JPH10323724A - 被覆型部材 - Google Patents
被覆型部材Info
- Publication number
- JPH10323724A JPH10323724A JP15440797A JP15440797A JPH10323724A JP H10323724 A JPH10323724 A JP H10323724A JP 15440797 A JP15440797 A JP 15440797A JP 15440797 A JP15440797 A JP 15440797A JP H10323724 A JPH10323724 A JP H10323724A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- carbonitride layer
- coating
- particle size
- carbo nitride
- Prior art date
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- Pending
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- Mounting, Exchange, And Manufacturing Of Dies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 すぐれた耐摩耗性と耐欠損性を有し、摩耗形
態も平滑で肌荒れが起こりにくく、長期にわたって高精
度を維持する被覆型部材を提供することを目的とする。 【構成】 被覆型部材において、その硬質被覆層は金属
元素として少なくともＴｉを含む炭窒化物層を一層以上
有し、前記炭窒化物層の断面組織が柱状晶を示すことを
特徴とする被覆型部材。また、前記柱状晶の粒径を柱状
晶の上部と下部で粒径の比を１〜１．３と差を少なくす
ることにより構成する。
態も平滑で肌荒れが起こりにくく、長期にわたって高精
度を維持する被覆型部材を提供することを目的とする。 【構成】 被覆型部材において、その硬質被覆層は金属
元素として少なくともＴｉを含む炭窒化物層を一層以上
有し、前記炭窒化物層の断面組織が柱状晶を示すことを
特徴とする被覆型部材。また、前記柱状晶の粒径を柱状
晶の上部と下部で粒径の比を１〜１．３と差を少なくす
ることにより構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本願発明は、型材、特に打ち抜き
用のパンチに適した型材に関し、特に型材に被覆して被
打ち抜き材との化学的反応を減少させた被覆型部材に関
する。
用のパンチに適した型材に関し、特に型材に被覆して被
打ち抜き材との化学的反応を減少させた被覆型部材に関
する。
【０００２】
【従来の技術】リードフレームにＩＣをマウントする工
程には従来より各種の超硬合金製パンチ、ダイが使用さ
れている。特にリードフレームの打ち抜き加工用のパン
チやダイ、およびタイバーカットパンチ、ダイには超硬
合金を使用するのが一般的である。近年、ＩＣチップの
多ピン化に伴いリードフレームのパターンはファイン化
し、その材料も薄くかつ硬いものへと変化してきてい
る。これに対応して打ち抜き用のパンチ、ダイの材料も
薄く、折損せず、かつ耐摩耗性に優れたものが求められ
ている。ＷＣ基超硬合金にＣＢＮ等を被覆した型部材と
して特開平７−２７２９８３号公報に記載のものが知ら
れている。
程には従来より各種の超硬合金製パンチ、ダイが使用さ
れている。特にリードフレームの打ち抜き加工用のパン
チやダイ、およびタイバーカットパンチ、ダイには超硬
合金を使用するのが一般的である。近年、ＩＣチップの
多ピン化に伴いリードフレームのパターンはファイン化
し、その材料も薄くかつ硬いものへと変化してきてい
る。これに対応して打ち抜き用のパンチ、ダイの材料も
薄く、折損せず、かつ耐摩耗性に優れたものが求められ
ている。ＷＣ基超硬合金にＣＢＮ等を被覆した型部材と
して特開平７−２７２９８３号公報に記載のものが知ら
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の技術には次のよ
うな課題がある。即ち、被覆処理を高周波プラズマ化学
