JPH10302254A - Method and system for producing magnetic recording medium - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent abnormal discharge or creasing of creasing of a nonmagnetic supporting base even when a tubular metal can is employed by setting the width of a thin magnetic film narrower than that of a reaction tube when a protective film is deposited on the thin magnetic film by plasma CVD and forming an insulating layer at the opposite end parts of the circumferential surface of a cooling can projecting from the nonmagnetic supporting base. SOLUTION: A tubular can 7 has a metal layer 11 having high thermal conductivity on the surface and cools a nonmagnetic support 1 effectively. An insulating layer 12 is provided at the opposite end parts 7a, 7b of the tubular can 7 projecting from the nonmagnetic support 1 and the width M of a thin magnetic film 2 is set narrower than that W of a reaction tube 8. Consequently, the nonmagnetic support 1 is prevented from being creased by plasma in a region for depositing the thin magnetic film although the plasma concentrates at the edge 8b of the reaction tube 8. Furthermore, since the width W is wide, abnormal discharge between a plasma leaking from the opening 8b of the reaction tube and the tubular can 7 projecting from the nonmagnetic support 1 is prevented by the insulating layer 12 a CVD film adhering to the tubular can 7 can be removed easily.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマＣＶＤ法
によって保護膜を成膜する磁気記録媒体の製造方法及び
磁気記録媒体の製造装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium on which a protective film is formed by a plasma CVD method.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、酸化
物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を塩
化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹脂、
ウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめた磁性
塗料を、非磁性支持体上に塗布、乾燥することで磁性層
が形成される、いわゆる塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, a powder magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder has been prepared by using a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a polyester resin, or the like.
A so-called coating type magnetic recording medium in which a magnetic layer formed by applying a magnetic coating material dispersed in an organic binder such as a urethane resin on a non-magnetic support and drying the same is widely used.

【０００３】一方、高密度磁気記録への要求の高まりと
ともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ等
の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段（真空蒸
着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法等）
によってポリエステルフィルムやポリアミド、ポリイミ
ドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着することで磁
性層が形成される、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録
媒体が提案され注目を集めている。On the other hand, as the demand for high-density magnetic recording has increased, metal magnetic materials such as Co—Ni alloys, Co—Cr alloys, and Co—O have been used for plating and vacuum thin film forming means (vacuum evaporation, sputtering, Ion plating method)
A magnetic recording medium of the so-called metal magnetic thin film type, in which a magnetic layer is formed by directly applying a magnetic layer on a non-magnetic support such as a polyester film, a polyamide, or a polyimide film, has been proposed and attracted attention.

【０００４】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、抗
磁力や角形比等に優れるとともに、磁性層の厚みを極め
て薄くできるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著し
く小さく、短波長での電磁変換特性に優れる。また、そ
ればかりでなく、磁性層中に非磁性材であるバインダー
を混入する必要がないため、磁性材料の充填密度を高め
ることができること等、数々の利点を有している。この
ため高密度記録用の媒体として期待される。[0004] This metal magnetic thin film type magnetic recording medium is excellent in coercive force, squareness ratio, etc., and has a very small thickness of the magnetic layer. Therefore, recording magnetic demagnetization and thickness loss at the time of reproduction are extremely small. Has excellent electromagnetic conversion characteristics. In addition, since there is no need to mix a binder, which is a nonmagnetic material, into the magnetic layer, the magnetic layer has a number of advantages such as a higher packing density of the magnetic material. Therefore, it is expected as a medium for high density recording.

【０００５】ところで、このような金属磁性薄膜型の磁
気記録媒体では、磁気ヘッド等との摺動性を改善するた
めに、通常、磁性薄膜上に硬質の保護膜が設けられる。In such a magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type, a hard protective film is usually provided on the magnetic thin film in order to improve the slidability with a magnetic head or the like.

【０００６】この硬質の保護膜としては、カーボン膜、
石英（ＳｉＯ２）膜、ジルコニア（ＺｒＯ２）膜等が挙
げられ、例えばハードディスクには既にこのような保護
膜が形成されたかたちで商品化されているものもある。
また、カーボン膜のうちでもダイヤモンド構造を有する
ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜は、硬度が高
く、保護効果に優れることから、今後、保護膜の主流に
なると期待される。As the hard protective film, a carbon film,
Examples include a quartz (SiO2) film and a zirconia (ZrO2) film. For example, some hard disks are already commercialized in a form in which such a protective film is formed.
Among carbon films, a diamond-like carbon (DLC) film having a diamond structure is expected to become the mainstream of protective films in the future because of its high hardness and excellent protective effect.

【０００７】このようなＤＬＣ膜は、スパッタリング法
やＣＶＤ法で成膜される。[0007] Such a DLC film is formed by a sputtering method or a CVD method.

【０００８】スパッタリング法では、電場や磁場を利用
してＡｒ等の不活性ガスを電離（プラズマ化）させ、生
じたアルゴンイオンを加速してターゲットに衝突させ
る。その結果、アルゴンイオンの運動エネルギーによっ
てターゲットの原子がはじき出され、そのはじき出され
た原子が、ターゲットと対向する基板上に堆積すること
で薄膜が成膜される。[0008] In the sputtering method, an inert gas such as Ar is ionized (plasmaized) using an electric field or a magnetic field, and the generated argon ions are accelerated and collided with a target. As a result, the atoms of the target are repelled by the kinetic energy of the argon ions, and the repelled atoms are deposited on the substrate facing the target to form a thin film.

【０００９】しかし、このスパッタリング法は、成膜速
度が遅く、工業レベルで用いるには現実的であるとは言
えない。However, this sputtering method has a low film-forming rate, and cannot be said to be practical for use on an industrial level.

【００１０】これに対して、ＣＶＤ法（化学気相成長
法）は、例えば電場や磁場を用いて発生させたプラズマ
のエネルギーを利用して、原料ガスに分解、合成等の化
学反応を起こさせ、この化学反応の結果生じた反応生成
物を基体上に堆積させることで薄膜を成膜する方法であ
る。On the other hand, in the CVD method (chemical vapor deposition method), for example, a chemical reaction such as decomposition and synthesis is caused to a raw material gas by utilizing the energy of plasma generated using an electric field or a magnetic field. In this method, a reaction product generated as a result of this chemical reaction is deposited on a substrate to form a thin film.

【００１１】このＣＶＤ法は、スパッタリング法に比べ
て遙かに成膜速度が速いため、工業生産に対応でき、保
護膜の成膜方法として有望である。The CVD method has a much higher film formation rate than the sputtering method, and therefore can be used for industrial production, and is promising as a method for forming a protective film.

【００１２】ここで、このＣＶＤ法でカーボン保護膜を
成膜するためのＣＶＤ装置の一例を図６に示す。FIG. 6 shows an example of a CVD apparatus for forming a carbon protective film by the CVD method.

【００１３】このＣＶＤ装置は、円筒キャン３１と反応
管３２が真空室内に収容されて構成され、磁性薄膜３３
が形成された非磁性支持体３４を円筒キャン３１に沿っ
て連続走行させながら、磁性薄膜３３上にカーボン保護
膜を成膜するものである。This CVD apparatus comprises a cylindrical can 31 and a reaction tube 32 housed in a vacuum chamber.
The carbon protective film is formed on the magnetic thin film 33 while continuously moving the non-magnetic support member 34 on which the is formed along the cylindrical can 31.

【００１４】上記円筒キャン３１は、セラミック材料等
よりなる円筒状をなすものであり、非磁性支持体３４の
幅ｂよりも広めの幅となされている。円筒キャン３１の
幅ｃを、このように非磁性支持体３４の幅ｂよりも広め
とするのは、走行時における非磁性支持体の幅方向の走
行変動や非磁性支持体自身の幅方向の長さムラに対応す
るためである。また、この円筒キャン３１には冷却装置
が内蔵され、非磁性支持体３４が常時冷却されるように
なっており、プラズマ発生に伴った温度上昇によって非
磁性支持体３４に熱変形しないようになっている。The cylindrical can 31 has a cylindrical shape made of a ceramic material or the like, and has a width wider than the width b of the nonmagnetic support 34. The reason why the width c of the cylindrical can 31 is made larger than the width b of the nonmagnetic support 34 in this way is that the running fluctuation in the width direction of the nonmagnetic support during running or the width direction of the nonmagnetic support itself. This is to cope with uneven length. Further, a cooling device is built in the cylindrical can 31 so that the non-magnetic support 34 is always cooled, so that the non-magnetic support 34 is not thermally deformed by the temperature rise due to the plasma generation. ing.

