JPH0912979A - Photosensitive phosphor paste - Google Patents

Abstract

PURPOSE: To obtain a photosensitive phosphor paste for plasma display panel which comprises a phosphor powder, a photosensitive resin composition and an ultraviolet absorber, enables prolonged life, high minuteness, high-density display with high display quality and improved brightness efficiency. CONSTITUTION: This phosphor paste comprises (A) a phosphor powder 7 such as Y2 O3 of which 50wt.% has particle sizes of 1-15μm and a specific surface area of 0.1-2.0m<2> /g, (B) a photosensitive resin composition containing an acrylic copolymer bearing carboxyl groups and ethylenically unsaturated groups on the side chain or molecular chain ends, and (C) an ultraviolet absorber such as an organic dye having an integral value of absorbance of 30-100 at wavelength from 350 to 450nm. The amount of the component C is preferably 0.05-2wt.% based on the component A.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ・ディスプレ
イ・パネル（ＰＤＰ）の蛍光体形成に用いる感光性蛍光
体ペ−ストに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive phosphor paste used for forming a phosphor of a plasma display panel (PDP).

【０００２】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり且つ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョ
ンの分野などでの進展が非常に期待されている。2. Description of the Related Art Plasma display panels (PDPs)
Is capable of high-speed display and is easy to be upsized as compared with a liquid crystal panel, and has permeated the fields of OA equipment and public relations display devices. Further, progress in the field of high-definition television is highly expected.

【０００３】このような用途の拡大にともなって、微細
で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されてい
る。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間
に備えられた放電空間内で対向するアノードおよびカソ
ード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内
に封入されているガスから発光させることにより表示を
行うものである。ＰＤＰは、構造的には対向電極型、面
放電型が知られ、印加電圧の分類では直流（ＤＣ）型、
交流（ＡＣ）型が知られている。カラーＰＤＰはセル内
に塗布した蛍光体をガス放電によって生成された紫外光
で励起して可視光を得てカラー表示するディスプレイで
ある。カラーＰＤＰの場合は、放電セルごとに発光色の
異なる蛍光体が塗布されている。すなわち、適当な蛍光
体を選ぶことによって、任意色の単色発光をさせること
ができる。例えば、赤、緑、青の蛍光体、例えば、赤色
ではＹ₂ Ｏ₃ ：Ｅｕ，ＹＶＯ₃ ：Ｅｕ，（Ｙ，Ｇｄ）Ｂ
Ｏ₃ ：Ｅｕ，や、緑色ではＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ，Ｚｎ
₂ ＳｉＯ₄ ：Ｍｎや、青色ではＢａＭｇ₂ Ａｌ₁₄Ｏ₂₃：
Ｅｕ，ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕなどから組み合わせる
ことができる。With the expansion of such applications, a color PDP having a large number of fine display cells has been receiving attention. The PDP causes a plasma discharge to occur between an anode and a cathode electrode facing each other in a discharge space provided between a front glass substrate and a rear glass substrate, and emits light from a gas sealed in the discharge space. The display is performed. The PDP is structurally known to be a counter electrode type or a surface discharge type. According to the classification of applied voltage, a direct current (DC) type,
The alternating current (AC) type is known. The color PDP is a display that excites the phosphor coated in the cell with ultraviolet light generated by gas discharge to obtain visible light and displays in color. In the case of a color PDP, phosphors having different emission colors are applied to each discharge cell. That is, by selecting an appropriate phosphor, it is possible to emit monochromatic light of any color. For example, red, green, and blue phosphors, such as Y ₂ O ₃ : Eu, YVO ₃ : Eu, (Y, Gd) B for red.
O ₃ : Eu, or green color BaAl ₁₂ O ₁₉ : Mn, Zn
₂ SiO ₄ : Mn or, in blue, BaMg ₂ Al ₁₄ O ₂₃ :
Eu, BaMgAl ₁₄ O ₂₃ : Eu or the like can be combined.

【０００４】蛍光体を用いるＰＤＰの表示部（ディスプ
レイパネル）の放電セルには、電極が放電空間を隔てて
対向する対向直流型と、電極を片側基板にまとめた面放
電交流型とが主に用いられている。Discharge cells of a display portion (display panel) of a PDP using a phosphor are mainly of a direct current type in which electrodes face each other across a discharge space and a surface discharge AC type in which electrodes are assembled on one side substrate. It is used.

