JPH10241111A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH10241111A JPH10241111A JP4113797A JP4113797A JPH10241111A JP H10241111 A JPH10241111 A JP H10241111A JP 4113797 A JP4113797 A JP 4113797A JP 4113797 A JP4113797 A JP 4113797A JP H10241111 A JPH10241111 A JP H10241111A
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- film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁性膜の摩耗によりテープの磁性面と磁性膜
間にスペーシングが発生して記録再生感度が劣化するよ
うなことがなく、長期にわたり、安定した高密度磁気記
録再生が可能な高感度の磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 磁性膜１の両側面に、磁性膜１より耐摩
耗性が低く、厚みが２μｍ以上で且つトラック幅の２分
の１以下の非磁性導電膜３を被着し、非磁性基板２で挟
持する。
間にスペーシングが発生して記録再生感度が劣化するよ
うなことがなく、長期にわたり、安定した高密度磁気記
録再生が可能な高感度の磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 磁性膜１の両側面に、磁性膜１より耐摩
耗性が低く、厚みが２μｍ以上で且つトラック幅の２分
の１以下の非磁性導電膜３を被着し、非磁性基板２で挟
持する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビデオテープレコ
ーダ、コンピュータのデータストレージ等の高密度磁気
記録再生装置に用いられる磁気へッドに関する。
ーダ、コンピュータのデータストレージ等の高密度磁気
記録再生装置に用いられる磁気へッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、図１４に示すような、非磁性
基板２の間に磁性膜１を挟み接合してつくられた、いわ
ゆるサンドウイッチ型磁気ヘッドは、テープと接触して
いる面において、磁束伝達に寄与する磁性膜１の占める
面積に比し、その磁性膜１を挟持している非磁性コア部
分の占める面積の方が比較的多い。この為に、非磁性コ
アの耐摩耗性を上げ、ヘッドが摩耗しないようにする構
成がとられている。したがって、非磁性コアと磁性膜１
の耐摩耗性が異なり、磁性膜１の耐摩耗性が非磁性コア
のそれに比べ低くなるため、ある程度使用すると、図１
３に示すように、磁性膜１が陥没した状態になりやす
く、テープとの当たりが確保されなくなったり、テープ
磁性面と磁性膜間にスペーシングが発生して、記録再生
感度を著しく劣化させる原因になる。
基板２の間に磁性膜１を挟み接合してつくられた、いわ
ゆるサンドウイッチ型磁気ヘッドは、テープと接触して
いる面において、磁束伝達に寄与する磁性膜１の占める
面積に比し、その磁性膜１を挟持している非磁性コア部
分の占める面積の方が比較的多い。この為に、非磁性コ
アの耐摩耗性を上げ、ヘッドが摩耗しないようにする構
成がとられている。したがって、非磁性コアと磁性膜１
の耐摩耗性が異なり、磁性膜１の耐摩耗性が非磁性コア
のそれに比べ低くなるため、ある程度使用すると、図１
３に示すように、磁性膜１が陥没した状態になりやす
く、テープとの当たりが確保されなくなったり、テープ
磁性面と磁性膜間にスペーシングが発生して、記録再生
感度を著しく劣化させる原因になる。
【０００３】一方、磁性コアとなる磁性膜の材料は、磁
気テープの書き込み磁界を満足するために必要とされる
飽和磁束密度やヘッド効率を決定する透磁率および異方
性の制御の容易さなどで選別、決定されるために、選択
の自由度が少ない。それ故、非磁性コア材としては、磁
性膜のそれにほぼ近い摩耗特性を有し、磁性膜の陥没が
顕著に発生せず、さらにヘッドのテープ摺動による寿命
が長時間になるような非磁性コア材を求め、各種磁気テ