【００１５】上記反応管３２は、上記円筒キャン３４の
下方に配される。この反応管３２は、開口部３２ａが断
面長方形状をなす中空管であり、一方の端部が円筒キャ
ン３４側に向き、他の端部が真空室の底部を貫通し、こ
の端部から原料ガスが当該反応管３２内に導入されるよ
うになっている。The reaction tube 32 is disposed below the cylindrical can 34. The reaction tube 32 is a hollow tube having an opening 32a having a rectangular cross section. One end of the reaction tube 32 faces the cylindrical can 34 side, and the other end penetrates the bottom of the vacuum chamber. The source gas is introduced into the reaction tube 32.

【００１６】このような反応管３２内には金メッシュ等
よりなる加速電極３５が取り付けられている。この加速
電極３５には、外部の直流電源より電位が印加されるよ
うになっており、この加速電極３５と円筒キャン３１と
の間にグロー放電が生じる。反応管３２内に導入された
原料ガスは、この生じたグロー放電によって化学反応を
生じ、その反応物が磁性薄膜上に被着されることにな
る。An accelerating electrode 35 made of a gold mesh or the like is mounted in the reaction tube 32. A potential is applied to the acceleration electrode 35 from an external DC power supply, and a glow discharge occurs between the acceleration electrode 35 and the cylindrical can 31. The source gas introduced into the reaction tube 32 causes a chemical reaction due to the generated glow discharge, and the reactant is deposited on the magnetic thin film.

【００１７】[0017]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
ＣＶＤ装置では、プラズマ発生に伴った温度上昇による
非磁性支持体３４の熱変形が大きな問題となる。この対
策としては、上述のごとく円筒キャン３１に冷却装置を
設ける方法が採られている。さらに、この冷却効果には
円筒キャン３１の材質が大きく影響してくることから、
円筒キャン３１の少なくとも表面を、セラミックよりも
熱伝導率の高い金属材料で構成することも行われてい
る。However, in such a CVD apparatus, thermal deformation of the non-magnetic support 34 due to a rise in temperature due to generation of plasma poses a serious problem. As a countermeasure, a method of providing a cooling device in the cylindrical can 31 as described above is employed. Further, since the material of the cylindrical can 31 greatly affects the cooling effect,
At least the surface of the cylindrical can 31 is also made of a metal material having higher thermal conductivity than ceramic.

【００１８】しかしながら、円筒キャン３１を金属材料
によって構成した場合、次のような問題が生じる。However, when the cylindrical can 31 is made of a metal material, the following problems occur.

【００１９】まず、セラミックよりなる円筒キャン３１
を用いる場合、通常、反応管３２の、非磁性支持体３４
の幅方向に対応する長さ（以下、各部材において、非磁
性支持体の幅方向に対応する方向の長さを「幅」と称す
る）ｗが、非磁性支持体の幅ｂよりも広くされる。この
ような寸法構成の場合、反応管３２の開口部３２ａが非
磁性支持体３４からはみ出し、円筒キャン３１に直接対
向したかたちになる。First, a cylindrical can 31 made of ceramic is used.
When using the non-magnetic support 34 of the reaction tube 32,
(Hereinafter, in each member, the length in the direction corresponding to the width direction of the non-magnetic support is referred to as “width”) w is made larger than the width b of the non-magnetic support. You. In the case of such a dimensional configuration, the opening 32 a of the reaction tube 32 protrudes from the nonmagnetic support 34 and directly faces the cylindrical can 31.

【００２０】しかし、円筒キャン３１を金属材料によっ
て構成したときに、このような寸法構成を採用すると、
このはみ出した開口部３２ａから漏れ出るプラズマと金
属よりなる円筒キャン３１との間で異常放電が発生し、
円筒キャンに傷がついてしまう。また、反応管３２で生
じた反応物が、非磁性支持体３４からはみ出る円筒キャ
ン３１の端部に付着し易くなり、この清掃作業に多大な
時間を要するようになる。However, when such a dimensional configuration is adopted when the cylindrical can 31 is made of a metal material,
An abnormal discharge occurs between the plasma leaking from the protruding opening 32a and the cylindrical can 31 made of metal,
The cylindrical can is scratched. In addition, the reactant generated in the reaction tube 32 easily adheres to the end of the cylindrical can 31 protruding from the nonmagnetic support 34, and this cleaning operation requires much time.

【００２１】一方、この異常放電を避けるために、反応
管３２の幅ｗを磁性薄膜３３の幅ｍよりも狭くした場
合、磁性薄膜３３が反応管のエッジ３２ｂと直接対向し
たかたちになる。ここで、このような反応管３２ではエ
ッジ３２ｂにプラズマが集中し易いため、エッジ３２ｂ
が磁性薄膜３３に直接対向していると、プラズマによる
発熱によって非磁性支持体にシワが生じ、記録媒体とし
ての品質が劣化してしまう。また、磁性薄膜の幅方向の
両端部で保護膜の膜厚が薄くなってしまい、この部分で
は十分な保護効果が得られないといった不都合が生じ
る。On the other hand, if the width w of the reaction tube 32 is made smaller than the width m of the magnetic thin film 33 in order to avoid this abnormal discharge, the magnetic thin film 33 directly faces the edge 32b of the reaction tube. Here, in such a reaction tube 32, since plasma is easily concentrated on the edge 32b, the edge 32b
If the non-magnetic support directly faces the magnetic thin film 33, the non-magnetic support wrinkles due to the heat generated by the plasma, and the quality as a recording medium deteriorates. In addition, the thickness of the protective film is reduced at both ends in the width direction of the magnetic thin film, and there is a disadvantage that a sufficient protective effect cannot be obtained in this portion.

【００２２】このように円筒キャンを金属材料によって
構成しようとすると、異常放電の問題が生じ、これを避
けようとすると非磁性支持体にシワが生じる等の不都合
が生じる。このため円筒キャンの材質を、単純にセラミ
ック材料から金属材料に移行するわけにはいかず、円筒
キャンの冷却効果を高めるのは難しいのが実情である。If the cylindrical can is made of a metal material as described above, a problem of abnormal discharge occurs. If the problem is avoided, wrinkles are formed on the non-magnetic support. For this reason, the material of the cylindrical can cannot be simply changed from the ceramic material to the metal material, and it is difficult to enhance the cooling effect of the cylindrical can.

【００２３】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、プラズマＣＶＤ法によっ
て保護膜を成膜するに際して、円筒キャンを金属材料で
構成した場合にも、異常放電や非磁性支持体のシワが防
止される磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製
造装置を提供することを目的とする。Accordingly, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation. When forming a protective film by a plasma CVD method, even when the cylindrical can is made of a metal material, abnormal discharge is caused. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium in which wrinkles of a nonmagnetic support are prevented.

【００２４】[0024]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、長尺状の非
磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、この非磁性支持
体を、少なくとも表面が金属よりなる冷却キャンに沿っ
て連続走行させながら、磁性薄膜上にプラズマＣＶＤ法
によって保護膜を成膜するに際して、磁性薄膜の幅を
Ｍ、原料ガスをプラズマによって化学反応させる反応管
の幅をＷとしたときに、Ｗ＞Ｍなる条件を満たすととも
に、冷却キャンの周面のうち、少なくとも非磁性支持体
からはみ出る両端部に絶縁層が形成されていることを特
徴とするものである。In order to achieve the above-mentioned object, a method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention comprises forming a magnetic thin film on a long non-magnetic support, and then forming the non-magnetic support on the non-magnetic support. When the protective film is formed on the magnetic thin film by the plasma CVD method while continuously moving the body along the cooling can having at least a surface made of metal, the width of the magnetic thin film is set to M, and the source gas is chemically reacted by plasma. When the width of the reaction tube is W, the condition of W> M is satisfied, and an insulating layer is formed at least on both ends of the peripheral surface of the cooling can protruding from the nonmagnetic support. Things.

