JPH10312886A - 有機ｅｌディスプレイとその製造方法 - Google Patents
有機ｅｌディスプレイとその製造方法Info
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- JPH10312886A JPH10312886A JP9136011A JP13601197A JPH10312886A JP H10312886 A JPH10312886 A JP H10312886A JP 9136011 A JP9136011 A JP 9136011A JP 13601197 A JP13601197 A JP 13601197A JP H10312886 A JPH10312886 A JP H10312886A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
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- H—ELECTRICITY
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K59/80—Constructional details
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- H10K59/873—Encapsulations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 外部から素子へ水分が侵入しないように、か
つ、隔壁等から放出される水分やガスが素子に悪影響を
与えることを防止し、長寿命の有機ＥＬディスプレイを
容易に実現することを目的とする。 【解決手段】 複数の発光部がマトリクス状に配列され
ている有機ＥＬディスプレイとその製造方法であって、
基板と、前記基板の一面側に形成された複数の第１電極
と、第１電極の一部分を露出させかつ他部分を覆うよう
に基板の一面から突出して形成された複数の電気絶縁性
の隔壁と、第１電極の露出部分の各々上に形成された有
機ＥＬ媒体の層と、有機ＥＬ媒体の層上に形成された複
数の第２電極と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜とを備
え、保護膜に隔壁の一部分のみを露出させる開口部を形
成したことを特徴とする。
つ、隔壁等から放出される水分やガスが素子に悪影響を
与えることを防止し、長寿命の有機ＥＬディスプレイを
容易に実現することを目的とする。 【解決手段】 複数の発光部がマトリクス状に配列され
ている有機ＥＬディスプレイとその製造方法であって、
基板と、前記基板の一面側に形成された複数の第１電極
と、第１電極の一部分を露出させかつ他部分を覆うよう
に基板の一面から突出して形成された複数の電気絶縁性
の隔壁と、第１電極の露出部分の各々上に形成された有
機ＥＬ媒体の層と、有機ＥＬ媒体の層上に形成された複
数の第２電極と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜とを備
え、保護膜に隔壁の一部分のみを露出させる開口部を形
成したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネセンス素子（有機ＥＬ素子）を用いた有機ＥＬディ
スプレイ及びその製造方法に関するものであり、特に、
隔壁を用いて形成される有機ＥＬディスプレイの封止に
関する。
ミネセンス素子（有機ＥＬ素子）を用いた有機ＥＬディ
スプレイ及びその製造方法に関するものであり、特に、
隔壁を用いて形成される有機ＥＬディスプレイの封止に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、有機ＥＬ素子を用いたディスプレ
イパネルが知られている。図５は従来におけるフルカラ
ー有機ディスプレイパネルの発光画素の配列の一例を示
した図である。同図のように、有機ディスプレイパネル
の発光画素は、マトリクス状に配置されかつ各々がスト
ライプ方向に伸長する赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの発光部からな
る発光画素１０１の複数からなる画像表示配列を有して
いる。
イパネルが知られている。図５は従来におけるフルカラ
ー有機ディスプレイパネルの発光画素の配列の一例を示
した図である。同図のように、有機ディスプレイパネル
の発光画素は、マトリクス状に配置されかつ各々がスト
ライプ方向に伸長する赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの発光部からな
る発光画素１０１の複数からなる画像表示配列を有して
いる。
【０００３】また、図６は、フルカラー有機ディスプレ
イパネルの発光画素１０１の基板部１０１ａの概略構造
図であり、同図に示すように、基板部１０１ａは透明な
ガラス等からなる基板１０２上にＩＴＯ等からなる第１
電極１０３が設けられている。第１電極１０３は、互い
に平行な複数のストライプ状に配列されている。また、
第１電極１０３を含む基板１０２上には、電気絶縁性を
有する複数の絶縁膜１０４及び隔壁１０５が、第１電極
１０３に直交するように所定間隔で配列されて形成され
ている。また、隔壁１０５は、基板１０２上から突出す
るように設けられていて、第１電極１０３の一部分を露
出せしめるように形成されている。
イパネルの発光画素１０１の基板部１０１ａの概略構造
図であり、同図に示すように、基板部１０１ａは透明な
ガラス等からなる基板１０２上にＩＴＯ等からなる第１
電極１０３が設けられている。第１電極１０３は、互い
に平行な複数のストライプ状に配列されている。また、
第１電極１０３を含む基板１０２上には、電気絶縁性を
有する複数の絶縁膜１０４及び隔壁１０５が、第１電極
１０３に直交するように所定間隔で配列されて形成され
ている。また、隔壁１０５は、基板１０２上から突出す
るように設けられていて、第１電極１０３の一部分を露
出せしめるように形成されている。
【０００４】また、隔壁が形成されない第１電極１０３
の部分の各々上に、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体１０
６の薄膜が形成されている。さらに、各有機ＥＬ媒体１
０６の薄膜上にはその伸長方向に沿って第２電極１０７
が形成されている。
の部分の各々上に、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体１０
６の薄膜が形成されている。さらに、各有機ＥＬ媒体１
０６の薄膜上にはその伸長方向に沿って第２電極１０７
が形成されている。
【０００５】各有機ＥＬ媒体１０６の薄膜上の第２電極
１０７は、各隔壁１０５によって隣り合う第２電極を隔
離して互いにショートするのを防止している。そのた
め、隔壁１０５は、図６に示すように、隣り合う第２電
極１０７間をできるだけ隔離させるために、その断面が
逆台形形状等のオーバハング形状となるように形成する
のが望ましい。
１０７は、各隔壁１０５によって隣り合う第２電極を隔
