JPH10261685A - 基板処理システムおよび基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上方搬送機構部が用いられるクリーンルーム
内において近接配置が可能な基板処理装置および基板処
理システムを提供する。 【解決手段】 基板搬入搬出部Ｄのカセット載置部５の
側面５ａにカセット支持台１０を設ける。カセット支持
台１０は開閉自在に設けられ、開放時に上方搬送機構部
１１から下降される搬送容器１５を支持し、搬送容器１
５内のカセット１６のカセット載置部５への受け渡しを
可能とし、処理済みのカセット１６の搬送容器１５内へ
の収納を可能とする。カセット支持台１０の閉鎖時に
は、カバー部材９の開口部９ａを閉鎖し、基板搬入搬出
部Ｄの内部空間１８内に外気が侵入するのを防止する。
カセット載置台１０は、上部搬送機構部１１の搬送容器
１５の到着に応じて開閉される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板に対して所定を
処理を行う基板処理装置および当該基板処理装置に対し
て上方から基板収納容器の受け渡しを行う上方搬送機構
部を備えた基板処理システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示用ガラス基板、
フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等
の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用い
られている。例えば、半導体デバイスの製造プロセスで
は、生産効率を高めるために、一連の処理の各々をユニ
ット化し、複数のユニットを統合した基板処理装置が用
いられている。

【０００３】一般的に、基板処理装置は、処理領域、搬
送領域および基板搬入搬出領域を有している。処理領域
には、基板に処理液の塗布処理を行う回転式塗布ユニッ
ト、基板の現像処理を行う回転式現像ユニットおよび基
板に加熱または冷却処理を行う加熱または冷却ユニット
等が配置されている。また、搬送領域には、基板を搬送
する搬送ユニットが配置されている。

【０００４】さらに、基板搬入搬出領域は、処理領域お
よび搬送領域の一端部側に配設され、外部から搬送され
るカセットを支持するカセット載置部およびカセットと
搬送ユニットとの間で基板の受け渡しを行う移載ロボッ
トとを備えている。

【０００５】基板処理装置には、複数枚の基板を収納し
たカセットが外部から搬送され、カセット載置部に載置
される。そして、移載ロボットがカセット内の基板を順
次取り出し、搬送ユニットに引渡し、所定の処理ユニッ
トに供給する。また、処理済みの基板は搬送ユニットか
ら移載ロボットに引き渡され、カセット内に収納され
る。カセット内のすべての基板の処理が終了すると、終
了済みのカセットが外部に引き渡される。

【０００６】基板処理装置へのカセットの搬送は、作業
者あるいは自動搬送装置により行われる。特に、自動搬
送装置は、複数のカセットを保持して所定の経路に沿っ
て自動で搬走し、カセットを所定の基板処理装置のカセ
ット載置部に載置し、また処理済みのカセットを基板処
理装置のカセット載置部から受け取り、次の工程へ搬送
する。

【０００７】最近では、基板が大径化してきており、こ
れに伴って基板処理装置が大型化する傾向にある。この
ため、クリーンルーム内に基板処理装置を効率良く配置
する必要性が高まっている。これに対し、カセットの自
動搬送装置を使用する場合、自動搬送装置の搬走路を基
板処理装置間に設ける必要があり、基板処理装置間の設
置間隔を低減させる妨げとなる。

【０００８】そこで、カセットを基板処理装置の上方空
間を利用して搬送することが提案されている。図３は、
上方搬送機構部により基板処理装置にカセットを搬送す
る動作の説明図である。上方搬送機構部１１は、基板処
理装置２０の上方において所定の方向に延びるレール１
２と、レール１２に沿って移動可能な搬送部１３および
カセット１６を収納する搬送容器１５および搬送容器１
５を保持するワイヤ１４を備える。

【０００９】上方搬送機構部１１は、カセット１６を収
納した搬送容器１５の上端を保持し、基板処理装置２０
の上方に搬送容器１５を保持した状態で水平方向に移動
し、所定の基板処理装置２０の上方に達すると、ワイヤ
１４を伸張し、搬送容器１５を下降させる。

【００１０】一方、基板処理装置２０には、搬送容器１
５内のカセット１６を受け取るためのカセットステージ
２１が設けられている。搬送容器１５はこのカセットス
テージ２１上に載置され、カセット取り出し装置（図示
せず）により搬送容器１５内からカセット１６が取り出
される。その後、搬送容器１５は上昇し、搬送部１３に
よってレール１２に沿って次の場所に移動する。

