波形図である。FIG. 11 is a waveform chart showing an example of an AC waveform used for electrochemical surface roughening processing using AC in the present invention.

【図１２】本発明において交流を用いた電気化学的な粗
面化処理を行うための装置を示す概略図である。FIG. 12 is a schematic view showing an apparatus for performing electrochemical surface roughening treatment using alternating current in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１０ 給電槽 １１，５５ 電解液 １２ 陽極 １３，２４ 給液ノズル １５．２６ 廃液口 ２０ 電解研磨槽 ２１ 陰極 ２７ 直流電源 ５０ 主電解槽 ５１ 交流電源 ５２ ラジアルドラムローラ ５３ａ，５３ｂ 主極 ５４ 電解液供給口 Ｗ アルミニウム板 ｔａ アノード反応時間 ｔｃ カソード反応時間 Ｉａ アノードサイクル側電流 Ｉｃ カソードサイクル側電流 ｔｐ 電流が０からピークに達するまでの時間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Power supply tank 11, 55 Electrolyte 12 Anode 13, 24 Liquid supply nozzle 15.26 Waste liquid port 20 Electrolytic polishing tank 21 Cathode 27 DC power supply 50 Main electrolytic tank 51 AC power supply 52 Radial drum roller 53a, 53b Main electrode 54 Electrolyte supply Mouth W Aluminum plate ta Anode reaction time tc Cathode reaction time Ia Anode cycle side current Ic Cathode cycle side current tp Time from when current reaches 0 to peak

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２５Ｄ 11/16 ３０１ Ｃ２５Ｄ 11/16 ３０１ Ｃ２５Ｆ 3/20 Ｃ２５Ｆ 3/20 (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 C25F 3/20 C25F 3/20 (72) Inventor Akio Uesugi Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture 4000 address Inside Fujisha Shin Film Co., Ltd.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 アルミニウム板を機械的な粗面化の後
で、かつ、電気化学的な粗面化の前に酸性水溶液中での
電解研磨処理を行うことを特徴とするアルミニウム板の
粗面化方法。1. A roughened surface of an aluminum plate, which is subjected to an electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution after mechanically roughening the aluminum plate and before electrochemically roughening the aluminum plate. Method. 【請求項２】 アルミニウム板を順に （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｃ）酸性水溶液中で、直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 （ｄ）酸またはアルカリ水溶液中でのエッチング処理、
または、酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｅ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。2. An aluminum plate is sequentially subjected to (a) mechanical surface roughening treatment, (b) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, and (c) electrochemical rough surface treatment using a direct current or an alternating current in an acidic aqueous solution. (D) etching treatment in an acid or alkali aqueous solution,
Alternatively, a method for surface roughening an aluminum plate, comprising performing an electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, and (e) anodizing treatment. 【請求項３】 アルミニウム板を順に （ａ）酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｂ）硝酸を主体とする水溶液中で直流を用いた電気化
学的な粗面化処理 （ｃ）酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｄ）硝酸を主体とする溶液中で、直流または交流を用
いた電気化学的な粗面化処理 （ｅ）酸またはアルカリ水溶液中でのエッチング処理、
または、酸性水溶液中での電解研磨処理 （ｆ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。3. An aluminum plate is sequentially subjected to (a) electrolytic polishing treatment in an acidic aqueous solution, (b) electrochemical surface-roughening treatment using a direct current in an aqueous solution mainly containing nitric acid, and (c) in an acidic aqueous solution. (D) electrochemical surface roughening treatment using DC or AC in a solution mainly composed of nitric acid; (e) etching treatment in an acid or alkali aqueous solution;
Alternatively, a method of surface roughening an aluminum plate, comprising performing (f) anodizing treatment in an acidic aqueous solution. 【請求項４】 酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウ
ム板を陽極にして処理する電解研磨工程を含むことを特
徴とする平版印刷版用アルミニウム板の粗面化方法。4. A method for roughening an aluminum plate for a lithographic printing plate, comprising an electrolytic polishing step of treating an aluminum plate as an anode in an aqueous acid or alkali solution. 【請求項５】 機械的な粗面化処理、電気化学的な粗面
