KR100789719B1

KR100789719B1 - Apparatus for gas parification

Info

Publication number: KR100789719B1
Application number: KR1020060129991A
Authority: KR
Inventors: 김동규; 이상복
Original assignee: 주식회사 한성환경기연; 이상복
Priority date: 2006-12-19
Filing date: 2006-12-19
Publication date: 2008-01-04

Abstract

A rapid rotary impinging type apparatus for purification of contaminated gas is provided to prevent clogging of ejection inlets of exhaust pipes due to sludge(contaminants) generated by the purification operation, prevent supplied contaminated gas from being interfered with a vortex flow, and uniformly disperse contaminated gas supplied through the exhaust pipes, thereby improve the reaction efficiency. In a contaminated gas purifying apparatus comprising a contaminated solution storage chamber, a reaction chamber(2) and a purified air exhaust chamber(3) sequentially formed from the lower side to the upper side within a purification tank(100), a rapid rotary impinging type apparatus for purification of contaminated gas is characterized in that: the reaction chamber has a ring-shaped contaminated gas distribution pipe(4) installed on an inner peripheral surface thereof, and the contaminated gas distribution pipe has a plurality of contaminated gas exhaust pipes(41) formed in a zigzag form on an inner peripheral surface thereof such that the contaminated gas exhaust pipes have different heights, the contaminated gas exhaust pipes having ejection inlets, and being projected and bent in a direction; and a mixing disk(6) is mounted on an upper surface of the contaminated gas distribution pipe and includes disk members(62) integrally assembled on an upper portion of the overflow pipe about an overflow pipe(61) vertically penetrated into the disk members. Further, the reaction chamber contains additionally a dispersion plate(5) having gas-dispersing holes.

Description

급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치{APPARATUS FOR GAS PARIFICATION}Rapid rotary impingement pollutant gas purification device {APPARATUS FOR GAS PARIFICATION}

도 1은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 전체 개략사시도1 is an overall schematic perspective view of a rapid rotary collision type pollutant purification apparatus according to the present invention

도 2는 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 결합상태단면도Figure 2 is a cross-sectional view of the combined state of the rapid rotary collision type pollutant purification apparatus according to the present invention

도 3은 본 발명에 적용되는 오염가스 분배관의 사시도Figure 3 is a perspective view of the pollutant gas distribution pipe applied to the present invention

도 4는 본 발명에 적용되는 오염가스 배출관과 분산판의 설치상태 평면도Figure 4 is a plan view of the installation state of the pollutant gas discharge pipe and the dispersion plate applied to the present invention

도 5는 본 발명에 적용되는 믹싱디스크의 사시도5 is a perspective view of a mixing disk applied to the present invention

도 6은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 작용상태도6 is an operational state diagram of a rapid rotational collision type polluting gas purification apparatus according to the present invention

도 7은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 이실시예도Figure 7 is a second embodiment of the rapid rotary collision type pollutant purification apparatus according to the present invention

도 8은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 삼실시예도Figure 8 is a third embodiment of a quick rotational collision polluting gas purification apparatus according to the present invention

< 도면 주요부위에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

1 : 오염액체저장실 2 : 반응실 3 : 정화공기 배출실1: contaminated liquid storage chamber 2: reaction chamber 3: purge air discharge chamber

4 : 오염가스분배관 5 : 분산판 6 : 믹싱디스크4: polluted gas distribution pipe 5: dispersion plate 6: mixing disc

41 : 오염가스배출관 51 : 기체분산공 61 : 오버플로우관41: polluted gas discharge pipe 51: gas dispersion hole 61: overflow pipe

62 : 디스크부재 411 : 분사입구 621 : 통기공62: disk member 411: injection inlet 621: vent hole

본 발명은 오염가스 정화장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 각종 산업현장, 소각장, 화학 및 생활폐수 처리장 등지에서 필연적으로 발생되는 오염가스를 안정적인 형태로 정화처리하여 대기중으로 방출되도록 한 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a pollutant gas purification device, and more particularly, a rapid rotational collision type to purify the polluted gas inevitably generated in various industrial sites, incinerators, chemical and domestic wastewater treatment plants to be released into the atmosphere in a stable form. It relates to a pollutant gas purification device.

급속한 산업의 발달과 인구의 폭발적인 증가로 인하여, 천혜의 자원인 물과 공기, 그리고 산림자원들은 날로 심각한 상태로 훼손 오염되고 있는 상황이며, 이러한 자연자원의 훼손과 오염의 원인으로 인해, 인류의 생존마저 위협받고 있음이 오늘날의 현실이다.Due to the rapid development of industry and the explosive increase of population, natural resources such as water, air, and forest resources are being seriously damaged and polluted, and because of the damage and pollution of natural resources, humankind's survival It is a reality today that it is threatened.

따라서, 이러한 환경오염은 어느 특정지역이나 국가에 의해 해결되어질 문제가 아니기 때문에 전 세계적으로 이에 대한 공동대응이 시급하게 논의되고 있으며그러한 결과로 인해 오늘날에 있어서는 모든 지역과 국가가 상호 연대하여 환경보존을 위한 노력에 힘을 기울이고 있는 실정이다.Therefore, since such environmental pollution is not a problem to be solved by any particular region or country, the joint response is urgently discussed all over the world. Efforts are being made to make efforts.

하지만, 이러한 노력에도 불구하고 산성비의 원인이 되는 아황산가스(So2 ), 그리고, 각종 성인병과 암, 기타 희귀 불치병 등의 주요 원인이 되고 있는 질소화합물 및 환경호르몬 등의 유해물질은 자동차 이용에 따른 엔진 배기가스와, 각종 산업현장의 굴뚝 등을 통해 지속적으로 배출되고 있는 실정이며, 그 배출량 또한 해마다 증가하고 있는 추세로서, 이는 국민들의 건강에 심각한 유해요인으로 작용 되고 있음을 알 수 있다. However, despite these efforts, harmful substances such as sulfurous acid gas (So2), which causes acid rain, and nitrogen compounds and environmental hormones, which are the main causes of various adult diseases, cancer, and other rare incurable diseases, are used as engines for automobiles. Exhaust gas is continuously being discharged through the chimneys of various industrial sites, and the emission is also increasing year by year, which indicates that it is a serious hazard to the health of the people.

