JPH10209241A - 基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置 - Google Patents

基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置

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JPH10209241A
JPH10209241A JP572097A JP572097A JPH10209241A JP H10209241 A JPH10209241 A JP H10209241A JP 572097 A JP572097 A JP 572097A JP 572097 A JP572097 A JP 572097A JP H10209241 A JPH10209241 A JP H10209241A
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JP
Japan
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substrate
transfer
unit
transport
processing
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Application number
JP572097A
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English (en)
Inventor
Akira Harada
明 原田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 上下方向の空間を有効に利用することにより
設置面積を低減することができる基板搬送装置およびそ
れを備えた基板処理装置を提供することである。 【解決手段】 処理領域Bは上部処理領域B1および下
部処理領域B2を含む。上部処理領域B1には複数の基
板処理ユニット201が複数段に配置され、下部処理領
域B2にも複数の基板処理ユニット202が複数段に配
置される。上部処理領域B1および下部処理領域B2に
対応して上部搬送領域および下部搬送領域が配置され
る。上部搬送領域には基板搬送ユニット101が設けら
れ、下部搬送領域には基板搬送ユニット102が設けら
れる。各基板搬送ユニット101,102は伸縮昇降機
構4を含む。上部搬送領域と下部搬送領域との間は間仕
切り25で遮蔽される。搬送領域の一端部側には基板を
上下方向に搬送する昇降装置300が設けられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を搬送する基
板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセ
スでは、生産効率を高めるために一連の処理の各々をユ
ニット化し、複数の基板処理ユニットを統合した基板処
理装置が用いられている。このような基板処理装置で
は、一般に、1枚の基板に対して複数の異なる処理が連
続的に行われる。そのため、各基板処理ユニット間で基
板を搬送する基板搬送ユニットが設けられている。
【0003】図8は基板搬送ユニットを備えた従来の基
板処理装置の一例を示す平面図、図9は図8の基板処理
装置の搬送領域から見た正面図である。
【0004】図8の基板処理装置は、処理領域A,Bお
よび搬送領域Cを有する。処理領域Aに複数の基板処理
ユニット200が配置され、処理領域Bに複数の基板処
理ユニット201が配置され、搬送領域Cに基板搬送ユ
ニット100が設けられている。
【0005】また、処理領域A,Bおよび搬送領域Cの
一端部側には、基板の搬入および搬出を行うインデクサ
400が設けられ、搬送領域Cの他端部側には、他の基
板処理装置との間で基板の受け渡しを行う基板受渡し部
500が設けられている。基板受渡し部500には複数
の基板支持ピン501が設けられ、これらの基板支持ピ
ン501上に基板が載置される。
【0006】図9に示すように、処理領域Bには複数の
基板処理ユニット201が複数段に配置され、各基板処
理ユニット201には基板の搬入および搬出を行うため
の開口部21が設けられている。
【0007】基板搬送ユニット100は、基板を保持す
るハンド51、移動体52、昇降部53、ベース部材5
4およびボールねじ55を含む。ベース部材54は、Y
軸方向(搬送領域Cの長手方向)に移動可能にガイド部
材56に案内されている。昇降部53は、鉛直方向に配
置されたボールねじ55によりZ軸方向(鉛直軸方向)
に移動可能にベース部材54に設けられている。
【0008】移動体52は、θ軸方向(鉛直軸を中心と