離して互いにショートするのを防止している。そのた
め、隔壁１０５は、図６に示すように、隣り合う第２電
極１０７間をできるだけ隔離させるために、その断面が
逆台形形状等のオーバハング形状となるように形成する
のが望ましい。
【０００６】また、一般的に有機ＥＬ媒体１０６は湿気
に弱く、また、隔壁１０５も湿気に弱い材料を用いる場
合があるため、発光画素１０１は、図７に示す基板部１
０１ａが有する基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒
体１０６が形成される面側をガラス管や保護膜等を用い
て封止して形成される。図７は、発光画素１０１の封止
例を示す断面図であり、図７（ｂ）はガラス管１０８に
よって封止された発光画素１０１を、第１電極１０３の
伸長方向に沿った断面図で示し、図７（ｂ）は透湿性の
低い保護膜１０９によって封止された発光画素１０１
を、第１電極１０３の伸長方向に沿った断面図で示して
いる。
に弱く、また、隔壁１０５も湿気に弱い材料を用いる場
合があるため、発光画素１０１は、図７に示す基板部１
０１ａが有する基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒
体１０６が形成される面側をガラス管や保護膜等を用い
て封止して形成される。図７は、発光画素１０１の封止
例を示す断面図であり、図７（ｂ）はガラス管１０８に
よって封止された発光画素１０１を、第１電極１０３の
伸長方向に沿った断面図で示し、図７（ｂ）は透湿性の
低い保護膜１０９によって封止された発光画素１０１
を、第１電極１０３の伸長方向に沿った断面図で示して
いる。
【０００７】発光画素１０１は、概略このように構成さ
れて、第１電極１０３及び第２電極１０７を駆動した場
合に、駆動される第１電極１０３及び第２電極１０７の
交差する部分の有機ＥＬ媒体１０６が発光し、基板１０
２を通じて表示される。
れて、第１電極１０３及び第２電極１０７を駆動した場
合に、駆動される第１電極１０３及び第２電極１０７の
交差する部分の有機ＥＬ媒体１０６が発光し、基板１０
２を通じて表示される。
【０００８】また、基板部１０１ａの製造工程を図８に
より説明する。図８は、基板部１０１ａの製造工程を示
す断面図である。先ず、図８（ａ）において、パターニ
ング工程により、基板１０２上にＩＴＯ等の導電性透明
膜からなる第１電極１０３を形成し、さらに、同図に示
すように、第１電極１０３と直交する方向に絶縁膜１０
４を形成する。
より説明する。図８は、基板部１０１ａの製造工程を示
す断面図である。先ず、図８（ａ）において、パターニ
ング工程により、基板１０２上にＩＴＯ等の導電性透明
膜からなる第１電極１０３を形成し、さらに、同図に示
すように、第１電極１０３と直交する方向に絶縁膜１０
４を形成する。
【０００９】次に、絶縁膜１０４が形成された基板１０
２上に隔壁を、図８（ｂ）に示すように、断面が基板に
垂直な軸Ｘに対する傾斜角度θで表されるオーバハング
角の略逆台形形状に形成する。
２上に隔壁を、図８（ｂ）に示すように、断面が基板に
垂直な軸Ｘに対する傾斜角度θで表されるオーバハング
角の略逆台形形状に形成する。
【００１０】次に、図８（ｃ）に示すように、第１電極
１０３が露出する領域上に、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂ等の発光
色に対応する有機ＥＬ媒体１０６の薄膜を、所定パター
ンで型抜きされた蒸着マスク１１１と隔壁１０５によっ
て、それぞれ区分けして形成する。
１０３が露出する領域上に、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂ等の発光
色に対応する有機ＥＬ媒体１０６の薄膜を、所定パター
ンで型抜きされた蒸着マスク１１１と隔壁１０５によっ
て、それぞれ区分けして形成する。
【００１１】次に、図８（ｄ）に示すように、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ａｕ等の抵抗率の低い金属を有機ＥＬ媒体１０６上
に蒸着させることにより、第２電極１０７を形成する。
ｕ、Ａｕ等の抵抗率の低い金属を有機ＥＬ媒体１０６上
に蒸着させることにより、第２電極１０７を形成する。
【００１２】なお、この場合に、図示せぬ蒸発源から発
する上記金属の蒸気が、同図に示すように、基板に垂直
な軸Ｘに対する傾斜角度θで表される隔壁１０５のオー
バハング角よりも小さな傾斜角度θ1 で有機ＥＬ媒体１
０６上に蒸着されるように調整すれば、隔壁１０５のオ
ーバハング形状をなす側面には上記金属が蒸着されず、
隔壁１０５上に蒸着される上記金属は、有機ＥＬ媒体１
０６上に蒸着されて形成される第２電極１０７とは分断
される。したがって、隣り合って形成される第２電極１
０７は互いにショートしない。基板部１０１ａは、以上
のような製造工程を経て形成される。
する上記金属の蒸気が、同図に示すように、基板に垂直
な軸Ｘに対する傾斜角度θで表される隔壁１０５のオー
バハング角よりも小さな傾斜角度θ1 で有機ＥＬ媒体１
０６上に蒸着されるように調整すれば、隔壁１０５のオ
ーバハング形状をなす側面には上記金属が蒸着されず、
隔壁１０５上に蒸着される上記金属は、有機ＥＬ媒体１
０６上に蒸着されて形成される第２電極１０７とは分断
される。したがって、隣り合って形成される第２電極１
０７は互いにショートしない。基板部１０１ａは、以上
のような製造工程を経て形成される。
【００１３】また、基板部１０１ａは、さらに接着剤１
１０等を用いて基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒
体１０６が形成される面側をガラス管１０８で封止する
と共に、基板１０２、接着剤１１０、ガラス管１０８に
よって形成される中空の内部空間に不活性ガス等を充填
して外部からの湿気を遮断することにより図７（ａ）に
示す発光画素１０１が形成される。また、基板部１０１
ａは、図８（ｄ）の工程の後、透湿性の低い保護膜１０
９を基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒体１０６が
形成される面全体を密着して覆うように形成することに
より図７（ｂ）に示す発光画素１０１が形成される。
１０等を用いて基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒
体１０６が形成される面側をガラス管１０８で封止する
と共に、基板１０２、接着剤１１０、ガラス管１０８に
よって形成される中空の内部空間に不活性ガス等を充填
して外部からの湿気を遮断することにより図７（ａ）に
示す発光画素１０１が形成される。また、基板部１０１
ａは、図８（ｄ）の工程の後、透湿性の低い保護膜１０
９を基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒体１０６が
形成される面全体を密着して覆うように形成することに
より図７（ｂ）に示す発光画素１０１が形成される。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した各