蒸着法（以下、ＰＣＶＤ法と略称する。）、マイクロ波
ＣＶＤ法（以下、ＭＣＶＤ法と略称する。）等で行った
場合、基体のエッジ部、コーナー部に熱が集中し均一な
膜厚を実現しにくい。また、各種ＰＶＤで行った場合に
は被膜の堆積に方向性があるため目的の面への被覆が困
難な場合が多い。このことは上述の年々進むパターンの
ファイン化への対応を困難なものにし、パンチ、ダイス
の製作上の課題となっている。さらに、被覆層の膜質に
関してＣＢＮは耐摩耗性に優れるものの剥離しやすい、
量産が困難である、などの課題を有している。本願発明
はこれらの課題を解決した上で、さらに十分な耐摩耗性
を有する型部材を提供することにある。
うな課題がある。即ち、被覆処理を高周波プラズマ化学
蒸着法（以下、ＰＣＶＤ法と略称する。）、マイクロ波
ＣＶＤ法（以下、ＭＣＶＤ法と略称する。）等で行った
場合、基体のエッジ部、コーナー部に熱が集中し均一な
膜厚を実現しにくい。また、各種ＰＶＤで行った場合に
は被膜の堆積に方向性があるため目的の面への被覆が困
難な場合が多い。このことは上述の年々進むパターンの
ファイン化への対応を困難なものにし、パンチ、ダイス
の製作上の課題となっている。さらに、被覆層の膜質に
関してＣＢＮは耐摩耗性に優れるものの剥離しやすい、
量産が困難である、などの課題を有している。本願発明
はこれらの課題を解決した上で、さらに十分な耐摩耗性
を有する型部材を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願発明者らは最適な被覆方法及び膜質について検
討した結果以下の構成を有する被覆型部材とすることに
より解決した。第１に、膜質に関して検討した結果、金
属元素として少なくともＴｉを含み、その炭窒化物層を
一層以上含む被覆層とすることにより十分な硬さと低い
摩擦係数とし、また、その前記炭窒化物層を、前記炭窒
化物層の上端から内部に向かって前記炭窒化物層の厚さ
の１／５の距離の位置における柱状結晶粒の水平方向の
平均粒径ｄ１と、前記炭窒化物層の下端から内部に向か
って前記炭窒化物層の厚さの２／５の距離の位置におけ
る柱状結晶粒の水平方向の平均粒径ｄ２の比、ｄ１／ｄ
２が１≦ｄ１／ｄ２≦１．３とすることにより、パンチ
に作用する軸方向の負荷に対して脱落・チッピング・欠
損等を生じにくい被覆層とする。
に、本願発明者らは最適な被覆方法及び膜質について検
討した結果以下の構成を有する被覆型部材とすることに
より解決した。第１に、膜質に関して検討した結果、金
属元素として少なくともＴｉを含み、その炭窒化物層を
一層以上含む被覆層とすることにより十分な硬さと低い
摩擦係数とし、また、その前記炭窒化物層を、前記炭窒
化物層の上端から内部に向かって前記炭窒化物層の厚さ
の１／５の距離の位置における柱状結晶粒の水平方向の
平均粒径ｄ１と、前記炭窒化物層の下端から内部に向か
って前記炭窒化物層の厚さの２／５の距離の位置におけ
る柱状結晶粒の水平方向の平均粒径ｄ２の比、ｄ１／ｄ
２が１≦ｄ１／ｄ２≦１．３とすることにより、パンチ
に作用する軸方向の負荷に対して脱落・チッピング・欠
損等を生じにくい被覆層とする。
【０００５】さらに、前記炭窒化物層の前記炭窒化物層
を比較的低温の化学蒸着法（以下、ＣＶＤ法と略称す
る。）７００〜９５０℃の温度で形成するため、前記炭
窒化物層の塩素含有量を０．０１〜０．７ｗｔ％とやや
多い残留であるが、通常のＣＶＤコーティング皮膜には
原料物質から混入する塩素はほとんど含まれないが、結
晶粒子の粗大化を抑制するようコーティング条件を変更
すると、皮膜中の塩素が増加する傾向がみられる。通常
の使用上、特に問題にならない量とした。
を比較的低温の化学蒸着法（以下、ＣＶＤ法と略称す
る。）７００〜９５０℃の温度で形成するため、前記炭
窒化物層の塩素含有量を０．０１〜０．７ｗｔ％とやや
多い残留であるが、通常のＣＶＤコーティング皮膜には
原料物質から混入する塩素はほとんど含まれないが、結
晶粒子の粗大化を抑制するようコーティング条件を変更
すると、皮膜中の塩素が増加する傾向がみられる。通常
の使用上、特に問題にならない量とした。
【０００６】
【作用】上記構成をとることにより、まず金属元素とし
て少なくともＴｉを含む炭窒化物層を一層以上含む被覆
層とした理由は、このような被覆層が型部材として十分