ープ、各種テープパス系で実験等により決定していた。
この為、テープとパス系の実験により材料が一旦決まる
と、その後、スティフネスの異なる各種テープを使用す
る場合などで不都合が発生したり、また磁性膜との摩耗
量のバランスで非磁性コア材の摩耗性も選択する必要が
あるため、十分なヘッドとしての耐摩耗性が確保でき
ず、寿命が短い仕様性能となる場合があった。
気テープの書き込み磁界を満足するために必要とされる
飽和磁束密度やヘッド効率を決定する透磁率および異方
性の制御の容易さなどで選別、決定されるために、選択
の自由度が少ない。それ故、非磁性コア材としては、磁
性膜のそれにほぼ近い摩耗特性を有し、磁性膜の陥没が
顕著に発生せず、さらにヘッドのテープ摺動による寿命
が長時間になるような非磁性コア材を求め、各種磁気テ
ープ、各種テープパス系で実験等により決定していた。
この為、テープとパス系の実験により材料が一旦決まる
と、その後、スティフネスの異なる各種テープを使用す
る場合などで不都合が発生したり、また磁性膜との摩耗
量のバランスで非磁性コア材の摩耗性も選択する必要が
あるため、十分なヘッドとしての耐摩耗性が確保でき
ず、寿命が短い仕様性能となる場合があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述のような
問題を解決するためになされたもので、非磁性基板によ
って磁性コアとなる金属磁性膜を挟持し、高密度の磁気
記録再生を行う磁気ヘッドにおいて、その金属磁性膜の
摩耗により、テープの磁性面と磁気ヘッドの金属磁性膜
間にスペーシングが発生し、記録再生感度を劣化させる
ようなことなく、長期にわたり、安定した高密度磁気記
録再生が可能な高感度の磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
問題を解決するためになされたもので、非磁性基板によ
って磁性コアとなる金属磁性膜を挟持し、高密度の磁気
記録再生を行う磁気ヘッドにおいて、その金属磁性膜の
摩耗により、テープの磁性面と磁気ヘッドの金属磁性膜
間にスペーシングが発生し、記録再生感度を劣化させる
ようなことなく、長期にわたり、安定した高密度磁気記
録再生が可能な高感度の磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、非磁性基板間に少なくとも金属磁性膜
を挟持しており、この金属磁性膜はテープの摺動方向、
もしくはヘッドアジマス分ずれた摺動方向に延在する磁
気へッドであって、この金属磁性膜の両側面には、厚み
が２μｍ以上で且つトラック幅の２分の１以下である非
磁性導電膜を有するものである。
めに、本発明は、非磁性基板間に少なくとも金属磁性膜
を挟持しており、この金属磁性膜はテープの摺動方向、
もしくはヘッドアジマス分ずれた摺動方向に延在する磁
気へッドであって、この金属磁性膜の両側面には、厚み
が２μｍ以上で且つトラック幅の２分の１以下である非
磁性導電膜を有するものである。
【０００６】そして、非磁性導電膜の耐摩耗性は、金属
磁性膜の耐摩耗性より小さいこととする。
磁性膜の耐摩耗性より小さいこととする。
【０００７】また、非磁性導電膜の電気抵抗は、金属磁
性膜の電気抵抗より小さいことする。
性膜の電気抵抗より小さいことする。
【０００８】さらに、金属磁性膜の有する磁化困難軸方
向は、ヘッドギャップ面と略直交することとする。
向は、ヘッドギャップ面と略直交することとする。
【０００９】さらに、この磁化困難軸方向は、非磁性導
電膜と磁性金属膜との熱膨張率の差異により金属磁性膜
内に形成される応力と、金属磁性膜の有する磁歪とによ
り形成されることとする。
電膜と磁性金属膜との熱膨張率の差異により金属磁性膜
内に形成される応力と、金属磁性膜の有する磁歪とによ
り形成されることとする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の実
施の形態に係る磁気ヘッドの概略斜視図である。図示の
ように、本発明の磁気ヘッドは、非磁性基板２と、その
非磁性基板２上に被着形成した非磁性導電膜３と、本磁
気ヘッドの磁性コアとなる磁性膜１とで、コア部を構成
し、中央部の巻線穴を通して、このコア部に巻線した巻
線コイル４により、記録再生信号の授受を行う。なお、
