JPH10323632A - ディスク洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 多数のディスクを並行して効率的に洗浄する
ことにより、生産性の高いディスク洗浄装置を提供する
こと。 【解決手段】 多数のドーナツ状のディスク３を所定の
間隔で水平方向に対し平行して重なる状態にかつ回転自
在に保持するホルダ２と、ホルダ２を移送する間欠移送
コンベア１とを設け、間欠移送コンベア１にはその移送
方向に沿って、各ディスク３を回転させて洗浄液を供給
しながら、当該デイスク３の両面を回転払拭手段５１で
払拭する第１洗浄部５と、前記各ディスク３を回転させ
て洗浄液を供給しながら、当該ディスク３の中心孔３０
をスライド払拭手段６１で払拭する第２洗浄部６と、前
記各ディスクをリンス処理するリンス処理部７と、前記
各ディスク３を回転させながら温風乾燥させる乾燥処理
部８とを順に設置した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばアルミニ
ウム合金性の磁気ディスク（メモリーディスク）や磁気
ディスクの焼鈍時に使用されるスペーサディスクのよう
に、中心孔を有するドーナツ状の定形のディスクを洗浄
処理するためのディスク洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種のディスクを洗浄する洗浄装置に
は、例えば特開平２−２０７８７８号公報に記載された
発明が提案されている。前記公報で提案された洗浄装置
には、一方に搬入部を他方に搬出部をそれぞれ有し、か
つ、前記搬入部から搬出部に向けてディスクを水平に支
持して搬送するコンベアを有する洗浄処理室が設置され
ている。前記洗浄処理室内には、前記搬送中のディスク
を前記コンベアからやや持ち上げた状態で回転させなが
ら水平に保持する三個の保持ロールと、各保持ロールを
支持する各可動アームと、前記ディスクが前記各保持ロ
ールに保持されて回転する間に、前記ディスクに向けて
高圧洗浄液及び高圧空気を順に吹き付ける噴出手段が設
けられている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の洗浄装
置は、主として自動車部品に使用されるドーナツ状のデ
ィスク部品を洗浄するために提案されたものであるが、
前記洗浄装置を、例えば磁気ディスクや、磁気ディスク
の焼鈍時に当該ディスクに所望の平坦度と表面精度を得
るために使用されるスペーサディスクの洗浄に使用する
場合には、以下のような課題があった。その第１は、前
記の各保持ロールは、一個のディスクを保持する構造で
あるために、複数ないし多数のディスクを並行して洗浄
処理することができず、生産性が非常に低いことであ
る。その第２は、前記洗浄装置は、ディスクを回転させ
ながら、これに高圧洗浄液と高圧空気とを順に吹き付け
て洗浄するものであるため、磁気ディスクやスペーサデ
ィスクは充分に洗浄されないことである。

【０００４】この発明の目的は、多数のディスクを並行
して効率的に洗浄することにより、生産性の高いディス
ク洗浄装置を提供することにある。この発明の他の目的
は、ディスクの表面とディスクの内径部（中心孔の内周
部）とを、それぞれより充分に洗浄することができるデ
ィスク洗浄装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明によるディスク
洗浄装置は、前述の課題を解決するため以下のように構
成したものである。すなわち、請求項１に記載のディス
ク洗浄装置は、垂直姿勢の複数のドーナツ状のディスク
３を所定の間隔で水平方向に対し平行して重なる状態に
かつ回転自在に保持するホルダ２と、前記ディスク３を
回転させる駆動手段５０と、前記駆動手段５０により前
記ディスク３が回転する際に、他の位置より前記ディス
ク３相互の間に案内され、かつ当該ディスク３相互の側
面に接触して回転する回転ブラシ又は回転ロールからな
る回転払拭手段５１と、前記駆動手段５０により前記デ
ィスク３が回転する際に、前記回転払拭手段５１に対し
て洗浄液を供給するスプレー手段５２と、を備えたこと
を特徴とそている。

【０００６】請求項２に記載のディスク洗浄装置は、請
求項１に記載のディスク洗浄装置において、前記ディス
ク３を回転させる駆動手段５０は、前記ディスクの外周
部へ接触離反し、かつ前記ディスク３への接触時に当該
ディスク３を回転させる駆動ロールであり、前記駆動ロ
ールからなる駆動手段５０と前記回転払拭手段５１及び
前記スプレー手段５２は、所定のガイド５５に沿って昇
降する可動フレーム５４に取り付けられ、前記可動フレ
ーム５４は、所定の高レベル位置より、前記駆動手段５
０が前記ディスク３の外周部に接触し、かつ前記回転払
拭手段５１が前記ディスク３相互の間に案内されるとと
もに前記スプレー手段５２が前記回転払拭手段５１の上
方に臨むレベル位置まで、アクチュエータ５３により昇
降されることを特徴としている。