な硬さと靱性を持っているからである。被覆層の断面組
織が柱状晶を示す層を一層以上設けるとした理由は、柱
状晶は粒子の脱落を起こしにくく、均一に摩耗するの
で、パンチ、ダイスとして使用したときに表面の肌荒れ
を起こしにくく、また長時間にわたり高精度を維持でき
るからである。また、被覆層の成膜速度が速いためあら
かじめ厚く被覆しておき被覆後に研磨加工等によって仕
上げる工程をとる場合にも能率がよい。
て少なくともＴｉを含む炭窒化物層を一層以上含む被覆
層とした理由は、このような被覆層が型部材として十分
な硬さと靱性を持っているからである。被覆層の断面組
織が柱状晶を示す層を一層以上設けるとした理由は、柱
状晶は粒子の脱落を起こしにくく、均一に摩耗するの
で、パンチ、ダイスとして使用したときに表面の肌荒れ
を起こしにくく、また長時間にわたり高精度を維持でき
るからである。また、被覆層の成膜速度が速いためあら
かじめ厚く被覆しておき被覆後に研磨加工等によって仕
上げる工程をとる場合にも能率がよい。
【０００７】前記炭窒化物層の粒径ｄ１とｄ２の比を１
≦ｄ１／ｄ２≦１．３としたのは、前記炭窒化物層の垂
直方向に長い粒子では、使用中の負荷が１つの粒子に粒
界を介さずに伝わるため、軸方向の力に非常に強いもの
となる。また、摩耗に関しては、方向性の無い粒子では
粒子が、粒界より脱落することにより摩耗が進行する
が、軸方向に長い粒子では、脱落することがなく、耐摩
耗性に対して優れている。これらが柱状晶の前記炭窒化
物層を採用する大きな理由であるが、本発明では特に柱
状晶粒子のテーパー形状に留意し、柱状晶の上部と下部
で粒径に差が少なくｄ１／ｄ２が１に近いものとした。
このようにすることで断続切削において、皮膜に発生す
るクラックは垂直方向に入り、基体表面と平行なクラッ
クは従来のものと比べて非常に入りにくい。基体表面と
平行なクラックは、皮膜の破壊、剥離につながり、これ
は即ち工具寿命を大幅に縮める。
≦ｄ１／ｄ２≦１．３としたのは、前記炭窒化物層の垂
直方向に長い粒子では、使用中の負荷が１つの粒子に粒
界を介さずに伝わるため、軸方向の力に非常に強いもの
となる。また、摩耗に関しては、方向性の無い粒子では
粒子が、粒界より脱落することにより摩耗が進行する
が、軸方向に長い粒子では、脱落することがなく、耐摩
耗性に対して優れている。これらが柱状晶の前記炭窒化
物層を採用する大きな理由であるが、本発明では特に柱
状晶粒子のテーパー形状に留意し、柱状晶の上部と下部
で粒径に差が少なくｄ１／ｄ２が１に近いものとした。
このようにすることで断続切削において、皮膜に発生す
るクラックは垂直方向に入り、基体表面と平行なクラッ
クは従来のものと比べて非常に入りにくい。基体表面と
平行なクラックは、皮膜の破壊、剥離につながり、これ
は即ち工具寿命を大幅に縮める。
【０００８】また、この時の前記炭窒化物層の粒径とし
てはｄ１が１．５μｍ以下の場合に、特に耐摩耗性に優
れている。ｄ１が１．５μｍより大では１つの粒子が大
きくなりすぎ、切削時の力を多くの粒界で分散して受け
止めることが出来ず、皮膜が破壊しやすくなる。ｄ１を
１．５μｍ以下とすれば皮膜が破壊しにくくなる上に、
たとえ破壊が起こっても微細な結晶粒故に大規模な結晶
粒の脱落が起こりにくくなるため、摩耗の進行が不安定
になりにくい利点がある。より好ましくはｄ１を１．２
μｍ以下とする。しかし、ｄ１が小さすぎる場合は柱状
晶の効果が現れにくくなるのでｄ１は０．２μｍ以上が
必要である。より好ましくはｄ１を０．５μｍ以上とす
る。尚、平均粒径ｄ１及びｄ２の評価は、電子顕微鏡に
より撮影された皮膜の破面の一定視野の写真の中にみら
れる粒子の数を数えることによって行われる。ｄ１は前
記炭窒化物層の上端の界面から前記炭窒化物層膜厚の１
／５の距離の位置において測定する。例えば、この位置
に引いた基体表面と水平な１０μｍの線分上に２０本の
粒子がある場合、水平方向の平均粒径は０．５μｍとな
る。同様に、ｄ２は前記炭窒化物層の下端の界面から前
記炭窒化物層膜厚の２／５の距離の位置において測定す
る。
てはｄ１が１．５μｍ以下の場合に、特に耐摩耗性に優
れている。ｄ１が１．５μｍより大では１つの粒子が大
きくなりすぎ、切削時の力を多くの粒界で分散して受け
止めることが出来ず、皮膜が破壊しやすくなる。ｄ１を
