JPH10326A - Exhaust gas treating device - Google Patents
Exhaust gas treating deviceInfo
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- JPH10326A JPH10326A JP8151380A JP15138096A JPH10326A JP H10326 A JPH10326 A JP H10326A JP 8151380 A JP8151380 A JP 8151380A JP 15138096 A JP15138096 A JP 15138096A JP H10326 A JPH10326 A JP H10326A
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- exhaust gas
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- liquid
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- Treating Waste Gases (AREA)
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、燃料タンク、充填
装置、分析装置、燃料装置等から発生するガスに含まれ
る有害ガスや有毒ガス等の所要成分を除去することがで
きる排気処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust treatment device capable of removing required components such as harmful gas and toxic gas contained in gas generated from a fuel tank, a filling device, an analyzing device, a fuel device and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、ロケット及び人工衛星の姿勢制
御装置の燃料として使用される、ヒドラジンや４酸化２
窒素等は有害ガスであることが知られている。これらの
有害なガスが発生するケースは、姿勢制御装置の内部か
ら漏洩するとき、燃料充填作業時、あるいは分析時等種
々考えられ、これらのケースにおいて、スムーズに排気
ガス処理が行える処理装置が必要とされる。2. Description of the Related Art For example, hydrazine or tetroxide used as fuel for attitude control devices of rockets and satellites is known.
Nitrogen and the like are known to be harmful gases. There are various cases where these harmful gases are generated, such as when leaking from the inside of the attitude control device, during fuel filling work, or during analysis.In these cases, a processing device that can smoothly process exhaust gas is required. It is said.
【０００３】図５は、従来知られているトレーラー搭載
型の排気処理装置の一例を示す。図に示すように、循環
タンク１には、排気ガス導入用のブロア２を介在された
排気ガス導入管３、排気ガスと廃液が混合状態で導入さ
れるエジェクタ４を接続されたサイクロン５、ガスと処
理液とを接触させるガス接触塔６、及び処理後の排気ガ
スを大気に放散するデミスタ付きのダクト７がそれぞれ
接続されている。また、循環タンク１には、該循環タン
ク１内に貯留されている処理液を前記エジェクタ４並び
にガス接触塔６内の噴射ノズル１０に供給するための処
理液供給管８が、循環ポンプ９を介装されて接続されて
いる。FIG. 5 shows an example of a conventionally known trailer-mounted exhaust treatment apparatus. As shown in the figure, a circulation tank 1 is provided with an exhaust gas introduction pipe 3 having an exhaust gas introduction blower 2 interposed therein, a cyclone 5 connected with an ejector 4 for introducing exhaust gas and waste liquid in a mixed state, A gas contact tower 6 for bringing the exhaust gas and the processing liquid into contact with each other, and a duct 7 with a demister for discharging the exhaust gas after the processing to the atmosphere are connected to each other. In the circulation tank 1, a processing liquid supply pipe 8 for supplying the processing liquid stored in the circulation tank 1 to the ejector 4 and the injection nozzle 10 in the gas contact tower 6 is provided with a circulation pump 9. It is interposed and connected.
【０００４】この排気処理装置では、ブロア２を介し排
気ガス導入管３から排気ガスが循環タンク１内に導入さ
れるが、この導入された排気ガスはガス処理塔６に導か
れ、ここで、噴射ノズル１０から噴射される処理液と接
触されて、排気ガス中の所要成分が処理液中に吸収・溶
解される。ここでは、ガス処理塔６が２段設けられてお
り、排気ガス中からの所要成分の除去が高精度で行える
ようになっている。そして、所要成分が除去された排気
ガスはデミタス付きのダクト７を通って大気に放散され
る。なお、この排気処理装置では、排気ガスに限らず、
排気ガスと廃液が混入された気液混合体もエジェクタ４
から循環タンク１内に導入されるようになっており、こ
の気液混合体からも所要成分が除去できる。In this exhaust treatment apparatus, exhaust gas is introduced into the circulation tank 1 from an exhaust gas introduction pipe 3 through a blower 2, and the introduced exhaust gas is guided to a gas treatment tower 6, where The required components in the exhaust gas are absorbed and dissolved in the processing liquid by coming into contact with the processing liquid injected from the injection nozzle 10. Here, two stages of gas processing towers 6 are provided so that required components can be removed from exhaust gas with high accuracy. The exhaust gas from which the required components have been removed is radiated to the atmosphere through a duct 7 with demitas. In this exhaust treatment device, not only exhaust gas,
The gas-liquid mixture containing exhaust gas and waste liquid is also ejected by the ejector 4.