이에, 근래에는 각종 산업현장 내에 오염가스 정화장치를 필수 구성요소로 마련되게 한 후, 이러한 설비를 통해 각종 오염가스를 환경기준치 범위내로 정화 처리되게 하여 배출토록 하고 있는 실정이며, 이러한 용도로 설비되는 오염가스 정화장치의 종류로는 크게 유수식, 가압수식, 회전수식 반응장치 등으로 구분되어 있음이 일반적이다.Therefore, in recent years, the pollutant gas purification device is provided as an essential component in various industrial sites, and various kinds of pollutant gases are purged and treated to be discharged within the environmental standard value range through such facilities. As the type of pollutant gas purification device, it is generally classified into a flow type, pressurized type, and rotary type reactor.

이를 좀더 부연설명하자면, 먼저, 상기 유수식 반응장치는 반응실내에 일정한 양의 액체를 채워 넣고, 오염된 가스의 유입에 의해 다량의 액적, 액막, 기포를 형성시켜 세정시킬 수 있도록 한 것으로, 이는 S형, Impera형, Rota형, 분수형, 나선 Guide vane형 타입 등으로 구성되고;More specifically, first, the flow-type reactor is to fill a certain amount of liquid in the reaction chamber, to form a large amount of droplets, liquid film, bubbles by the influx of contaminated gas to clean, which is S Type, Impera type, Rota type, fractional type, spiral guide vane type, etc .;

또한, 상기 가압수식 반응장치는 세정액을 가압 공급하여 오염된 가스를 세정하는 방식으로, 이는 벤튜리 스크라버(Venturi Scrubber), 제트 스크라버(Jet Scrubber), 사이클론 스크라버(Cyclone Scrubber), 충전탑 등으로 구성되며;In addition, the pressurized water reactor is a method for cleaning the contaminated gas by pressurized supply of the cleaning liquid, which is Venturi Scrubber, Jet Scrubber, Cyclone Scrubber, Packed Tower And the like;

끝으로, 상기 회전수식 반응장치는 송풍기의 회전을 이용하여 물방울, 수막, 기포를 형성시켜 오염기체를 세정시키는 것으로, 이는 다이센 와셔(Theisen Washer), 임펄스 스크라버(Impulse Scrubber) 등으로 구성됨을 알 수 있다.Finally, the rotary water reactor is a water droplet, water film, bubbles by using the rotation of the blower to clean the polluted gas, which is composed of the Daisen Washer (Iisen Washer), Impulse Scrubber (Impulse Scrubber), etc. Can be.

하지만 전술한 바와 같은 오염가스 정화장치에 있어, 먼저 종래의 유수식 반응장치는 용액속에 노즐을 설치하고, 그 노즐로 부터 오염가스를 일정한 압력으로 분사되게 하여 용액과 오염가스를 섞일수 있게 하는 것이나, 이는 분사되는 가스에 의해 기포가 발생하고, 그 발생된 기포가 용액의 수면위로 부유하여 용액과 반응되 지 못한 체 그대로 누출되는 문제점을 초래하는 것이었으며, 또한 지속적 사용에 따른 슬러지 발생으로 노즐 구멍이 막힘되어, 효율성을 극히 저하되게 하는 문제점을 갖는 것이다. However, in the pollutant gas purification device as described above, first, the conventional flow type reactor is to install a nozzle in the solution, and the pollutant gas is injected from the nozzle at a constant pressure to mix the solution and the polluted gas, This caused a problem of bubbles generated by the injected gas, and the generated bubbles floated on the surface of the solution and leaked out as they were not reacted with the solution. It is clogged and has the problem of making efficiency extremely low.

한편, 또 다르게 전술한 오염가스 정화장치에 있어, 가수압식 및 회전수식 반응장치 등은 상부에 설치된 노즐로 부터 용액을 사방으로 분산시키고, 재차 하부에 설치된 유입구로 부터 오염가스를 공급되게하여, 상기 상부로 부터 낙하하는 용액에 의해 오염가스를 정화처리되게 하는 것인바, 따라서, 이와 같은 장치는 분산되는 용액의 낙하 특성상 오염가스 전체를 온전히 커버하지 못하게 되는 것으로, 이에 일부 오염가스를 그대로 통과시켜 대기오염의 원인으로 작용하게 되는 상당한 반응효율 저하의 문제점을 상존되게 하는 것이었다. On the other hand, in the other contaminated gas purification device described above, the hydrostatic and rotary hydroreactors disperse the solution in all directions from the nozzle installed at the top, and again to supply the polluted gas from the inlet installed at the bottom, The pollutant gas is purged by the solution falling from the top. Therefore, such a device does not cover the entire polluted gas completely due to the drop characteristics of the dispersed solution. The problem of considerable degradation of reaction efficiency, which causes the contamination, was to exist.

따라서, 본 발명은 종래 오염가스 정화장치의 제반적인 문제점을 해결하고자 창안된 것으로;Therefore, the present invention was devised to solve the general problems of the conventional pollutant gas purification apparatus;

본 발명의 목적은 오염가스 배출관의 구성을 일방향을 향해 절곡된 단순 구조의 관체로 형성하여 분사입구의 직경을 확대되게 함으로서, 정화작용에 의해 발생된 슬러지(오염물질)에 의해 배출관의 분사입구가 막힘되는 현상을 예방되도록 하고, 또한, 그 배출관의 구성을 상호 높이를 달리하는 지그재그 방식으로 배열하여 오염가스 공급에 따른 와류간섭을 방지되도록 하며, 아울러, 상기 배열 형성된 각 배출관 전방에 분산판을 추가 구성시켜 배출관을 통해 공급되는 오염가스를 고르게 분산되게 함으로서, 오염가스와 액체의 접촉시간을 연장시켜, 반응효율을 증 대되도록 한 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치를 제공함에 있다.An object of the present invention is to form a constitution of the contaminated gas discharge pipe in a simple structure bent in one direction to enlarge the diameter of the injection inlet, the injection inlet of the discharge pipe by the sludge (pollutant) generated by the purification action Blocking phenomenon is also prevented, and also the arrangement of the discharge pipe in a zigzag manner with different heights to prevent vortex interference due to the supply of polluting gas, and further, to add a distribution plate in front of each of the discharge pipe formed It is to provide a rapid rotational collision polluting gas purification device to increase the reaction efficiency by extending the contact time between the contaminated gas and the liquid by the configuration to distribute the polluted gas supplied through the discharge pipe evenly.

