JPH10208630A - Manufacture of plasma display - Google Patents
Manufacture of plasma displayInfo
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- JPH10208630A JPH10208630A JP1378797A JP1378797A JPH10208630A JP H10208630 A JPH10208630 A JP H10208630A JP 1378797 A JP1378797 A JP 1378797A JP 1378797 A JP1378797 A JP 1378797A JP H10208630 A JPH10208630 A JP H10208630A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディプレイ
およびプラズマアドレス液晶ディプレイ用隔壁の形成方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display and a method of forming a partition for a plasma addressed liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョ
ンの分野などでの進展が非常に期待されている。2. Description of the Related Art Plasma display panels (PDPs)
Since they can display at a higher speed than a liquid crystal panel and can be easily made larger, they have permeated OA equipment and public information display devices. Further, progress in the field of high-definition television is highly expected.
【０００３】このような用途の拡大にともなって、繊細
で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されてい
る。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間
に備えられた放電空間内で対抗するアノードおよびカソ
ード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内
に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間
内に設けた蛍光体にあてることにより表示を行うもので
ある。この場合、放電の広がりを一定領域に押さえ、表
示を規定のセル内で行わせると同時に、かつ均一な放電
空間を確保するために隔壁（障壁、リブともいう）が設
けられている。With the expansion of such applications, attention has been paid to color PDPs having delicate and many display cells. The PDP generates plasma discharge between opposing anode and cathode electrodes in a discharge space provided between the front glass substrate and the rear glass substrate, and emits ultraviolet light generated from a gas sealed in the discharge space. The display is performed by hitting a phosphor provided in the discharge space. In this case, a partition (also referred to as a barrier or a rib) is provided to suppress the spread of the discharge to a certain area and perform display in a specified cell, and to secure a uniform discharge space.
【０００４】上記の隔壁の形状は、およそ幅３０〜８０
μｍ、高さ１００〜２００μｍであるが、通常は前面ガ
ラス基板や背面ガラス基板にガラスからなる絶縁ペース
トをスクリーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷・乾燥
工程を１０〜２０回繰り返して所定の高さにした後、焼
成して形成している。しかしながら、通常のスクリーン
印刷法では、特にパネルサイズが大型化した場合に、あ
らかじめ前面透明平面板上に形成された放電電極と絶縁
ガラスペーストの印刷場所との位置あわせが難しく、位
置精度が得られ難い問題がある。しかも１０〜２０回の
ガラスペーストの重ね合わせ印刷を行うことによって隔
壁および壁体の側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生
じ、高さの精度が得られないため、表示品質が悪くな
り、また作業性が悪い、歩留まりが低いといった問題が
ある。特に、パターン幅が５０μｍ、ピッチが１００μ
ｍ以下になると隔壁底部がペーストのチクソトロピー性
により滲みやすく、線幅の揺らぎなどが顕著になり、シ
ャープで残渣のない隔壁形成が難しくなる問題がある。[0004] The shape of the above-mentioned partition wall has a width of about 30 to 80.
μm and a height of 100 to 200 μm, usually, an insulating paste made of glass is printed and dried on a front glass substrate or a rear glass substrate by a screen printing method, and the printing and drying process is repeated 10 to 20 times to obtain a predetermined thickness. After heightening, it is formed by firing. However, in the ordinary screen printing method, particularly when the panel size is increased, it is difficult to align the discharge electrode formed on the front transparent flat plate in advance with the printing place of the insulating glass paste, and the positional accuracy is obtained. There is a difficult problem. In addition, by performing the superposition printing of the glass paste 10 to 20 times, the ribs and the edge of the side wall of the partition wall and the skirt are disturbed, and the accuracy of the height cannot be obtained, so that the display quality is deteriorated. There are problems such as poor workability and low yield. In particular, the pattern width is 50 μm and the pitch is 100 μm.
If it is less than m, the bottom of the partition wall tends to bleed due to the thixotropy of the paste, the fluctuation of the line width becomes remarkable, and it is difficult to form a sharp and residue-free partition wall.
【０００５】ＰＤＰの大面積化、高解像度化にともな
い、このようなスクリーン印刷による方法では、高アス
ペクト比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難
となり、かつコスト的に不利になってきている。[0005] With the increase in the area and resolution of PDPs, such a screen printing method makes it increasingly difficult and costly to manufacture partition walls having a high aspect ratio and high definition. Is coming.
【０００６】これらの問題を改良する方法として、特開
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報では、隔壁を絶縁ペーストを用いてフォ
トリソグラフィ技術により形成する方法が提案されてい
る。しかしながら、これらの方法では、感光性ペースト
のガラス含有量が少ないために焼成後に緻密な隔壁が得
られなかったり、感光性ペーストの感度や解像度が低い
問題があった。このためにスクリーン印刷・露光・現像
の工程を繰り返し行うことによって高アスペクト比の隔
壁を得る必要があった。しかしながら、印刷・露光・現
像を繰り返し行うのでは、位置あわせの問題が生じた
り、低コスト化に限界があった。As methods for improving these problems, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-2296534, 2-165538, 5-342929, and 6-29 have been proposed.
No. 5676 proposes a method of forming a partition by a photolithography technique using an insulating paste. However, according to these methods, there are problems that a dense partition wall cannot be obtained after firing and that the sensitivity and resolution of the photosensitive paste are low because the glass content of the photosensitive paste is small. For this reason, it was necessary to obtain partition walls having a high aspect ratio by repeating the steps of screen printing, exposure and development. However, if printing, exposure, and development are repeatedly performed, there is a problem of alignment, and there is a limit to cost reduction.
【０００７】特開平８−５０８１１号公報では、感光性
ペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方法
が提案されている。しかしながら、この方法では線幅が
５０μｍ以下、高さが１５０μｍ以上であるパターンを
形成すると、蛇行が生じやすく、その蛇行の程度によっ
ては、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体の塗り分
けの際に、塗り分けがうまくいかない問題があった。ま
た蛇行から起こる隔壁ピッチのばらつきから、輝度ムラ
が発生する問題があった。Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-50811 proposes a method in which a partition is formed by one exposure using a photosensitive paste method. However, in this method, if a pattern having a line width of 50 μm or less and a height of 150 μm or more is formed, meandering is likely to occur, and depending on the degree of meandering, red (R), green (G), and blue (B) may be generated. When the phosphors were separately applied, there was a problem that the application was not successful. Further, there is a problem that unevenness in luminance occurs due to variations in partition pitch caused by meandering.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、プラズマデ
ィスプレイ用隔壁の形成方法に関するものである。本発
明の目的は、高さが高く、線幅のせまい隔壁において
も、蛇行による影響のない、放電特性に優れた高輝度、
高精細のプラズディスプレイパネルの形成方法を提供す
ることにある。この隔壁を用いることにより、蛍光体塗
布の歩留まりは向上し、輝度ムラのないプラズマディス
プレイパネルの形成が可能となる。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a partition for a plasma display. The object of the present invention is a high height, even in a narrow partition of the line width, without the influence of meandering, high brightness with excellent discharge characteristics,
An object of the present invention is to provide a method for forming a high-definition plasm display panel. By using the partition walls, the yield of phosphor application is improved, and a plasma display panel without luminance unevenness can be formed.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、基板上
に隔壁が形成され、該隔壁のピッチが１００〜２００μ
ｍ、高さが１００〜２００μｍであるプラズマディスプ
レイの製造方法であって、無機微粒子と感光性有機成分
を含む感光性ペーストを用い、塗布と露光を少なくとも
２回繰り返して行うことにより隔壁形成を行うことを特
徴とするプラズマディスプレイの製造方法により達成さ
れる。An object of the present invention is to form a partition on a substrate, and the pitch of the partition is 100 to 200 μm.
m, a method for manufacturing a plasma display having a height of 100 to 200 μm, in which a photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component is used, and coating and exposure are repeated at least twice to form partition walls. This is achieved by a method of manufacturing a plasma display characterized by the above-mentioned.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】隔壁の振れは、線幅の太さの揺ら
ぎ、または蛇行などが原因で生じる。たとえば絶縁ペー
ストのスクリーン印刷法では、多数回のパターン印刷に
より、線幅にムラが生じやすく、さらにパネルサイズが
大型化した場合には、前面透明基板上に形成された放電
電極と絶縁ペーストの印刷場所との位置合わせが難し
く、位置合わせ精度が得られないため、表示品質が悪く
なり、歩留まりが低いと言った問題がある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The vibration of a partition wall is caused by fluctuation of the line width or meandering. For example, in the screen printing method of the insulating paste, the line width tends to be uneven due to the pattern printing many times, and when the panel size is increased, the discharge electrodes formed on the front transparent substrate and the insulating paste are printed. There is a problem that the display quality is deteriorated and the yield is low because positioning with a place is difficult and positioning accuracy cannot be obtained.
【００１１】一方、感光性ペースト法では、ペースト組
成、露光条件、現像条件に左右されて蛇行が生じること
がある。たとえば、線幅が細い絶縁ペーストのスクリー
ン印刷では、位置あわせに高精度が必要とされることか
ら線幅ムラが顕著になったり、強度不足による倒れから
蛇行がおこりやすくなり、隔壁の振れは発生しやすくな
る。特に、感光性ペースト層を１５０μｍ厚以上印刷し
た後、露光を１回で行った基板の現像では、ＵＶ光の進
行が十分でないことおよびＵＶ光の散乱のため、硬化不
足から隔壁の振れや蛇行などが生じ易く、大型ＰＤＰの
作製では後工程の蛍光体印刷で隣接隔壁へのはみだしな
どが起こり、表示品位や歩留まりの低下が起こるため
に、好ましくない。この他、数回から十数回の印刷と露
光を繰り返した後で現像を行い、１５０μｍ以上の隔壁
を形成する方法では、前面透明基板上に形成された放電
電極、および多数回の印刷露光における位置合わせ精度
の不良から、表示品質が悪くなりと言った問題が発生し
た。On the other hand, in the photosensitive paste method, meandering may occur depending on the paste composition, exposure conditions, and development conditions. For example, in screen printing of insulating paste with a small line width, high precision is required for alignment, so line width unevenness becomes remarkable, meandering tends to occur due to falling due to insufficient strength, and partition wall deflection occurs. Easier to do. In particular, in the development of a substrate which is subjected to exposure once after printing the photosensitive paste layer having a thickness of 150 μm or more, due to insufficient curing of the UV light and scattering of the UV light, the partition walls sway or meander due to insufficient curing. This is not preferable in the production of a large-sized PDP because the phosphor printing in a later step may cause protrusions to the adjacent partition walls, thereby deteriorating the display quality and the yield. In addition, in the method of performing development after repeating printing and exposure several to several dozen times, and forming a partition wall of 150 μm or more, the discharge electrode formed on the front transparent substrate, and in the multiple times of printing exposure A problem that display quality deteriorated due to poor positioning accuracy occurred.
