JP2006209937A - Method and device for manufacturing magnetic recording medium - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for manufacturing a magnetic recording medium which is high in performance, high in reliability, low in cost and high in capacity. <P>SOLUTION: In the device 50 for manufacturing the magnetic recoding medium, the first vacuum chamber 56a is provided with a destaticizing means 68 capable of destaticizing a substrate 12, delivered from a winding roll 60 in a non-contact state on the upstream side of a heating roll 66. Two destaticizing means 68 are disposed to destaticize both surfaces of the substrate 12. It is preferable that an ion gun or a vacuum ultraviolet lamp, having a mechanism of discharging ions for the destaticization means 68 be used. Before a magnetic layer is formed in the substrate 12, the substrate 12 is destaticized in a non-contact state, by using the destaticizing means 68. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に少なくとも磁性層を真空成膜法により形成する磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置に関する。   The present invention relates to a magnetic recording medium manufacturing method and a magnetic recording medium manufacturing apparatus in which at least a magnetic layer is formed on at least one surface of a flexible polymer support by a vacuum film forming method.

近年、インターネットの普及により、パーソナル・コンピュータを用いて大容量の動画情報や音声情報の処理を行う等、コンピュータの利用形態が変化してきている。これに伴い、ハードディスク等の磁気記録媒体に要求される記憶容量も増大している。   In recent years, with the spread of the Internet, the use form of computers has changed, such as processing of large-capacity moving image information and audio information using a personal computer. Accordingly, the storage capacity required for magnetic recording media such as hard disks is also increasing.

ハードディスク装置においては、磁気ディスクの回転に伴い、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面からわずかに浮上し、非接触で磁気記録を行っている。このため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触によって磁気ディスクが破損するのを防止している。高密度化に伴って磁気ヘッドの浮上高さは次第に低減されており、鏡面研磨された超平滑なガラス基板上に磁性層等を形成した磁気ディスクを用いることにより、現在では１０ｎｍ〜２０ｎｍの浮上高さが実現されている。このようなヘッドの低浮上量化に加え、ヘッド構造の改良、磁性層の改良等の技術革新によってハードディスクドライブの面記録密度と記録容量はここ数年で飛躍的に増大してきた。   In the hard disk device, the magnetic head slightly floats from the surface of the magnetic disk as the magnetic disk rotates, and performs magnetic recording without contact. For this reason, the magnetic disk is prevented from being damaged by the contact between the magnetic head and the magnetic disk. As the density increases, the flying height of the magnetic head is gradually reduced. By using a magnetic disk having a magnetic layer or the like formed on a mirror-polished ultra-smooth glass substrate, the flying height is now 10 nm to 20 nm. Height is realized. In addition to such a low flying height of the head, the surface recording density and recording capacity of the hard disk drive have increased dramatically in recent years due to technological innovations such as improvement of the head structure and improvement of the magnetic layer.

取り扱うことができるデジタルデータ量が増大することによって、動画データの様な大容量のデータを可換型媒体に記録して、移動させるというニーズが生まれてきた。しかしながら、ハードディスクは基板が硬質であって、しかも上述のようにヘッドとディスクの間隔が極わずかであるため、フレキシブルディスクや書き換え型光ディスクの様に可換媒体として使用しようとすると、動作中の衝撃や塵埃の巻き込みによって故障を発生する懸念が高く、使用条件が制限される。   Increasing the amount of digital data that can be handled has created a need for recording and moving large volumes of data such as video data on a removable medium. However, since the hard disk has a hard substrate and the distance between the head and the disk is very small as described above, if it is used as a replaceable medium like a flexible disk or a rewritable optical disk, the impact during operation There is a high concern that breakdown will occur due to entrainment of dust and dust, and usage conditions are limited.

一方、フレキシブルディスクや磁気テープは基板がフレキシブルな高分子フィルムであり、接触記録可能な媒体であるため可換性に優れており、安価に生産できる。しかし、現在市販されているフレキシブルディスクと磁気テープは、磁性体を高分子バインダーや研磨剤とともに高分子フィルム上に塗布して形成した塗布型磁気記録媒体や、あるいはコバルト系合金を真空中で蒸着によって高分子フィルム上に成膜した蒸着型磁気記録媒体が用いられており、スパッタ法で磁性層を形成しているハードディスクと比較すると、磁性層の高密度記録特性が悪く、ハードディスクの１／１０以下の記録密度しか達成できていない。   On the other hand, a flexible disk or a magnetic tape is a polymer film having a flexible substrate and is a medium that can be contact-recorded, so it has excellent interchangeability and can be produced at low cost. However, currently commercially available flexible disks and magnetic tapes are coated magnetic recording media formed by coating a magnetic material on a polymer film together with a polymer binder and an abrasive, or cobalt-based alloys are deposited in vacuum. The vapor-deposited magnetic recording medium formed on the polymer film is used, and the magnetic layer has poor high-density recording characteristics as compared with a hard disk on which a magnetic layer is formed by sputtering. Only the following recording density has been achieved.

そこで磁性層をハードディスクと同様のスパッタ法で形成する強磁性金属薄膜型のフレキシブルディスクも提案されている。支持体がフレキシブルな高分子フィルムのため、ロール状の支持体を搬送させながらスパッタ法による磁性層成膜が可能となる。すなわち、長尺の支持体を用いて磁気記録媒体を安価に生産することが可能となる。このような製造方法及び製造装置としては、特許文献１〜７に提案されている。   Therefore, a ferromagnetic metal thin film type flexible disk in which the magnetic layer is formed by the same sputtering method as that of the hard disk has been proposed. Since the support is a flexible polymer film, the magnetic layer can be formed by sputtering while transporting the roll-shaped support. That is, it becomes possible to produce a magnetic recording medium at low cost using a long support. As such a manufacturing method and manufacturing apparatus, Patent Documents 1 to 7 are proposed.

しかし、長尺の支持体を用いて磁気記録媒体を作製する際に、真空室内に真空成膜によるフレークが堆積し、搬送される原反が帯電している場合、これら堆積しているフレークを吸着し、磁気記録媒体上に欠陥として付着する問題がある。また、原反の帯電はフレーク付着だけでなく、巻き取りシワ等の問題も引き起こす。これらのため、特許文献８及び９に記載されているように、原反を導電性ロールに接触させる手法が提案されている。しかし、巻き出しロールから巻き出され、複数のパスロールを通過する際には必ず剥離帯電が生じ、導電性ロールの使用のみでは、充分な帯電除去が達成されない。また、帯電量が多い状態でアース電位の導電性ロールに接触すると、微小放電が起こり磁気記録媒体上に放電痕が見られる場合がある。前記のことから、平滑で絶縁性高分子支持体の真空中搬送における除電に関しては未だ充分な手法が確立されていない。   However, when a magnetic recording medium is manufactured using a long support, flakes formed by vacuum film formation are deposited in the vacuum chamber, and the deposited flakes are There is a problem that they are attracted and adhered as defects on the magnetic recording medium. Further, the charging of the raw material causes not only flake adhesion but also problems such as winding wrinkles. For these reasons, as described in Patent Documents 8 and 9, a method of bringing the original fabric into contact with a conductive roll has been proposed. However, peeling electrification always occurs when unwound from the unwinding roll and passes through a plurality of pass rolls, and sufficient charge removal cannot be achieved only by using a conductive roll. In addition, when a large amount of charge is brought into contact with a conductive roll having a ground potential, a minute discharge may occur and a discharge trace may be seen on the magnetic recording medium. From the above, a sufficient method has not yet been established for static elimination in vacuum transportation of a smooth and insulating polymer support.

ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷに代表される追記型及び書き換え型光ディスクは磁気ディスクのようにヘッドとディスクが近接していないため、可換性に優れており、広く普及している。しかしながら光ディスクは、光ピックアップの厚みとコストの問題から、高容量化に有利な磁気ディスクのように両面を記録面としたディスク構造を用いることが困難であるといった問題がある。さらに、磁気ディスクと比較すると面記録密度が低く、データ転送速度も低いため、書き換え型の大容量記録媒体としの使用を考えると、未だ十分な性能とはいえない。   Write-once and rewritable optical discs typified by DVD-R / RW have excellent interchangeability and are widespread because the head and the disc are not close to each other like a magnetic disc. However, the optical disk has a problem in that it is difficult to use a disk structure having recording surfaces on both sides like a magnetic disk advantageous for increasing the capacity because of the thickness and cost of the optical pickup. Furthermore, since the surface recording density is low and the data transfer speed is low as compared with the magnetic disk, it cannot be said that the performance is still sufficient when considering use as a rewritable large-capacity recording medium.

特開昭５９−１７３２６６号公報JP 59-173266 A 特開平５−２７４６５９号公報JP-A-5-274659 特開平７−２３５０３５号公報JP 7-2335035 A 特開平１０−３６６３号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-3663 特開平１０−１１７３４号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-11734 特開２００２−３６７１４９号公報JP 2002-367149 A 特開２００３−９９９１８号公報JP 2003-99918 A 特開平５−３４２５７１号公報JP-A-5-342571 特開平７−７３４６２号公報JP-A-7-73462

上記の通り、大容量の書き換え可能な可換型記録媒体は、その要求が高いものの、性能、信頼性、コストを満足するものが存在しない。   As described above, high-capacity rewritable replaceable recording media are highly demanded, but none satisfy the performance, reliability, and cost.

本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、欠陥の発生が大幅に低減された磁気記録媒体を製造することができる磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium manufacturing method and a magnetic recording medium capable of manufacturing a magnetic recording medium in which the occurrence of defects is greatly reduced. It is to provide a medium manufacturing apparatus.

本発明は、磁性層を形成する前に可とう性高分子支持体に対して非接触で除電を行うことを特徴としている。これにより、真空槽内で可とう性高分子支持体への帯電を低減させることができ、真空槽内に存在する微粒子等の汚れ（コンタミ）の可とう性高分子支持体への付着を抑制することができる。   The present invention is characterized in that static elimination is performed in a non-contact manner on a flexible polymer support before forming a magnetic layer. As a result, charging to the flexible polymer support in the vacuum chamber can be reduced, and adhesion of fine particles and other contaminants (contamination) in the vacuum chamber to the flexible polymer support is suppressed. can do.

また、本発明により得られる磁気記録媒体の好ましい形態によれば、磁性層として強磁性金属薄膜磁性層を備えているので、ハードディスクのような高記録密度記録が可能となり、高容量化が可能となる。さらに、微小欠陥の発生が低減されるので、高密度記録媒体に適している。   Further, according to the preferred embodiment of the magnetic recording medium obtained by the present invention, since the ferromagnetic metal thin film magnetic layer is provided as the magnetic layer, high recording density recording such as a hard disk is possible, and the capacity can be increased. Become. Furthermore, since the generation of minute defects is reduced, it is suitable for a high-density recording medium.

すなわち、本発明は以下のとおりである。   That is, the present invention is as follows.

１． 可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に少なくとも磁性層を真空成膜法により形成する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性層形成工程の前に、前記可とう性高分子支持体の除電を非接触で行う除電工程を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 1. A method for producing a magnetic recording medium comprising a step of forming at least a magnetic layer on at least one surface of a flexible polymer support by a vacuum film-forming method, wherein the flexibility is formed before the magnetic layer forming step. A method for producing a magnetic recording medium, comprising a step of removing electricity from a polymer support in a non-contact manner.

２． 前記真空成膜法がスパッタ法であることを特徴とする上記１に記載の磁気記録媒体の製造方法。 2. 2. The method of manufacturing a magnetic recording medium as described in 1 above, wherein the vacuum film-forming method is a sputtering method.

