JPH10298792A - フルオライド類またはフルオライド錯体アニオン類を含有する電解質中での酸素発生用のアノード - Google Patents

フルオライド類またはフルオライド錯体アニオン類を含有する電解質中での酸素発生用のアノード

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JPH10298792A
JPH10298792A JP10107218A JP10721898A JPH10298792A JP H10298792 A JPH10298792 A JP H10298792A JP 10107218 A JP10107218 A JP 10107218A JP 10721898 A JP10721898 A JP 10721898A JP H10298792 A JPH10298792 A JP H10298792A
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anode
titanium
titanium substrate
coating
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JP10107218A
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English (en)
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Antonio Nidola
アントーニオ・ニドラ
Ulderico Nevosi
ウルデリーコ・ネヴォシ
Ruben Jacobo Ornelas
ルーベン・オルネラス・ヤコボ
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De Nora SpA
Original Assignee
De Nora SpA
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    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/091Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
    • C25C7/02Electrodes; Connections thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フルオライド類またはフルオライド錯体アニ
オン類を高濃度においてさえ含有する電解質よりの酸素
発生用のアノードとして使用するのに適した新しい電極
を提供することである。 【解決手段】 本発明のアノードは、フルオライド類の
攻撃作用に抵抗性の保護中間層と酸素発生用の電気触媒
的塗膜とを備えたチタン基板を含む。保護中間層は、所
望により、少量の白金族の金属、金属−セラミック化合
物および金属間化合物をそれ自体または混合酸化物類と
して含有する、タングステンのオキシド類またはオキシ
フルオライド類からなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【従来の技術】電気冶金分野において、適当な電気触媒
的塗膜を備えたチタン基板製の活性化されたチタンアノ
ードの使用は、現在、数種の特殊な用途、例えば、従来
の浴よりのクロムメッキおよび金メッキに限られてい
る。
【0002】活性な塗膜は、これとは別に: (a)白金(主として、電気メッキによって得られ
る)、(b)貴金属酸化物類(主として、熱処理によっ
て得られる)、を基体とすることができる。
【0003】両塗膜とも、フルオライド類またはフルオ
ライド含有アニオン類が存在しない限り、従来の電解質
よりのクロムメッキでたまたま生ずるように、硫酸また
は同様な溶液中で満足に機能し、その場合、鉛アノード
の典型的な電極電位よりも0.5〜1.5V低い電極電
位で、アノード寿命が3年以上にも達する。にもかかわ
らず、これらは、フルオライド類を含有する電解質にお
いては、工業的な応用は全く見られない。事実、少量の
フルオライド類の含量、百万分の一(以降、ppm)の範