【００１２】これらの問題点を解決するためには、８０
μｍ以上、好ましくは１５０μｍ以下の隔壁膜厚を印刷
した後に露光を行うこの操作を２回繰り返すことによ
り、隔壁部は硬化が十分に進むために現像による蛇行、
または線幅の太さの揺らぎなどを解決できることを見い
だした。To solve these problems, 80
This operation of exposing after printing a partition wall thickness of not less than μm, preferably not more than 150 μm is repeated twice, so that the partition part is meandered by development in order for curing to proceed sufficiently,
Or we found that we could solve fluctuations in line width.
【００１３】前述したように、隔壁の振れが生じると、
放電空間の大きさに不均衡が生じ、その不均衡による輝
度ムラが発生する。放電空間の不均衡が大きくなると、
適正な放電空間が確保できない箇所が生じ、その箇所で
は放電せず、発光しないという問題があった。そこで本
発明の隔壁は、線幅とその振れ量との関係が下記の範囲
であると、隔壁の振れが生じても、蛍光体塗布の歩留ま
りがよく、輝度ムラがなくなることを見いだした。As described above, when the partition wall sways,
An imbalance occurs in the size of the discharge space, and uneven brightness occurs due to the imbalance. When the imbalance in the discharge space increases,
There has been a problem that an appropriate discharge space cannot be secured at some places, and there is a problem that no discharge occurs and no light emission occurs at that place. Therefore, it has been found that, when the relationship between the line width and the amount of deflection is within the following range, the partition wall of the present invention has a good phosphor coating yield and eliminates luminance unevenness even when the partition wall sways.
【００１４】Ｌｄ／Ｌ＝１〜１．５ なおＬｄは振れ量を、Ｌは線幅を示す。Ld / L = 1 to 1.5 Note that Ld indicates the amount of shake, and L indicates the line width.
【００１５】Ｌｄ／Ｌが１の時は、隔壁の振れが全くな
い理想形状に該当する。Ｌｄ／Ｌが１．５より大きい
と、蛍光体塗布する際、隣接した隔壁溝にも塗布する、
塗布斑が生じやすくなり、歩留まりが落ちるため、好ま
しくない。また、隔壁ピッチがばらつくことによる輝度
ムラが顕著になる。このため、より好ましくはＬｄ／Ｌ
＝１〜１．２の範囲にあることが表示品位向上の点から
も有効である。When Ld / L is 1, it corresponds to an ideal shape in which the partition wall does not sway at all. When Ld / L is larger than 1.5, when applying the phosphor, the phosphor is also applied to the adjacent partition groove.
This is not preferable because coating unevenness tends to occur and the yield decreases. In addition, luminance unevenness due to variation in partition pitch becomes remarkable. For this reason, Ld / L is more preferable.
It is effective to be in the range of = 1 to 1.2 from the viewpoint of improving display quality.
【００１６】ここでいう線幅は、隔壁断面においての、
上面幅、半値幅、下面幅のいずれを測定しても良いが、
測定の容易さから、図１に示すように、隔壁の断面形状
においての上面幅が好ましい。The line width referred to here is a value of
Any of upper surface width, half width, lower surface width may be measured,
For ease of measurement, as shown in FIG. 1, the upper surface width in the sectional shape of the partition wall is preferable.
【００１７】振れ量も、特に限定しないが、線幅と同一
条件下での計測が好ましく、上面幅の振れ量を計測する
のが好ましい。具体的な計測法としては、図２に示すよ
うに、隔壁のうねり幅を計測する。Although the amount of shake is not particularly limited, measurement under the same condition as the line width is preferable, and it is preferable to measure the amount of shake of the upper surface width. As a specific measuring method, as shown in FIG. 2, the undulation width of the partition is measured.
【００１８】振れ量の測定範囲は、隔壁にそって、少な
くとも隔壁ピッチの１０倍以上の長さにわたるのが好ま
しく、その範囲での最大振れ幅で振れ量を定義する。It is preferable that the measurement range of the runout extends over at least 10 times the partition pitch along the partition walls, and the runout amount is defined by the maximum runout width in that range.
【００１９】本発明のプラズマディスプレイ用隔壁は、
下面幅をＬｂ、半値幅をＬｈ、上面幅をＬｔとしたと
き、 Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１ Ｌｂ／Ｌｈ＝ １〜２ の範囲にあるのが、基板との密着性があがり、倒れ、蛇
行が起こりにくくなることから、好ましい。The partition for a plasma display of the present invention comprises:
When the lower surface width is Lb, the half-value width is Lh, and the upper surface width is Lt, the range of Lt / Lh = 0.65 to 1 Lb / Lh = 1 to 2 is that the adhesion to the substrate is increased, This is preferable because meandering hardly occurs.
【００２０】Ｌｔ／Ｌｈが１より大きいと、隔壁中央に
くびれが生じる形状となり、隔壁のピッチに対する放電
空間の割合、すなわち開口率が小さくなるため、輝度が
低下する。また蛍光体は輝度向上のために、底部だけで
なく、隔壁側面にも塗布する方法がとられているが、そ
の側面塗布が難しくなり、好ましくない。また０．６５
より小さいと上面が細くなりすぎ、パネル形成時にかか
る大気圧に耐える強度が不足し、先端のつぶれが生じや
すくなる。When Lt / Lh is greater than 1, the shape of the partition wall becomes constricted, and the ratio of the discharge space to the pitch of the partition wall, that is, the aperture ratio is reduced, so that the brightness is reduced. Further, in order to improve the luminance, the phosphor is applied not only to the bottom but also to the side wall of the partition wall. However, it is difficult to apply the side surface, which is not preferable. 0.65
If it is smaller, the upper surface becomes too thin, the strength withstanding the atmospheric pressure applied at the time of forming the panel is insufficient, and the tip is easily crushed.
【００２１】Ｌｂ／Ｌｈが１より小さいと強度が確保で
きにくくなり、パターン形成時の倒れ、蛇行の原因にな
るため、好ましくない。また２より大きいと放電空間が
減少することにより輝度が低下する。If Lb / Lh is less than 1, it is difficult to secure a sufficient strength, which may cause the pattern to fall or meander, which is not preferable. On the other hand, if it is larger than 2, the discharge space is reduced and the luminance is reduced.
【００２２】より好ましくは、Ｌｔ／Ｌｈ＝０．８〜
１、Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜１．５の範囲が、開口率の確保の
点からすぐれているため、好ましい。ただし、Ｌｔ＝Ｌ
ｈ＝Ｌｂの場合は、強度の面で弱くなり、倒れが生じや
すくなることから、好ましくない。形状としては、隔壁
下面にくびれなどない台形または矩形形状が強度の点か
ら好ましい。More preferably, Lt / Lh = 0.8-
1, the range of Lb / Lh = 1 to 1.5 is preferable because it is excellent in securing the aperture ratio. Where Lt = L
The case of h = Lb is not preferable because the strength is weak and the fall is likely to occur. As the shape, a trapezoid or rectangular shape having no constriction on the lower surface of the partition wall is preferable from the viewpoint of strength.
【００２３】傾斜面は、平面構造に限定せず、曲面形状
をしていてもよい。特に、隔壁高さ中央部から底面にか
けて曲面形状を有すると、Ｌｂ／Ｌｈを大きくしても放
電空間を大きくとることができ、輝度が低下しないので
好ましい。曲面形状は、隔壁の曲面形状のアール部を
Ｒ、半値幅をＬｈとしたとき、下記の様な関係にあるこ
とが、効果が高く特に好ましい。The inclined surface is not limited to a planar structure, but may be a curved surface. In particular, it is preferable to have a curved shape from the center of the height of the partition wall to the bottom surface, because even if Lb / Lh is increased, the discharge space can be increased and the luminance does not decrease. As for the curved surface shape, when the radius of the curved surface shape of the partition wall is R and the half width is Lh, the following relationship is highly effective and particularly preferable.
【００２４】Ｒ≦Ｌｈ／２ 本発明の隔壁各部の形状は、ピッチをＰ、線幅をＬ、高
さをＨとすると、次のような関係にあるのが、パネルの
輝度、放電寿命の点で優れていることから好ましい。R ≦ Lh / 2 Assuming that the pitch is P, the line width is L, and the height is H, the shape of each part of the partition wall of the present invention has the following relationship. It is preferable because it is excellent in point.
【００２５】 (1) Ｐ＝１００〜１４０μｍの時 Ｌ＝ １５〜 ４０μｍ Ｈ＝１００〜１４０μｍ (2) Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時 Ｌ＝ ２０〜 ５０μｍ Ｈ＝１２０〜１７０μｍ 線幅については、上記下限より小さいと、パターン形成
時の剥がれ、倒れ、隔壁の振れ幅が大きくなるため好ま
しくない。(1) When P = 100 to 140 μm L = 15 to 40 μm H = 100 to 140 μm (2) When P = 140 to 160 μm L = 20 to 50 μm H = 120 to 170 μm If the diameter is smaller than the above range, it is not preferable because peeling, falling down, and deflection width of the partition wall during pattern formation become large.
【００２６】上記上限より大きいと開口率が小さくなる
ことによる輝度の低下が起こり、好ましくない。また開
口率が低下することにより、隣接隔壁溝への蛍光体のは
みだし、または隔壁上部への蛍光体の付着が起こりやす
くなり、歩留まりが下がるため好ましくない。If the ratio is larger than the above upper limit, the brightness decreases due to a decrease in the aperture ratio, which is not preferable. In addition, when the aperture ratio is reduced, the phosphor is likely to protrude into the adjacent partition groove or adhere to the upper part of the partition wall, and the yield is undesirably reduced.