する回転方向)に回転可能に昇降部53上に設けられて
いる。ハンド51は、X軸方向(所定の水平方向)に前
進および後退可能に移動体52に設けられている。な
お、移動体52が回転することによりX軸方向も回転す
る。
【0009】上記の構造により、基板搬送ユニット10
0のハンド51が、破線で示すように、Y軸方向に移動
し、Z軸方向に昇降するとともに、θ軸方向に回動し、
さらにX軸方向に前進および後退することができる。
【0010】図8において、インデクサ400の移載ロ
ボット402は、矢印Uの方向に移動し、カセット40
1から基板Wを取り出して基板搬送ユニット100に渡
し、逆に、一連の処理が施された基板Wを基板搬送ユニ
ット100から受け取ってカセット401に戻す。
【0011】基板搬送ユニット100は、搬送領域C内
で基板WをY軸方向に搬送するとともに、移載ロボット
400との間で基板Wの受け渡しを行い、基板処理ユニ
ット200に対して基板Wの搬入および搬出を行い、あ
るいは基板受渡し部500との間で基板Wの受け渡しを
行う。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の基板搬送
ユニット100においては、基板に機構部から発生する
パーティクル(微粒子)が付着しないように、ハンド5
1が昇降部53の最上部に設けられている。また、昇降
部53は、モータ(図示せず)およびボールねじ55に
よる直動機構によりZ軸方向に駆動される。そのため、
ベース部材54の下方に昇降部53のストロークにほぼ
相当する長さだけボールねじ54等の機構部が突出する
こととなり、ハンド51による搬送路の下方に所定の高
さのスペースが必要となる。
【0013】図10は従来の基板処理装置の基板搬送ユ
ニットによる搬送可能範囲(アクセス可能範囲)を示す
図である。
【0014】図10において、R1は基板搬送ユニット
100により搬送領域Cの側部に対してアクセス(基板
の受け渡し)可能な範囲を示し、R1aおよびR1bは
基板搬送ユニット100によりそれぞれ搬送領域Cの両
端部に対してアクセス可能な範囲を示している。図10
に示すように、搬送領域Cの側部においても両端部にお
いてもベース部材54よりも下方の領域にはアクセスす
ることができない。
【0015】そのため、基板処理装置の下部のスペース
に基板処理ユニットを配置することができず、上下方向
の空間を有効に利用することができない。したがって、
基板処理装置の設置面積を低減することができない。
【0016】本発明の目的は、上下方向の空間を有効に
利用することにより設置面積を低減することができる基
板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する
ことである。
【0017】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板搬送装置は、上下に配置された複数の搬
送領域にそれぞれ搬送手段が設けられ、各搬送手段が、
基板を保持する基板保持部と、基板保持部を鉛直方向に
移動させる駆動部とを含み、駆動部は上下に伸縮する伸
縮昇降機構からなるものである。
【0018】第1の発明に係る基板搬送装置において
は、上下に配置された各搬送領域でそれぞれ搬送手段に
より基板が搬送される。特に、各搬送手段が上下に伸縮
する伸縮昇降機構からなる駆動部を含むので、搬送手段
の機構部の一部が搬送領域の下部に突出することなく各
搬送領域内で基板を上下に搬送することができる。
【0019】したがって、上下に積層された複数の処理
領域の各々において複数段に配置された処理部に対して
基板の搬入および搬出を行うことが可能となり、基板処
理装置の設置面積を低減することができる。
【0020】第2の発明に係る基板搬送装置は、第1の
発明に係る基板搬送装置の構成において、複数の搬送領
域間で基板を移動させる昇降手段がさらに設けられたも
のである。この場合、上下に配置された各搬送領域内で
それぞれ基板を搬送することができるとともに、複数の
搬送領域間で基板を搬送することも可能となる。
【0021】第3の発明に係る基板搬送装置は、第1ま
たは第2の発明に係る基板搬送装置の構成において、複
数の搬送領域間を遮蔽する遮蔽手段がさらに設けられた
ものである。これにより、上下に配置された複数の搬送
領域間で互いに塵埃等のパーティクルの影響を受けるこ
とが防止される。
【0022】第4の発明に係る基板搬送装置は、第1、
第2または第3の発明に係る基板搬送装置の構成におい
て、伸縮昇降機構が、折り畳み自在に連結された複数の
部材からなるものである。この場合、複数の部材が折り
畳み動作を行うことにより、搬送手段の機構部の一部が
搬送領域の下部に突出することなく基板保持部が鉛直方
向に駆動される。
【0023】第5の発明に係る基板処理装置は、上下に