囲の少量の含量でさえ、不可逆的に、アノードを不安定
化する(最大寿命数週間のみ)。工業的な電解質の平均
濃度は、1リットル当たり数十ppm〜数グラム/リット
ル(g/l)の間で変化させることができることを心に留め
ておく必要がある。アノードの不安定化は、実質的に、
チタンオキシド類を可溶性とするフルオライド類または
フルオライド錯体アニオン類によって生ずるチタン基板
の腐蝕による。フルオライド類およびフルオライド含有
アニオン類の錯形成作用は、以下のような:Al
6 3-,FeF6 3-,<SiF6 2-<BF4-<HF2 -<F-
の増大順序に従って起こり、酸度と温度とによって促進
される。
【0004】フルオライド類またはフルオライド含有ア
ニオン類の存在は、多くの工業的なプロセスの電解質で
よくあることで、これらは、メッキする金属の特定の性
質を得るためおよびメッキ速度および侵入力を改良する
ために添加されるか、または、浸出無機質によって放出
される。
【0005】
【課題を解決するための手段】電気触媒的塗膜を塗装す
る前に、要求される運転条件下で潜在的に安定な元素ま
たは化合物からなる中間層をその表面に塗装することを
含む前処理にチタンが賦される場合に、フルオライド類
を含有する電解質に適したアノード用の基板としてチタ
ンを使用することが可能であることが判明した。
【0006】中間層特性、(成分および百分率)および
塗膜塗装または形成法についての選択判定基準を表1お
よび表2に報告する。
【0007】
【表1】
【0008】
【表2】
【0009】チタングレード2からなる、40mm×40
mm×2mmの寸法を有する試料が、以下のように: (a)酸化アルミニウム粉末でのサンドブラスト+20
%HCl中での30分間の酸洗いによる表面前処理; (b)保護中間層の塗装;酸素発生用の電気触媒的塗膜
の塗装によって製造される若干の実施例を用いて本発明
をさらに説明する。試料は、工業的なプロセスと同一の
運転条件をシミュレートする電解質中でアノードとして
使用した時に電気化学的な電位を測定し、その結果を従
来技術教示に従い製造した参照試料と比較することによ
って特性づけた。
【0010】
【実施例】実施例 1 従来技術教示に従い製造し、各々、40mm×40mm×2
mmの寸法のNo. 64参照チタン試料を表面前処理に賦し、
続いて、項(a)に上記した処理に賦した。
【0011】ついで、Aによって特定される32個の試
料をTa−Ir(Ir64%モルおよび約同重量)より
なる電気触媒的塗膜で直接活性化し、Bによって特定さ
れる32個の試料にTi−Ta(Ta20%モル)を基
体とする中間層を設け、ついで、Ta−Ir(Ir64
%モル)からなる電気触媒的塗膜を設けた。
【0012】ペイントの組成を以下の表に報告する:
【表3】
【0013】層の組成を以下の表に記載する:
【表4】
【0014】ペイントをハケ塗りすることによって、中
間層を塗装した。所望される負荷(1.0g/m2合計金
属)が得られるまで、塗装を繰り返した。塗装と、続く
塗装との間で、ペイントは、150℃での乾燥に賦し、
続いて、500℃で10〜15分間の強制空気循環下で
のオーブン中での熱分解に賦し、続いて、自然に冷却さ
せた。
【0015】保護中間層上には、また、ハケ塗りまたは
それと等価な技術によって、電気触媒的塗膜を塗装す
る。所望される最終負荷(貴金属として10g/m2)が得
られるまで、塗装を繰り返す。塗装と、続く塗装との間
で、ペイントは、150℃で乾燥に賦し、続いて、50
0℃で10〜15分間の強制空気循環下でのオーブン中
での熱分解に賦し、続いて、自然に冷却させた。
【0016】実施例 2 実施例1の試料と同一の寸法を有する16個の電極試料
を本発明に従い製造し、遷移金属類およびランタニド類
に属する混合酸化物類を基体とする種々の中間層を塗装
した。実施例1に記載したように、試料を前処理(サン
ドブラスト+酸洗い)した。試料は、表2.1にまとめ
て示すように、以下の: (a)選択される元素の前駆体塩類を含有する溶液を熱
分解することによるIIIB族、IVB族、VB族、V
IB族、VIIB族およびランタニド族に属する混合酸
化物類を基体とする中間層の塗装; (b)選択される元素の前駆体塩類を含有する溶液を熱