方法により封止された発光画素１０１においては、隔壁
１０５の材料は一般的に、隔壁１０５の断面が容易に逆
台形形状等のオーバハング形状に形成（エッチング）す
ることができるような、比較的吸水性の高いフォトレジ
スト等の有機物であることが多い。フォトレジストは、
その吸水性や分子構造から、特に高温になると水分や有
機性のガスを放出しやすい。
方法により封止された発光画素１０１においては、隔壁
１０５の材料は一般的に、隔壁１０５の断面が容易に逆
台形形状等のオーバハング形状に形成（エッチング）す
ることができるような、比較的吸水性の高いフォトレジ
スト等の有機物であることが多い。フォトレジストは、
その吸水性や分子構造から、特に高温になると水分や有
機性のガスを放出しやすい。
【００１５】したがって、図７（ａ）に示すガラス管に
よる封止方法で形成した発光画素１０１の場合には、図
９（ａ）に示すように、隔壁から放出される水分や有機
性のガスが、中空の内部空間に閉じ込められ、徐々に第
２電極１０７のピンホールや、絶縁膜１０４又は第２電
極１０７と有機ＥＬ媒体１０６の境界部分から、有機Ｅ
Ｌ媒体１０６に侵入するので、非発光部分（ダークスポ
ット）の拡大が生じてしまう。
よる封止方法で形成した発光画素１０１の場合には、図
９（ａ）に示すように、隔壁から放出される水分や有機
性のガスが、中空の内部空間に閉じ込められ、徐々に第
２電極１０７のピンホールや、絶縁膜１０４又は第２電
極１０７と有機ＥＬ媒体１０６の境界部分から、有機Ｅ
Ｌ媒体１０６に侵入するので、非発光部分（ダークスポ
ット）の拡大が生じてしまう。
【００１６】また、図７（ｂ）に示す保護膜１０９によ
る封止方法で形成した発光画素１０１の場合には、図９
（ｂ）に示すように、隔壁から放出される水分や有機性
のガスが、保護膜１０９の下に閉じ込められて行き場を
失い、徐々に第２電極１０７と有機ＥＬ媒体１０６の境
界部分から、有機ＥＬ媒体１０６に侵入（矢印で示して
いる）するので、非発光部分（ダークスポット）の拡大
が生じてしまうといった問題が生じる。
る封止方法で形成した発光画素１０１の場合には、図９
（ｂ）に示すように、隔壁から放出される水分や有機性
のガスが、保護膜１０９の下に閉じ込められて行き場を
失い、徐々に第２電極１０７と有機ＥＬ媒体１０６の境
界部分から、有機ＥＬ媒体１０６に侵入（矢印で示して
いる）するので、非発光部分（ダークスポット）の拡大
が生じてしまうといった問題が生じる。
【００１７】図９は、従来のガラス管や保護膜等を用い
て封止して形成された発光画素に閉じ込められた隔壁か
らの放出ガスや水分等が有機ＥＬ媒体に侵入する様子を
示した図である。
て封止して形成された発光画素に閉じ込められた隔壁か
らの放出ガスや水分等が有機ＥＬ媒体に侵入する様子を
示した図である。
【００１８】本発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
であり、外部から素子へ水分が侵入しないように、か
つ、隔壁等から放出される水分やガスが素子に悪影響を
与えることを防止し、長寿命の有機ＥＬディスプレイを
実現することを目的とする。
であり、外部から素子へ水分が侵入しないように、か
つ、隔壁等から放出される水分やガスが素子に悪影響を
与えることを防止し、長寿命の有機ＥＬディスプレイを
実現することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
複数の発光部を有する有機ＥＬディスプレイであって、
基板と、前記基板の一面側に形成された複数の第１電極
と、第１電極の一部分を露出させかつ他部分を覆うよう
に基板の一面から突出して形成された複数の電気絶縁性
の隔壁と、第１電極の露出部分の各々上に形成された有
機ＥＬ媒体の層と、有機ＥＬ媒体の層上に形成された複
数の第２電極と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜とを備
え、保護膜に隔壁の一部分のみを露出させる開口部を形
成したことを特徴とする。
複数の発光部を有する有機ＥＬディスプレイであって、
基板と、前記基板の一面側に形成された複数の第１電極
と、第１電極の一部分を露出させかつ他部分を覆うよう
に基板の一面から突出して形成された複数の電気絶縁性
の隔壁と、第１電極の露出部分の各々上に形成された有
機ＥＬ媒体の層と、有機ＥＬ媒体の層上に形成された複
数の第２電極と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜とを備
え、保護膜に隔壁の一部分のみを露出させる開口部を形
成したことを特徴とする。
【００２０】また、請求項２記載の発明は、複数の発光
部がマトリクス状に配列されている有機ＥＬディスプレ
イであって、基板と、基板の一面に形成されるものであ
り、所定間隔をおいて互いに平行に伸長して配列される
複数の第１電極と、その一部分が第１電極を覆うように
基板の一面から突出して形成されるものであって、第１
電極とほぼ直交する方向において所定間隔をおいて互い
に伸長する複数の電気絶縁性の隔壁と、第１電極の上に
形成されるものであって、複数の隔壁の間に隔壁と平行
な方向に伸長して配列される複数の有機ＥＬ層と、有機
ＥＬ層の上に形成されるものであって、複数の隔壁の間
に有機ＥＬ層と平行な方向に伸長して配列される複数の
第２電極と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機ＥＬ媒
体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜とを備え、保
護膜に隔壁の一部分のみを露出させる開口部を形成した
ことを特徴とする。
部がマトリクス状に配列されている有機ＥＬディスプレ
イであって、基板と、基板の一面に形成されるものであ
り、所定間隔をおいて互いに平行に伸長して配列される
複数の第１電極と、その一部分が第１電極を覆うように
基板の一面から突出して形成されるものであって、第１
電極とほぼ直交する方向において所定間隔をおいて互い
に伸長する複数の電気絶縁性の隔壁と、第１電極の上に
形成されるものであって、複数の隔壁の間に隔壁と平行
な方向に伸長して配列される複数の有機ＥＬ層と、有機
ＥＬ層の上に形成されるものであって、複数の隔壁の間
に有機ＥＬ層と平行な方向に伸長して配列される複数の
第２電極と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機ＥＬ媒
体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜とを備え、保
護膜に隔壁の一部分のみを露出させる開口部を形成した
ことを特徴とする。
【００２１】また、請求項３記載の発明は、請求項１又
は２に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、隔壁は、
その突出上部に基板に平行な方向に突出するオーバハン
グ部を有することを特徴とする。
は２に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、隔壁は、