The gas is then introduced into the circulation tank 1 so that required components can be removed from this gas-liquid mixture.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来の排気処理装置にあっては、次の問題があった。
すなわち、処理タンク１にガス処理塔６が直立状態で設
けられており、かつ、ガス処理塔６は排気ガスと処理液
との接触面積をできるだけ広く確保するために比較的高
く設けられており、結果として、排気処理装置が大型化
する欠点があった。また、このように装置が大型化する
ため、装置の移動、保管が制約を受け、しかも、設置個
所も限られてしまうという欠点があった。However, the above-mentioned conventional exhaust gas treatment apparatus has the following problems.
That is, the gas processing tower 6 is provided in the processing tank 1 in an upright state, and the gas processing tower 6 is provided relatively high in order to secure a contact area between the exhaust gas and the processing liquid as large as possible. As a result, there is a drawback that the exhaust treatment device becomes large. In addition, since the size of the apparatus is increased, the movement and storage of the apparatus are restricted, and the installation location is limited.
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、小型のものでも排気ガスから所要成分を効率
よく除去することができる排気処理装置を提供すること
を目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an exhaust treatment apparatus that can efficiently remove required components from exhaust gas even if the exhaust gas is small.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、ケーシング内に、処理液タンク部
と、多孔性の充填材が詰め込まれた気液接触室と、処理
液噴射ノズルを有する噴霧液接触室とが、ケーシングの
下部から上部に向けて順に設けられ、前記ケーシングの
内部は、互いに間隔をあけて配された上下方向に延びる
複数の仕切り板によって、下部の処理液タンク部と上部
の噴霧液接触室とが交互に連通された状態で仕切られ
て、排気ガス通路が側方へ折り重なるように形成され、
それら排気ガス通路の前端が排気ガス導入部に接続され
ると共に、排気ガス通路の後端が排気ガス排出部に接続
され、前記処理液タンク部と前記処理液噴射ノズルとの
間には、処理液タンク部に貯留されている処理液を処理
液噴射ノズルへ供給する処理液供給手段が設けられてい
ることを特徴とする。前記排気ガス通路の前端に設けら
れた排気ガス導入部には、排気ガスを排気ガス通路の内
部に圧送するブロアを設けてもよい。処理液供給手段に
は中和剤投入部を付設してもよい。処理液タンクには、
排ガスを吸引するエジェクタを設けてもよい。In order to achieve the above object, according to the present invention, a processing liquid tank section, a gas-liquid contact chamber filled with a porous filler, and a processing liquid injection chamber are provided. A spray liquid contact chamber having a nozzle is provided in order from the lower part of the casing to the upper part, and the inside of the casing is provided with a plurality of vertically extending partition plates spaced apart from each other to form a lower processing liquid. The tank part and the upper spray liquid contact chamber are partitioned in a state of being alternately communicated, and the exhaust gas passage is formed so as to be folded laterally,
A front end of each of the exhaust gas passages is connected to an exhaust gas introduction unit, and a rear end of the exhaust gas passage is connected to an exhaust gas discharge unit. A processing liquid is provided between the processing liquid tank unit and the processing liquid injection nozzle. A processing liquid supply means for supplying the processing liquid stored in the liquid tank to the processing liquid injection nozzle is provided. The exhaust gas introduction section provided at the front end of the exhaust gas passage may be provided with a blower for pumping the exhaust gas into the exhaust gas passage. The processing liquid supply means may be provided with a neutralizing agent charging section. In the processing liquid tank,
An ejector for sucking exhaust gas may be provided.
