JPH10247677A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH10247677A JPH10247677A JP4944297A JP4944297A JPH10247677A JP H10247677 A JPH10247677 A JP H10247677A JP 4944297 A JP4944297 A JP 4944297A JP 4944297 A JP4944297 A JP 4944297A JP H10247677 A JPH10247677 A JP H10247677A
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- chamber
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理室内と基板の搬送室との間で雰囲気ガス
の侵入が生じることのない基板処理装置を提供する。 【解決手段】 円筒状の搬送室30の内部に未処理の基
板を搬送する基板保持部62を収納する基板収納室40
aと処理済みの基板を搬送する基板保持部を収納する基
板収納室40bとを収納する。搬送部30の上面には吸
気口34が形成され、下面には排気口35が形成され、
清浄な空気が搬送室30の内部を下方に流動する。搬送
室30の周囲には、複数の処理室11が配置される。処
理室11の開口部16と基板収納室40a,40bの基
板出入口41a,41bとの間には中間低圧部Aが介在
する。中間低圧部Aは処理室11および基板収納室40
a,40b内の圧力よりも低い圧力に設定されている。
の侵入が生じることのない基板処理装置を提供する。 【解決手段】 円筒状の搬送室30の内部に未処理の基
板を搬送する基板保持部62を収納する基板収納室40
aと処理済みの基板を搬送する基板保持部を収納する基
板収納室40bとを収納する。搬送部30の上面には吸
気口34が形成され、下面には排気口35が形成され、
清浄な空気が搬送室30の内部を下方に流動する。搬送
室30の周囲には、複数の処理室11が配置される。処
理室11の開口部16と基板収納室40a,40bの基
板出入口41a,41bとの間には中間低圧部Aが介在
する。中間低圧部Aは処理室11および基板収納室40
a,40b内の圧力よりも低い圧力に設定されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理ユニット
および基板搬送ユニットを備えた基板処理装置に関す
る。
および基板搬送ユニットを備えた基板処理装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を
行うために複数の処理室を備えた基板処理装置が用いら
れている。基板処理装置の各処理室で処理される基板は
周囲の雰囲気に大きな影響を受けるので、処理室内は清
浄な状態に保たれる。
板、フォトマスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を
行うために複数の処理室を備えた基板処理装置が用いら
れている。基板処理装置の各処理室で処理される基板は
周囲の雰囲気に大きな影響を受けるので、処理室内は清
浄な状態に保たれる。
【0003】処理室内で処理された基板を直ちに大気中
に搬出すると、処理された基板が大気の影響を受けるこ
とになる。また、処理室内に基板を搬入する際には、処
理室内に基板とともに大気が侵入し、処理室の内部が汚
染される。そこで、処理室の基板の出入口に密閉空間で
ある搬送室を接続し、搬送室内に窒素等の不活性ガスを
充填し、あるいは真空に保持しておくことにより、処理
室への基板の搬入および搬出時ならびに搬送工程におけ
る基板の汚染を防止している。
に搬出すると、処理された基板が大気の影響を受けるこ
とになる。また、処理室内に基板を搬入する際には、処
理室内に基板とともに大気が侵入し、処理室の内部が汚
染される。そこで、処理室の基板の出入口に密閉空間で
ある搬送室を接続し、搬送室内に窒素等の不活性ガスを
充填し、あるいは真空に保持しておくことにより、処理
室への基板の搬入および搬出時ならびに搬送工程におけ
る基板の汚染を防止している。
【0004】図12は複数の処理室および搬送室を備え
た従来の基板処理装置の一例を示す平面図である。
た従来の基板処理装置の一例を示す平面図である。
【0005】図12の基板処理装置では、基板搬送ユニ
ット110の周囲に3つの基板処理ユニット101およ
び2つの受け渡し室(ロードロック)120が放射状に
接続されている。各基板処理ユニット101は、本体部
102およびその本体部102上に設けられた処理室1
03により構成される。処理室103内で基板に対する
所定の処理が行われる。本体部102には、駆動機構、
処理液供給用配管および排気用配管が内蔵される。
ット110の周囲に3つの基板処理ユニット101およ
び2つの受け渡し室(ロードロック)120が放射状に
接続されている。各基板処理ユニット101は、本体部
102およびその本体部102上に設けられた処理室1
03により構成される。処理室103内で基板に対する
所定の処理が行われる。本体部102には、駆動機構、
処理液供給用配管および排気用配管が内蔵される。
【0006】基板搬送ユニット110は搬送室111を
有する。搬送室111内には、2つの基板保持部113
を有する搬送機構112が設けられている。搬送機構1
12は、受け渡し室120と処理室103との間および
処理室103間で基板を搬送する。
有する。搬送室111内には、2つの基板保持部113
を有する搬送機構112が設けられている。搬送機構1
12は、受け渡し室120と処理室103との間および
処理室103間で基板を搬送する。
【0007】搬送室111と各処理室103との間に
は、ガスの流通を遮断可能なゲートバルブ140が設け
られ、搬送室111と受け渡し室120との間にも、同
様にガスの流通を遮断可能なゲートバルブ150が設け
られている。また、受け渡し室120には、外部との間
で基板を搬入および搬出するためのゲートバルブ160
が設けられている。
は、ガスの流通を遮断可能なゲートバルブ140が設け
られ、搬送室111と受け渡し室120との間にも、同
様にガスの流通を遮断可能なゲートバルブ150が設け
られている。また、受け渡し室120には、外部との間
で基板を搬入および搬出するためのゲートバルブ160
が設けられている。
【0008】各処理室103、搬送室111および受け
渡し室120内は、予め減圧下に保たれ、あるいはN2
等の不活性ガスにより大気圧または準大気圧下でパージ
され、清浄な雰囲気に保たれている。
渡し室120内は、予め減圧下に保たれ、あるいはN2
等の不活性ガスにより大気圧または準大気圧下でパージ
され、清浄な雰囲気に保たれている。
【0009】処理前の基板は一方の受け渡し室120内
に搬入される。基板の搬送時には、搬送室111と受け
渡し室120との間のゲートバルブ150が開かれる。
搬送室111内の搬送機構112は、基板保持部113
を伸張して受け渡し室120内の基板を受け取った後、
1つの処理室103に搬送する。処理室103内で処理
された基板は、搬送機構112により他の処理室103
または他方の受け渡し室120に搬送される。あるい
は、同様の処理が並行して行われる。処理が終了した基
板は、受け渡し室120から外部に搬出される。
に搬入される。基板の搬送時には、搬送室111と受け
渡し室120との間のゲートバルブ150が開かれる。
搬送室111内の搬送機構112は、基板保持部113
を伸張して受け渡し室120内の基板を受け取った後、
1つの処理室103に搬送する。処理室103内で処理
された基板は、搬送機構112により他の処理室103
または他方の受け渡し室120に搬送される。あるい
は、同様の処理が並行して行われる。処理が終了した基
板は、受け渡し室120から外部に搬出される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の基板処理
装置においては、搬送室111および各処理室103の
内部を不活性ガスで大気圧または準大気圧下でパージ
し、清浄な雰囲気を保つようにされている。一方、搬送
室111内では、基板の搬入時における外部からの異物
の侵入や、処理済み基板からのパーティクルの発生を完
全に防止することが困難であり、このために搬送室11
1内に下降流(ダウンフロー)を生じさせてパーティク
ルを下方側へ排出することが行われている。そして、こ
の下降流によって、搬送室111内の圧力は各処理室1
03内の圧力よりも低くなっている。
装置においては、搬送室111および各処理室103の
内部を不活性ガスで大気圧または準大気圧下でパージ
し、清浄な雰囲気を保つようにされている。一方、搬送
室111内では、基板の搬入時における外部からの異物
の侵入や、処理済み基板からのパーティクルの発生を完
全に防止することが困難であり、このために搬送室11
1内に下降流(ダウンフロー)を生じさせてパーティク