【０００７】請求項３に記載のディスク洗浄装置は、垂
直姿勢の複数のドーナツ状のディスク３を所定の間隔で
水平方向に対し平行して重なる状態にかつ回転自在に保
持するホルダ２と、前記ディスク３を回転させる駆動手
段６０と、前記駆動手段６０により前記ディスク３が回
転する際に、外周部が前記各ディスク３の内周部に接触
する状態で、当該各ディスク３の中心孔３０に対して側
方より挿脱される円形ブラシ又はロールからなるスライ
ド払拭手段６１と、前記駆動手段６０により前記ディス
ク３が回転する際に、前記スライド払拭手段６１に対し
て洗浄液を供給するスプレー手段６２と、を備えたこと
を特徴としている。

【０００８】請求項４に記載のディスク洗浄装置は、請
求項３に記載のディスク洗浄装置において、前記ディス
ク３を回転させる駆動手段６０は、前記ディスク３の外
周部へ接触離反し、かつ前記ディスク３への接触時に当
該ディスク３を回転させる駆動ロールであり、前記駆動
ロールからなる駆動手段６０と前記スプレー手段６２
は、所定のガイド６５に沿って昇降する可動フレーム６
４に取り付けられ、前記可動フレーム６４は、所定の高
レベル位置より、前記駆動手段６０が前記ディスク３の
外周部へ接触し、かつ前記スプレー手段６２が前記挿脱
作動中の前記スライド払拭手段６１の上方に臨むレベル
位置まで、アクチュエータ６３により昇降されることを
特徴としている。

【０００９】請求項５に記載のディスク洗浄装置は、間
欠移送コンベア１と、前記間欠移送コンベヤ１の所定の
停止位置に設置され、請求項１又は２に記載のディスク
洗浄装置からなる第１洗浄部５と、前記第１の洗浄部５
よりも前記間欠移送コンベヤ１の後方停止位置に設置さ
れ、請求項３又は４に記載のディスク洗浄装置からなる
第２洗浄部６とを備え、前記間欠移送コンベア１は、前
記ディスク３が当該間欠移送コンベア１の幅方向へ所定
の間隔で平行に並ぶ状態に前記ホルダ２を水平姿勢で支
持して移送することを特徴としている。

【００１０】請求項６に記載のディスク洗浄装置は、請
求項５に記載のディスク洗浄装置において、前記ホルダ
２は、前記複数のディスク２を複数の列状に支持する回
転自在な複数対の支持ローラ２３を備えていることを特
徴としている。

【００１１】請求項７に記載のディスク洗浄装置は、請
求項５又は６に記載のディスク洗浄装置において、前記
間欠移送コンベア１の前記第２洗浄部６よりも後方の停
止位置には、前記ホルダ２に支持されている各ディスク
３をリンス処理するリンス処理部７が設置され、前記間
欠移送コンベア１の前記リンス処理部７よりも後方の停
止位置には、前記ホルダ２に支持されている各ディスク
２を乾燥処理する乾燥処理部８が設置されていることを
特徴としている。

【００１２】請求項８に記載のディスク洗浄装置は、請
求項７に記載のディスク洗浄装置において、前記乾燥処
理部８には、前記ディスク３を回転させる駆動手段８０
と、前記ディスク２に温風を吹き付けるエアブロー手段
８１とを有することを特徴としている。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下図面を参照しながら、この発
明によるディスク洗浄装置の好ましい実施形態を具体的
に説明する。 第１実施形態 図１〜図１０には、請求項１〜請求項８の各発明に対応
する実施形態のディスク洗浄装置が示されている。図１
は、請求項７及び８の発明に対応する実施形態のディス
ク洗浄装置の概略側面図、図２の（ａ）図はディスクを
保持するホルダの部分破断側面図、同図の（ｂ）図は
（ａ）図のホルダの位置決めブシュを拡大して示す部分
断面図、図３は図２のホルダの部分正面図、図４は図２
のホルダの部分拡大断面図、図５は請求項１及び２の発
明に対応する洗浄装置の側面図、図６は図５の矢印Ａ−
Ａに沿う正面図、図７は請求項３及び４の発明に対応す
る洗浄装置の側面図、図８は図７の矢印Ｂ−Ｂに沿う正
面図、図９は乾燥処理部の側面図、図１０は図９の矢印
Ｃ−Ｃに沿う概略正面図である。

【００１４】図１で示すように、機枠１の上部にはチェ
ーンコンベアからなる間欠移送コンベア１が設置されて
いる。この間欠移送コンベア１は、ドーナツ状の多数の
ディスク３を保持したホルダ２を水平に支持した状態
で、モータ１３により図の左側から右方向へ間欠的に移
送する。前記間欠移送コンベア１の最初の停止位置に
は、洗浄装置への前記ホルダ２の搬入部である待機部４
が設けられており、その後方の停止位置には、第１洗浄
部５，第２洗浄部６，リンス処理部７及び乾燥処理部８
が順に設けられ、乾燥処理部８の後方には、フリー回転
のローラコンベア１１を有する搬出部４０が設けられて
いる。