【００２５】また、本発明の磁気記録媒体の製造装置
は、少なくとも表面が金属よりなる冷却キャンと、原料
ガスをプラズマによって化学反応させるための反応管を
有し、磁性薄膜が形成された非磁性支持体を前記冷却キ
ャンに沿って走行させながら反応管内で生じた反応物を
被着させることで保護膜を成膜する磁気記録媒体の製造
装置であって、非磁性支持体上に形成されている磁性薄
膜の幅をＭ、反応管の幅をＷとしたときに、Ｗ＞Ｍなる
条件を満たすとともに、冷却キャンの周面のうち、少な
くとも非磁性支持体からはみ出る両端部に絶縁層が形成
されていることを特徴とするものである。Further, the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention has a cooling can having at least a surface made of metal, and a reaction tube for chemically reacting a raw material gas by plasma, and comprises a non-magnetic thin film on which a magnetic thin film is formed. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium for forming a protective film by depositing a reactant generated in a reaction tube while running a support along the cooling can, wherein the apparatus is formed on a non-magnetic support. When the width of the magnetic thin film is M and the width of the reaction tube is W, the condition W> M is satisfied, and an insulating layer is formed at least on both ends of the peripheral surface of the cooling can protruding from the nonmagnetic support. It is characterized by having been done.

【００２６】ここで、この製造方法及び製造装置におけ
る各部材の「幅」とは、非磁性支持体の幅方向に対応す
る方向での長さである。Here, the "width" of each member in the manufacturing method and the manufacturing apparatus is a length in a direction corresponding to the width direction of the non-magnetic support.

【００２７】磁性薄膜の幅Ｍと反応管の幅ＷがＷ＞Ｍな
る関係を満たしていると、反応管のエッジが磁性薄膜よ
りも外側に対して対向した形になる。したがって、反応
管のエッジにはプラズマが集中し易いが、磁性薄膜の形
成領域ではこのプラズマによって非磁性支持体にシワが
生じるのが防止される。また、磁性薄膜の幅に対して反
応管の幅に余裕があるので、磁性薄膜上に幅方向で均一
な厚さで保護膜が形成される。したがって、品質の高い
磁気記録媒体が製造される。When the width M of the magnetic thin film and the width W of the reaction tube satisfy the relationship of W> M, the edge of the reaction tube has a shape facing the outside of the magnetic thin film. Therefore, the plasma tends to concentrate on the edge of the reaction tube, but in the region where the magnetic thin film is formed, wrinkling of the non-magnetic support is prevented by the plasma. Further, since the width of the reaction tube has a margin with respect to the width of the magnetic thin film, the protective film is formed on the magnetic thin film with a uniform thickness in the width direction. Therefore, a high quality magnetic recording medium is manufactured.

【００２８】ここで、円筒キャンの周面全面が金属によ
って構成されている場合には、反応管の幅Ｗが広いと、
反応管開口部から漏れ出るプラズマと、非磁性支持体か
らはみ出した円筒キャンの間で異常放電が生じ、円筒キ
ャンに傷が発生する。また、反応管で生成された反応物
が、非磁性支持体からはみ出した円筒キャンの端部に付
着し易くなり、これを清掃するために長時間を要するよ
うになる。Here, when the entire peripheral surface of the cylindrical can is made of metal, if the width W of the reaction tube is large,
An abnormal discharge occurs between the plasma leaking from the opening of the reaction tube and the cylindrical can protruding from the nonmagnetic support, and the cylindrical can is damaged. In addition, the reactant generated in the reaction tube easily adheres to the end of the cylindrical can protruding from the nonmagnetic support, and it takes a long time to clean the end.

【００２９】これに対して、本発明では、円筒キャンの
周面のうち、少なくとも非磁性支持体からはみ出した両
端部に絶縁層を形成するので、このような異常放電が防
止されるとともに、円筒キャンに付着したＣＶＤ膜が容
易に除去されるようになり、清掃時間が短縮する。On the other hand, in the present invention, the insulating layer is formed at least on both ends of the peripheral surface of the cylindrical can protruding from the non-magnetic support, so that such abnormal discharge is prevented and the cylindrical can is prevented. The CVD film adhering to the can is easily removed, and the cleaning time is shortened.

【００３０】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。Embodiments of the present invention will be described below.

【００３１】磁気記録媒体を製造するには、まず、非磁
性支持体上に磁性薄膜を成膜する。To manufacture a magnetic recording medium, first, a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support.

【００３２】非磁性支持体としては、従来より金属磁性
薄膜型の磁気記録媒体で用いられているものがいずれも
使用可能である。例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト，ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、セルローストリアセテート
等のセルロース誘導体、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂等の高分子物質が使用可
能である。また、これら非磁性支持体上には、磁性薄膜
を形成するのに先立ち、易接着化、表面性改良、着色、
帯電防止、耐磨耗性付与等の目的で表面処理や前処理を
行うようにしてもよい。As the non-magnetic support, any of those conventionally used in metal magnetic thin film type magnetic recording media can be used. For example, polymer materials such as polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefin resins, cellulose derivatives such as cellulose triacetate, polycarbonate resins, polyvinyl chloride resins and polyamide resins can be used. Prior to forming a magnetic thin film on these non-magnetic supports, it is easy to adhere, improve surface properties, color,
Surface treatment or pretreatment may be performed for the purpose of preventing static charge, imparting abrasion resistance, or the like.

【００３３】磁性薄膜は、真空下で強磁性金属材料を加
熱蒸発させ、非磁性支持体上に沈着させる真空蒸着法
や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイオンプレー
ティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロー
放電を起こし生じたアルゴンイオンでターゲット表面の
原子を叩き出すスパッタ法等、いわゆるＰＶＤ技術によ
って成膜される。The magnetic thin film is formed by heating and evaporating a ferromagnetic metal material under a vacuum and depositing the ferromagnetic metal material on a nonmagnetic support, an ion plating method for evaporating the ferromagnetic metal material in a discharge, or argon. The film is formed by a so-called PVD technique, such as a sputtering method in which atoms on the target surface are beaten by argon ions generated by glow discharge in an atmosphere containing the main component.

【００３４】この強磁性金属材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ
−Ｐｔ系金属、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ系
合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系合
金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系合金、Ｃｏ−Ｃｕ系合金、
Ｆｅ−Ｃｕ系合金、Ｃｏ−Ａｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｒ系合
金、Ｎｉ−Ｃｒ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ系合金、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ系合金等が使用可能である。As the ferromagnetic metal material, Co, Co
-Pt-based metal, Co-Ni-Pt-based alloy, Fe-Co-based alloy, Fe-Co-Ni-based alloy, Fe-Co-B-based alloy, Fe-Co-Ni-B-based alloy, Co-Cu-based alloy ,
Fe-Cu alloy, Co-Au alloy, Fe-Cr alloy, Ni-Cr alloy, Fe-Co-Cr alloy, Co
-Ni-Cr alloys and the like can be used.

【００３５】但し、磁性薄膜を形成するに際しては、図
１に示すように非磁性支持体１の幅方向の両端部で磁性
薄膜２の膜厚が端にいく程薄くなるので、ここではこの
膜厚が変動してしまう両端部は無視し、この両端部を除
いた領域の幅を磁性薄膜２の幅Ｍとする。However, when forming the magnetic thin film, as shown in FIG. 1, the thickness of the magnetic thin film 2 at both ends in the width direction of the non-magnetic support 1 becomes thinner toward the ends. The width of the region excluding both ends where the thickness fluctuates is ignored, and the width of the region excluding the both ends is defined as the width M of the magnetic thin film 2.

【００３６】このようにして磁性薄膜２を成膜した後、
この磁性薄膜２上にプラズマＣＶＤ法によって保護膜を
成膜する。この保護膜を成膜するためのＣＶＤ装置を図
２に示す。After forming the magnetic thin film 2 in this manner,
A protective film is formed on the magnetic thin film 2 by a plasma CVD method. FIG. 2 shows a CVD apparatus for forming this protective film.