分解することによるタンタルおよびイリジウム酸化物を
基体とする電気触媒的塗膜の塗装;処理に従い製造し
た。
【0017】
【表5】
【0018】ペイントは、表2.2に記載する。
【0019】
【表6】
【0020】中間層の製造方法は、表2.3に記載す
る。
【0021】
【表7】
【0022】電気触媒的塗膜を塗装するための方法は、
実施例1に記載したと同様であった。
【0023】かくして製造された試料は、表2.4に示
したような工業的な運転条件をシミュレートする4つの
タイプの電解質のアノードとして電気化学的な特性決定
に賦した。各タイプの運転条件については、実施例1に
記載したようにして製造した参照試料を使用し、比較を
行った。
【0024】
【表8】
【0025】特性決定は、 −運転時間の関数としての電極電位を検出し、 −試験の終了時の可能な貴金属の損失を検出し、 −目視検査する、ことを含んでいた。
【0026】その結果は、表2.5にまとめて示す。
【0027】
【表9】
【0028】表2.5に報告した結果は、金属酸化物類
の少量の存在がフルオライド類またはフルオライド錯体
アニオン類を含有する電解質中で不溶性の化合物を形成
し、いずれの運転条件においても本発明の電極の寿命を
長くすることを示す。
【0029】実施例 3 中間層が少量の貴金属を含んでいた以外は、実施例2の
試料と同様の24個の試料は、表3.1に要約して示し
たように、サンドブラストおよび酸洗い後、以下の: (a)選択される元素の前駆体塩を含有する水溶液の熱
分解による少量の貴金属を含有するバルブ金属酸化物類
を基体とする中間層の塗装; (b)前記元素の前駆体塩類を含有する溶液の熱分解に
よって塗装されたタンタルおよびイリジウムの酸化物類
を基体とする電気触媒的塗膜の塗装;処理に従い製造し
た。
【0030】
【表10】
【0031】ペイントは、表3.2に記載する。
【0032】
【表11】
【0033】中間層の製造方法は、表3.3に示す。
【0034】
【表12】
【0035】電気触媒的塗膜を塗装するための方法は、
実施例1に記載したと同様であった。
【0036】かくして、製造された試料は、表3.4に
示すように工業的運転条件をシミュレートする4タイプ
の電解質においてアノードとして電気化学的特性決定に
賦した。各タイプの運転条件について、実施例1に記載
したようにして製造した参照試料を使用し、比較を行っ
た。特に、実施例1に記載したような参照電極に加え、
実施例2の最良の電極試料(つまり、試料2.4)を本
試料と比較した。
【0037】
【表13】
【0038】特性決定は、運転時間の関数として電極電
位を検出すること、試験の終了時に可能な貴金属の損失
を検出すること、および、目視検査を含んでいた。
【0039】その結果は、表3.5にまとめて示す。
【0040】
【表14】
【0041】表3.5の結果の解析は、中間層の貴金属
の存在が主として遷移金属酸化物類からなり、いずれの
タイプの溶液においても本発明の電極の寿命を長くする
という結論を導き出す。
【0042】実施例 4 実施例1の試料と同一の寸法を有する16個の電極試料
を本発明に従い製造し、これらは、クロムおよびクロム
酸化物を基体とする種々の金属−セラミック(サーメッ
ト)中間層を含んでいた。試料は、以下の: −電気クロムメッキ、 −保護金属−セラミック中間層の形成とともに制御され
た酸化、 −続く、タンタルおよびイリジウムを基体とする電気触
媒的塗膜の塗装、の各処理に従い製造した。
【0043】試料の製造法および特性決定は、表4.1
に記載する。
【0044】
【表15】
【0045】かくして製造した試料は、表4.2に示す
ように工業的運転条件をシミュレートする4タイプの電
解質においてアノードとしての電気化学的特性決定に賦
した。各タイプの運転条件については、実施例1に記載
したような従来技術の教示に従い製造した参照試料を使
用し、比較を行った。
【0046】
【表16】
【0047】特性決定は、運転時間の関数として電極電
位を検出すること、試験の終了時に可能な貴金属の損失
を検出すること、および、目視検査を含んでいた。
【0048】その結果は、表4.3にまとめて示す。