한편, 본 발명의 또 다른 목적은 오염가스와 액체가 반응하는 반응실 내측 중앙부에 복층구조의 믹싱디스크를 설치하여, 오염가스 공급에 따른 와류발생시 용액 표면(수면)의 비산(飛散)현상을 방지되게 함으로서, 그 비산현상에 의한 비반응 오염가스의 방출을 원천적으로 차단되게 하고, 아울러 On the other hand, another object of the present invention is to install a multi-layered mixing disk in the inner center of the reaction chamber in which the pollutant gas and the liquid reacts, to prevent the scattering of the solution surface (water surface) when the vortex occurs due to the pollutant gas supply By blocking the release of unreacted polluted gases by the scattering phenomenon,

상기 복층구조의 믹싱디스크 상에 지그재그 설치형태를 갖는 다수개의 통기공을 형성하고, 그 형성된 통기공을 통해 오염가스와 반응용액을 통과되게 하여 반응되는 오염가스를 미세한 알갱이 형태로 분산처리 되게 함으로서, 충분한 화학적 반응을 통해 효율적으로 오염물질을 제거할 수 있도록 한 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치를 제공함에 있다.By forming a plurality of ventilation holes having a zigzag installation form on the mixing disk of the multi-layer structure, and through the formed ventilation hole to pass through the polluting gas and the reaction solution to disperse the reacted polluted gas in the form of fine grains, The present invention provides a rapid rotary collision pollutant purification device capable of efficiently removing contaminants through sufficient chemical reaction.

이에, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구체적 수단은;Thus, the specific means of the present invention for achieving the above object;

정화처리탱크 내부로 오염용액저장실과, 반응실과, 정화공기 배출실을 순차적 적층구조로 구획 형성시켜 구성한 오염가스 정화장치에 있어서;A pollutant gas purification device comprising a contaminant solution storage chamber, a reaction chamber, and a purge air discharge chamber formed in a sequential stacked structure in a purification tank;

상기 반응실은 그 내주면에 링 형상의 오염가스 분배관이 설치되는 것을 포함하며, 상기 오염가스 분배관 내측면 둘레에 상,하 높이를 달리하는 지그재그 배열구성으로 일방향을 향해 직각 절곡구조로 돌출된, 분사입구를 구비한 다수개의 오염가스 배출관을 일체로 형성시키고;The reaction chamber includes a ring-shaped polluted gas distribution pipe installed on an inner circumferential surface thereof, and protrudes at a right angle bending structure toward one direction in a zigzag arrangement having different heights from the upper and lower sides around the inner surface of the polluted gas distribution pipe. Integrally forming a plurality of polluting gas discharge pipes having injection inlets;

상기 오염가스 가스분배관 상부면에 믹싱디스크를 더 장착되게 하되, 상기 믹싱디스크는 관통구조를 취하는 오버플로우관을 중심으로, 상기 오버플로우관 상부측에 디스크부재가 일체로 결합된 구성을 갖게 함으로서, 달성된다.The mixing disk is further mounted on the upper surface of the polluting gas distribution pipe, wherein the mixing disk has a configuration in which the disk member is integrally coupled to the upper portion of the overflow tube, centering on the overflow tube taking a through structure. , Is achieved.

이하, 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 바람직한 실시예 구성을 첨부도면에 의거하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the rapid rotary collision type pollutant purification apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 전체 개략사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 결합상태단면도이며, 도 3은 본 발명에 적용되는 오염가스 분배관의 사시도이고, 도 4는 본 발명에 적용되는 오염가스 배출관과 분산판의 설치상태 평면도이며, 도 5는 본 발명에 적용되는 믹싱디스크의 사시도이고, 도 6은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 작용상태도로서, 그 일련의 구성을 살펴보면;1 is an overall schematic perspective view of a quick rotary collision polluting gas purification apparatus according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of the combined state of the quick rotary collision polluting gas purification apparatus according to the present invention, Figure 3 is applied to the present invention 4 is a perspective view of a polluted gas distribution pipe, and FIG. 4 is a plan view of an installation state of a polluted gas discharge pipe and a dispersion plate applied to the present invention, FIG. 5 is a perspective view of a mixing disc applied to the present invention, and FIG. A working state diagram of a rotary impingement pollutant purification device, the series of configuration of which;

정화처리탱크(100) 내부로 오염용액저장실(1)과, 반응실(2)과, 정화공기 배출실(3)을 순차적 적층구조로 구획하여 형성한 통상의 오염가스 정화장치에 있어서, 상기 반응실(2) 내부에 오염가스 분배관(4)과, 분산판(5), 그리고 믹싱디스크(6)를 더 구비되게 함으로서, 구성된다.In the conventional pollutant gas purification apparatus formed by partitioning the contaminated solution storage chamber (1), the reaction chamber (2), and the purge air discharge chamber (3) in a sequential stacked structure into the purification treatment tank (100), the reaction The pollutant gas distribution pipe 4, the dispersion plate 5, and the mixing disk 6 are further provided inside the chamber 2, so that it is comprised.