【００３７】このＣＶＤ装置は、頭部に設けられた排気
口３から排気され内部が真空状態となされた真空室４内
に、図中反時計回り方向に定速回転する送りロール５
と、同様に図中反時計回り方向に定速回転する巻取りロ
ール６とが設けられ、これら送りロール５から巻取りロ
ール６に向かってテープ状の非磁性支持体１が順次走行
するようになされている。The CVD apparatus includes a feed roll 5 rotating at a constant speed in a counterclockwise direction in the drawing in a vacuum chamber 4 evacuated from an exhaust port 3 provided at the head and the inside of the chamber is evacuated.
And a take-up roll 6 similarly rotating at a constant speed in the counterclockwise direction in the figure, so that the tape-shaped non-magnetic support 1 runs sequentially from the feed roll 5 toward the take-up roll 6. It has been done.

【００３８】これら送りロール５から巻取りロール６側
に上記非磁性支持体１が走行する中途部には上記各ロー
ル５，６の径よりも大径となされた円筒キャン７が設け
られている。この円筒キャン７は、内部に図示しない冷
却装置が設けられ、上記非磁性支持体１の温度上昇によ
る変形等を抑制し得るようになされている。A cylindrical can 7 having a diameter larger than the diameter of each of the rolls 5 and 6 is provided in the middle of the travel of the non-magnetic support 1 from the feed roll 5 to the take-up roll 6. . The cylindrical can 7 is provided with a cooling device (not shown) therein so as to suppress deformation and the like of the non-magnetic support 1 due to temperature rise.

【００３９】このような円筒キャン７は上記非磁性支持
体１を図中下方に引き出すように設けられ、図中の時計
回り方向に定速回転する構成とされている。なお、図３
に円筒キャンを図２の右側から見た図を示すが、上記円
筒キャン７の幅Ｃは、このように非磁性支持体１の幅Ｂ
よりも広めの幅となされている。これは、走行時におけ
る非磁性支持体１の幅方向の走行変動や非磁性支持体自
身の幅方向の長さムラに対応するためである。The cylindrical can 7 is provided so as to pull out the non-magnetic support 1 downward in the drawing, and is configured to rotate at a constant speed in the clockwise direction in the drawing. Note that FIG.
2 shows a view of the cylindrical can viewed from the right side of FIG. 2, and the width C of the cylindrical can 7 is thus determined by the width B of the nonmagnetic support 1.
The width is wider than that. This is to cope with fluctuations in the width direction of the non-magnetic support 1 during running and unevenness in the width direction of the non-magnetic support 1 itself.

【００４０】以上のような走行系が構成されたＣＶＤ装
置では、上記非磁性支持体１は、送りロール５から順次
送り出され、さらに上記円筒キャン７の周面を通過し、
巻取りロール６に巻き取られる。なお、上記送りロール
５と上記冷却キャン７との間及び該円筒キャン７と上記
巻取りロール６との間にはそれぞれガイドロール１３が
配設され、上記送りロール５から円筒キャン７及び該円
筒キャン７から巻取りロール６にわたって走行する非磁
性支持体１に所定のテンションをかけ、該非磁性支持体
１が円滑に走行するようになされている。In the CVD apparatus having the running system as described above, the non-magnetic support 1 is sequentially sent out from the feed roll 5 and further passes through the peripheral surface of the cylindrical can 7.
It is taken up by a take-up roll 6. Guide rolls 13 are provided between the feed roll 5 and the cooling can 7 and between the cylindrical can 7 and the take-up roll 6, respectively. A predetermined tension is applied to the non-magnetic support 1 running from the can 7 to the take-up roll 6 so that the non-magnetic support 1 runs smoothly.

【００４１】一方、上記円筒キャン７の下方には反応管
８が、当該反応管の中心（断面における対角線の交点）
と非磁性支持体の中央が略一致するように設けられてい
る。On the other hand, a reaction tube 8 is provided below the cylindrical can 7 at the center of the reaction tube (the intersection of diagonal lines in the cross section).
And the center of the nonmagnetic support substantially coincide with each other.

【００４２】上記反応管８は、図４に示すように、開口
部８ａが断面長方形状をなす中空管であり、一端部から
他端部に向かう中途部から、段差的に寸法が小さくなさ
れている。この反応管８は、寸法が大とされた一端部が
円筒キャン７側に向き、寸法が小とされた他端部が真空
室４の底部を貫通し、この端部から保護膜の原料ガスを
当該反応管８内に導入されるようになっている。なお、
この反応管８の円筒キャン７側に向く端部の開口部は、
非磁性支持体の長手方向に対応する辺が円筒キャンの周
面形状に沿うように円弧を描く形状とされている。As shown in FIG. 4, the reaction tube 8 is a hollow tube having an opening 8a having a rectangular cross section, and has a stepwise reduced size from an intermediate portion from one end to the other end. ing. In the reaction tube 8, one end having a large dimension faces the cylindrical can 7 side, and the other end having a small dimension penetrates the bottom of the vacuum chamber 4. Is introduced into the reaction tube 8. In addition,
The opening at the end of the reaction tube 8 facing the cylindrical can 7 is
The side corresponding to the longitudinal direction of the non-magnetic support is shaped to draw an arc along the peripheral surface shape of the cylindrical can.

【００４３】このような反応管８内には金メッシュ等よ
りなる加速電極９が取り付けられている。この加速電極
９には、外部の直流電源１０より電位が印加されるよう
になっており、この加速電極９と円筒キャン７との間に
グロー放電が生じる。反応管８内に導入された原料ガス
は、この生じたグロー放電によって化学反応を生じ、そ
の反応物が磁性薄膜上に被着されることで保護膜が成膜
されることになる。An accelerating electrode 9 made of gold mesh or the like is mounted in the reaction tube 8. A potential is applied to the accelerating electrode 9 from an external DC power supply 10, and a glow discharge occurs between the accelerating electrode 9 and the cylindrical can 7. The source gas introduced into the reaction tube 8 causes a chemical reaction due to the generated glow discharge, and the reactant is deposited on the magnetic thin film to form a protective film.

【００４４】以上がＣＶＤ装置の基本的な構成である
が、この製造方法で用いる円筒キャンは、図３に示すよ
うに、少なくとも表面が熱伝導率の高い金属層１１によ
って構成されており、冷却装置によって効果的に非磁性
支持体１が冷却されるようになっている。そして、さら
に、円筒キャン７の周面のうち少なくとも非磁性支持体
１からはみ出る両端部７ａ，７ｂには絶縁層１２が形成
され、一方、磁性薄膜２の幅Ｍと反応管８の幅ＷはＷ＞
Ｍなる関係を満たすようになされている。The basic structure of the CVD apparatus has been described above. The cylindrical can used in this manufacturing method has at least a surface formed of a metal layer 11 having a high thermal conductivity as shown in FIG. The device effectively cools the non-magnetic support 1. Further, an insulating layer 12 is formed at least on both ends 7a and 7b of the peripheral surface of the cylindrical can 7 which protrude from the nonmagnetic support 1. On the other hand, the width M of the magnetic thin film 2 and the width W of the reaction tube 8 are reduced. W>
The relationship M is satisfied.

【００４５】まず、磁性薄膜２の幅Ｍと反応管８の幅Ｗ
がＷ＞Ｍなる関係を満たしていると、反応管のエッジ８
ｂが磁性薄膜１２よりも外側に対して対向した形にな
る。したがって、反応管のエッジ８ｂにはプラズマが集
中し易いが、磁性薄膜２の形成領域では、このプラズマ
によって非磁性支持体１にシワが生じるのが防止され
る。また、磁性薄膜２の幅Ｍに対して反応管８の幅Ｗに
余裕があるので、磁性薄膜２上に幅方向で均一な厚さで
保護膜が形成される。したがって、品質の高い磁気記録
媒体が製造される。First, the width M of the magnetic thin film 2 and the width W of the reaction tube 8
Satisfies the relationship W> M, the edge 8 of the reaction tube
b is opposed to the outside of the magnetic thin film 12. Therefore, the plasma tends to concentrate on the edge 8b of the reaction tube, but in the region where the magnetic thin film 2 is formed, wrinkling of the non-magnetic support 1 by the plasma is prevented. Further, since there is a margin in the width W of the reaction tube 8 with respect to the width M of the magnetic thin film 2, a protective film is formed on the magnetic thin film 2 with a uniform thickness in the width direction. Therefore, a high quality magnetic recording medium is manufactured.