【０００８】本発明によれば、ケーシング内に排気ガス
通路を側方へ折り重なるように形成している、つまり、
縦長ではなく側方にジグザグ状に形成しているので、排
気ガスと処理液との実質的な接触面積を変えることなく
長く確保しつつ、装置の小型化が図れる。According to the present invention, the exhaust gas passage is formed in the casing so as to be folded laterally, that is,
Since the zigzag shape is formed laterally instead of vertically, the size of the apparatus can be reduced while ensuring a long contact area without substantially changing the contact area between the exhaust gas and the processing liquid.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を説明する。 ＜第１の実施の形態＞図１は本発明の第１の実施の形態
である排気処理装置の概略構成を示す系統図、図２は同
排気処理装置の実際の組込状態を示す断面図、図３は同
排気処理装置の実際の組込状態を示す平面図である。図
において符号１１はキャスタ付きのフレームであり、こ
のフレーム１１上にはケーシング１２が固定されてい
る。ケーシング１２の内部には、処理液タンク部１３
と、多孔性の充填材１４ａが詰め込まれた気液接触室１
４と、処理液噴射ノズル１５を有する噴霧液接触室１６
とが、ケーシング１２の下部から上部に向けて順に設け
られている。充填材１４ａには、例えば、多数の孔が形
成された球状あるいは円盤状のプラスチック片が設けら
れ、これらを多数積層したところを、上側から処理液が
分岐・合流を繰り返しながらランダムに落下するととも
に、下方から上方あるいは上方から下方へ向けて排気ガ
スが通過し、これにより、排気ガスと処理液との接触面
積が広く確保されるようになっている。処理液噴射ノズ
ル１５は複数設けられ、その数はそこから噴射される処
理液が噴霧液接触室１６内にむら無く充満するように決
定されている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. <First Embodiment> FIG. 1 is a system diagram showing a schematic configuration of an exhaust treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an actual assembled state of the exhaust treatment apparatus. FIG. 3 is a plan view showing the actual state of installation of the exhaust gas treatment apparatus. In the figure, reference numeral 11 denotes a frame with casters, on which a casing 12 is fixed. Inside the casing 12, a processing liquid tank portion 13 is provided.
And gas-liquid contact chamber 1 packed with porous filler 14a
4 and a spray liquid contact chamber 16 having a processing liquid injection nozzle 15
Are provided in order from the lower part of the casing 12 to the upper part. The filler 14a is provided with, for example, a spherical or disc-shaped plastic piece having a large number of holes formed therein. The exhaust gas passes from below to above or from above to below, so that a wide contact area between the exhaust gas and the processing liquid is ensured. A plurality of processing liquid spray nozzles 15 are provided, and the number thereof is determined so that the processing liquid sprayed therefrom fills the spray liquid contact chamber 16 evenly.
【００１０】ケーシング１２の内部は、互いに間隔をあ
けて配された上下方向に延びる複数の仕切り板１７（１
７ａ，…）によって複数に仕切られている。それら複数
に仕切られた室は、下部の処理液タンク部１３と上部の
噴霧液接触室１４とが交互に連通されている。具体的に
は、仕切り板１７は３つであって、図１の右側及び左側
の仕切り板１７ａ，１７ｃはそれぞれケーシング１２の
天井部から下方の気液接触室１４の下部まで延びてお
り、また、中央の仕切り板１７ｂは噴霧液接触室１６の
途中から下方へ延びて気液接触室１４を貫通し処理液タ
ンク部１３の高さ方向途中部分まで達している。そして
ケーシング１２の内部には、これら複数の仕切り板１７
（１７ａ，…）によって、排気ガス通路１８が側方へ折
り重なるようジグザグ状に形成されている。The inside of the casing 12 has a plurality of vertically extending partitioning plates 17 (1) spaced from each other.
7a,...). In the chambers divided into a plurality of chambers, a lower processing liquid tank section 13 and an upper spray liquid contact chamber 14 are alternately communicated. Specifically, there are three partition plates 17, and the right and left partition plates 17a, 17c in FIG. 1 extend from the ceiling of the casing 12 to the lower part of the lower gas-liquid contact chamber 14, respectively. The central partition plate 17b extends downward from the middle of the spray liquid contact chamber 16, penetrates the gas-liquid contact chamber 14, and reaches a middle part in the height direction of the processing liquid tank portion 13. The plurality of partition plates 17 are provided inside the casing 12.
By (17a,...), The exhaust gas passage 18 is formed in a zigzag shape so as to be folded laterally.