従来の技術で記したものと同一部材または同一機能のも
のは、同一符号で示している。
て、図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の実
施の形態に係る磁気ヘッドの概略斜視図である。図示の
ように、本発明の磁気ヘッドは、非磁性基板２と、その
非磁性基板２上に被着形成した非磁性導電膜３と、本磁
気ヘッドの磁性コアとなる磁性膜１とで、コア部を構成
し、中央部の巻線穴を通して、このコア部に巻線した巻
線コイル４により、記録再生信号の授受を行う。なお、
従来の技術で記したものと同一部材または同一機能のも
のは、同一符号で示している。
【００１１】つぎに、ビデオテープレコーダに使用する
磁気ヘッドを例に、本発明の実施の形態に係る磁気ヘッ
ドの製造方法について説明する。まず、Ａｌ2Ｏ3／Ｔｉ
Ｃ複合セラミックス（いわゆるアルチック）やサファイ
ア等の高硬度の非磁性基板２を、図３に示すような、３
０ｍｍ×３ｍｍ×０．５ｍｍの形状に切断する。つぎ
に、図４に示すように、非磁性導電材のスパッタ、蒸着
等により、その主面に非磁性導電膜３を被着、形成す
る。本実施の形態例では非磁性導電膜３としてＡｌ膜を
厚さ３μｍ程度形成したが、この非磁性導電膜３の耐摩
耗性は磁性膜１のそれより小さい必要がある。なぜなら
ば、本磁気ヘッドが長時間テープで擦られた時、磁性コ
アである磁性膜１よりその縁部に接着された非磁性導電
膜３がいくらか大目に摩耗することにより、テープのヘ
ッドへの当たり具合がよくなるためである。従って、こ
の非磁性導電膜３はある程度の厚みが必要となる。最近
の磁気記録は高密度化が進み、トラック幅が２０〜３０
μｍ以下になってきていることを考慮すると、上述の非
磁性導電膜の厚みは、最小２μｍ以上でないと、上述の
長時間走行時のテープ当たりを良好に保持することがで
きない。他方、非磁性導電膜３の厚みが大きすぎると、
その非磁性導電膜３の摩耗が進みすぎて、非磁性導電膜
３の存在効果がなくなってしまうので、非磁性導電膜３
の厚みはトラック幅の２分の１以下にしなければならな
い。
磁気ヘッドを例に、本発明の実施の形態に係る磁気ヘッ
ドの製造方法について説明する。まず、Ａｌ2Ｏ3／Ｔｉ
Ｃ複合セラミックス（いわゆるアルチック）やサファイ
ア等の高硬度の非磁性基板２を、図３に示すような、３
０ｍｍ×３ｍｍ×０．５ｍｍの形状に切断する。つぎ
に、図４に示すように、非磁性導電材のスパッタ、蒸着
等により、その主面に非磁性導電膜３を被着、形成す
る。本実施の形態例では非磁性導電膜３としてＡｌ膜を
厚さ３μｍ程度形成したが、この非磁性導電膜３の耐摩
耗性は磁性膜１のそれより小さい必要がある。なぜなら
ば、本磁気ヘッドが長時間テープで擦られた時、磁性コ
アである磁性膜１よりその縁部に接着された非磁性導電
膜３がいくらか大目に摩耗することにより、テープのヘ
ッドへの当たり具合がよくなるためである。従って、こ
の非磁性導電膜３はある程度の厚みが必要となる。最近
の磁気記録は高密度化が進み、トラック幅が２０〜３０
μｍ以下になってきていることを考慮すると、上述の非
磁性導電膜の厚みは、最小２μｍ以上でないと、上述の
長時間走行時のテープ当たりを良好に保持することがで
きない。他方、非磁性導電膜３の厚みが大きすぎると、
その非磁性導電膜３の摩耗が進みすぎて、非磁性導電膜
３の存在効果がなくなってしまうので、非磁性導電膜３
の厚みはトラック幅の２分の１以下にしなければならな
い。
【００１２】つぎに、図５に示すように、この非磁性導
電膜３の上に、スパッタにより、磁性膜１をアジマス分
を考慮したトラック幅相当の厚みだけ形成する。本実施
例では磁性膜材料として磁歪５×１０-7、熱膨張係数が
１３０×１０-7／℃のセンダストを用い、厚さ１５μｍ
の磁性膜１を形成した。非磁性導電膜３のＡｌは熱膨張
係数が２２４×１０-7／℃と大きいので、センダストの
スパッタ時の基板温度を８０℃に保持して、スパッタ固
有の応力が無視できる程度にし、Ａｌ膜とセンダスト膜
との熱膨張係数差により発生する応力を大きくする。こ
うして、ヘッド組み込み時のセンダスト膜に大きな圧縮
応力がかかり、リング状のヘッドコアにした際に、ヘッ
ドギャップ５の近傍の磁路方向が概ね磁化困難軸方向と
なるように、非磁性導電膜３の材料を選択し、高周波に