이에, 먼저, 상기 오염용액저장실(1)은 도 1로 도시된 바와 같이 밀폐용기구조를 취하는 정화처리탱크(100)의 내측 하부면에 소정의 공간형태로 이루어지는 구성으로서, 이에 이러한 오염용액저장실(1)은 그 일측벽면 하단에 정화용액을 순환시키기위한 용액순환관(11)이 배관연결되고, 그 타측면에 오염된 용액을 외부로 배출시키기 위한 배수처리관(12)과, 이 일체로 배관 연결된다.Thus, first, the contaminated solution storage chamber 1 is configured as a predetermined space on the inner lower surface of the purification tank 100 taking a closed container structure as shown in FIG. 1) is connected to the solution circulation pipe 11 for circulating the purification solution to the lower end of one side wall, the drainage pipe 12 for discharging the contaminated solution to the outside to the outside, and the integral pipe Connected.

또한, 상기 반응실(2)은 밀폐용기구조를 취하는 정화처리탱크(100)의 내측 중앙부에 소정의 공간형태로 이루어지는 구성으로서, 이는 정화용 액체(물 등)와 오염가스를 혼합되게 하여, 그 오염된 가스를 안정적으로 정화처리되게 하는 소정의 공간 구성을 취하는 것인바, 이에 이와 같은 구성의 반응실(2)을 본 발명에 적용함에 있어서는, 도 1 또는 도 2로 도시된 바와 같이 그 반응실(2) 내부에 후술하는 본 발명의 핵심적 기술요소, 즉, 오염가스 분배관(4)과, 분산판(5), 그리고 믹싱디스크(6)를 내설시킨 구조로 형성하고, 그 반응실(2)의 일측벽면 하단에 외부에 용액공급펌프(P1)와 용액순환펌프(P2)가 연결된 형태로서, 정화용 용액(물 등)을 반응실(2) 내로 공급토록 하는 수단, 즉 도 1 또는 도 2로 로 도시되 바와 같이 직립구조의 토출구(211)를 구비한 용액 공급배관(21)을 일체로 더 연결되게 함이 바람직하다.In addition, the reaction chamber 2 has a predetermined space in the inner central portion of the purification tank 100 having a closed container structure, which causes the purification liquid (water, etc.) to be mixed with the polluting gas, and the contamination thereof. It takes a predetermined space configuration to stably purify the gas, so that in applying the reaction chamber 2 having such a configuration to the present invention, as shown in FIG. 2) Inside the core technical elements of the present invention described later, that is, the contaminated gas distribution pipe 4, the dispersion plate 5, and the mixing disk 6 is formed in a structure built-in, the reaction chamber (2) The solution supply pump (P1) and the solution circulation pump (P2) is connected to the bottom of one side wall of the outside, the means for supplying the purification solution (water, etc.) into the reaction chamber 2, that is to FIG. As shown, the solution having the discharge port 211 of the upright structure To more rapid connection pipe 21 integrally that this is preferred.

여기서, 상기 반응실(2)로 내설되는 오염가스 분배관(4)은 반응실(2)의 내주면에 도 2로 도시된 바와 같이 링 형상을 취하며 설치되는 구성으로서, 그 링 형상을 취하는 오염가스 분배관(4) 내측면 둘레에 도 3으로 도시된 바와 같이 상,하 높이를 달리하는 지그재그 배열구성으로, 일방향을 향해 직각 절곡구조로 돌출된 다수개의 오염가스 배출관(41)을 일체로 더 형성하고, 재차 오염가스 분배관(4) 외측 일면에 고압의 흡입휀(Fan)(F)작동에 의해 오염가스를 공급되게 하는 오염가스 공급배관(42)을 연결되게 함이 바람직하다.Here, the pollutant gas distribution pipe 4 installed in the reaction chamber 2 has a ring shape on the inner circumferential surface of the reaction chamber 2 as shown in FIG. 2 and has a ring shape. As shown in FIG. 3, the gas distribution pipe 4 has a zigzag arrangement having different up and down heights, and further integrates a plurality of polluting gas discharge pipes 41 protruding at right angles toward one direction. It is preferable to connect the contaminated gas supply pipe 42 to the contaminated gas supply pipe 42 so as to supply the contaminated gas to the outer surface of the contaminated gas distribution pipe 4 again by a high pressure suction fan (F) operation.

이때, 상기 오염가스 배출관(41)의 단부는 상기 오염가스 분배관(4)과 연통되는 분사입구(411)로 형성되는 것이다.At this time, the end of the polluting gas discharge pipe 41 is formed by the injection inlet 411 in communication with the polluting gas distribution pipe (4).

또한, 상기 반응실(2)로 내설되는 분산판(5)은 도 4로 도시된 바와 같이 그 전면에 걸쳐 다수개의 기체분산공(51)이 형성된 격막형태로 이루어지게 함이 바람 직한 것으로, 이와 같이 이루어지는 분산판(5)은 전술한 오염가스 분배관(4)에 있어, 다수개의 구성으로 형성된 각 오염가스 배출관(41)의 전방측에 소정간격 이격된 형태를 취하며, 그 형성된 오염가스 배출관(41)과 대응하는 동일한 수량으로 배치 구성된다. In addition, it is preferable that the dispersion plate 5 installed in the reaction chamber 2 is formed in a diaphragm form in which a plurality of gas dispersing holes 51 are formed over the entire surface thereof, as shown in FIG. 4. The distribution plate 5 formed as described above has a shape spaced apart from the front side of each of the polluting gas discharge pipes 41 formed in a plurality of configurations in the above-described polluting gas distribution pipe 4, and the formed polluting gas discharge pipe It is arranged and arranged in the same quantity corresponding to 41.