【００１１】排気ガス通路１８の前端には排気ガス導入
管２０が接続されている。排気ガス導入管２０にはブロ
ア２１が介装され、このブロア２１の吸込口には例えば
フレキシブルダクト２２を介して有害ガスを含む排気ガ
スを排出する容器２３に接続される。また、前記排気ガ
ス通路１８の後端にはデミタス２５を介して排気ガス排
出管２６が接続されている。なお、気液接触面積および
長さを増やしたい場合は、ケーシング１２の長さを長く
とりジグザグ状態を追加することにより対処できる。An exhaust gas introduction pipe 20 is connected to a front end of the exhaust gas passage 18. A blower 21 is interposed in the exhaust gas introduction pipe 20, and a suction port of the blower 21 is connected to a container 23 that discharges exhaust gas containing harmful gas through, for example, a flexible duct 22. An exhaust gas discharge pipe 26 is connected to the rear end of the exhaust gas passage 18 via a demiter 25. When it is desired to increase the gas-liquid contact area and length, it can be dealt with by increasing the length of the casing 12 and adding a zigzag state.
【００１２】前記処理液タンク部１３と前記処理液噴射
ノズル１５との間には、処理液タンク部１３に貯留され
ている処理液を処理液噴射ノズル１５へ供給するため
の、循環ポンプ３０ａおよび該ポンプが介装された配管
３０ｂからなる処理液供給手段３１が設けられている。
配管３０ｂは途中枝分かれして、前記処理液タンク部１
３につながるエジェクタ３２に接続されている。エジェ
クタ３２は、主に有害ガス等の成分を含む排気ガスを発
生させる残液を処理するために用いられるもので、例え
ば、エジェクタ３２の吸い込み側には複数の枝管３３，
…が接続され、それら枝管３３，…を介して、例えば、
ロケット燃料のヒドラジンや４酸化窒素を排ガスおよび
気液混合体の形で吸い込み、エジェクタ３２の吐出側か
ら処理液タンク部１３内に圧送できるようになってい
る。A circulation pump 30a for supplying the processing liquid stored in the processing liquid tank 13 to the processing liquid injection nozzle 15 is provided between the processing liquid tank 13 and the processing liquid injection nozzle 15. A processing liquid supply unit 31 including a pipe 30b provided with the pump is provided.
The pipe 30b is branched in the middle, and the processing liquid tank 1
3 connected to an ejector 32. The ejector 32 is mainly used to treat a residual liquid that generates exhaust gas containing components such as harmful gases. For example, a plurality of branch pipes 33,
Are connected, and through the branch pipes 33, for example,
The rocket fuel hydrazine and nitric oxide are sucked in the form of an exhaust gas and a gas-liquid mixture, and can be pumped into the processing liquid tank section 13 from the discharge side of the ejector 32.
【００１３】循環ポンプ３０ａ及び配管３０ｂからなる
処理液供給手段３１には、中和剤投入部３５が付設され
ている。ここでは、中和液投入部３５は、前記循環ポン
プ３０ａの吐出側と処理液タンク部１３とを接続する配
管３５ａと、該配管３５ａに介装された中和剤容器３５
ｂからなっており、配管３５ａに介装された弁３５ｃを
調整することによって、前記循環ポンプ３０ａの吐出部
につながる配管に中和剤を適量混入させ得るようになっ
ている。The processing liquid supply means 31 comprising a circulation pump 30a and a pipe 30b is provided with a neutralizing agent charging section 35. Here, the neutralizing liquid inlet 35 includes a pipe 35a connecting the discharge side of the circulation pump 30a and the processing liquid tank 13, and a neutralizer container 35 interposed in the pipe 35a.
By adjusting the valve 35c interposed in the pipe 35a, an appropriate amount of neutralizing agent can be mixed into the pipe connected to the discharge part of the circulation pump 30a.
【００１４】なお、前記処理液タンク部１３にはオーバ
ーフロー管３７並びに新たに処理液（主として水）を注
入する処理液供給部３８がそれぞれ接続されている。The processing liquid tank 13 is connected to an overflow pipe 37 and a processing liquid supply 38 for injecting a new processing liquid (mainly water).