おける透磁率の改善を行う。
電膜３の上に、スパッタにより、磁性膜１をアジマス分
を考慮したトラック幅相当の厚みだけ形成する。本実施
例では磁性膜材料として磁歪５×１０-7、熱膨張係数が
１３０×１０-7／℃のセンダストを用い、厚さ１５μｍ
の磁性膜１を形成した。非磁性導電膜３のＡｌは熱膨張
係数が２２４×１０-7／℃と大きいので、センダストの
スパッタ時の基板温度を８０℃に保持して、スパッタ固
有の応力が無視できる程度にし、Ａｌ膜とセンダスト膜
との熱膨張係数差により発生する応力を大きくする。こ
うして、ヘッド組み込み時のセンダスト膜に大きな圧縮
応力がかかり、リング状のヘッドコアにした際に、ヘッ
ドギャップ５の近傍の磁路方向が概ね磁化困難軸方向と
なるように、非磁性導電膜３の材料を選択し、高周波に
おける透磁率の改善を行う。
【００１３】また、非磁性導電膜３の導電性を磁性膜１
の導電性より高いものを選ぶことにより、磁気コア側面
に於ける磁束のリークを渦電流損失により減少させ、ヘ
ッドのインダクタンス低下とヘッド効率を改善する。
の導電性より高いものを選ぶことにより、磁気コア側面
に於ける磁束のリークを渦電流損失により減少させ、ヘ
ッドのインダクタンス低下とヘッド効率を改善する。
【００１４】そして、図６に示すように、この磁性膜１
の膜面上に、さらに上述の非磁性導電膜３と同じ非磁性
導電膜３を形成する。こうして形成された基板を10数枚
密着、接着して、図７に示すような塊状の基板ブロック
を作製する。この基板間接着は、例えば、５００℃程度
の温度で可溶なガラスを基板表面にスパッタ等で薄く形
成して、基板を積み重ねて圧力、温度を加えることで良
好な接着が得られる。
の膜面上に、さらに上述の非磁性導電膜３と同じ非磁性
導電膜３を形成する。こうして形成された基板を10数枚
密着、接着して、図７に示すような塊状の基板ブロック
を作製する。この基板間接着は、例えば、５００℃程度
の温度で可溶なガラスを基板表面にスパッタ等で薄く形
成して、基板を積み重ねて圧力、温度を加えることで良
好な接着が得られる。
【００１５】図７で示す基板を重ねた塊状のブロック
を、図８に示すように、ヘッドギャップ面を露出したブ
ロック状に切断して、ヘッドギャップ面を所定の面荒
さ、例えば、２００〜５００オングストローム程度の表
面となるように研磨し、３０ｍｍ×３ｍｍ×１ｍｍのコ
アブロックを得る。なお、このブロックからの切断時、
図２に示すようなアジマスを必要とするヘッドの場合
は、アジマス分を考慮した角度でコアブロックを切り出
すことで、ヘッド完成時の磁性膜が、アジマスのあるヘ
ッドギャップにも拘わらず、テープ走行方向に延在する
ようにできる。図２は磁気ヘッドのテープ摺動面のヘッ
ドギャップ５近傍の拡大図であり、このアジマス角度は
磁気記録再生のフォーマットにより異なっている。
を、図８に示すように、ヘッドギャップ面を露出したブ
ロック状に切断して、ヘッドギャップ面を所定の面荒
さ、例えば、２００〜５００オングストローム程度の表
面となるように研磨し、３０ｍｍ×３ｍｍ×１ｍｍのコ
アブロックを得る。なお、このブロックからの切断時、
図２に示すようなアジマスを必要とするヘッドの場合
は、アジマス分を考慮した角度でコアブロックを切り出
すことで、ヘッド完成時の磁性膜が、アジマスのあるヘ
ッドギャップにも拘わらず、テープ走行方向に延在する
ようにできる。図２は磁気ヘッドのテープ摺動面のヘッ
ドギャップ５近傍の拡大図であり、このアジマス角度は
磁気記録再生のフォーマットにより異なっている。
【００１６】つぎに、図９に示すように、テープ摺動面
側から２００μｍ程度の幅を残して、開口幅が５００μ
ｍで深さが１５０μｍ、接触面側の先端の傾斜角度が４
５度で、ヘッド完成時の断面が５角形の形状となり、巻
線を行うための巻線穴となる巻線溝を形成する。
側から２００μｍ程度の幅を残して、開口幅が５００μ
ｍで深さが１５０μｍ、接触面側の先端の傾斜角度が４
５度で、ヘッド完成時の断面が５角形の形状となり、巻
線を行うための巻線穴となる巻線溝を形成する。
【００１７】さらに、図示は省略するが、磁気的ギャッ
プとなる非磁性膜を研磨したヘッドギャップ面に成膜す
る。本実施の形態例では、両側コアにそれぞれ０．１μ
ｍのＳｉＯ2を蒸着して、最終的に０．２μｍの磁気的