또한, 상기 반응실(2)로 내설되는 믹싱디스크(6)는 도 5로 도시된 바와 같이 직립 관통구조를 취하는 소정길이의 오버플로우관(61)을 중심으로, 상기 오버플로우관(61) 상부측에 상,하 소정간격 이격된 2단 복층구조로서 디스크부재(62)를 일체로 결합 형성시키고, 상기 2단 복층구조를 이루는 상,하 디스크부재(62)의 전면 걸쳐 다수개의 관통구조를 취하는 통기공(621)을 더 형성되게 함이 바람직하다. In addition, the mixing disk 6 built into the reaction chamber 2 has a predetermined length of the overflow tube 61 having an upright through structure as shown in FIG. 5, and the upper portion of the overflow tube 61. It is a two-stage double layer structure spaced up and down predetermined intervals on the side to integrally form the disk member 62, taking a plurality of through structure over the entire surface of the upper and lower disk member 62 constituting the two-stage double layer structure. It is preferable to further form the vent 621.

이때, 상기 디스크부재(62)에 통기공(621)을 형성함에 있어서는, 상부 및 하부 디스크부재(62)로 형성된 통기공(621)의 관통위치가 상호 일치되지 않도록 엇갈림 구조로 형성한다.At this time, in forming the vent hole 621 in the disk member 62, the through position of the vent hole 621 formed of the upper and lower disk member 62 is formed in a staggered structure so as not to mutually match.

끝으로, 상기 정화공기 배출실(3)은 도 1또는 도 2로 도시된 바와 같이 밀폐용기구조를 취하는 정화처리탱크(100)의 내측 상부면에 소정의 공간형태로 이루어지는 구성으로서, 이와 같은 정화공기 배출실(3)은 그 중앙부에 통상의 기수분리기(31)가 설치되고, 상기 기수분리기(31) 상부측에 배출호퍼(32)가 구비된 형태로 구성된다.Finally, the purification air discharge chamber 3 is configured as a predetermined space on the inner upper surface of the purification tank 100 taking a closed container structure as shown in Figure 1 or 2, such purification The air discharge chamber 3 is configured in the form of a conventional water separator 31 is provided in the center, the discharge hopper 32 is provided on the top of the water separator 31.

따라서, 상기와 같은 구성요소로 이루어진 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 상호 결합함에 있어서는; Therefore, in the mutual coupling of the rapid rotational collision polluting gas purification apparatus according to the present invention composed of the above components;

오염액체저장실(1)과, 반응실(2)과, 정화공기 배출실(3)로 구획 형성된 정화 처리탱크(100)를 기초구성으로 하여, 상기 반응실(2) 내주면에 다수개의 오염가스 배출관(41)이 구비된 링 형상의 오염가스 분배관(4)을 설치시키고, 재차, 상기 오염가스 분배관(4) 상부면에 오버플로우관(61)과, 2단 복층 구성의 디스크부재(62)로 이루어진 믹싱디스크(6)를 장착, 설치되게 한 후;The contaminated liquid storage chamber 1, the reaction chamber 2, and the purification processing tank 100 partitioned into the purification | cleaning air discharge chamber 3 are based, and many contaminant gas discharge pipes are formed in the inner peripheral surface of the said reaction chamber 2; A ring-shaped polluted gas distribution pipe 4 provided with a 41 is provided, and again, an overflow pipe 61 and a disk member 62 having a two-stage double-layer configuration on the upper surface of the polluted gas distribution pipe 4. After mounting and installing the mixing disk (6) consisting of;

상기 오염가스 분배관(4)의 외측 일면을 오염가스 공급배관(42)에 의해 도 2로 도시된 바와 같이 외부 별도의 구성인 흡입휀(F)과 연결되게 하고;An outer surface of the polluted gas distribution pipe 4 is connected to a suction fan F having an external separate configuration as shown in FIG. 2 by the polluted gas supply pipe 42;

또한, 반응실(2)의 일측면을 용액 순환배관(21)에 의해 도 2로 도시된 바와 같이 외부 별도구성인 용액공급펌프(P1)및 용액순환펌프(P2)와 연결되게 하고, 재차, 상기 용액순환펌프(P2)를 오염액체저장실(1) 일측벽면 하단에 구비된 용액순환관(11)과 배관 연결되게 함으로서, 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치를 구현한다. In addition, one side of the reaction chamber (2) is connected to the solution supply pump (P1) and the solution circulation pump (P2) of the external separate configuration as shown in Figure 2 by the solution circulation pipe 21, again, By connecting the solution circulation pump (P2) and the pipe with the solution circulation pipe 11 provided at the lower side wall surface of the contaminated liquid storage chamber 1, implements a rapid rotational collision type pollutant purification apparatus according to the present invention.

이에, 상기와 같은 결합구성을 갖는 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 사용관계 및 그에 따른 상호 작용기능을 도 6을 참고로 하여 살펴보면 다음과 같다.Thus, the relationship between the use of the quick-rotating impact polluting gas purification apparatus according to the present invention having the above-described configuration and the interaction function thereof will be described with reference to FIG. 6.

먼저, 용액공급펌프(P1)의 구동력을 이용, 용액 공급배관(21)을 통해 별도 마련된 외부 급수시설(도시생략)로 부터 반응실(2)내로 청정상태의 정화용 용액(물 등)을 공급되게 하여, 그 반응실(2) 내부에 도 6으로 도시된 바와 같이 정화용 용액을 일정량 충진 되도록 한 후, 상기 용액공급펌프(P1)의 구동을 정지되게 한다.First, using a driving force of the solution supply pump (P1) to be supplied with a clean solution for purification (water, etc.) from the external water supply facility (not shown) separately provided through the solution supply pipe 21 into the reaction chamber (2). By filling the reaction chamber 2 with a certain amount of the purification solution as shown in FIG. 6, the driving of the solution supply pump P1 is stopped.