３． 可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に少なくとも磁性層を有する磁気記録媒体の製造装置であって、真空槽と、前記真空槽内に設置されるとともに可とう性高分子支持体に対し非接触で除電可能な除電手段とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 3. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium having at least a magnetic layer on at least one surface of a flexible polymer support, wherein the apparatus is installed in the vacuum chamber and the flexible polymer support An apparatus for producing a magnetic recording medium, comprising: a neutralizing means capable of neutralizing without contact.

４． 前記除電手段が、イオンを放出する機構を有するイオンガンであることを特徴とする上記３に記載の磁気記録媒体の製造装置。 4). 4. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium as described in 3 above, wherein the static eliminating means is an ion gun having a mechanism for releasing ions.

５． 前記除電手段が、真空紫外線ランプであることを特徴とする上記３に記載の磁気記録媒体の製造装置。 5. 4. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium as described in 3 above, wherein the static eliminating means is a vacuum ultraviolet lamp.

本発明によれば、磁性層を形成する前に可とう性高分子支持体に対して非接触で除電を行うことにより、可とう性高分子支持体への微粒子等の付着を抑制することができ、磁気記録媒体への欠陥の発生を大幅に低減させることができるので、高性能で高信頼性を有し、且つ、安価な高容量磁気記録媒体を提供することが可能となる。このため、接触記録に耐性のある、平坦な磁気テープやフレキシブルディスクを安価に提供することが可能となる。また、本発明に係る製造方法によれば、磁気記録媒体への欠陥の発生が大幅に低減されるので、生産適性にも優れる。   According to the present invention, it is possible to suppress adhesion of fine particles or the like to the flexible polymer support by performing non-contact static elimination on the flexible polymer support before forming the magnetic layer. In addition, since the occurrence of defects in the magnetic recording medium can be greatly reduced, it is possible to provide a high-capacity magnetic recording medium having high performance, high reliability, and low cost. For this reason, it becomes possible to provide a flat magnetic tape or flexible disk resistant to contact recording at low cost. Moreover, according to the manufacturing method according to the present invention, the occurrence of defects in the magnetic recording medium is greatly reduced, so that the productivity is excellent.

以下、図面を参照して、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置をウェブ搬送スパッタ装置に適用した実施の形態例について詳細に説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments in which a magnetic recording medium manufacturing method and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention are applied to a web transport sputtering apparatus will be described in detail below with reference to the drawings.

本実施の形態に係る製造方法及び製造装置５０（図２参照）を用いて製造される磁気記録媒体１０（図１参照）は、フレキシブルディスクでも磁気テープでもよい。   The magnetic recording medium 10 (see FIG. 1) manufactured using the manufacturing method and manufacturing apparatus 50 (see FIG. 2) according to the present embodiment may be a flexible disk or a magnetic tape.

フレキシブルディスクは、中心部にセンターホールが形成された構造であり、プラスチック等で形成されたカートリッジ内に格納されている。なお、カートリッジには、通常、金属性のシャッタで覆われたアクセス窓を備えており、このアクセス窓を介して磁気ヘッドが導入されることにより、フレキシブルディスクへの信号記録や再生が行われる。   The flexible disk has a structure in which a center hole is formed at the center, and is stored in a cartridge formed of plastic or the like. The cartridge is usually provided with an access window covered with a metallic shutter, and a magnetic head is introduced through the access window to record and reproduce signals on the flexible disk.

図１は、カートリッジを取り除いたフレキシブルディスクの好適な層構成を示す断面図である。フレキシブルディスクは、フィルム状の可とう性高分子支持体１２（以下、単に支持体１２と記す）の両面に、表面突起を有する下塗り層１４、第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０、保護層２２及び潤滑層２４が順次形成されている。垂直媒体として用いる場合、支持体１２と磁性層２０との間に軟磁性層（図示せず）が形成されていることが望ましい。フレキシブルディスクの中心部には、通常、フレキシブルディスクドライブに装着するための係合手段（図示せず）が装着されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a preferred layer structure of a flexible disk with the cartridge removed. The flexible disk has an undercoat layer 14 having surface protrusions on both sides of a film-like flexible polymer support 12 (hereinafter simply referred to as support 12), a first underlayer 16, a second underlayer 18, a magnetic layer. The layer 20, the protective layer 22, and the lubricating layer 24 are sequentially formed. When used as a perpendicular medium, it is desirable that a soft magnetic layer (not shown) is formed between the support 12 and the magnetic layer 20. Engaging means (not shown) for mounting on a flexible disk drive is usually mounted at the center of the flexible disk.

磁気テープの場合は、長尺形状にスリットされた磁気テープが開放リール、あるいはリールカートリッジに組み込まれた構造であり、プラスチック等で形成されたカートリッジ内に格納されている。リールカートリッジから巻き出された磁気テープが磁気ヘッド部分を通過する際に、信号記録や再生が行われる。   In the case of a magnetic tape, a magnetic tape slit in a long shape is incorporated into an open reel or a reel cartridge, and is stored in a cartridge formed of plastic or the like. Signal recording and reproduction are performed when the magnetic tape unwound from the reel cartridge passes through the magnetic head portion.

磁気テープは可とう性高分子フィルムからなるテープ状支持体の片面に、少なくとも磁性層を有するものであるが、上記と同様に、下塗り層１４、第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０、保護層２２、潤滑層２４がこの順に形成されている。他面側は、磁気テープがリールカートリッジから巻き出され搬送される際に通過するガイドロールに接触する側であり、ガイドロールとの潤滑搬送の目的で、カーボン等のバックコート層が形成されていることが好ましい。   The magnetic tape has at least a magnetic layer on one side of a tape-like support made of a flexible polymer film, and in the same manner as described above, the undercoat layer 14, the first underlayer 16, the second underlayer 18, The magnetic layer 20, the protective layer 22, and the lubricating layer 24 are formed in this order. The other side is the side that comes into contact with the guide roll that passes when the magnetic tape is unwound from the reel cartridge and conveyed, and a back coat layer such as carbon is formed for the purpose of lubricating conveyance with the guide roll. Preferably it is.

次に、本実施の形態に係る製造方法に好適に用いられる製造装置５０の一例を、図１に示す。   Next, FIG. 1 shows an example of a manufacturing apparatus 50 suitably used in the manufacturing method according to the present embodiment.

図１に示す製造装置５０は、真空槽５２と、該真空槽５２に対して回転自在に支持され、長尺の支持体１２を表面に沿わせて回転しながら搬送する円筒状の成膜ロール５４と、該成膜ロール５４の周囲に配置された例えば５つの真空室（第１真空室５６ａ、第２真空室５６ｂ、第３真空室５６ｃ、第４真空室５６ｄ、第５真空室５６ｅ）とを有する。これら第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅは、第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅ間にそれぞれ設置された仕切板５８にて区画されている。   A manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 1 includes a vacuum chamber 52 and a cylindrical film forming roll that is rotatably supported with respect to the vacuum chamber 52 and conveys a long support 12 while rotating along a surface. 54 and, for example, five vacuum chambers (first vacuum chamber 56a, second vacuum chamber 56b, third vacuum chamber 56c, fourth vacuum chamber 56d, and fifth vacuum chamber 56e) disposed around the film forming roll 54. And have. The first vacuum chamber 56a to the fifth vacuum chamber 56e are partitioned by a partition plate 58 installed between the first vacuum chamber 56a and the fifth vacuum chamber 56e.

第１真空室５６ａには長尺の支持体１２が巻回された巻き出しロール６０が設置され、第５真空室５６ｅには巻き取りロール６２が設置されている。巻き出しロール６０に巻回された支持体１２には、図１に示すように、予め下塗り層１４が塗布されている。   An unwinding roll 60 around which the long support 12 is wound is installed in the first vacuum chamber 56a, and a winding roll 62 is installed in the fifth vacuum chamber 56e. As shown in FIG. 1, the undercoat layer 14 is applied in advance to the support 12 wound around the unwinding roll 60.

巻き出しロール６０からロール状に巻かれたフィルム状の支持体１２を巻き出して、成膜ロール５４に沿わせた状態で第１真空室５６ａにおいて第１下地層１６を形成し、成膜ロール５４を回転させながら、第２真空室５６ｂで第２下地層１８、第３真空室５６ｃで磁性層２０、第５真空室５６ｅで保護層２２を順次形成して、巻き取りロール６２で巻き取り、長尺の磁性層２０等が形成されたフィルム（磁気記録材料６４）を形成する。   The film-like support 12 wound in a roll shape is unwound from the unwinding roll 60, and the first underlayer 16 is formed in the first vacuum chamber 56 a in a state along the film-forming roll 54. 54, the second underlayer 18 is formed in the second vacuum chamber 56b, the magnetic layer 20 is formed in the third vacuum chamber 56c, and the protective layer 22 is formed in the fifth vacuum chamber 56e. Then, a film (magnetic recording material 64) on which the long magnetic layer 20 is formed is formed.

第１真空室５６ａには、巻き出しロール６０から繰り出された支持体１２を加熱するための加熱ロール６６が設けられている。支持体１２を加熱することにより、支持体１２に含まれるガスを放出させることができる。加熱ロール６６の代わりに巻き出しロール６０と成膜ロール５４との間にヒータを設けてもよい。また、加熱ロール６６を設けずに成膜ロール５４で代用しても構わない。   The first vacuum chamber 56 a is provided with a heating roll 66 for heating the support 12 fed from the unwinding roll 60. By heating the support 12, the gas contained in the support 12 can be released. Instead of the heating roll 66, a heater may be provided between the unwinding roll 60 and the film forming roll 54. Further, the film forming roll 54 may be substituted without providing the heating roll 66.

また、第１真空室５６ａには、加熱ロール６６の上流に巻き出しロール６０から繰り出された支持体１２を非接触で除電できる除電手段６８が設けられている。除電手段６８は、支持体１２の両面を除電できるように２つ設けられている。   Further, the first vacuum chamber 56 a is provided with a static elimination means 68 that can neutralize the support 12 fed from the unwinding roll 60 upstream of the heating roll 66 in a non-contact manner. Two neutralizing means 68 are provided so that both surfaces of the support 12 can be neutralized.

除電手段６８としては、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、イオン７０を放出する機構を有するイオンガン７２、又は、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、真空紫外線ランプを用いることが好ましい。   As the static elimination means 68, it is preferable to use an ion gun 72 having a mechanism for emitting ions 70 as shown in FIGS. 3A and 3B, or a vacuum ultraviolet lamp as shown in FIGS. 4A and 4B.

図３Ａ及び図３Ｂに示すイオンガン７２は、イオン７０が放出される面７６（イオン放射面７６）と支持体１２の表面１２ａとが対向するようにして設置される。このイオンガン７２は、電場と磁場を印加することで雰囲気ガスを分解し電荷的に中性なプラズマとし、このプラズマを支持体１２に曝すことで支持体１２を除電するものや、さらに強い正電位磁場を印加して分解したガスの正電荷のみを支持体１２に照射することで剥離帯電によって負に帯電した該支持体１２を中和するもの等を用いることができる。イオンガン７２を用いる場合、１００ガウス〜１００００ガウス（０．０１Ｔ〜１Ｔ）の磁場、１００Ｖから３０００Ｖの電場を与えることが好ましい。   The ion gun 72 shown in FIGS. 3A and 3B is installed such that the surface 76 (ion emission surface 76) from which the ions 70 are emitted and the surface 12a of the support 12 face each other. This ion gun 72 decomposes the atmospheric gas by applying an electric field and a magnetic field to form a neutral plasma in charge, and this plasma is exposed to the support 12 to remove the charge from the support 12 or a stronger positive potential. A material that neutralizes the support 12 that is negatively charged by peeling charging by irradiating the support 12 only with the positive charge of the gas decomposed by applying a magnetic field can be used. When the ion gun 72 is used, it is preferable to apply a magnetic field of 100 gauss to 10000 gauss (0.01T to 1T) and an electric field of 100V to 3000V.