【００４６】但し、円筒キャン７の周面全面が金属によ
って構成されている場合に、反応管８の幅Ｗが広いと、
反応管開口部８ｂから漏れ出るプラズマと、非磁性支持
体１からはみ出した円筒キャン７の間で異常放電が発生
し、円筒キャン７に傷が発生する。また、反応管８で生
成された反応物が、非磁性支持体１からはみ出した円筒
キャン７の端部７ａ，７ｂに付着し易くなり、これを清
掃するために長時間を要するようになる。However, when the entire peripheral surface of the cylindrical can 7 is made of metal and the width W of the reaction tube 8 is wide,
An abnormal discharge occurs between the plasma leaking from the reaction tube opening 8b and the cylindrical can 7 protruding from the nonmagnetic support 1, and the cylindrical can 7 is damaged. Further, the reactant generated in the reaction tube 8 easily adheres to the ends 7a and 7b of the cylindrical can 7 protruding from the nonmagnetic support 1, and it takes a long time to clean the end.

【００４７】そこで、さらにこの製造方法では、円筒キ
ャン７の周面のうち、少なくとも非磁性支持体１からは
み出した両端部７ａ，７ｂに絶縁層１２を形成し、この
ような異常放電を防止するとともに円筒キャン７に付着
したＣＶＤ膜が容易に除去されるようになる。Therefore, in this manufacturing method, the insulating layer 12 is formed at least on both ends 7a and 7b of the peripheral surface of the cylindrical can 7 which protrude from the nonmagnetic support 1, thereby preventing such abnormal discharge. At the same time, the CVD film adhered to the cylindrical can 7 can be easily removed.

【００４８】この絶縁層１２としては、例えば耐熱性を
有する樹脂層が設けられる。この樹脂層は、熱硬化や光
硬化するような樹脂を塗布した後、硬化処理を施すこと
で形成してもよく、粘着面を有する樹脂テープを貼付す
ることで設けるようにしても良い。As the insulating layer 12, for example, a resin layer having heat resistance is provided. The resin layer may be formed by applying a thermosetting or photocurable resin and then performing a curing treatment, or may be provided by attaching a resin tape having an adhesive surface.

【００４９】さらに、潤滑剤のような離形性を有する絶
縁材料で絶縁層１２を構成しても良い。絶縁層に離形性
を持たせれば、絶縁層表面に不要なＣＶＤ膜が付着して
しまったとしても、容易に取り除くことができ、清掃作
業の時間が大幅に短縮される。Further, the insulating layer 12 may be made of a releasable insulating material such as a lubricant. If the insulating layer has releasability, even if an unnecessary CVD film adheres to the surface of the insulating layer, it can be easily removed, and the cleaning operation time is greatly reduced.

【００５０】この離形性を有する絶縁層１２の材料に
は、一般に潤滑剤として使用されているものを用いるこ
とができる。例えば、オレイン酸、ステアリン酸やミリ
スチン酸、シリコンオイル、機械油等が挙げられる。但
し、この絶縁層は真空室内で用いられるので、真空中で
の飛散防止を考え合わせれば、平均分子量が５００以上
のものや、常温での蒸気圧が１０^-2Ｐａ以下のものを用
いるのがより好ましい。そのような材料には、真空グリ
ースの他、 ロータリーポンプ、デュフュージョンポン
プなどの真空ポンプ用の油が挙げられる。このうち、真
空グリースの市販品としては、アピエゾンＬ（蒸気圧：
１０^-8〜１０^-9Ｐａ）等がある。また、フルオロカーボ
ン系の潤滑剤も使用できる。このフルオロカーボン系潤
滑剤の市販品には、商品名フォンブリン（アウジモント
社製）やクライトックス（デュポン社製）等がある。こ
れらの潤滑剤は、アルコール，トルエン等の有機溶剤に
溶解して塗料化した後、刷毛によって円筒キャンの両端
部に塗布すれば良い。As a material of the insulating layer 12 having the releasability, a material generally used as a lubricant can be used. For example, oleic acid, stearic acid, myristic acid, silicone oil, machine oil and the like can be mentioned. However, since this insulating layer is used in a vacuum chamber, it is preferable to use an insulating layer having an average molecular weight of 500 or more and a vapor pressure at room temperature of 10 ^-2 Pa or less in consideration of scattering prevention in a vacuum. More preferred. Such materials include, in addition to vacuum grease, oils for vacuum pumps, such as rotary pumps and dufusion pumps. Among them, as a commercial product of vacuum grease, Apiezon L (vapor pressure:
10 ⁻⁸ to 10 ⁻⁹ Pa). Further, a fluorocarbon-based lubricant can also be used. Commercially available fluorocarbon-based lubricants include Fomblin (trade name, manufactured by Ausimont) and Krytox (trade name, manufactured by DuPont). These lubricants may be dissolved in an organic solvent such as alcohol or toluene to form a coating, and then applied to both ends of the cylindrical can with a brush.

【００５１】さらに絶縁層１２は、以上のような有機高
分子材料で形成する以外に、セラミック材料で形成する
ようにしても良い。セラミックによって絶縁層１２を形
成する場合には、図５に示すように、円筒キャン７のう
ち、非磁性支持体１の下側に対応する領域に金属層１４
を形成した後、この両側にセラミック溶射によってセラ
ミック層１５を形成し、この後、セラミック層１５が金
属層１４と面一になるように平坦化処理をするのが望ま
しい。なお、セラミックの形成方法はセラミック溶射に
限るものではない。セラミックは絶縁性に優れるので、
これを円筒キャン７の端部に設けると異常放電が確実に
防止される。但し、セラミックは、表面に不要なＣＶＤ
膜が付着したときに、これを清掃除去するのが困難であ
る。したがって、離形性を有する絶縁層として例示した
潤滑剤を併用し、この潤滑剤をセラミック層１５の表面
に塗布するのが望ましい。Further, the insulating layer 12 may be formed of a ceramic material in addition to the above-described organic polymer material. When the insulating layer 12 is formed of ceramic, as shown in FIG. 5, the metal layer 14 is formed in a region of the cylindrical can 7 corresponding to the lower side of the nonmagnetic support 1.
Is formed, a ceramic layer 15 is formed on both sides by ceramic spraying, and thereafter, a flattening process is preferably performed so that the ceramic layer 15 is flush with the metal layer 14. The method of forming the ceramic is not limited to ceramic spraying. Ceramics have excellent insulation properties,
If this is provided at the end of the cylindrical can 7, abnormal discharge is reliably prevented. However, the ceramic is unnecessary CVD on the surface.
When the film adheres, it is difficult to clean it. Therefore, it is desirable to use the lubricant exemplified as the insulating layer having releasability in combination and apply the lubricant to the surface of the ceramic layer 15.

【００５２】本発明では以上のようなＣＶＤ装置によっ
て保護膜を形成する。例えば保護膜としてカーボン保護
膜を成膜する場合には、原料ガスとして炭素を含有する
ガスを用いる。In the present invention, a protective film is formed by the above-described CVD apparatus. For example, when a carbon protective film is formed as a protective film, a gas containing carbon is used as a source gas.