이어, 이와 같은 상태에서 흡입휀(F)에 의한 일정한 압력발생으로 가스 순환배관(42)을 통해 오염가스를 오염가스 분배관(4)으로 공급하게 되면, 그 공급되는 오염가스는 상기 오염가스 분배관(4) 내측면으로 배열구성된 각 오염가스 배출관(41)의 분사입구(411)를 통해 정화용 용액이 충진된 반응실(2) 내로 분사 유입되고, 이와 같이 유입되는 오염가스는 그 분사압력과 일방향을 향해 절곡 돌출 구성된 오염가스 배출관(41)의 구조적 특징에 따라 충진된 정화용액에 와류를 발생시키게 된다. Subsequently, when the polluted gas is supplied to the polluted gas distribution pipe 4 through the gas circulation pipe 42 due to the constant pressure generated by the suction fan F in such a state, the polluted gas supplied is divided into the polluted gas. Through the injection inlet 411 of each polluting gas discharge pipe 41 arranged on the inner side of the pipe 4 is injected into the reaction chamber (2) filled with the purification solution, and the polluted gas introduced in this way and the injection pressure According to the structural characteristics of the contaminated gas discharge pipe 41 configured to be bent toward one direction, the vortices are generated in the filled purification solution.

이때, 상기 반응실(2) 내로 분사유입 되는 오염가스는 배출관 전방측에 소정간격 이격 설치된(도 4참조) 분산판(5)에 충돌하게 되는 것으로, 이에 이와 같은 충돌작용에 의해 유입되는 오염가스는 분산판(5)의 기체분산공(51)을 통해 미세한 기포형태로 분산되고 깨지면서 정화용 액체와의 물리, 화학적 용융 혼합 반응률을 증대되게 한다. At this time, the contaminated gas injected into the reaction chamber 2 is to collide with the distribution plate 5 installed at a predetermined interval (see Fig. 4) in the discharge pipe front side, contaminated gas introduced by such a collision action Disperses and breaks into fine bubbles through the gas dispersion hole 51 of the dispersion plate 5 to increase the physical and chemical melt mixing reaction rate with the purification liquid.

따라서, 이와 같은 오염가스 유입에 따른 정화용 용액의 와류발생 및 분산판(5)에 의한 기포분산작용에 의해 오염가스에 포함된 유해물질을 정화용액과 최대한 접촉시켜(비포면적극대화) 물리, 화학적 반응을 증대 분해 및 용해시켜 반응되게 하여 용해 처리되는 것이고, 이와 같은 작용에 의해 오염된 정화용 용액은 오버플로우관(61)을 통해 넘쳐 흘러 오염액체저장실(1)로 유입 저장된다.Therefore, the toxic substances contained in the polluted gas are brought into contact with the purification solution as much as possible by the vortex generation of the purification solution resulting from the inflow of the polluting gas and the bubble dispersion by the dispersion plate 5 (maximum specific surface area). It is to be dissolved and treated by increasing the decomposition and dissolution, and the purification solution contaminated by this action flows through the overflow pipe 61 flows into the contaminated liquid storage chamber (1).

특히, 이때 상기 오염가스와 반응 후, 오염액체저장실로 유입된 정화용액은 오염가스가 용해 반응된 상태라 하더라도, 그 용해율이 정화용액의 반응용량에 미치지 못하는 것으로, 이에, 오염가스의 용해량이 정화용액내에 포화상태를 이룰 때 까지 용액공급펌프(P1)를 정지시켜 새로운 정화용액의 공급을 차단하고, 이를 대신하여 용액순환펌프(P2)만을 구동시켜 반응실(2)에 충진된 정화용액을 반복적으로 순환작용을 행하도록 하는 것이며, 이러한 순환 반응작용에 의해 오염가스의 용해율이 정화용액내에 포화상태를 이룰 경우, 그 포화상태의 정화용액은 배수처리관(12)를 통해 배출 폐기시키고, 재차 용액공급펌프(P1)구동에 의해 새로운 청정상태의 정화용액을 반응실(2) 내에 재 충전시키게 되는 것이다.In particular, after the reaction with the contaminated gas, the purification solution introduced into the contaminated liquid storage chamber, even if the contaminated gas is dissolved and reacted, its dissolution rate does not reach the reaction capacity of the purification solution. Stop supply of the new purification solution by stopping the solution supply pump (P1) until saturation in the solution, and instead, only the solution circulating pump (P2) is driven to repeat the purification solution filled in the reaction chamber (2). In this case, when the dissolution rate of the polluted gas becomes saturated in the purification solution by the circulation reaction, the saturation of the purification solution is discharged and discarded through the drainage pipe 12, and the solution again. By driving the supply pump P1, a new cleansing solution is refilled in the reaction chamber 2.

끝으로, 상기와 같은 작용에 의해 정화 처리된 오염가스는 배출실(3)의 기수분리기(31)를 통과하며 그 정화 가스에 포함된 수분을 분리시킨 형태로, 배출호퍼(32)를 통해 대기중으로 방출됨으로서, 일련의 오염가스 정화처리 작용을 완료한다. Finally, the polluted gas purified by the above-described action passes through the water separator 31 of the discharge chamber 3 and separates the water contained in the purified gas, and the atmosphere passes through the discharge hopper 32. As it is released into the middle, a series of polluting gas purification actions are completed.

이때, 전술한 일련의 오염가스 정화처리 작용을 행함에 있어, 상기 반응실(2) 내측 중앙부로 설치되는 복층구조의 믹싱디스크(6)는, 오염가스 공급에 따른 고압의 와류발생시 정화용 용액 표면(수면)의 비산(飛散)현상을 방지되게 함으로서, 비반응 오염가스의 방출을 원천적으로 차단되게 하는 기능을 행하게 되는 것이며, 아울러 정상반응에 의해 배출되는 정화기체에 대하여는 믹싱디스크(6)의 디스크부재(62) 표면으로 형성된 다수개의 통기공(621)을 통해 유도시켜 원활한 배출처리 관계를 갖도록 하는 것이다.At this time, in performing the above-described series of contaminant gas purification treatments, the mixing disk 6 having a multi-layer structure installed in the inner center portion of the reaction chamber 2 has a solution surface for purification at the time of occurrence of high pressure vortex due to the supply of contaminated gas. By preventing the splashing of water surface, the discharge of unreacted polluted gas is essentially blocked, and the disk member of the mixing disc 6 is provided for the purge gas discharged by the normal reaction. (62) It is guided through a plurality of vents 621 formed in the surface to have a smooth discharge treatment relationship.