図４Ａ及び図４Ｂに示す真空紫外線ランプ７４は、紫外線が放射される面７８（紫外線放射面７８）の光軸８０と支持体１２の表面１２ａとがほぼ平行となるように設置される。図４Ｂの例では、紫外線放射面７８の光軸８０と支持体１２の表面１２ａとがほぼ一致するように設置した場合を示す。この真空紫外線ランプ７４は、そのエネルギーの高い光によって雰囲気ガスを効率的にイオン化させ、該支持体１２の表面電荷を中性化する機構を有するものを用いることができる。該真空紫外線ランプ７４は、微量のＡｒガスを流した状態で、１×１０^-6Ｐａから１×１０³Ｐａの真空雰囲気内で用いることが好ましく、１×１０^-2Ｐａから１Ｐａの真空雰囲気内で用いることがより好ましい。１×１０³Ｐａより低真空では、イオンの平均自由行程が短くなり、支持体１２の全体に対し、十分な除電効果が得られない場合がある。 The vacuum ultraviolet lamp 74 shown in FIGS. 4A and 4B is installed so that the optical axis 80 of the surface 78 (ultraviolet radiation surface 78) from which ultraviolet rays are emitted and the surface 12a of the support 12 are substantially parallel. In the example of FIG. 4B, a case where the optical axis 80 of the ultraviolet radiation surface 78 and the surface 12a of the support 12 are substantially matched is shown. As the vacuum ultraviolet lamp 74, a lamp having a mechanism for efficiently ionizing the atmospheric gas with light having high energy and neutralizing the surface charge of the support 12 can be used. The vacuum ultraviolet lamp 74 is preferably used in a vacuum atmosphere of 1 × 10 ⁻⁶ Pa to 1 × 10 ³ Pa in a state where a small amount of Ar gas is flowed, and a vacuum atmosphere of 1 × 10 ⁻² Pa to 1 Pa. It is more preferable to use within. When the vacuum is lower than 1 × 10 ³ Pa, the mean free path of ions becomes short, and a sufficient static elimination effect may not be obtained for the entire support 12.

また、該真空紫外線ランプ７４は、支持体１２に対して、５０ｍｍから５００ｍｍの距離範囲で照射することが好ましく、５０ｍｍから４００ｍｍの距離範囲で照射することがより好ましい。この距離範囲は、例えば図４Ｂに示すように、真空紫外線ランプ７４の紫外線放射面７８から支持体１２までの最短距離Ｌｄを指す。この距離範囲が５０ｍｍより近いと支持体１２に対し熱エネルギーが供給され、支持体１２に変形等の悪影響を及ぼす場合がある。逆に、５００ｍｍ以上離れると、支持体１２の全体が除電されるのに時間がかかり、支持体１２の通過時間内に十分な除電性能を実現できないおそれがある。さらに、該真空紫外線ランプ７４の照射強度としては、５Ｗから５００Ｗの範囲が好ましく、１０Ｗから３００Ｗの範囲がより好ましく、２０Ｗから５０Ｗの範囲がさらに好ましい。５００Ｗより高強度では支持体１２が熱で変形し、逆に５Ｗ以下では十分な除電効果が得られない場合がある。   The vacuum ultraviolet lamp 74 preferably irradiates the support 12 in a distance range of 50 mm to 500 mm, and more preferably in a distance range of 50 mm to 400 mm. This distance range indicates the shortest distance Ld from the ultraviolet radiation surface 78 of the vacuum ultraviolet lamp 74 to the support 12 as shown in FIG. 4B, for example. If this distance range is closer than 50 mm, thermal energy is supplied to the support 12, which may adversely affect the support 12 such as deformation. On the other hand, if the distance is 500 mm or more, it takes time for the entire support 12 to be neutralized, and there is a possibility that sufficient static elimination performance cannot be realized within the passage time of the support 12. Furthermore, the irradiation intensity of the vacuum ultraviolet lamp 74 is preferably in the range of 5 W to 500 W, more preferably in the range of 10 W to 300 W, and still more preferably in the range of 20 W to 50 W. If the strength is higher than 500 W, the support 12 is deformed by heat. Conversely, if the strength is 5 W or less, a sufficient static elimination effect may not be obtained.

図２に示すように、第１真空室５６ａ、第２真空室５６ｂ及び第３真空室５６ｃ内には、それぞれ第１スパッタ装置８２ａ、第２スパッタ装置８２ｂ及び第３スパッタ装置８２ｃが成膜ロール５４に対向した箇所に設置されている。第１スパッタ装置８２ａ〜第３スパッタ装置８２ｃにはそれぞれ放電手段であるスパッタカソードと所望の膜を形成するためのターゲットとが設置されている。   As shown in FIG. 2, in the first vacuum chamber 56a, the second vacuum chamber 56b, and the third vacuum chamber 56c, the first sputtering device 82a, the second sputtering device 82b, and the third sputtering device 82c are film forming rolls, respectively. It is installed at a location facing 54. Each of the first sputtering device 82a to the third sputtering device 82c is provided with a sputtering cathode as a discharge means and a target for forming a desired film.

第４真空室（グロー処理室５６ｄ）には、アルゴンイオンガン８４が設けられている。アルゴンイオンガン８４により磁性層２０の表面にアルゴンプラズマを照射してグロー処理を施し、保護層２２と磁性層２０の密着性を向上させることができる。   An argon ion gun 84 is provided in the fourth vacuum chamber (glow processing chamber 56d). The argon ion gun 84 can irradiate the surface of the magnetic layer 20 with argon plasma to perform a glow treatment, thereby improving the adhesion between the protective layer 22 and the magnetic layer 20.

第５真空室５６ｅには、保護層成膜用ガン８６が設けられている。保護層成膜用ガン８６としては、反応管に炭化水素ガスを導入し、コイル磁場を与え、高密度プラズマを生成し、さらに支持体１２側にバイアス電圧を印加することで、分解された正の炭素イオンにより硬質な炭素膜を形成可能なプラズマＣＶＤガンや、イオンソースに炭化水素ガスを導入し、磁場と電場を印加して高密度プラズマを生成し、強力な正電場により分解された正の炭素イオンを押し出すことで硬質な炭素膜を形成可能なイオンビームガン、高密度プラズマ生成可能なＥＣＲスパッタ源、アーク放電から高純度カーボンイオンを抽出可能なフィルタードカソーディックバキュームアーク（ＦＣＶＡ）ガン等を用いることができる。中でも膜硬度と摺動特性を兼ね備えた水素添加硬質炭素膜いわゆるＤＬＣ保護層を形成可能なプラズマＣＶＤガン、イオンビームガンが好ましい。保護層成膜用ガン８６は複数台設けられていても構わない。   A protective layer film forming gun 86 is provided in the fifth vacuum chamber 56e. As the protective layer film-forming gun 86, a hydrocarbon gas is introduced into a reaction tube, a coil magnetic field is applied, a high-density plasma is generated, and a bias voltage is applied to the support 12 side so that the decomposed positive electrode is generated. A plasma CVD gun capable of forming a hard carbon film with carbon ions, or introducing a hydrocarbon gas into the ion source, applying a magnetic field and an electric field to generate a high-density plasma, and generating a positive plasma decomposed by a strong positive electric field Beam gun capable of forming hard carbon film by extruding carbon ions, ECR sputtering source capable of generating high density plasma, filtered cathodic vacuum arc (FCVA) gun capable of extracting high purity carbon ions from arc discharge, etc. Can be used. Among these, a hydrogenated hard carbon film having both film hardness and sliding characteristics, a plasma CVD gun and an ion beam gun capable of forming a so-called DLC protective layer are preferable. A plurality of protective layer film forming guns 86 may be provided.

さらに、第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅには、それぞれ独立した真空排気系（真空ポンプ）８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄ、８８ｅが設けられており、これにより第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅの真空排気を可能としている。また、第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅには、それぞれガスノズル（図示せず）及びガス圧モニタ（図示せず）が設置されている。このように第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅにそれぞれ独立した真空排気系を設けることで、第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅのガス種やガス圧を個別に制御できるため、各層の所望の特性を引き出すために最適な成膜条件が達成できる。真空室内の不純物ガスを極端に嫌う層を形成する際には、隣接する真空室間に差圧室を設ける等、より高純度ガス雰囲気中での膜形成を行うことが好ましい。   Further, the first vacuum chamber 56a to the fifth vacuum chamber 56e are provided with independent evacuation systems (vacuum pumps) 88a, 88b, 88c, 88d, and 88e, respectively. The vacuum chamber 56e can be evacuated. The first vacuum chamber 56a to the fifth vacuum chamber 56e are provided with a gas nozzle (not shown) and a gas pressure monitor (not shown), respectively. Since the first vacuum chamber 56a to the fifth vacuum chamber 56e are provided with independent evacuation systems in this way, the gas types and gas pressures of the first vacuum chamber 56a to the fifth vacuum chamber 56e can be individually controlled. Optimum film formation conditions can be achieved in order to extract desired characteristics of each layer. When forming a layer that extremely dislikes the impurity gas in the vacuum chamber, it is preferable to form a film in a higher purity gas atmosphere, such as by providing a differential pressure chamber between adjacent vacuum chambers.

また、第５真空室５６ｅにおいては、保護層２２をプラズマＣＶＤ法、イオンビームデポジション法等、炭化水素を含むガスを導入して、水素添加硬質炭素膜いわゆるＤＬＣ保護層を形成する場合、磁性層成膜室（第３真空室５６ｃ）に用いられているようなクライオポンプでは水素排気量が充分でないため、ターボ分子ポンプを主ポンプとした排気系を用いることが好ましい。   In the fifth vacuum chamber 56e, when a hydrogen-containing hard carbon film, so-called DLC protective layer, is formed by introducing a gas containing hydrocarbon into the protective layer 22 such as plasma CVD or ion beam deposition. The cryopump used in the layer deposition chamber (third vacuum chamber 56c) does not have a sufficient hydrogen exhaust amount, so it is preferable to use an exhaust system using a turbo molecular pump as the main pump.

真空槽５２に設けられる各種搬送ロールは、支持体１２をシワやキズなく搬送する目的で適宜表面加工を施すことができる。例えば、金属製の搬送ロールであれば、該ロールの表面を硬質クロームめっきした後、鏡面研磨仕上げすることで、表面性をＲｚ：０．８μｍ以下に仕上げることが好ましく、０．４μｍ以下に仕上げることがさらに好ましい。Ｒｚ：０．８μｍ以下の表面仕上げにすることで、平滑な支持体１２を密着搬送させる場合においても、ロールの表面粗さが転写することなく、表面平滑性を有する磁気記録媒体の作製が可能となる。ここで本実施の形態でいう最大表面粗さ（Ｒｚ）とは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−２００１に準拠して求められる値である。   Various transport rolls provided in the vacuum chamber 52 can be appropriately subjected to surface processing for the purpose of transporting the support 12 without wrinkles or scratches. For example, in the case of a metal transport roll, it is preferable to finish the surface property to Rz: 0.8 μm or less by mirror polishing after the surface of the roll is hard chrome plated, and finish to 0.4 μm or less. More preferably. Rz: 0.8 μm or less surface finish allows the production of a magnetic recording medium having surface smoothness without transferring the surface roughness of the roll even when the smooth support 12 is conveyed in close contact. It becomes. Here, the maximum surface roughness (Rz) in the present embodiment is a value obtained in accordance with JIS B 0601-2001.