ギャップが得られる構成の非磁性膜を形成した。
プとなる非磁性膜を研磨したヘッドギャップ面に成膜す
る。本実施の形態例では、両側コアにそれぞれ０．１μ
ｍのＳｉＯ2を蒸着して、最終的に０．２μｍの磁気的
ギャップが得られる構成の非磁性膜を形成した。
【００１８】そして、二つのコアブロック間の磁気コア
同士が位置的に対向するように、コアとコアの接続を行
う。そして巻線溝内に、磁性膜を劣化させない温度で軟
化する棒状のガラスを挿入し、加熱する。もしくは、酸
化し難い金属をギャップ膜とともに所定の膜厚となるよ
うに形成し、圧力下で適当な温度を印加する。このよう
な方法により、二つのコアの接着を行い、図１０に示す
ような連続した磁気コアを持つコアブロックを作製す
る。
同士が位置的に対向するように、コアとコアの接続を行
う。そして巻線溝内に、磁性膜を劣化させない温度で軟
化する棒状のガラスを挿入し、加熱する。もしくは、酸
化し難い金属をギャップ膜とともに所定の膜厚となるよ
うに形成し、圧力下で適当な温度を印加する。このよう
な方法により、二つのコアの接着を行い、図１０に示す
ような連続した磁気コアを持つコアブロックを作製す
る。
【００１９】さらに磁気ヘッドを用いるフォーマットに
対応したアジマスを考慮して、図１１のように、接着済
みコアブロックから多数の個別のヘッドコアに切断し
て、目的とするヘッドコアを作製し、さらにそのヘッド
コアに巻線を施し、磁気ヘッドを完成する。
対応したアジマスを考慮して、図１１のように、接着済
みコアブロックから多数の個別のヘッドコアに切断し
て、目的とするヘッドコアを作製し、さらにそのヘッド
コアに巻線を施し、磁気ヘッドを完成する。
【００２０】つぎに、本実施の形態例の磁気ヘッドの走
行試験を行った。所定時間走行後、磁気ヘッドを観察す
ると、図１２に示すように、磁性膜１の両側面と接する
非磁性導電膜３の摩耗が進む結果、トラック幅部分は良
好なテープ当たりが得られていた。図１３に示す従来の
磁気ヘッドの当たりに比較して、テープ当たりが長時間
走行後も良好なまま保つことができ、従来は１０ＭＨｚ
の周波数の観察で、１００時間の走行で３ｄＢ程度あっ
た局所的摩耗による出力低下が１ｄＢに抑制することが
でき、記録再生特性が改善された。
行試験を行った。所定時間走行後、磁気ヘッドを観察す
ると、図１２に示すように、磁性膜１の両側面と接する
非磁性導電膜３の摩耗が進む結果、トラック幅部分は良
好なテープ当たりが得られていた。図１３に示す従来の
磁気ヘッドの当たりに比較して、テープ当たりが長時間
走行後も良好なまま保つことができ、従来は１０ＭＨｚ
の周波数の観察で、１００時間の走行で３ｄＢ程度あっ
た局所的摩耗による出力低下が１ｄＢに抑制することが
でき、記録再生特性が改善された。
【００２１】また、非磁性導電膜と磁性膜の熱膨張率の
差異により発生する応力を磁性膜の異方性に利用し、そ
の異方性の方向とヘッドギャップ近傍の磁路方向と一致
させることにより、ヘッドの記録および再生感度を向上
させることができた。特に、これは高周波で顕著な効果
が得られ、２０ＭＨｚにおけるヘッド出力が、本発明に
よる実施を行わず、応力による影響が磁性膜に対して及
ばないように非磁性導電膜を形成した場合に比べ、摩耗
による影響がなく且つ摩耗が発生していないテープの初
期走行の時点で、２ｄＢの改善が観測された。
差異により発生する応力を磁性膜の異方性に利用し、そ
の異方性の方向とヘッドギャップ近傍の磁路方向と一致
させることにより、ヘッドの記録および再生感度を向上
させることができた。特に、これは高周波で顕著な効果
が得られ、２０ＭＨｚにおけるヘッド出力が、本発明に
よる実施を行わず、応力による影響が磁性膜に対して及
ばないように非磁性導電膜を形成した場合に比べ、摩耗
による影響がなく且つ摩耗が発生していないテープの初
期走行の時点で、２ｄＢの改善が観測された。
【００２２】さらに、非磁性導電膜における渦電流発生
により、磁気的な漏洩が防げる結果、２０ＭＨｚのヘッ
ド出力が、本発明による実施を行わない抵抗値の高い非
磁性金属膜を磁性膜側面に配置した場合に比べ、摩耗が
発生していない初期のテープ走行時において、０．３ｄ
Ｂ改善された。
により、磁気的な漏洩が防げる結果、２０ＭＨｚのヘッ
ド出力が、本発明による実施を行わない抵抗値の高い非