또한, 상기 오염가스를 반응실(2)내로 분사 유입되게 하는 다수개의 오염가스 배출관(41)은 일방향을 향해 절곡된 단순 구조의 관체로서, 분사입구(411)의 직경이 확대된 형태를 취함에 됨으로, 이에 정화작용에 의해 발생된 슬러지(오염물질)에 의해 오염가스 배출관(41)의 분사입구(411)가 막힘되는 현상을 예방되게 하는 것이며, 또한, 그 오염가스 배출관(41)의 구성이 상호 높이를 달리하는 지그재 그 방식으로 배열됨에 따라 오염가스 공급시 불필요한 와류간섭이 방지되어 오염가스의 고른 분산작용을 유도하는 기능을 행하게 된다.In addition, the plurality of contaminant gas discharge pipes 41 for injecting the contaminated gas into the reaction chamber 2 are pipes having a simple structure bent toward one direction, and the diameter of the inlet 411 is expanded. Therefore, the phenomenon that the injection inlet 411 of the polluting gas discharge pipe 41 is blocked by the sludge (pollutant) generated by the purification action is prevented, and the constitution of the polluting gas discharge pipe 41 is As the zigzag is arranged in such a way that the height is different from each other, unnecessary vortex interference is prevented when supplying polluted gas, thereby inducing a function of evenly dispersing polluted gas.

한편, 도 7은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 이실시예로서, 이와 같은 이실시예로서의 본 발명은 전술한 일실시예의 반응실(2) 구성을 도 6으로 도시된 바와 같이 상,하 복층구조로 가변형성되게 하여 오염가스의 발생량에 구애받음 없이 그 처리용량를 증,감 조절할수 있게 한 것으로, 이는 단순한 설계변경에 불과할 뿐 본 발명의 범주에서 벗어나는 것은 아니다. On the other hand, Figure 7 is a second embodiment of the rapid rotary collision type pollutant purification apparatus according to the present invention, the present invention as this embodiment as shown in Figure 6 the configuration of the reaction chamber 2 of the above-described embodiment By varying the upper and lower laminar structure, it is possible to increase and decrease the treatment capacity regardless of the generation amount of the polluting gas, which is merely a design change and does not depart from the scope of the present invention.

또 다르게 도 8은 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치의 삼실시예로서, 이와 같은 삼실시예로서의 본 발명은; 8 is another embodiment of the rapid rotational collision polluting gas purification apparatus according to the present invention, the present invention as such a three embodiment;

정화처리탱크(100) 내부로 오염액체저장실(1)과, 반응실(2)과, 정화공기 배출실(3)을 순차적 적층구조로 구획 형성시켜 구성한 오염가스 정화장치에 있어서;In the contaminated liquid purification chamber configured to partition the contaminated liquid storage chamber (1), the reaction chamber (2), and the purge air discharge chamber (3) in a sequential stacked structure in the purification tank (100);

상기 반응실(2) 내주면에 링 형상의 오염가스 분배관(4)이 설치되는 것을 포함하는 구조로 하여, 상기 오염가스 분배관(4) 내측면 둘레에 상,하 높이를 달리하는 지그재그 배열구성으로 일방향을 향해 직각 절곡구조로 돌출된, 분사입구(411)를 구비한 다수개의 배출관(41)을 일체로 형성시키고;A ring-shaped polluted gas distribution pipe 4 is installed on the inner circumferential surface of the reaction chamber 2, and a zigzag arrangement configuration is provided in which upper and lower heights vary around an inner surface of the polluted gas distribution pipe 4. Integrally forming a plurality of discharge pipes 41 having injection inlets 411, protruding at right angles to the one direction;

이어, 상기 오염가스 분배관(4) 상부면에 믹싱디스크(6)를 더 장착시키되, 그 믹싱디스크(6)의 구성은 도 7로 도시된 바와 같이 상,하 2단 복층구조로 형성된 보빈 형상의 디스크부재(62)로 형성하고;Subsequently, the mixing disk 6 is further mounted on the upper surface of the pollutant gas distribution pipe 4, and the mixing disk 6 has a bobbin shape formed in a two-layered upper and lower two-layer structure as shown in FIG. A disk member 62;

재차, 상기 디스크부재(62) 전면에 다수개의 통기공(621)을 더 형성되게 하여 구성한다. (도면 미설명 부호 21은 용액공급배관, P1은 용액공급펌프, P2는용액 순환펌프, F는 흡입휀)Again, a plurality of vent holes 621 are formed on the front surface of the disk member 62. 21 is a solution supply pipe, P1 is a solution supply pump, P2 is a solution circulation pump, and F is a suction port.

이에, 이와 같은 삼실시예로서의 본 발명은 전술한 일실시예의 구성에 있어, 단지 오염용액저장실(1)과 오버플로우관(61)의 구성만을 배제시킨 것으로, 이와 같은 삼실시예로서의 본 발명은 반응실(2)내에서 정화용액의 순환과 저장을 함께할 수 있는 소용량의 오염가스 정화시설에 설치 이용된다.Thus, the present invention as the third embodiment in the configuration of the above-described embodiment, only the configuration of the contaminated solution storage chamber 1 and the overflow tube 61, the present invention as such a third embodiment of the reaction chamber It is installed and used in small-capacity polluting gas purification facilities that can circulate and store the purification solution in (2).

이상, 본 발명에 따른 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치는 오염가스가 공급되는 오염가스 배출관의 분사입구 직경을 확대되게 하여 정화작용에 의해 발생된 슬러지에 의해 그 분사입구가 막힘되는 현상을 예방되도록 하고, 또한, 그 오염가스 배출관의 구성을 상호 높이를 달리하는 지그재그 방식으로 배열하여 오염가스 공급에 따른 와류간섭을 방지되게 하여 오염가스의 정화효율을 증대되도록 한 것이다.Above, the rapid rotational collision polluting gas purification apparatus according to the present invention to increase the diameter of the injection inlet of the polluting gas discharge pipe to which the polluting gas is supplied to prevent the injection inlet is blocked by sludge generated by the purification action. In addition, the constitution of the polluting gas discharge pipe is arranged in a zigzag manner having different heights to prevent vortex interference due to the polluting gas supply to increase the purification efficiency of the polluting gas.