【００２７】高さについては、上記下限より小さいと、
放電空間が狭くなり、プラズマ領域が蛍光体に近くな
り、蛍光体がスパッタされるため、寿命の点で好ましく
ない。上記上限より大きいと放電により発生した紫外線
が、蛍光体に届くまでに吸収されてしまうために輝度が
下がり、好ましくない。As for the height, if it is smaller than the above lower limit,
Since the discharge space becomes narrower, the plasma region becomes closer to the phosphor, and the phosphor is sputtered, it is not preferable in terms of life. If it is larger than the above upper limit, the ultraviolet light generated by the discharge is absorbed before reaching the phosphor, which lowers the luminance, which is not preferable.
【００２８】本発明における隔壁の気孔率は、隔壁の倒
れを防止する基板との密着性に優れていることから、３
％以下であることが好ましい。気孔率（Ｐ）は、隔壁材
質の理論密度をｄth、隔壁の実測密度をｄexとしたと
き、 Ｐ＝( ｄth−ｄex) ／ｄth×１００ と定義する。理論密度は隔壁の成分比と各成分の比重か
ら算出する。実測密度の測定は通常のアルキメデス法を
用いて行うのが好ましい。The porosity of the partition wall in the present invention is 3 because of its excellent adhesion to the substrate for preventing the partition wall from falling down.
% Is preferable. The porosity (P) is defined as P = (dth−dex) / dth × 100, where dth is the theoretical density of the partition wall material and dex is the measured density of the partition wall. The theoretical density is calculated from the component ratio of the partition and the specific gravity of each component. The measurement of the measured density is preferably performed using the ordinary Archimedes method.
【００２９】気孔率が３％より大きいと、密着性が悪化
するのに加え、強度の不足、また放電時に気孔から排出
されるガス、水分による輝度低下などの放電特性悪化の
原因になる。パネルの放電寿命、輝度安定性などの放電
特性を考慮すると、さらに好ましくは０．５％以下がよ
い。If the porosity is more than 3%, not only the adhesion is deteriorated, but also the strength is insufficient, and the discharge characteristics are deteriorated, such as a decrease in luminance due to gas and moisture discharged from the pores during discharge. Considering the discharge characteristics such as the discharge life and luminance stability of the panel, it is more preferably 0.5% or less.
【００３０】本発明の隔壁の形成方法は特に限定しない
が、工程が少なく、微細なパターン形成が可能である感
光性ペースト法で作製するのが好ましい。The method for forming the partition wall of the present invention is not particularly limited. However, it is preferable that the partition wall is formed by a photosensitive paste method which has few steps and can form a fine pattern.
【００３１】感光性ペースト法は、主としてガラス粉末
からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光
性ペーストを用いて、フォトマスクのパターンを露光に
より、焼き付け、現像により、隔壁パターンを形成し、
その後焼成して隔壁を得る方法である。The photosensitive paste method uses a photosensitive paste mainly composed of an inorganic component composed of glass powder and an organic component having photosensitivity, exposes a pattern of a photomask by exposure, and forms a partition pattern by development and development. ,
After that, it is a method of obtaining a partition wall by firing.
【００３２】プラズマディスプレイやプラズマアドレス
液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、ガラス転移
点、熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成するた
め、隔壁材質として、ガラス転移点が４３０〜５００
℃、熱軟化温度が４７０〜５８０℃のガラス材料を用い
ることが好ましい。ガラス転移点が５００℃、熱軟化点
が５８０℃より高いと、高温で焼成しなければならず、
焼成の際に基板に歪みが生じる。またガラス転移点が４
３０℃、熱軟化点が４７０℃より低い材料は、その後の
工程で、蛍光体を塗布、焼成する際に隔壁に歪みが生
じ、剥がれ、断線の原因になるため好ましくない。When used as a partition of a plasma display or a plasma addressed liquid crystal display, a pattern is formed on a glass substrate having a low glass transition point and a low thermal softening point.
It is preferable to use a glass material having a temperature of 470 ° C and a thermal softening temperature of 470 to 580 ° C. If the glass transition point is 500 ° C and the thermal softening point is higher than 580 ° C, it must be fired at a high temperature,
During firing, the substrate is distorted. The glass transition point is 4
A material having a temperature of 30 ° C. and a thermal softening point lower than 470 ° C. is not preferable because the partition walls are distorted when the phosphor is applied and fired in a subsequent step, causing peeling and disconnection.
【００３３】また、基板ガラスに用いられる一般的な高
歪点ガラスの線膨張係数が８０〜９０×１０-7であるこ
とから、基板のそりを生じさせないためには、線熱膨張
係数が５０〜９０×１０-7、さらには、６０〜９０×１
０-7のガラス材料を用いることが好ましい。Further, since the linear expansion coefficient of general high strain point glass used for the substrate glass is 80 to 90 × 10 -7 , the linear thermal expansion coefficient is 50 to prevent the substrate from warping. ~ 90 × 10 -7 , and further, 60-90 × 1
It is preferable to use a glass material of 0-7 .
【００３４】感光性ペースト法に用いるガラス粉末の量
は、ガラス粉末と有機成分の和に対して６５〜８５重量
％であるのが好ましい。The amount of the glass powder used in the photosensitive paste method is preferably 65 to 85% by weight based on the sum of the glass powder and the organic component.
【００３５】６５重量％より小さいと、焼成時の収縮率
が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因となるため、
好ましくない。またパターン太り、現像時の残膜の発生
が起こりやすい。８５重量％より大きいと、感光性成分
が少ないことにより、パターンの形成性が悪くなる。If it is less than 65% by weight, the shrinkage during firing becomes large, which causes disconnection and peeling of the partition walls.
Not preferred. In addition, the pattern tends to be thick and a residual film is likely to be generated during development. If it is more than 85% by weight, the pattern formability deteriorates due to the small amount of the photosensitive component.
【００３６】隔壁材質の組成としては、酸化珪素はガラ
ス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
く、３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安
定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガ
ラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量
％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラ
ス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。With respect to the composition of the partition wall material, silicon oxide is preferably incorporated in the glass in the range of 3 to 60% by weight, and if less than 3% by weight, the denseness, strength and stability of the glass layer are reduced. In addition, the coefficient of thermal expansion deviates from a desired value, and a mismatch with a glass substrate is likely to occur. Further, when the content is set to 60% by weight or less, there is an advantage that the heat softening point is lowered and baking on a glass substrate becomes possible.
【００３７】酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％
の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱
膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的
特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガ
ラスの安定性が低下する。Boron oxide is 5 to 50% by weight in the glass.
The electrical, mechanical and thermal properties such as electrical insulation, strength, coefficient of thermal expansion, and denseness of the insulating layer can be improved by blending in the range. If it exceeds 50% by weight, the stability of the glass will decrease.
【００３８】酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリ
ウムのうち少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラ
ス微粒子を用いることによっても得ることができるが、
リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の酸
化物は添加量としては、２０重量％以下、好ましくは、
１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性
を向上することができる。It can also be obtained by using glass fine particles containing at least one of lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide in an amount of 3 to 20% by weight.
The amount of the oxide of an alkali metal such as lithium, sodium, and potassium is 20% by weight or less, preferably,
By setting the content to 15% by weight or less, the stability of the paste can be improved.
【００３９】酸化リチウムを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で 酸化リチウム ２〜１５重量部 酸化珪素 １５〜５０重量部 酸化ホウ素 １５〜４０重量部 酸化バリウム ２〜１５重量部 酸化アルミニウム ６〜２５重量部 の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。As the glass composition containing lithium oxide,
Lithium oxide in oxide equivalent notation 2 to 15 parts by weight Silicon oxide 15 to 50 parts by weight Boron oxide 15 to 40 parts by weight Barium oxide 2 to 15 parts by weight Aluminum oxide 6 to 25 parts by weight It is preferable to contain 50% by weight or more.
【００４０】また、上記組成で、酸化リチウムの代わり
に、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、
ペーストの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。In the above composition, sodium oxide or potassium oxide may be used instead of lithium oxide.
Lithium oxide is preferred from the viewpoint of paste stability.
【００４１】酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少
なくとも１種類をガラス中に、５〜５０重量％含むガラ
ス微粒子を用いることによって、ガラス基板上にパター
ン加工できる温度特性を有する感光性ペーストを得るこ
とができる。５０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が
低くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくな
る。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラ
スを用いることは、ペーストのポットライフが長いなど
の利点がある。By using glass fine particles containing at least one of bismuth oxide, lead oxide and zinc oxide in a glass in an amount of 5 to 50% by weight, a photosensitive paste having a temperature characteristic capable of being patterned on a glass substrate is obtained. be able to. If it exceeds 50% by weight, the heat-resistant temperature of the glass becomes too low, and it is difficult to bake the glass on a glass substrate. In particular, using glass containing 5 to 50% by weight of bismuth oxide has advantages such as a long pot life of the paste.
【００４２】酸化ビスマスを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で 酸化ビスマス １０〜４０重量部 酸化珪素 ３〜５０重量部 酸化ホウ素 １０〜４０重量部 酸化バリウム ８〜２０重量部 酸化アルミニウム １０〜３０重量部 の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。The glass composition containing bismuth oxide includes:
Bismuth oxide 10 to 40 parts by weight in terms of oxides Silicon oxide 3 to 50 parts by weight Boron oxide 10 to 40 parts by weight Barium oxide 8 to 20 parts by weight Aluminum oxide 10 to 30 parts by weight 50% or more by weight It is preferred to contain.
【００４３】また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛の
ような金属酸化物と酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有す
るガラスによって、より低いアルカリ含有量で熱軟化温
度や線熱膨張係数のコントロールが容易になる。In addition, a glass containing both a metal oxide such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and an alkali metal oxide such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide enables a thermal treatment at a lower alkali content. Control of softening temperature and linear thermal expansion coefficient becomes easy.
【００４４】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することによ
り、高度や加工性を改良することができるが、熱軟化
点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量
は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量
％以下である。Further, by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and the like, particularly aluminum oxide, barium oxide, and zinc oxide to the glass fine particles, the quality and workability are improved. However, from the viewpoint of controlling the thermal softening point, the coefficient of thermal expansion, and the refractive index, the content is preferably 40% by weight or less, more preferably 25% by weight or less.