配置された複数の処理領域と、複数の処理領域にそれぞ
れ設けられて基板に所定の処理を行う複数の処理部と、
複数の処理領域に対応して上下に配置された複数の搬送
領域と、複数の搬送領域にそれぞれ設けられて当該搬送
領域内で基板を搬送するとともに対応する処理領域の処
理部に対して基板の搬入および搬出を行う複数の搬送手
段とを備えたものである。
【0024】第5の発明に係る基板処理装置において
は、上下に配置された各搬送領域でそれぞれ搬送手段に
より基板が搬送されるとともに、搬送手段により対応す
る処理領域の処理部に対して基板の搬入および搬出が行
われる。
【0025】したがって、基板処理装置の上下方向の空
間の有効利用を図ることが可能となり、基板処理装置の
設置面積を低減することができる。
【0026】第6の発明に係る基板処理装置は、第5の
発明に係る基板処理装置の構成において、複数の搬送手
段の各々が、基板を保持する基板保持部と、基板を鉛直
方向に移動させる駆動部とを含み、駆動部が上下に伸縮
する伸縮昇降機構からなるものである。
【0027】この場合、各搬送手段が上下に伸縮する伸
縮昇降機構からなる駆動部を含むので、搬送手段の機構
部の一部が搬送領域の下部に突出することなく各搬送領
域内で基板を上下に搬送することができる。
【0028】したがって、上下に積層された複数の処理
領域の各々において複数段に配置された処理部に対して
基板の搬入および搬出を行うことが可能となり、基板処
理装置の設置面積をさらに低減することができる。
【0029】第7に発明に係る基板処理装置は、第5ま
たは第6の発明に係る基板処理装置の構成において、複
数の搬送手段の各々が、対応する処理領域に沿って水平
方向に移動可能な第1の可動部と、鉛直方向の軸の周り
で回動可能な第2の可動部と、基板を保持するとともに
所定の水平方向に移動可能に第2の可動部に設けられた
基板保持部と、第2の可動部を第1の可動部に対して上
下方向に移動させる駆動部とを含み、駆動部が上下に伸
縮する伸縮昇降機構からなるものである。
【0030】この場合、第1の可動部が対応する処理領
域に沿って水平方向に移動することにより、搬送領域内
の任意の2つの位置間で基板の搬送動作が行われ、第2
の可動部が駆動部により上下方向に駆動されることによ
り、当該搬送領域内の上下方向に基板の搬送動作が行わ
れる。また、第2の可動部が鉛直方向の軸の周りで回動
しかつ基板保持部が第2の可動部に対して水平方向に移
動することにより、処理部に対して基板の受渡し動作が
行われる。
【0031】特に、駆動部が上下に伸縮する伸縮昇降機
構からなるので、搬送手段の機構部の一部が搬送領域の
下部に突出することなく当該搬送領域内で基板を上下方
向に搬送することが可能となる。
【0032】第8の発明に係る基板処理装置は、第5、
第6または第7の発明に係る基板処理装置の構成におい
て、複数の搬送領域内で基板を上下に移動させる昇降手
段をさらに備えたものである。これにより、上下に配置
された各搬送領域内でそれぞれ基板を搬送することがで
きるとともに、複数の搬送領域間で基板を搬送すること
ができる。したがって、異なる処理領域内の処理部間で
基板を搬送することが可能となる。
【0033】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施例におけ
る基板処理装置の平面図、図2は図1の基板処理装置の
搬送領域から見た正面図、図3は図1の基板処理装置の
側面図である。
【0034】図1に示すように、基板処理装置は、処理
領域A,Bおよび搬送領域Cを有する。処理領域Aに
は、処理液の回転塗布処理、現像処理、洗浄処理、加熱
処理、冷却処理等の所定の処理を行う複数の基板処理ユ
ニット200が配置されている。処理領域A,Bおよび
搬送領域Cの一端部側には、基板の搬入および搬出を行
うインデクサ400が設けられている。また、搬送領域
Cの他端部側には、基板を上下方向に搬送する昇降装置
300が設けられている。
【0035】図2および図3に示すように、処理領域B
は上部処理領域B1および下部処理領域B2を含む。上
部処理領域B1には基板に所定の処理を行う複数の基板
処理ユニット201が複数段に配置され、下部処理領域
B2にも基板に所定の処理を行う複数の基板処理ユニッ
ト202が複数段に配置されている。各基板処理ユニッ
ト201,202には、基板の搬入および搬出を行うた
めの開口部21が設けられている。
【0036】図3に示すように、搬送領域Cは、上部処
理領域B1および下部処理領域B2に対応して上部搬送
領域C1および下部搬送領域C2を含む。上部搬送領域
C1には基板搬送ユニット101が設けられ、下部搬送
領域C2には基板搬送ユニット102が設けられてい
る。上部搬送領域C1と下部搬送領域C2との間は間仕