磁性金属膜を磁性膜側面に配置した場合に比べ、摩耗が
発生していない初期のテープ走行時において、０．３ｄ
Ｂ改善された。
【００２３】なお、本実施の形態例では、金属磁性膜の
両側面に非磁性導電膜を設置した場合について記述した
が、片側の設置でも良いし、加工工程についても、例え
ば、酸化しにくい金属による圧着接合とガラス溶融によ
る接合とを組み合わせることも可能である。
両側面に非磁性導電膜を設置した場合について記述した
が、片側の設置でも良いし、加工工程についても、例え
ば、酸化しにくい金属による圧着接合とガラス溶融によ
る接合とを組み合わせることも可能である。
【００２４】また、磁性膜についてもセンダストだけで
なく、ＦｅＮｉ、ＦｅＲｕＧａＳｉ等の結晶質軟磁性金
属膜、ＦｅＣｏＺｒＢ等のアモルファス軟磁性金属膜、
さらにＦｅＴａＮ等の窒化物系や炭化物系微結晶軟磁性
膜など、構成、工程における使用材料については、本発
明の主旨を逸脱しない範囲で各種用いることが可能であ
る。
なく、ＦｅＮｉ、ＦｅＲｕＧａＳｉ等の結晶質軟磁性金
属膜、ＦｅＣｏＺｒＢ等のアモルファス軟磁性金属膜、
さらにＦｅＴａＮ等の窒化物系や炭化物系微結晶軟磁性
膜など、構成、工程における使用材料については、本発
明の主旨を逸脱しない範囲で各種用いることが可能であ
る。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、長
時間走行によるテープ摺動面の摩耗から形成されるテー
プの磁性面と磁気ヘッドの磁性膜間のスペーシングを極
小化でき、記録再生感度を劣化させるようなことなく、
長期にわたり、安定した高密度磁気記録再生が可能な高
感度の磁気ヘッドを得ることができる。
時間走行によるテープ摺動面の摩耗から形成されるテー
プの磁性面と磁気ヘッドの磁性膜間のスペーシングを極
小化でき、記録再生感度を劣化させるようなことなく、
長期にわたり、安定した高密度磁気記録再生が可能な高
感度の磁気ヘッドを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドの概略斜
視図である。
視図である。
【図２】実施の形態例の磁気ヘッドのテープ摺動面にお
けるヘッドギャップの近傍の拡大図である。
けるヘッドギャップの近傍の拡大図である。
【図３】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
１）を説明する要部斜視図である。
１）を説明する要部斜視図である。
【図４】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
２）を説明する要部斜視図である。
２）を説明する要部斜視図である。
【図５】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
３）を説明する要部斜視図である。
３）を説明する要部斜視図である。
【図６】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
４）を説明する要部斜視図である。
４）を説明する要部斜視図である。
【図７】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
５）を説明する要部斜視図である。
５）を説明する要部斜視図である。
【図８】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
６）を説明する要部斜視図である。
６）を説明する要部斜視図である。
【図９】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
７）を説明する要部斜視図である。
７）を説明する要部斜視図である。
【図１０】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
８）を説明する要部斜視図である。
８）を説明する要部斜視図である。
【図１１】実施の形態例の磁気ヘッドの製造工程（その
９）を説明する要部斜視図である。
９）を説明する要部斜視図である。
【図１２】本発明の磁気ヘッドの長時間走行後のテープ
当たり状態を説明する説明図である。
当たり状態を説明する説明図である。
【図１３】従来の磁気ヘッドの長時間走行後のテープ当