【００４５】さらに、一般に絶縁体として用いられるガ
ラスは、１．５〜１．９程度の屈折率を有しているが、
感光性ガラスペースト法を用いる場合、有機成分の平均
屈折率がガラス粉末の平均屈折率と大きく異なる場合
は、ガラス粉末と感光性有機成分の界面での反射・散乱
が大きくなり、精細なパターンが得られない。一般的な
有機成分の屈折率は１．４５〜１．７であるため、ガラ
ス粉末と有機成分の屈折率を整合させるためには、ガラ
ス粉末の平均屈折率を１．５〜１．６５にすることが好
ましい。Further, glass generally used as an insulator has a refractive index of about 1.5 to 1.9,
When the photosensitive glass paste method is used, when the average refractive index of the organic component is significantly different from the average refractive index of the glass powder, reflection and scattering at the interface between the glass powder and the photosensitive organic component are increased, and a fine pattern is formed. I can't get it. Since the refractive index of a general organic component is 1.45 to 1.7, the average refractive index of the glass powder is set to 1.5 to 1.65 in order to match the refractive indexes of the glass powder and the organic component. Is preferred.
【００４６】酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリ
ウム等のアルカリ金属の酸化物を合計で２〜１０重量％
含有するガラスを用いることによって、熱軟化温度、熱
膨張係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガラ
スの平均屈折率を低くすることができるため、有機物と
の屈折率差を小さくすることが容易になる。２％より小
さい時は、熱軟化温度の制御が難しくなる。１０％より
大きい時は、放電時にアルカリ金属酸化物の蒸発によっ
て輝度低下をもたらす。さらにアルカリ金属の酸化物の
添加量はペーストの安定性を向上させるためにも、１０
重量％より小さいことが好ましく、より好ましくは８重
量％以下である。An alkali metal oxide such as sodium oxide, lithium oxide or potassium oxide is used in a total amount of 2 to 10% by weight.
By using the glass contained, not only the control of the thermal softening temperature and the coefficient of thermal expansion becomes easy, but also the average refractive index of the glass can be lowered, so that the difference in the refractive index from the organic substance can be easily reduced. become. If it is less than 2%, it becomes difficult to control the thermal softening temperature. When it is more than 10%, the brightness is reduced due to evaporation of the alkali metal oxide during discharge. Further, the addition amount of the oxide of the alkali metal is set at 10 to improve the stability of the paste.
It is preferably less than 8% by weight, more preferably less than 8% by weight.
【００４７】特に、アルカリ金属の中では酸化リチウム
を用いることによって、比較的ペーストの安定性を高く
することができ、また、酸化カリウムを用いた場合は、
比較的少量の添加でも屈折率を制御できる利点があるこ
とから、アルカリ金属酸化物の中でも、酸化リチウムと
酸化カリウムの添加が有効である。In particular, the use of lithium oxide among the alkali metals makes it possible to relatively increase the stability of the paste. In the case of using potassium oxide,
Among the alkali metal oxides, the addition of lithium oxide and potassium oxide is effective because there is an advantage that the refractive index can be controlled by adding a relatively small amount.
【００４８】この結果、ガラス基板上に焼き付け可能な
熱軟化温度を有し、平均屈折率を１．５〜１．６５にす
ることができ、有機成分との屈折率差を小さくすること
が容易になる。As a result, it has a heat softening temperature at which it can be burned on a glass substrate, can have an average refractive index of 1.5 to 1.65, and can easily reduce the refractive index difference from the organic component. become.
【００４９】酸化ビスマスを含有するガラスは熱軟化温
度や耐水性向上の点から好ましいが、酸化ビスマスを１
０重量％以上含むガラスは、屈折率が１．６以上になる
ものが多い。このため酸化ナトリウム、酸化リチウム、
酸化カリウムなどのアルカリ金属の酸化物と酸化鉛を併
用することによって、熱軟化温度、熱膨張係数、耐水
性、屈折率のコントロールが容易になる。Glass containing bismuth oxide is preferable from the viewpoint of improving the heat softening temperature and water resistance.
Glass containing 0% by weight or more often has a refractive index of 1.6 or more. So sodium oxide, lithium oxide,
By using an oxide of an alkali metal such as potassium oxide and lead oxide in combination, it becomes easy to control the thermal softening temperature, thermal expansion coefficient, water resistance and refractive index.
【００５０】本発明におけるガラス材質の屈折率測定
は、感光性ペースト法で露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。
さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎ
ｍ）での屈折率測定が好ましい。The measurement of the refractive index of the glass material in the present invention is accurate when measuring the wavelength of light to be exposed by the photosensitive paste method in order to confirm the effect. In particular, 350-6
It is preferable to measure with light having a wavelength in the range of 50 nm.
Furthermore, i-line (365 nm) or g-line (436n)
The measurement of the refractive index in m) is preferred.
【００５１】本発明の隔壁はコントラストをあげる点で
優れていることから、黒色に着色されていてもよい。種
々の金属酸化物を添加することによって、焼成後の隔壁
を着色することができる。例えば、感光性ペースト中に
黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含むことによって、
黒色のパターンを形成することができる。The partition wall of the present invention may be colored black because it is excellent in increasing the contrast. By adding various metal oxides, the partition walls after firing can be colored. For example, by containing 1 to 10% by weight of a black metal oxide in the photosensitive paste,
A black pattern can be formed.
【００５２】この際に用いる黒色の金属酸化物として、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくと
も１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色
化が可能になる。特に、ＦｅとＭｎの酸化物をそれぞれ
０．５重量％以上含有することによって、黒色パターン
を形成できる。As the black metal oxide used at this time,
By including at least one, and preferably three or more of the oxides of Cr, Fe, Co, Mn, and Cu, blackening becomes possible. In particular, a black pattern can be formed by containing 0.5% by weight or more of each of the oxides of Fe and Mn.
【００５３】さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色
する無機顔料を添加したペーストを用いることによっ
て、各色のパターンを形成できる。これらの着色パター
ンは、プラズマディスプレイのカラーフィルターなどに
好適に用いることができる。Furthermore, in addition to black, a pattern of each color can be formed by using a paste to which an inorganic pigment that develops a color such as red, blue, or green is added. These coloring patterns can be suitably used for a color filter of a plasma display and the like.
【００５４】隔壁ガラス部材の誘電率はパネルの消費電
力、放電寿命に優れている点から周波数１ＭＨｚ、温度
２０℃の時に４〜１０であることが好ましい。４以下に
するためには、誘電率が３．８程度である酸化珪素を多
く含ませねばならず、ガラス転移点が高くなり、焼成温
度が高くなることから、基板歪みの原因となり好ましく
ない。１０以上であると、帯電量の増加による電力のロ
スが生じ、消費電力の増加を引き起こすため好ましくな
い。The dielectric constant of the glass partition wall member is preferably 4 to 10 at a frequency of 1 MHz and a temperature of 20 ° C. in view of excellent power consumption and discharge life of the panel. In order to reduce the value to 4 or less, a large amount of silicon oxide having a dielectric constant of about 3.8 must be contained, and the glass transition point is increased and the firing temperature is increased. If it is 10 or more, power loss due to an increase in the amount of charge occurs, which causes an increase in power consumption, which is not preferable.
【００５５】また、本発明の隔壁の比重は２〜３．３で
あることが好ましい。２以下にするためには、ガラス材
料に酸化ナトリウムや酸化カリウムなどのアルカリ金属
の酸化物を多く含ませなければならず、放電中に蒸発し
て放電特性を低下させる要因となるため、好ましくな
い。３．３以上になると、大画面化した時ディスプレイ
が重くなったり、自重で基板に歪みを生じたりするので
好ましくない。The specific gravity of the partition wall of the present invention is preferably from 2 to 3.3. In order to reduce the content to 2 or less, the glass material must contain a large amount of an oxide of an alkali metal such as sodium oxide or potassium oxide, which is unfavorable because it evaporates during the discharge and lowers the discharge characteristics. . When it is 3.3 or more, the display becomes heavy when the screen is enlarged, or the substrate is distorted by its own weight, which is not preferable.
【００５６】本発明の隔壁材料にガラス軟化点が６５０
〜８５０℃であるフィラーを１０〜５０重量％含ませて
もよい。これにより、感光性ガラスペースト法におい
て、パターン形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、パ
ターン形成が容易になる。フィラーとしては、熱軟化温
度が６００℃以上の高融点ガラスやセラミックスなどを
用いることができる。The partition wall material of the present invention has a glass softening point of 650.
A filler having a temperature of ８850 ° C. may be contained in an amount of 10５０50% by weight. Thereby, in the photosensitive glass paste method, the shrinkage ratio during firing after pattern formation is reduced, and pattern formation is facilitated. As the filler, high melting point glass or ceramics having a thermal softening temperature of 600 ° C. or higher can be used.
【００５７】高融点ガラス粉末としては、酸化珪素、酸
化アルミニウムを１５重量％以上含有するガラス粉末が
好ましく、これらの含有量合計がガラス粉末中５０重量
％以上であることが、必要な熱特性を持たせるためには
有効である。一例としては、以下の組成を含有するガラ
ス粉末を用いることが好ましい。As the high melting point glass powder, a glass powder containing 15% by weight or more of silicon oxide and aluminum oxide is preferable, and the total content of these should be 50% by weight or more in the glass powder. It is effective to have. As an example, it is preferable to use a glass powder containing the following composition.
【００５８】 酸化珪素 ：１５〜５０重量部 酸化ホウ素 ： ５〜２０重量部 酸化アルミニウム：１５〜５０重量部 酸化バリウム ： ２〜１０重量部 有機成分は、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光
性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる感光性
成分を含有し、さらに必要に応じて、バインダー、光重
合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止
剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、
有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加え
ることも行われる。Silicon oxide: 15 to 50 parts by weight Boron oxide: 5 to 20 parts by weight Aluminum oxide: 15 to 50 parts by weight Barium oxide: 2 to 10 parts by weight Organic components are photosensitive monomers, photosensitive oligomers, and photosensitive polymers. And a binder, a photopolymerization initiator, an ultraviolet absorber, a sensitizer, a sensitization aid, a polymerization inhibitor, a plasticizer, and a thickener, if necessary. Agents, organic solvents, antioxidants, dispersants,
Additive components such as organic or inorganic suspending agents may be added.