切り25で遮蔽されている。それにより、上部搬送領域
C1と下部搬送領域C2との間で互いに塵埃等のパーテ
ィクルの影響を受けることが防止される。
【0037】基板搬送ユニット101は、2つのハンド
1a,1b、移動体2、支持台3、伸縮昇降機構4およ
びベース部材5を含む。なお、図2には、2つのハンド
1a,1bのうち一方のハンド1aのみが示されてい
る。
【0038】図3に示すように、上部搬送領域C1の長
手方向に配置された1対の支持部材6上にそれぞれガイ
ドレール7が固定されている。ベース部材5は、ガイド
レール7上でY軸方向(搬送領域Cの長手方向)に移動
可能に設けられている。伸縮昇降機構4は、2つのアー
ム4a,4bからなる関節アーム機構によりZ軸方向
(鉛直軸方向)に伸縮自在に構成されている。
【0039】支持台3は、ベース部材5の上方に伸縮昇
降機構4によりZ軸方向に移動可能に設けられている。
移動体2は、支持台3上にθ軸方向(鉛直軸を中心とす
る回転方向)に回転可能に設けられている。2つのハン
ド1a,1bは移動体2上に水平移動機構(図示せず)
によりX軸方向(水平面内で前進および後退する方向)
に移動可能に設けられている。ハンド1aはハンド1b
の上部に重なるように配置されている。
【0040】なお、基板搬送ユニット102も、基板搬
送ユニット101と同様の構造を有する。
【0041】図2に示すように、昇降装置300は、伸
縮昇降機構31の2つのアーム33,34、昇降部材3
2、および3本の基板支持ピン35を含む。
【0042】昇降部材32は、伸縮昇降機構31のアー
ム34の上部に固定され、伸縮作用により上下に移動可
能に案内されている。昇降部材32上に設けられた3本
の基板支持ピン35上に基板Wが載置される。
【0043】本実施例の基板処理装置では、図1に示す
ように、インデクサ400の移載ロボット402が、矢
印Uの方向に移動し、カセット401から基板Wを取り
出して基板搬送ユニット101に渡し、逆に一連の処理
が施された基板Wを基板搬送ユニット101から受け取
ってカセット401に戻す。
【0044】基板搬送ユニット101は、上部搬送領域
C1で基板Wを搬送するとともに、移載ロボット402
との間で基板Wの受け渡しを行い、処理領域Aの基板処
理ユニット200または上部処理領域B1の基板処理ユ
ニット201に対して基板Wの搬入および搬出を行い、
あるいは昇降装置300との間で基板の受け渡しを行
う。
【0045】基板搬送ユニット102は、下部搬送領域
C2で基板Wを搬送するとともに、下部処理領域B2の
基板処理ユニット202に対して基板Wを搬入および搬
出し、あるいは昇降装置300との間で基板Wの受け渡
しを行う。
【0046】昇降装置300は、上部搬送領域C1で基
板搬送ユニット101から受け取った基板Wを下部搬送
領域C2に搬送し、基板搬送ユニット102に渡し、あ
るいは下部搬送領域C2で基板搬送ユニット102から
受け取った基板Wを上部搬送領域C1に搬送し、基板搬
送ユニット101に渡す。
【0047】本実施例では、基板搬送ユニット101,
102が搬送手段に相当し、基板処理ユニット201,
202が処理部に相当し、昇降装置300が昇降手段に
相当する。また、間仕切り25が遮蔽手段に相当する。
【0048】図4は基板搬送ユニット101の正面図、
図5は基板搬送ユニット101の側面図である。なお、
基板搬送ユニット102の構成も図4および図5に示す
構成と同様である。
【0049】図4および図5に示すように、1対の支持
部材6の上面にそれぞれガイドレール7が固定され、ガ
イドレール7上にベース部材5がY軸方向に移動可能に
設けられている。
【0050】図4に示すように、支持部材6間にはY軸
方向に沿ってボールねじ8が配設されている。ベース部
材5の下面には、ボールねじ8に螺合するナット部材9
およびこのナット部材9を正逆転駆動するモータ10が
設けられている。モータ10によりナット部材9が回転
駆動されると、ベース部材5がY軸方向に水平移動す
る。
【0051】ベース部材5上には、2つのアーム4a,
4bからなる伸縮昇降機構4が設けられている。アーム
4bの一端部は、ベース部材5上に設けられた支持ブラ
ケット12に水平軸14により回動可能に取り付けられ
ている。アーム4bの他端部には、アーム4aの一端部
が水平軸15により回動可動に取り付けられている。ア
ーム4aの他端部は、支持台3の下面に設けられた支持
ブラケット13に水平軸16により回動可能に取り付け
られている。
【0052】水平軸14の一端部にはプーリ17が連結
固定され、水平軸15の一端部および他端部にはそれぞ
れプーリ18および20が連結固定され、水平軸16の
他端部にはプーリ21が連結固定されている。プーリ1
7およびプーリ18にワイヤ19が架け渡され、プーリ
20およびプーリ21にワイヤ22が架け渡されてい