その突出上部に基板に平行な方向に突出するオーバハン
グ部を有することを特徴とする。
【００２２】また、請求項４記載の発明は、請求項１乃
至は３に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、隔壁
は、その突出上部が第２電極よりも上方に突出している
ことを特徴とする。
至は３に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、隔壁
は、その突出上部が第２電極よりも上方に突出している
ことを特徴とする。
【００２３】また、請求項５記載の発明は、請求項１乃
至は４に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、隔壁は
感光性樹脂からなることを特徴とする。
至は４に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、隔壁は
感光性樹脂からなることを特徴とする。
【００２４】また、請求項６記載の発明は、請求項１乃
至は５に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、保護膜
は、密着性を有する薄膜であることを特徴とする。
至は５に記載の有機ＥＬディスプレイにおいて、保護膜
は、密着性を有する薄膜であることを特徴とする。
【００２５】また、請求項７記載の発明は、複数の発光
部を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
基板の一面に複数の第１電極を形成するパターニング工
程と、第１電極の一部分を露出させ他部分を覆うように
基板の一面から突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工
程と、第１電極の露出した部分の上に有機ＥＬ媒体を堆
積させ、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体の層を形成する
発光層形成工程と、有機ＥＬ媒体の層の上に第２電極を
形成する工程と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜を形成す
る工程と、保護膜に隔壁の一部分のみを外部に露出させ
る開口部を形成する工程とを含むことを特徴とする。
部を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
基板の一面に複数の第１電極を形成するパターニング工
程と、第１電極の一部分を露出させ他部分を覆うように
基板の一面から突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工
程と、第１電極の露出した部分の上に有機ＥＬ媒体を堆
積させ、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体の層を形成する
発光層形成工程と、有機ＥＬ媒体の層の上に第２電極を
形成する工程と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込める保護膜を形成す
る工程と、保護膜に隔壁の一部分のみを外部に露出させ
る開口部を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【００２６】また、請求項８記載の発明は、複数の発光
部を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
基板の一面に複数の第１電極を形成するパターニング工
程と、第１電極の一部分を露出させ他部分を覆うように
基板の一面から突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工
程と、第１電極の露出した部分の上に有機ＥＬ媒体を堆
積させ、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体の層を形成する
発光層形成工程と、有機ＥＬ媒体の層の上に第２電極を
形成する工程と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込め、且つ、隔壁の一
部分のみを外部に露出させる開口部を有する保護膜を形
成する工程とを含むことを特徴とする。
部を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
基板の一面に複数の第１電極を形成するパターニング工
程と、第１電極の一部分を露出させ他部分を覆うように
基板の一面から突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工
程と、第１電極の露出した部分の上に有機ＥＬ媒体を堆
積させ、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体の層を形成する
発光層形成工程と、有機ＥＬ媒体の層の上に第２電極を
形成する工程と、基板と共に、第１電極、隔壁、有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び第２電極を封じ込め、且つ、隔壁の一
部分のみを外部に露出させる開口部を有する保護膜を形
成する工程とを含むことを特徴とする。
【００２７】
【作用】本発明は以上のように構成したので、有機ＥＬ
媒体の層が第１電極、隔壁、第２電極と共に、保護膜及
び基板によって封じ込められ、かつ、保護膜に隔壁の一
部分のみを露出させる開口部を形成されるので、有機Ｅ
Ｌディスプレイの外部からの水分が有機ＥＬ媒体の層に
侵入することがなく、また、隔壁が発する水分やガスが
有機ＥＬ媒体の層に侵入することなく、開口部を通じて
外部に放出される。このため、従来に比べ温度や湿度に
強く寿命の長い有機ＥＬディスプレイを容易に実現する
ことができる。
媒体の層が第１電極、隔壁、第２電極と共に、保護膜及
び基板によって封じ込められ、かつ、保護膜に隔壁の一
部分のみを露出させる開口部を形成されるので、有機Ｅ
Ｌディスプレイの外部からの水分が有機ＥＬ媒体の層に
侵入することがなく、また、隔壁が発する水分やガスが
有機ＥＬ媒体の層に侵入することなく、開口部を通じて
外部に放出される。このため、従来に比べ温度や湿度に
強く寿命の長い有機ＥＬディスプレイを容易に実現する
ことができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】次に、本発明に好適な各実施形態
について以下に説明する。先ず、第１の実施形態につい
て述べる。図１は、本発明の第１の実施形態における有
機ＥＬディスプレイに用いられる発光画素１１３の構造
をその製造工程と共に示した概略断面図であり、工程順
に（ａ）〜（ｅ）によって示している。なお、図１
（ａ）〜（ｃ）は、先に述べた従来の図８（ａ）〜
（ｃ）と同様である。したがって、ここでは、図１
（ａ）〜（ｃ）の説明は省略する。
について以下に説明する。先ず、第１の実施形態につい
て述べる。図１は、本発明の第１の実施形態における有
機ＥＬディスプレイに用いられる発光画素１１３の構造