１．５μｍ以下とすれば皮膜が破壊しにくくなる上に、
たとえ破壊が起こっても微細な結晶粒故に大規模な結晶
粒の脱落が起こりにくくなるため、摩耗の進行が不安定
になりにくい利点がある。より好ましくはｄ１を１．２
μｍ以下とする。しかし、ｄ１が小さすぎる場合は柱状
晶の効果が現れにくくなるのでｄ１は０．２μｍ以上が
必要である。より好ましくはｄ１を０．５μｍ以上とす
る。尚、平均粒径ｄ１及びｄ２の評価は、電子顕微鏡に
より撮影された皮膜の破面の一定視野の写真の中にみら
れる粒子の数を数えることによって行われる。ｄ１は前
記炭窒化物層の上端の界面から前記炭窒化物層膜厚の１
／５の距離の位置において測定する。例えば、この位置
に引いた基体表面と水平な１０μｍの線分上に２０本の
粒子がある場合、水平方向の平均粒径は０．５μｍとな
る。同様に、ｄ２は前記炭窒化物層の下端の界面から前
記炭窒化物層膜厚の２／５の距離の位置において測定す
る。
【０００９】次にＣＶＤ法は複雑な形状の部材に対して
もガス成分を対流させて行うため膜厚のばらつきが少な
い均一な膜が得られるので、型部材等の被覆方法として
最適である。また、部材内での温度むらも極めて小であ
ることから、膜厚のばらつき、粒度等のムラが少ない均
一な膜が得られる。特にＣＶＤ法に中でも、金属元素と
して少なくともＴｉを含む炭窒化物層はシアン基を有す
る化合物などを原料ガスとして用いることにより比較的
低温（７００〜９５０℃の温度）で形成・被覆できるの
で、部材の寸法の狂いも少ない。また、被覆層の成膜速
度が速いため、部材が加熱される時間が短くて済み、精
度の維持に有利である。
もガス成分を対流させて行うため膜厚のばらつきが少な
い均一な膜が得られるので、型部材等の被覆方法として
最適である。また、部材内での温度むらも極めて小であ
ることから、膜厚のばらつき、粒度等のムラが少ない均
一な膜が得られる。特にＣＶＤ法に中でも、金属元素と
して少なくともＴｉを含む炭窒化物層はシアン基を有す
る化合物などを原料ガスとして用いることにより比較的
低温（７００〜９５０℃の温度）で形成・被覆できるの
で、部材の寸法の狂いも少ない。また、被覆層の成膜速
度が速いため、部材が加熱される時間が短くて済み、精
度の維持に有利である。
【００１０】通常のＣＶＤコーティング皮膜には原料物
質から混入する塩素はほとんど含まれないが、結晶粒子
の粗大化を抑制するようコーティング条件を変更する
と、皮膜中の塩素が増加する傾向がみられる。塩素が過
度に含まれると皮膜の耐摩耗性が劣化するが、０．７ｗ
ｔ％以下であるならば通常の使用上、特に問題にならな
い。特に耐摩耗性を重視し長寿命を狙う場合には０．１
ｗｔ％以下とすることが望ましい。以下に実施例によっ
て具体的に説明する。
質から混入する塩素はほとんど含まれないが、結晶粒子
の粗大化を抑制するようコーティング条件を変更する
と、皮膜中の塩素が増加する傾向がみられる。塩素が過
度に含まれると皮膜の耐摩耗性が劣化するが、０．７ｗ
ｔ％以下であるならば通常の使用上、特に問題にならな
い。特に耐摩耗性を重視し長寿命を狙う場合には０．１
ｗｔ％以下とすることが望ましい。以下に実施例によっ
て具体的に説明する。
【００１１】
【実施例】まず、市販のＷＣ、Ｃｏ、Ｃｒなどの原料よ
り、通常の粉末冶金法で超硬合金部材ＪＩＳ Ｖ４相当
を作成し、これを所定の形状に加工した。次に、表１に
示した被覆層を設けリードフレーム打ち抜きパンチを得
た。表１には、その被覆方法、結晶形状をまとめて記載
した。尚、柱状晶の粒径は前記記載の方法で測定し結
果、本発明例５の膜厚１０μｍでは、粒径比ｄ１／ｄ２
＝１．２であり、本発明例１〜４のそれよりも薄い膜厚
では１．１前後であった。
り、通常の粉末冶金法で超硬合金部材ＪＩＳ Ｖ４相当
を作成し、これを所定の形状に加工した。次に、表１に
示した被覆層を設けリードフレーム打ち抜きパンチを得
た。表１には、その被覆方法、結晶形状をまとめて記載
した。尚、柱状晶の粒径は前記記載の方法で測定し結
果、本発明例５の膜厚１０μｍでは、粒径比ｄ１／ｄ２
＝１．２であり、本発明例１〜４のそれよりも薄い膜厚
では１．１前後であった。
【００１２】
【表１】
【００１３】尚、本発明例５には被覆後、仕上げ研磨加
工を施した。比較のため、比較例７は被覆なしのもの
を、比較例８は前記炭窒化物層を有しないものをそれぞ
