JP2008177226A - レーザパルス発生装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】固体レーザ発振器の構成において、少なくとも1対のレーザ共振器と、レーザ媒体として繰り返し動作の周期より長い上準位寿命を持つ活性物質を添加した薄板形状のレーザ媒体と、レーザ共振器内に少なくとも1の反射体上に設けた薄板形状のレーザ媒体と共振器内に設けたQスイッチ素子と、レーザ媒体を光励起する励起源と、Qスイッチ素子を駆動する制御部を備える。該制御部により、Qスイッチ素子のオン状態で発振を起こし、レーザ媒体内の活性物質の上準位密度が残存している発振中にQスイッチをオフに切り替えて発振を遮断する。Qスイッチがオン状態であればQスイッチパルスを発振できるように上準位の励起密度を維持するので、安定な高繰り返しパルス発振を実現できる。
【選択図】図1
Description
2:基板
3:集光レンズ
4:偏光板
5:Qスイッチ
6:ミラー
7:出力ビーム
8:光路
9、10:高調波変換手段
11:レーザ発振の基本波
12:励起用光源
13:QスイッチのRF制御部
14:波長選択ミラー
15:高調波出力ビーム
16:励起光
17:ミラー
Claims (9)
- 所定の繰り返し周波数でパルスを発生するレーザパルス発生装置であって
複数の反射体を有するレーザ共振器、レーザ媒体、前記レーザ共振器内の光路上に設けたQスイッチ、前記レーザ媒体を光励起する励起源、及び前記Qスイッチを駆動する制御部とを備えており、前記制御部がレーザ発振中に前記Qスイッチをオンからオフにする手段を有することを特徴とするレーザパルス発生装置。 - 前記レーザ媒体には活性物質が添加されており、前記繰り返し周波数に対応した周期よりも前記活性物質の上準位寿命が長いことを特徴とする、請求項1に記載のレーザパルス発生装置。
- 前記レーザ媒体が前記レーザ共振器内の少なくとも1の反射体上に設けられた薄板レーザ媒体であることを特徴とする請求項1または2に記載のレーザパルス発生装置。
- さらに、高調波変換手段を有したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載されたレーザパルス発生装置。
- 前記活性物質がYb、Ndを含む希土類イオンの少なくとも1つを含有することを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項に記載されたレーザパルス発生装置。
- 前記繰り返し周波数が20kHz以上であることを特徴とする請求項5に記載されたレーザパルス発生装置。
- レーザ媒体を励起するステップ、
Qスイッチをオン状態にするステップ、
前記レーザ媒体からのレーザ発振を開始させるステップ、
前記レーザ発振中に前記Qスイッチをオフ状態に切り替え前記レーザ発振を遮断するステップ、及び前記Qスイッチのオン及びオフを所定の周波数で繰り返すステップを有するレーザパルス発生方法。 - 前記レーザ媒体に活性物質が添加されており、前記所定の繰り返し周波数を該活性物質の上準位寿命より短い周期に対応した周波数とすることを特徴とした、請求項7に記載のレーザパルス発生方法。
- さらに、発生したレーザパルスを高調波に変換するステップを有することを特徴とする、請求項7または8に記載されたレーザパルス発生方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007007087A JP2008177226A (ja) | 2007-01-16 | 2007-01-16 | レーザパルス発生装置及び方法 |
KR1020097014652A KR20090100393A (ko) | 2007-01-16 | 2008-01-11 | 레이저 펄스 발생 장치 및 방법 |
PCT/JP2008/050275 WO2008087906A1 (ja) | 2007-01-16 | 2008-01-11 | レーザパルス発生装置及び方法 |
CNA2008800024121A CN101584094A (zh) | 2007-01-16 | 2008-01-11 | 激光脉冲发生装置及方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007007087A JP2008177226A (ja) | 2007-01-16 | 2007-01-16 | レーザパルス発生装置及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008177226A true JP2008177226A (ja) | 2008-07-31 |
JP2008177226A5 JP2008177226A5 (ja) | 2010-03-04 |
Family
ID=39635910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007007087A Pending JP2008177226A (ja) | 2007-01-16 | 2007-01-16 | レーザパルス発生装置及び方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008177226A (ja) |
KR (1) | KR20090100393A (ja) |
CN (1) | CN101584094A (ja) |
WO (1) | WO2008087906A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113366610A (zh) * | 2019-02-25 | 2021-09-07 | 科磊股份有限公司 | 用于使用交错脉冲照明源泵浦激光维持等离子体的***及方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101643746B1 (ko) * | 2015-06-12 | 2016-07-29 | 예림엔지니어링 주식회사 | 피부 치료를 위한 레이저 펄스 제어 방법 |
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-
2007
- 2007-01-16 JP JP2007007087A patent/JP2008177226A/ja active Pending
-
2008
- 2008-01-11 WO PCT/JP2008/050275 patent/WO2008087906A1/ja active Application Filing
- 2008-01-11 CN CNA2008800024121A patent/CN101584094A/zh active Pending
- 2008-01-11 KR KR1020097014652A patent/KR20090100393A/ko not_active Application Discontinuation
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CN113366610B (zh) * | 2019-02-25 | 2022-09-27 | 科磊股份有限公司 | 用于使用交错脉冲照明源泵浦激光维持等离子体的***及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101584094A (zh) | 2009-11-18 |
KR20090100393A (ko) | 2009-09-23 |
WO2008087906A1 (ja) | 2008-07-24 |
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