をその製造工程と共に示した概略断面図であり、工程順
に（ａ）〜（ｅ）によって示している。なお、図１
（ａ）〜（ｃ）は、先に述べた従来の図８（ａ）〜
（ｃ）と同様である。したがって、ここでは、図１
（ａ）〜（ｃ）の説明は省略する。
【００２９】図１（ｃ）示す工程の後、図１（ｄ）に示
すように、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ等の抵抗率の低い金属を有
機ＥＬ媒体１０６上に蒸着させることにより、第２電極
１０７が形成される。
すように、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ等の抵抗率の低い金属を有
機ＥＬ媒体１０６上に蒸着させることにより、第２電極
１０７が形成される。
【００３０】なお、この場合に、図示せぬ蒸発源から発
する上記金属の蒸気が、同図に示すように、基板１０２
に垂直な軸Ｘに対する傾斜角度θで表される隔壁１０５
のオーバハング角よりも小さな傾斜角度θ1 で有機ＥＬ
媒体１０６上に蒸着されるように調整する。この傾斜角
度θ1 は、有機ＥＬ媒体１０６上に蒸着されて形成され
る第２電極１０７が、隔壁１０５上に蒸着される上記金
属と分断されて形成されるだけでなく、隔壁１０５のオ
ーバハング形状を有する壁面と離間して形成されるの
で、第２電極１０７と隔壁１０５の壁面との間に開口部
１０７ａが形成される。
する上記金属の蒸気が、同図に示すように、基板１０２
に垂直な軸Ｘに対する傾斜角度θで表される隔壁１０５
のオーバハング角よりも小さな傾斜角度θ1 で有機ＥＬ
媒体１０６上に蒸着されるように調整する。この傾斜角
度θ1 は、有機ＥＬ媒体１０６上に蒸着されて形成され
る第２電極１０７が、隔壁１０５上に蒸着される上記金
属と分断されて形成されるだけでなく、隔壁１０５のオ
ーバハング形状を有する壁面と離間して形成されるの
で、第２電極１０７と隔壁１０５の壁面との間に開口部
１０７ａが形成される。
【００３１】次に、図１（ｅ）に示すように、透湿性の
低い蒸着材料を用いて、基板１０２の第２電極１０７が
形成される面側を蒸着処理することにより第２電極１０
７上に保護膜１１２が積層形成される。
低い蒸着材料を用いて、基板１０２の第２電極１０７が
形成される面側を蒸着処理することにより第２電極１０
７上に保護膜１１２が積層形成される。
【００３２】なお、この場合に、図示せぬ蒸発源から発
する上記蒸着材料が、同図に示すように、基板に垂直な
軸Ｘに対する傾斜角度θで表される隔壁１０５のオーバ
ハング角よりも小さく、かつ、図１（ｄ）で述べた傾斜
角度θ1 よりも大きな傾斜角度θ2 で第２電極１０７上
に蒸着されるように調整すれば、上記蒸着材料が開口部
１０７ａ内においても蒸着されるので、開口部１０７ａ
内で露出している第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６
及び絶縁膜１０４の各表面上にも保護膜１１２が形成さ
れ、したがって第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６及
び絶縁膜１０４は、基板１０２上において保護膜１１２
によって全面封止され、外部からの湿気が遮断される。
する上記蒸着材料が、同図に示すように、基板に垂直な
軸Ｘに対する傾斜角度θで表される隔壁１０５のオーバ
ハング角よりも小さく、かつ、図１（ｄ）で述べた傾斜
角度θ1 よりも大きな傾斜角度θ2 で第２電極１０７上
に蒸着されるように調整すれば、上記蒸着材料が開口部
１０７ａ内においても蒸着されるので、開口部１０７ａ
内で露出している第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６
及び絶縁膜１０４の各表面上にも保護膜１１２が形成さ
れ、したがって第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６及
び絶縁膜１０４は、基板１０２上において保護膜１１２
によって全面封止され、外部からの湿気が遮断される。
【００３３】また、この場合に、上記蒸着材料の蒸着時
間等を適当に調整することにより開口部１０７ａが蒸着
材料によって埋まることがなく、その結果、隔壁１０５
の壁面の一部分のみが露出して形成される開口部１１２
ａを有する保護膜１１２が形成される。
間等を適当に調整することにより開口部１０７ａが蒸着
材料によって埋まることがなく、その結果、隔壁１０５
の壁面の一部分のみが露出して形成される開口部１１２
ａを有する保護膜１１２が形成される。
【００３４】第１の実施形態における有機ＥＬディスプ
レイに用いられる発光画素１１３は以上の方法により形
成され、先に述べた従来の有機ＥＬディスプレイの発光
画素１０１と同様に、複数配列して用いることにより有
機ＥＬディスプレイが形成される。
レイに用いられる発光画素１１３は以上の方法により形
成され、先に述べた従来の有機ＥＬディスプレイの発光
画素１０１と同様に、複数配列して用いることにより有
機ＥＬディスプレイが形成される。
【００３５】したがって、有機ＥＬディスプレイの発光
画素１１３は、外部からの水分が有機ＥＬ媒体１０６の
各層に侵入することがなく、また、隔壁１０５が発する
水分やガスが有機ＥＬ媒体１０６の各層に直接侵入する
ことなく開口部１１２ａを通じて外部に放出されるの
で、有機ＥＬ媒体１０６の各層は、従来に比べ温度や湿
度に強くなる。
画素１１３は、外部からの水分が有機ＥＬ媒体１０６の
各層に侵入することがなく、また、隔壁１０５が発する
水分やガスが有機ＥＬ媒体１０６の各層に直接侵入する
ことなく開口部１１２ａを通じて外部に放出されるの
で、有機ＥＬ媒体１０６の各層は、従来に比べ温度や湿
度に強くなる。
【００３６】上述した第１の実施形態の発光画素の製造
工程における具体的実施例について以下に説明する。図
２は、第１の実施形態の発光画素の製造工程の具体的実
施例であり、図２（ａ）は、発光画素の隔壁１０５を形
成する工程を示した図であり、先の図１（ｂ）に対応す
る。また、図２（ｂ）は、第２電極１０７及び開口部１
０７ａを形成する工程を示した図であり、先の図１
（ｄ）に対応する。また、図２（ｃ）は、保護膜１１２
及び開口部１１２ａを形成して発光画素１１３を形成す
る工程を示した図であり、先の図１（ｅ）に対応する。
工程における具体的実施例について以下に説明する。図
２は、第１の実施形態の発光画素の製造工程の具体的実
施例であり、図２（ａ）は、発光画素の隔壁１０５を形
成する工程を示した図であり、先の図１（ｂ）に対応す
る。また、図２（ｂ）は、第２電極１０７及び開口部１
０７ａを形成する工程を示した図であり、先の図１
（ｄ）に対応する。また、図２（ｃ）は、保護膜１１２
及び開口部１１２ａを形成して発光画素１１３を形成す
る工程を示した図であり、先の図１（ｅ）に対応する。
【００３７】本実施例では、図２（ａ）に示す工程によ
り、第１電極１０３としてストライプ状にＩＴＯがパタ
ーニングされた透明なガラスからなる基板１０２を充分
洗浄し、第２電極間のギャップにあたる部分に絶縁膜１
０４としてＳｉＯ2 を４０μｍ幅で形成した。次に、有