【００１５】次に、上記構成の排気処理装置について説
明する。循環ポンプ３０ａが駆動されると、処理液タン
ク部１３内の処理液（例えば水）は配管３０ｂを介して
噴射ノズル１５から噴霧液接触室１６内に噴射される。
噴射された処理液は、噴霧液接触室１６で霧の状態で浮
遊するとともに、比較的粒子が大きいものは自重により
下降しあるいは噴霧液接触室１６の内壁に付着しながら
下降し、気液接触室１４に充填されている充填剤１４ａ
の間をランダムに下降しながら、さらに下方の処理液タ
ンク部１３に至る。一方、容器２３から発生する排気ガ
スは、ブロア２１が駆動されることによりフレキシブル
ダクト２２を介して吸引され、排気ガス導入管２０から
ケーシング１２内の排気ガス通路１８に供給される。排
気ガス通路１８に供給された排気ガスは、まず、図１に
おける右側の噴霧液接触室１６に流入する。ここで、前
記噴射ノズル１５から噴射された前記処理液と接触し、
排気ガス中に含まれている有害ガス等の所要成分が処理
液中に吸収・溶解される。Next, a description will be given of an exhaust treatment apparatus having the above-described structure. When the circulation pump 30a is driven, the processing liquid (for example, water) in the processing liquid tank unit 13 is injected from the injection nozzle 15 into the spray liquid contact chamber 16 via the pipe 30b.
The sprayed processing liquid floats in a mist state in the spray liquid contact chamber 16, and those having relatively large particles descend by their own weight or descend while adhering to the inner wall of the spray liquid contact chamber 16, and come into contact with the gas-liquid. Filler 14a filled in chamber 14
, And reaches the processing liquid tank 13 further below. On the other hand, the exhaust gas generated from the container 23 is sucked through the flexible duct 22 by driving the blower 21, and is supplied from the exhaust gas introduction pipe 20 to the exhaust gas passage 18 in the casing 12. The exhaust gas supplied to the exhaust gas passage 18 first flows into the spray liquid contact chamber 16 on the right side in FIG. Here, it comes into contact with the treatment liquid ejected from the ejection nozzle 15,
Required components such as harmful gases contained in the exhaust gas are absorbed and dissolved in the processing liquid.
【００１６】その後、排気ガスは排気ガス通路１８に沿
って下方の気液接触室１４に流入する。ここでは、充填
材中を下降しながら、同様に下方へ流れる前記処理液と
接触し、ここでも、排気ガス中に含まれる所要成分が処
理液中に吸収・溶解される。さらに、排気ガスは下方に
流れて処理液タンク部１３に流入する。ここに流入する
直前では、排気ガスは粒子の細かい処理液と気液混合状
態で流れており、処理液タンク部１３の上部に形成され
た空間Ｓを通過し流れを１８０度変えて、図１における
右から２番目の排気ガス通路１８を下方から上方へ流れ
る。Thereafter, the exhaust gas flows into the lower gas-liquid contact chamber 14 along the exhaust gas passage 18. Here, while descending in the filler material, it comes into contact with the processing liquid which also flows downward, and here, the required components contained in the exhaust gas are absorbed and dissolved in the processing liquid. Further, the exhaust gas flows downward and flows into the processing liquid tank unit 13. Immediately before flowing into the exhaust gas, the exhaust gas flows in a gas-liquid mixed state with the processing liquid having a fine particle. The exhaust gas passes through the space S formed in the upper part of the processing liquid tank section 13 and changes the flow by 180 degrees. Flows from the bottom to the top through the second exhaust gas passage 18 from the right in FIG.
【００１７】ここで、前記したように排気ガスは細かな
処理液粒子を含んだ状態で流れを１８０度変えられる
が、処理液粒子は遠心力の作用を受けて上方から下方へ
の流れに沿って処理液タンク部１３の処理液中に侵入す
る。これにより、気液が分離され、処理液が取り除かれ
た排気ガスは前記したように、排気ガス通路１８を上方
へ流れる。Here, as described above, the flow of the exhaust gas can be changed by 180 degrees while containing the fine processing liquid particles, but the processing liquid particles are affected by centrifugal force and follow the flow from above to below. Into the processing liquid in the processing liquid tank 13. As a result, the exhaust gas from which gas-liquid is separated and from which the processing liquid has been removed flows upward through the exhaust gas passage 18 as described above.