【０００５】従来において、蛍光体は、まずガラス基板
上に障壁（隔壁、リブ）およびアドレス用の電極を形成
し、その後にスクリーン印刷法を用いて蛍光体ペースト
をガラス基板上に所定のパターンで印刷することによっ
て形成されていた。In the conventional phosphor, barriers (partitions, ribs) and address electrodes are first formed on a glass substrate, and then a phosphor paste is formed in a predetermined pattern on the glass substrate using a screen printing method. It was formed by printing.

【０００６】ところで、プラズマディスプレイにおいて
は、限られたエネルギーにより発光効率を向上させるた
めに、ガラス基板上のみならず障壁側面も蛍光体とする
のが望ましいが、スクリーン印刷法では障壁側面に蛍光
体を設けて蛍光面とするのが困難で、前面ガラス基板上
に塗布されている。このため輝度が低い、放電による蛍
光体劣化が早く短寿命であるという問題があった。ま
た、スクリーン印刷法においては、スクリーンマスクと
ガラス基板との間に障壁の高さに相当するギャップがあ
ること、またガラス基板との熱収縮による位置ずれが避
けられないことなどの原因によって、電極上に蛍光体が
かぶさることが多くなる問題、つまり放電空間内で露出
すべき電極の一部が蛍光体に覆われてしまうと表示動作
が不安定となり、表示ドットの選択が部分的に不可能に
なる欠点があった。さらに、スクリーン印刷法では、蛍
光体ペースト印刷直後の形状保持が難しいため、ドット
状の蛍光体パターン、および蛍光体ドットパターン内の
電極露出部が形成しにくいためパターン形状が劣った
り、印刷膜厚のコントロールが難しい問題があった。By the way, in the plasma display, in order to improve the luminous efficiency due to the limited energy, it is desirable that not only the glass substrate but also the side wall of the barrier is made of a phosphor. It is difficult to form a fluorescent screen by providing a coating on the front glass substrate. Therefore, there are problems that the luminance is low, the phosphor is deteriorated quickly by discharge, and the life is short. Further, in the screen printing method, there is a gap corresponding to the height of the barrier between the screen mask and the glass substrate, and the displacement due to thermal contraction with the glass substrate is unavoidable. The problem that the fluorescent substance often covers the upper part, that is, if the part of the electrode that should be exposed in the discharge space is covered with the fluorescent substance, the display operation becomes unstable and it is partially impossible to select the display dot. There was a drawback. Further, in the screen printing method, since it is difficult to maintain the shape immediately after printing the phosphor paste, it is difficult to form the dot-shaped phosphor pattern and the electrode exposed portion in the phosphor dot pattern, resulting in poor pattern shape There was a problem that was difficult to control.

【０００７】これらの問題を改良する方法として、特開
平４−６７５２９公報および特開平４−３０８６３１公
報では、フォトレジストを用いて蛍光体層形成する方法
が提案されているが、フォトレジスト層を余分に設ける
必要があるので製作工程が増えたり、コスト低減には限
界があった。As a method for improving these problems, JP-A-4-67529 and JP-A-4-308631 propose a method of forming a phosphor layer using a photoresist. However, the number of manufacturing processes is increased and cost reduction is limited.