ルを下方側へ排出することが行われている。そして、こ
の下降流によって、搬送室111内の圧力は各処理室1
03内の圧力よりも低くなっている。
【0011】しかしながら、搬送室111の内部圧力は
変動する場合がある。そのため、例えば、処理室103
との間のゲートバルブ140が開放された際に、搬送室
111側の圧力が処理室103内の圧力よりも高い場合
には、搬送室111側からパーティクルを含む気流が処
理室103内に流れ込み、処理室103内の処理雰囲気
を乱し、基板を汚染するおそれがある。
変動する場合がある。そのため、例えば、処理室103
との間のゲートバルブ140が開放された際に、搬送室
111側の圧力が処理室103内の圧力よりも高い場合
には、搬送室111側からパーティクルを含む気流が処
理室103内に流れ込み、処理室103内の処理雰囲気
を乱し、基板を汚染するおそれがある。
【0012】一方、処理室103内の圧力に対して搬送
室111内の圧力が低過ぎる場合には、処理室103側
から処理雰囲気が搬送室111側に流れ込み、処理前の
基板あるいは処理済みの基板に悪影響を及ぼすおそれが
ある。
室111内の圧力が低過ぎる場合には、処理室103側
から処理雰囲気が搬送室111側に流れ込み、処理前の
基板あるいは処理済みの基板に悪影響を及ぼすおそれが
ある。
【0013】本発明の目的は、処理室内と基板の搬送室
内との間で雰囲気ガスの侵入が生じることのない基板処
理装置を提供することである。
内との間で雰囲気ガスの侵入が生じることのない基板処
理装置を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板処理装置は、基板を搬入および搬出する
ための開口部を有しかつ基板に所定の処理を行う処理室
を備えた基板処理ユニットと、基板処理ユニットの処理
室に対して基板を搬入および搬出する基板搬送ユニット
とを備え、基板搬送ユニットは、基板を保持して基板処
理ユニットの処理室内に開口部を通して移動可能に設け
られた基板保持部と、基板保持部が通過可能な基板出入
口を有しかつ基板保持部を収納する基板収納室とを備
え、少なくとも基板収納室の基板出入口と処理室の開口
部との間に、基板収納室内および処理室内よりも圧力の
低い領域が形成されたものである。
発明に係る基板処理装置は、基板を搬入および搬出する
ための開口部を有しかつ基板に所定の処理を行う処理室
を備えた基板処理ユニットと、基板処理ユニットの処理
室に対して基板を搬入および搬出する基板搬送ユニット
とを備え、基板搬送ユニットは、基板を保持して基板処
理ユニットの処理室内に開口部を通して移動可能に設け
られた基板保持部と、基板保持部が通過可能な基板出入
口を有しかつ基板保持部を収納する基板収納室とを備
え、少なくとも基板収納室の基板出入口と処理室の開口
部との間に、基板収納室内および処理室内よりも圧力の
低い領域が形成されたものである。
【0015】本発明に係る基板処理装置においては、基
板収納室の基板出入口と処理室の開口部との間に基板収
納室内および処理室内よりも圧力の低い領域を形成する
ことにより、基板出入口から漏洩する基板収納室内の雰
囲気ガスは圧力の低い領域に吸引され、処理室の内部に
侵入することが防止される。一方、開口部から漏洩する
処理室内の雰囲気ガスは圧力の低い領域に吸引され、基
板収納室内に侵入することが防止される。このため、基
板収納室に収納された基板が処理室の開口部から漏出し
た雰囲気ガスにさらされて汚染されることが防止され、
また基板収納室内に浮遊するパーティクルを含む雰囲気
ガスが処理室内に侵入し、処理雰囲気の均一性を乱した
り、侵入したパーティクルにより基板が汚染されること
が防止される。
板収納室の基板出入口と処理室の開口部との間に基板収
納室内および処理室内よりも圧力の低い領域を形成する
ことにより、基板出入口から漏洩する基板収納室内の雰
囲気ガスは圧力の低い領域に吸引され、処理室の内部に
侵入することが防止される。一方、開口部から漏洩する
処理室内の雰囲気ガスは圧力の低い領域に吸引され、基
板収納室内に侵入することが防止される。このため、基
板収納室に収納された基板が処理室の開口部から漏出し
た雰囲気ガスにさらされて汚染されることが防止され、
また基板収納室内に浮遊するパーティクルを含む雰囲気
ガスが処理室内に侵入し、処理雰囲気の均一性を乱した
り、侵入したパーティクルにより基板が汚染されること
が防止される。
【0016】第2の発明に係る基板処理装置は、第1の
発明に係る基板処理装置の構成において、基板搬送ユニ
ットが、基板収納室を取り囲み、基板保持部が通過可能
な開口部を有する搬送室をさらに備え、圧力の低い領域
が、搬送室の内部でかつ基板収納室の外部に設けられた
ものである。
発明に係る基板処理装置の構成において、基板搬送ユニ
ットが、基板収納室を取り囲み、基板保持部が通過可能
な開口部を有する搬送室をさらに備え、圧力の低い領域
が、搬送室の内部でかつ基板収納室の外部に設けられた
ものである。
【0017】この場合、搬送室の内部に圧力の低い領域
を設けることにより、基板の搬入搬出時に搬送室の開口
部を通して連通される収納室と基板収納室との間で互い
の雰囲気ガスの侵入が妨げられ、それによって処理室内
の基板の汚染あるいは基板収納室内に収納された基板の
汚染が防止される。
を設けることにより、基板の搬入搬出時に搬送室の開口
部を通して連通される収納室と基板収納室との間で互い
の雰囲気ガスの侵入が妨げられ、それによって処理室内
の基板の汚染あるいは基板収納室内に収納された基板の
汚染が防止される。
【0018】第3の発明に係る基板処理装置は、第2の
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送室が、搬
送室内に雰囲気ガスを取り込む給気口と、搬送室内の雰
囲気ガスを排出する排気口とを備えたものである。これ
により、給気口から排気口に向かう雰囲気ガスの気流を
生じさせることにより圧力の低い領域を形成し、それに
よって処理室と基板収納室との間の雰囲気ガスの侵入を
妨げることができる。
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送室が、搬
送室内に雰囲気ガスを取り込む給気口と、搬送室内の雰
囲気ガスを排出する排気口とを備えたものである。これ
により、給気口から排気口に向かう雰囲気ガスの気流を
生じさせることにより圧力の低い領域を形成し、それに
よって処理室と基板収納室との間の雰囲気ガスの侵入を
妨げることができる。
【0019】第4の発明に係る基板処理装置は、第1〜
第3のいずれの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板搬送ユニットが、基板処理室内に雰囲気ガスを
供給する供給経路と、基板収納室内の雰囲気ガスを排気
する排気経路とをさらに備えたものである。
第3のいずれの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板搬送ユニットが、基板処理室内に雰囲気ガスを
供給する供給経路と、基板収納室内の雰囲気ガスを排気
する排気経路とをさらに備えたものである。
【0020】これにより、基板収納室内に雰囲気ガスの
気流を生じさせて基板処理室内に発生するパーティクル
等を排出するとともに基板処理室内を所定の圧力に保持
することができる。
気流を生じさせて基板処理室内に発生するパーティクル
等を排出するとともに基板処理室内を所定の圧力に保持
することができる。
【0021】第5の発明に係る基板処理装置は、第2〜
第4のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板処理ユニットは基板搬送ユニットの周囲に複数
配置され、基板搬送ユニットの搬送室は鉛直方向の軸を
中心とする円筒状の外周面を有し、基板処理ユニットの
各処理室は搬送室の円筒状の外周面に接する部分円筒状
の側面を有し、開口部が部分円筒状の側面に設けられ、
搬送室が鉛直方向の軸の周りで回動可能に設けられたも
のである。
第4のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板処理ユニットは基板搬送ユニットの周囲に複数
配置され、基板搬送ユニットの搬送室は鉛直方向の軸を
中心とする円筒状の外周面を有し、基板処理ユニットの
各処理室は搬送室の円筒状の外周面に接する部分円筒状
の側面を有し、開口部が部分円筒状の側面に設けられ、
搬送室が鉛直方向の軸の周りで回動可能に設けられたも
のである。
【0022】この場合、基板搬送ユニットの搬送室を鉛
直方向の軸の周りで回動させることにより各基板処理ユ
ニットの処理室の開口部を開閉することができる。それ
により、基板処理ユニットの処理室の開口部および基板
搬送ユニットの搬送室の開口部を簡単な構造で開閉する
ことが可能となる。
直方向の軸の周りで回動させることにより各基板処理ユ
ニットの処理室の開口部を開閉することができる。それ