【００１８】以下、このように排気ガスがジグザグ状に
形成された排気ガス通路１８を通過しながら、その中に
含まれる有害ガス等の所要成分が処理液に接触しながら
除去される。そして、所要成分が除去された排気ガスは
デミタス２５を通過した後、排気ガス導出管２６を通過
して大気に放散される。一方、容器４０の底部に残る残
液から蒸発するガスを処理する場合には、エジェクタ３
２に循環ポンプ３０ａ及び配管３０ｂを介して処理液を
導入する。このとき、エジェクタ３２で生じる吸引作用
によって、枝管３３の先端から排気ガス及び処理液が気
液混合の形で吸引され、このエジェクタ３２から処理液
タンク部１３内に圧送される。処理液タンク部１３に圧
送された、排気ガス等に対しては前記排気ガスと同様な
処理が行われ、結局、所要成分が除去された後、排気ガ
ス導出管２６から大気に放散される。また、処理液タン
ク部１３に貯留されている処理液が処理が進む課程にお
いて処理効率が低下する場合には、中和剤供給手段３５
から中和剤を注入し処理液の調整を行うことにより、処
理効率が低下するのを未然に防止する。なお、処理液が
水のみの場合には、処理液を交換するものとする。Hereinafter, while the exhaust gas passes through the exhaust gas passage 18 formed in a zigzag shape, required components such as harmful gases contained therein are removed while contacting the processing liquid. Then, the exhaust gas from which the required components have been removed passes through the demiter 25 and then passes through the exhaust gas outlet pipe 26 and is emitted to the atmosphere. On the other hand, when processing the gas evaporating from the residual liquid remaining at the bottom of the container 40, the ejector 3
2, a processing liquid is introduced through a circulation pump 30a and a pipe 30b. At this time, the exhaust gas and the processing liquid are sucked from the tip of the branch pipe 33 in the form of a gas-liquid mixture by the suction action generated in the ejector 32, and are sent from the ejector 32 into the processing liquid tank unit 13 by pressure. Exhaust gas and the like sent to the treatment liquid tank section 13 are subjected to the same treatment as the above-mentioned exhaust gas, and after the required components are removed, the exhaust gas is exhausted from the exhaust gas outlet pipe 26 to the atmosphere. If the processing efficiency of the processing liquid stored in the processing liquid tank unit 13 decreases during the course of processing, the neutralizing agent supply unit 35 is used.
By adjusting the processing liquid by injecting a neutralizing agent from above, it is possible to prevent the processing efficiency from lowering. If the processing liquid is only water, the processing liquid is replaced.
【００１９】＜発明の第２の実施の形態＞図４は本発明
の第２の実施の形態を示す排気処理装置の要部断面図で
ある。前記した第１の実施の形態では、多孔性の充填材
１４ａが詰め込まれた気液接触室１４の上部に、噴射ノ
ズル１５を有する噴霧液接触室１６を設けているが、こ
の場合、充填材１４ａの詰め込み状況によって流路抵抗
の大きい部分と小さな部分とが生じ、流路抵抗の小さな
部分に排気ガスが集中的に流れ込むことに起因して、排
気ガスの処理（吸収・溶解）効率が低下するおそれがあ
る。ここで示す実施の形態の特徴は、この点を改善した
ものであり、噴霧液接触室１６において噴射ノズル１５
の下側に多数の微細孔が形成された板材５０、適宜大き
さのメッシュとされた金網、あるいは整流板を介在させ
た点である。このように、噴射ノズル１５の下側に多数
の微細孔が形成された板材５０を介在させると、噴射ノ
ズル１５から噴射される処理液は板材５０等上の全面に
拡がった後下方に流れることとなり、下側の充填材１４
ａ全体に対して処理液が降りかかることとなる。このよ
うに、板材５０等を通過するときの流路抵抗が一定であ
ること、また、処理液が充填材１４ａに均一に降りかか
り、この気液接触室１４の流路抵抗もほぼ均一になるこ
とから、上記した排気ガスが所定箇所に集中して流れる
不具合を未然に防止できる。なお、この実施の形態で
は、排気ガスが気液接触室１４の下側からケーシング内
に流入する構造になっている。<Second Embodiment of the Invention> FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of an exhaust gas treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention. In the above-described first embodiment, the spray liquid contact chamber 16 having the injection nozzle 15 is provided above the gas-liquid contact chamber 14 packed with the porous filler 14a. Depending on the packing condition of 14a, a portion having a large flow path resistance and a portion having a small flow path resistance are generated, and the exhaust gas processing (absorption / dissolution) efficiency is reduced due to the exhaust gas flowing intensively into the portion having a small flow path resistance. There is a possibility that. The feature of the embodiment shown here is to improve this point, and the spray nozzle 15
This is the point that a plate material 50 having a large number of fine holes formed on the lower side, a wire mesh formed into an appropriately sized mesh, or a rectifying plate is interposed. As described above, when the plate member 50 having a large number of fine holes is interposed below the injection nozzle 15, the processing liquid injected from the injection nozzle 15 spreads over the entire surface of the plate member 50 and the like, and then flows downward. And the lower filler 14
The processing liquid falls on the entire area a. As described above, the flow path resistance when passing through the plate member 50 and the like is constant, and the processing liquid uniformly falls on the filler 14a, and the flow path resistance of the gas-liquid contact chamber 14 is also substantially uniform. Therefore, it is possible to prevent the above-described problem that the exhaust gas flows intensively at a predetermined location. In this embodiment, the exhaust gas flows into the casing from below the gas-liquid contact chamber 14.