【００１５】ホルダ２は、図２のように中心孔３０を有
する多数のディスク３を、垂直姿勢で水平方向に対し一
定間隔で平行して重なる状態で、かつ回転自在に保持す
るもので、この実施形態では、以下のように多数のディ
スク３が三列状に保持されるように構成されている。な
お、この実施形態において処理対象とされるディスク３
は、アルミニウム合金からなる磁気ディスクを焼鈍する
際に、それらの磁気ディスクのスペーサとして使用され
るスペーサディスクである。

【００１６】各ホルダ２は、下部に相対するフランジを
有する垂直な板からなる一対の平行な側枠２０，２０
と、この側枠２０，２０を連結する複数の連結バー２１
と、前記側枠２０，２０へ回転自在に取り付けられた三
対の支持ローラ２３，２３とをそれぞれ備えている。こ
の実施形態では、各対の支持ローラ２３，２３の斜め上
部に、さらに各上部支持ローラ２２，２２が回転自在に
取り付けられ、各対の支持ローラ２２，２２２３，２３
により、列状のディスク２を回転自在に保持するように
構成されている。上部中央の対の支持ローラ２２，２２
と、その前後の各対の支持ローラ２２，２２とは、それ
ぞれ片方の支持ローラ２２を共有している。

【００１７】各支持ローラ２２，２３はピッチバー構造
であって、図３及び図４で示すように、各側枠２０へ軸
受２６により回転自在に取り付けられた軸２４と、両端
部へ同じサイズのフランジ状のスペーサ２５ａを有し、
前記軸２４へ密に並べて取り付けられた多数のローラ２
５とから構成され、各スペーサ２５ａ相互の間にディス
ク３の外周部分を挿入して保持させるようになってい
る。各側枠２０の上部には、各対の支持ローラ２２，２
３に保持された各列のディスク３の中心孔３０が側方に
それぞれ露出するように切欠部２８が形成されている。
図２で示すように、両側枠２０の下部中央には、それぞ
れロック用（又は位置決め用）のブシュ２７が複数のネ
ジ２７ａによって埋め込み状に取り付けられている。

【００１８】間欠移送コンベア１の上部走行チェーン及
び下部走行チェーンは、それらの走行部位の下部に設置
された各ガイドレール１２，１４（図６，８，１０）の
上に沿って走行する。間欠移送コンベア１には、所定の
間隔に前記ホルダ２のおおよその位置決めをして搬送す
るための対の搬送ピン１５，１５（図５，７，９）が取
り付けられており、ホルダ２は間欠移送コンベア１上の
前記搬送ピン１５，１５の間に位置するように図１の待
機部４へ供給される。

【００１９】図１の待機部４の間欠移送コンベア１上に
は、各対の支持ローラ２２，２３が間欠移送コンベア１
の幅方向に沿う状態に、ホルダ２が所定の時間間隔（第
１洗浄部５，第２洗浄部６，リンス処理部７及び乾燥処
理部８における処理時間より若干長い時間間隔）で前述
のように供給される。待機部４へホルダ２が供給される
と、待機部４の側部に設置されたセンサ４３がこれを検
出し、この検出の都度、待機部４と第１洗浄部５の間の
シャッタ４２が上方のアクチュエータ（エアシリンダ）
４１によって開閉され、当該シャッタ４２が開いている
間に、間欠移送コンベア１が前記モータ１３により一ピ
ッチずつ作動する。間欠移送コンベア１が一ピッチ作動
する毎に、ホルダ２は待機部４から第１洗浄部５，第２
洗浄部６，リンス処理部７，乾燥処理部８，搬出部９へ
と順次移送される。

【００２０】ホルダ２が第１洗浄部５，第２洗浄部６，
乾燥処理部８へ移送される毎に、コンベア走行部位の両
側に設置されたロックピン１６（図６，８，１０）が、
アクチュエータ（エアシリンダ）１７によってホルダ２
の方向に突出し、当該ホルダ２の両側部の前記ロック用
のブシュ２７内に挿入されることにより、ホルダ２が正
確に位置決めされるとともに、間欠移送コンベア１上へ
ロックされるように構成されている。各ロックピン１６
は、各部５〜８における処理が終了するに必要な時間
（例えば１〜５分）経過後、前記それぞれのアクチュエ
ータ１７によって後退し、ホルダ２のロックを解除す
る。

【００２１】この実施形態の第１洗浄部５は、図５及び
図６で示すように、前述の状態に多数のディスク３が複
数列保持され、当該部位において間欠移送コンベア１上
で停止されるホルダ２と、前記ディスク３を回転させる
駆動手段５０と、この駆動手段５０により前記ディスク
３が回転する際に、他の位置より前記ディスク３相互の
間に案内され、かつ当該ディスク３相互の側面に接触し
て回転する回転ブラシからなる回転払拭手段５１と、前
記駆動手段５０により前記ディスク３が回転する際に、
前記回転払拭手段５１に対して洗浄液を供給するスプレ
ー手段５２とから構成されている。