により、基板処理ユニットの処理室の開口部および基板
搬送ユニットの搬送室の開口部を簡単な構造で開閉する
ことが可能となる。
【0023】第6の発明に係る基板処理装置は、第4ま
たは第5の発明に係る基板処理装置の構成において、基
板保持部が基板収納室内から処理室側に移動する際には
基板収納室内に供給される雰囲気ガスの流量が増加し、
基板保持部が処理室側から基板収納室内に移動する際に
は基板収納室内に供給される雰囲気ガスの流量が減少す
るように雰囲気ガスの流量を制御する制御手段をさらに
備えたものである。
たは第5の発明に係る基板処理装置の構成において、基
板保持部が基板収納室内から処理室側に移動する際には
基板収納室内に供給される雰囲気ガスの流量が増加し、
基板保持部が処理室側から基板収納室内に移動する際に
は基板収納室内に供給される雰囲気ガスの流量が減少す
るように雰囲気ガスの流量を制御する制御手段をさらに
備えたものである。
【0024】この場合、基板保持部が基板収納室から処
理室側に移動する際に基板収納室内に供給する雰囲気ガ
スの流量を増加させて基板収納室内の圧力の低下を防止
する。これにより、基板収納室の外部から基板収納室の
内部に汚染物を含む気流が侵入することが防止される。
一方、基板保持部が処理室側から基板収納室内に復帰す
る際には基板収納室内に供給する雰囲気ガスの流量を減
少することにより、基板処理室内から雰囲気ガスが外方
に押し出されて処理室内に侵入することが防止される。
これにより、処理室内に侵入した基板収納室からの雰囲
気ガスによって処理室内の雰囲気が乱され、かつ基板収
納室内で発生したパーティクルにより処理室内の基板が
汚染されることが防止される。
理室側に移動する際に基板収納室内に供給する雰囲気ガ
スの流量を増加させて基板収納室内の圧力の低下を防止
する。これにより、基板収納室の外部から基板収納室の
内部に汚染物を含む気流が侵入することが防止される。
一方、基板保持部が処理室側から基板収納室内に復帰す
る際には基板収納室内に供給する雰囲気ガスの流量を減
少することにより、基板処理室内から雰囲気ガスが外方
に押し出されて処理室内に侵入することが防止される。
これにより、処理室内に侵入した基板収納室からの雰囲
気ガスによって処理室内の雰囲気が乱され、かつ基板収
納室内で発生したパーティクルにより処理室内の基板が
汚染されることが防止される。
【0025】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例における
基板処理装置の平面図、図2は図1の基板処理装置の横
断面図、図3は図1の基板処理装置の部分縦断面図であ
る。また、図4は図1の基板処理装置における1つの基
板処理ユニットの斜視図、図5は図1の基板処理装置に
おける基板搬送ユニットの主要部の斜視図である。
基板処理装置の平面図、図2は図1の基板処理装置の横
断面図、図3は図1の基板処理装置の部分縦断面図であ
る。また、図4は図1の基板処理装置における1つの基
板処理ユニットの斜視図、図5は図1の基板処理装置に
おける基板搬送ユニットの主要部の斜視図である。
【0026】図1の基板処理装置は、3つの基板処理ユ
ニット1、搬入室2a、搬出室2b、基板搬送ユニット
3、2つの制御系ユニット4、および2つの薬液供給系
ユニット5を備える。3つの基板処理ユニット1、搬入
室2aおよび搬出室2bは鉛直方向の中心軸Sの周りに
放射状に配置され、これらの基板処理ユニット1の外側
に制御系ユニット4および薬液供給系ユニット5が配置
されている。
ニット1、搬入室2a、搬出室2b、基板搬送ユニット
3、2つの制御系ユニット4、および2つの薬液供給系
ユニット5を備える。3つの基板処理ユニット1、搬入
室2aおよび搬出室2bは鉛直方向の中心軸Sの周りに
放射状に配置され、これらの基板処理ユニット1の外側
に制御系ユニット4および薬液供給系ユニット5が配置
されている。
【0027】図3に示すように、基板処理ユニット1
は、本体部10およびその本体部10上に設けられた処
理室11からなる。本体部10は、モータ等の駆動機
構、処理液供給用配管および排気用配管を内蔵する。処
理室11内には、薬液、洗浄液等の処理液の飛散を防止
するためのカップ13が上下動自在に設けられている。
は、本体部10およびその本体部10上に設けられた処
理室11からなる。本体部10は、モータ等の駆動機
構、処理液供給用配管および排気用配管を内蔵する。処
理室11内には、薬液、洗浄液等の処理液の飛散を防止
するためのカップ13が上下動自在に設けられている。
【0028】処理室11のカップ13の内部には、基板
Wを水平姿勢で保持して回転させる回転保持部12が配
設されている。この回転保持部12は、本体部10内の
モータにより回転駆動される。また、処理室1内には、
カップ13内の基板Wに薬液を供給するためのノズル
(図示せず)、基板Wに純水を供給するためのノズル
(図示せず)、基板Wの表面を洗浄するためのブラシ
(図示せず)等が設けられている。本実施例では、基板
処理ユニット1は、基板に薬液洗浄処理、水洗処理およ
び乾燥処理を行う。
Wを水平姿勢で保持して回転させる回転保持部12が配
設されている。この回転保持部12は、本体部10内の
モータにより回転駆動される。また、処理室1内には、
カップ13内の基板Wに薬液を供給するためのノズル
(図示せず)、基板Wに純水を供給するためのノズル
(図示せず)、基板Wの表面を洗浄するためのブラシ
(図示せず)等が設けられている。本実施例では、基板
処理ユニット1は、基板に薬液洗浄処理、水洗処理およ
び乾燥処理を行う。
【0029】図4に示すように、処理室11の1つの角
部には円弧状凹部14が形成され、本体部10上面の外
周部側の一部領域である隅部の1/4円形領域18上に
1/4円柱状空間19が形成されている。したがって、
3つの基板処理ユニット1を1/4円形領域18が近接
するように中心軸Sの周りに配置することにより、中央
部に円弧状凹部14で囲まれる円柱状空間20が形成さ
れる(図2および図3参照)。
部には円弧状凹部14が形成され、本体部10上面の外
周部側の一部領域である隅部の1/4円形領域18上に
1/4円柱状空間19が形成されている。したがって、
3つの基板処理ユニット1を1/4円形領域18が近接
するように中心軸Sの周りに配置することにより、中央
部に円弧状凹部14で囲まれる円柱状空間20が形成さ
れる(図2および図3参照)。
【0030】また、1/4円柱状空間19の下方におけ
る本体部10の1つの角部に鉛直方向の面取り部15が
形成されている。これにより、図3に示すように、3つ
の基板処理ユニット1の本体部10の中央部に、面取り
部15で囲まれる排気用通路80が形成される。排気通
路80は、工場内の排気ラインに接続される。
る本体部10の1つの角部に鉛直方向の面取り部15が
形成されている。これにより、図3に示すように、3つ
の基板処理ユニット1の本体部10の中央部に、面取り
部15で囲まれる排気用通路80が形成される。排気通
路80は、工場内の排気ラインに接続される。
【0031】図5に示すように、基板搬送ユニット3は
円筒状の搬送室30を有する。この搬送室30は、水平
方向に配置された搬送室支持アーム31により上部から
吊り下げられている。搬送室30の上面には複数の給気
口34が形成され、下面中央部には排気口35が形成さ
れている。
円筒状の搬送室30を有する。この搬送室30は、水平
方向に配置された搬送室支持アーム31により上部から
吊り下げられている。搬送室30の上面には複数の給気
口34が形成され、下面中央部には排気口35が形成さ
れている。
【0032】搬送室30内には、第1の円筒状支持部材
50、第2の円筒状支持部材51および2つの基板収納
室40a,40bが配設されている。第1の円筒状支持
部材50は、搬送室支持アーム31の下面に鉛直軸の周
りで矢印θの方向に回転可能に取り付けられている。搬
送室30は第1の円筒状支持部材50に固定され、第1
の円筒状支持部材50とともに矢印θの方向に回転可能
となっている。また、第2の円筒状支持部材51は、第
1の円筒状支持部材50の下部に矢印Zの方向(鉛直方
向)に移動可能に取り付けられている。
50、第2の円筒状支持部材51および2つの基板収納
室40a,40bが配設されている。第1の円筒状支持
部材50は、搬送室支持アーム31の下面に鉛直軸の周
りで矢印θの方向に回転可能に取り付けられている。搬
送室30は第1の円筒状支持部材50に固定され、第1
の円筒状支持部材50とともに矢印θの方向に回転可能
となっている。また、第2の円筒状支持部材51は、第
1の円筒状支持部材50の下部に矢印Zの方向(鉛直方
向)に移動可能に取り付けられている。
【0033】第2の円筒状支持部材51の下部に基板収
納室40aが固定され、基板収納室40aの下部に基板
収納室40bが固定されている。これにより、2段に配
置された基板収納室40a,40bが搬送室30の内部
で鉛直軸の周りで回転し、かつ上下方向に移動すること
ができる。