【００５９】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 （Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの （Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの （Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。The photosensitive component includes a photo-insolubilizing type and a photo-solubilizing type. The photo-insolubilizing type includes: (A) a functional monomer having at least one unsaturated group in the molecule. (B) those containing photosensitive compounds such as aromatic diazo compounds, aromatic azide compounds, and organic halogen compounds. (C) So-called diazo resins such as condensates of diazo amines and formaldehyde. And others.
【００６０】また、光可溶型のものとしては、 （Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの （Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル
等がある。Examples of the photo-soluble type include: (D) a complex of a diazo compound with an inorganic salt or an organic acid, and a compound containing a quinone diazo compound; and (E) a quinone diazo compound combined with an appropriate polymer binder. For example, phenol, naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of a novolak resin, and the like.
【００６１】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。As the photosensitive component used in the present invention, all of the above can be used. As the photosensitive component which can be easily used as a photosensitive paste by being mixed with inorganic fine particles, (A) is preferred.
【００６２】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これ
らの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭
素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルス
チレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチル
スチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルス
チレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレ
ン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、およ
び、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくは
すべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピ
ロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種ま
たは２種以上使用することができる。The photosensitive monomer is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond. Specific examples thereof include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, and sec-butyl. Acrylate, sec-
Butyl acrylate, iso-butyl acrylate, te
rt-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxytriethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate Heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobonyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-
Methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, octafluoropentyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allylated cyclohexyl diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene Glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, methoxide Shi of cyclohexyl diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, triglycerol diacrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, acrylamide, aminoethyl acrylate, phenyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, 1-naphthyl acrylate, 2-naphthyl acrylate, bisphenol A diacrylate, diacrylate of bisphenol A-ethylene oxide adduct,
Diacrylates of bisphenol A-propylene oxide adducts, acrylates such as thiophenol acrylate and benzyl mercaptan acrylate, and monomers in which 1 to 5 hydrogen atoms of these aromatic rings have been substituted with chlorine or bromine atoms, or Styrene, p-
Methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, chlorinated styrene, brominated styrene, α-methylstyrene, chlorinated α-methylstyrene, brominated α-methylstyrene, chloromethylstyrene, hydroxymethylstyrene, carboxy Methyl styrene, vinyl naphthalene, vinyl anthracene, vinyl carbazole, and those obtained by changing some or all of the acrylate in the molecule of the above compound to methacrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, etc. Is mentioned. In the present invention, one or more of these can be used.
【００６３】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。In addition to these, the developability after exposure can be improved by adding an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof.
【００６４】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後
の硬度不足が発生するため好ましくない。The content of these monomers is preferably 5 to 30% by weight based on the sum of the glass powder and the photosensitive component.
Outside of this range, the pattern formability deteriorates and the hardness becomes insufficient after curing.
【００６５】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。As the binder, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methacrylate polymer, acrylate polymer, acrylate ester
Examples include methacrylate copolymers, α-methylstyrene polymers, and butyl methacrylate resins.
【００６６】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際
に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以
上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他
の感光性のモノマーと共重合することができる。Further, an oligomer or polymer obtained by polymerizing at least one of the compounds having a carbon-carbon double bond described above can be used. During the polymerization, the copolymer may be copolymerized with another photosensitive monomer so that the content of the photoreactive monomer is 10% by weight or more, more preferably 35% by weight or more.
【００６７】感光性ペースト中の感光性ポリマー、感光
性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマー成分の
量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率の点で優
れていることから、ガラス粉末と感光性モノマーの和に
対して、５〜３０重量％であることが好ましい。この範
囲外では、パターン形成が不可能もしくは、パターンの
太りがでたり、蛇行が大きくなるため好ましくない。The amount of the polymer component comprising the photosensitive polymer, the photosensitive oligomer and the binder in the photosensitive paste is excellent in terms of pattern formability and shrinkage after baking. Is preferably 5 to 30% by weight based on the sum of Outside this range, it is not preferable because the pattern cannot be formed, the pattern becomes thicker, or the meandering becomes larger.
【００６８】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキ
シエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキ
ノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズ
アントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ
−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキ
サノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ
−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロ
パンジオン−２− （ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ
−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−
エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）
オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホル
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、
メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどが
あげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。As specific examples of the photopolymerization initiator,
Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,
4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-
Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,
2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-
2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl, Benzyl dimethyl ketanol, benzyl methoxyethyl acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone,
2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone,
4-azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (p
-Azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2- (o
-Methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o
-Ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-
Ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl)
Oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, 4,4
-Azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphorphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenylsulfone, benzoin peroxide and eosin,
Examples include a combination of a photoreducing dye such as methylene blue and a reducing agent such as ascorbic acid and triethanolamine. In the present invention, one or more of these can be used.
【００６９】光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．
０５〜２０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
０．１〜１５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎ
ると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎ
れば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。The photopolymerization initiator is used in an amount of 0.
In the range of 0.5 to 20% by weight, more preferably
0.1 to 15% by weight. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity becomes poor, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.
【００７０】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。It is also effective to add an ultraviolet absorber. By adding a compound having a high ultraviolet absorption effect, a high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained. UV absorbers composed of organic dyes, especially 35
Organic dyes having a high UV absorption coefficient in the wavelength range of 0 to 450 nm are preferably used. Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, aminoketone dyes, anthraquinones, benzophenones, diphenylcyanoacrylates, triazines, p-aminobenzoic acid dyes and the like can be used. . Even when the organic dye is added as a light absorbing agent, it is preferable because deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorbing agent can be reduced without remaining in the insulating film after firing. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferred.
【００７１】有機染料の添加量はガラス粉末に対して
０．０５〜１重量％が好ましい。０．０５重量％以下で
は紫外線吸光剤の添加効果が減少し、１重量％を越える
と焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。よ
り好ましくは０．１〜０．１８重量％である。The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 1% by weight based on the glass powder. When the content is less than 0.05% by weight, the effect of adding the ultraviolet absorbent is reduced, and when it exceeds 1% by weight, the properties of the insulating film after firing are deteriorated, which is not preferable. More preferably, it is 0.1 to 0.18% by weight.
【００７２】有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法
の一例を上げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した
溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法以
外に、該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥する
方法があげられる。この方法によってガラス微粒子の個
々の粒子表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の微粒子が作製できる。One example of the method of adding the ultraviolet light absorber composed of an organic dye is as follows. In addition to the method of preparing a solution in which an organic dye is dissolved in an organic solvent in advance and kneading the solution at the time of preparing the paste, the method of adding glass After mixing the fine particles, a method of drying the fine particles can be used. By this method, so-called capsule-like fine particles in which the surface of each glass fine particle is coated with an organic film can be produced.
【００７３】本発明において、無機微粒子に含まれるＰ
ｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸
化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペー
ストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合があ
る。このような反応を防止するために安定化剤を添加し
てゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤と
しては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。ト
リアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール誘導体
が好ましく用いられる。この中でも特にベンゾトリアゾ
ールが有効に作用する。本発明において使用されるベン
ゾトリアゾールによるガラス微粒子の表面処理の一例を
上げると、無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリア
ゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、
メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら
微粒子が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２
４時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で
自然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行っ
た微粒子を作製する。使用される安定化剤の割合（安定
化剤／無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感
剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサント
ン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−
ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−
ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４
−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチ
ルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデ
ンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダ
ノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−
イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルア
ミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス
（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カ
ルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−
フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニル
エタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸
イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−
フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェ
ニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが
あげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始
剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感
光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分
に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは
０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば
光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多
すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。In the present invention, P contained in inorganic fine particles
Metals and oxides such as b, Fe, Cd, Mn, Co, and Mg may react with the photosensitive components contained in the paste, causing the paste to gel in a short time, making application impossible. In order to prevent such a reaction, it is preferable to add a stabilizer to prevent gelation. As the stabilizer used, a triazole compound is preferably used. As the triazole compound, a benzotriazole derivative is preferably used. Among them, benzotriazole works particularly effectively. As an example of the surface treatment of glass fine particles with benzotriazole used in the present invention, a predetermined amount of benzotriazole with respect to inorganic fine particles methyl acetate, ethyl acetate, ethyl alcohol,
After dissolving in an organic solvent such as methyl alcohol, 1-2 parts of the solution are dissolved in the solution so that these fine particles can be sufficiently immersed.
Soak for 4 hours. After immersion, preferably, the particles are naturally dried at 20 to 30 ° C., and the solvent is evaporated to produce triazole-treated fine particles. The ratio of the stabilizer used (stabilizer / inorganic fine particles) is preferably 0.05 to 5% by weight.
A sensitizer is added to improve sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, and 2,3-bis (4-
Diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-
Bis (4-dimethylaminbenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4
-Methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4-
Bis (diethylamino) -benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone, 4,4-bis (diethylamino) chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene indanone, p-dimethylaminobenzylidene indanone, 2- (p -Dimethylaminophenylvinylene)-
Isonaphthothiazole, 1,3-bis (4-dimethylaminobenzal) acetone, 1,3-carbonyl-bis (4-diethylaminobenzal) acetone, 3,3-carbonyl-bis (7-diethylaminocoumarin), N −
Phenyl-N-ethylethanolamine, N-phenylethanolamine, N-tolyldiethanolamine, N
-Phenylethanolamine, isoamyl dimethylaminobenzoate, isoamyl diethylaminobenzoate, 3-
Examples thereof include phenyl-5-benzoylthiotetrazole and 1-phenyl-5-ethoxycarbonylthiotetrazole. In the present invention, one or more of these can be used. Some sensitizers can also be used as photopolymerization initiators. When a sensitizer is added to the photosensitive paste of the present invention, the amount is usually 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the sensitizer is too small, the effect of improving the photosensitivity is not exhibited, and if the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.
【００７４】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。The polymerization inhibitor is added to improve the thermal stability during storage. Specific examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, monoesterified hydroquinone,
N-nitrosodiphenylamine, phenothiazine, p-
t-butylcatechol, N-phenylnaphthylamine,
2,6-di-t-butyl-p-methylphenol, chloranil, pyrogallol and the like. When adding a polymerization inhibitor, the amount added, in the photosensitive paste,
Usually, it is 0.001 to 1% by weight.
【００７５】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。Specific examples of the plasticizer include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, polyethylene glycol, glycerin and the like.
【００７６】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する
場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通
常、０．００１〜１重量％である。The antioxidant is added to prevent oxidation of the acrylic copolymer during storage. Specific examples of antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, and 2,6-di-t.