成膜ロール５４の表面性はＲｚ：０．４μｍ以下であることが好ましい。成膜ロール５４の表面を非常に平滑にすることで、支持体１２に対して、成膜ロール５４の表面粗さが悪影響を及ぼすことがない。また、支持体１２への密着性も向上するため、支持体１２の搬送ずれも防止でき、磁気記録媒体１０への欠陥発生防止も可能となる。成膜ロール５４の表面仕上げは、例えば、金属製のロールを使用する場合は、該ロールの表面を硬質クロームめっきした後、鏡面研磨仕上げすることで、表面性をＲｚ：０．４μｍ以下に仕上げることが好ましく、０．１μｍ以下に仕上げることがさらに好ましい。   The surface property of the film forming roll 54 is preferably Rz: 0.4 μm or less. By making the surface of the film forming roll 54 very smooth, the surface roughness of the film forming roll 54 does not adversely affect the support 12. Further, since the adhesion to the support 12 is also improved, it is possible to prevent the support 12 from being transported and prevent defects in the magnetic recording medium 10. The surface finish of the film-forming roll 54 is, for example, when a metal roll is used, the surface of the roll is mirror-polished after hard chrome plating to finish the surface property to Rz: 0.4 μm or less. It is preferable to finish to 0.1 μm or less.

また、成膜ロール５４は、支持体１２を密着させて搬送ずれを防止するためにも、第１スパッタ装置８２ａ〜第３スパッタ装置８２ｃに対し支持体１２がほぼ対向するためにも、ある程度以上大きい方が好ましい。成膜ロール５４の直径は、少なくとも２５０ｍｍ以上、さらに好ましくは４００ｍｍ以上であることが望ましい。   Further, the film-forming roll 54 is not less than a certain amount so that the support 12 is brought into close contact with the first sputtering device 82a to the third sputtering device 82c so that the support 12 is substantially opposed to the carrier. Larger is preferable. The diameter of the film forming roll 54 is desirably at least 250 mm or more, more preferably 400 mm or more.

なお、本実施の形態に係る製造装置５０は、図２に示すものに限られるものでない。例えば、図２に示す製造装置５０では、加熱ロール６６の上流に除電手段６８が設けられた形態を示したが、磁性層２０を形成するための第３スパッタ装置８２ｃの上流であればいずれの位置に設けてもよい。また、図２に示した位置に加えて、成膜ロール５４の下流や、巻き取りロール６２の上流等に複数箇所設けることも可能である。また、除電手段６８の他に接触式の除電設備（例えば、導電性ロール等）と併用してもよい。導電性ロールと併用する際には、成膜工程前に、除電手段６８、導電性ロールの順で設置することが望ましい。   The manufacturing apparatus 50 according to the present embodiment is not limited to that shown in FIG. For example, in the manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 2, the mode in which the static elimination means 68 is provided upstream of the heating roll 66 is shown. However, any configuration is possible as long as it is upstream of the third sputtering apparatus 82 c for forming the magnetic layer 20. You may provide in a position. In addition to the positions shown in FIG. 2, a plurality of locations can be provided downstream of the film forming roll 54, upstream of the take-up roll 62, and the like. Moreover, you may use together with contact-type static elimination equipment (for example, conductive roll etc.) other than the static elimination means 68. FIG. When used in combination with a conductive roll, it is desirable to install the static elimination means 68 and the conductive roll in this order before the film forming step.

さらに、本実施の形態に係る製造装置５０は、成膜ロール５４を２つ備え、支持体１２の両面に少なくとも磁性層２０を形成可能な形態としてもよい。   Furthermore, the manufacturing apparatus 50 according to the present embodiment may include two film forming rolls 54 so that at least the magnetic layer 20 can be formed on both surfaces of the support 12.

次に、図１に示す製造装置５０を用いて、磁気記録媒体１０を製造する方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the magnetic recording medium 10 using the manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 1 will be described.

まず、予め下塗り層１４が塗布された支持体１２を巻き出しロール６０にセットし、支持体１２を繰り出す。支持体１２の搬送速度は、１ｃｍ／分〜１０ｍ／分の範囲が好ましく、１０ｃｍ／分〜８ｍ／分の範囲がさらに好ましい。１ｃｍ／分未満の場合、生産性が悪く、１０ｍ／分を超える場合、支持体１２の搬送ずれの影響が無視できなくなるおそれがある。   First, the support 12 on which the undercoat layer 14 has been applied in advance is set on the unwinding roll 60, and the support 12 is fed out. The conveyance speed of the support 12 is preferably in the range of 1 cm / min to 10 m / min, and more preferably in the range of 10 cm / min to 8 m / min. If it is less than 1 cm / min, the productivity is poor, and if it exceeds 10 m / min, there is a possibility that the influence of the conveyance deviation of the support 12 cannot be ignored.

繰り出した支持体１２を除電手段６８により除電する。このように支持体１２の片面あるいは両面の帯電を除去することにより、第１真空室５６ａ内に存在する微粒子等の汚れ（コンタミ）の支持体１２の表面（片面あるいは両面）への付着が抑制される。また、非接触で除電するので、放電痕等が残ることがない。   The extended support 12 is neutralized by the neutralizing means 68. By removing the charge on one or both sides of the support 12 in this way, the adhesion of dirt (contamination) such as fine particles present in the first vacuum chamber 56a to the surface (one or both sides) of the support 12 is suppressed. Is done. In addition, since the charge is eliminated without contact, no trace of discharge remains.

次に、加熱ロール６６により支持体１２を加熱し、支持体１２に含まれるガスを放出させる。支持体１２を成膜ロール５４に密着させるようにし、成膜ロール５４を回転させて支持体１２を第１真空室５６ａ〜第５真空室５６ｅに順次搬送する。   Next, the support 12 is heated by the heating roll 66, and the gas contained in the support 12 is released. The support 12 is brought into close contact with the film forming roll 54, and the film forming roll 54 is rotated so that the support 12 is sequentially conveyed to the first vacuum chamber 56a to the fifth vacuum chamber 56e.

第１真空室５６ａ、第２真空室５６ｂにおいて、成膜ロール５４に密着させた状態で、第１スパッタ装置８２ａ、第２スパッタ装置８２ｂにより、第１下地層１６及び第２下地層１８を形成する。第１下地層１６、第２下地層１８を形成する際に用いるスパッタ法としては、公知のＤＣスパッタ法、ＲＦスパッタ法等が使用可能である。このように第１下地層１６、第２下地層１８の形成にスパッタ法を用いることにより、磁気特性及び高密度記録特性に優れた磁気記録媒体１０を得ることができる。   In the first vacuum chamber 56a and the second vacuum chamber 56b, the first underlayer 16 and the second underlayer 18 are formed by the first sputtering device 82a and the second sputtering device 82b while being in close contact with the film forming roll 54. To do. As a sputtering method used for forming the first underlayer 16 and the second underlayer 18, a known DC sputtering method, RF sputtering method, or the like can be used. Thus, by using the sputtering method for forming the first underlayer 16 and the second underlayer 18, the magnetic recording medium 10 having excellent magnetic characteristics and high-density recording characteristics can be obtained.

第１下地層１６及び第２下地層１８を形成する際のスパッタ時のスパッタガスとしては一般的なアルゴンガスが使用できるが、その他の希ガスを使用してもよい。また、結晶性の調整や表面酸化の目的で微量の酸素ガスを導入してもかまわない。   A general argon gas can be used as a sputtering gas for sputtering when forming the first underlayer 16 and the second underlayer 18, but other rare gases may be used. Also, a small amount of oxygen gas may be introduced for the purpose of adjusting crystallinity and surface oxidation.

第１下地層１６及び第２下地層１８を形成する際に、支持体１２の温度を０℃から５００℃の範囲で自由に制御することができる。支持体１２を加熱する場合は、支持体１２をヒータ加熱もしくは成膜ロール５４を加熱する等して温度制御することができる。しかし、支持体１２の熱変形の懸念から成膜ロール５４を加熱して成膜することが好ましい。室温あるいは低温条件で第１下地層１６及び第２下地層１８を形成する際には、成膜ロール５４を冷却する等して支持体１２の温度を制御することができる。   When forming the first underlayer 16 and the second underlayer 18, the temperature of the support 12 can be freely controlled in the range of 0 ° C. to 500 ° C. When the support 12 is heated, the temperature of the support 12 can be controlled by heating the heater 12 or heating the film forming roll 54. However, it is preferable to form the film by heating the film-forming roll 54 in consideration of thermal deformation of the support 12. When the first underlayer 16 and the second underlayer 18 are formed at room temperature or a low temperature, the temperature of the support 12 can be controlled by cooling the film forming roll 54 or the like.

続いて、支持体１２を第３真空室５６ｃに搬送して、第３スパッタ装置８２ｃを用いて第２下地層１８上に真空成膜法により磁性層２０を形成する。   Subsequently, the support 12 is transferred to the third vacuum chamber 56c, and the magnetic layer 20 is formed on the second underlayer 18 by a vacuum film formation method using the third sputtering apparatus 82c.

磁性層２０を形成する際に用いるスパッタ法としては、公知のＤＣスパッタ法、ＲＦスパッタ法等が使用可能である。これらの方法を用いることにより、良質な超薄膜が容易に成膜可能である。スパッタ時のスパッタガスとしては一般的なアルゴンガスが使用できるが、その他の希ガスを使用してもよい。また磁性層２０の酸素含有率の調整や表面酸化の目的で微量の酸素ガスを導入してもかまわない。   As a sputtering method used for forming the magnetic layer 20, a known DC sputtering method, RF sputtering method, or the like can be used. By using these methods, a good ultrathin film can be easily formed. A general argon gas can be used as a sputtering gas during sputtering, but other rare gases may be used. Further, a small amount of oxygen gas may be introduced for the purpose of adjusting the oxygen content of the magnetic layer 20 or for surface oxidation.

スパッタ法で磁性層２０を形成する際のＡｒのガス圧としては、０．１Ｐａ以上、１０Ｐａ以下が好ましく、０．４Ｐａ以上、７Ｐａ以下が特に好ましい。成膜時のＡｒのガス圧を０．１Ｐａ以上とすることで、磁性粒子の分離も可能で、且つ、膜応力が緩和されるため、支持体１２に変形や膜のひび割れが生じにくい。また、成膜時のＡｒのガス圧が１０Ｐａ以下とすることで、結晶性及び膜強度を確保できる。   The Ar gas pressure when forming the magnetic layer 20 by sputtering is preferably 0.1 Pa or more and 10 Pa or less, particularly preferably 0.4 Pa or more and 7 Pa or less. By setting the Ar gas pressure at the time of film formation to 0.1 Pa or more, the magnetic particles can be separated and the film stress is relieved, so that the support 12 is not easily deformed or cracked. Moreover, crystallinity and film | membrane intensity | strength are securable because the gas pressure of Ar at the time of film-forming shall be 10 Pa or less.

スパッタ法で磁性層２０を形成する際の投入電力としては、０．１Ｗ／ｃｍ²以上、１００Ｗ／ｃｍ²以下が好ましく、１Ｗ／ｃｍ²以上、５０Ｗ／ｃｍ²以下が特に好ましい。０．１Ｗ／ｃｍ²以上の投入電力を用いることで、結晶性及び膜の密着性を確保するために必要なスパッタ粒子エネルギーが与えられる。一方、１００Ｗ／ｃｍ²以下の投入電力とすることで、支持体１２に与える衝撃が過大とならず、支持体１２に変形やスパッタ膜にクラックが発生する問題も回避できる。 The input power for forming the magnetic layer 20 by sputtering, 0.1 W / cm ² or more, preferably 100W / cm ² or less, 1W / cm ² or more, 50 W / cm ² or less is particularly preferred. By using an input power of 0.1 W / cm ² or more, sputtered particle energy necessary for ensuring crystallinity and film adhesion can be provided. On the other hand, by setting the input power to 100 W / cm ² or less, the impact applied to the support 12 does not become excessive, and problems such as deformation of the support 12 and cracks in the sputtered film can be avoided.