納室40aが固定され、基板収納室40aの下部に基板
収納室40bが固定されている。これにより、2段に配
置された基板収納室40a,40bが搬送室30の内部
で鉛直軸の周りで回転し、かつ上下方向に移動すること
ができる。
【0034】この搬送室30は、図2および図3に示す
ように、3つの処理室11の円弧状凹部14で囲まれる
円柱状空間20内に挿入される。
ように、3つの処理室11の円弧状凹部14で囲まれる
円柱状空間20内に挿入される。
【0035】図3に示すように、搬送室支持アーム31
は鉛直方向に延びるアーム支持部33を介して図1のア
ーム駆動部32に取り付けられている。アーム駆動部3
2は薬液供給系ユニット5上に設けられている。このア
ーム駆動部32は、アーム支持部33を上下方向に駆動
させるとともに搬送室支持アーム31を鉛直軸Pの周り
で回動させる。それにより、搬送室支持アーム31の下
部に取り付けられた搬送室30を上方に移動させるとと
もに、上方に移動した搬送室30を鉛直軸Pの周りで回
動させて基板処理装置の外方に移動させることができ
る。
は鉛直方向に延びるアーム支持部33を介して図1のア
ーム駆動部32に取り付けられている。アーム駆動部3
2は薬液供給系ユニット5上に設けられている。このア
ーム駆動部32は、アーム支持部33を上下方向に駆動
させるとともに搬送室支持アーム31を鉛直軸Pの周り
で回動させる。それにより、搬送室支持アーム31の下
部に取り付けられた搬送室30を上方に移動させるとと
もに、上方に移動した搬送室30を鉛直軸Pの周りで回
動させて基板処理装置の外方に移動させることができ
る。
【0036】図2および図3に示すように、各処理室1
1の円弧状凹部14には、処理室11に対して基板の搬
入および搬出を行うための開口部16が形成されてい
る。また、搬送室30には、基板の搬入および搬出を行
うための1つの開口部36が形成されている。
1の円弧状凹部14には、処理室11に対して基板の搬
入および搬出を行うための開口部16が形成されてい
る。また、搬送室30には、基板の搬入および搬出を行
うための1つの開口部36が形成されている。
【0037】図2に示すように、搬入室2a内には基板
受け渡し台21aが設けられ、搬出室2bには同様に基
板受け渡し台21bが設けられている。搬送室30に接
する搬入室2aの側面には、搬入室2aから搬送室30
内へ基板を搬入するための開口部22aが形成されてい
る。搬送室30に接する搬出室2bの側面には、搬送室
30から搬出室2bへ基板を搬出するための開口部22
bが形成されている。なお、これらの搬入室2aおよび
搬出室2bには、それぞれ基板を搬入および搬出するた
めのゲートバルブ(図示せず)が設けられている。
受け渡し台21aが設けられ、搬出室2bには同様に基
板受け渡し台21bが設けられている。搬送室30に接
する搬入室2aの側面には、搬入室2aから搬送室30
内へ基板を搬入するための開口部22aが形成されてい
る。搬送室30に接する搬出室2bの側面には、搬送室
30から搬出室2bへ基板を搬出するための開口部22
bが形成されている。なお、これらの搬入室2aおよび
搬出室2bには、それぞれ基板を搬入および搬出するた
めのゲートバルブ(図示せず)が設けられている。
【0038】各処理室11の開口部16、搬入室2aの
開口部22a、搬出室2bの開口部22bおよび搬送室
30の開口部36は同じ高さに配置されている。本実施
例では、搬送室30を鉛直軸の周りで回動させることに
より各処理室11の開口部16、搬入室2aの開口部2
2aおよび搬出室2bの開口部22bを開閉することが
できる。
開口部22a、搬出室2bの開口部22bおよび搬送室
30の開口部36は同じ高さに配置されている。本実施
例では、搬送室30を鉛直軸の周りで回動させることに
より各処理室11の開口部16、搬入室2aの開口部2
2aおよび搬出室2bの開口部22bを開閉することが
できる。
【0039】図6は基板搬送ユニット1の搬送室30の
縦断面図、図7は基板搬送ユニット1の搬送室30の横
断面図である。
縦断面図、図7は基板搬送ユニット1の搬送室30の横
断面図である。
【0040】図6に示すように、基板収納室40a内に
水平移動機構部60aが設けられ、基板収納室40b内
に水平移動機構部60bが設けられている。水平移動機
構部60a,60bは、水平移動機構を内蔵する収納ボ
ックス61および基板Wを保持する基板保持部62を備
える。
水平移動機構部60aが設けられ、基板収納室40b内
に水平移動機構部60bが設けられている。水平移動機
構部60a,60bは、水平移動機構を内蔵する収納ボ
ックス61および基板Wを保持する基板保持部62を備
える。
【0041】図7に示すように、収納ボックス61の上
面には、矢印Xの方向に延びる2本の案内溝65が設け
られている。基板保持部62は、案内溝65に沿って水
平方向(矢印X方向)に前進および後退可能に収納ボッ
クス61上に取り付けられている。
面には、矢印Xの方向に延びる2本の案内溝65が設け
られている。基板保持部62は、案内溝65に沿って水
平方向(矢印X方向)に前進および後退可能に収納ボッ
クス61上に取り付けられている。
【0042】基板収納室40aの前面には、水平移動機
構部60aの基板保持部62が通過可能な基板出入口4
1aが形成されている。同様に、基板収納室40bの前
面には、水平移動機構部60bの基板保持部62が通過
可能な基板出入口41bが形成されている。搬送室30
の開口部36は、これらの基板収納室40a,40bの
開口部41a,41bに対応する位置に配置されてい
る。
構部60aの基板保持部62が通過可能な基板出入口4
1aが形成されている。同様に、基板収納室40bの前
面には、水平移動機構部60bの基板保持部62が通過
可能な基板出入口41bが形成されている。搬送室30
の開口部36は、これらの基板収納室40a,40bの
開口部41a,41bに対応する位置に配置されてい
る。
【0043】基板収納室40aの上面には雰囲気ガス供
給口42aが設けられ、下面には排気口43aが設けら
れている。同様に、基板収納室40bの上面には雰囲気
ガス供給口42bが設けられ、下面には排気口43bが
設けられている。雰囲気ガスとしては、例えばN2 等の
不活性ガスが用いられる。後述するように、排気口43
a,43bは、それぞれ水平移動機構部60a,60b
の収納ボックス61の内部に連通している。
給口42aが設けられ、下面には排気口43aが設けら
れている。同様に、基板収納室40bの上面には雰囲気
ガス供給口42bが設けられ、下面には排気口43bが
設けられている。雰囲気ガスとしては、例えばN2 等の
不活性ガスが用いられる。後述するように、排気口43
a,43bは、それぞれ水平移動機構部60a,60b
の収納ボックス61の内部に連通している。
【0044】雰囲気ガス供給口42aから基板収納室4
0a内に雰囲気ガスが供給され、排気口43aから収納
ボックス61の内部を通して基板収納室40a内の排気
が行われる。また、雰囲気ガス供給口42bから基板収
納室40b内に雰囲気ガスが供給され、排気口43bか
ら収納ボックス61の内部を通して基板収納室40b内
の排気が行われる。
0a内に雰囲気ガスが供給され、排気口43aから収納
ボックス61の内部を通して基板収納室40a内の排気
が行われる。また、雰囲気ガス供給口42bから基板収
納室40b内に雰囲気ガスが供給され、排気口43bか
ら収納ボックス61の内部を通して基板収納室40b内
の排気が行われる。
【0045】また、搬送室30内の上部には、空気清浄
用のフィルタ37が設けられている。上部から供給され
る清浄な空気の下方流(ダウンフロー)500は、搬送
室30の上面の給気口34およびフィルタ37を通過し
て搬送室30内に取り込まれ、搬送室30の下面の排気
口35から下方に排出され、図3の排気通路80を通っ
て工場内の排気ラインに導かれる。一方、処理室11お
よび基板収納室40a,40b内には所定の雰囲気ガス
が供給される。このとき、処理室11内の圧力および基
板収納室40a,40b内の圧力は搬送室30内の圧力
よりも高く保たれる。それにより、搬送室30内の基板
収納室40a,40bの周囲に中間低圧部Aが形成され
る。
用のフィルタ37が設けられている。上部から供給され
る清浄な空気の下方流(ダウンフロー)500は、搬送
室30の上面の給気口34およびフィルタ37を通過し
て搬送室30内に取り込まれ、搬送室30の下面の排気
口35から下方に排出され、図3の排気通路80を通っ
て工場内の排気ラインに導かれる。一方、処理室11お
よび基板収納室40a,40b内には所定の雰囲気ガス
が供給される。このとき、処理室11内の圧力および基
板収納室40a,40b内の圧力は搬送室30内の圧力
よりも高く保たれる。それにより、搬送室30内の基板
収納室40a,40bの周囲に中間低圧部Aが形成され
る。
【0046】したがって、処理室11内から開口部1
6,36を通して搬送室30内へ向かう気流の流れが形