【０００８】特開平６−５２０５公報および特開平６−
２５１７０２公報では、サンドブラストや液体ホーニン
グによる技術を用いて障壁側面に蛍光体を設ける方法が
提案されているが、機械的な方法によるためパターン精
度が低下し、障壁側面の蛍光体を均一な状態で除去する
のが困難であったり、製作工程が複雑になり、量産に適
さない問題あった。特開平５−４１１５９公報では、障
壁を形成した基板に粘着性の感光液を塗布し、これに蛍
光体粉末を吹き付けフォトリソグラフィーによってパタ
ーニングする方法が提案されているが、余分な感光液が
必要であったり、吹き付け角度のコントロールが難しく
均一でかつ再現性のある蛍光体膜が得られない問題があ
る。特開平６−１３９９３３公報では、蛍光体ペースト
をシリコーン樹脂を主体とする弾性体に蛍光体ペースト
をスクリーン印刷法により印刷した後、パターンをパネ
ル基板上に転写して蛍光体パターンを形成する方法が提
案されているが、転写工程が必要となりコスト低減には
限界がある。特開平５−１０１７８２公報および特開平
５−２０５６３３公報では、感光性のペーストや感光性
スラリーを用いてフォトリソ法により障壁側面に形成し
たもの、ガラス前面板と障壁の壁面の両方に跨がって蛍
光体層を形成したもの、或いはガラス前面上の書き込み
（アドレス）電極の近傍に蛍光体層を形成しかつ後面基
板上の放電の維持電極の間の後面基板上に蛍光体層を形
成した方法が提案されている。しかしながら、ＰＶＡ系
の感光性スラリーを用いているためポリマーが蛍光体粉
末に添加するガラスフリットと容易に反応してゲル化反
応し、短時間で使用できなくなったり、高精細なパター
ン形成が難しい問題があった。Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-5205 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-
In 251702, a method of providing a phosphor on the side surface of the barrier using a technique such as sandblasting or liquid honing is proposed. However, since the mechanical method is used, the pattern accuracy is lowered and the phosphor on the side surface of the barrier is made uniform. There is a problem that it is not suitable for mass production because it is difficult to remove or the manufacturing process becomes complicated. Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-41159 proposes a method in which an adhesive photosensitive liquid is applied to a substrate on which a barrier is formed, and a phosphor powder is sprayed onto the adhesive photosensitive liquid to perform patterning by photolithography, but an extra photosensitive liquid is required. However, there is a problem that it is difficult to control the spraying angle and a uniform and reproducible phosphor film cannot be obtained. Japanese Patent Laid-Open No. 6-139933 discloses a method of forming a phosphor pattern by printing the phosphor paste on an elastic body mainly composed of silicone resin by screen printing and then transferring the pattern onto a panel substrate. Although proposed, a transfer process is required and there is a limit to cost reduction. In JP-A-5-101782 and JP-A-5-205633, those formed on the side wall of the barrier by a photolithography method using a photosensitive paste or a photosensitive slurry, straddling both the glass front plate and the wall surface of the barrier. A method in which a phosphor layer is formed, or a phosphor layer is formed on the front surface of the glass in the vicinity of the write (address) electrode and the phosphor layer is formed on the rear substrate between discharge sustaining electrodes on the rear substrate. Is proposed. However, since the PVA-based photosensitive slurry is used, the polymer easily reacts with the glass frit added to the phosphor powder to cause a gelation reaction, and the polymer cannot be used in a short time, or it is difficult to form a high-definition pattern. was there.

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の厚膜
印刷用蛍光体ペ−ストや感光性蛍光体ペーストが有する
輝度が低い、放電による蛍光体寿命が短時間である、蛍
光体のパターン精度が劣る、或いは量産性が低いなどの
欠点を大幅に解消し、高精細で且つが形成できる感光性
蛍光体ペ−ストを提供するものである。また、今後の大
画面化にも対応できるＰＤＰ用蛍光体層を形成すること
のできる感光性蛍光体ペーストを提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is directed to a phosphor having a low brightness of a conventional phosphor paste for thick film printing or a photosensitive phosphor paste, a phosphor having a short life due to discharge, and a phosphor having a short life. It is intended to provide a photosensitive phosphor paste which is highly precise and can be formed by largely eliminating defects such as poor pattern accuracy and low mass productivity. Another object of the present invention is to provide a photosensitive phosphor paste capable of forming a phosphor layer for PDP which can cope with future large screens.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
蛍光体粉末、感光性樹脂組成物および紫外線吸収剤を含
有することを特徴とするプラズマ・ディスプレイ・パネ
ル用感光性蛍光体ペ−ストにより達成される。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is as follows.
It is achieved by a photosensitive phosphor paste for a plasma display panel, which comprises a phosphor powder, a photosensitive resin composition and an ultraviolet absorber.

【００１１】すなわち、本発明は、蛍光体ペ−ストに感
光性を付与し、これにホトリソグラフィ技術を用いて蛍
光体パターンの形成が微細に、精度よく、且つ作業性が
良く形成できるものである。That is, the present invention provides the phosphor paste with photosensitivity, and by using the photolithography technique, the phosphor pattern can be formed finely, accurately and with good workability. is there.