-4-ethylphenol, 2,2-methylene-bis-
(4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2-
Methylene-bis- (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4-bis- (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,1,3-tris- (2-methyl-6
-T-butylphenol), 1,1,3-tris- (2
-Methyl-4-hydroxy-t-butylphenyl) butane, bis [3,3-bis- (4-hydroxy-3-t-
[Butylphenyl) butyric acid] glycol ester, dilaurylthiodipropionate, triphenylphosphite and the like. When adding an antioxidant, the amount added is usually 0.001 to 1% by weight in the paste.
【００７７】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。To adjust the viscosity of the solution, an organic solvent may be added to the photosensitive paste of the present invention. The organic solvent used at this time includes methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, bromobenzene, Chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid, and the like, and an organic solvent mixture containing at least one of these are used.
【００７８】有機成分の屈折率とは、露光により感光性
成分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の
屈折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥
工程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の
有機成分の屈折率のことである。例えば、ペーストをガ
ラス基板上に塗布した後、５０〜１００℃で１〜３０分
乾燥して屈折率を測定する方法などがある。The refractive index of the organic component is the refractive index of the organic component in the paste at the time when the photosensitive component is exposed to light. In other words, when the paste is applied and the exposure is performed after the drying step, it refers to the refractive index of the organic component in the paste after the drying step. For example, there is a method of applying a paste on a glass substrate, drying the paste at 50 to 100 ° C. for 1 to 30 minutes, and measuring the refractive index.
【００７９】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるエリプソメトリー法やＶブロック法が好まし
く、測定は露光する光の波長で行うことが効果を確認す
る上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲中
の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線
（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率
測定が好ましい。The measurement of the refractive index in the present invention is preferably performed by a generally performed ellipsometry method or V-block method, and the measurement is performed at the wavelength of the light to be exposed, which is accurate for confirming the effect. In particular, it is preferable to measure with light having a wavelength in the range of 350 to 650 nm. Further, it is preferable to measure the refractive index at the i-line (365 nm) or the g-line (436 nm).
【００８０】また、有機成分が光照射によって重合した
後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光
照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射すること
によって測定できる。Further, in order to measure the refractive index after the organic component is polymerized by light irradiation, the refractive index can be measured by irradiating only the organic component with the same light as when irradiating the paste.
【００８１】また、増感剤は、露光波長に吸収を有して
いるものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈
折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加するこ
とによって、有機成分の屈折率を向上することができ
る。この場合の増感剤の添加量は３〜１０重量％添加す
ることができる。As the sensitizer, those having absorption at the exposure wavelength are used. In this case, the refractive index becomes extremely high near the absorption wavelength. In addition, the refractive index of the organic component can be improved. In this case, the sensitizer may be added in an amount of 3 to 10% by weight.
【００８２】感光性ペーストは、通常、無機微粒子、紫
外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合
開始剤、ガラスフリットおよび溶媒等の各種成分を所定
の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で
均質に混合分散し作製する。ペーストの粘度は無機微粒
子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの
添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は２００
０〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガ
ラス基板への塗布をスクリーン印刷法以外にスピンコー
ト法で行う場合は、２００〜５０００ｃｐｓが好まし
い。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μ
ｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。The photosensitive paste is usually prepared by mixing various components such as inorganic fine particles, an ultraviolet absorber, a photosensitive polymer, a photosensitive monomer, a photopolymerization initiator, a glass frit and a solvent so as to have a predetermined composition. The mixture is uniformly mixed and dispersed with three rollers or a kneading machine. The viscosity of the paste is appropriately adjusted by the addition ratio of inorganic fine particles, a thickener, an organic solvent, a plasticizer, a suspending agent, and the like.
It is 0-200,000 cps (centipoise). For example, when applying to a glass substrate by a spin coating method other than the screen printing method, 200 to 5000 cps is preferable. Coated once by screen printing method, film thickness 10-20μ
In order to obtain m, 50,000 to 200,000 cps is preferable.
【００８３】次に、感光性ペーストを用いてパターン加
工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定
されない。Next, an example of performing pattern processing using a photosensitive paste will be described, but the present invention is not limited to this.
【００８４】ガラス基板やセラミックスの基板、もしく
は、ポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面
塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、
スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイ
コーター、ブレードコーター等の方法を用いることがで
きる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、
ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。A photosensitive paste is applied over the entire surface or a part of a glass substrate, a ceramic substrate, or a polymer film. As the application method,
Methods such as screen printing, a bar coater, a roll coater, a die coater, and a blade coater can be used. The coating thickness is determined by the number of coatings, screen mesh,
It can be adjusted by choosing the viscosity of the paste.
【００８５】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップ
リング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面
処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８
０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表
面処理ができるまた、フィルム上に塗布した場合、フィ
ルム上で乾燥を行った後、次の露光工程を行う場合と、
ガラスやセラミックの基板上に張り付けた後、露光工程
を行う方法がある。Here, when applying the paste on the substrate,
Surface treatment of the substrate can be performed to enhance the adhesion between the substrate and the coating film. Examples of the surface treatment liquid include silane coupling agents such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and tris-silane.
(2-methoxyethoxy) vinylsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, γ (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane and the like, or organic metals such as organic titanium, organic aluminum and organic zirconium. The silane coupling agent or the organic metal is dissolved in an organic solvent, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol or the like.
Use the one diluted to a concentration of 1 to 5%. Next, after applying this surface treatment liquid uniformly on the substrate with a spinner or the like, 8
Surface treatment can be performed by drying at 0 to 140 ° C. for 10 to 60 minutes.When applied on a film, after drying on the film, performing the next exposure step,
There is a method in which an exposure step is performed after the film is pasted on a glass or ceramic substrate.
【００８６】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光
などで直接描画する方法を用いても良い。After application, exposure is performed using an exposure device. The exposure is generally performed by a mask exposure using a photomask, as is performed by ordinary photolithography. As the mask to be used, either a negative type or a positive type is selected depending on the type of the photosensitive organic component. Alternatively, a method of directly drawing with a red or blue laser beam without using a photomask may be used.
【００８７】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感
光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行う
ことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積
を露光することができる。As an exposure device, a stepper exposure device, a proximity exposure device, or the like can be used. In the case of performing a large-area exposure, after applying a photosensitive paste on a substrate such as a glass substrate, and performing the exposure while transporting, it is possible to expose a large area with an exposure machine having a small exposure area. it can.
【００８８】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ
／ｃｍ2 の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分
間露光を行なう。露光が不足するとパターンの剥がれや
蛇行が大きくなるので、好ましくない。The active light source used at this time is, for example,
Visible light, near-ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, laser light, etc. are preferable. Among them, ultraviolet light is preferable. Etc. can be used. Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred.
Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but 1 to 100 mW
Exposure is performed for 0.5 to 30 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp with an output of / cm 2 . Insufficient exposure is not preferable because peeling and meandering of the pattern increase.
【００８９】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ポリビニルアルコ
ール（ＰＶＡ）やセルロースなどの膜、あるいは、ポリ
エステルなどのフィルムが上げられる。By providing an oxygen shielding film on the surface of the applied photosensitive paste, the pattern shape can be improved. As an example of the oxygen shielding film, a film of polyvinyl alcohol (PVA) or cellulose, or a film of polyester or the like can be given.
【００９０】ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重
量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗
布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥すること
によって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコ
ールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発
が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶
液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度
が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するの
は次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応
する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害す
ると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮
断できるので露光時に感度が向上すると考えられる。The PVA film is formed by uniformly applying an aqueous solution having a concentration of 0.5 to 5% by weight on a substrate by a method such as a spinner and then drying at 70 to 90 ° C. for 10 to 60 minutes to evaporate water. Let me do it. In addition, it is preferable to add a small amount of alcohol to the aqueous solution because the coatability with the insulating film is improved and the evaporation is facilitated. A more preferred solution concentration of PVA is 1 to 3% by weight. Within this range, the sensitivity is further improved. The reason why the sensitivity is improved by the PVA application is presumed as follows. That is, when the photosensitive component undergoes a photoreaction, the presence of oxygen in the air is considered to hinder the photocuring sensitivity, but the presence of a PVA film is considered to improve the sensitivity during exposure because excess oxygen can be blocked. .
【００９１】ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチ
レン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光
性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用い
る方法もある。When a transparent film of polyester, polypropylene, polyethylene, or the like is used, there is a method in which these films are attached to the applied photosensitive paste.
【００９２】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、この場
合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行な
う。After the exposure, development is carried out using the difference in solubility between the photosensitive portion and the non-photosensitive portion in the developing solution. In this case, the development is performed by an immersion method, a shower method, a spray method, or a brush method.
【００９３】用いる現像液は、感光性ペースト中の有機
成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有
機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加しても
よい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を
持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像でき
る。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナト
リウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アル
カリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用い
た方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好まし
い。As the developer to be used, an organic solvent in which the organic components in the photosensitive paste can be dissolved can be used. Water may be added to the organic solvent as long as the solvent does not lose its solubility. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the alkaline aqueous solution, a metallic alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide, sodium carbonate, calcium hydroxide aqueous solution, etc. can be used, but it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution since the alkaline component can be easily removed during firing.
【００９４】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量
％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去され
ず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ
たり、蛇行が大きくなる、また非可溶部を腐食させるお
それがあり好ましくない。また、現像時の現像温度は、
２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。As the organic alkali, an amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion is not removed, and if the alkali concentration is too high, the pattern portion may be peeled off, the meandering may be increased, and the non-soluble portion may be corroded. The development temperature during development is
Performing at 20 to 50 ° C. is preferable in terms of process control.
【００９５】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。ガラス基板上にパターン加工する場
合は、５４０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持し
て焼成を行う。Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of the paste and the substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen, or the like. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used. When patterning is performed on a glass substrate, baking is performed at a temperature of 540 to 610 ° C. for 10 to 60 minutes.
【００９６】また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各
工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加
熱工程を導入しても良い。Further, a heating step at 50 to 300 ° C. may be introduced for the purpose of drying and preliminary reaction during each of the coating, exposure, development and baking steps.
【００９７】[0097]
【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The concentrations (%) in Examples and Comparative Examples are% by weight unless otherwise specified.
【００９８】実施例１ まず、次の方法により感光性ペーストを作製した。Example 1 First, a photosensitive paste was prepared by the following method.