【００２０】[0020]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は以下の優
れた効果を奏する。請求項１記載の発明によれば、ケー
シング内に排気ガス通路を側方へ折り重なるように、つ
まり、縦長ではなく側方にジグザグ状に形成しているの
で、排気ガスと処理液との実質的な接触面積を変えるこ
となく長く確保しつつ、装置の小型化を図ることができ
る。また、このように装置の小型化が図れるため、装置
の移動、保管が容易になり、しかも、設置個所の自由度
も拡がる。請求項２記載の発明によれば、排気ガス通路
の前端に設けられた排気ガス導入部には、排気ガスを排
気ガス通路の内部に圧送するブロアを設けているので、
排気ガス通路中を排気ガスが逆流するのを防止すること
ができるとともに、使用用途を広げることができる。請
求項３記載の発明によれば、処理液供給手段に中和剤投
入部を付設しているので、排気ガスの処理が進む課程に
おいて、処理液の変化により効率が低下するのを未然に
防止することができ、長期に渡って高効率のガス処理が
実現できる。請求項４記載の発明によれば、処理液タン
クにエジェクタを設けているので、廃液を排気ガスとと
もに気液混合体の形で吸い込んで処理することができ
る。As described above, the present invention has the following excellent effects. According to the first aspect of the present invention, since the exhaust gas passage is formed so as to be folded laterally in the casing, that is, formed in a zigzag shape not in the vertical direction but in the lateral direction, the exhaust gas and the processing liquid are substantially separated from each other. The device can be reduced in size while ensuring a long contact area without changing the contact area. In addition, since the size of the device can be reduced in this manner, the device can be easily moved and stored, and the degree of freedom of the installation location can be increased. According to the second aspect of the present invention, since the exhaust gas introduction portion provided at the front end of the exhaust gas passage is provided with the blower for pressure-feeding the exhaust gas into the exhaust gas passage,
It is possible to prevent the exhaust gas from flowing backward in the exhaust gas passage, and it is possible to widen its use. According to the third aspect of the present invention, since the processing liquid supply means is provided with the neutralizing agent charging section, it is possible to prevent a decrease in efficiency due to a change in the processing liquid in the course of processing the exhaust gas. And high-efficiency gas processing can be realized for a long period of time. According to the fourth aspect of the present invention, since the processing liquid tank is provided with the ejector, the waste liquid can be sucked and processed together with the exhaust gas in the form of a gas-liquid mixture.
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す排気処理装置
の概略構成を示す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing a schematic configuration of an exhaust treatment device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】同排気処理装置の実際の組込状態を示す断面図
である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an actual assembled state of the exhaust treatment device.
【図３】同排気処理装置の実際の組込状態を示す平面図
である。FIG. 3 is a plan view showing an actual installation state of the exhaust treatment device.
【図４】本発明の第２の実施の形態を示す排気処理装置
の要部の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of an exhaust treatment device showing a second embodiment of the present invention.
【図５】従来の排気処理装置の縦断面図である。FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a conventional exhaust treatment device.