機物からなるフォトレジスト材料を用いて隔壁１０５を
絶縁膜１０４上に形成した。隔壁１０５は、上面の幅が
３０μｍで壁面の傾斜が基板１０２に垂直な軸Ｘに対し
最大でもほぼ３０度となるオーバハング角を有する形状
で形成した。
り、第１電極１０３としてストライプ状にＩＴＯがパタ
ーニングされた透明なガラスからなる基板１０２を充分
洗浄し、第２電極間のギャップにあたる部分に絶縁膜１
０４としてＳｉＯ2 を４０μｍ幅で形成した。次に、有
機物からなるフォトレジスト材料を用いて隔壁１０５を
絶縁膜１０４上に形成した。隔壁１０５は、上面の幅が
３０μｍで壁面の傾斜が基板１０２に垂直な軸Ｘに対し
最大でもほぼ３０度となるオーバハング角を有する形状
で形成した。
【００３８】また、本実施例では、図２（ｂ）に示す工
程により、ＴＰＤを７００オングストローム、Ａｌｑ3
を５５０オングストローム積層して有機ＥＬ媒体１０６
を形成し、さらに、その上にＡｌを１０００オングスト
ローム蒸着して第２電極１０７を形成した。なお、この
場合に、図示せぬ蒸発源から発せられたＡｌ蒸気は、基
板１０２に垂直な軸Ｘに対し最大でもほぼ１０度の傾斜
角度で有機ＥＬ媒体１０６上に蒸着されるように調整し
た。このことにより、有機ＥＬ媒体１０６上に形成され
る第２電極１０７と隔壁１０５の壁面が離間し、開口部
１０７ａが形成される。
程により、ＴＰＤを７００オングストローム、Ａｌｑ3
を５５０オングストローム積層して有機ＥＬ媒体１０６
を形成し、さらに、その上にＡｌを１０００オングスト
ローム蒸着して第２電極１０７を形成した。なお、この
場合に、図示せぬ蒸発源から発せられたＡｌ蒸気は、基
板１０２に垂直な軸Ｘに対し最大でもほぼ１０度の傾斜
角度で有機ＥＬ媒体１０６上に蒸着されるように調整し
た。このことにより、有機ＥＬ媒体１０６上に形成され
る第２電極１０７と隔壁１０５の壁面が離間し、開口部
１０７ａが形成される。
【００３９】また、本実施例では、図２（ｃ）に示す工
程により、隔壁１０５及び有機ＥＬ媒体１０６が形成さ
れた基板１０２上にＧｅＯを３μｍの厚さに蒸着して保
護膜１１２を形成した。なお、この場合に、図示せぬ蒸
発源から発せられたＧｅＯ蒸気は、基板１０２に垂直な
軸Ｘに対しほぼ２０度の傾斜角度で有機ＥＬ媒体１０６
上に蒸着されるように調整した。
程により、隔壁１０５及び有機ＥＬ媒体１０６が形成さ
れた基板１０２上にＧｅＯを３μｍの厚さに蒸着して保
護膜１１２を形成した。なお、この場合に、図示せぬ蒸
発源から発せられたＧｅＯ蒸気は、基板１０２に垂直な
軸Ｘに対しほぼ２０度の傾斜角度で有機ＥＬ媒体１０６
上に蒸着されるように調整した。
【００４０】このことにより、ＧｅＯ蒸気が開口部１０
７ａ内においても蒸着されるので、開口部１０７ａ内で
露出している第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６及び
絶縁膜１０４の各表面上にも保護膜１１２が形成され、
したがって第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６及び絶
縁膜１０４は、基板１０２上において保護膜１１２によ
って全面封止され、外部からの湿気が遮断されて発光画
素１１３が形成される。こうして形成した発光画素１１
３を、摂氏１００度で５００時間の耐熱試験の投入前と
投入後でそれぞれ発光させ、第２電極からの非発光部
（ダークスポット）の進行の有無を観察したところ、変
化が見られなかった。
７ａ内においても蒸着されるので、開口部１０７ａ内で
露出している第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６及び
絶縁膜１０４の各表面上にも保護膜１１２が形成され、
したがって第２電極１０７、有機ＥＬ媒体１０６及び絶
縁膜１０４は、基板１０２上において保護膜１１２によ
って全面封止され、外部からの湿気が遮断されて発光画
素１１３が形成される。こうして形成した発光画素１１
３を、摂氏１００度で５００時間の耐熱試験の投入前と
投入後でそれぞれ発光させ、第２電極からの非発光部
（ダークスポット）の進行の有無を観察したところ、変
化が見られなかった。
【００４１】次に、第２の実施形態について述べる。図
３は、本発明の第２の実施形態における有機ＥＬディス
プレイに用いられる発光画素１１５の構造をその製造工
程と共に示した概略断面図であり、工程順に（ａ）〜
（ｅ）によって示している。
３は、本発明の第２の実施形態における有機ＥＬディス
プレイに用いられる発光画素１１５の構造をその製造工
程と共に示した概略断面図であり、工程順に（ａ）〜
（ｅ）によって示している。
【００４２】図３（ａ）〜（ｃ）は、先に述べた従来の
図８（ａ）〜（ｃ）と同様である。したがって、ここで
は、図３（ａ）〜（ｃ）の説明は省略する。
図８（ａ）〜（ｃ）と同様である。したがって、ここで
は、図３（ａ）〜（ｃ）の説明は省略する。
【００４３】図３（ｃ）の工程の後、透湿性の低い保護
膜１１４を基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒体１
０６が形成される面全体を密着して覆うように形成す
る。このことにより、隔壁１０５、有機ＥＬ媒体１０
６、第２電極１０７は全て保護膜１１４により全面封止
される。
膜１１４を基板１０２の隔壁１０５及び有機ＥＬ媒体１
０６が形成される面全体を密着して覆うように形成す
る。このことにより、隔壁１０５、有機ＥＬ媒体１０
６、第２電極１０７は全て保護膜１１４により全面封止
される。
【００４４】次に、図３（ｅ）に示すように、各隔壁１
０５の上部にレーザを照射して保護膜１１４及びＡｌの
一部を除去し隔壁１０５の上部を一部露出させる開口部
１１４ａを形成する。
０５の上部にレーザを照射して保護膜１１４及びＡｌの
一部を除去し隔壁１０５の上部を一部露出させる開口部
１１４ａを形成する。
【００４５】第２の実施形態における有機ＥＬディスプ
レイに用いられる発光画素１１５は以上の方法により形
成され、先に述べた従来の有機ＥＬディスプレイの発光
画素１０１と同様に、複数配列して用いることにより有
機ＥＬディスプレイが形成される。
レイに用いられる発光画素１１５は以上の方法により形
成され、先に述べた従来の有機ＥＬディスプレイの発光
画素１０１と同様に、複数配列して用いることにより有
機ＥＬディスプレイが形成される。
【００４６】したがって、有機ＥＬディスプレイの発光
画素１１５は、外部からの水分が有機ＥＬ媒体１０６の
各層に侵入することがなく、また、隔壁１０５が発する
水分やガスが有機ＥＬ媒体１０６の各層に直接侵入する
ことなく開口部１１４ａを通じて外部に放出されるの
で、有機ＥＬ媒体１０６の各層は、従来に比べ温度や湿
度に強くなる。
画素１１５は、外部からの水分が有機ＥＬ媒体１０６の
各層に侵入することがなく、また、隔壁１０５が発する
水分やガスが有機ＥＬ媒体１０６の各層に直接侵入する
ことなく開口部１１４ａを通じて外部に放出されるの
で、有機ＥＬ媒体１０６の各層は、従来に比べ温度や湿
度に強くなる。
【００４７】上述した第２の実施形態の発光画素の製造
工程における具体的実施例について以下に説明する。図