磁性層２０を形成する際、支持体１２の温度を０℃から５００℃の範囲で自由に制御することができる。支持体１２の加熱・冷却方法は第１下地層１６及び第２下地層１８の場合と同様の方法で行うことができる。   When forming the magnetic layer 20, the temperature of the support 12 can be freely controlled in the range of 0 ° C. to 500 ° C. The heating / cooling method of the support 12 can be performed in the same manner as in the case of the first underlayer 16 and the second underlayer 18.

磁性層２０を形成した後、第４真空室５６ｄにおいてアルゴンイオンガン８４を用いて磁性層２０をグロー処理する。そして、第５真空室５６ｅにおいて保護層２２を形成して、巻き取りロール６２で巻き取る。保護層２２の形成方法としては、公知のプラズマＣＶＤ法、イオンビームデポジション法、フィルタードカソーディックバキュームアーク法等が好ましい。   After the magnetic layer 20 is formed, the magnetic layer 20 is subjected to a glow process using an argon ion gun 84 in the fourth vacuum chamber 56d. Then, the protective layer 22 is formed in the fifth vacuum chamber 56 e and wound up by the winding roll 62. As a method for forming the protective layer 22, a known plasma CVD method, ion beam deposition method, filtered cathodic vacuum arc method, or the like is preferable.

磁気記録媒体１０がフレキシブルディスクの場合、通常、上記のようにして支持体１２の片面に所望の膜を形成した後、支持体１２の表裏を反対にして他面側に第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０及び保護層２２を形成する。   When the magnetic recording medium 10 is a flexible disk, usually, after forming a desired film on one side of the support 12 as described above, the first underlayer 16 on the other side with the front and back sides of the support 12 opposite to each other, The second underlayer 18, the magnetic layer 20, and the protective layer 22 are formed.

以上のようにして、第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０、及び保護層２２が形成された磁気記録材料６４に必要に応じて保護層２２の表面に潤滑層２４（図１参照）等を設け、適当な大きさにカットしてカートリッジに収容して、磁気記録媒体１０を完成させる。   As described above, the lubricating layer 24 (see FIG. 5) is formed on the surface of the protective layer 22 as necessary in the magnetic recording material 64 on which the first underlayer 16, the second underlayer 18, the magnetic layer 20, and the protective layer 22 are formed. 1) and the like, and cut into an appropriate size and accommodated in a cartridge to complete the magnetic recording medium 10.

なお、潤滑層２４を設ける場合は、潤滑剤を有機溶剤に溶解した溶液を、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ディップコート法等で保護層２２の表面に塗布するか、真空蒸着法により保護層２２の表面に付着させればよい。潤滑剤の塗布量としては、１〜３０ｍｇ／ｍ²が好ましく、２〜２０ｍｇ／ｍ²が特に好ましい。 When the lubricating layer 24 is provided, a solution obtained by dissolving a lubricant in an organic solvent is applied to the surface of the protective layer 22 by a spin coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a dip coating method, or the like. What is necessary is just to adhere to the surface of the protective layer 22 by a vapor deposition method. The coating amount of the lubricant is preferably ^{1~30mg / m 2, 2~20mg / m} 2 is particularly preferred.

以下、本実施形態に係る磁気記録媒体１０に用いられる支持体１２及び各層について説明する。   Hereinafter, the support 12 and each layer used in the magnetic recording medium 10 according to the present embodiment will be described.

支持体は、磁気ヘッドと磁気ディスクあるいは磁気テープとが接触した時の衝撃を回避するために可とう性を備えた樹脂フィルムで構成されている。このような樹脂フィルムとしては、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、芳香族ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセテートセルロース、フッ素樹脂等からなる樹脂フィルムが挙げられる。   The support is composed of a resin film having flexibility in order to avoid an impact when the magnetic head and the magnetic disk or magnetic tape come into contact with each other. Examples of such resin films include aromatic polyimide, aromatic polyamide, aromatic polyamideimide, polyether ketone, polyether sulfone, polyether imide, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and triacetate cellulose. And a resin film made of fluorine resin or the like.

支持体として樹脂フィルムを複数枚ラミネートしたものを用いてもよい。ラミネートフィルムを用いることにより、支持体１２自身に起因する反りやうねりを軽減することができ、磁気記録媒体１０の耐傷性を著しく改善することがきる。   A laminate in which a plurality of resin films are laminated may be used as the support. By using the laminate film, it is possible to reduce warpage and undulation caused by the support 12 itself, and the scratch resistance of the magnetic recording medium 10 can be remarkably improved.

ラミネート手法としては、熱ローラによるロールラミネート、平板熱プレスによるラミネート、接着面に接着剤を塗布してラミネートするドライラミネート、予めシート状に成形された接着シートを用いるラミネート等が挙げられる。接着剤の種類は、特に限定されず、一般的なホットメルト接着剤、熱硬化性接着剤、ＵＶ硬化型接着剤、ＥＢ硬化型接着剤、粘着シート、嫌気性接着剤等を使用することがきる。   Examples of the laminating method include roll laminating using a heat roller, laminating using a flat plate heat press, dry laminating by applying an adhesive to the adhesive surface and laminating, and laminating using an adhesive sheet previously formed into a sheet shape. The type of the adhesive is not particularly limited, and a general hot melt adhesive, a thermosetting adhesive, a UV curable adhesive, an EB curable adhesive, an adhesive sheet, an anaerobic adhesive, or the like may be used. wear.

支持体１２の厚みは、フレキシブルディスクの場合、１０μｍ〜２００μｍ、好ましくは２０μｍ〜１５０μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜１００μｍである。支持体１２の厚みが１０μｍより薄いと、高速回転時の安定性が低下し、面ぶれが増加する。一方、支持体１２の厚みが２００μｍより厚いと、回転時の剛性が高くなり、接触時の衝撃を回避することが困難になり、磁気ヘッドの跳躍を招く。また、磁気テープの場合、１μｍ〜２０μｍ、好ましくは３μｍ〜１２μｍである。３μｍより薄いと、強度が不足し、切断やエッジ折れが発生しやすくなる。一方、２０μｍより厚いと、磁気テープ１巻当りに巻き取れる磁気テープ長が少なくなり、体積記録密度が低下してしまう。また剛性が高くなるため、磁気ヘッドへの当り、すなわち追従性が悪化する。   In the case of a flexible disk, the thickness of the support 12 is 10 μm to 200 μm, preferably 20 μm to 150 μm, and more preferably 30 μm to 100 μm. If the thickness of the support 12 is less than 10 μm, the stability during high-speed rotation is lowered and the surface blur increases. On the other hand, if the thickness of the support 12 is greater than 200 μm, the rigidity at the time of rotation becomes high, and it becomes difficult to avoid the impact at the time of contact, and the magnetic head jumps. In the case of a magnetic tape, it is 1 μm to 20 μm, preferably 3 μm to 12 μm. If it is thinner than 3 μm, the strength is insufficient, and cutting and edge breakage are likely to occur. On the other hand, if it is thicker than 20 μm, the length of the magnetic tape that can be wound per volume of the magnetic tape is reduced, and the volume recording density is lowered. Further, since the rigidity is increased, the contact with the magnetic head, that is, the followability is deteriorated.

下記（１）式で表される支持体１２の腰の強さは、フレキシブルディスクの場合、ｂ＝１０ｍｍでの値が０．５ｋｇｆ／ｍｍ²〜２．０ｋｇｆ／ｍｍ²（４．９〜１９．６ＭＰａ）の範囲にあることが好ましく、０．７ｋｇｆ／ｍｍ²〜１．５ｋｇｆ／ｍｍ²（６．８６〜１４．７ＭＰａ）がより好ましい。
支持体の腰の強さ＝Ｅｂｄ³／１２ （１） In the case of a flexible disk, the waist strength of the support 12 represented by the following formula (1) is 0.5 kgf / mm ^{2 to} 2.0 kgf / mm ² (4.9 to 19) when b = 10 mm. is preferably in the range of ^{.6MPa), 0.7kgf / mm 2 ~1.5kgf} / mm 2 (6.86~14.7MPa) is more preferable.
Waist strength of the support = Ebd ^3/12 (1)

なお、この（１）式において、Ｅはヤング率、ｂはフィルム幅、ｄはフィルム厚さを各々表す。   In the formula (1), E represents Young's modulus, b represents film width, and d represents film thickness.

支持体１２の表面は、磁気ヘッドによる記録を行うために、可能な限り平滑であることが好ましい。支持体１２の表面の凹凸は、信号の記録再生特性を著しく低下させる。具体的には、後述する下塗り層１４を使用する場合では、光学式の表面粗さ計で測定した表面粗さが平均中心線粗さＲａで５ｎｍ以内、好ましくは２ｎｍ以内、触針式粗さ計で測定した突起高さが１μｍ以内、好ましくは０．１μｍ以内である。また、下塗り層１４を用いない場合では、光学式の表面粗さ計で測定した表面粗さが平均中心線粗さＲａで３ｎｍ以内、好ましくは１ｎｍ以内、触針式粗さ計で測定した突起高さが０．１μｍ以内、好ましくは０．０６μｍ以内である。   The surface of the support 12 is preferably as smooth as possible in order to perform recording with a magnetic head. The unevenness on the surface of the support 12 significantly reduces the signal recording / reproducing characteristics. Specifically, in the case of using the undercoat layer 14 described later, the surface roughness measured with an optical surface roughness meter is within 5 nm, preferably within 2 nm, with a mean centerline roughness Ra, stylus roughness The protrusion height measured by the meter is within 1 μm, preferably within 0.1 μm. When the undercoat layer 14 is not used, the surface roughness measured with an optical surface roughness meter is within 3 nm, preferably within 1 nm, with an average centerline roughness Ra, and the protrusion measured with a stylus roughness meter The height is within 0.1 μm, preferably within 0.06 μm.

下塗り層１４は、支持体１２の表面の平面性の改善とガスバリア性を目的として設けられる層である。本実施の形態では磁性層２０をスパッタリング等の真空成膜で形成するため、下塗り層１４は耐熱性に優れることが好ましく、下塗り層１４の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコン樹脂、フッ素系樹脂等を使用することができる。熱硬化型ポリイミド樹脂、熱硬化型シリコン樹脂は、平滑化効果が高く、特に好ましい。下塗り層１４の厚みは、０．１μｍ〜３．０μｍが好ましい。支持体１２に他の樹脂フィルムをラミネートする場合には、ラミネート加工前に下塗り層１４を形成してもよく、ラミネート加工後に下塗り層１４を形成してもよい。   The undercoat layer 14 is a layer provided for the purpose of improving the planarity of the surface of the support 12 and gas barrier properties. In this embodiment, since the magnetic layer 20 is formed by vacuum film formation such as sputtering, the undercoat layer 14 is preferably excellent in heat resistance. Examples of the material of the undercoat layer 14 include polyimide resin, polyamideimide resin, silicon Resin, fluorine resin, or the like can be used. Thermosetting polyimide resins and thermosetting silicone resins are particularly preferred because they have a high smoothing effect. The thickness of the undercoat layer 14 is preferably 0.1 μm to 3.0 μm. When another resin film is laminated on the support 12, the undercoat layer 14 may be formed before laminating, or the undercoat layer 14 may be formed after laminating.