たり状態を説明する説明図である。
たり状態を説明する説明図である。
【図１４】従来の磁気ヘッドの概略斜視図である。
１…磁性膜、２…非磁性基板、３…非磁性導電膜、４…
巻線コイル、５…ヘッドギャップ。
巻線コイル、５…ヘッドギャップ。
Claims (5)
- 【請求項１】 非磁性基板間に少なくとも金属磁性膜を
挟持し、該金属磁性膜はテープの摺動方向、もしくはヘ
ッドアジマス分ずれた摺動方向に延在する磁気へッドに
おいて、 前記金属磁性膜の両側面に、厚みが２μｍ以上で且つト
ラック幅の２分の１以下である非磁性導電膜を有するこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記非磁性導電膜の耐摩耗性は、前記金
属磁性膜の耐摩耗性より小さいことを特徴とする請求項
１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記非磁性導電膜の電気抵抗は、前記金
属磁性膜の電気抵抗より小さいことを特徴とする請求項
１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記金属磁性膜の有する磁化困難軸方向
は、ヘッドギャップ面と略直交することを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項５】 前記磁化困難軸方向は、前記非磁性導電
膜と前記金属磁性膜との熱膨張率の差異により前記金属
磁性膜内に形成される応力と、前記金属磁性膜の有する
磁歪とにより形成されることを特徴とする請求項４記載
の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4113797A JPH10241111A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4113797A JPH10241111A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10241111A true JPH10241111A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=12600057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4113797A Abandoned JPH10241111A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10241111A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020128583A (ja) * | 2019-02-12 | 2020-08-27 | Ｊｘ金属株式会社 | スパッタリングターゲット−バッキングプレート接合体 |
-
1997
- 1997-02-25 JP JP4113797A patent/JPH10241111A/ja not_active Abandoned
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020128583A (ja) * | 2019-02-12 | 2020-08-27 | Ｊｘ金属株式会社 | スパッタリングターゲット−バッキングプレート接合体 |
| US11538673B2 (en) | 2019-02-12 | 2022-12-27 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Sputtering target-backing plate assembly |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050201 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050308 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Effective date: 20050509 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 |