【0049】
【表17】
【0050】その結果を解析すると、電気メッキおよび
熱酸化によって得られる本発明の電極は、従来技術のそ
れらのものよりも安定であった。特に、この安定性(耐
蝕性、重量損失および経時電位)は、基質のタイプに応
じて、以下の順序に従い、増大する: Cr < Cr+酸化 < Cr+酸化 < Cr+酸化 1μ 1μ 400℃ 1μ 450℃ 3μ 450℃
【0051】実施例 5 窒化チタン(チタンナイトライドとも称する)を基体と
し、実施例1の試料と同一の寸法を有する種々の中間層
を含む12個の電極試料を実施例1に記載したと同一の
前処理法に従い製造した。
【0052】窒化(Nitridization)は、保護窒化チタン
中間層のin situでの形成によって逐次行われ、つい
で、電気触媒的塗膜が、塗装される(表5.1)。in s
ituでの形成は、反応ガス類の熱分解技術またはイオン
性ガス蒸着によって達成された。
【0053】
【表18】
【0054】かくして製造した試料は、表5.2に示す
ように工業的運転条件をシミュレートする4タイプの電
解質においてアノードとしての電気化学的特性決定に賦
した。各タイプの運転条件については、実施例1に記載
したような従来技術教示に従い製造した参照試料を使用
し、比較を行った。
【0055】
【表19】
【0056】特性決定は、 −運転時間の関数として電位を検出し、 −試験の終了時に可能な貴金属の損失を検出し、 −目視検査する、ことを含んでいた。
【0057】その結果は、表5.3にまとめて示す。
【0058】
【表20】
【0059】その結果の解析は、以下の結論をもたら
す: −本発明の電極は、従来技術の電極よりも安定である; −プラズマジェット蒸着法およびイオン窒化法によって
得られるTiN中間層を含む電極は、全ての運転条件に
おいてより安定である; −ガス(NH)窒化法によって得られるTiN中間層
を含む電極は、フルオライド含量が1,000ppm以
下残存する場合に、これら運転条件において安定であ
る。
【0060】実施例 6 窒化チタン(主成分)およびチタンカーバイド(少量成
分)を含み、実施例1の試料と同一の寸法を有する金属
間化合物を基体として種々の中間層を含む12個の電極
試料を、実施例1に記載したのと同様な前処理法に従い
製造した。活性化は、表6.1に記載したように、逐
次、 −溶融塩(窒化チタンおよびカーバイドの保護層のin s
itu形成)中での熱処理による試料のカルボニトリド
化、 −電気触媒的塗膜の塗装、によって行った。
【0061】
【表21】
【0062】かくして製造した試料は、表6.2に示す
ように工業的運転条件をシミュレートする4タイプの電
解質においてアノードとしての電気化学的特性決定に賦
した。各タイプの運転条件については、実施例1に記載
したような従来技術教示に従い製造した参照試料を使用
し、比較を行った。
【0063】
【表22】
【0064】特性決定は、: −運転時間の関数として電極電位を検出し、 −試験の終了時に可能な貴金属の損失を検出し、 −目視検査する、ことを含んでいた。
【0065】その結果は、表6.3にまとめて示す。
【0066】
【表23】
【0067】その結果の解析は、以下のような考察をも
たらす: −本発明の電極は全て従来技術の電極より安定である; −特に、最良の特性は、溶融塩浴中での最長処理時間で
製造された試料によって記録された。
【0068】実施例 7 平均粒度寸法0.5〜1.5ミクロンを有するタングス
テン粉末のプラズマジェット蒸着法によってタングステ
ンを基体とする中間層を塗装し、寸法40mm×40mm×
2mmを有する18個の電極試料を製造した。ついで、表
7.1に記載したように、電気触媒的塗膜を塗装した。
【0069】
【表24】
【0070】かくして製造した試料は、表7.2に示す
ように工業的運転条件をシミュレートする6タイプの電
解質においてアノードとしての電気化学的特性決定に賦
した。
【0071】
【表25】
【0072】特性決定は、 −運転時間の関数として電極電位を検出し、 −試験の終了時に可能な貴金属の損失を検出し、 −目視検査する、ことを含んでいた。
【0073】その結果は、表7.3にまとめて示す。
【0074】