【００５３】この炭素を含有するガスとしては、エチレ
ン，ブタン等の炭化水素ガス、トルエン、ケトン等のい
わゆる有機溶剤をガス化したもの等が使用可能である。
また、保護膜に潤滑性等を付与するために、アミン類
や、フッ素，シリコン等を含む有機材料を原料ガスとし
て用いても良い。アミン類としてはイソプロピルアミ
ン、トリエチルアミン、ジメチルアミン等が挙げられ
る。これらはトルエンのような有機溶剤に混合溶解した
後、ガス化すれば良い。また、フッ素あるいはシリコン
を含有するガスとしては、フッ化エチレン等のフッ化炭
素ガス、有機シリコン化合物（シリコーン）ガス、ある
いは有機フッ化シリコンガス等が挙げられる。これらの
原料ガスは、媒体に要求される特性に合わせ適宜混合し
たり、異なる原料ガスを用い、複数の保護膜を積層形成
しても良い。As the carbon-containing gas, hydrocarbon gases such as ethylene and butane, and so-called organic solvents such as toluene and ketone gasified can be used.
Further, in order to impart lubricity or the like to the protective film, an amine or an organic material containing fluorine, silicon, or the like may be used as a source gas. Examples of amines include isopropylamine, triethylamine, dimethylamine and the like. These may be mixed and dissolved in an organic solvent such as toluene, and then gasified. Examples of the gas containing fluorine or silicon include a fluorocarbon gas such as ethylene fluoride, an organic silicon compound (silicone) gas, and an organic silicon fluoride gas. These source gases may be mixed as appropriate in accordance with the characteristics required of the medium, or a plurality of protective films may be stacked using different source gases.

【００５４】また、このようにして保護膜を成膜した
後、磁気記録媒体の走行耐久性等を改善するための、バ
ックコート層やトップコート層を設けるようにしても良
い。バックコート層は、カーボン粉末や結合剤等を有機
溶剤に混練、分散させたバックコート塗料を、非磁性支
持体の磁性薄膜を形成した側とは反対側の面に塗布する
ことで形成される。また、トップコート層は、潤滑剤や
防錆剤等を有機溶剤で希釈し、保護膜上に塗布すること
で形成される。After the protective film is formed in this manner, a back coat layer or a top coat layer for improving the running durability of the magnetic recording medium may be provided. The back coat layer is formed by applying a back coat paint in which carbon powder and a binder are kneaded and dispersed in an organic solvent, on the surface of the non-magnetic support opposite to the side on which the magnetic thin film is formed. . Further, the top coat layer is formed by diluting a lubricant, a rust inhibitor, or the like with an organic solvent, and applying the diluted solvent on the protective film.

【００５５】[0055]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について実験
結果に基づいて説明する。EXAMPLES Hereinafter, specific examples of the present invention will be described based on experimental results.

【００５６】実施例１ まず、非磁性支持体として、厚さ６μｍ、幅１５０ｍｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、その
一側面にアクリル酸エステルを主成分とする水溶性ラテ
ックスを塗布することで下塗層を形成した。なお、この
下塗層のラテックス密度は１０００万個／ｍｍ²であ
る。 Example 1 First, as a nonmagnetic support, a thickness of 6 μm and a width of 150 mm
Was prepared, and a water-soluble latex containing an acrylate ester as a main component was applied to one side of the film to form an undercoat layer. The undercoat layer has a latex density of 10 million / mm ² .

【００５７】そして、この下塗層上に、成膜雰囲気に酸
素を導入しながら蒸着法によってＣｏ９０重量％−Ｎｉ
１０重量％の磁性薄膜を成膜した。蒸着条件は以下の通
りである。なお、この磁性薄膜は、幅Ｍが１３０ｍｍで
あり、非磁性支持体の幅方向の両端部は、それぞれ１０
ｍｍの幅で磁性薄膜が形成されていない非形成領域とな
っている。Then, on this undercoat layer, 90% by weight of Co-Ni
A 10% by weight magnetic thin film was formed. The deposition conditions are as follows. The magnetic thin film had a width M of 130 mm, and the both ends of the non-magnetic support in the width direction were 10 mm each.
It is a non-formation region where the magnetic thin film is not formed with a width of mm.

【００５８】 蒸着流の入射角 ：４５゜〜９０゜ 非磁性支持体の送り速度：２５ｍ／分 磁性薄膜の厚さ ：２００ｎｍ 酸素導入量 ：２５０ｃｃ／分 蒸着時真空度 ：７×１０^-2Ｐａ そして、この磁性薄膜上に図３に示す円筒キャンと反応
管を有するＣＶＤ装置によってカーボン保護膜を成膜し
た。Incident angle of vapor deposition flow: 45 ° to 90 ° Feed rate of non-magnetic support: 25 m / min Thickness of magnetic thin film: 200 nm Oxygen introduction amount: 250 cc / min Vacuum degree during vapor deposition: 7 × 10 ⁻² Pa Then, a carbon protective film was formed on the magnetic thin film by a CVD apparatus having a cylindrical can and a reaction tube shown in FIG.

【００５９】なお、ここで用いたＣＶＤ装置は、反応管
の幅が１７０ｍｍであり、反応管の中心と非磁性支持体
の中央が略一致するように非磁性支持体を走行させた場
合、非磁性支持体の幅よりも反応管の開口部が両側で１
０ｍｍはみ出すことになる。また、この円筒キャンは、
表面に硬質クロムメッキ膜が設けられ、研磨処理によっ
て鏡面仕上げがなされている。そして、この円筒キャン
の周面のうち、非磁性支持体からはみ出す両端部には全
周に亘り、耐熱テープ（スコッチ社製 商品名カプト
ン）が貼付されている。この他のＣＶＤ条件は次の通り
である。In the CVD apparatus used here, when the width of the reaction tube is 170 mm and the non-magnetic support is run such that the center of the reaction tube and the center of the non-magnetic support substantially coincide with each other, The opening of the reaction tube is 1 on both sides than the width of the magnetic support.
It will protrude 0 mm. Also, this cylindrical can
A hard chrome plating film is provided on the surface, and a mirror finish is performed by a polishing process. A heat-resistant tape (Kapton, trade name, manufactured by Scotch Corporation) is attached to the entire peripheral surface of the cylindrical can at both ends protruding from the nonmagnetic support. Other CVD conditions are as follows.

【００６０】 方式 ：プラズマＣＶＤ 原料ガス ：ガス化トルエン 原料ガスの導入量 ：２５０ｃｃ／ｍｍ バックグランド真空度：４×１０^-3Ｐａ 成膜時真空度 ：３Ｐａ（但し、反応管外の真空
度である） テープ速度 ：２０ｍ／分 次に、カーボン粉末とウレタンバインダーを有機溶剤中
に分散させてバックコート塗料を調製し、このバックコ
ート塗料を、非磁性支持体の、磁性薄膜及び保護膜を形
成した側とは反対側の面に、０．６μｍの塗布厚で塗布
し、バックコート層を形成した。Method: Plasma CVD Raw material gas: Gasified toluene Raw material gas introduction amount: 250 cc / mm Background vacuum degree: 4 × 10 ⁻³ Pa Deposition vacuum degree: 3 Pa (However, the vacuum degree outside the reaction tube is There is a tape speed: 20 m / min. Next, a carbon powder and a urethane binder are dispersed in an organic solvent to prepare a back coat paint, and the back coat paint is used to form a magnetic thin film and a protective film of a non-magnetic support. On the surface on the side opposite to the coated side, a coating thickness of 0.6 μm was applied to form a back coat layer.

【００６１】続いて、前工程で形成した保護膜の上に、
パーフルオロポリエーテルを塗布することで潤滑剤層を
形成し、磁気テープを作製した。Subsequently, on the protective film formed in the previous step,
A lubricant layer was formed by applying perfluoropolyether to produce a magnetic tape.

【００６２】実施例２ 円筒キャンとして、図５に示すように周面のうち非磁性
支持体の下側に対応する領域に金属層が、その両側にセ
ラミック層が形成されるとともに、前記絶縁層上に真空
グリース（商品名アピエゾンＬ：蒸気圧：１０^-8〜１０
^-9Ｐａ）が塗布されているものを用いること以外は実施
例１と同様にして磁気テープを作製した。なお、絶縁層
は、アルミナ粒子をバインダー中に分散させた塗料を、
金属層の両側に塗布した後、焼結させることで形成し
た。 Embodiment 2 As a cylindrical can, as shown in FIG. 5, a metal layer is formed in a region corresponding to a lower side of a nonmagnetic support on a peripheral surface, and a ceramic layer is formed on both sides of the metal layer. Vacuum grease on top (trade name Apiezon L: Vapor pressure: 10 ^-8 -10
^A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the magnetic tape coated with ^-9 Pa) was used. In addition, the insulating layer is a coating material in which alumina particles are dispersed in a binder,
After being applied to both sides of the metal layer, it was formed by sintering.