【００２２】この実施形態において、前記ディスク３を
回転させる駆動手段５０は、前記ディスク３の外周部へ
接触離反し、かつ前記ディスク３への接触時に当該ディ
スク３を回転させる駆動ロールである。この駆動ロール
は、前記ディスク３の各列に対応してその上方に配置さ
れており、各ディスク３の外周部に対応する部分は、ゴ
ムその他の摩擦係数の大きい部材により、他の部分より
も大径に形成されている。

【００２３】回転ブラシからなる回転払拭手段５１は、
各ディスク３相互の間に案内されたとき、各ディスクの
側面に接触するように構成されており、回転ブラシの設
置数は一列のディスク３の数より一つ多い。これらの各
回転ブラシは、図６で示すように、隣合うディスク３相
互の間の上方位置と、両端部のディスク３の側部の上方
位置にそれぞれ配置されている。回転ブラシのブラシ部
には、線径０．０５〜２．０mmの動物の毛ないし柔らか
いナイロン糸などが密に植毛されている。回転払拭手段
５１に回転ロールを使用する場合には、当該回転ロール
の前記ディスク３側面との接触部には、発泡率２０〜５
０程度の柔らかい弾性を有する発泡体が取り付けられ
る。

【００２４】前記スプレー手段５２は、図示しない温水
の配管に接続されて所定の水圧で温水を噴出するスプレ
ーノズルである。これらのスプレーノズルは、回転ブラ
シからなる前記回転払拭手段５１へ全体的により均一に
温水が供給されるように、各回転払拭手段５１の上に臨
む状態で各回転払拭手段５１の長さ方向に沿って一定の
間隔に配置されている。

【００２５】駆動ロールからなる前記駆動手段５０と、
前記回転払拭手段５１及び前記スプレー手段５２は、筒
状のガイド５５，５５に沿って昇降する可動フレーム５
４に取り付けられている。筒状のガイド５５，５５は機
枠を構成する支柱５６に固定され、前記可動フレーム５
４は、前記ガイド５５，５５に沿ってスライドするスラ
イドバー５５ａの下端部へ固定されている。前記可動フ
レーム５４は、図示の高レベル位置より、前記駆動手段
５０が前記ディスク３の外周部に接触し、かつ前記回転
払拭手段５１が前記ディスク３相互の間に案内されると
ともに、前記スプレー手段５２が前記回転払拭手段５１
の上方に臨むレベル位置まで、アクチュエータ（エアシ
リンダ）５３により昇降するように構成されている。

【００２６】各駆動手段５０は、減速機付きのモータ５
０ａの出力軸と、前記可動フレーム５４の適所と、各駆
動手段５０の端部とに取り付けられた各タイミングプー
リ５０ｂ、及び、各タイミングプーリ５０ｃへ装着され
たタイミングベルト５０ｃを介して、前記モータ５０ａ
により回転される。各回転払拭手段５１は、図５で示す
ように、減速機付きのモータ５１ａの出力軸と、前記可
動フレーム５４の適所に取り付けられた各タイミングプ
ーリ５１ｂ、各タイミングプーリ５１ｂへ装着されたタ
イミングベルト５１ｃ、及び最下位のタイミングプーリ
５１ｂと各回転払拭手段５１の端部に取り付けられた歯
車列５１ｄを介して、前記モータ５１ａにより回転され
る。

【００２７】多数のディスク３を保持したホルダ２が図
示の位置に停止してロックされると同時に、アクチュエ
ータ５３により可動フレーム５４が所定量下降し、ロー
ルからなる各駆動手段５０の所要部分が各ディスク３の
外周部に接触するとともに、各回転払拭手段５１が各デ
ィスク３の側面に接触する。同時にスプレー手段５２も
下降する。同時に、前記モータ５０ａの回転が前記駆動
手段５０を介して各ディスク３へ伝達され、各ディスク
３が一定方向へ回転するとともに、前記モータ５１ａに
より各回転払拭手段５１が回転する。前記各スプレー手
段５２からは、１〜５分程度温水がスプレーされる。

【００２８】前記各ディスク３は、回転されながらその
両面が全面が温水と回転払拭手段５１とによってより均
一にブラッシングされるので、両面の汚れが除去され
る。前記第１処理部５では、前述のように多数のディス
ク３の両面が一斉に洗浄されるので生産性が極めて高
く、温水とブラッシングによりディスクの両面の汚れが
充分に除去される。

【００２９】この実施形態の第２洗浄部６は、図７及び
図８で示すように、前述の状態に多数のディスク３が複
数列保持され、当該部位において間欠移送コンベア１上
で停止されるホルダ２と、前記ディスク３を回転させる
駆動手段６０と、前記駆動手段６０により前記ディスク
３が回転する際に、外周部が前記各ディスク３の内周部
に接触する状態で、当該各ディスク３の中心孔３０に対
して側方より挿脱される円形ブラシからなるスライド払
拭手段６１と、前記ディスク３が回転する際に、前記ス
ライド払拭手段６１に対して洗浄液を供給するスプレー
手段６２とから構成されている。