る。水平軸14は支持ブラケット12に固定され、水平
軸15はアーム4aに固定され、水平軸16は支持ブラ
ケット13に固定されている。プーリ17の径はプーリ
18の径の2倍に設定され、プーリ20の径はプーリ2
1の径の2分の1に設定されている。
【0053】図5に示すように、アーム4bの下端部に
は駆動部材11が延設されている。この駆動部材11
は、ベース部材5の下面に設けられたモータ23および
ボールねじ24により矢印Dの方向に駆動される。駆動
部材11が矢印Dの方向に駆動されると、アーム4a,
4bからなる伸縮昇降機構4がZ軸方向に伸縮し、支持
台3が水平姿勢でZ軸方向に移動する。
【0054】移動体2は、支持台3に内蔵されたモータ
によりθ軸方向に回転駆動される。また、ハンド1a,
1bは、移動体2に設けられたスライド機構(図示せ
ず)によりそれぞれ独立にX軸方向に前進および後退す
る。なお、X軸方向は、移動体2が回転することにより
水平面内で回転する。
【0055】本実施例では、ハンド1a,1bが基板保
持部に相当し、ベース部材5が第1の可動部に相当し、
移動体2が第2の可動部に相当する。伸縮昇降機構4が
駆動部を構成する。
【0056】図6は図1の基板処理装置の基板搬送ユニ
ットによる搬送可能範囲(アクセス可能範囲)を示す図
である。
【0057】図6において、R1は基板搬送ユニット1
01により上部搬送領域C1の側部に対してアクセス
(基板の受け渡し)可能な範囲を示し、R1aおよびR
1bは基板搬送ユニット101によりそれぞれ上部搬送
領域C1の両端部に対してアクセス可能な範囲を示して
いる。また、R2は基板搬送ユニット102により下部
搬送領域C2の側部に対してアクセス可能な範囲を示
し、R2aおよびR2bは基板搬送ユニット102によ
りそれぞれ下部搬送領域C2の両端部に対してアクセス
可能な範囲を示している。
【0058】上部処理領域B1の基板処理ユニット20
1は基板搬送ユニット101がアクセス可能な範囲R1
に配置され、下部処理領域B2内の基板処理ユニット2
02は基板搬送ユニット102がアクセス可能な範囲R
2内に配置される。
【0059】上記のように、本実施例の基板処理装置に
おいては、上部搬送領域C1および下部搬送領域C2で
それぞれ基板搬送ユニット101,102により基板が
搬送されるとともに、基板搬送ユニット101により上
部処理領域B1内の基板処理ユニット201に対して基
板の搬入および搬出が行われ、基板搬送ユニット102
により下部処理領域B2内の基板処理ユニット202に
対して基板の搬入および搬出が行われる。このように、
基板処理装置の上下方向の空間の有効利用が図られ、基
板処理装置の設置面積が低減される。
【0060】特に、基板搬送ユニット101,102が
上部に伸縮する伸縮昇降機構4を有するので、基板搬送
ユニット101,102の機構部の一部が上部搬送領域
C1および下部搬送領域C2の下部に突出することな
く、それぞれ上部搬送領域C1内および下部搬送領域C
2内で基板を上下に搬送することができる。したがっ
て、上部処理領域B1において複数段に配置された基板
処理ユニット201および下部処理領域B2において複
数段に配置された基板処理ユニット202に対してそれ
ぞれ基板を搬入および搬出することが可能となり、基板
処理装置の上下方向の空間がさらに有効利用されてい
る。
【0061】また、昇降装置300により上部搬送領域
C1と下部搬送領域C2との間で基板を搬送することが
できるので、上部処理領域B1内の基板処理ユニット2
01と下部処理領域B2の基板処理ユニット202との
間で基板を搬送することが可能となる。
【0062】図7は基板搬送ユニットの他の例を示す斜
視図である。図7の基板搬送ユニットはパンタグラフ構
造の伸縮昇降機構40を有する。
【0063】ベース部材5は、図4および図5の基板搬
送ユニットと同様に、1対のガイドレール7上にボール
ねじ8、ナット部材およびモータ(図示せず)2により
Y軸方向に移動可能に設けられている。ベース部材5上
に、伸縮昇降機構40が設けられている。この伸縮昇降
機構40は、ボールネジ42およびモータ43により上
下に伸縮する2組のパンタグラフリンク41a,41b
により構成される。
【0064】この伸縮昇降機構40の上部に支持台3が
取り付けられ、支持台3上に移動体2がθ軸方向に回転
可能に設けられている。移動体2上に2つのハンド1
a,1bがX軸方向に前進および後退可能に設けられて
いる。
【0065】図7の基板搬送ユニットにおいても、ハン
ド1a,1bが伸縮昇降機構40によりZ軸方向に移動
する。したがって、この基板搬送ユニットを図1〜図3
の基板処理装置の上部搬送領域C1および下部搬送領域
C2に設けると、基板搬送ユニットの機構部の一部が上