熱硬化型ポリイミド樹脂としては、例えば、丸善石油化学社製のビスアリルナジイミド「ＢＡＮＩ」のように、分子内に末端不飽和基を２つ以上有するイミドモノマーを、熱重合して得られるポリイミド樹脂が好適に用いられる。このイミドモノマーは、モノマーの状態で支持体１２の表面に塗布した後に、比較的低温で熱重合させることができるので、原料となるモノマーを支持体１２上に直接塗布して硬化させることができる。また、このイミドモノマーは汎用溶剤に溶解させて使用することができ、生産性、作業性に優れると共に、分子量が小さく、その溶液粘度が低いために、塗布時に凹凸に対する回り込みが良く、平滑化効果が高い。   As the thermosetting polyimide resin, for example, polyimide obtained by thermal polymerization of an imide monomer having two or more terminal unsaturated groups in the molecule, such as bisallyl nadiimide “BANI” manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Resins are preferably used. Since this imide monomer can be thermally polymerized at a relatively low temperature after being applied to the surface of the support 12 in the monomer state, the monomer as a raw material can be directly applied on the support 12 and cured. . In addition, this imide monomer can be used by being dissolved in a general-purpose solvent. It has excellent productivity and workability, has a low molecular weight, and its solution viscosity is low. Is expensive.

熱硬化型シリコン樹脂としては、有機基が導入されたケイ素化合物を原料としてゾルゲル法で重合したシリコン樹脂が好適に用いられる。このシリコン樹脂は、二酸化ケイ素の結合の一部を有機基で置換した構造からなりシリコンゴムよりも大幅に耐熱性に優れると共に、二酸化ケイ素膜よりも柔軟性に優れるため、可とう性高分子からなる支持体１２上に樹脂膜を形成しても、クラックや剥離が生じ難い。また、原料となるモノマーを支持体１２上に直接塗布して硬化させることができるため、汎用溶剤を使用することができ、凹凸に対する回り込みもよく、平滑化効果が高い。更に、縮重合反応は、酸やキレート剤等の触媒の添加により比較的低温から進行するため、短時間で硬化させることができ、汎用の塗布装置を用いて樹脂膜を形成することができる。また、熱硬化型シリコン樹脂はガスバリア性に優れており、磁性層２０の形成時に支持体１２から発生する磁性層２０又は下地層（第１下地層１６及び第２下地層１８）の結晶性、配向性を阻害するガスを遮蔽するガスバリア性が高く、特に好適である。   As the thermosetting silicone resin, a silicone resin polymerized by a sol-gel method using a silicon compound having an organic group introduced as a raw material is preferably used. This silicon resin has a structure in which part of the silicon dioxide bond is substituted with an organic group, and it has significantly better heat resistance than silicon rubber, and more flexible than silicon dioxide film. Even if a resin film is formed on the support 12, cracks and peeling are unlikely to occur. Moreover, since the monomer used as a raw material can be directly applied and cured on the support 12, a general-purpose solvent can be used, the wrap around the unevenness is good, and the smoothing effect is high. Furthermore, since the condensation polymerization reaction proceeds from a relatively low temperature by adding a catalyst such as an acid or a chelating agent, it can be cured in a short time, and a resin film can be formed using a general-purpose coating apparatus. Further, the thermosetting silicone resin is excellent in gas barrier properties, and the crystallinity of the magnetic layer 20 or the base layer (the first base layer 16 and the second base layer 18) generated from the support 12 when the magnetic layer 20 is formed, The gas barrier property that shields the gas that impairs the orientation is high, which is particularly suitable.

磁気記録媒体１０の表面には、磁気ヘッドと磁気ディスクとの真実接触面積を低減し、摺動特性を改善することを目的として、図１に示すように、微小突起（テクスチャ）２８を設けることが好ましい。また、微小突起２８を設けることにより、支持体１２のハンドリング性も良好になる。微小突起２８を形成する方法としては、下塗り層１４上に球状シリカ粒子３０を塗布する方法、エマルジョンを塗布して有機物の突起を形成する方法等が使用できるが、下塗り層１４の耐熱性を確保するため、球状シリカ粒子３０を塗布して微小突起２８を形成するのが好ましい。   As shown in FIG. 1, minute projections (textures) 28 are provided on the surface of the magnetic recording medium 10 for the purpose of reducing the real contact area between the magnetic head and the magnetic disk and improving the sliding characteristics. Is preferred. Moreover, the handling property of the support 12 is improved by providing the minute protrusions 28. As a method for forming the fine protrusions 28, a method of applying spherical silica particles 30 on the undercoat layer 14, a method of forming an organic protrusion by applying an emulsion, and the like can be used, but the heat resistance of the undercoat layer 14 is ensured. Therefore, it is preferable to form the fine protrusions 28 by applying the spherical silica particles 30.

微小突起２８の高さｈは５ｎｍ〜６０ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜３０ｎｍがより好ましい。微小突起２８の高さｈが高すぎると記録再生ヘッドと磁気記録媒体１０のスペーシングロスによって信号の記録再生特性が劣化し、微小突起２８が低すぎると摺動特性の改善効果が少なくなる。微小突起２８の密度は０．１〜１００個／μｍ²が好ましく、１〜１０個／μｍ²がより好ましい。微小突起２８の密度が少なすぎる場合は摺動特性の改善効果が少なくなり、多過ぎると凝集粒子の増加によって高い突起が増加して記録再生特性が劣化する。 The height h of the microprojections 28 is preferably 5 nm to 60 nm, and more preferably 10 nm to 30 nm. If the height h of the microprojections 28 is too high, the signal recording / reproduction characteristics deteriorate due to the spacing loss between the recording / reproducing head and the magnetic recording medium 10, and if the microprojections 28 are too low, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. The density of the microprojections 28 preferably 0.1 to 100 cells / [mu] m ^2, more preferably 1 to 10 / [mu] m ^2. If the density of the fine protrusions 28 is too small, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. If the density is too large, high protrusions are increased due to an increase in aggregated particles, and the recording / reproducing characteristics are deteriorated.

また、バインダーを用いて微小突起２８を支持体１２の表面に固定することもできる。バインダーには、十分な耐熱性を備えた樹脂を使用することが好ましく、耐熱性を備えた樹脂としては、溶剤可溶型ポリイミド樹脂、熱硬化型ポリイミド樹脂、熱硬化型シリコン樹脂を使用することが特に好ましい。   Further, the fine protrusions 28 can be fixed to the surface of the support 12 using a binder. It is preferable to use a resin having sufficient heat resistance for the binder, and as the resin having heat resistance, a solvent-soluble polyimide resin, a thermosetting polyimide resin, or a thermosetting silicone resin should be used. Is particularly preferred.

第１下地層１６及び第２下地層１８は、密着性・ガスバリア性、磁性層２０の結晶配向性を制御するために設けられる層である。第１下地層１６及び第２下地層１８を構成する材料としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｂ、ＮｉＰ及びそれらの酸化物又は窒化物、カーボン、ＮｉＡｌ合金、Ｒｕ、ＲｕＡｌ合金、Ｒｅ、Ｃｒ、Ｃｒ合金等を挙げることができる。第１下地層１６及び第２下地層１８の厚みは５〜５０ｎｍが好ましく、１０〜４０ｎｍがより好ましい。なお、第１下地層１６及び第２下地層１８は必ずしも２層構成に限定されるものではない。   The first underlayer 16 and the second underlayer 18 are layers provided for controlling adhesion, gas barrier properties, and crystal orientation of the magnetic layer 20. Examples of materials constituting the first underlayer 16 and the second underlayer 18 include Si, Ti, Ni, B, NiP and oxides or nitrides thereof, carbon, NiAl alloy, Ru, RuAl alloy, Re, Cr, Cr alloy etc. can be mentioned. The thickness of the first underlayer 16 and the second underlayer 18 is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 10 to 40 nm. The first underlayer 16 and the second underlayer 18 are not necessarily limited to the two-layer configuration.

磁性層２０はハードディスクで一般的に用いられているＣｏＰｔＣｒ系磁性層や室温成膜可能なグラニュラ構造を有する磁性層、人工格子型積層磁性層等を用いることができる。この様な金属薄膜型磁性層を用いることで、高い保持力を達成でき、低ノイズ媒体を達成することができる。   The magnetic layer 20 may be a CoPtCr magnetic layer generally used in hard disks, a magnetic layer having a granular structure that can be formed at room temperature, an artificial lattice type laminated magnetic layer, or the like. By using such a metal thin film type magnetic layer, a high coercive force can be achieved and a low noise medium can be achieved.

具体的にはＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＢ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ−ＳｉＯ₂、ＣｏＰｔＣｒ−ＴｉＯ₂、ＣｏＰｔＣｒ−Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｏＰｔＣｒＢ−ＳｉＯ₂、ＣｏＲｕＣｒ、ＣｏＲｕＣｒ−ＳｉＯ₂、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜、Ｃｏ／Ｐｄ多層膜、等が挙げられるが、その他の磁性層を用いることもできる。 Specifically, CoPtCr, CoPtCrB, CoCr, CoPtCrTa, CoPt, CoPtCr—SiO ₂ , CoPtCr—TiO ₂ , CoPtCr—Cr ₂ O ₃ , CoPtCrB—SiO ₂ , CoRuCr, CoRuCr—SiO ₂ , Co / Pt multilayer film, Co / Pd multilayer film, etc., but other magnetic layers can also be used.

磁性層２０の厚みとしては好ましくは５ｎｍ〜６０ｎｍ、さらに好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲である。これよりも厚みが厚くなると粒成長により磁性粒子の柱間での相互作用が増大し、ノイズの著しい増加を引き起こすとともに、ヘッド−メディア接触時にかかる応力に対する耐性が低いため、走行耐久性の低下を引き起こしてしまう。逆に厚みが薄くなると、出力が著しく減少してしまう。   The thickness of the magnetic layer 20 is preferably in the range of 5 nm to 60 nm, more preferably 5 nm to 30 nm. If the thickness is larger than this, the grain growth increases the interaction between the columns of the magnetic particles, causing a significant increase in noise, and the resistance to stress applied at the time of head-media contact is low. It will cause. Conversely, when the thickness is reduced, the output is significantly reduced.

磁性層２０は、磁化容易軸が支持体１２に対して水平方向に配向している面内磁気記録膜でも、支持体１２に対して垂直方向に配向している垂直磁気記録膜でもかまわない。この磁化容易軸の方向は第１下地層１６及び第２下地層１８の材料や結晶構造及び磁性層の組成と成膜条件によって制御することができる。   The magnetic layer 20 may be an in-plane magnetic recording film having an easy axis of magnetization oriented in the horizontal direction with respect to the support 12 or a perpendicular magnetic recording film oriented in the direction perpendicular to the support 12. The direction of the easy axis of magnetization can be controlled by the materials and crystal structures of the first underlayer 16 and the second underlayer 18, the composition of the magnetic layer, and the film formation conditions.

保護層２２は、磁性層２０に含まれる金属材料の腐蝕を防止し、磁気ヘッドと磁気ディスクとの擬似接触又は接触摺動による摩耗を防止して、走行耐久性、耐食性を改善するために設けられる層である。   The protective layer 22 is provided to prevent corrosion of the metal material contained in the magnetic layer 20, and to prevent wear due to pseudo contact or contact sliding between the magnetic head and the magnetic disk, thereby improving running durability and corrosion resistance. Layer.

保護層２２には、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケル等の酸化物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の窒化物、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物、グラファイト、無定型カーボン等の炭素等の材料を使用することができる。   The protective layer 22 includes oxides such as silica, alumina, titania, zirconia, cobalt oxide and nickel oxide, nitrides such as titanium nitride, silicon nitride and boron nitride, carbides such as silicon carbide, chromium carbide and boron carbide, graphite A material such as carbon such as amorphous carbon can be used.

保護層２２としては、磁気ヘッド材質と同等又はそれ以上の硬度を有する硬質膜であり、摺動中に焼き付きを生じ難くその効果が安定して持続するものが、摺動耐久性に優れており好ましい。また、同時にピンホールが少ないものが、耐食性に優れておりより好ましい。このような材料としては、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）と呼ばれる硬質炭素膜が挙げられる。   The protective layer 22 is a hard film having a hardness equal to or higher than that of the magnetic head material. The protective layer 22 is resistant to seizure during sliding and has a stable effect, and has excellent sliding durability. preferable. At the same time, those having few pinholes are more preferred because they have excellent corrosion resistance. An example of such a material is a hard carbon film called DLC (Diamond Like Carbon).