【００３０】この実施形態において、前記ディスク３を
回転させる駆動手段６０は、前記ディスク３の外周部へ
接触離反し、かつ前記ディスク３への接触時に当該ディ
スク３を回転させる駆動ロールである。この駆動ロール
は、前記ディスク３の各列に対応してその上方に配置さ
れており、各ディスク３の外周部に対応する部分は、ゴ
ムその他の摩擦係数の大きい部材により、他の部分より
も大径に形成されている。

【００３１】スライド払拭手段６１は、間欠移送コンベ
ア１の側方より各ディスク３の中心孔３０内に接触しな
がら往復挿脱されるものであるので、３列のディスク群
に対応して３セット設置されている。各スライド払拭手
段６１は、ディスク３の中心孔３０へ往復挿脱される円
形のブラシからなり、各円形ブラシは、それぞれスライ
ドバー６１ｂの先端部に取り付けられている。各スライ
ドバー６１ｂは、前記ホルダ２の停止位置の側方の機枠
６１ｅ上に設置されたそれぞれのスライドブシュ６１ｄ
によりスライド自在に保持され、各プッシャー６１ｃを
介して前記機枠６１ｅ上に設置された各アクチュエータ
（エアシリンダ）６１ａにより、前述のように往復作動
する。円形ブラシのブラシ部には、線径０．０５〜２．
０mmの動物の毛ないし柔らかいナイロン糸などが密に植
毛されている。回転払拭手段６１に円柱状のロールを使
用する場合には、当該ロールの前記ディスク３の中心孔
３０内面との接触部には、発泡倍率２０〜５０倍程度の
柔らかい弾性を有する発泡体が取り付けられる。

【００３２】前記スプレー手段６２は、図示しない温水
の配管に接続されて所定の水圧で温水を噴出するスプレ
ーノズルである。これらのスプレーノズルは、円形ブラ
シからなる前記スライド払拭手段６１が往復作動すると
きに、前記スライド払拭手段６１へより均一に温水が供
給されるように、各ディスク３の側部へ向けられた状態
でそれぞれ配置されている。

【００３３】駆動ロールからなる前記駆動手段６０と、
前記スプレー手段５２は、筒状のガイド６５，６５に沿
って昇降する可動フレーム６４に取り付けられている。
筒状のガイド６５，６５は機枠を構成する支柱５６に固
定され、前記可動フレーム６４は、前記ガイド６５，６
５に沿ってスライドするスライドバー６５ａの下端部へ
固定されている。前記可動フレーム６４は、図示の高レ
ベル位置より、前記駆動手段６０が前記ディスク３の外
周部に接触し、かつ前記スプレー手段６２が前記各ディ
スク３の側面へ向けて斜め上方より臨むレベル位置ま
で、アクチュエータ（エアシリンダ）６３により昇降す
るように構成されている。

【００３４】各駆動手段６０は、減速機付きのモータ６
０ａの出力軸と、前記可動フレーム６４の適所と、各駆
動手段６０の端部とに取り付けられた各タイミングプー
リ６０ｂ、及び、各タイミングプーリ６０ｂへ装着され
たタイミングベルト６０ｃを介して、前記モータ６０ａ
により回転される。

【００３５】多数のディスク３を保持したホルダ２が図
示の位置に停止してロックされると同時に、アクチュエ
ータ６３により可動フレーム６４が所定量下降し、ロー
ルからなる各駆動手段６０の所要部分が各ディスク３の
外周部に接触するとともに、前記スプレー手段６２が適
正位置に下降する。同時に、前記モータ６０ａの回転が
前記駆動手段６０を介して各ディスク３へ伝達され、各
ディスク３が一定方向へ回転するとともに、前記各スプ
レー手段５２からは、１〜５分程度温水がスプレーさ
れ、前記アクチュエータ６１ａにより各スライド払拭手
段６１が、各ディスク３の中心孔３０と貫くように往復
作動する。

【００３６】前記各ディスク３は、回転されながらその
内周部が温水とスライド払拭手段６１とによってより均
一に洗浄されるので、当該部分の汚れが除去される。前
記第１処理部６では、前述のように多数のディスク３の
内周面が一斉に洗浄されるので生産性が極めて高く、温
水とブラッシングによりディスクの内周面面の汚れが充
分に除去される。