【００６３】実施例３ 円筒キャンのセラミック層上に、真空グリースの代わり
に真空ポンプ用潤滑剤フォンブリンＬ−ＶＡＣ ０６／
６（商品名 平均分子量：１８００ 蒸気圧≦４×１０
^-6Ｔｏｒｒ，２０℃）を塗布したこと以外は実施例２と
同様にして磁気テープを作製した。 Example 3 On the ceramic layer of a cylindrical can, instead of vacuum grease, a lubricant for a vacuum pump, Fomblin L-VAC 06 /
6 (trade name: average molecular weight: 1800, vapor pressure ≦ 4 × 10
^-6 Torr, 20 ° C.) to prepare a magnetic tape in the same manner as in Example 2.

【００６４】実施例４ 円筒キャンのセラミック層上に、真空グリースを塗布し
ないこと以外は実施例２と同様にして磁気テープを作製
した。 Example 4 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 2 except that no vacuum grease was applied on the ceramic layer of the cylindrical can.

【００６５】比較例１ 保護膜を形成する際に用いる反応管の幅を１１０ｍｍと
し、円筒キャンの端部に耐熱テープを貼付しないこと以
外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。な
お、この場合、反応管の中心と非磁性支持体の中央を略
一致させて非磁性支持体を走行させたときに、反応管の
幅から非磁性支持体の両端部が２０ｍｍはみ出すことに
なる。 Comparative Example 1 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the width of the reaction tube used for forming the protective film was 110 mm and no heat-resistant tape was attached to the end of the cylindrical can. In this case, when the non-magnetic support is run with the center of the reaction tube and the center of the non-magnetic support substantially aligned, both ends of the non-magnetic support protrude from the width of the reaction tube by 20 mm. .

【００６６】比較例２ 円筒キャンの端部に耐熱テープを貼付しないこと以外は
実施例１と同様にして磁気テープを作製した。 Comparative Example 2 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the heat-resistant tape was not attached to the end of the cylindrical can.

【００６７】以上のような作製工程における非磁性支持
体のしわの発生と、ＣＶＤ装置の清掃作業の難易度につ
いて評価した。The occurrence of wrinkles on the non-magnetic support in the above manufacturing process and the difficulty of the cleaning operation of the CVD apparatus were evaluated.

【００６８】しわの発生については、非磁性支持体の１
０００ｍ長を観察したときに肉眼でシワ発生の確認がで
きるものを「シワの発生が有り」と判定した。Regarding the generation of wrinkles, one of the non-magnetic support
When a wrinkle was observed with the naked eye when the 000 m length was observed, it was determined that "wrinkles occurred".

【００６９】また、清掃作業の難易度は、円筒キャンに
付着したＣＶＤ膜を、アルコールまたはアセトンを用い
て払拭したときに、ＣＶＤ膜が容易に除去できる場合を
「○」、力を入れないと除去できない場合を「×」と評
価した。The difficulty of the cleaning operation is indicated by “○” when the CVD film adhered to the cylindrical can is easily removed when the CVD film is wiped off using alcohol or acetone. The case where it could not be removed was evaluated as "x".

【００７０】この評価結果を表１に示す。Table 1 shows the evaluation results.

【００７１】さらに、作製された磁気テープについて、
繰り返し走行耐久性（シャトルテスト）と耐錆性につい
て評価した。Further, regarding the manufactured magnetic tape,
The repetition running durability (shuttle test) and rust resistance were evaluated.

【００７２】繰り返し走行耐久性は、８ｍｍＶＴＲ（ソ
ニー社製 商品名ＥＶ−Ｓ９００）を用い、２時間長を
１００回走行させたときの初期出力値に対するレベルダ
ウンと、磁気テープから脱落した脱落物等による磁気ヘ
ッドの汚れを観察することで評価した。The repetition running durability was measured by using an 8 mm VTR (trade name: EV-S900, manufactured by Sony Corporation). The evaluation was made by observing the contamination of the magnetic head by the above method.

【００７３】また、耐錆性は、０．３ｐｐｍのＳＯ₂ガ
スを含み、温度３０℃相対湿度９０％雰囲気中に、磁気
テープを２４時間放置し、放置前と放置後の飽和磁化量
φｓ，φｓ′から次式に基づいて磁気特性の劣化量Δφ
ｓを算出することで評価した。The rust resistance is as follows: The magnetic tape is left for 24 hours in an atmosphere containing 0.3 ppm of SO ₂ gas and at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 90%. From φs ′, the amount of deterioration of magnetic properties Δφ based on the following equation:
It was evaluated by calculating s.

【００７４】 Δφｓ＝（φｓ−φｓ′／φｓ）×１００（％） φｓ：腐食雰囲気放置前の飽和磁化量 φｓ′：腐食雰囲気放置後の飽和磁化量 この評価結果を表２に示す。Δφs = (φs−φs ′ / φs) × 100 (%) φs: Saturation magnetization amount before leaving in corrosive atmosphere φs ′: Saturation magnetization amount after leaving in corrosive atmosphere Table 2 shows the evaluation results.

【００７５】[0075]

【表１】 [Table 1]

【００７６】[0076]

【表２】 [Table 2]

【００７７】表１に示すように、反応管の幅Ｗを磁性薄
膜の幅Ｍよりも広くし、さらに円筒キャンの端部に絶縁
層を形成した実施例１〜実施例４では、非磁性支持体の
シワの発生が抑えられている。また実施例１〜実施例３
では清掃に際して円筒キャンに付着したＣＶＤ膜を容易
に除去することができ、短時間に円筒キャンを清掃する
ことができる。As shown in Table 1, in Examples 1 to 4 in which the width W of the reaction tube was made larger than the width M of the magnetic thin film and an insulating layer was formed at the end of the cylindrical can, a nonmagnetic support was used. The occurrence of wrinkles on the body is suppressed. Examples 1 to 3
Thus, the CVD film attached to the cylindrical can can be easily removed at the time of cleaning, and the cylindrical can can be cleaned in a short time.

【００７８】これに対して、反応管の幅Ｗを磁性薄膜の
幅Ｍよりも狭くし、円筒キャンに絶縁層を形成していな
い比較例１では、非磁性支持体にシワが見受けられ、ま
た円筒キャンに付着したＣＶＤ膜を除去するのが困難
で、清掃に長時間を要する。On the other hand, in Comparative Example 1 in which the width W of the reaction tube was smaller than the width M of the magnetic thin film and no insulating layer was formed on the cylindrical can, wrinkles were observed on the nonmagnetic support. It is difficult to remove the CVD film attached to the cylindrical can, and it takes a long time to clean.

【００７９】また、反応管の幅を磁性薄膜の幅よりも広
くしているが、円筒キャンに絶縁層を形成していない比
較例２では、非磁性支持体のシワの発生は抑えられるも
のの、円筒キャンに付着したＣＶＤ膜を除去するのが困
難で、清掃に時間がかかる。In Comparative Example 2 in which the width of the reaction tube was made wider than the width of the magnetic thin film, but the insulating layer was not formed on the cylindrical can, generation of wrinkles on the non-magnetic support was suppressed. It is difficult to remove the CVD film attached to the cylindrical can, and it takes time to clean.

【００８０】以上ことから、ＣＶＤ法によって保護膜を
成膜するに際して、反応管の幅を磁性薄膜の幅よりも広
くし、さらに円筒キャンの端部に絶縁層を形成すること
は、非磁性支持体のシワの発生や、円筒キャンの清掃時
間を短縮する上で有効であることがわかった。As described above, when forming the protective film by the CVD method, it is necessary to make the width of the reaction tube wider than the width of the magnetic thin film and to form the insulating layer at the end of the cylindrical can. It was found to be effective in reducing wrinkles on the body and shortening the cleaning time of the cylindrical can.