【００９９】溶媒（γ−ブチロラクトン）およびポリマ
ーを４０％溶液となるよう混合し、攪拌しながら６０℃
まで加熱してすべてのポリマーを均質に溶解させた。The solvent (γ-butyrolactone) and the polymer were mixed to form a 40% solution, and the mixture was stirred at 60 ° C.
Until all the polymer was homogeneously dissolved.
【０１００】ポリマーは、４０％のメタアクリル酸（Ｍ
ＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）お
よび３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカル
ボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリ
レート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３
０００、酸価９５の感光性ポリマーを用いた。The polymer was 40% methacrylic acid (M
AA), a weight average molecular weight obtained by subjecting a copolymer consisting of 30% methyl methacrylate (MMA) and 30% styrene (St) to an addition reaction of 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate (GMA) to a carboxyl group. 43
000, a photosensitive polymer having an acid value of 95 was used.
【０１０１】ついで溶液を室温まで冷却し、感光性モノ
マー、増感剤等を表１に示す割合で加えて溶解させた。
その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用い
て濾過し、有機ビヒクルを作製した。ここで本実施例に
用いた、感光性モノマー、光重合開始剤、増感剤は次の
ような化合物である。Next, the solution was cooled to room temperature, and a photosensitive monomer, a sensitizer and the like were added and dissolved at the ratios shown in Table 1.
Thereafter, this solution was filtered using a 400-mesh filter to produce an organic vehicle. Here, the photosensitive monomer, photopolymerization initiator, and sensitizer used in the present example are the following compounds.
【０１０２】感光性モノマー；A photosensitive monomer;
【化１】 光重合開始剤 ；２−ベンジル−２ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１ 増感剤 ；２，４−ジエチルチオキサントン 次に、スダン（アゾ系有機染料）をガラス粉末に対して
０．１３％の割合で秤量した。スダンとは化学式Ｃ24Ｈ
20Ｎ4 Ｏ、分子量３８０．４５のアゾ系有機染料であ
る。そのスダンをアセトンに溶解させ、分散剤を加えて
ホモジナイザで均質に攪拌し、この溶液中にガラス粉末
を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレー
タを用いて、１５０〜２００℃の温度で乾燥し、アセト
ンを蒸発させた。こうして有機染料からなる紫外線吸収
剤の膜でガラス粉末の表面を均質にコーティングした
（いわゆるカプセル処理した）粉末を作製した。Embedded image Photopolymerization initiator; 2-benzyl-2 dimethylamino-1
-(4-morpholinophenyl) -butanone-1 sensitizer; 2,4-diethylthioxanthone Next, sudan (an azo organic dye) was weighed at a rate of 0.13% with respect to the glass powder. Sudan is the chemical formula C 24 H
An azo organic dye having 20 N 4 O and a molecular weight of 380.45. Dissolve the sudan in acetone, add a dispersant, stir homogeneously with a homogenizer, add glass powder into this solution, uniformly disperse and mix, and then use a rotary evaporator at a temperature of 150 to 200 ° C. Dry and evaporate the acetone. In this way, a powder was obtained in which the surface of the glass powder was uniformly coated with a film of an ultraviolet absorbent composed of an organic dye (so-called capsule treatment).
【０１０３】ガラス粉末は、Ｌｉ2 Ｏ ９％、ＳｉＯ2
２２％、Ｂ2 Ｏ3 ３３％、ＢａＯ４％、Ａｌ2 Ｏ3 ２３
％、ＺｎＯ ２％、ＭｇＯ ７％の組成のものを用い
た。ガラス粉末は、あらかじめアトラクターにて微粉末
にし、平均粒径２．６μｍの非球状粉末を使用した。ｇ
線（４３６ｎｍ）での屈折率を測ったところ１．５９で
あった。The glass powder was 9% Li 2 O, SiO 2
22%, B 2 O 3 33%, BaO 4%, Al 2 O 3 23
%, ZnO 2%, and MgO 7%. The glass powder was made into a fine powder in advance using an attractor, and a non-spherical powder having an average particle size of 2.6 μm was used. g
The measured refractive index at the line (436 nm) was 1.59.
【０１０４】上記に示す、紫外線吸収剤添加のガラス粉
末 ７０重量部、有機ビヒクル２５重量部、モノマー
２０重量部、光重合開始剤 ３．０ 重量部、増感剤
１．８重量部の組成物を配合し、３本ローラで混合・分
散して、感光性ペーストを調整した。70 parts by weight of the above-mentioned glass powder to which an ultraviolet absorber was added, 25 parts by weight of an organic vehicle, and a monomer
A composition of 20 parts by weight, 3.0 parts by weight of a photopolymerization initiator, and 1.8 parts by weight of a sensitizer was blended, and mixed and dispersed with a three-roller to prepare a photosensitive paste.
【０１０５】次にガラス基板として交流方式のプラズマ
ディスプレイパネル部材作製を目的としてサイズ２２０
×３００ｍｍ（Ａ４サイズ）の背面板用ガラスおよび前
面板用ガラス基板を使用した。背面板用ガラス基板に、
アドレス電極として感光性銀ペーストを用いてフォトリ
ソ法により、焼成厚み１０μｍ、線幅４０μｍ、ピッチ
１５０μｍの電極パターンを形成した。前面板用ガラス
基板には、バス電極付き透明電極を形成した。すなわ
ち、透明電極は、ＩＴＯをスパッタ法で形成後、レジス
ト塗布し、露光・現像処理、エッチング処理によって焼
成厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形成し
た。また、黒色銀粉末を用いて感光性銀ペーストを用い
てフォトリソ法により、焼成厚み１０μｍ、線幅５０μ
ｍ、ピッチ１５０μｍの黒色のバス電極を形成した。Next, in order to produce a plasma display panel member of an AC type as a glass substrate, a size 220 was used.
A 300 mm (A4 size) glass for a back plate and a glass substrate for a front plate were used. On the glass substrate for the back plate,
An electrode pattern having a fired thickness of 10 μm, a line width of 40 μm, and a pitch of 150 μm was formed by a photolithography method using a photosensitive silver paste as an address electrode. A transparent electrode with a bus electrode was formed on the glass substrate for the front plate. That is, the transparent electrode was formed by sputtering ITO, applying a resist, exposing, developing, and etching to form a transparent electrode having a fired thickness of 0.1 μm and a line width of 200 μm. In addition, a baked thickness of 10 μm and a line width of 50 μm were obtained by photolithography using a photosensitive silver paste using black silver powder.
m, a black bus electrode having a pitch of 150 μm was formed.
【０１０６】さらに前面板用ガラス基板上に誘電体ペー
ストを２０μｍ塗布し、４３０℃で２０分間保持して焼
き付けた。次に形成した、透明電極、黒色電極、誘電体
層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用いて、
ＭｇＯを蒸着した。蒸着膜の厚みは０．５μｍである。Further, a dielectric paste was applied to a thickness of 20 μm on the glass substrate for the front plate, and was baked by holding at 430 ° C. for 20 minutes. Next, using an electron beam evaporator to uniformly cover the formed transparent electrode, black electrode, and dielectric layer,
MgO was deposited. The thickness of the deposited film is 0.5 μm.
【０１０７】背面板用ガラス基板上にビスマス系ガラス
の感光性ガラスぺーストを誘電体として１５μｍ塗布し
た。ビスマス系ガラス粉末の組成は、Ｂｉ2 Ｏ3 が２６
重量％含まれたものを用いた。８０℃で３０分乾燥した
後、露光量１０Ｊ／ｃｍ2 で全面露光した。A photosensitive glass paste of bismuth-based glass was applied as a dielectric on a glass substrate for a back plate at a thickness of 15 μm. The composition of the bismuth-based glass powder is Bi 2 O 3 of 26.
What was contained by weight% was used. After drying at 80 ° C. for 30 minutes, the entire surface was exposed at an exposure amount of 10 J / cm 2 .
【０１０８】隔壁形成のため、感光性ペーストを、位置
合わせマーク付き背面板用ガラス基板上に、３２５メッ
シュのスクリーンを用いてスクリーン印刷により、１１
０μｍの膜厚に均一に塗布して隔壁下層を作成した。塗
布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布・乾
燥を数回以上繰り返し行い、膜厚みの調整を行った。途
中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で
１時間保持して乾燥した。続いて、１５０μｍピッチの
ネガ型のクロムマスクを用いて位置合わせをし、上面か
ら５０ｍＪ／ｃｍ2 出力の超高圧水銀灯で紫外線露光し
た。露光量は１．５Ｊ／ｃｍ2 であった。同様の操作を
行って１１０μｍ膜厚の隔壁上層をスクリーン印刷し、
次いで、下層と同様に露光した。In order to form a partition, a photosensitive paste was applied onto a glass substrate for a back plate with an alignment mark by screen printing using a 325 mesh screen.
The coating was uniformly applied to a thickness of 0 μm to form a partition lower layer. Coating and drying were repeated several times or more in order to avoid generation of pinholes and the like in the coating film, and the film thickness was adjusted. Drying was performed at 80 ° C. for 10 minutes. Then, it was kept at 80 ° C. for 1 hour and dried. Subsequently, alignment was performed using a 150 μm-pitch negative chrome mask, and ultraviolet exposure was performed from the upper surface with an ultra-high pressure mercury lamp of 50 mJ / cm 2 output. The exposure amount was 1.5 J / cm 2 . By performing the same operation, the upper layer of the partition wall having a thickness of 110 μm is screen printed,
Next, exposure was performed in the same manner as in the lower layer.
【０１０９】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．５重量％の水溶液をシャワーで９０秒間かけ
ることにより現像し、その後シャワースプレーを用いて
水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して背
面板用ガラス基板上にストライプ状の隔壁を形成した。Next, a 0.5% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. was developed by applying a shower for 90 seconds, followed by washing with water using a shower spray, and a light-cured space portion. Was removed to form striped partition walls on the glass substrate for the back plate.
【０１１０】このようにして隔壁を形成した背面板用ガ
ラス基板を、空気中で５７０℃で３０分間焼成を行い、
絶縁隔壁を作製した。The glass substrate for the back plate on which the partition walls are formed as described above is fired in air at 570 ° C. for 30 minutes.
An insulating partition was produced.