成されるとともに、基板収納室40a,40b内から基
板出入口41a,41bを通して搬送室30内へ向かう
気流の流れが形成されるので、処理室11内および基板
収納室40a,40b内が清浄な雰囲気ガスの状態に保
たれる。
6,36を通して搬送室30内へ向かう気流の流れが形
成されるとともに、基板収納室40a,40b内から基
板出入口41a,41bを通して搬送室30内へ向かう
気流の流れが形成されるので、処理室11内および基板
収納室40a,40b内が清浄な雰囲気ガスの状態に保
たれる。
【0047】このように、中間低圧部Aを設けることに
より、搬送室30内を密閉空間とすることなく基板の搬
入および搬出時に処理室11内を清浄な雰囲気に保つこ
とができ、かつ基板収納室40a,40bの基板出入口
41a,41bに開閉自在なシャッタを設けることなく
基板収納室40a,40b内を清浄な雰囲気に保つこと
が可能となる。その結果、基板搬送ユニット3の構成が
簡単になる。
より、搬送室30内を密閉空間とすることなく基板の搬
入および搬出時に処理室11内を清浄な雰囲気に保つこ
とができ、かつ基板収納室40a,40bの基板出入口
41a,41bに開閉自在なシャッタを設けることなく
基板収納室40a,40b内を清浄な雰囲気に保つこと
が可能となる。その結果、基板搬送ユニット3の構成が
簡単になる。
【0048】図8は基板収納室40a内に設けられる水
平移動機構部60aの平面図、図9は図8の水平移動機
構部60aの縦断面図である。
平移動機構部60aの平面図、図9は図8の水平移動機
構部60aの縦断面図である。
【0049】収納ボックス61の上面に形成された2本
の案内溝65内には、支持部材66が矢印Xの方向に移
動可能に設けられている。基板保持部62は、支持部材
66の上端に水平に固定されている。基板保持部62上
に基板支持部63,64が設けられている。基板保持部
62上に載置された基板Wは、これらの基板支持部6
3,64間に支持される。
の案内溝65内には、支持部材66が矢印Xの方向に移
動可能に設けられている。基板保持部62は、支持部材
66の上端に水平に固定されている。基板保持部62上
に基板支持部63,64が設けられている。基板保持部
62上に載置された基板Wは、これらの基板支持部6
3,64間に支持される。
【0050】収納ボックス61内には、軸受け70およ
びモータ71が所定の間隔を隔てて配置されている。軸
受け70およびモータ71に取り付けられたプーリ6
8,69間にベルト72が架け渡されている。このベル
ト72に支持部材66の一部が取り付けられている。こ
れにより、モータ71が回転すると、基板保持部62が
矢印Xの方向に前進および後退する。
びモータ71が所定の間隔を隔てて配置されている。軸
受け70およびモータ71に取り付けられたプーリ6
8,69間にベルト72が架け渡されている。このベル
ト72に支持部材66の一部が取り付けられている。こ
れにより、モータ71が回転すると、基板保持部62が
矢印Xの方向に前進および後退する。
【0051】収納ボックス61の下面には、図6に示し
た排気口43aに嵌合する排気孔73が設けられてい
る。したがって、雰囲気ガス供給口42aから基板収納
室40a内に供給される雰囲気ガスは、案内溝65から
収納ボックス61の内部に導入され、排気孔73を通し
て排気口43aから排出される。これにより、収納ボッ
クス61内の摺動部分から発生するパーティクル(塵
埃)が収納ボックス61から基板収納室40a内に排出
されずに雰囲気ガスとともに排気口43aから排気さ
れ、基板Wへのパーティクルの付着が防止される。
た排気口43aに嵌合する排気孔73が設けられてい
る。したがって、雰囲気ガス供給口42aから基板収納
室40a内に供給される雰囲気ガスは、案内溝65から
収納ボックス61の内部に導入され、排気孔73を通し
て排気口43aから排出される。これにより、収納ボッ
クス61内の摺動部分から発生するパーティクル(塵
埃)が収納ボックス61から基板収納室40a内に排出
されずに雰囲気ガスとともに排気口43aから排気さ
れ、基板Wへのパーティクルの付着が防止される。
【0052】なお、基板収納室40b内に設けられる水
平移動機構部60bの構成も図8および図9に示される
構成と同様である。
平移動機構部60bの構成も図8および図9に示される
構成と同様である。
【0053】図10は基板搬送ユニット3の主要部の縦
断面図である。なお、図10には、搬送室30および搬
送室40a,40b内の水平移動機構部60a,60b
は図示されていない。
断面図である。なお、図10には、搬送室30および搬
送室40a,40b内の水平移動機構部60a,60b
は図示されていない。
【0054】搬送室支持アーム31は、固定フレーム3
01および固定カバー302により構成される。固定フ
レーム301に、フランジ303および軸受け304を
介して回転部材501が鉛直軸の周りで回転可能に取り
付けられている。回転部材501の下部には第1の円筒
状支持部材50が固定されている。搬送室30は第1の
円筒状支持部材50に固定される。
01および固定カバー302により構成される。固定フ
レーム301に、フランジ303および軸受け304を
介して回転部材501が鉛直軸の周りで回転可能に取り
付けられている。回転部材501の下部には第1の円筒
状支持部材50が固定されている。搬送室30は第1の
円筒状支持部材50に固定される。
【0055】固定フレーム301上に回動用モータ30
5が取り付けられている。また、回転部材501の外周
部にギア308が設けられている。回動用モータ305
の回転軸に取り付けられたプーリ306とギア308と
の間にベルト307が架け渡されている。回動用モータ
305が回転すると、プーリ306、ベルト307およ
びギア308を介して回転部材501が第1の円筒状支
持部材50とともに鉛直軸の周りで矢印θの方向に回転
駆動される。
5が取り付けられている。また、回転部材501の外周
部にギア308が設けられている。回動用モータ305
の回転軸に取り付けられたプーリ306とギア308と
の間にベルト307が架け渡されている。回動用モータ
305が回転すると、プーリ306、ベルト307およ
びギア308を介して回転部材501が第1の円筒状支
持部材50とともに鉛直軸の周りで矢印θの方向に回転
駆動される。
【0056】回転部材501の上部には、上下移動用モ
ータ309が取り付けられている。上下移動用モータ3
09の回転軸310には、カップリング311によりボ
ールねじ312が連結されている。ボールねじ312
は、軸受け313により回転自在に鉛直方向に沿って案
内されている。軸受け313はナット314により固定
されている。
ータ309が取り付けられている。上下移動用モータ3
09の回転軸310には、カップリング311によりボ
ールねじ312が連結されている。ボールねじ312
は、軸受け313により回転自在に鉛直方向に沿って案
内されている。軸受け313はナット314により固定
されている。
【0057】また、回転部材501の下面には、板状部
材502が鉛直方向に固定されている。板状部材502
には、鉛直方向に延びる2本のリニアガイド503が取
り付けられている。一方、第2の円筒状支持部材51内
には、移動部材511が固定されている。移動部材51
1は2本のリニアガイド503に嵌合する2本の案内溝
512を有し、リニアガイド503に沿って鉛直方向に
摺動自在に案内されている。移動部材511の上端には
ナット513が固定されている。このナット513には
ボールねじ312が螺合する。これにより、上下移動用
モータ309の回転軸310が回転すると、ボールねじ
312も回転し、移動部材511が第2の円筒状支持部
材51とともに矢印Zの方向に移動する。
材502が鉛直方向に固定されている。板状部材502
には、鉛直方向に延びる2本のリニアガイド503が取
り付けられている。一方、第2の円筒状支持部材51内
には、移動部材511が固定されている。移動部材51
1は2本のリニアガイド503に嵌合する2本の案内溝
512を有し、リニアガイド503に沿って鉛直方向に
摺動自在に案内されている。移動部材511の上端には
ナット513が固定されている。このナット513には
ボールねじ312が螺合する。これにより、上下移動用
モータ309の回転軸310が回転すると、ボールねじ
312も回転し、移動部材511が第2の円筒状支持部
材51とともに矢印Zの方向に移動する。
【0058】このようにして、基板収納室40a,40
bが、鉛直軸の周りで回動可能かつ鉛直方向に移動可能
に第1および第2の円筒状支持部材50,51により搬
送室支持アーム31の下部に支持されている。
bが、鉛直軸の周りで回動可能かつ鉛直方向に移動可能
に第1および第2の円筒状支持部材50,51により搬
送室支持アーム31の下部に支持されている。
【0059】基板収納室40a内の雰囲気ガス供給口4
2aは、配管44a、第1および第2の円筒状支持部材
50,51内の雰囲気ガス供給チューブ52aおよび搬