４は、第２の実施形態の発光画素の製造工程の具体的実
施例であり、図４（ａ）は、発光画素の隔壁１０５を形
成する工程を示した図であり、先の図３（ｂ）に対応す
る。また、図４（ｂ）は、第２電極１０７及び隔壁１０
５上に保護膜１１２を形成する工程を示した図である。
また、図４（ｃ）は、開口部１１２ａを形成して発光画
素１１５を形成する工程を示した図であり、先の図３
（ｅ）に対応する。
工程における具体的実施例について以下に説明する。図
４は、第２の実施形態の発光画素の製造工程の具体的実
施例であり、図４（ａ）は、発光画素の隔壁１０５を形
成する工程を示した図であり、先の図３（ｂ）に対応す
る。また、図４（ｂ）は、第２電極１０７及び隔壁１０
５上に保護膜１１２を形成する工程を示した図である。
また、図４（ｃ）は、開口部１１２ａを形成して発光画
素１１５を形成する工程を示した図であり、先の図３
（ｅ）に対応する。
【００４８】本実施例では、図４（ａ）に示す工程によ
り、第１電極１０３としてストライプ状にＩＴＯがパタ
ーニングされた透明なガラスからなる基板１０２を充分
洗浄し、第２電極間のギャップにあたる部分に絶縁膜１
０４としてＳｉＯ2 を４０μｍ幅で形成した。次に、有
機物からなるフォトレジスト材料を用いて隔壁１０５を
絶縁膜１０４上に形成した。隔壁１０５は、先に述べた
エッチング処理により、上面の幅が３０μｍで壁面の傾
斜が基板１０２に垂直な軸Ｘに対し最大でもほぼ３０度
となるオーバハング角を有する形状で形成した。
り、第１電極１０３としてストライプ状にＩＴＯがパタ
ーニングされた透明なガラスからなる基板１０２を充分
洗浄し、第２電極間のギャップにあたる部分に絶縁膜１
０４としてＳｉＯ2 を４０μｍ幅で形成した。次に、有
機物からなるフォトレジスト材料を用いて隔壁１０５を
絶縁膜１０４上に形成した。隔壁１０５は、先に述べた
エッチング処理により、上面の幅が３０μｍで壁面の傾
斜が基板１０２に垂直な軸Ｘに対し最大でもほぼ３０度
となるオーバハング角を有する形状で形成した。
【００４９】また、本実施例では、図４（ｂ）に示す工
程により、ＴＰＤを７００オングストローム、Ａｌｑ3
を５５０オングストローム積層して有機ＥＬ媒体１０６
を形成し、さらに、その上にＡｌを１０００オングスト
ローム蒸着して第２電極１０７を形成した。次に、プラ
ズマＣＶＤによってＳｉＯ2 からなる保護膜１１４を１
μｍの厚さに形成し、隔壁１０５及び第２電極１０７を
全面封止した。
程により、ＴＰＤを７００オングストローム、Ａｌｑ3
を５５０オングストローム積層して有機ＥＬ媒体１０６
を形成し、さらに、その上にＡｌを１０００オングスト
ローム蒸着して第２電極１０７を形成した。次に、プラ
ズマＣＶＤによってＳｉＯ2 からなる保護膜１１４を１
μｍの厚さに形成し、隔壁１０５及び第２電極１０７を
全面封止した。
【００５０】また、本実施例では、図４（ｃ）に示す工
程により、各隔壁１０５の上部にレーザを照射して保護
膜１１４及びＡｌの一部を除去し隔壁１０５の上部を２
０μｍ幅に亘って露出させる開口部１１４ａを形成し
た。
程により、各隔壁１０５の上部にレーザを照射して保護
膜１１４及びＡｌの一部を除去し隔壁１０５の上部を２
０μｍ幅に亘って露出させる開口部１１４ａを形成し
た。
【００５１】こうして形成した発光画素１１５を、摂氏
１００度で５００時間の耐熱試験の投入前と投入後でそ
れぞれ発光させ、第２電極からの非発光部（ダークスポ
ット）の進行の有無を観察したところ、変化が見られな
かった。
１００度で５００時間の耐熱試験の投入前と投入後でそ
れぞれ発光させ、第２電極からの非発光部（ダークスポ
ット）の進行の有無を観察したところ、変化が見られな
かった。
【００５２】なお、上述した各実施形態においては、有
機材料からなるＥＬ媒体を用いた発光画素を例に挙げて
説明したが、これに限らず自発光する媒体を用いたＥＬ
素子によって形成されたＥＬディスプレイであっても良
い。
機材料からなるＥＬ媒体を用いた発光画素を例に挙げて
説明したが、これに限らず自発光する媒体を用いたＥＬ
素子によって形成されたＥＬディスプレイであっても良
い。
【００５３】また、隔壁１０５の一部を露出させて形成
する開口部１１２ａ、１１４ａは、保護膜１１２、１１
４に開けられた溝であっても良いし、孔であっても良
く、その形状は問わない。
する開口部１１２ａ、１１４ａは、保護膜１１２、１１
４に開けられた溝であっても良いし、孔であっても良
く、その形状は問わない。
【００５４】
【発明の効果】本発明は以上のように構成したため、有
機ＥＬ媒体の層が第１電極、隔壁、第２電極と共に、保
護膜及び基板によって封じ込められ、かつ、保護膜に隔
壁の一部分のみを露出させる開口部を形成されるので、
有機ＥＬディスプレイの外部からの水分が有機ＥＬ媒体
の層に侵入することがなく、また、隔壁が発する水分や
ガスが有機ＥＬ媒体の層に侵入することなく、開口部を
通じて外部に放出される。このため、従来に比べ温度や
湿度に強く寿命の長い有機ＥＬディスプレイを容易に実
現することができる。
機ＥＬ媒体の層が第１電極、隔壁、第２電極と共に、保
護膜及び基板によって封じ込められ、かつ、保護膜に隔
壁の一部分のみを露出させる開口部を形成されるので、
有機ＥＬディスプレイの外部からの水分が有機ＥＬ媒体
の層に侵入することがなく、また、隔壁が発する水分や
ガスが有機ＥＬ媒体の層に侵入することなく、開口部を
通じて外部に放出される。このため、従来に比べ温度や
湿度に強く寿命の長い有機ＥＬディスプレイを容易に実
現することができる。
【図１】本発明の第１の実施形態における有機ＥＬディ
スプレイに用いられる発光画素の構造をその製造工程と
共に示した概略断面図である。
スプレイに用いられる発光画素の構造をその製造工程と
共に示した概略断面図である。
【図２】第１の実施形態の発光画素の製造工程の具体的
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施形態における有機ＥＬディ
スプレイに用いられる発光画素の構造をその製造工程と
共に示した概略断面図である。
スプレイに用いられる発光画素の構造をその製造工程と
共に示した概略断面図である。
【図４】第２の実施形態の発光画素の製造工程の具体的
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【図５】従来におけるフルカラー有機ディスプレイパネ
ルの発光画素の配列の一例を示した図である。
ルの発光画素の配列の一例を示した図である。
【図６】フルカラー有機ディスプレイパネルの発光画素
の基板部の概略構造図である。
の基板部の概略構造図である。
【図７】ガラス管や保護膜等を用いて封止して形成され
た発光画素の断面構造図である。
た発光画素の断面構造図である。
【図８】従来の発光画素の基板部の製造工程を示す図で
ある。
ある。
【図９】従来のガラス管や保護膜等を用いて封止して形
成された発光画素に閉じ込められた隔壁からの放出ガス
や水分等が有機ＥＬ媒体に侵入する様子を示した図であ
る。
成された発光画素に閉じ込められた隔壁からの放出ガス
や水分等が有機ＥＬ媒体に侵入する様子を示した図であ