【００１２】本発明において使用される蛍光体粉末とし
ては、特に限定されず、公知の蛍光体が適用できるが、
希土類オキシハライドなどを母体とし、この母体を付活
剤で付活したものが好ましく用いられる。赤、緑、青の
蛍光体、例えば、赤色では、Ｙ₂ Ｏ₃ ：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄ ：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃ ：Ｅｕ，Ｙ₂ Ｏ₃ Ｓ：
Ｅｕ，γ−Ｚｎ₃ （ＰＯ₄ ）₂ ：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）
Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂ Ｏ₃ などである。緑色では、Ｚｎ₂ Ｇ
ｅＯ₂ ：Ｍ、ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ，Ｚｎ₂ ＳｉＯ₄：
Ｍｎ、ＬａＰＯ₄ ：Ｔｂ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｚｎ
Ｓ：Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ、
Ｚｎ₂ ＳｉＯ₄ ：Ｍｎ，Ａｓ、Ｙ₃ Ａｌ₅ Ｏ₁₂：Ｃｅ、
Ｙ₃ （Ａｌ，Ｇａ）₅ Ｏ₁₂：Ｃｅ、ＣｅＭｇＡｌ
₁₁Ｏ₁₉：Ｔｂ、Ｇｄ₂Ｏ₂ Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃ Ａｌ₅ Ｏ₁₂：
Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎなどである。青色では、Ｓｒ₅ （Ｐ
Ｏ₄ ）₃ Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ、Ｂａ
ＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ、ＢａＭｇ₂ Ａｌ₁₄Ｏ₂₄：Ｅｕ、
ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ₂ ＳｉＯ₃：Ｃｅなどであ
る。The phosphor powder used in the present invention is not particularly limited, and known phosphors can be applied.
It is preferable to use a rare earth oxyhalide or the like as a base material and activate the base material with an activator. For red, green and blue phosphors, eg red, Y ₂ O ₃ : Eu, YV
_{O 4: Eu, (Y,} Gd) BO 3: Eu, Y 2 O 3 S:
Eu, γ-Zn ₃ (PO ₄ ) ₂ : Mn, (ZnCd)
S: Ag + In ₂ O ₃ or the like. For green, Zn ₂ G
eO ₂ : M, BaAl ₁₂ O ₁₉ : Mn, Zn ₂ SiO ₄ :
Mn, LaPO ₄ : Tb, ZnS: Cu, Al, Zn
S: Au, Cu, Al, (ZnCd) S: Cu, Al,
Zn ₂ SiO ₄ : Mn, As, Y ₃ Al ₅ O ₁₂ : Ce,
Y ₃ (Al, Ga) ₅ O ₁₂ : Ce, CeMgAl
₁₁ O ₁₉ : Tb, Gd ₂ O ₂ S: Tb, Y ₃ Al ₅ O ₁₂ :
Examples include Tb and ZnO: Zn. In blue, Sr ₅ (P
O ₄ ) ₃ Cl: Eu, BaMgAl ₁₄ O ₂₃ : Eu, Ba
MgAl ₁₆ O ₂₇ : Eu, BaMg ₂ Al ₁₄ O ₂₄ : Eu,
ZnS: Ag + red pigment, Y ₂ SiO ₃ : Ce and the like.

【００１３】また、ツリウム（Ｔｍ）、テルビウム（Ｔ
ｂ）およびユーロピウム（Ｅｕ）からなる群より選ばれ
た少なくとも１つの元素で、イットリウム（Ｙ）、ガド
リウム（Ｇｄ）およびルテチウム（Ｌｕ）から選ばれた
少なくとも１つの母体構成稀土類元素を置換したタンタ
ル酸稀土類蛍光体が利用できる。好ましくは、タンタル
酸稀土類蛍光体が組成式Ｙ_1-X Ｅｕ_X ＴａＯ₄ （式中Ｘ
はおよそ０．００５〜０．１である）で表されるユーロ
ピウム付活タンタル酸イットリウム蛍光体である。赤色
蛍光体には、ユーロピウム付活タンタル酸イットリウム
が好ましく、緑色蛍光体には、タンタル酸稀土類蛍光体
が組成式Ｙ_1-X Ｔｂ_X ＴａＯ₄ （式中Ｘはおよそ０．０
０１〜０．２である）で表されるテルビウム付活タンタ
ル酸イットリウムが好ましい。青色蛍光体は、タンタル
酸稀土類蛍光体がＹ_1-X Ｔｂ_X ＴａＯ₄ （式中Ｘは、
０．０００１〜０．２である）で表されるツリウム付活
タンタル酸イットリウムが好ましい。Further, thulium (Tm) and terbium (T
b) tantalum substituted by at least one element selected from the group consisting of europium (Eu) and at least one host element rare earth element selected from yttrium (Y), gadolinium (Gd) and lutetium (Lu) Acid rare earth phosphors can be used. Preferably, the rare earth tantalate phosphor has the composition formula Y _1-X Eu _X TaO ₄ (wherein X
Is about 0.005 to 0.1), which is a europium-activated yttrium tantalate phosphor. Europium-activated yttrium tantalate is preferable for the red phosphor, and rare earth tantalate phosphor for the green phosphor is of the composition formula Y _1-X Tb _X TaO ₄ (where X is approximately 0.0
Terbium-activated yttrium tantalate represented by the following formula: The blue phosphor is a rare earth tantalate phosphor Y _{1 -X} Tb _X TaO ₄ (where X is
Yttrium tantalate activated with thulium represented by 0.0001 to 0.2) is preferable.