【００１１】この上方搬送機構部１１を用いた場合、カ
セット１６は基板処理装置２０の上方を移動するため、
隣接する基板処理装置２０間には自動搬送装置の搬走路
を設ける必要がなくなる。このために、隣接する基板処
理装置２０間を近接して配置することが可能となる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板処
理装置２０間の自動搬送装置の搬走路を省略できる一方
で、基板処理装置２０に新たなカセットステージ２１を
設ける必要が生じる。このため、カセットステージ２１
によって、隣接配置される基板処理装置２０の間隔を低
減することが抑制され、カセットの上方搬送機構部１１
を用いた長所が低減されるおそれがある。

【００１３】本発明の目的は、上方搬送機構が用いられ
るクリーンルーム内においても近接配置が可能な基板処
理装置および当該基板処理装置を備えた基板処理システ
ムを提供することである。

【００１４】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理システムは、基板を収納した基板収
納容器を室内の上方に配置されたレールに沿って搬送す
る搬送機構部と、搬送機構部との間で受け渡される基板
収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬出部を備
えた基板処理装置とを有し、基板処理装置は、基板収納
容器を一時的に支持するとともに基板搬入搬出部から外
方に突出した位置と基板搬入搬出部に収納された位置と
を移動可能な支持部材を有するものである。

【００１５】本発明に係る基板処理システムにおいて
は、基板搬入搬出部に対して移動可能な支持部材を設
け、支持部材上に基板収納容器を一時的に載置可能に構
成されている。このため、基板処理装置の上方から搬送
される基板収納容器を支持部材上に一時的に支持して基
板処理装置への搬入を可能とし、また処理済みの基板収
納容器を支持部材上に支持し、上方の搬送機構部に引き
渡すことにより、基板処理装置から搬送機構部への搬出
動作を可能としている。

【００１６】さらに、基板収納容器の受け渡しが終了す
ると、支持部材が基板搬入搬出部に収納される。このた
め、基板処理装置の平面占有面積が増大することが防止
され、クリーンルーム内に設置される場合の省スペース
化を図ることができる。

【００１７】第２の発明に係る基板処理装置は、基板を
収納した基板収納容器を室内の上方に配設されたレール
に沿って搬送する搬送機構部とともに室内に設置される
基板処理装置であって、基板に対して所定の処理を行う
処理部と、基板収納容器を支持する載置面を有する基板
搬入搬出部と、基板搬入搬出部の載置面上の空間を取り
囲むとともに開口部を有するカバー部材と、カバー部材
の開口部を開放するように基板搬入搬出部から外方に突
出した位置と、カバー部材の開口部を閉鎖するように基
板搬入搬出部に収納された位置との間で開閉する支持部
材とを備えたものである。

【００１８】この場合、支持部材を基板搬入搬出部から
突出した位置に取り出すことにより、この支持部材を利
用して搬送機構部と基板処理装置との間で基板収納容器
を受け渡すことができる。基板収納容器の受け渡し作業
が終了すると、支持部材は基板搬入搬出部に収納され
る。これにより、基板処理装置の平面占有面積が増大す
ることが防止され、クリーンルーム内に配置される際の
省スペース化を図ることができる。

【００１９】また、支持部材が収納された状態では、カ
バー部材とともに基板搬入搬出部の載置面上の空間をほ
ぼ密閉状態にすることができる。これにより、当該空間
内に外部から汚染された気流が侵入することが防止さ
れ、内部雰囲気を清浄な状態に保持することができる。

【００２０】第３の発明に係る基板処理装置は、第２の
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送機構部に
よって搬送される基板収納容器の到着を検出する検出手
段をさらに備え、支持部材が、検出手段からの出力に応
じて開閉移動するものである。

【００２１】この場合、支持部材の開閉動作が基板収納
容器の到着に応じて自動的に行われることにより、基板
収納容器の受け渡しを効率的に行うことができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施例による
基板処理システムの斜視図である。図１において、基板
処理システムは、基板処理装置および上方搬送機構部を
有する。

【００２３】基板処理装置は処理領域Ａ，Ｂ、搬送領域
Ｃおよび基板搬入搬出部Ｄを有する。処理領域Ａ，Ｂは
搬送領域Ｃの両側に配置され、基板搬入搬出部Ｄは、処
理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃの一端部側に配置されて
いる。

【００２４】処理領域Ａは、下から上へ順に配置された
第１の階層Ａ１、第２の階層Ａ２、第３の階層Ａ３、お
よび第４の階層Ａ４を含む。同様に、処理領域Ｂは、下
から上へ順に配置された第１の階層，第２の階層、第３
の階層および第４の階層を含む。