部搬送領域C1および下部搬送領域C2の下部に突出す
ることなく、それぞれ上部搬送領域C1内および下部搬
送領域C2内で基板を搬送することができる。
【0066】なお、上記実施例では、昇降装置300の
昇降部材32が基板支持ピン35で基板Wを支持してい
るが、高速で基板を昇降させる場合には、振動等により
基板が昇降部材32上でずれないように基板を機械的に
保持するメカ式チャック機構や基板を真空吸着する吸引
式チャック機構等を用いてもよい。
【0067】また、上記実施例では、複数の処理領域を
積層しているが、インデクサ400等の基板の受渡し部
や基板を保持するカセット等を上下方向に積層すること
も可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における基板処理装置の平面
図である。
【図2】図1の基板処理装置の搬送領域から見た正面図
である。
【図3】図1の基板処理装置の側面図である。
【図4】図1の基板処理装置に用いられる基板搬送ユニ
ットの正面図である。
【図5】図1の基板処理装置に用いられる基板搬送ユニ
ットの側面図である。
【図6】図1の基板処理装置の基板搬送ユニットによる
搬送可能範囲を示す図である。
【図7】基板搬送ユニットの他の例を示す斜視図であ
る。
【図8】従来の基板処理装置の一例を示す平面図であ
る。
【図9】図8の基板処理装置の搬送領域から見た正面図
である。
【図10】図8の基板処理装置の基板搬送ユニットによ
る搬送可能範囲を示す図である。
【符号の説明】
1a,1b ハンド 2 移動体 3 支持台 4 伸縮昇降機構 4a,4b アーム 5 ベース部材 101,102 基板搬送ユニット 200,201,202 基板処理ユニット 300 昇降装置 A,B 処理領域 C 搬送領域 B1 上部処理領域 B2 下部処理領域 C1 上部搬送領域 C2 上部搬送領域

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下に配置された複数の搬送領域にそれ
    ぞれ搬送手段が設けられ、各搬送手段は、基板を保持す
    る基板保持部と、前記基板保持部を鉛直方向に移動させ
    る駆動部とを含み、前記駆動部は上下に伸縮する伸縮昇
    降機構からなることを特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記複数の搬送領域間で基板を移動させ
    る昇降手段がさらに設けられたことを特徴とする請求項
    1記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の搬送領域間を遮蔽する遮蔽手
    段がさらに設けられたことを特徴とする請求項1または
    2記載の基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 前記伸縮昇降機構は、折り畳み自在に連
    結された複数の部材からなることを特徴とする請求項
    1、2または3記載の基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 上下に配置された複数の処理領域と、 前記複数の処理領域にそれぞれ設けられ、基板に所定の
    処理を行う複数の処理部と、 前記複数の処理領域に対応して上下に配置された複数の
    搬送領域と、 前記複数の搬送領域にそれぞれ設けられ、当該搬送領域
    で基板を搬送するとともに対応する処理領域の処理部に
    対して基板の搬入および搬出を行う複数の搬送手段とを
    備えたことを特徴とする基板処理装置。
  6. 【請求項6】 前記複数の搬送手段の各々は、基板を保
    持する基板保持部と、前記基板保持部を鉛直方向に移動
    させる駆動部とを含み、前記駆動部は上下に伸縮する伸
    縮昇降機構からなることを特徴とする請求項5記載の基
    板処理装置。
  7. 【請求項7】 前記複数の搬送手段の各々は、対応する
    処理領域に沿って水平方向に移動可能な第1の可動部
    と、鉛直方向の軸の周りで回動可能な第2の可動部と、
    基板を保持するとともに所定の水平方向に移動可能に前
    記第2の可動部に設けられた基板保持部と、前記第2の
    可動部を前記第1の可動部に対して上下方向に移動させ
    る駆動部とを含み、前記駆動部は上下に伸縮する伸縮昇
    降機構からなることを特徴とする請求項5または6記載
    の基板処理装置。
  8. 【請求項8】 前記複数の搬送領域間で基板を上下に移
    動させる昇降手段をさらに備えたことを特徴とする請求
    項5、6または7記載の基板処理装置。
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