【００１４】また、緑色蛍光体には、Ｍｎがケイ酸亜鉛
（Ｚｎ₂ ＳｉＯ₄ ）母体量に対して０．２重量％以上、
０．１重量％未満付活された平均粒子径２．０μｍ以上
８．０μｍ以下のマンガン付活亜鉛蛍光体（Ｚｎ₂ Ｓｉ
Ｏ₄ ：Ｍｎ）および一般式が（Ｚｎ_1-X Ｍｎ_X ）Ｏ・α
ＳｉＯ２（式中、Ｘおよびαは、０．０１≦Ｘ≦０．
２、０．５＜α≦１．５の範囲の値である）で表わされ
るマンガン付活ケイ酸亜鉛蛍光体が好ましい。In the green phosphor, Mn is 0.2% by weight or more based on the amount of zinc silicate (Zn ₂ SiO ₄ ) matrix,
Manganese-activated zinc phosphor (Zn ₂ Si) having an average particle size of 2.0 μm or more and 8.0 μm or less activated with less than 0.1% by weight.
O ₄ : Mn) and the general formula is (Zn _1-X Mn _X ) O · α
SiO2 (where X and α are 0.01 ≦ X ≦ 0.
2, manganese-activated zinc silicate phosphor expressed by 0.5 <α ≦ 1.5) is preferable.

【００１５】上記において使用される蛍光体粉末粒子径
は、作製しようとする蛍光体層パターンの線幅、幅間隔
（スペース）および厚みを考慮して選ばれるが、粉末
は、５０重量％粒子径が１．０〜１５μｍ、比表面積
０．１〜２．０ｍ² ／ｇであることが好ましい。より好
ましくは粒子径２〜１０μｍ、比表面積０．２０〜１．
０ｍ² ／ｇである。この範囲にあると紫外線露光時に光
が十分透過し、高精度なパターン形状が得られる。ま
た、蛍光体の発光効率がよく、高寿命になるので好まし
い。粉末粒子径が１．０μｍ未満、比表面積が２．０ｍ
² ／ｇを越えると粉末が細かくなりすぎて露光時におい
て光が散乱されて未露光部分を硬化するようになる。こ
のため現像時にパターンの残膜（未露光部に余分な蛍光
体が残存すること）の発生が起こり、高精度なパターン
が得られにくくなる。さらに、蛍光体の発光効率や寿命
が低下するようになる。The particle size of the phosphor powder used in the above is selected in consideration of the line width, width interval (space) and thickness of the phosphor layer pattern to be produced. Is preferably 1.0 to 15 μm and the specific surface area is 0.1 to 2.0 m ² / g. More preferably, the particle diameter is 2 to 10 μm and the specific surface area is 0.20 to 1.
0 m ² / g. Within this range, light is sufficiently transmitted during exposure to ultraviolet light, and a highly precise pattern shape can be obtained. Further, it is preferable because the luminous efficiency of the phosphor is good and the life is long. Powder particle size is less than 1.0 μm, specific surface area is 2.0 m
If it exceeds ² / g, the powder becomes too fine and light is scattered during exposure to cure the unexposed portion. Therefore, a residual film of the pattern (excessive phosphor remains in the unexposed portion) occurs during development, and it becomes difficult to obtain a highly accurate pattern. In addition, the luminous efficiency and life of the phosphor are reduced.