化処理、化学的なエッチング処理、酸性水溶液中でのデ
スマット処理、陽極酸化処理、親水化処理の中の１つ以
上の処理工程と、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニ
ウム板を陽極にして処理する電解研磨工程を組み合わせ
ることを特徴とする請求項４に記載のアルミニウム板の
粗面化方法。5. One or more of mechanical surface roughening, electrochemical surface roughening, chemical etching, desmutting in an acidic aqueous solution, anodizing, and hydrophilizing. The method for roughening an aluminum plate according to claim 4, wherein the treatment step is combined with an electrolytic polishing step of treating the aluminum plate as an anode in an acid or alkali aqueous solution. 【請求項６】 アルミニウム板を順に （ａ）機械的な粗面化処理 （ｂ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理 （ｃ）酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学
的な租面化処理 （ｄ）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理 （ｅ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。6. An aluminum plate is sequentially subjected to (a) mechanical roughening treatment, (b) chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, and (c) electrochemical treatment using a direct current or an alternating current in an acidic aqueous solution. (D) electrolytic polishing using an aluminum plate as an anode in an acid or alkali aqueous solution; and (e) anodizing treatment. 【請求項７】 アルミニウム板を順に （ａ）酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理 （ｂ）酸性水溶液中で直流または交流を用いた電気化学
的な租面化処理 （ｃ）酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理 （ｄ）陽極酸化処理 を行うことを特徴とするアルミニウム板の粗面化方法。7. The aluminum plate is sequentially subjected to (a) a chemical etching treatment in an acid or alkali aqueous solution, (b) an electrochemical surface treatment using a direct current or an alternating current in an acidic aqueous solution. An electrolytic polishing treatment using an aluminum plate as an anode in an alkaline aqueous solution. (D) Anodizing treatment. 【請求項８】 前記電解研磨処理の前、または後、また
は前後に、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウムを
０．０１〜２ｇ／ｍ2 溶解させるエッチング処理を行う
ことを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の租
面化方法。8. An etching process for dissolving aluminum in an acid or alkali aqueous solution in an amount of 0.01 to 2 g / m 2 before, after, or before or after the electropolishing process. 8. The taxation method according to claim 7. 【請求項９】 アルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理、またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を陽
極にした電解研磨処理の後に酸性水溶液中でのデスマッ
ト処理を行うことを特徴とする請求項１〜８の何れか一
項に記載の租面化方法。9. A desmutting treatment in an acidic aqueous solution after a chemical etching treatment in an alkaline aqueous solution or an electrolytic polishing treatment using an aluminum plate as an anode in an alkaline aqueous solution. 9. The levying method according to any one of 8. 【請求項１０】 アルミニウム板がＤＣ鋳造法から中間
焼鈍処理、または均熱処理、または中間焼鈍処理と均熱
処理とを省いて製造されたアルミニウム板を用いること
を特徴とする請求項１〜９の何れか一項に記載の粗面化
方法。10. The aluminum plate according to claim 1, wherein the aluminum plate is manufactured by omitting the intermediate annealing process, the soaking process, or the intermediate annealing process and the soaking process from the DC casting method. The surface roughening method according to claim 1. 【請求項１１】 アルミニウム板が連続鋳造法から中間
焼鈍処理を省いて製造されたアルミニウム板を用いるこ
とを特徴とする請求項１〜９の何れか一項に記載の粗面
化方法。11. The surface roughening method according to claim 1, wherein the aluminum plate is manufactured by omitting an intermediate annealing treatment from a continuous casting method. 【請求項１２】 アルミニウム板が化学的エッチング処
理した時に結晶粒の方位差に起因するアルミ溶解速度差
による凹凸が原因の処理ムラが発生するアルミニウム板
を用いることを特徴とする請求項１〜９の何れか一項に
記載の粗面化方法。12. An aluminum plate in which unevenness due to unevenness due to a difference in the dissolution rate of aluminum caused by a difference in orientation of crystal grains occurs when the aluminum plate is chemically etched. The surface roughening method according to any one of the above.
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