れ用意した。比較例８は蒸着温度が高いため被覆後の寸
法の狂いが他よりも大きく、良品は３個中１個であっ
た。これらを用いてリードフレーム材の打ち抜き試験を
行った。５００００ショット終了後の各試料の状態と加
工可能数を表２に示す。
工を施した。比較のため、比較例７は被覆なしのもの
を、比較例８は前記炭窒化物層を有しないものをそれぞ
れ用意した。比較例８は蒸着温度が高いため被覆後の寸
法の狂いが他よりも大きく、良品は３個中１個であっ
た。これらを用いてリードフレーム材の打ち抜き試験を
行った。５００００ショット終了後の各試料の状態と加
工可能数を表２に示す。
【００１４】
【表２】
【００１５】本発明例はすぐれた耐摩耗性を示し１２
０，０００から２５０，０００ショットが可能であっ
た。本発明例はいずれにおいても柱状晶としているので
粒子脱落は認められず、正常な摩耗形態を示した。本発
明例１〜３は、Ｔｉ又はＴｉの一部を他の元素に置き換
えたので、添加する元素の特徴により耐溶着性が改善さ
れたので寿命がやや延びている。また、膜厚を厚くし、
仕上げ研磨加工した本発明例５は加工可能数が延びると
ともに、表面肌荒れが特に小で平滑な摩耗面を呈した。
更に、本発明例６においては最外層として低摩擦係数の
被覆層を設けたため、表面肌荒れが特に小で平滑な摩耗
面を呈した。それに対して、比較例の加工可能数は５
０，０００から７０，０００ショットであった。比較例
７は被覆なしであるので摩耗が早いのは当然であるが超
硬合金の硬質相脱落による表面肌荒れが見受けられた。
比較例８は被覆してあるもののＴｉＣＮ層が粒状結晶の
ため、やはり粒子脱落による表面肌荒れ、摩耗が観察さ
れた。
０，０００から２５０，０００ショットが可能であっ
た。本発明例はいずれにおいても柱状晶としているので
粒子脱落は認められず、正常な摩耗形態を示した。本発
明例１〜３は、Ｔｉ又はＴｉの一部を他の元素に置き換
えたので、添加する元素の特徴により耐溶着性が改善さ
れたので寿命がやや延びている。また、膜厚を厚くし、
仕上げ研磨加工した本発明例５は加工可能数が延びると
ともに、表面肌荒れが特に小で平滑な摩耗面を呈した。
更に、本発明例６においては最外層として低摩擦係数の
被覆層を設けたため、表面肌荒れが特に小で平滑な摩耗
面を呈した。それに対して、比較例の加工可能数は５
０，０００から７０，０００ショットであった。比較例
７は被覆なしであるので摩耗が早いのは当然であるが超
硬合金の硬質相脱落による表面肌荒れが見受けられた。
比較例８は被覆してあるもののＴｉＣＮ層が粒状結晶の
ため、やはり粒子脱落による表面肌荒れ、摩耗が観察さ
れた。
【００１６】
【発明の効果】本願発明品はすぐれた耐摩耗性と耐欠損
性を有し、摩耗形態も平滑で肌荒れが起こりにくく、長
期にわたって高精度を維持する型部材である。また、そ
の製造方法は、型部材の精度を維持しつつ高速で被覆層
を形成するものである。
性を有し、摩耗形態も平滑で肌荒れが起こりにくく、長
期にわたって高精度を維持する型部材である。また、そ
の製造方法は、型部材の精度を維持しつつ高速で被覆層
を形成するものである。
Claims (3)
- 【請求項１】 硬質被覆層を被覆した被覆型部材におい
て、前記硬質被覆層は金属元素として少なくともＴｉを
含む炭窒化物層を一層以上有し、前記炭窒化物層の断面
組織が柱状晶を示すたすことを特徴とする被覆型部材。 - 【請求項２】 請求項１記載の被覆型部材において、前
記炭窒化物層の上端から内部に向かって前記炭窒化物層
の厚さの１／５の距離の位置における柱状結晶粒の水平
方向の平均粒径ｄ１と、前記炭窒化物層の下端から内部
に向かって前記炭窒化物層の厚さの２／５の距離の位置
における柱状結晶粒の水平方向の平均粒径ｄ２の比、ｄ
１／ｄ２が１≦ｄ１／ｄ２≦１．３を満たすことを特徴
とする被覆型部材。 - 【請求項３】 請求項１乃至２に記載の被覆型部材にお
いて、前記炭窒化物層の塩素含有量が０．０１〜０．７