送室支持アーム31内の雰囲気ガス供給管38aを介し
て外部の雰囲気ガス供給源に接続される。また、基板収
納室40a内の排気口43aは、配管45a、第1およ
び第2の円筒状支持部材50,51内の排気チューブ5
3aおよび搬送室支持アーム31内の排気管39aを介
して外部の排気装置に接続される。
2aは、配管44a、第1および第2の円筒状支持部材
50,51内の雰囲気ガス供給チューブ52aおよび搬
送室支持アーム31内の雰囲気ガス供給管38aを介し
て外部の雰囲気ガス供給源に接続される。また、基板収
納室40a内の排気口43aは、配管45a、第1およ
び第2の円筒状支持部材50,51内の排気チューブ5
3aおよび搬送室支持アーム31内の排気管39aを介
して外部の排気装置に接続される。
【0060】同様に、基板収納室40b内の雰囲気ガス
供給口42bは、配管44b、第1および第2の円筒状
支持部材50,51内の雰囲気ガス供給チューブ52b
および搬送室支持アーム31内の雰囲気ガス供給管38
bを介して外部の雰囲気ガス供給源に接続される。ま
た、基板収納室40b内の排気口43bは、配管45
b、第1および第2の円筒状支持部材50,51内の排
気チューブ53bおよび搬送室支持アーム31内の排気
管39bを介して外部の排気装置に接続される。
供給口42bは、配管44b、第1および第2の円筒状
支持部材50,51内の雰囲気ガス供給チューブ52b
および搬送室支持アーム31内の雰囲気ガス供給管38
bを介して外部の雰囲気ガス供給源に接続される。ま
た、基板収納室40b内の排気口43bは、配管45
b、第1および第2の円筒状支持部材50,51内の排
気チューブ53bおよび搬送室支持アーム31内の排気
管39bを介して外部の排気装置に接続される。
【0061】なお、回動用モータ305、上下移動用モ
ータ309および水平移動機構部60a,60bのモー
タ71(図8参照)への給電も搬送室支持アーム31内
を通して行われる。
ータ309および水平移動機構部60a,60bのモー
タ71(図8参照)への給電も搬送室支持アーム31内
を通して行われる。
【0062】ここで、基板収納室40a,40b内への
雰囲気ガスの供給動作について説明する。図11は、基
板収納室内の雰囲気ガスの供給状態を示す説明図であ
る。図11においては、基板収納室40a内に収納され
た基板保持部62が処理室11に対して進退移動する状
態を示している。
雰囲気ガスの供給動作について説明する。図11は、基
板収納室内の雰囲気ガスの供給状態を示す説明図であ
る。図11においては、基板収納室40a内に収納され
た基板保持部62が処理室11に対して進退移動する状
態を示している。
【0063】上述したように、基板処理室40a内には
雰囲気ガス供給口42aから雰囲気ガスが供給され、排
気口43aから外部の排気装置90を通して排気され
る。これにより、基板収納室40a内に雰囲気ガスの気
流を生じさせ、パーティクル等の異物を基板に付着させ
ることなく外部へ排出させている。そして、通常、基板
処理室40a内の圧力Paが中間低圧部Aの圧力Pbよ
りも高くなるように雰囲気ガスの供給量が調整されてい
る。
雰囲気ガス供給口42aから雰囲気ガスが供給され、排
気口43aから外部の排気装置90を通して排気され
る。これにより、基板収納室40a内に雰囲気ガスの気
流を生じさせ、パーティクル等の異物を基板に付着させ
ることなく外部へ排出させている。そして、通常、基板
処理室40a内の圧力Paが中間低圧部Aの圧力Pbよ
りも高くなるように雰囲気ガスの供給量が調整されてい
る。
【0064】ところで、基板保持部62が基板処理室4
0aから処理室11側へ前進する際には、基板保持部6
2の容積分だけ基板収納室42a内での雰囲気ガスの占
有領域が短時間に増加する。このために、基板処理室4
0aの圧力Paが瞬時に低下して中間低圧部Aよりも低
圧となり、中間低圧部A側から雰囲気ガス500や処理
室11内の処理雰囲気ガスが基板処理室40a内に侵入
する。そして、侵入した気流にパーティクル等が含まれ
ていると基板が汚染されることになる。
0aから処理室11側へ前進する際には、基板保持部6
2の容積分だけ基板収納室42a内での雰囲気ガスの占
有領域が短時間に増加する。このために、基板処理室4
0aの圧力Paが瞬時に低下して中間低圧部Aよりも低
圧となり、中間低圧部A側から雰囲気ガス500や処理
室11内の処理雰囲気ガスが基板処理室40a内に侵入
する。そして、侵入した気流にパーティクル等が含まれ
ていると基板が汚染されることになる。
【0065】そこで、制御部70は、水平移動機構部6
0aの動作を監視し、基板保持部62が基板収納室40
aから処理室11側へ前進する際には、雰囲気ガス供給
源80からの雰囲気ガスの供給量を増加させるように、
雰囲気ガス供給源80あるいは雰囲気ガス供給口42に
接続される配管中の流量調整機構(図示せず)を制御す
る。これにより、基板保持部62が基板収納室40a内
から外方へ前進した場合でも基板収納室40a内の圧力
Paが低下することが防止される。
0aの動作を監視し、基板保持部62が基板収納室40
aから処理室11側へ前進する際には、雰囲気ガス供給
源80からの雰囲気ガスの供給量を増加させるように、
雰囲気ガス供給源80あるいは雰囲気ガス供給口42に
接続される配管中の流量調整機構(図示せず)を制御す
る。これにより、基板保持部62が基板収納室40a内
から外方へ前進した場合でも基板収納室40a内の圧力
Paが低下することが防止される。
【0066】また、基板保持部62が処理室11から基
板収納室40a内に後退する際には、基板保持部62が
基板収納室40a内の雰囲気ガスを押し退け、これによ
り基板収納室40a内の圧力が瞬時に増加する。基板収
納室40a内の圧力が急激に増加すると、基板収納室4
0a内の雰囲気ガスが基板出入口41aから外部へ流出
し、処理室11の開口部16を通り、処理室11内へ侵
入する。そして、処理室内の雰囲気を乱し、また侵入し
た雰囲気ガス中に混入したパーティクルにより処理室1
1内の基板を汚染する。
板収納室40a内に後退する際には、基板保持部62が
基板収納室40a内の雰囲気ガスを押し退け、これによ
り基板収納室40a内の圧力が瞬時に増加する。基板収
納室40a内の圧力が急激に増加すると、基板収納室4
0a内の雰囲気ガスが基板出入口41aから外部へ流出
し、処理室11の開口部16を通り、処理室11内へ侵
入する。そして、処理室内の雰囲気を乱し、また侵入し
た雰囲気ガス中に混入したパーティクルにより処理室1
1内の基板を汚染する。
【0067】そこで、基板保持部62が基板収納室40
a内に後退する際には、制御部70は雰囲気ガス供給口
42aからの雰囲気ガスの流量を減少させるように、雰
囲気ガス供給源80あるいは配管中に設けられた流量調
整機構を制御する。これにより、基板収納室40a内の
圧力Paがほぼ一定に保たれ、雰囲気ガスが処理室11
側へ侵入することが防止される。
a内に後退する際には、制御部70は雰囲気ガス供給口
42aからの雰囲気ガスの流量を減少させるように、雰
囲気ガス供給源80あるいは配管中に設けられた流量調
整機構を制御する。これにより、基板収納室40a内の
圧力Paがほぼ一定に保たれ、雰囲気ガスが処理室11
側へ侵入することが防止される。
【0068】このように、基板保持部62の基板搬送時
に基板収納室40a内への雰囲気ガスの供給流量を制御
することにより、基板収納室40a内および処理室11
の内部が清浄に保たれる。
に基板収納室40a内への雰囲気ガスの供給流量を制御
することにより、基板収納室40a内および処理室11
の内部が清浄に保たれる。
【0069】なお、上述したように、基板保持部62の
基板搬送時以外には、中間低圧部Aにより基板収納室4
0aからの雰囲気ガスの流出分は搬送室30の下方側へ
運び去られ、また処理室11からの雰囲気ガスの流出分
も同様に搬送室30の下方向へ運び去られる。
基板搬送時以外には、中間低圧部Aにより基板収納室4
0aからの雰囲気ガスの流出分は搬送室30の下方側へ
運び去られ、また処理室11からの雰囲気ガスの流出分
も同様に搬送室30の下方向へ運び去られる。
【0070】また、基板収納室40bにおける基板保持
部62の基板搬送動作時においても、上記と同様の雰囲
気ガスの流量調整が行われる。
部62の基板搬送動作時においても、上記と同様の雰囲
気ガスの流量調整が行われる。
【0071】本実施例では、中間低圧部Aが圧力の低い
領域に相当し、制御部70が制御手段に相当する。ま
た、雰囲気ガス供給口42a,42b、配管44a,4
4b、雰囲気ガス供給チューブ52a,52bおよび雰
囲気ガス供給管38a,38bが給気経路を構成し、排
気口43a,43b、配管45a,45b、排気チュー
ブ53a,53bおよび排気管39a,39bが排気経
路を構成する。
領域に相当し、制御部70が制御手段に相当する。ま
た、雰囲気ガス供給口42a,42b、配管44a,4
4b、雰囲気ガス供給チューブ52a,52bおよび雰
囲気ガス供給管38a,38bが給気経路を構成し、排
気口43a,43b、配管45a,45b、排気チュー
ブ53a,53bおよび排気管39a,39bが排気経
路を構成する。
【0072】次に、本実施例の基板処理装置の動作を説
明する。未処理の基板は図2の搬入室2a内の基板受け
渡し台21a上に搬入される。そして、搬送室30内の
第1の円筒状支持部材50が搬送室30とともに鉛直軸
の周りで回動するとともに第2の円筒状支持部材51が
鉛直方向に移動することにより、搬送室30の開口部3
6および基板収納室40aの基板出入口41aが搬入室
2aの開口部22aの前方に位置する。この状態で、基
板収納室40a内の水平移動機構部60aの基板保持部
62が基板出入口41a、搬送室30の開口部36およ
び搬入室2aの開口部22aを通して前進し、基板受け
渡し台21a上の基板を受け取った後、基板収納室40
a内に後退する。
明する。未処理の基板は図2の搬入室2a内の基板受け
渡し台21a上に搬入される。そして、搬送室30内の
第1の円筒状支持部材50が搬送室30とともに鉛直軸
の周りで回動するとともに第2の円筒状支持部材51が
鉛直方向に移動することにより、搬送室30の開口部3
6および基板収納室40aの基板出入口41aが搬入室
2aの開口部22aの前方に位置する。この状態で、基
板収納室40a内の水平移動機構部60aの基板保持部
62が基板出入口41a、搬送室30の開口部36およ
び搬入室2aの開口部22aを通して前進し、基板受け
渡し台21a上の基板を受け取った後、基板収納室40
a内に後退する。
【0073】その後、搬送室30内の第1の円筒状支持
部材50が搬送室30とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室30の開口部36および基板収納室
40aの基板出入口41aが所定の処理室11の開口部
16の前方に位置する。そして、基板収納室40a内の
水平移動機構部60aの基板保持部62が基板出入口4
1a、搬送室30の開口部36および処理室11の開口
部16を通して前進し、処理室11内に進入する。この
とき、処理室11内のカップ13が下降する。基板保持
部62は、基板を回転保持部12上に載置した後、後退
して基板収納室40a内に戻る。
部材50が搬送室30とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室30の開口部36および基板収納室
40aの基板出入口41aが所定の処理室11の開口部
16の前方に位置する。そして、基板収納室40a内の
水平移動機構部60aの基板保持部62が基板出入口4
1a、搬送室30の開口部36および処理室11の開口
部16を通して前進し、処理室11内に進入する。この
とき、処理室11内のカップ13が下降する。基板保持
部62は、基板を回転保持部12上に載置した後、後退
して基板収納室40a内に戻る。
【0074】一方、処理室11内で基板の処理が終了す
ると、搬送室30内の第1の円筒状支持部材50が搬送
室30とともに鉛直軸の周りで回動するとともに第2の
円筒状支持部材51が上方向に移動することにより、搬
送室30の開口部36および基板収納室40bの基板出
入口41bがその処理室11の開口部16の前方に位置
する。そして、基板収納室40b内の水平移動機構部6
0bの基板保持部62が基板出入口41b、搬送室30
の開口部36および処理室11の開口部16を通して前
進し、処理室11内に進入する。このとき、処理室11
内のカップ13が下降する。基板保持部62は、回転保
持部12上の基板を受け取った後、後退して基板収納室
40b内に戻る。
ると、搬送室30内の第1の円筒状支持部材50が搬送
室30とともに鉛直軸の周りで回動するとともに第2の
円筒状支持部材51が上方向に移動することにより、搬
送室30の開口部36および基板収納室40bの基板出
入口41bがその処理室11の開口部16の前方に位置
する。そして、基板収納室40b内の水平移動機構部6
0bの基板保持部62が基板出入口41b、搬送室30
の開口部36および処理室11の開口部16を通して前
進し、処理室11内に進入する。このとき、処理室11
内のカップ13が下降する。基板保持部62は、回転保
持部12上の基板を受け取った後、後退して基板収納室
40b内に戻る。
【0075】その後、搬送室30内の第1の円筒状支持
部材50が搬送室30とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室30の開口部36および基板収納室
40bの基板出入口41bが搬出室2bの開口部22b
の前方に位置する。そして、基板収納室40b内の水平
移動機構部60bの基板保持部62が、基板出入口41
b、搬送室30の開口部36および搬出室2bの開口部
22bを通して前進し、基板受け渡し台21b上に基板
を載置した後、基板収納室40b内に後退する。
部材50が搬送室30とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室30の開口部36および基板収納室
40bの基板出入口41bが搬出室2bの開口部22b
の前方に位置する。そして、基板収納室40b内の水平
移動機構部60bの基板保持部62が、基板出入口41
b、搬送室30の開口部36および搬出室2bの開口部
22bを通して前進し、基板受け渡し台21b上に基板
を載置した後、基板収納室40b内に後退する。
【0076】搬出室2b内の基板受け渡し台21b上に
載置された基板は、外部に搬出される。複数の基板に対
して上記の処理が順次的または並列的に行われる。
載置された基板は、外部に搬出される。複数の基板に対
して上記の処理が順次的または並列的に行われる。
【0077】本実施例の基板処理装置においては、基板
搬送ユニット3の搬送室30が複数の基板処理ユニット
1の本体部10上に形成された円柱状空間20に設けら
れているので、基板搬送ユニット3の投影面積が基板処
理ユニット1の投影面積と重複し、基板搬送ユニット3
の設置面積が不要となる。それにより、基板処理装置の
全体の設置面積が低減される。
搬送ユニット3の搬送室30が複数の基板処理ユニット
1の本体部10上に形成された円柱状空間20に設けら
れているので、基板搬送ユニット3の投影面積が基板処
理ユニット1の投影面積と重複し、基板搬送ユニット3
の設置面積が不要となる。それにより、基板処理装置の
全体の設置面積が低減される。
【0078】また、基板搬送ユニット3への電力、雰囲
気ガス、排気等の用力の供給が搬送室支持アーム31を
通して搬送室30の上方から行われるので、基板処理ユ
ニット1との間で用力供給経路の干渉を回避することが
できる。その結果、床面における構造が煩雑になること
を防止することができる。
気ガス、排気等の用力の供給が搬送室支持アーム31を
通して搬送室30の上方から行われるので、基板処理ユ
ニット1との間で用力供給経路の干渉を回避することが
できる。その結果、床面における構造が煩雑になること
を防止することができる。
【0079】さらに、処理室11と搬送室3内の基板収
納室40a,40bとの間に中間低圧部A(図6および
図7参照)が形成されるので、基板収納室40a,40
bの基板出入口41a,41bにシャッタを設ける必要
がなくなる。また、搬送室3が回動することにより各処
理室11の開口部16を開閉することができるので、各
処理室11と搬送室30との間にゲートバルブを設ける
必要がなくなる。それにより、処理室11および搬送室
30の構成が簡単になる。
納室40a,40bとの間に中間低圧部A(図6および
図7参照)が形成されるので、基板収納室40a,40
bの基板出入口41a,41bにシャッタを設ける必要
がなくなる。また、搬送室3が回動することにより各処
理室11の開口部16を開閉することができるので、各
処理室11と搬送室30との間にゲートバルブを設ける
必要がなくなる。それにより、処理室11および搬送室
30の構成が簡単になる。
【0080】また、未処理の基板が搬入室2aから搬送
室30内の一方の基板収納室40aにより所定の処理室
11に搬送され、処理済みの基板が処理室11から搬送
室30内の他方の基板収納室40bにより搬出室2bに
搬送される。このように、処理前の基板と処理済みの基
板とが常に別個の経路で搬送されるので、処理前の基板
と処理済みの基板とがそれぞれ常に同一の搬送雰囲気に
保たれ、互いに影響を及ぼさない。
室30内の一方の基板収納室40aにより所定の処理室
11に搬送され、処理済みの基板が処理室11から搬送
室30内の他方の基板収納室40bにより搬出室2bに
搬送される。このように、処理前の基板と処理済みの基
板とが常に別個の経路で搬送されるので、処理前の基板
と処理済みの基板とがそれぞれ常に同一の搬送雰囲気に
保たれ、互いに影響を及ぼさない。
【0081】上記実施例では、搬送室30を回動させる
ことにより各処理室11の開口部16を開閉自在に構成
しているが、搬送室30が回動しない構成の場合には、