１２ ケーシング １３ 処理液タンク部 １４ 気液接触室 １５ 噴射ノズル １６ 噴霧液接触室 １７ 仕切り板 １８ 排気ガス通路 ２０ ブロア ２６ 排気ガス排出管 ３０ａ 循環ポンプ ３０ｂ 配管 ３１ 処理液供給手段 ３２ エジェクタ ３５ 中和剤投入部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Casing 13 Processing liquid tank part 14 Gas-liquid contact chamber 15 Injection nozzle 16 Spray liquid contact chamber 17 Partition plate 18 Exhaust gas passage 20 Blower 26 Exhaust gas discharge pipe 30a Circulation pump 30b Pipe 31 Processing liquid supply means 32 Ejector 35 Neutralizer Input section
Claims (4)
部（１３）と、多孔性の充填材（１４ａ）が詰め込まれ
た気液接触室（１４）と、処理液噴射ノズル（１５）を
有する噴霧液接触室（１６）とが、ケーシングの下部か
ら上部に向けて順に設けられ、 前記ケーシングの内部は、互いに間隔をあけて配された
上下方向に延びる複数の仕切り板（１７）によって、下
部の処理液タンク部と上部の噴霧液接触室とが交互に連
通された状態で仕切られて、排気ガス通路が側方へ折り
重なるように形成され、 それら排気ガス通路の前端が排気ガス導入部（２０）に
接続されると共に、排気ガス通路の後端が排気ガス排出
部（２６）に接続され、 前記処理液タンク部と前記処理液噴射ノズルとの間に
は、処理液タンク部に貯留されている処理液を前記処理
液噴射ノズルへ供給する処理液供給手段（３１）が設け
られていることを特徴とする排気処理装置。1. A processing liquid tank (13), a gas-liquid contact chamber (14) packed with a porous filler (14a) in a casing (12), and a processing liquid injection nozzle (15). And a spray liquid contact chamber (16) is provided in order from the lower part to the upper part of the casing, and the inside of the casing is formed by a plurality of vertically extending partition plates (17) spaced from each other. The lower processing liquid tank section and the upper spray liquid contact chamber are partitioned so as to be alternately communicated with each other, and the exhaust gas passages are formed so as to fold sideways, and the front ends of the exhaust gas passages are formed as exhaust gas introduction sections. (20), a rear end of the exhaust gas passage is connected to an exhaust gas discharge part (26), and a processing liquid tank part is stored between the processing liquid tank part and the processing liquid injection nozzle. Processing solution An exhaust treatment apparatus comprising a treatment liquid supply means (31) for supplying a treatment liquid to a treatment liquid injection nozzle.
は、排気ガスを排気ガス通路の内部に圧送するブロア
（２１）が設けられていることを特徴とする排気処理装
置。2. The exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein a blower (21) for pumping exhaust gas into the exhaust gas passage is provided at an exhaust gas introduction portion provided at a front end of the exhaust gas passage. An exhaust treatment device characterized by the following.
おいて、 処理液供給手段には中和剤投入部（３５）が付設されて
いることを特徴とする排気処理装置。3. The exhaust treatment apparatus according to claim 1, wherein the treatment liquid supply means is provided with a neutralizing agent introduction section (35).
理装置において、 前記処理液タンクには、排ガスを吸引するエジェクタ
（３２）が設けられていることを特徴とする排気処理装
置。4. The exhaust treatment device according to claim 1, wherein the treatment liquid tank is provided with an ejector (32) for sucking exhaust gas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8151380A JPH10326A (en) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | Exhaust gas treating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8151380A JPH10326A (en) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | Exhaust gas treating device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10326A true JPH10326A (en) | 1998-01-06 |
Family
ID=15517313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8151380A Withdrawn JPH10326A (en) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | Exhaust gas treating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10326A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150105736A (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-18 | 서정선 | Air Cleaner |
| JP2019063720A (en) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 株式会社Ihi | Gas recovery apparatus |
| US11305244B2 (en) | 2018-04-25 | 2022-04-19 | Ihi Corporation | Gas-liquid contact apparatus |
-
1996
- 1996-06-12 JP JP8151380A patent/JPH10326A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150105736A (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-18 | 서정선 | Air Cleaner |
| JP2019063720A (en) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 株式会社Ihi | Gas recovery apparatus |
| US11305244B2 (en) | 2018-04-25 | 2022-04-19 | Ihi Corporation | Gas-liquid contact apparatus |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030902 |