【表26】
【0075】結果の解析は、本発明に従う試料全てが従
来技術の教示に従い製造されたものよりも安定であり、
特に、タングステン中間層を備えた電極は、先の実施例
の試料が腐蝕される濃フルオロ硼酸またはフルオロケイ
酸浴中でも安定である。
【0076】実施例 8 シリシド、厳密には、タングステンシリシドおよびチタ
ンシリシドを基体とする中間層を、実施例1に記載した
と同様の前処理後に、プラズマジェット蒸着法により塗
装することによって、寸法40mm×40mm×2mmを有す
る36個の電極試料を製造した。ついで、表8.1に記
載するように、電気触媒的塗膜を塗装した。
【0077】
【表27】
【0078】かくして製造した試料は、表8.2に示す
ように工業的運転条件をシミュレートする6タイプの電
解質中でアノードとしての電気化学的特性決定に賦し
た。各タイプの運転条件については、実施例1に記載し
たような従来技術教示に従い製造した若干の参照試料お
よび本発明の実施例2の試料(試料2.4)試料ととも
に比較を行った。
【0079】
【表28】
【0080】特性決定は、 −運転時間の関数として電極電位を検出し、 −試験の終了時に可能な貴金属の損失を検出し、 −目視検査する、ことを含んでいた。
【0081】その結果は、表8.3にまとめて示す。
【0082】
【表29】
【0083】結果の解析は、以下の結論: −本発明に従う試料は、全て、従来技術教示に従い製造
した試料より安定である; −特に、チタンまたはタングステンシリシド中間層を備
えた電極は、先の実施例2の試料が腐蝕する濃フルオロ
硼酸またはフルオロケイ酸浴中でも安定である;という
結論をもたらす。
【0084】上記考察は、本発明の特有の特性および本
発明の幾つかの好ましい実施態様を明暸に示している。
しかし、本発明は、特許請求の範囲の請求項によっての
み制限を受けるものであって、本発明の範囲を逸脱する
ことなくさらなる変更も可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 597007765 Via Bistolfi 35 − 20134 Milan Italy (72)発明者 ルーベン・オルネラス・ヤコボ イタリア国ミラノ,スード・ジュリアー ノ・ミラネーゼ,ヴィア・ゴルキ 20

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 保護中間層と酸素発生用の電気触媒的塗
    膜とを備えたチタン基板を含むフルオライド類を含有す
    る酸溶液を使用する電気化学的なプロセス用のアノード
    において、前記中間層がタングステン製であることを特
    徴とするアノード。
  2. 【請求項2】 保護中間層と酸素発生用の電気触媒的塗
    膜とを備えたチタン基板を含むフルオライド類またはフ
    ルオライド錯体アニオン類を含有する酸溶液を使用する
    電気化学的なプロセス用のアノードにおいて、前記中間
    層が、そのようなものとして、または、クロム、イット
    リウム、セリウム、ランタニド類、チタン、タンタル、
    ニオブの混合酸化物として、酸化物またはオキシフルオ
    ライド類製であることを特徴とするアノード。
  3. 【請求項3】 中間層が、さらに、そのようなものとし
    てまたはそれらの混合物として、少量の白金族金属類を
    含有することを特徴とする、請求項2に記載のアノー
    ド。
  4. 【請求項4】 前記白金族金属類が、白金、パラジウム
    およびイリジウムであることを特徴とする、請求項3に
    記載のアノード。
  5. 【請求項5】 保護中間層と酸素発生用の電気触媒的塗
    膜とを備えたチタン基板を含むフルオライド類またはフ
    ルオライド錯体アニオン類を含有する酸溶液を使用する
    電気化学的なプロセス用のアノードにおいて、前記中間
    層が、金属セラミック混合物製であることを特徴とする
    アノード。
  6. 【請求項6】 前記混合物が、金属成分としてクロム
    を、セラミック成分として酸化クロムを、含有すること
    を特徴とする、請求項5に記載のアノード。