ｗｔ％であることを特徴とする被覆型部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15440797A JPH10323724A (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 被覆型部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15440797A JPH10323724A (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 被覆型部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10323724A true JPH10323724A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15583484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15440797A Pending JPH10323724A (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 被覆型部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10323724A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT503050B1 (de) * | 2005-11-17 | 2007-09-15 | Boehlerit Gmbh & Co Kg | Metallcarbonitridschicht |
| JP2010240657A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Aisin Aw Co Ltd | Ｃｖｔベルト用エレメントの打抜き加工用金型及び打抜き加工方法 |
| US7968218B2 (en) | 2005-11-17 | 2011-06-28 | Boehlerit GmbH & Co. K.G. | Metal carbonitride layer and method for the production thereof |
-
1997
- 1997-05-28 JP JP15440797A patent/JPH10323724A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT503050B1 (de) * | 2005-11-17 | 2007-09-15 | Boehlerit Gmbh & Co Kg | Metallcarbonitridschicht |
| US7968218B2 (en) | 2005-11-17 | 2011-06-28 | Boehlerit GmbH & Co. K.G. | Metal carbonitride layer and method for the production thereof |
| JP2010240657A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Aisin Aw Co Ltd | Ｃｖｔベルト用エレメントの打抜き加工用金型及び打抜き加工方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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Effective date: 20040517 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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Effective date: 20060519 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060525 |
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| A521 | Written amendment |
Effective date: 20060721 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070208 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |