JPH10242551A - 光学素子及びこれを用いたレーザ装置 - Google Patents
光学素子及びこれを用いたレーザ装置Info
- Publication number
- JPH10242551A JPH10242551A JP9061832A JP6183297A JPH10242551A JP H10242551 A JPH10242551 A JP H10242551A JP 9061832 A JP9061832 A JP 9061832A JP 6183297 A JP6183297 A JP 6183297A JP H10242551 A JPH10242551 A JP H10242551A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- light
- excitation light
- optical element
- incident
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 175
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 202
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 77
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 42
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000004936 stimulating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4206—Optical features
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4296—Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with sources of high radiant energy, e.g. high power lasers, high temperature light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094049—Guiding of the pump light
- H01S3/094057—Guiding of the pump light by tapered duct or homogenized light pipe, e.g. for concentrating pump light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
より、レーザ光の出力効率の向上とレーザ光の品質の劣
化の防止を図るとともに、構造の簡素化と調整の容易化
を図る。 【解決手段】 半導体レーザ11から出た励起光は、前
記光学素子13を経て出力レーザ光15と同軸的に固体
レーザ結晶14を照射し、該固体レーザ結晶14を励起
する。光学素子13は、透明材料からなる円錐台形状体
である。大きい方の底面13aが半導体レーザ11と近
接して配置され、小さい方の底面13bが固体レーザ結
晶14と近接して配置される。光学素子13に入射した
励起光の一部は側面13aで反射されることなく底面1
3bから出射され、残りは側面13aで反射された後に
底面13bから出射される。底面13bは、所望のレー
ザモード形状に応じた形状を有する。
Description
起光がレーザ媒質からの出力レーザ光と同軸的に前記レ
ーザ媒質に入射するように前記励起光を前記レーザ媒質
へ導く励起光学系を備えたいわゆる端面励起方式のレー
ザ装置、及び前記励起光学系等に用いることができる光
学素子に関するものである。
と同軸的に前記レーザ媒質へ入射させる端面励起方式の
レーザ装置は、励起光をレーザ媒質の側面から入射させ
る側面励起方式のレーザ装置に比べて、高効率という点
で非常に優れている。
来例として、半導体レーザを励起光源とするとともにレ
ーザ媒質を固体レーザ媒質(レーザ結晶)とする半導体
レーザ励起固体レーザ装置について、図6を参照して説
明する。なお、半導体レーザ励起固体レーザ装置は、ラ
ンプを励起光源とするランプ励起固体レーザ装置に比べ
て、小型、高効率、長寿命、優れた経済性などの長所が
ある。
ザ励起固体レーザ装置を模式的に示す概略構成図であ
る。この半導体レーザ励起固体レーザ装置は、励起光2
を発生する励起光源としての半導体レーザ1と、レーザ
媒質としての固体レーザ結晶4と、半導体レーザ1から
の励起光2が固体レーザ結晶4からの出力レーザ光5と
同軸的に固体レーザ結晶4に入射するように、励起光2
を固体レーザ結晶4へ導く励起光学系3と、部分反射ミ
ラー6とを備えている。固体レーザ結晶4の励起光入射
端面(図6中の左側面)には、励起光2に対しては無反
射であるとともにレーザ光5に対しては全反射のコーテ
ィング7が形成されている。固体レーザ結晶4のレーザ
光5の射出端面(図6中の右側面)には、レーザ光5に
対して無反射のコーティング8が形成されている。前記
部分反射ミラー6と前記コーティング7との間で、レー
ザ共振器が形成される。
は、励起光2を固体レーザ結晶4に集光させる集光レン
ズ3a,3bから構成されており、いわゆる「レンズ方
式」によるものである。
な「レンズ方式」以外にも、半導体レーザ1を固体レー
ザ結晶4に近接させて置く「近接方式」や、複数のファ
イバーにて励起光を導く「ファイバー方式」があった。
そして、「ファイバー方式」には、励起光2をファイバ
ーで導いた後に当該ファイバー端を固体レーザ結晶4に
近接させる方式と、励起光2をファイバーで導いた後に
レンズを通す方式とがあった。
た図6に示す従来のレーザ装置や前述した種々の励起光
学系の方式を採用した従来のレーザ装置では、以下の問
題が生じていた。
ンズのみを用いたレンズ方式では、半導体レーザ1の発
光面が非常に長い形(例えば1μm×500μm)を持
ち、かつ放射光の発散角の分布も非等方のものであるた
め、励起すべき固体レーザ結晶4中において、励起光の
断面形状が細長くなり、効率やレーザビームの品質が落
ちるという問題があった。詳しく述べると、例えばTE
M00モードの出力レーザ光5を得る場合、励起光2が固
体レーザ結晶4上の円形のレーザビーム5に対応する領
域の外にはみ出す場合には、はみ出した部分の励起光2
は励起に使われずに結果として励起効率が低下し、ま
た、レーザビーム5の横モードがTEM00モード以外の
好ましくない非円形のモードになることもあった。一
方、励起光2が固体レーザ結晶4上のレーザビーム5に
対応する領域内に十分に含まれるように、励起光2を細
長い断面形状のままレンズ系によって十分に縮小する
と、励起光2の光密度が大きくなり過ぎて、励起密度の
大きな部分での吸収の飽和が起こることによって励起光
2がそれ以上吸収されなくなり、結果として効率を低下
させる現象が起きた。また、励起光2を細長い断面形状
のままレンズ系によって十分に縮小する場合には、固体
レーザ結晶4の熱分布が不均一になることから、非対称
の熱レンズ効果が発生し、レーザビーム5が歪むことが
あった。
2の断面を例えば円形に近い形に整形するために、プリ
ズムを挿入したり、円柱レンズを挿入したりするなどの
手段を講じて改善を図ってきた。しかし、このために、
励起光学系が複雑になり、アライメントの調整の手間が
増えたり、増えたプリズムやレンズの表面での反射等に
より、励起光エネルギーの損失が増加したりした。
ァイバーを用いて、それらの一端を半導体レーザ光の発
光面の形状に合わせて配列するとともにそれらの他端を
所望のレーザモード形状に対応する形状(例えば、円
形)に配列しているので、前述した近接方式やレンズ方
式において生じていた問題は発生しない。
バー端を固体レーザ結晶に近接して配置する方式では、
1本1本のファイバーの太さによってファイバー端の集
合形状の大きさが決まってしまうので、当該集合形状の
大きさが、固体レーザ結晶4上の円形のレーザビーム5
に対応する領域の外にはみ出したり当該領域に比べて小
さすぎたりする場合も多く、そのような場合には、結
局、前記レンズ方式と同様の問題が生じてしまう。
は、通常、励起光をファイバーで導いた後にレンズを通
す方式を採用することとなる。この方式では、当該ファ
イバー端の集合形状が当該レンズにより縮小又は拡大さ
れ、励起光が固体レーザ結晶4上の円形のレーザビーム
5に対応する領域にちょうど照射される。しかし、この
方式では、そのような適切な照射が行われるように前記
レンズを厳密に調整しなければならず、その調整に手数
を要していた。
ーザ結晶4は励起エネルギーの一部を熱として発生する
ので、効率の良い熱の除去のため、固体レーザ結晶4を
熱伝導の良い金属製等の部材に取り付けることが多く行
われている。しかし、この放熱用の部材は、励起光学系
とは全く別のものであり、したがって、部品点数が多く
なり、コストアップを免れなかった。
たもので、効率良く適切にレーザ媒質を励起することに
よりレーザ光の出力効率の向上とレーザ光の品質の劣化
の防止を図ることができ、しかも、構造が簡単でアライ
メント等の調整が簡単なレーザ装置、並びにこのレーザ
装置等に用いることができる光学素子を提供することを
目的とする。
な構造で行うことができ、安価なレーザ装置を提供する
ことを目的とする。
め、本発明の第1の態様によるレーザ装置は、レーザ媒
質と、励起光源とを備えたレーザ装置であって、前記励
起光源からの励起光が前記レーザ媒質からの出力レーザ
光と同軸的に前記レーザ媒質に入射するように、前記励
起光を前記レーザ媒質へ導く励起光学系を備えたレーザ
装置において、前記励起光学系は、前記励起光に対して
透明な材料からなるとともに2つの底面及び側面を有す
る部材を有する光学素子であって、前記2つの底面のう
ちの一方の底面から前記励起光が入射され、当該入射さ
れた励起光の一部を前記側面で反射させることなく前記
2つの底面のうちの他方の底面から射出させ、前記入射
された励起光の残りを前記側面で反射させて前記他方の
底面から射出させ、前記他方の底面が所望のレーザモー
ド形状に応じた形状(大きさも含む)を有する光学素子
を、含むものである。
るものではないが、例えば、錘台状体又は柱状体とする
ことができる。励起光入射側の底面は、励起光の略全部
を入射し得る形状及び大きさであれば任意の形状(例え
ば、円形状、楕円形状、矩形状、多角形状等)及び大き
さとすることができ、励起光射出側の底面は、所望のレ
ーザモード形状(例えば、TEM00モードの場合は円形
状)に応じた形状とすればよい。側面は、励起光射出側
の端面における光強度分布を均一に近づけ反射の際の損
失を防ぐ上で、滑らかであることが、好ましい。なお、
側面には、必要に応じて反射膜を形成しておいてもよ
い。また、底面には、必要に応じて反射防止膜を形成し
ておいてもよい。
の一部を前記側面で反射させることなく前記2つの底面
のうちの他方の底面から射出させるものであり、反射さ
れずに伝送される光が実質的になく殆ど全ての光が全反
射を多数繰り返して伝送されるファイバーとは本質的に
異なるものである。また、前記光学素子では、ファイバ
ーにおいては要求される可撓性は、全く要求されない。
励起光入射側の底面(以下、「入射底面」という。)を
励起光源に近接して配置するとともに当該光学素子の励
起光射出側の底面(以下、「射出底面」という。)をレ
ーザ媒質に近接して配置してもよい。まず、この場合に
ついて述べる。
面から入射され、その一部が当該光学素子の側面で反射
されることなく当該光学素子の射出底面から射出され、
その残りが当該光学素子の側面で反射されて当該光学素
子の射出底面から射出される。したがって、励起光源の
発光面が細長くかつ放射光の発散角の分布が非等方であ
っても、励起光は、殆ど損失なく、光学素子の射出底面
から射出する際に、断面形状が当該射出底面の形状(す
なわち、所望のレーザモード形状に応じた形状)に整形
され、しかも、その光強度分布は略均一となる。そし
て、このように整形されるとともに強度が均一化された
励起光がレーザ媒質に照射されることとなる。このた
め、無効領域への励起光のはみ出しが抑制されるととも
にレーザ媒質での吸収の飽和や熱分布の不均一が緩和さ
れ、効率良く適切にレーザ媒質を励起することができ、
それにより、レーザ光の出力効率の向上とレーザ光の品
質の劣化の防止を図ることができる。そして、前記光学
素子の各底面をそれぞれ励起光源及びレーザ媒質に近接
して配置する場合には、励起光学系が当該光学素子のみ
によって構成されることになり、励起光学系の構成が極
めて簡単となり、コストの低減を図ることができる。の
みならず、前記光学素子は、レンズ等と異なり焦点等を
結ぶものではないので、そのアライメントの許容範囲は
大きく、アライメントの調整が極めて容易となる。
面から入射した励起光の一部が当該光学素子の側面で反
射されることなく当該光学素子の射出底面から射出さ
れ、その残りが当該光学素子の側面で反射されて当該光
学素子の射出底面から射出されるので、当該光学素子に
励起光の各光線は反射を全く受けないかあるいは反射を
受けてもその回数は極めて少なくなる。このため、前記
光学素子の各底面をそれぞれ励起光源及びレーザ媒質に
近接して配置する場合において、励起光源として半導体
レーザのように励起光として偏光光を発するものを用い
た場合には、射出底面から射出された全体としての励起
光の偏光方向と偏光率は、励起光源から発した際の励起
光の偏光方向と偏光率からさほどずれず、元の状態がほ
ぼ保たれる。したがって、レーザ媒質として、光吸収率
に偏光依存性がある(一偏光方向の吸収率が大きく、そ
の偏光での励起効率が高い)Nd:YVO4のような固
体レーザ結晶を採用しても、偏光状態の変化に起因する
励起効率の低下が抑制され、励起効率の向上を図ること
ができる。なお、前述した従来のファイバ方式では、反
射回数が極めて多いので、1回ごとに光の偏光方向が元
の偏光方向からずれることから、ファイバーを伝搬する
うちに励起光の偏光が失われ、ほぼ無偏光状態になって
しまい、レーザ媒質として光吸収率に偏光依存性がある
もの(このようなレーザ媒質は一般的に光吸収率が高
い)を用いると、励起効率が著しく低下してしまう。
では、励起光源からの励起光のファイバーへの入力結合
時における損失を免れることができないとともに、最大
の光結合効率を得るためのファイバーと励起光源の位置
調整も精度を要求される。これに対し、前記第1の態様
において、前記光学素子の各底面をそれぞれ励起光源及
びレーザ媒質に近接して配置する場合には、前記光学素
子の入射底面を適当な大きさにしておくこと等によっ
て、励起光が当該入射底面へ入射する際の損失を防止す
ることができるとともに、当該光学素子と励起光源の位
置調整に精度は要求されない。
子の各底面をそれぞれ励起光源及びレーザ媒質に近接し
て配置する場合の説明であったが、前記第1の態様はこ
のような場合に限定されるものではない。
前記光学素子との間にファイバーを配置してもよい。こ
の場合、励起光学系が前記光学素子と当該ファイバーと
により構成されることになる。この場合には、前述した
励起光の偏光状態の保持や、ファイバーへの入力結合時
の損失の防止や、ファイバーと励起光源の位置調整の精
度の緩和という利点を得ることはできないものの、前述
した従来のファイバー方式と同様に、励起光源の配置の
自由度を高めることができるとともに、近接方式やレン
ズ方式で生じていた問題は発生しない。のみならず、励
起光をファイバーで導いた後にレンズを通す従来のファ
イバー方式と異なり、励起光をファイバーで導いた後に
前述したように前記光学素子にて整形するので、レンズ
と異なり当該光学素子の位置調整には精度が必要ないこ
とから、調整の手数が大幅に軽減される。勿論、ファイ
バーにて導かれた後の励起光が前記光学素子にて整形さ
れるので、ファイバーの太さ等にも制約がなくなる。
前記第1の態様によるレーザ装置において、前記2つの
底面のうちの少なくとも一方の底面は曲面からなるもの
である。
しておくと、当該光学素子自体がレンズと同様の作用を
行うことになるので、励起光の透過及び反射の状況を変
化させる自由度が増大し、その設計が容易となる。もっ
とも、前記第1の態様においては、光学素子の各底面を
平面にしておいてもよいことは勿論である。
レーザ媒質と、励起光源とを備えたレーザ装置であっ
て、前記励起光源からの励起光が前記レーザ媒質からの
出力レーザ光と同軸的に前記レーザ媒質に入射するよう
に、前記励起光を前記レーザ媒質へ導く励起光学系を備
えたレーザ装置において、前記励起光学系は、内面が前
記励起光に対する反射面である貫通穴を有する光学素子
であって、前記貫通穴の2つの開口部のうちの一方の開
口部から前記励起光が入射され、当該入射された励起光
の一部を前記内面で反射させることなく前記2つの開口
部のうちの他方の開口部から射出させ、前記入射された
励起光の残りを前記内面で反射させて前記他方の開口部
から射出させ、前記他方の開口部が所望のレーザモード
形状に応じた形状を有する光学素子を、含むものであ
る。
に構成されていることになるに対し、この第3の態様で
は逆に中空に構成されていることになるが、両者は光学
的に実質的に等価である。したがって、第3の態様にお
いても、第1の態様と同様の利点が得られる。また、第
3の態様によれば、入射面と射出面での反射による損失
がないという利点が得られる。
前記第3の態様によるレーザ装置において、前記光学素
子が金属材料からなるものである。
前記第3又は第4の態様によるレーザ装置において、前
記光学素子が前記レーザ媒質で発生する熱を放熱させる
放熱器として兼用されたものである。
兼用すると、従来のように励起光学系とは別にレーザ媒
質で発生する熱を放熱する放熱器を設ける場合に比べ
て、部品点数が減り、コストダウンを図ることができ
る。
前記第3の態様によるレーザ装置において、前記光学素
子が、前記貫通穴に対応する穴を有する部材と、該部材
の当該穴の内面にコーティングされた反射膜と、を有す
るものである。
光学素子を構成する材料に制約がなくなり、設計の自由
度が増す。
前記第1乃至第6のいずれかの態様によるレーザ装置に
おいて、前記励起光源が半導体レーザであるものであ
る。
と、ランプを励起光源とする場合に比べて、小型、高効
率、長寿命、優れた経済性などの長所が得られ、好まし
い。もっとも、前記第1乃至第6の態様では、ランプを
励起光源としてもよい。
前記第1乃至第7のいずれかの態様によるレーザ装置に
おいて、前記レーザ媒質が固体レーザ媒質であるもので
ある。
レーザ媒質として、例えば液体レーザ媒質を用いてもよ
い。
射光に対して透明な材料からなるとともに2つの底面及
び側面を有する部材を有する光学素子であって、前記2
つの底面のうちの一方の底面から前記入射光が入射さ
れ、当該入射された入射光の一部を前記側面で反射させ
ることなく前記2つの底面のうちの他方の底面から射出
させ、前記入射された入射光の残りを前記側面で反射さ
せて前記他方の底面から射出させるものである。
内面が入射光に対する反射面である貫通穴を有する光学
素子であって、前記貫通穴の2つの開口部のうちの一方
の開口部から前記入射光が入射され、当該入射された入
射光の一部を前記内面で反射させることなく前記2つの
開口部のうちの他方の開口部から射出させ、前記入射さ
れた入射光の残りを前記内面で反射させて前記他方の開
口部から射出させるものである。
は、前記第1乃至第8の態様によるレーザ装置において
用いることができる他、入射光を均一な光強度分布を有
する所望の断面形状に整形する種々の用途において用い
ることができる。
び光学素子について、図面を参照して説明する。
装置について、図1及び図2を参照して説明する。
置を模式的に示す概略構成図、図1(b)は該レーザ装
置において用いられた光学素子13を示す拡大斜視図で
ある。図2(a)は図1(a)中の要部拡大図、図2
(b)は図2(a)中のA−A矢視図である。なお、説
明の便宜上、これらの各図において共通する互いに直交
するX、Y、Z軸を定義する。
12を発生する励起光源としての半導体レーザ11と、
レーザ媒質としての固体レーザ結晶14と、半導体レー
ザ11からの励起光12が固体レーザ結晶14からの出
力レーザ光15と同軸的に固体レーザ結晶14に入射す
るように、励起光12を固体レーザ結晶14へ導く励起
光学系としての光学素子13と、部分反射ミラー16と
を備えている。固体レーザ結晶14の励起光入射端面
(図1(a)中の左側面)には、励起光12に対しては
無反射であるとともにレーザ光15に対しては全反射の
コーティング17が形成されている。固体レーザ結晶1
4のレーザ光15の射出端面(図1(a)中の右側面)
には、レーザ光15に対して無反射のコーティング18
が形成されている。前記部分反射ミラー16と前記コー
ティング17との間で、レーザ共振器が形成される。
ー16との間には、必要に応じて、波長変換を行う非線
形結晶を配置してもよい。
として、ガリウム砒素系の半導体レーザで809nmの
レーザ光を励起光12として発するものが用いられてい
る。この半導体レーザ11の発光面(YZ平面と平行)
は、1μm(Z方向の長さ)×500μm(Y方向の長
さ)程度の、非常に細長い発光領域を持っている。ま
た、半導体レーザ11が発生する光の発散角(半値全
幅)は、40°(XZ平面と平行な面内における角度)
×10°(XY平面と平行な面内における角度)程度の
非等方の広がりを持っている。もっとも、本発明では、
半導体レーザ11はこれに限定されるものではない。
して、Ndを3%ドープしたYVO4結晶(厚み0.6
mm)が用いられている。このNd:YVO4は、光
吸収率に偏光依存性がある。もっとも、本発明では、固
体レーザ結晶14としては、これに限定されるものでは
なく、例えば、Nd:YLFやNd:YAGなどの他の
レーザ結晶や、液体レーザ媒質などを用いることができ
る。なお、Nd:YLFは光吸収率に偏光依存性がある
が、Nd:YAGは光吸収率に偏光依存性がない。
励起光12に対して透明な材料であるガラス又はプラス
チック等からなる部材であって、2つの底面13a,1
3b及び側面13cを有する部材から構成されている。
この部材の側面13cには、必要に応じて、金属膜や誘
電体多層膜等の反射膜をコートしておいてもよい。ま
た、必要に応じて、この部材の入射面及び射出面となる
底面13a,13bには、反射防止膜をコーティングし
ておいてもよい。本実施の形態では、光学素子13は円
錐台形状を有しており、底面13aが底面13bより大
きくなっている。本実施の形態では、レーザ光15とし
てTEM00モードの光を得るので、励起光射出側とする
底面13bの形状を、このレーザーモード形状に応じた
形状として円形状にしている。レーザ光15として他の
モードの光を得る場合には、励起光射出側とする底面1
3bの形状を当該レーザモード形状に合わせて変更すれ
ばよい。励起光入射側とする底面13aの形状は、励起
光12の略全部を入射し得る形状及び大きさであれば、
任意の形状及び大きさとすることができる。
励起光入射側の底面13aの直径を約600μm、励起
光射出側の底面13bの直径を約400μm、軸方向の
高さ(光軸方向(X方向)の長さ)を約1mmとしてい
る。
3aが半導体レーザ11の発光面に近接して配置され、
光学素子13の底面13bが固体レーザ結晶14に近接
して配置されている。
から出た励起光12は、前記光学素子13を経て固体レ
ーザ結晶14を照射して、該固体レーザ結晶14を励起
する。
12の挙動について、図2(a)を参照して説明する。
半導体レーザ11から出た励起光12の光線のうち、光
軸に近いものは、光学素子13の側面13cで反射され
ることなく、そのまま光学素子13を透過して固体レー
ザ結晶14に到る。一方、光軸からはずれた光線は、光
学素子13の側面13cで1回又は数回反射された後、
固体レーザ結晶14に到る。この際、反射角は、ガラス
の屈折率で決まる全反射角よりも大きな反射角であるの
で、全反射し、損失を生じない。XZ平面内において
は、半導体レーザ11から発する励起光12は、半値全
幅の発散角が前述したように約40°であるので、ほと
んどの光は光軸から±20°の範囲に放出される。それ
ゆえ、ほとんどの光のエネルギーは側面13cで反射さ
れることなく直接光学素子13を透過するか、あるい
は、側面13cで1回反射されただけで、光学素子13
を通過して固体レーザ結晶14に到る。しかし、励起光
12のうちの一部の更に大きな発散角で半導体レーザ1
1から放射された光も、光学素子13の側面13cで2
回以上の反射をすることで、射出面13bから出て固体
レーザ結晶14に到る。
12の挙動について、図2(b)を参照して説明する。
半導体レーザ11は前述したようにY方向に長さ500
μmに渡る発光面を有するが、図2(b)では、励起光
12の放出個所を4ヶ所に代表して描いている。XY平
面内における半導体レーザ11からの励起光12の放出
角度(半値全幅)は、前述したように約10°である。
励起光12のうち半導体レーザ11の発光部のY方向の
中心付近から出た光線は、側面13cで反射されること
なく光学素子13をそのまま透過して固体レーザ結晶1
4に到るが、Y方向の周辺部から出た光は、一部が光学
素子13の側面13cによって1回反射され、光路を内
側に変えられてから固体レーザ結晶14に至る。ここで
も、全反射条件が満たされているので損失がない。
光12の挙動の考察からわかるように、光学素子13の
射出面13bから出た励起光12は、直接光(側面13
cで反射されずに直接光学素子13を透過した光)と、
反射光(側面13cで反射された後に光学素子13を通
過した光)との混じったものとなり、断面形状がほぼ円
形で特に光強度の集中する部分のないものとなる。その
直径は、射出面13bから遠く離れないうちは、射出面
13bの直径400μm程度の直径を保っている。射出
面13bと固体レーザ結晶14との間の距離は100μ
m程度であるとともに、励起光は、固体レーザ結晶14
内で数100μm程度伝搬されるうちに、そのほとんど
が固体レーザ結晶14に吸収されるので、励起光は、固
体レーザ結晶14内で遠くまで伝搬されることはなく、
励起光の直径は固体レーザ結晶14中でも400μmを
大きく上回ることはない。
の直径は600μmであるので、励起光はその直径の内
部にほぼすべてがおさまり、効率の良い励起が行える。
また、励起光の強度分布もほぼ均一であるので、過度の
励起密度による吸収の飽和や、不均一な熱レンズ効果の
発生がない。このように効率良く適切に固体レーザ結晶
14を励起することができ、それにより、レーザ光の出
力効率の向上とレーザ光の品質の劣化の防止を図ること
ができる。
前記光学素子13のみによって構成されているので、励
起光学系の構成が極めて簡単となり、コストの低減を図
ることができる。のみならず、前記光学素子13は、レ
ンズ等と異なり焦点等を結ぶものではないので、そのア
ライメントの許容範囲は大きく、アライメントの調整が
極めて容易となる。
の偏光方向からずれるが、その量は小さい。前述したよ
うに、励起光のうちの多くの光は直接透過するか又は1
回の反射しかしないため、結果として光学素子13から
射出された全体としての光の偏光方向と偏光率は、元の
半導体レーザ11から射出した際の偏光方向と偏光率か
ら大きくずれることがない。したがって、固体レーザ結
晶14として、一偏光方向の吸収係数が大きいNd:Y
VO4を採用しているにもかかわらず、効率の良い励起
が行える。
13の入射面13aを適当な大きさにしておくこと等に
よって、励起光12が当該入射面13aへ入射する際の
損失を防止することができるとともに、当該光学素子1
3と半導体レーザ11の位置調整に精度は要求されな
い。
出面13bに反射防止コートを施すことによって、励起
光12の損失を一層低下させることもできる。
において、全反射条件が満たされない場合には、前述し
たように側面13cに反射膜(金属膜や、誘電体多層
膜)をコートすることで反射率を高く保つことができ、
ひいては励起光12の損失を減らすことができる。
のいずれか一方又は両方を、平面ではなく、凸又は凹の
曲面とし、光学素子13にレンズ効果を持たせてもよ
い。このレンズ効果によって、励起光12の透過及び反
射の状況を変化させる自由度を持つことができる。
ザ装置について、図3及び図4を参照して説明する。
装置の要部拡大図であり、図2(a)と対応している。
図3(b)は、図3(a)中のB−B矢視図である。図
4は、本実施の形態によるレーザ装置において用いられ
た光学素子23を示す拡大斜視図である。
図1及び図2に示すレーザ装置と異なる所は、前記光学
素子3に代えて光学素子23が用いられている点のみで
あるので、図3において図1及び図2中の要素と同一要
素には同一符号を付し、その重複した説明は省略する。
に示すように、貫通穴24を有する金属材料からなる板
状部材で構成されている。なお、この部材は板状に限定
されるものではない。本実施の形態では、貫通穴24の
内面24cが、光学研磨されるかあるいは反射の際に損
失が大きくならない程度に滑らかに形成されて、励起光
12に対する反射面とされている。この内面は研磨され
ているだけでもよいが、反射率を向上させるために、別
の物質により、反射膜をコートしてもよい。本実施の形
態では、貫通穴24は、その一方の開口部24a及び他
方の開口部24bを底面とするとともに内面24cを側
面とする円錐台形状を有しており、開口部24aが開口
部24bより大きくなっている。本実施の形態では、レ
ーザ光15としてTEM00モードの光を得るので、励起
光射出側とする開口部24bの形状を、このレーザーモ
ード形状に応じた形状として円形状にしている。励起光
入射側とする開口部24aの形状は、励起光12の略全
部を入射し得る形状及び大きさであれば、任意の形状
(例えば、円形状、楕円形状、矩形状、多角形状等)及
び大きさとすることができる。なお、貫通穴24の形状
は、例えば、開口部24a,24bを底面とする錘台状
又は柱状にすることができる。貫通穴24の内面24c
は、励起光射出側の開口部24bにおける光強度分布を
均一に近づけ反射の際の損失を防ぐ上で、滑らかである
ことが、好ましい。
貫通穴24の励起光入射側の開口部24aの直径を約6
00μm、励起光射出側の開口部24bの直径を約40
0μm、貫通穴24の軸方向の高さ(光軸方向(X方
向)の長さ)、すなわち、板状部材の厚みを約1mmと
している。なお、半導体レーザ11及び固体レーザ結晶
14については、前述した実施の形態と同一である。
24aが半導体レーザ11の発光面に近接して配置さ
れ、光学素子24の射出側の面が固体レーザ結晶14と
接触させている。
から出た励起光12は、前記光学素子23の貫通穴24
を経て固体レーザ結晶14を照射して、該固体レーザ結
晶14を励起する。
12の挙動について、図3(a)を参照して説明する。
半導体レーザ11から出た励起光12の光線のうち、光
軸に近いものは、光学素子23の貫通穴24の内面24
cで反射されることなく、そのまま貫通穴24を透過し
て固体レーザ結晶14に到る。一方、光軸からはずれた
光線は、光学素子23の貫通穴24の内面24cで1回
又は数回反射された後、固体レーザ結晶14に到る。X
Z平面内においては、半導体レーザ11から発する励起
光12は、半値全幅の発散角が前述したように約40°
であるので、ほとんどの光は光軸から±20°の範囲に
放出される。それゆえ、ほとんどの光のエネルギーは内
面24cで反射されることなく直接光学素子23の貫通
穴24を透過するか、あるいは、貫通穴24の内面24
cで1回反射されただけで、光学素子23の貫通穴24
を通過して固体レーザ結晶14に到る。しかし、励起光
12のうちの一部の更に大きな発散角で半導体レーザ1
1から放射された光も、光学素子23の貫通穴24の側
面24cで2回以上の反射をすることで、開口部24b
から出て固体レーザ結晶14に到る。なお、金属表面で
の1回の反射での反射率は90%から95%程度であ
り、反射回数が多いと損失が大きくなるが、ほとんどの
光は1回以内の反射で固体レーザ結晶14に到達するの
で、この損失は問題とならない。また、入射面と射出面
での反射による損失がないという利点が得られる。
12の挙動について、図3(b)を参照して説明する。
半導体レーザ11は前述したようにY方向に長さ500
μmに渡る発光面を有するが、図3(b)では、励起光
12の放出個所を4ヶ所に代表して描いている。XY平
面内における半導体レーザ11からの励起光12の放出
角度(半値全幅)は、前述したように約10°である。
励起光12のうち半導体レーザ11の発光部のY方向の
中心付近から出た光線は、貫通穴24の内面24cで反
射されることなく貫通穴24をそのまま透過して固体レ
ーザ結晶14に到るが、Y方向の周辺部から出た光は、
一部が光学素子24の内面24cによって1回反射さ
れ、光路を内側に変えられてから固体レーザ結晶14に
至る。
光12の挙動の考察からわかるように、光学素子23の
開口23bから出た励起光12は、直接光(貫通穴24
の内面24cで反射されずに直接光学素子23を透過し
た光)と、反射光(貫通穴24の内面24cで反射され
た後に光学素子23を通過した光)との混じったものと
なり、断面形状がほぼ円形で特に光強度の集中する部分
のないものとなる。その直径は、貫通穴24の開口部2
4bから遠く離れないうちは、開口部24bの直径40
0μm程度の直径を保っている。励起光は、固体レーザ
結晶14内で数100μm程度伝搬されるうちに、その
ほとんどが固体レーザ結晶14に吸収されるので、励起
光は、固体レーザ結晶14内で遠くまで伝搬されること
はなく、励起光の直径は固体レーザ結晶14中でも40
0μmを大きく上回ることはない。
の直径は600μmであるので、励起光はその直径の内
部にほぼすべてがおさまり、効率の良い励起が行える。
また、励起光の強度分布もほぼ均一であるので、過度の
励起密度による吸収の飽和や、不均一な熱レンズ効果の
発生がない。このように効率良く適切に固体レーザ結晶
14を励起することができ、それにより、レーザ光の出
力効率の向上とレーザ光の品質の劣化の防止を図ること
ができる。
前記光学素子23のみによって構成されているので、励
起光学系の構成が極めて簡単となり、コストの低減を図
ることができる。のみならず、前記光学素子23は、レ
ンズ等と異なり焦点等を結ぶものではないので、そのア
ライメントの許容範囲は大きく、アライメントの調整が
極めて容易となる。
の偏光方向からずれるが、その量は小さい。前述したよ
うに、励起光のうちの多くの光は直接透過するか又は1
回の反射しかしないため、結果として光学素子23から
射出された全体としての光の偏光方向と偏光率は、元の
半導体レーザ11から射出した際の偏光方向と偏光率か
ら大きくずれることがない。したがって、固体レーザ結
晶14として、一偏光方向の吸収係数が大きいNd:Y
VO4を採用しているにもかかわらず、効率の良い励起
が行える。
23の貫通穴24の入射側開口部24aを適当な大きさ
にしておくこと等によって、励起光12が当該開口部2
4aへ入射する際の損失を防止することができるととも
に、当該光学素子23と半導体レーザ11の位置調整に
精度は要求されない。
からなる光学素子23が固体レーザ結晶14に接触して
いることにより、当該光学素子23が、固体レーザ結晶
14で発生した熱が当該光学素子23の熱伝導によって
効率良く放熱されることになる。すなわち、光学素子2
3が放熱器を兼用することとなる。したがって、従来の
ように、励起光学系とは別に固体レーザ結晶14で発生
する熱を放熱する放熱器を設ける場合に比べて、部品点
数が減り、コストダウンを図ることができる。
るレーザ装置について、図5を参照して説明する。
実施の形態によるレーザ装置を模式的に示す概略構成図
であり、それぞれ図1(a)に対応している。これらの
図において、図1(a)中の要素と同一又は対応する要
素には同一符号を付し、その重複した説明は省略する。
図1(a)に示すレーザ装置において、固体レーザ結晶
14の励起光入射端面には前記コーティング17が形成
されておらず、これに代えて、光学素子13と固体レー
ザ結晶14との間に、励起光12に対しては無反射であ
るとともにレーザ光15に対しては全反射のレーザ共振
用ミラー19が配置されたものである。
図1(a)に示すレーザ装置において、周知のQスイッ
チ法により出力レーザ光15としてパルスレーザー光を
出力するように、固体レーザ結晶14と部分反射ミラー
16との間に、音響光学効果による変調器20が配置さ
れたものである。なお、前述した図1(a)に示すレー
ザ装置及び図5(a)に示すレーザ装置では、出力レー
ザ光15として連続光を出力することになる。
図1(a)に示すレーザ装置において、固体レーザ結晶
14の励起光入射端面には前記コーティング17が形成
されておらず、これに代えて、光学素子13と固体レー
ザ結晶14との間に、励起光12に対しては無反射であ
るとともにレーザ光15に対しては全反射のレーザ共振
用ミラー19が配置され、また、周知のQスイッチ法に
より出力レーザ光15としてパルスレーザー光を出力す
るように、固体レーザ結晶14と部分反射ミラー16と
の間に、音響光学効果による変調器20が配置されたも
のである。
(c)に示す各レーザ装置も前述した図1(a)に示す
レーザ装置と同様であり、図5(a)〜(c)に示す各
レーザ装置によっても図1(a)に示すレーザ装置と同
様の利点が得られる。
置においても、前述した図1(b)光学素子13に代え
て、前述した図4に示す光学素子を用いてもよいことは
言うまでもない。また、図5(a)〜(c)に示すレー
ザ装置においても、固体レーザ結晶14と部分反射ミラ
ー16との間には、必要に応じて、波長変換を行う非線
形結晶を配置してもよい。
したが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるもの
ではない。
学系が光学素子13又は光学素子23のみで構成されて
いたが、例えば、半導体レーザ11と光学素子13又は
光学素子23との間にファイバーを配置してもよい。こ
の場合、励起光学系が光学素子13又は光学素子23と
当該ファイバーとにより構成されることになる。この場
合には、前述した励起光の偏光状態の保持や、ファイバ
ーへの入力結合時の損失の防止や、ファイバーと励起光
源の位置調整の精度の緩和という利点を得ることはでき
ないものの、前述した従来のファイバー方式と同様に、
半導体レーザ11の配置の自由度を高めることができる
とともに、近接方式やレンズ方式で生じていた問題は発
生しない。のみならず、励起光をファイバーで導いた後
にレンズを通す従来のファイバー方式と異なり、励起光
をファイバーで導いた後に前述したように前記光学素子
にて整形するので、レンズと異なり当該光学素子の位置
調整には精度が必要ないことから、調整の手数が大幅に
軽減される。勿論、ファイバーにて導かれた後の励起光
が前記光学素子にて整形されるので、ファイバーの太さ
等にも制約がなくなる。
ーザ装置のみならず、入射光を均一な光強度分布を有す
る所望の断面形状に整形する種々の用途において用いる
ことができる。
効率良く適切にレーザ媒質を励起することによりレーザ
光の出力効率の向上とレーザ光の品質の劣化の防止を図
ることができ、しかも、構造が簡単でアライメント等の
調整が簡単なレーザ装置を提供することができる。
を簡単な構造で行うことができ、安価なレーザ装置を提
供することができる。
光強度分布を有する所望の断面形状に整形することがで
き、しかも、構造が簡単でアライメント等の調整が可能
な光学素子を提供することができる。
図であり、図1(a)は当該レーザを模式的に示す概略
構成図、図1(b)は当該レーザ装置に用いられた光学
素子を示す拡大斜視図である。
図2(a)は図1(a)中の要部拡大図、図2(b)は
図2(a)中のA−A矢視図である。
す図であり、図2(a)は当該レーザ装置の要部拡大
図、図3(b)は、図3(a)中のB−B矢視図であ
る。
素子を示す拡大斜視図である。
置を模式的に示す概略構成図である。
ある。
Claims (10)
- 【請求項1】 レーザ媒質と、励起光源とを備えたレー
ザ装置であって、前記励起光源からの励起光が前記レー
ザ媒質からの出力レーザ光と同軸的に前記レーザ媒質に
入射するように、前記励起光を前記レーザ媒質へ導く励
起光学系を備えたレーザ装置において、 前記励起光学系は、前記励起光に対して透明な材料から
なるとともに2つの底面及び側面を有する部材を有する
光学素子であって、前記2つの底面のうちの一方の底面
から前記励起光が入射され、当該入射された励起光の一
部を前記側面で反射させることなく前記2つの底面のう
ちの他方の底面から射出させ、前記入射された励起光の
残りを前記側面で反射させて前記他方の底面から射出さ
せ、前記他方の底面が所望のレーザモード形状に応じた
形状を有する光学素子を、含むことを特徴とするレーザ
装置。 - 【請求項2】 前記2つの底面のうちの少なくとも一方
の底面は曲面からなることを特徴とする請求項1記載の
レーザ装置。 - 【請求項3】 レーザ媒質と、励起光源とを備えたレー
ザ装置であって、前記励起光源からの励起光が前記レー
ザ媒質からの出力レーザ光と同軸的に前記レーザ媒質に
入射するように、前記励起光を前記レーザ媒質へ導く励
起光学系を備えたレーザ装置において、 前記励起光学系は、内面が前記励起光に対する反射面で
ある貫通穴を有する光学素子であって、前記貫通穴の2
つの開口部のうちの一方の開口部から前記励起光が入射
され、当該入射された励起光の一部を前記内面で反射さ
せることなく前記2つの開口部のうちの他方の開口部か
ら射出させ、前記入射された励起光の残りを前記内面で
反射させて前記他方の開口部から射出させ、前記他方の
開口部が所望のレーザモード形状に応じた形状を有する
光学素子を、含むことを特徴とするレーザ装置。 - 【請求項4】 前記光学素子が金属材料からなることを
特徴とする請求項3記載のレーザ装置。 - 【請求項5】 前記光学素子が前記レーザ媒質で発生す
る熱を放熱させる放熱器として兼用されたことを特徴と
する請求項3又は4記載のレーザ装置。 - 【請求項6】 前記光学素子が、前記貫通穴に対応する
穴を有する部材と、該部材の当該穴の内面にコーティン
グされた反射膜と、を有することを特徴とする請求項3
記載のレーザ装置。 - 【請求項7】 前記励起光源が半導体レーザであること
を特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のレーザ
装置。 - 【請求項8】 前記レーザ媒質が固体レーザ媒質である
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のレ
ーザ装置。 - 【請求項9】 入射光に対して透明な材料からなるとと
もに2つの底面及び側面を有する部材を有する光学素子
であって、前記2つの底面のうちの一方の底面から前記
入射光が入射され、当該入射された入射光の一部を前記
側面で反射させることなく前記2つの底面のうちの他方
の底面から射出させ、前記入射された入射光の残りを前
記側面で反射させて前記他方の底面から射出させること
を特徴とする光学素子。 - 【請求項10】 内面が入射光に対する反射面である貫
通穴を有する光学素子であって、前記貫通穴の2つの開
口部のうちの一方の開口部から前記入射光が入射され、
当該入射された入射光の一部を前記内面で反射させるこ
となく前記2つの開口部のうちの他方の開口部から射出
させ、前記入射された入射光の残りを前記内面で反射さ
せて前記他方の開口部から射出させることを特徴とする
光学素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9061832A JPH10242551A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光学素子及びこれを用いたレーザ装置 |
US09/031,417 US6049558A (en) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Optical elements for guiding laser light and laser systems comprising same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9061832A JPH10242551A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光学素子及びこれを用いたレーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10242551A true JPH10242551A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=13182475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9061832A Pending JPH10242551A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光学素子及びこれを用いたレーザ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6049558A (ja) |
JP (1) | JPH10242551A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006147987A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Keyence Corp | レーザー発振器 |
JP2007095723A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Konoshima Chemical Co Ltd | 固体レーザー |
WO2008087906A1 (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Cyber Laser Inc. | レーザパルス発生装置及び方法 |
JP2008283189A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Korea Electrotechnology Research Inst | 異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置 |
JP2010258323A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Fujikura Ltd | レーザ装置 |
JP2016033949A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 株式会社トプコン | レーザ発光装置及びレーザ測量機 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11312832A (ja) * | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レーザ励起固体レーザ |
DE19838350B4 (de) * | 1998-08-14 | 2004-04-15 | Infineon Technologies Ag | Optische Sendeeinrichtung |
US6222872B1 (en) * | 1999-09-15 | 2001-04-24 | The Regents Of The University Of California | Delivering pump light to a laser gain element while maintaining access to the laser beam |
DE60127891T2 (de) * | 2000-03-24 | 2008-01-17 | British Telecommunications P.L.C. | Optisches Kommunikationssystem und Verfahren zum Schützen eines optischen Wegs |
US6946647B1 (en) | 2000-08-10 | 2005-09-20 | Raytheon Company | Multicolor staring missile sensor system |
US7295586B2 (en) * | 2002-02-21 | 2007-11-13 | Finisar Corporation | Carbon doped GaAsSb suitable for use in tunnel junctions of long-wavelength VCSELs |
DE50310871D1 (de) * | 2002-09-02 | 2009-01-15 | Limo Patentverwaltung Gmbh | Halbleiterlaservorrichtung |
JP4041782B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2008-01-30 | 昭和オプトロニクス株式会社 | 半導体レーザ励起固体レーザ |
JP2006261194A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Jtekt Corp | ファイバレーザ発振器 |
US20100253769A1 (en) * | 2008-09-04 | 2010-10-07 | Laser Light Engines | Optical System and Assembly Method |
NL2004816A (en) * | 2009-07-07 | 2011-01-10 | Asml Netherlands Bv | Euv radiation generation apparatus. |
US10678061B2 (en) | 2009-09-03 | 2020-06-09 | Laser Light Engines, Inc. | Low etendue illumination |
US9231363B1 (en) * | 2015-02-12 | 2016-01-05 | Coherent, Inc. | Optical pumping apparatus for slab lasers and amplifiers |
CN106159659A (zh) * | 2015-04-16 | 2016-11-23 | 道中道激光科技有限公司 | 激光二极管泵浦的固体激光器 |
US11881676B2 (en) * | 2019-01-31 | 2024-01-23 | L3Harris Technologies, Inc. | End-pumped Q-switched laser |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3258717A (en) * | 1966-06-28 | Laser cavity having spherical reflectors | ||
US34729A (en) * | 1862-03-25 | Improvement in breech-loading fire-arms | ||
US3230474A (en) * | 1962-02-16 | 1966-01-18 | Paul H Keck | Solid state laser and pumping means therefor using a light condensing system |
US3731225A (en) * | 1962-04-02 | 1973-05-01 | Sanders Associates Inc | Fiber optic laser system |
US3534291A (en) * | 1967-06-07 | 1970-10-13 | Gen Electric | Apparatus for immersion of face pumped laser devices |
US3779628A (en) * | 1972-03-30 | 1973-12-18 | Corning Glass Works | Optical waveguide light source coupler |
US4114592A (en) * | 1976-08-16 | 1978-09-19 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Cylindrical radiant energy direction device with refractive medium |
US5048026A (en) * | 1983-09-30 | 1991-09-10 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Fiber optic amplifier |
US5256164A (en) * | 1988-02-02 | 1993-10-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Method of fabricating a microchip laser |
FR2648962B1 (fr) * | 1989-06-23 | 1994-09-09 | Thomson Csf | Structure d'illumination d'un barreau laser, a sources optiques defocalisees |
US5038359A (en) * | 1989-10-10 | 1991-08-06 | Hughes Aircraft Company | Self-pumped, optical phase conjugation method and apparatus using pseudo-conjugator to produce retroreflected seed beam |
GB9005647D0 (en) * | 1990-03-13 | 1990-05-09 | Secr Defence | Optical multiplexer |
US5127068A (en) * | 1990-11-16 | 1992-06-30 | Spectra-Physics, Inc. | Apparatus for coupling a multiple emitter laser diode to a multimode optical fiber |
US5307430A (en) * | 1992-11-30 | 1994-04-26 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Lensing duct |
US5359622A (en) * | 1993-03-30 | 1994-10-25 | Trw Inc. | Radial polarization laser resonator |
JP2988354B2 (ja) * | 1996-01-22 | 1999-12-13 | 日本電気株式会社 | レーザダイオード励起固体レーザ装置 |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP9061832A patent/JPH10242551A/ja active Pending
-
1998
- 1998-02-26 US US09/031,417 patent/US6049558A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006147987A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Keyence Corp | レーザー発振器 |
JP2007095723A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Konoshima Chemical Co Ltd | 固体レーザー |
JP4705831B2 (ja) * | 2005-09-27 | 2011-06-22 | 神島化学工業株式会社 | 固体レーザー |
WO2008087906A1 (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Cyber Laser Inc. | レーザパルス発生装置及び方法 |
JP2008177226A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Cyber Laser Kk | レーザパルス発生装置及び方法 |
JP2008283189A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Korea Electrotechnology Research Inst | 異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置 |
JP2010258323A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Fujikura Ltd | レーザ装置 |
JP2016033949A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 株式会社トプコン | レーザ発光装置及びレーザ測量機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6049558A (en) | 2000-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10242551A (ja) | 光学素子及びこれを用いたレーザ装置 | |
US6785304B2 (en) | Waveguide device with mode control and pump light confinement and method of using same | |
US7397832B2 (en) | Laser cavity pumping method and laser system thereof | |
US6738396B2 (en) | Laser based material processing methods and scalable architecture for material processing | |
US7965910B2 (en) | Beam combination using interleaved optical plates | |
US20030161375A1 (en) | Waveguide architecture, waveguide devices for laser processing and beam control, and laser processing applications | |
JP2002542632A (ja) | 二能動共振子式cw遠紫外レーザーシステム | |
RU2608972C2 (ru) | Твердотельное лазерное устройство с оптической накачкой и самоюстирующейся оптикой для накачки | |
JP2010500743A (ja) | 固体レーザをポンピングする光学装置 | |
WO2005091447A1 (ja) | レーザー装置 | |
JPH08213689A (ja) | 固体レーザ媒質および固体レーザ装置 | |
US6873633B2 (en) | Solid-state laser | |
US5159605A (en) | Semiconductor-laser-pumped, solid-state laser | |
US6160934A (en) | Hollow lensing duct | |
JP2001077449A (ja) | モード同期固体レーザ | |
US7839904B1 (en) | Monoblock laser systems and methods | |
US20040076212A1 (en) | Solid state laser | |
JP3211770B2 (ja) | 固体レーザ装置及びそれを備えた固体レーザ増幅器 | |
JPWO2006098313A1 (ja) | 光増幅器およびレーザ装置 | |
JPH0936462A (ja) | 固体レーザ励起方法及び固体レーザ装置 | |
JP2000077750A (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP3052546B2 (ja) | 半導体励起固体レーザ装置 | |
RU2346367C2 (ru) | Твердотельный моноимпульсный лазер и двухволновый лазерный генератор | |
JP3340683B2 (ja) | 固体レーザ励起モジュール | |
JP7511902B2 (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040223 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060509 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060926 |