【００３７】図１で示すように、この実施形態のリンス
処理部７には、当該処理部７内で停止したホルダ２内の
多数の各ディスク３の側面に上方からそれぞれ臨むよう
に、図示しない温水配管へ接続された多数のスプレーノ
ズル７１と、図示しないブロア付きのエア配管に接続さ
れたエアシャワーノズル７２とが設置されている。リン
ス処理部７内でホルダ２が停止すると、先ず前記各スプ
レーノズル７１から温水を各ディスク３の全面に対して
一定時間（１〜３分間程度）スプレーすることにより、
各ディスク３が濯ぎ洗浄処理される。次いで、各エアシ
ャワーノズル７２からエアを各ディスク３の全面に対し
て所定時間（１〜３分間程度）吹き付けることにより、
各ディスク３が予備乾燥される。

【００３８】この実施形態の乾燥処理部８は、図９及び
図１０で示すように、前述の状態に多数のディスク３が
複数列保持され、当該部位において間欠移送コンベア１
上で停止されるホルダ２と、前記ディスク３を回転させ
る駆動手段８０と、前記駆動手段８０により前記各ディ
スク３が回転する際に、前記各ディスク３の全面に温風
を吹き付けるエアブロー手段８１とから構成されてい
る。

【００３９】この実施形態において、前記ディスク３を
回転させる駆動手段８０は、前記ディスク３の外周部へ
接触離反し、かつ前記ディスク３への接触時に当該ディ
スク３を回転させる駆動ロールである。この駆動ロール
は、前記ディスク３の各列に対応してその上方に配置さ
れており、各ディスク３の外周部に対応する部分は、ゴ
ムその他の摩擦係数の大きい部材により、他の部分より
も大径に形成されている。

【００４０】前記エアブロー手段８１は、図１０で示す
ように機枠を構成する一方の側部の支柱５６に固定され
たエアブロー配管８１ａに前記各ディスク３へ向けた多
数の噴射ノズル（図示しない）を形成したもので、エア
ブロー配管８１ａは、耐熱ホース８１ｂを介してブロア
を有する温風供給装置へ接続されている。

【００４１】駆動ロールからなる前記駆動手段８０は、
筒状のガイド８５，８５に沿って昇降する可動フレーム
８４に取り付けられている。筒状のガイド８５，８５は
機枠を構成する支柱５６に固定され、前記可動フレーム
８４は、前記ガイド８５，８５に沿ってスライドする各
スライドバー８５ａの下端部へ固定されている。前記可
動フレーム８４は、図示の高レベル位置より、前記駆動
手段８０が前記ディスク３の外周部に接触するレベル位
置まで、アクチュエータ（エアシリンダ）８３により昇
降するように構成されている。

【００４２】各駆動手段８０は、減速機付きのモータ８
０ａの出力軸と、前記可動フレーム８４の適所と、各駆
動手段８０の端部とに取り付けられた各スプロケット８
０ｂ、及び、各スプロケット８０ｂへ装着されたチェー
ン８０ｃを介して、前記モータ８０ａにより回転され
る。エアブロー手段８１から供給されるエアの温度によ
っては、各スプロケット８０ｂをタイミングプーリに、
前記チェーン８０ｃをタイミングベルトにそれぞれ置換
することができる。

【００４３】多数のディスク３を保持したホルダ２が図
示の位置に停止してロックされると同時に、アクチュエ
ータ８３により可動フレーム８４が所定量下降し、ロー
ルからなる各駆動手段８０の所要部分が各ディスク３の
外周部に接触する。同時に、前記モータ８０ａの回転が
前記駆動手段８０を介して各ディスク３へ伝達され、各
ディスク３が一定方向へ回転するとともに、前記各エア
ブロー手段８１からは、各ディスク３の全面に対して１
〜５分程度温風（５０〜１５０℃）が吹き付けられる。

【００４４】前記各ディスク３は、回転されながら温風
が吹き付けられるので、各ディスク３の全面は水滴が残
らないように乾燥処理される。前記洗浄処理部８では、
前述のように多数のディスク３の全面が一斉に乾燥処理
されるので生産性が極めて高く、温風がディスク３の全
面に対してくまなく接触して充分に乾燥処理される。

【００４５】その他の実施形態 前記第１洗浄部５には、可動フレーム５４とは独自に昇
降する図示しない別の可動フレームを設け、前記回転払
拭手段５１をモータ５１ａやその回転伝達手段とともに
前記別の可動フレームに取り付けることができる。この
場合には、第２洗浄部６におけるスライド払拭手段６１
を第１洗浄部５へ前記実施形態と同様な状態で設置し、
各回転払拭手段５１が上昇した後に、前記スライド払拭
手段６１が各ディスク３の中心孔３０へ貫通状に挿脱さ
れるように構成することにより、第２洗浄部６を省略す
ることができる。第１洗浄部５及び第２洗浄部６におい
て、各タイミングプーリ５０ｂ，５１ｂ及び６０ｂは、
スプロケットに、各タイミングベルト５０ｃ，５１ｃ及
び６０ｃは、チェーンに、それぞれ置換することができ
る。第２洗浄部においては、スライド払拭手段６１が回
転しながら往復作動するように構成することができる。