【００２５】処理領域Ａの第１の階層Ａ１には各種処理
液（薬液）、廃液、ポンプおよび排気系を収納する化学
系ユニット１が配置されている。第２の階層Ａ２には、
複数の回転処理系ユニット、例えば回転式塗布ユニット
２ａが配置されている。

【００２６】第３の階層Ａ３には，ＵＬＰＡ（Ｕｌｔｒ
ａ Ｌｏｗ Ｐｅｎｅｔｒａｔｉｏｎ Ａｉｒ）フィル
タ、化学吸着フィルタ等のフィルタおよびファンからな
る複数の空気調整ユニット３が配置されている。第４の
階層Ａ４には、基板に冷却処理をおこなう冷却ユニット
ＣＰおよび基板に加熱処理をおこなう加熱ユニットＨＰ
等の熱処理系ユニットが複数段配置されている。

【００２７】また、処理領域Ｂの第１の階層には化学系
ユニット１が配置され、第２の階層には、回転処理系ユ
ニット、例えば回転式現像ユニットが配置されている。
第３の階層には、複数の空気調整ユニットが配置され、
第４の階層には複数の熱処理系ユニットが配置されてい
る。

【００２８】搬送領域Ｃには、基板Ｗを搬送する搬送ユ
ニットが処理領域Ａ，Ｂに沿って水平移動可能かつ上下
動可能に設けらている。

【００２９】基板搬入搬出部Ｄは下から上へ順に３つの
階層が構成されている。基板搬入搬出部Ｄの下部の階層
には複数のカセット１６を所定位置に保持するカセット
載置部５およびカセット１６と搬送ユニットとの間で基
板Ｗの受け渡しを行う移載ロボットが配置された搬送部
６が配設されている。

【００３０】また、カセット載置部５と電気的制御ユニ
ット８との間には、載置面５ｂ上の空間を取り囲むカバ
ー部材９が取り付けられている。

【００３１】中間の階層には、フィルタおよびファンか
らなる空気調整ユニット７が配置され、上部の階層には
電気的制御ユニット８が配置されている。

【００３２】カセット載置部５は、複数、図示の例では
４個のカセット（基板収納容器）１６を載置する載置面
５ｂを有している。

【００３３】カセット載置部５の側面５ａには、上方搬
送機構部１１により搬送される搬送容器１５を一時的に
支持するカセット支持台１０が設けられている。

【００３４】基板処理装置の上方には、上方搬送機構部
１１が設けられている。上方搬送機構部１１は、クリー
ンルーム内の上方に配置されたレール１２と、レール１
２に沿って移動可能な搬送部１３と、カセット１６を内
部に保持する搬送容器１５と、搬送容器１５を保持し、
昇降移動させるためのワイヤ１４とを備える。

【００３５】図２は、基板処理装置の搬入搬出部の側部
断面図である。カセット支持台１０は平板状に形成さ
れ、カセット載置部５の側面５ａの上端に設けられた回
動軸１０ａを中心に開閉自在に形成されている。カセッ
ト支持台１０が閉じられた状態では、カセット支持台１
０が基板搬入搬出部Ｄのカバー部材９に設けられた開口
部９ａを閉塞する。これにより、カバー部材９とカセッ
ト支持台１０により基板搬入搬出部Ｄの内部空間１８が
ほぼ密閉される。そして、内部空間１８の上方に配置さ
れたファン１７ａおよびフォルタ１７ｂからなる空気調
整ユニット１７から清浄な空気流が内部空間１８内に流
動され、内部空間１８が清浄な雰囲気に保持される。

【００３６】また、カセット支持台１０が開放された状
態において、カセット支持台１０の支持面１０ｂは水平
姿勢に保持される。カセット載置部５にはカセット支持
台１０を開閉移動させる回動機構部（図示せず）を備え
ている。回動機構部としては、カセット支持台１０を回
転軸１０ａの回りで回動させるためのリンク機構および
その駆動源となるモータあるいはシリンダを含む。

【００３７】さらに、カセット支持台１０の支持面１０
ｂに搬送された搬送容器１５内からカセット１６を取り
出し、カセット載置部５上のカセット載置面上に移動さ
せるカセット移動機構部が配設されている。

【００３８】上方搬送機構部１１は、複数枚の処理前基
板を収納したカセット１６を搬送容器１５に収納し、搬
送容器１５を吊り下げて保持し、レール１２に沿って所
定の基板処理装置の上方へ移動する。そして、基板処理
装置に対して搬送容器１５の到達を通信する。基板処理
装置では、搬送容器１５の到着を知らせる信号を受け取
ると、カセット支持台１０の回動機構部を駆動し、カセ
ット支持台１０を閉鎖状態から開放状態に回動させる。