複数の処理室11の開口部16に対応して搬送室30に
複数の開口部36を設け、各開口部36に開閉自在なシ
ャッタを設ければよい。また、基板収納室40a,40
bの基板出入口41a,41bに開閉自在なシャッタを
設けてもよい。
ことにより各処理室11の開口部16を開閉自在に構成
しているが、搬送室30が回動しない構成の場合には、
複数の処理室11の開口部16に対応して搬送室30に
複数の開口部36を設け、各開口部36に開閉自在なシ
ャッタを設ければよい。また、基板収納室40a,40
bの基板出入口41a,41bに開閉自在なシャッタを
設けてもよい。
【0082】なお、基板処理ユニット1としては、上記
実施例に限らず、処理液の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の種々の基板処理を行う基板処理ユニッ
トを用いることができる。
実施例に限らず、処理液の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の種々の基板処理を行う基板処理ユニッ
トを用いることができる。
【図1】本発明の一実施例における基板処理装置の平面
図である。
図である。
【図2】図1の基板処理装置の横断面図である。
【図3】図1の基板処理装置の部分縦断面図である。
【図4】図1の基板処理装置における1つの基板処理ユ
ニットの斜視図である。
ニットの斜視図である。
【図5】図1の基板処理装置における基板搬送ユニット
の搬送室の斜視図である。
の搬送室の斜視図である。
【図6】基板搬送ユニットの搬送室の縦断面図である。
【図7】基板搬送ユニットの搬送室の横断面図である。
【図8】水平移動機構部の平面図である。
【図9】水平移動機構部の縦断面図である。
【図10】基板搬送ユニットの主要部の縦断面図であ
る。
る。
【図11】基板収納室の雰囲気ガスの供給動作の説明図
である。
である。
【図12】従来の基板処理装置の一例を示す平面図であ
る。
る。
1 基板処理ユニット 2a 搬入室 2b 搬出室 3 基板搬送ユニット 10 本体部 11 処理室 16,22a,22b,36 開口部 19 1/4円柱状空間 20 円柱状空間 30 搬送室 31 搬送室支持アーム 32 アーム駆動部 33 アーム支持部 34 給気口 35 排気口 40a,40b 基板収納室 41a,41b 基板出入口 42a,42b 雰囲気ガス供給口 43a,43b 排気口 50 第1の円筒状支持部材 51 第2の円筒状支持部材 60a,60b 水平移動機構部 61 収納ボックス 62 基板保持部
Claims (6)
- 【請求項1】 基板を搬入および搬出するための開口部
を有しかつ基板に所定の処理を行う処理室を備えた基板
処理ユニットと、 前記基板処理ユニットの前記処理室に対して基板を搬入
および搬出する基板搬送ユニットとを備え、 前記基板搬送ユニットは、 基板を保持して前記基板処理ユニットの前記処理室内に
前記開口部を通して移動可能に設けられた基板保持部
と、 前記基板保持部が通過可能な基板出入口を有しかつ前記
基板保持部を収納する基板収納室とを備え、 少なくとも前記基板収納室の前記基板出入口と前記処理
室の前記開口部との間に、前記基板収納室内および前記
処理室内よりも圧力の低い領域が形成されたことを特徴
とする基板処理装置。 - 【請求項2】 前記基板搬送ユニットは、 前記基板収納室を取り囲み、前記基板保持部が通過可能
な開口部を有する搬送室をさらに備え、 前記圧力の低い領域は、前記搬送室の内部でかつ前記基
板収納室の外部に設けられたことを特徴とする請求項1
記載の基板処理装置。 - 【請求項3】 前記搬送室は、前記搬送室内に雰囲気ガ
スを取り込む給気口と、前記搬送室内の雰囲気ガスを排
出する排気口とを備えたことを特徴とする請求項2記載
の基板処理装置。 - 【請求項4】 前記基板搬送ユニットは、 前記基板収納室内に雰囲気ガスを供給する供給経路と、 前記基板収納室内の雰囲気ガスを排気する排気経路とを
さらに備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか
に記載の基板処理装置。 - 【請求項5】 前記基板処理ユニットは前記基板搬送ユ
ニットの周囲に複数配置され、前記基板搬送ユニットの
前記搬送室は鉛直方向の軸を中心とする円筒状の外周面
を有し、前記基板処理ユニットの各処理室は前記搬送室
の前記円筒状の外周面に接する部分円筒状の側面を有
し、前記開口部は前記部分円筒状の側面に設けられ、前
記搬送室は鉛直方向の軸の回りで回動可能に設けられた
ことを特徴とする請求項2〜4にいずれかに記載の基板
処理装置。 - 【請求項6】 前記基板保持部が前記基板収納室内から
前記処理室側に移動する際には前記基板収納室内に供給
される雰囲気ガスの流量が増加し、前記基板保持部が前
記処理室側から前記基板収納室内に移動する際には前記
基板収納室内に供給される雰囲気ガスの流量が減少する
ように前記雰囲気ガスの流量を制御する制御手段をさら
に備えたことを特徴とする請求項4または5のいずれか
に記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4944297A JP3545569B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4944297A JP3545569B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10247677A true JPH10247677A (ja) | 1998-09-14 |
JP3545569B2 JP3545569B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=12831247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4944297A Expired - Fee Related JP3545569B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3545569B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100307628B1 (ko) * | 1999-04-03 | 2001-10-29 | 윤종용 | 반도체 제조설비의 청정방법 및 이를 적용한 반도체 제조 설비 |
JP2006310561A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Nec Electronics Corp | 真空処理装置および真空処理方法 |
JP2007149948A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
JP2007277014A (ja) * | 1999-07-16 | 2007-10-25 | Tokyo Electron Ltd | 処理システム |
JP5007869B2 (ja) * | 1999-07-12 | 2012-08-22 | エフエスアイ インターナショナル インコーポレイテッド | ワークピースを移送するための装置および方法 |
KR101236810B1 (ko) | 2009-11-16 | 2013-02-25 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법 |
US8623457B2 (en) | 2005-11-28 | 2014-01-07 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing system |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP4944297A patent/JP3545569B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP4634918B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
US8623457B2 (en) | 2005-11-28 | 2014-01-07 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing system |
KR101236810B1 (ko) | 2009-11-16 | 2013-02-25 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법 |
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---|---|
JP3545569B2 (ja) | 2004-07-21 |
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