【００４６】

【発明の効果】請求項１に記載のディスク洗浄装置によ
れば、多数のディスク３の両面を一斉に洗浄することが
できるから、従来の洗浄装置と比べて生産性がはるかに
向上する。前記各ディスク３は、回転しながら回転払拭
手段５１と洗浄液とによって両面が洗浄されるから、各
ディスク３の両面をより均一に、しかもより完全に洗浄
することができる。

【００４７】請求項２に記載のディスク洗浄装置は、所
定のストロークで昇降する可動フレーム５４に、駆動手
段５０，回転払拭手段５１及び洗浄液のスプレー手段５
２が取り付けられているので、これらの各部をタイミン
グよく一斉に昇降させるのが簡単である。

【００４８】請求項３に記載のディスク洗浄装置によれ
ば、多数のディスク３の中心孔３０の内周面を一斉に洗
浄することができるから、従来の洗浄装置と比べて生産
性がはるかに向上する。前記各ディスク３は、回転しな
がらスライド払拭手段６１と洗浄液とによって内周面が
洗浄されるから、各ディスク３の内周面をより均一に、
しかもより完全に洗浄することができる。

【００４９】請求項４に記載のディスク洗浄装置は、所
定のストロークで昇降する可動フレーム６４に、駆動手
段６０スプレー手段６２が取り付けられているので、こ
れらの各部をタイミングよく一斉に昇降させるのが簡単
である。

【００５０】請求項５に記載のディスク洗浄装置は、第
１洗浄部５と第２洗浄部６とを、間欠移送コンベア１に
より連続するように設置したので、多数のディスク３の
両面と中心孔３０の内周面とが経時的に連続して行われ
るので、生産性をより向上させることができる。

【００５１】請求項６に記載のディスク洗浄装置は、複
数のディスク３を複数の列状に支持する支持ローラを備
えたホルダを設けたので、さらに多数のディスク３を平
行して洗浄処理することができる。

【００５２】請求項７に記載のディスク洗浄装置は、第
１洗浄部５及び第２洗浄部６の後方に、さらにリンス処
理部７と乾燥処理部８とを順に設けたので、より大量の
ディスク３の洗浄，濯ぎ及び乾燥処理を、連続した工程
で効率よく実施することができる。

【００５３】請求項８に記載のディスク洗浄装置によれ
ば、前記乾燥処理部８において、各ディスク３が回転し
ながら乾燥れるので、ディスク３の全面がより効率よく
乾燥処理される。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項７及び８の発明に対応する実施形態のデ
ィスク洗浄装置の概略側面図である。