【０１１１】絶縁隔壁を形成した背面板用ガラス基板の
隔壁内の所定の溝に感光性ペースト法を用いて、蛍光体
層を形成した。すなわち、赤（Ｒ）を形成する場合、Ｒ
の感光性蛍光体ペーストを用いて、印刷・フォトマスク
の位置あわせ・露光・現像・焼成（５００℃、３０分）
を行い、所定の位置に形成する。緑（Ｇ）、青（Ｂ）に
関しても同様の操作を行い、３色の蛍光体を所定の位置
に形成した。A phosphor layer was formed in a predetermined groove in the partition of the glass substrate for the back plate on which the insulating partition was formed by using a photosensitive paste method. That is, when forming red (R), R
Printing, photomask positioning, exposure, development, and baking (500 ° C, 30 minutes) using the photosensitive phosphor paste
Is performed to form a predetermined position. The same operation was performed for green (G) and blue (B) to form phosphors of three colors at predetermined positions.
【０１１２】次に、前面板および背面板用ガラス基板に
シール剤となる低融点ガラスペーストを設け、所定の配
置になるよう位置あわせして対向配置し、４５０℃、３
０分間処理しガラス基板を封止した。その後、表示領域
内部の排気及びＨｅ９９％、Ｘｅ１％の混合ガスの封入
を行ってプラズマディスプレイパネルを完成させた。形
成した隔壁の断面形状を、走査型電子顕微鏡で観察し、
上面幅を測定し、３サンプルの平均値を算出した。ま
た、隔壁にそって、約１ｍｍにわたっての隔壁の振れ量
を測定し、３サンプルの平均を算出した。また蛍光体層
塗布の均一性を評価するため、隣接した隔壁溝への蛍光
体のはみだし、隔壁上面部への蛍光体塗布の有無を観察
した。塗布均一性に問題のない場合は○で示した。さら
に色別の発光を行い、目視で輝度ムラのあるものは×、
問題のないものは○で示した。Next, a low-melting glass paste as a sealant was provided on the front and rear glass substrates, and the glass substrates were positioned so as to have a predetermined arrangement and opposed to each other.
The glass substrate was sealed by treating for 0 minutes. Thereafter, the inside of the display area was evacuated and a mixed gas of 99% He and 1% Xe was sealed to complete the plasma display panel. Observe the cross-sectional shape of the formed partition wall with a scanning electron microscope,
The top surface width was measured, and the average value of three samples was calculated. In addition, the amount of deflection of the partition wall over about 1 mm was measured along the partition wall, and the average of three samples was calculated. In addition, in order to evaluate the uniformity of the phosphor layer application, the phosphor was protruded into the adjacent partition groove, and the presence or absence of the phosphor application on the partition upper surface was observed. When there was no problem in coating uniformity, it was indicated by ○. In addition, light emission for each color is performed.
Those having no problem were indicated by ○.
【０１１３】結果を表１に示す。蛍光体塗布均一性、は
みだし、ともに良好であり、輝度ムラのない優れたもの
であった。Table 1 shows the results. The phosphor uniformity and protrusion were both good, and were excellent without uneven brightness.
【０１１４】実施例２ 組成がＬｉ2 Ｏ １３％、ＳｉＯ2 ４７％、Ｂ2 Ｏ3
２１％、ＢａＯ５％、Ａｌ2 Ｏ3 ８％、ＺｎＯ ６％で
あり、平均粒径３．０μｍ、球状粉末、ｇ線（４３６ｎ
ｍ）での屈折率が１．５３であるガラス粉末を用い、露
光量を１．５Ｊ／ｃｍ2 にし、現像時間を７０秒間とし
た以外は、実施例１と同様にして、検討を行った。結果
を表１に示す。Example 2 Composition: Li 2 O 13%, SiO 2 47%, B 2 O 3
21%, BaO 5%, Al 2 O 3 8%, ZnO 6%, average particle size 3.0 μm, spherical powder, g-line (436n
Investigation was carried out in the same manner as in Example 1 except that a glass powder having a refractive index of 1.53 in m) was used, the exposure amount was 1.5 J / cm 2 , and the development time was 70 seconds. . Table 1 shows the results.
【０１１５】比較例１ スクリーン印刷により２２０μｍ膜厚の隔壁を作製し、
２．０Ｊ／ｃｍ2 のＵＶ光露光により１回で光硬化する
以外は実施例１と同様にして検討を行った。この結果を
表１に示す。Comparative Example 1 A partition having a thickness of 220 μm was prepared by screen printing.
The study was conducted in the same manner as in Example 1 except that the photocuring was performed once by UV light exposure at 2.0 J / cm 2 . Table 1 shows the results.
【０１１６】得られた隔壁の振れ幅は蛇行が大きく、後
工程の作製基準に適さないものであり、剥がれ、断線は
なかったものの、蛍光体のはみだしが生じた。また輝度
ムラが生じるという問題が生じた。The obtained partition wall had a large meandering width, which was not suitable for the production standard in the subsequent process. Although there was no peeling or disconnection, the fluorescent material protruded. Further, there is a problem that luminance unevenness occurs.
【０１１７】比較例２ 約０．３μｍ膜厚の隔壁のスクリーン印刷と０．３Ｊ／
ｃｍ2 のＵＶ光露光を７回繰り返すことにより２２０μ
ｍ膜厚の隔壁を作製した以外は実施例１と同様にして検
討を行った。この結果を表１に示す。Comparative Example 2 Screen printing of about 0.3 μm thick partition walls and 0.3 J /
220 μm by repeating UV light exposure 7 cm 2 times
The study was conducted in the same manner as in Example 1 except that a partition having a thickness of m was prepared. Table 1 shows the results.
【０１１８】得られた隔壁の振れ幅は蛇行が大きく、後
工程の作製基準に適さないものであり、剥がれ、断線は
なかったものの、蛍光体のはみだしが生じた。また輝度
ムラが生じるという問題が生じた。The obtained partition wall had a large meandering width, which was not suitable for the production standard in the subsequent process. Although there was no peeling or disconnection, the fluorescent material protruded. Further, there is a problem that luminance unevenness occurs.
【０１１９】[0119]
【表１】 [Table 1]
【０１２０】[0120]
【発明の効果】本発明の２回露光により隔壁を形成する
ことにより、蛇行のない隔壁パターンの実現が可能とな
った。このパネルを使用することにより、蛍光体塗布の
際の歩留まりの改善ができ、高精度の隔壁が形成でき
る。また蛍光体の被覆性が向上し、蛍光体の塗りむら、
切れが減少することにより、高輝度化が可能となり、ま
た輝度ムラがなくなることにより、高輝度、高精細のプ
ラズマディスプレイを提供することができる。According to the present invention, the partition wall is formed by the two exposures, thereby realizing a partition wall pattern without meandering. By using this panel, the yield at the time of applying the phosphor can be improved, and a highly accurate partition can be formed. In addition, the coating property of the phosphor has been improved,
By reducing the number of cuts, high luminance can be achieved, and by eliminating luminance unevenness, a high-luminance, high-definition plasma display can be provided.
【図１】本発明の隔壁の断面形状を示す簡略図である。FIG. 1 is a simplified diagram showing a sectional shape of a partition wall of the present invention.
【図２】隔壁の振れ量の測定方法を示す上部からみた簡
略図である。FIG. 2 is a simplified view from above showing a method for measuring the amount of deflection of a partition.
Claims (8)
が１００〜２００μｍ、高さが１００〜２００μｍであ
るプラズマディスプレイの製造方法であって、無機微粒
子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを用い、塗布
と露光を少なくとも２回繰り返して行うことにより隔壁
形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製
造方法。1. A method of manufacturing a plasma display, wherein a partition is formed on a substrate, wherein the pitch of the partition is 100 to 200 μm and the height is 100 to 200 μm, the photosensitive comprising inorganic fine particles and a photosensitive organic component. A method for manufacturing a plasma display, wherein a partition is formed by repeating application and exposure at least twice using a paste.
の範囲にあることを特徴とする請求項１記載のプラズマ
ディスプレイの製造方法。 Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１ Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２ なお、Ｌｔは上面幅、Ｌｈは半値幅、Ｌｂは下面幅を示
す。ただし、Ｌｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合は除く。2. The method according to claim 1, wherein the ratio of the upper surface width, the half width and the lower surface width of the partition wall is in the following range. Lt / Lh = 0.65 to 1 Lb / Lh = 1 to 2 Note that Lt indicates an upper surface width, Lh indicates a half-value width, and Lb indicates a lower surface width. However, the case where Lt = Lh = Lb is excluded.
状を有することを特徴とする請求項１記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法。3. The method of manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein the partition wall has a curved shape from the center to the bottom.
クス状であることを特徴とする請求項１記載のプラズマ
ディスプレイの製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the shape of the partition is a stripe or a matrix.
ｍ以上であることを特徴とする請求項１記載のプラズマ
ディスプレイの製造方法。5. A paste having a thickness of 80 μm in one exposure.
2. The method according to claim 1, wherein the number is at least m.
ｍ以上、１５０μｍ以下であるように塗布、露光を２回
繰り返すことを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイの製造方法。6. The paste thickness in one exposure is 80 μm.
2. The method according to claim 1, wherein the application and the exposure are repeated twice so as to be not less than m and not more than 150 [mu] m.
とを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの
製造方法。7. The method according to claim 1, wherein the partition has a line width of 15 μm to 50 μm.
ていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディス
プレイの製造方法。 酸化リチウム ： ２〜１５重量部 酸化珪素 ：１５〜５０重量部 酸化ホウ素 ：１５〜４０重量部 酸化バリウム ： ２〜１５重量部 酸化アルミニウム： ６〜２５重量部8. The method according to claim 1, wherein the partition is made of a glass material having the following composition. Lithium oxide: 2 to 15 parts by weight Silicon oxide: 15 to 50 parts by weight Boron oxide: 15 to 40 parts by weight Barium oxide: 2 to 15 parts by weight Aluminum oxide: 6 to 25 parts by weight
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP1378797A JPH10208630A (en) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | Manufacture of plasma display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1378797A JPH10208630A (en) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | Manufacture of plasma display |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10208630A true JPH10208630A (en) | 1998-08-07 |
Family
ID=11842970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1378797A Pending JPH10208630A (en) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | Manufacture of plasma display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10208630A (en) |
-
1997
- 1997-01-28 JP JP1378797A patent/JPH10208630A/en active Pending
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