る。
１０１・・・・・発光画素 １０２・・・・・基板 １０３・・・・・第１電極 １０４・・・・・絶縁膜 １０５・・・・・隔壁 １０６・・・・・有機ＥＬ媒体 １０７・・・・・第２電極 １０７ａ・・・・開口部 １０８・・・・・ガラス管 １０９・・・・・保護膜 １１０・・・・・接着剤 １１１・・・・・蒸着マスク １１２・・・・・保護膜 １１２ａ・・・・開口部 １１３・・・・・発光画素 １１４・・・・・保護膜 １１４ａ・・・・開口部 １１５・・・・・発光画素
Claims (8)
- 【請求項１】 複数の発光部を有する有機ＥＬディスプ
レイであって、 基板と、 前記基板の一面側に形成された複数の第１電極と、 前記第１電極の一部分を露出させかつ他部分を覆うよう
に前記基板の一面から突出して形成された複数の電気絶
縁性の隔壁と、 前記第１電極の前記露出部分の各々上に形成された有機
ＥＬ媒体の層と、 前記有機ＥＬ媒体の層上に形成された複数の第２電極
と、 前記基板と共に、前記第１電極、前記隔壁、前記有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び前記第２電極を封じ込める保護膜とを
備え、 前記保護膜に前記隔壁の一部分のみを露出させる開口部
を形成したことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。 - 【請求項２】 複数の発光部がマトリクス状に配列され
ている有機ＥＬディスプレイであって、 基板と、 前記基板の一面に形成されるものであり、所定間隔をお
いて互いに平行に伸長して配列される複数の第１電極
と、 その一部分が前記第１電極を覆うように前記基板の一面
から突出して形成されるものであって、前記第１電極と
ほぼ直交する方向において所定間隔をおいて互いに伸長
する複数の電気絶縁性の隔壁と、 前記第１電極の上に形成されるものであって、前記複数
の隔壁の間に前記隔壁と平行な方向に伸長して配列され
る複数の有機ＥＬ層と、 前記有機ＥＬ層の上に形成されるものであって、前記複
数の隔壁の間に前記有機ＥＬ層と平行な方向に伸長して
配列される複数の第２電極と、 前記基板と共に、前記第１電極、前記隔壁、前記有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び前記第２電極を封じ込める保護膜とを
備え、 前記保護膜に前記隔壁の一部分のみを露出させる開口部
を形成したことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。 - 【請求項３】 前記隔壁は、その突出上部に前記基板に
平行な方向に突出するオーバハング部を有することを特
徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬディスプレ
イ。 - 【請求項４】 前記隔壁は、その突出上部が前記第２電
極よりも上方に突出していることを特徴とする請求項１
乃至は３に記載の有機ＥＬディスプレイ。 - 【請求項５】 前記隔壁は感光性樹脂からなることを特
徴とする請求項１乃至は４に記載の有機ＥＬディスプレ
イ。 - 【請求項６】 前記保護膜は、密着性を有する薄膜であ
ることを特徴とする請求項１乃至は５に記載の有機ＥＬ
ディスプレイ。 - 【請求項７】 複数の発光部を有する有機ＥＬディスプ
レイの製造方法であって、 基板の一面に複数の第１電極を形成するパターニング工
程と、 前記第１電極の一部分を露出させ他部分を覆うように前
記基板の一面から突出する電気絶縁性の隔壁を形成する
工程と、 前記第１電極の前記露出した部分の上に有機ＥＬ媒体を
堆積させ、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体の層を形成す
る発光層形成工程と、 前記有機ＥＬ媒体の層の上に第２電極を形成する工程
と、 前記基板と共に、前記第１電極、前記隔壁、前記有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び前記第２電極を封じ込める保護膜を形
成する工程と、 前記保護膜に前記隔壁の一部分のみを外部に露出させる
開口部を形成する工程と、を含む有機ＥＬディスプレイ
の製造方法。 - 【請求項８】 複数の発光部を有する有機ＥＬディスプ
レイの製造方法であって、 基板の一面に複数の第１電極を形成するパターニング工
程と、 前記第１電極の一部分を露出させ他部分を覆うように前
記基板の一面から突出する電気絶縁性の隔壁を形成する
工程と、 前記第１電極の前記露出した部分の上に有機ＥＬ媒体を
堆積させ、少なくとも１層の有機ＥＬ媒体の層を形成す
る発光層形成工程と、 前記有機ＥＬ媒体の層の上に第２電極を形成する工程
と、 前記基板と共に、前記第１電極、前記隔壁、前記有機Ｅ
Ｌ媒体の層、及び前記第２電極を封じ込め、且つ、前記
隔壁の一部分のみを外部に露出させる開口部を有する保
護膜を形成する工程と、を含む有機ＥＬディスプレイの
製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9136011A JPH10312886A (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 有機ｅｌディスプレイとその製造方法 |
| US09/071,170 US6137220A (en) | 1997-05-09 | 1998-05-04 | Organic electroluminescent display with protective film and trapezoidal walls |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9136011A JPH10312886A (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 有機ｅｌディスプレイとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10312886A true JPH10312886A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=15165105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9136011A Pending JPH10312886A (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 有機ｅｌディスプレイとその製造方法 |
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| Country | Link |
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| US (1) | US6137220A (ja) |
| JP (1) | JPH10312886A (ja) |
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