  7. 【請求項7】 保護中間層と酸素発生用の電気触媒的塗
    膜とを備えたチタン基板を含むフルオライド類またはフ
    ルオライド錯体アニオン類を含有する酸溶液を使用する
    電気化学的なプロセス用のアノードにおいて、前記中間
    層が、そのようなものとしてまたはそれらの混合物とし
    て、金属間化合物製であることを特徴とするアノード。
  8. 【請求項8】 前記金属間化合物が、ナイトライド類、
    カーバイド類およびシリシド類からなる群より選択され
    ることを特徴とする、請求項7に記載のアノード。
  9. 【請求項9】 前記金属間化合物が、チタンナイトライ
    ド類、チタンカーバイド類またはチタンシリシド類およ
    びタングステンシリシド類であることを特徴とする、請
    求項8に記載のアノード。
  10. 【請求項10】 請求項2〜請求項4に記載の中間層を
    製造するための方法において、それが、以下の: (a)チタン基板をサンドブラストし、 (b)塩酸中で酸洗いし、 (c)白金、クロム、イットリウム、セリウムおよびラ
    ンタニド類、チタン、および、ニオブの群の金属類の前
    駆体塩類を含有するペイントの塗装を行い、続いて、乾
    燥および空気中での熱分解を行い、塗装、乾燥および熱
    分解の各工程を、所望される厚さを得るために必要とさ
    れる回数繰り返すことによって中間層を形成する、各工
    程を含むことを特徴とする方法。
  11. 【請求項11】 請求項1〜請求項4および請求項7〜
    請求項9の中間層を製造するための方法において、それ
    が、以下の: (a)チタン基板をサンドブラストし、 (b)塩酸中で酸洗いし、 (c)タングステン、金属酸化物類または金属間化合物
    の粉末のプラズマジェット蒸着によって中間層を形成す
    る、各工程を含むことを特徴とする方法。
  12. 【請求項12】 請求項5〜請求項6の中間層を製造す
    るための方法において、それが、以下の: (a)チタン基板をサンドブラストし、 (b)塩酸中で酸洗いし、 (c)金属フィルムを電気メッキし、続いて、空気中で
    制御しつつ酸化することによって中間層を形成する、各
    工程を含むことを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 請求項7〜請求項9の中間層を製造す
    るための方法において、それが、以下の: (a)チタン基板をサンドブラストし、 (b)塩酸中で酸洗いし、 (c)反応体ガスの熱分解またはガスイオン蒸着あるい
    は溶融塩による処理によって中間層を形成する、各工程
    を含むことを特徴とする方法。
  14. 【請求項14】 それが、白金;および、所望により、
    チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニウムの群からなる
    金属類の前駆体塩類を含有するペイントを塗装し、続い
    て、乾燥および空気中で熱分解し、一連の塗装、乾燥お
    よび熱分解を、所望される負荷を達成するのに必要とさ
    れる回数繰り返すことからなる電気触媒的塗膜を形成す
    る最終工程を含むことを特徴とする、請求項10、請求
    項11、請求項12および請求項13の方法。
  15. 【請求項15】 メッキまたは電気冶金プロセスにおけ
    る、請求項1〜請求項9に記載のアノードの使用。
  16. 【請求項16】 前記メッキプロセスが、クロムメッ
    キ、亜鉛メッキ、金メッキ、白金族金属メッキプロセス
    であることを特徴とする、請求項15の使用。
  17. 【請求項17】 前記電気冶金プロセスが、亜鉛および
    第1または第2銅の生産用のプロセスであることを特徴
    とする、請求項15に記載の使用。
JP10107218A 1997-04-18 1998-04-17 フルオライド類またはフルオライド錯体アニオン類を含有する電解質中での酸素発生用のアノード Pending JPH10298792A (ja)

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