保護層２２は、性質の異なる２種類以上の薄膜を積層した構成とすることができる。例えば、表面側に摺動特性、耐食性を改善するための硬質炭素窒素保護膜を設け、磁気記録層側に膜硬度を改善するための硬質炭素保護膜を設けることで、耐食性と耐久性とを高い次元で両立することが可能となる。   The protective layer 22 can be configured by laminating two or more types of thin films having different properties. For example, a hard carbon nitrogen protective film for improving sliding characteristics and corrosion resistance is provided on the surface side, and a hard carbon protective film for improving film hardness is provided on the magnetic recording layer side, thereby providing corrosion resistance and durability. It is possible to achieve a high level of compatibility.

潤滑層２４は、走行耐久性及び耐食性を改善するために設けられる層である。潤滑層２４には、公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤等の潤滑剤を使用することができる。   The lubricating layer 24 is a layer provided to improve running durability and corrosion resistance. For the lubricating layer 24, a known lubricant such as a hydrocarbon-based lubricant, a fluorine-based lubricant, or an extreme pressure additive can be used.

炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、ステアリルアミン等のアミン類等が挙げられる。   Hydrocarbon lubricants include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecyl sulfonic acid, phosphate esters such as monooctadecyl phosphate, stearyl alcohol, oleyl alcohol And the like, carboxylic acid amides such as stearamide, and amines such as stearylamine.

フッ素系潤滑剤としては、前記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部又は全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_n、又はこれらの共重合体等である。具体的には、分子量末端に水酸基を有するパーフルオロメチレン−パーフルオロエチレン共重合体（アウジモント社製、商品名「ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＯＬ」）等が挙げられる。 Examples of the fluorine-based lubricant include a lubricant obtained by substituting a part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group. Examples of perfluoropolyether groups include perfluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene oxide polymer, perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _n , perfluoroisopropylene oxide polymer (CF (CF ₃ ) CF ₂ O) _n or a copolymer thereof. Specific examples thereof include a perfluoromethylene-perfluoroethylene copolymer having a hydroxyl group at the molecular weight terminal (trade name “FOMBLIN Z-DOL” manufactured by Augmont Co., Ltd.).

上記の潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用することができる。   The above lubricants can be used alone or in combination.

極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤等が挙げられる。   Extreme pressure additives include phosphate esters such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite, thiophosphites and thiophosphates such as trilauryl trithiophosphite, dibenzyl disulfide And sulfur-based extreme pressure agents such as

以上の潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用することができる。   The above lubricants can be used alone or in combination.

また、耐食性をさらに高めるために、防錆剤を併用することが好ましい。防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類及びこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素及び硫黄含有複素環類及びこの誘導体等が挙げられる。これら防錆剤は、潤滑剤に混合して保護層２２上に塗布してもよく、潤滑剤を塗布する前に保護層２２上に塗布し、その上に潤滑剤を塗布してもよい。防錆剤の塗布量としては、０．１〜１０ｍｇ／ｍ²が好ましく、０．５〜５ｍｇ／ｍ²が特に好ましい。 Moreover, in order to further improve corrosion resistance, it is preferable to use a rust inhibitor together. Examples of rust inhibitors include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine, and pyrimidine, and derivatives in which an alkyl side chain is introduced into the mother nucleus, benzothiazole, 2-mercapton benzothiazole, tetrazaindene. Examples thereof include nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as ring compounds and thiouracil compounds and derivatives thereof. These rust preventives may be mixed with a lubricant and applied on the protective layer 22, or may be applied on the protective layer 22 before applying the lubricant, and the lubricant may be applied thereon. As an application quantity of a rust preventive agent, 0.1-10 mg / m < ² > is preferable and 0.5-5 mg / m < ² > is especially preferable.

磁気テープにおけるバックコート層には、潤滑層２４を用いる潤滑剤や防錆剤を添加することができる。潤滑剤や防錆剤を添加することによって、バックコート層側から磁性層２０側へ潤滑剤や防錆剤が供給されるので、磁性層２０の耐食性を長期間保持することが可能となる。また、バックコート層自体のｐＨを調整することで磁性層２０の耐食性をさらに高めることもできる。バックコート層はカーボンブラック、炭酸カルシウム、アルミナ等の非磁性粉体とポリ塩化ビニルやポリウレタン等の樹脂結合剤、さらに潤滑剤や硬化剤を有機溶剤に分散した溶液をグラビア法やワイヤーバー法等で塗布し、乾燥することで作製できる。バックコート層に防錆剤や潤滑剤を付与する方法としては、前記の溶液中に溶解してもよいし、作製したバックコート層に塗布してもよい。   A lubricant or a rust preventive using the lubricating layer 24 can be added to the back coat layer in the magnetic tape. By adding the lubricant and the rust preventive agent, the lubricant and the rust preventive agent are supplied from the back coat layer side to the magnetic layer 20 side, so that the corrosion resistance of the magnetic layer 20 can be maintained for a long period of time. Further, the corrosion resistance of the magnetic layer 20 can be further improved by adjusting the pH of the backcoat layer itself. The back coat layer is made of a non-magnetic powder such as carbon black, calcium carbonate, or alumina, a resin binder such as polyvinyl chloride or polyurethane, and a solution in which a lubricant or curing agent is dispersed in an organic solvent. It can be prepared by applying and drying. As a method of applying a rust preventive or lubricant to the backcoat layer, it may be dissolved in the above solution or applied to the produced backcoat layer.

このように、本実施の形態に係る磁気記録媒体１０の製造方法及び製造装置５０においては、支持体１２に磁性層２０を形成する前に、支持体１２に対して非接触で除電を行うことを特徴としている。これにより、真空槽５２内で支持体１２への帯電を低減させることができ、真空槽５２内に存在する微粒子等の汚れ（コンタミ）の支持体１２への付着を抑制することができる。   As described above, in the manufacturing method and the manufacturing apparatus 50 of the magnetic recording medium 10 according to the present embodiment, before the magnetic layer 20 is formed on the support 12, the support 12 is neutralized without contact. It is characterized by. Thereby, the charge to the support body 12 can be reduced in the vacuum chamber 52, and adhesion of dirt (contamination) such as fine particles existing in the vacuum chamber 52 to the support body 12 can be suppressed.

また、本実施の形態に係る製造方法及び製造装置５０により得られる磁気記録媒体１０の好ましい形態によれば、磁性層２０として強磁性金属薄膜磁性層を備えているので、ハードディスクのような高記録密度記録が可能となり、高容量化が可能となる。さらに、微小欠陥の発生が低減されるので、高密度記録媒体に適している。   In addition, according to the preferred embodiment of the magnetic recording medium 10 obtained by the manufacturing method and the manufacturing apparatus 50 according to the present embodiment, the magnetic layer 20 includes the ferromagnetic metal thin film magnetic layer, so that high recording such as a hard disk is possible. Density recording is possible, and high capacity can be achieved. Furthermore, since the generation of minute defects is reduced, it is suitable for a high-density recording medium.

ここで、実施例１〜４と比較例１及び２について、欠陥評価及び走行耐久性評価を行った実験例について説明する。   Here, experimental examples in which defect evaluation and running durability evaluation are performed for Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 will be described.

まず、実施例１〜４、比較例１及び２の内容は以下のとおりである。   First, the contents of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 are as follows.

（実施例１）
厚み６３μｍ、表面粗さＲａ＝１．４ｎｍ、長さ３００ｍのポリエチレンナフタレートフィルム上に３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、塩酸、アルミニウムアセチルアセトネート、エタノールからなる下塗り液をグラビアコート法で塗布した後、１００℃で乾燥と硬化を行い、厚み１．０μｍのシリコン樹脂からなる下塗り層１４を作成した。この下塗り層１４上に粒子径２５ｎｍのシリカゾルと前記下塗り液を混合した塗布液をグラビアコート法で塗布して、下塗り層１４上に高さ１５ｎｍの突起を１０個／μｍ²の密度で形成した。この下塗り層１４は支持体１２の両面に形成した。 Example 1
An undercoat liquid composed of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, hydrochloric acid, aluminum acetylacetonate, and ethanol on a polyethylene naphthalate film having a thickness of 63 μm, surface roughness Ra = 1.4 nm, and length of 300 m. After application by the gravure coating method, drying and curing were performed at 100 ° C. to prepare an undercoat layer 14 made of a silicon resin having a thickness of 1.0 μm. A coating liquid obtained by mixing a silica sol having a particle diameter of 25 nm and the above-described undercoat liquid was applied onto the undercoat layer 14 by a gravure coating method to form protrusions with a height of 15 nm on the undercoat layer 14 at a density of 10 / μm ² . . This undercoat layer 14 was formed on both sides of the support 12.

図１に示す製造装置５０の巻き出しロール６０にこの原反を支持体１２として設置し、第１真空室５６ａにＡｒガスを導入した。除電手段６８として、５００ガウス（０．０５Ｔ）の磁場と１５００Ｖの電場を印加したイオンガン７２（図３Ａ及び図３Ｂ参照）により、支持体１２の両面の帯電を除去した。除電後、加熱ロール６６により支持体１２を加熱した。そして、水冷したＲｚ：０．０５μｍの表面性を有する成膜ロール５４上に支持体１２を密着させた状態で搬送し、第１スパッタ装置８２ａを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタ法により下塗り層１４上にＣ（炭素）からなる第１下地層１６を形成した。なお、第１下地層１６の形成は、Ａｒのガス圧が０．１Ｐａの雰囲気中で行い、第１下地層１６の厚みは２０ｎｍとした。   This raw fabric was placed as the support 12 on the unwinding roll 60 of the manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 1, and Ar gas was introduced into the first vacuum chamber 56a. The charge on both surfaces of the support 12 was removed by an ion gun 72 (see FIGS. 3A and 3B) to which a 500 gauss (0.05 T) magnetic field and a 1500 V electric field were applied as the charge eliminating means 68. After the charge removal, the support 12 was heated by the heating roll 66. And it conveys in the state which contacted the support body 12 on the film-forming roll 54 which has the surface property of Rz: 0.05 micrometer cooled by water, and on the undercoat layer 14 by DC magnetron sputtering method using the 1st sputtering device 82a. A first underlayer 16 made of C (carbon) was formed. The first underlayer 16 was formed in an atmosphere where the Ar gas pressure was 0.1 Pa, and the thickness of the first underlayer 16 was 20 nm.

次に、第２真空室５６ｂにおいて、第２スパッタ装置８２ｂを用いて、第１下地層１６上にＲｕからなる第２下地層１８をＡｒ圧：４Ｐａの条件下、２０ｎｍの厚みで形成し、第３真空室５６ｃにおいて、第３スパッタ装置８２ｃを用いて、（Ｃｏ₇₀−Ｐｔ₂₀−Ｃｒ₁₀）₈₈−（ＳｉＯ₂）₁₂からなる磁性層２０をＡｒ圧：３Ｐａの条件下、２０ｎｍの厚みで形成した。さらに、第４真空室５６ｄにおいて磁性層２０をグロー処理した後、第５真空室５６ｅにおいてエチレンガス、窒素ガス、アルゴンガスをＣ：Ｈ：Ｎ＝６２：２９：７ｍｏｌ比となる混合ガスを導入し、ガス圧：０．０６Ｐａの条件下、イオンビームデポジション法により、窒素添加ＤＬＣ保護膜を５ｎｍの厚みで形成し、巻き取りロール６２にて巻き取った。 Next, in the second vacuum chamber 56b, the second underlayer 18 made of Ru is formed on the first underlayer 16 with a thickness of 20 nm under the condition of Ar pressure: 4 Pa, using the second sputtering apparatus 82b. in the third vacuum chamber 56c, with the third sputtering device _{82c, (Co 70 -Pt 20 -Cr} 10) 88 - (SiO 2) ₁₂ magnetic layer 20 consisting of Ar pressure: 3 Pa under the conditions of, 20 nm thickness Formed with. Further, after the magnetic layer 20 is glowed in the fourth vacuum chamber 56d, a mixed gas of ethylene gas, nitrogen gas, and argon gas in a C: H: N = 62: 29: 7 mol ratio is introduced into the fifth vacuum chamber 56e. Then, a nitrogen-added DLC protective film was formed with a thickness of 5 nm by an ion beam deposition method under the condition of gas pressure: 0.06 Pa, and wound up by a winding roll 62.