【００３９】カセット支持台１０が開放され、支持面１
０ｂが水平姿勢で保持されると、上方搬送機構部１１の
搬送部１３が搬送容器１５を下降し、カセット支持台１
０の支持面１０ｂ上に搬送容器１５を載置する。そし
て、搬送容器１５の前面が開放され、カセット移動機構
部により搬送容器１５内のカセット１６がカセット載置
部５の載置面５ａに取り出される。

【００４０】その後、搬送部１３により搬送容器１５が
上昇され、カセット１６の基板搬入搬出部Ｄへの搬入動
作が終了する。カセット１６の搬入が終了すると、カセ
ット支持台１０が閉鎖される。

【００４１】また、基板搬入搬出部Ｄから処理済みのカ
セット１６を取り出す場合には、カセット移動機構部が
カセット１６をカセット載置部５の載置面５ｂから搬送
容器１５の内部へ移動させる動作を除き、上記のほぼ同
様の動作が行われる。

【００４２】このように、上記の実施例による基板処理
装置は、基板処理装置に対してカセット１６が搬入され
る場合および処理済みのカセット１６を搬出する場合の
み、一時的にカセット支持台１０を開放する。このた
め、クリーンルーム内に基板処理装置を配置する場合、
上方搬送機構部１１からのカセット１６の搬送容器１５
の受台を新たに配置するスペースを考慮する必要がなく
なり、基板処理装置を近接して配置することができる。
これによってクリーンルーム内の省スペース化を図るこ
とができる。

【００４３】さらに、カセット支持台１０を閉鎖した状
態では、基板搬入搬出部Ｄの内部空間１８がほぼ密閉さ
れる。これにより、内部空間１８を清浄な雰囲気に保持
することができる。

【００４４】なお、上記実施例において、カセット支持
台１０を開閉させる機構としては特に限定されるもので
はなく、周知の開閉機構および駆動装置を適用すること
ができる。

【００４５】また、上方搬送機構部１１による搬送容器
１５の到着を検知する手段として、センサを基板処理装
置に設けてもよい。

【００４６】さらに、カセット支持台１０の形状も平板
状に限定されるものではなく、カバー９の開口部９ａを
閉鎖することが可能でかつ搬送容器１５を支持する支持
面１０ｂを有するものであれば他の形状のものでもよ
い。

【００４７】さらに、上記実施例における基板搬入搬出
部Ｄが備えられる基板処理装置の構造としては、図１に
示す処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃを有するものに限
定されるものではなく、他の構成を有するものであって
もよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による基板処理システムの斜視
図である。

【図２】基板処理装置の基板搬入搬出部の側部断面図で
ある。

【図３】従来の上方搬送機構部によるカセットの受け渡
し動作の説明図である。

【符号の説明】

５ カセット載置部 ７ 空気調整ユニット ９ カバー部材 ９ａ 開口部 １０ カセット支持台 １０ａ 回動軸 １０ｂ 支持面 １１ 上方搬送機構部

フロントページの続き (72)発明者 辻 雅夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 岩見 優樹 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 讓一 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 森田 彰彦 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 和浩 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を収納した基板収納容器を室内の上
   方に配設されたレールに沿って搬送する搬送機構部と、 前記搬送機構部との間で受け渡される前記基板収納容器
   を支持する載置面を有する基板搬入搬出部を備えた基板
   処理装置とを有し、 前記基板処理装置は、前記基板収納容器を一時的に支持
   するとともに前記基板搬入搬出部から外方に突出した位
   置と前記基板搬入搬出部に収納された位置とを移動可能
   な支持部材を有することを特徴とする基板処理システ
   ム。
2. 【請求項２】 基板を収納した基板収納容器を室内の上
   方に配設されたレールに沿って搬送する搬送機構部とと
   もに前記室内に設置される基板処理装置であって、 基板に対して所定の処理を行う処理部と、 前記基板収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬
   出部と、 前記基板搬入搬出部の前記載置面上の空間を取り囲むと
   ともに開口部を有するカバー部材と、 前記基板収納容器を一時的に支持するとともに、前記カ
   バー部材の前記開口部を開放するように前記基板搬入搬
   出部から外方に突出した位置と、前記カバー部材の前記
   開口部を閉鎖するように前記基板搬入搬出部に収納され
   た位置との間で開閉する支持部材とを備えたことを特徴
   とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 前記搬送機構部によって搬送される前記
   基板収納容器の到着を検出する検出手段をさらに備え、 前記支持部材は、前記検出手段からの出力に応じて開閉
   移動することを特徴とする請求項２記載の基板処理装
   置。