【図２】図２の（ａ）図はディスクを保持するホルダの
部分破断側面図、同図の（ｂ）図は（ａ）図のホルダの
位置決め用ブシュを拡大して示す部分断面図である。

【図３】図２のホルダの部分正面図である。

【図４】図２のホルダの部分拡大断面図である。

【図５】請求項１及び２の発明に対応する実施形態の洗
浄装置の側面図である。

【図６】図５の矢印Ａ−Ａに沿う正面図である。

【図７】請求項３及び４の発明に対応する実施形態の洗
浄装置の側面図である。

【図８】図７の矢印Ｂ−Ｂに沿う正面図である。

【図９】図１の洗浄装置における乾燥処理部の側面図で
ある。

【図１０】図９の矢印Ｃ−Ｃに沿う概略正面図である。

【符号の説明】

１ 間欠移送コンベア １０ 機枠 １１ ローラコンベア １２，１４ ガイドレール １３ モータ １５ 搬送ピン １６ ロックピン １７ アクチュエータ ２ ホルダ ２０ 側枠 ２１ 連結バー ２２，２３ 支持ローラ ２４ 軸 ２５ ローラ ２５ａ フランジ ２６ ベアリング ２７ ロック用のブシュ ２７ａ ネジ ２８ 切欠部 ３ ディスク ３０ 中心孔 ４ 待機部 ４０ 搬出部 ４１ アクチュエータ ４２ シャッタ ４３ センサ ５ 第１洗浄部 ６ 第２洗浄部 ８ 乾燥処理部 ５０，６０，８０ 駆動手段 ５１ 回転払拭手段 ５０ａ，５１ａ，６０ａ，８０ａ モータ ５０ｂ，５１ｂ，６０ｂ タイミングプーリ ５０ｃ，５１ｃ，６０ｃ タイミングベルト ５０ｄ 歯車列 ８０ｂ スプロケット ８０ｃ チェーン ６１ スライド払拭手段 ６１ａ アクチュエータ ６１ｂ スライドバー ６０ｃ プッシャー ６０ｄ スライドブシュ ６０ｅ 機枠 ８１ エアブロー手段 ８１ａ エアブロー配管 ８１ｂ 耐熱ホース ５２，６２ スプレー手段 ５３，６３，８３ アクチュエータ ５４，６４，８４ 可動フレーム ５５，６５，８５ ガイド ５５ａ，６５ａ，８５ａ スライドバー ５６ 支柱 ５７，６７，８７ 固定フレーム ７ リンス処理部 ７１ スプレーノズル ７２ エアシャワーノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢野 喜明 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号 古 河電気工業株式会社内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 垂直姿勢の複数のドーナツ状のディスク
   ３を所定の間隔で水平方向に対し平行して重なる状態に
   かつ回転自在に保持するホルダ２と、 前記ディスク３を回転させる駆動手段５０と、 前記駆動手段５０により前記ディスク３が回転する際
   に、他の位置より前記ディスク３相互の間に案内され、
   かつ当該ディスク３相互の側面に接触して回転する回転
   ブラシ又は回転ロールからなる回転払拭手段５１と、 前記駆動手段５０により前記ディスク３が回転する際
   に、前記回転払拭手段５１に対して洗浄液を供給するス
   プレー手段５２と、を備えたことを特徴とする、 ディスク洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記ディスク３を回転させる駆動手段５
   ０は、前記ディスク３の外周部へ接触離反し、かつ前記
   ディスク３への接触時に当該ディスク３を回転させる駆
   動ロールであり、 前記駆動ロールからなる駆動手段５０と前記回転払拭手
   段５１及び前記スプレー手段５２は、所定のガイド５５
   に沿って昇降する可動フレーム５４に取り付けられ、 前記可動フレーム５４は、所定の高レベル位置より、前
   記駆動手段５０が前記ディスク３の外周部に接触し、か
   つ前記回転払拭手段５１が前記ディスク３相互の間に案
   内されるとともに前記スプレー手段５２が前記回転払拭
   手段５１の上方に臨むレベル位置まで、アクチュエータ
   ５３により昇降されることを特徴とする、 請求項１に記載のディスク洗浄装置。
3. 【請求項３】 垂直姿勢の複数のドーナツ状のディスク
   ３を所定の間隔で水平方向に対し平行して重なる状態に
   かつ回転自在に保持するホルダ２と、 前記ディスク３を回転させる駆動手段６０と、 前記駆動手段６０により前記ディスク３が回転する際
   に、外周部が前記各ディスク３の内周部に接触する状態
   で、当該各ディスク３の中心孔３０に対して側方より挿
   脱される円形ブラシ又はロールからなるスライド払拭手
   段６１と、 前記駆動手段６０により前記ディスク３が回転する際
   に、前記スライド払拭手段６１に対して洗浄液を供給す
   るスプレー手段６２と、を備えたことを特徴とする、 ディスク洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記ディスクを回転させる駆動手段６０
   は、前記ディスク３の外周部へ接触離反し、かつ前記デ
   ィスク３への接触時に当該ディスク３を回転させる駆動
   ロールであり、 前記駆動ロールからなる駆動手段６０と前記スプレー手
   段６２は、所定のガイド６５に沿って昇降する可動フレ
   ーム６４に取り付けられ、 前記可動フレーム６４は、所定の高レベル位置より、前
   記駆動手段６０が前記ディスク３の外周部へ接触し、か
   つ前記スプレー手段６２が前記挿脱作動中の前記スライ
   ド払拭手段６１の上方に臨むレベル位置まで、アクチュ
   エータ６３により昇降されることを特徴とする、 請求項３に記載のディスク洗浄装置。
5. 【請求項５】 間欠移送コンベア１と、 前記間欠移送コンベヤ１の所定の停止位置に設置され、
   請求項１又は２に記載のディスク洗浄装置からなる第１
   洗浄部５と、 前記第１洗浄部５よりも前記間欠移送コンベヤ１の後方
   停止位置に設置され、請求項３又は４に記載のディスク
   洗浄装置からなる第２洗浄部６と、を備え、前記間欠移
   送コンベア１は、前記ディスク３が当該間欠移送コンベ
   ア１の幅方向へ所定の間隔で平行に並ぶ状態に前記ホル
   ダ２を水平姿勢で支持して移送することを特徴とする、 ディスク洗浄装置。
6. 【請求項６】 前記ホルダ２は、前記複数のディスク３
   を複数の列状に支持する回転自在な複数対の支持ローラ
   ２３を備えている、請求項５に記載のディスク洗浄装
   置。
7. 【請求項７】 請求項５又は６に記載のディスク洗浄装
   置において、 前記間欠移送コンベア１の前記第２洗浄部６よりも後方
   の停止位置には、前記ホルダ２に支持されている各ディ
   スク３をリンス処理するリンス処理部７が設置され、 前記間欠移送コンベア１の前記リンス処理部７よりも後
   方の停止位置には、前記ホルダ２に支持されている各デ
   ィスク２を乾燥処理する乾燥処理部８が設置されている
   ことを特徴とする、 ディスク洗浄装置。
8. 【請求項８】 前記乾燥処理部８には、前記ディスク３
   を回転させる駆動手段８０と、前記ディスク２に温風を
   吹き付けるエアブロー手段８１とを有することを特徴と
   する、請求項７に記載のディスク洗浄装置。