巻き取った磁気記録材料６４（サンプル）を表裏反対にして、反対面に第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０、保護層２２を形成できるように巻き出しロール６０にセットし、反対面に上記と同様にして第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０、保護層２２を形成した後、巻き取りロール６０にて巻き取った。   The wound magnetic recording material 64 (sample) is turned upside down and set on the unwinding roll 60 so that the first underlayer 16, the second underlayer 18, the magnetic layer 20, and the protective layer 22 can be formed on the opposite side. The first underlayer 16, the second underlayer 18, the magnetic layer 20, and the protective layer 22 were formed on the opposite surface in the same manner as described above, and then taken up with a take-up roll 60.

保護層２２の表面に分子末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤（モンテフルオス社製ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＯＬ）をフッ素系潤滑剤（住友スリーエム社製ＨＦＥ−７２００）に溶解した溶液をグラビアコート法で塗布し、厚み１ｎｍの潤滑層を形成した。この潤滑層２４も磁気記録材料６４（フィルム）の両面に形成した。次に、この原反から３．５ｉｎｃｈサイズのディスクを打ち抜き、これをテープバーニッシュした後、樹脂製カートリッジ（富士写真フイルム社製Ｚｉｐ１００用）に組み込んで、図１に示す層構成を有するフレキシブルディスクを作製した。   A gravure coating method is a solution obtained by dissolving a perfluoropolyether lubricant having a hydroxyl group at the molecular end on the surface of the protective layer 22 (FOMBLIN Z-DOL manufactured by Montefluos) in a fluorine lubricant (HFE-7200 manufactured by Sumitomo 3M). Was applied to form a 1 nm thick lubricating layer. The lubricating layer 24 was also formed on both sides of the magnetic recording material 64 (film). Next, a 3.5 inch sized disk is punched out from the original fabric, and this is burned with tape, and then incorporated into a resin cartridge (for Zip 100 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and a flexible disk having the layer structure shown in FIG. Was made.

（実施例２）
実施例１において、除電手段６８として真空紫外線ランプ７４（図４Ａ及び図４Ｂ参照）を用いた以外は実施例１と同様にフレキシブルディスクを作製した。真空紫外線ランプ７４の照射条件は、Ａｒ圧：０．３Ｐａの条件下、支持体１２の通過時間は２秒間とした。また、支持体１２までの距離（最短距離Ｌｄ：図４Ｂ参照）は１００ｍｍとし、照射強度は３０Ｗとした。 (Example 2)
In Example 1, a flexible disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the vacuum ultraviolet lamp 74 (see FIGS. 4A and 4B) was used as the charge removal means 68. The irradiation condition of the vacuum ultraviolet lamp 74 was Ar pressure: 0.3 Pa, and the passing time of the support 12 was 2 seconds. The distance to the support 12 (shortest distance Ld: see FIG. 4B) was 100 mm, and the irradiation intensity was 30 W.

（実施例３）
支持体１２として厚み９μｍ、表面粗さＲａ＝１．０ｎｍのポリアミドフィルムを用い、一方の面には、実施例１と同様に第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０、保護層２２及び潤滑層２４を設け、他方の面には、第１下地層１６、第２下地層１８、磁性層２０及び保護層２２を設けずに、カーボンブラックからなるバックコート層を形成し、スリッティングし、８ｍｍ幅の磁気テープを作製した。 (Example 3)
A polyamide film having a thickness of 9 μm and a surface roughness Ra = 1.0 nm was used as the support 12, and the first underlayer 16, the second underlayer 18, the magnetic layer 20, and the protective layer were formed on one surface in the same manner as in Example 1. A backcoat layer made of carbon black is formed on the other surface without providing the first underlayer 16, the second underlayer 18, the magnetic layer 20 and the protective layer 22, Slitting was performed to produce a magnetic tape having a width of 8 mm.

（実施例４）
図１に示す製造装置５０において除電手段６８の下流に導電性ロールを設けたものを用いて、支持体１２を除電手段６８により除電した後、導電性ロール（ロール直径：９０ｍｍ、材質：アルミニウム（Ａｌ））を支持体１２に接触させて除電したこと以外は実施例１と同様にフレキシブルディスクを作製した。 Example 4
In the manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 1, the support 12 is neutralized by the static elimination means 68 using a conductive roll provided downstream of the static elimination means 68, and then the conductive roll (roll diameter: 90 mm, material: aluminum ( A flexible disk was prepared in the same manner as in Example 1 except that the electric charge was removed by bringing Al)) into contact with the support 12.

（比較例１）
実施例１において、除電手段６８を設けない製造装置を用いたこと以外は実施例１と同様にフレキシブルディスクを作製した。 (Comparative Example 1)
In Example 1, a flexible disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a manufacturing apparatus without the static eliminating unit 68 was used.

（比較例２）
実施例１において、除電手段６８の代わりに接触式の導電性ロール（ロール直径：９０ｍｍ、材質：Ａｌ）を用いたこと以外は実施例１と同様にフレキシブルディスクを作製した。 (Comparative Example 2)
In Example 1, a flexible disk was produced in the same manner as in Example 1 except that a contact-type conductive roll (roll diameter: 90 mm, material: Al) was used instead of the static elimination means 68.

そして、欠陥評価は、３．５ｉｎｃｈサイズの媒体表面で大きさ１μｍ以上の欠陥数を表面検査装置によって評価した。磁気テープは８ｍｍ×１ｍサイズ当たりの欠陥数を表面検査装置によって評価した。   In the defect evaluation, the number of defects having a size of 1 μm or more on the surface of a 3.5 inch size medium was evaluated by a surface inspection apparatus. The number of defects per 8 mm × 1 m size of the magnetic tape was evaluated by a surface inspection device.

また、走行耐久性評価は、再生トラック幅０．２５μｍ、再生ギャップ０．０９μｍのＧＭＲヘッドを用いて、線記録密度４００ｋＦＣＩの記録再生を繰り返し行いながら走行させ、出力が初期値−３ｄＢとなった時点で走行を中止し、耐久時間とした。なお、環境は２３℃５０％ＲＨとし、試験は最大３００時間とした。   The running durability was evaluated by using a GMR head having a reproduction track width of 0.25 μm and a reproduction gap of 0.09 μm while repeatedly performing recording and reproduction with a linear recording density of 400 kFCI, and the output became an initial value of −3 dB. Traveling was stopped at the time and the endurance time was set. The environment was 23 ° C. and 50% RH, and the test was performed for a maximum of 300 hours.

実験結果を図５に示す。   The experimental results are shown in FIG.

図５の実験結果からわかるように、本実施の形態に従って製造したフレキシブルディスクや磁気テープ（実施例１〜４）は、欠陥数が低いレベルで安定している。また、これらの効果により、走行耐久性も高いレベルで安定しており、製品の生産性が高いことがわかる。   As can be seen from the experimental results in FIG. 5, the flexible disks and magnetic tapes (Examples 1 to 4) manufactured according to the present embodiment are stable at a low number of defects. Also, it can be seen that, due to these effects, the running durability is stable at a high level, and the product productivity is high.

一方、除電手段６８を設けない装置を用いて製造した比較例１、非接触ではなく接触式の導電性ロールのみの除電手段を用いた比較例２は、欠陥数が増加しており、走行耐久性においても、信頼性の高い媒体とはいえないことがわかる。   On the other hand, Comparative Example 1 manufactured using an apparatus without the static elimination means 68, and Comparative Example 2 using only the contact-type conductive rolls, not contactless, have an increased number of defects, and run durability. It can be seen that the medium is not a highly reliable medium.

なお、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   The magnetic recording medium manufacturing method and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention. is there.

本実施の形態に係る製造方法及び製造装置にて製造される磁気記録媒体を一部省略して示す断面図である。It is sectional drawing which abbreviate | omits and shows a part of magnetic recording medium manufactured with the manufacturing method and manufacturing apparatus which concern on this Embodiment. 本実施の形態に係る製造装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the manufacturing apparatus which concerns on this Embodiment. 図３Ａはイオンガンの設置状態を示す斜視図であり、図３Ｂはイオンガンの設置状態を示す側面図である。FIG. 3A is a perspective view showing an installed state of the ion gun, and FIG. 3B is a side view showing an installed state of the ion gun. 図４Ａは真空紫外線ランプの設置状態を示す斜視図であり、図４Ｂは真空紫外線ランプの設置状態を支持体を一部破断して示す側面図である。FIG. 4A is a perspective view showing the installation state of the vacuum ultraviolet lamp, and FIG. 4B is a side view showing the installation state of the vacuum ultraviolet lamp, with the support partially broken. 実施例１〜４、比較例１及び２の欠陥評価及び走行耐久性評価を示す表図である。It is a table | surface which shows the defect evaluation of Examples 1-4 and Comparative Examples 1 and 2, and running durability evaluation.

符号の説明Explanation of symbols

１０…磁気記録媒体 １２…支持体
１４…下塗り層 １６…第１下地層
１８…第２下地層 ２０…磁性層
２２…保護層 ５０…製造装置
５２…真空槽 ６８…除電手段
７２…イオンガン ７４…真空紫外線ランプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Magnetic recording medium 12 ... Support body 14 ... Undercoat layer 16 ... 1st base layer 18 ... 2nd base layer 20 ... Magnetic layer 22 ... Protective layer 50 ... Manufacturing apparatus 52 ... Vacuum tank 68 ... Static elimination means 72 ... Ion gun 74 ... Vacuum ultraviolet lamp

Claims (5)

可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に少なくとも磁性層を真空成膜法により形成する磁性層形成工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁性層形成工程の前に、前記可とう性高分子支持体の除電を非接触で行う除電工程を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 A method for producing a magnetic recording medium comprising a magnetic layer forming step of forming at least a magnetic layer on at least one surface of a flexible polymer support by a vacuum film forming method,
A method for producing a magnetic recording medium, comprising a step of neutralizing the flexible polymer support in a non-contact manner before the magnetic layer forming step. 請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法において、
前記真空成膜法がスパッタ法であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 In the manufacturing method of the magnetic-recording medium of Claim 1,
A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein the vacuum film forming method is a sputtering method. 可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に少なくとも磁性層を有する磁気記録媒体の製造装置であって、
真空槽と、
前記真空槽内に設置されると共に、前記可とう性高分子支持体に対し非接触で除電可能な除電手段とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 An apparatus for producing a magnetic recording medium having at least a magnetic layer on at least one surface of a flexible polymer support,
A vacuum chamber;
An apparatus for producing a magnetic recording medium, comprising: a neutralizing unit that is installed in the vacuum chamber and capable of neutralizing the flexible polymer support without contact. 請求項３記載の磁気記録媒体の製造装置において、
前記除電手段が、イオンを放出する機構を有するイオンガンであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3,
The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, wherein the static elimination means is an ion gun having a mechanism for emitting ions. 請求項３記載の磁気記録媒体の製造装置において、
前記除電手段が、真空紫外線ランプであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3,
The apparatus for producing a magnetic recording medium, wherein the static eliminating means is a vacuum ultraviolet lamp.

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