또 다르게, 오염가스와 액체가 반응하는 반응실 내측 중앙부에 복층구조의 믹싱디스크를 설치하여, 오염가스 공급에 따른 와류발생시 정화용액 표면(수면)의 비산(飛散)현상을 방지되게 하여 비반응 오염가스의 방출을 원천적으로 차단되게 한 것으로, 이는 매우 유용한 기대효과를 제공한다.Alternatively, a multi-layered mixing disc is installed in the inner central part of the reaction chamber where the pollutant gas and the liquid react, thereby preventing scattering of the surface of the purification solution (surface) during the vortex caused by the pollutant gas supply. This allows the release of gas to be blocked at the source, which provides a very useful expected effect.

Claims

정화처리탱크(100) 내부로 오염용액저장실(1)과, 반응실(2)과, 정화공기 배출실(3)을 순차적 적층구조로 구획 형성시켜 구성한 오염가스 정화장치에 있어서;In the contaminated gas purification device configured to partition the contaminated solution storage chamber (1), the reaction chamber (2), and the purge air discharge chamber (3) in a sequential stacked structure into the purification tank (100);

상기 반응실(2)은 그 내주면에 링 형상의 오염가스 분배관(4)이 설치되는 것을 포함하며, 상기 오염가스 분배관(4) 내측면 둘레에 상,하 높이를 달리하는 지그재그 배열구성으로 일방향을 향해 절곡구조로 돌출된, 분사입구(411)를 구비한 다수개의 오염가스 배출관(41)을 일체로 형성하고;The reaction chamber 2 includes a ring-shaped polluted gas distribution pipe 4 installed on an inner circumferential surface thereof, and has a zigzag arrangement in which upper and lower heights are varied around an inner surface of the polluted gas distribution pipe 4. Integrally forming a plurality of polluting gas discharge pipes (41) having injection inlets (411) protruding in a bent structure toward one direction;

상기 오염가스 분배관(4) 상부면에 믹싱디스크(6)를 더 장착하되, 상기 믹싱디스크(6)는 관통구조를 취하는 오버플로우관(61)을 중심으로, 상기 오버플로우관(61) 상부측에 디스크부재(62)가 일체로 결합 구성됨을 특징으로 하는 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치. The mixing disk 6 is further mounted on the upper surface of the pollutant gas distribution pipe 4, but the mixing disk 6 is centered on the overflow pipe 61 having a through structure, and the upper portion of the overflow pipe 61. Rapid rotational collision type polluting gas purification apparatus, characterized in that the disk member 62 is integrally configured on the side.

제 1항에 있어서;The method of claim 1;

상기 반응실(2)은 오염가스 분배관(4)으로 형성된 각 오염가스 배출관(41) 전방측에 소정간격 이격된 고정구조로서, 기체분산공(51)이 형성된 분산판(5)이 더 장착 구성됨을 특징으로 하는 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치. The reaction chamber 2 is a fixed structure spaced a predetermined interval on the front side of each of the polluting gas discharge pipe 41 formed of the polluting gas distribution pipe 4, the distribution plate 5 with the gas dispersion hole 51 is further mounted Quick rotation impingement pollutant purification device, characterized in that configured.

제1항 또는 제2항에 있어서;The method of claim 1 or 2;

상기 반응실(2)은 상,하 복층구조로 가변 형성되어 오염가스의 처리용량을 조절하게 됨을 특징으로 하는 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치. The reaction chamber (2) is formed in a variable upper and lower fold structure to adjust the processing capacity of the polluting gas, the rapid rotary collision type pollutant purification apparatus.

제 1항에 있어서;The method of claim 1;

상기 믹싱디스크(6)의 디스크부재(62)는 상,하 소정간격 이격된 2단 복층구조로 형성되고;The disk member 62 of the mixing disk 6 is formed in a two-stage multilayer structure spaced apart by a predetermined interval up and down;

상기 복층구조를 이루는 디스크부재(62) 전면에 다수개의 통기공(621)이 더 형성됨을 특징으로 하는 급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치. Rapid rotational collision type polluting gas purification apparatus, characterized in that a plurality of vents (621) is further formed on the front surface of the disk member (62) forming the multi-layer structure.

상기 반응실(2)은 그 내주면에 링 형상의 오염가스 분배관(4)이 설치되는 것을 포함하며, 상기 오염가스 분배관(4) 내측면 둘레에 상,하 높이를 달리하는 지그재그 배열구성으로 일방향을 향해 직각 절곡구조로 돌출된, 분사입구(411)를 구비한 다수개의 오염가스 배출관(41)을 일체로 형성하고;The reaction chamber 2 includes a ring-shaped polluted gas distribution pipe 4 installed on an inner circumferential surface thereof, and has a zigzag arrangement in which upper and lower heights are varied around an inner surface of the polluted gas distribution pipe 4. Integrally forming a plurality of polluting gas discharge pipes (41) having injection inlets (411), protruding in a right angle bending structure toward one direction;

상기 오염가스 분배관(4) 상부면에 믹싱디스크(6)를 더 장착하되, 상기 믹싱 디스크(6)는 상,하 2단 복층구조로 형성된 보빈 형상의 디스크부재(62)로 형성되고;A mixing disc 6 is further mounted on an upper surface of the pollutant gas distribution pipe 4, wherein the mixing disc 6 is formed of a bobbin-shaped disc member 62 formed of two upper and lower two-layered structures;

상기 디스크부재(62) 전면에 다수개의 통기공(621)이 더 형성됨을 특징으로 하는 급속 회전 출돌식 오염가스 정화장치. Quickly rotated contaminated gas purification apparatus, characterized in that a plurality of vents (621) is further formed on the front of the disk member (62).