【００８１】なお、円筒キャンのセラミック層上に真空
グリースを塗布せず、それ以外は実施例２と同様にした
実施例４では、シワの発生は抑えられるものの、セラミ
ック層上に付着したＣＶＤ膜を除去するのが困難であ
り、清掃に長時間を要した。したがって、絶縁層にセラ
ミック層を用いる場合には実施例２や実施例３のように
潤滑剤を併用するのが望ましい。In the fourth embodiment in which vacuum grease was not applied on the ceramic layer of the cylindrical can and the other conditions were the same as those in the second embodiment, wrinkles were suppressed, but the CVD film adhered on the ceramic layer was used. Was difficult to remove, and a long time was required for cleaning. Therefore, when a ceramic layer is used for the insulating layer, it is desirable to use a lubricant in combination as in the second and third embodiments.

【００８２】なお、一般に、真空中で成膜を行う場合
に、この成膜雰囲気中に油等が存在すると成膜された薄
膜の特性が劣化することが言われているが、表１に示す
ように、実施例２，実施例３の磁気テープは、比較例１
〜比較例３の磁気テープに比べて、シャトル耐久性、耐
候性のいずれも劣るところがない。In general, when a film is formed in a vacuum, it is said that the presence of oil or the like in the film formation atmosphere deteriorates the characteristics of the formed thin film. As described above, the magnetic tapes of Example 2 and Example 3 correspond to Comparative Example 1
-Compared with the magnetic tape of Comparative Example 3, there is no place where neither shuttle durability nor weather resistance is inferior.

【００８３】このことから、円筒キャンの端部に潤滑剤
を塗布しても、磁気テープの特性に何ら悪影響を与えな
いことがわかった。From this, it was found that even if the lubricant was applied to the end of the cylindrical can, there was no adverse effect on the characteristics of the magnetic tape.

【００８４】[0084]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、磁性薄膜上にプラズマＣＶＤ法によって保護膜
を成膜するに際して、反応管の幅Ｗを磁性薄膜Ｍの幅よ
りも広くするので、磁性薄膜の形成領域において非磁性
支持体のシワが生じるのが防止される。As is apparent from the above description, in the present invention, when forming a protective film on a magnetic thin film by a plasma CVD method, the width W of the reaction tube is made larger than the width of the magnetic thin film M. Therefore, it is possible to prevent wrinkles of the non-magnetic support from being generated in the region where the magnetic thin film is formed.

【００８５】また、非磁性支持体を案内する円筒キャン
の非磁性支持体からはみ出す両端部に絶縁層を形成する
ので、反応管から漏れ出るプラズマと円筒キャンの間の
異常放電を生じることなく保護膜を形成することができ
る。また、円筒キャンに付着した不要なＣＶＤ膜を容易
に除去することができ、ＣＶＤ装置の清掃時間を短縮す
ることができる。そして、円筒キャンの製造時間が短く
なると、清掃に付随して発生する円筒キャンの傷や表面
性劣化も抑えられるので、円筒キャンが長寿命になり、
メンテナンス費用が削減されるといった効果がある。Further, since an insulating layer is formed on both ends of the cylindrical can that guides the non-magnetic support and protrudes from the non-magnetic support, protection can be performed without generating abnormal discharge between the plasma leaking from the reaction tube and the cylindrical can. A film can be formed. Further, an unnecessary CVD film attached to the cylindrical can can be easily removed, and the cleaning time of the CVD device can be reduced. And, when the manufacturing time of the cylindrical can is shortened, since the scratches and surface deterioration of the cylindrical can generated accompanying the cleaning are suppressed, the cylindrical can has a long life,
This has the effect of reducing maintenance costs.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】非磁性支持体上に磁性薄膜が形成された様子を
示す要部概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a state where a magnetic thin film is formed on a nonmagnetic support.

【図２】本発明の製造方法で用いるＣＶＤ装置の一例を
示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a CVD apparatus used in the manufacturing method of the present invention.

【図３】非磁性支持体の幅Ｂ、磁性薄膜の幅Ｍ、円筒キ
ャンの幅Ｃ、反応管の幅Ｗの関係を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a relationship among a width B of a nonmagnetic support, a width M of a magnetic thin film, a width C of a cylindrical can, and a width W of a reaction tube.

【図４】上記ＣＶＤ装置に設置される反応管を示す斜視
図である。FIG. 4 is a perspective view showing a reaction tube installed in the CVD apparatus.

【図５】上記ＣＶＤ装置に設置される円筒キャンの他の
例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing another example of a cylindrical can set in the CVD apparatus.

【図６】従来のＣＶＤ装置に設置される円筒キャンと反
応管を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic view showing a cylindrical can and a reaction tube installed in a conventional CVD apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 非磁性支持体、２ 磁性薄膜、７ 円筒キャン、８
反応管、１１，１４金属層 １２，１５ 絶縁層1 non-magnetic support, 2 magnetic thin film, 7 cylindrical can, 8
Reaction tube, 11,14 metal layer 12,15 insulating layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 長尺状の非磁性支持体上に磁性薄膜を形
成した後、この非磁性支持体を、少なくとも表面が金属
よりなる冷却キャンに沿って連続走行させながら、磁性
薄膜上にプラズマＣＶＤ法によって保護膜を成膜するに
際して、 磁性薄膜の幅をＭ、原料ガスをプラズマによって化学反
応させる反応管の幅をＷとしたときに、Ｗ＞Ｍなる条件
を満たすとともに、 冷却キャンの周面のうち、少なくとも非磁性支持体から
はみ出る両端部に絶縁層が形成されていることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。After a magnetic thin film is formed on a long non-magnetic support, the non-magnetic support is continuously run along a cooling can having at least a surface made of metal, and a plasma is formed on the magnetic thin film. When forming the protective film by the CVD method, when the width of the magnetic thin film is M and the width of the reaction tube for chemically reacting the source gas by plasma is W, the condition of W> M is satisfied, and the circumference of the cooling can is satisfied. A method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein an insulating layer is formed at least on both ends of a surface protruding from a nonmagnetic support. 【請求項２】 絶縁層は、離形性を有することを特徴と
する請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the insulating layer has releasability. 【請求項３】 冷却キャンの周面のうち、非磁性支持体
の下側に対応する領域に金属層が形成され、その両側に
セラミック層が形成されていることを特徴とする請求項
１記載の磁気記録媒体の製造方法。3. The cooling layer according to claim 1, wherein a metal layer is formed in a region corresponding to a lower side of the nonmagnetic support on a peripheral surface of the cooling can, and ceramic layers are formed on both sides of the metal layer. A method for manufacturing a magnetic recording medium. 【請求項４】 成膜する保護膜は、カーボン保護膜であ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造
方法。4. The method according to claim 1, wherein the protective film to be formed is a carbon protective film. 【請求項５】 少なくとも表面が金属よりなる冷却キャ
ンと、原料ガスをプラズマによって化学反応させるため
の反応管を有し、磁性薄膜が形成された非磁性支持体を
前記冷却キャンに沿って走行させながら反応管内で生じ
た反応物を被着させることで保護膜を成膜する磁気記録
媒体の製造装置において、 非磁性支持体上に形成されている磁性薄膜の幅をＭ、反
応管の幅をＷとしたときに、Ｗ＞Ｍなる条件を満たすと
ともに、 冷却キャンの周面のうち、少なくとも非磁性支持体から
はみ出る両端部に絶縁層が形成されていることを特徴と
する磁気記録媒体の製造装置。5. A cooling can having at least a surface made of a metal, and a reaction tube for chemically reacting a raw material gas by plasma, wherein a non-magnetic support having a magnetic thin film formed thereon is caused to travel along the cooling can. In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium in which a protective film is formed by depositing a reactant generated in the reaction tube, the width of the magnetic thin film formed on the non-magnetic support is set to M, and the width of the reaction tube is set to M. When W is satisfied, the condition W> M is satisfied, and an insulating layer is formed at least on both ends of the peripheral surface of the cooling can protruding from the nonmagnetic support. apparatus.