【００１６】蛍光体粉末の形状としては、多面体状（粒
状）状のものが使用できるが、凝集のない粉末が好まし
い。その中で球状の粉末露光時に散乱の影響を少なくで
きるのでより好ましい。球状粉末が球形率８０個数％以
上の粒子形状を有していると好ましい。さらに、好まし
くは球形率９０個数％以上である。球形率８０個数％未
満である場合には、紫外線露光時に、蛍光体粉末による
散乱の影響を受けて高精細なパターンが得られにくくな
る。球形率の測定は、蛍光体粉末を光学顕微鏡で３００
倍の倍率にて撮影し、このうち計数可能な粒子を計数す
ることにより行ない、球形のものの比率を球形率とす
る。As the shape of the phosphor powder, a polyhedral (granular) shape can be used, but a powder without aggregation is preferable. Among them, it is more preferable because the influence of scattering at the time of exposing spherical powder can be reduced. It is preferable that the spherical powder has a particle shape with a sphericity of 80% by number or more. Further, the sphericity is preferably 90 number% or more. If the sphericity is less than 80% by number, it is difficult to obtain a high-definition pattern due to the influence of scattering by the phosphor powder during ultraviolet exposure. To measure the sphericity, use phosphor powder 300 with an optical microscope.
The image is taken at a magnification of x2, and countable particles among them are counted, and the spherical ratio is defined as the spherical ratio.

【００１７】本発明において使用される感光性樹脂組成
物としては、従来から公知のものをすべて適用すること
ができるが、光硬化性樹脂組成物を用いることが好まし
い。すなわち、活性な光線を照射することにより不溶化
するものである。具体的には、バインダポリマおよび光
重合開始剤を含有するものがあげられる。また光反応性
化合物を含有すると露光時の感度がさらに増加するので
好ましい。本発明において、バインダーポリマとして、
側鎖または分子末端にカルボキシル基とエチレン性不飽
和基を有するアクリル系共重合体を用いることが好まし
い。As the photosensitive resin composition used in the present invention, all the conventionally known ones can be applied, but it is preferable to use a photocurable resin composition. That is, it is insolubilized by irradiation with active light rays. Specific examples include those containing a binder polymer and a photopolymerization initiator. Further, it is preferable to contain a photoreactive compound because the sensitivity at the time of exposure is further increased. In the present invention, as the binder polymer,
It is preferable to use an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or the molecular end.

【００１８】側鎖または分子末端にカルボキシル基とエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体は、ポリ
マーバインダー成分（感光性ポリマー）であり、不飽和
カルボン酸とエチレン性不飽和化合物を共重合させて形
成したアクリル系共重合体にエチレン性不飽和基を側鎖
または分子末端に付加させることによって製造すること
ができる。An acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at a side chain or a molecular end is a polymer binder component (photosensitive polymer), which is a copolymer of an unsaturated carboxylic acid and an ethylenically unsaturated compound. It can be produced by adding an ethylenically unsaturated group to the side chain or molecular end of the acrylic copolymer thus formed.

【００１９】不飽和カルボン酸の具体的な例としては、
アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれら
の酸無水物などがあげられる。一方、エチレン性不飽和
化合物の具体的な例としては、メチルアクリラ−ト、メ
チルメタアクリラ−ト、エチルアクリラ−ト、エチルメ
タクリラ−ト、ｎ−プロピルアクリラ−ト、イソプロピ
ルアクリラ−ト、ｎ−ブチルアクリラ−ト、ｎ−ブチル
メタクリラ−ト、ｓｅｃ−ブチルアクリラ−ト、ｓｅｃ
−ブチルメタクリラ−ト、イソ−ブチルアクリラ−ト、
イソブチルメタクリラ−ト、ｔｅｒｔ−ブチルアクリラ
−ト、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリラ−ト、ｎ−ペンチル
アクリラ−ト、ｎ−ペンチルメタクリラ−ト、スチレ
ン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メ
チルスチレンなどがあげられるが、これらに限られな
い。これらのアクリル系主鎖ポリマの主重合成分として
前記のエチレン性不飽和化合物の中から少なくともメタ
クリル酸メチルを含むことによって熱分解性の良好な共
重合体を得ることができる。Specific examples of unsaturated carboxylic acids include:
Examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinylacetic acid, and acid anhydrides thereof. On the other hand, specific examples of the ethylenically unsaturated compound include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, and n. -Butyl acrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec
-Butyl methacrylate, iso-butyl acrylate,
Isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, m- Examples include, but are not limited to, methylstyrene. A copolymer having good thermal decomposability can be obtained by including at least methyl methacrylate from the above ethylenically unsaturated compounds as the main polymerization component of these acrylic main chain polymers.

【００２０】側鎖または分子末端のエチレン不飽和基と
してはビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基
などがあげられる。このような側鎖または分子末端をア
クリル系ポリマに付加させる方法は、アクリル系ポリマ
中のカルボキシル基にグリシジル基を有するエチレン性
不飽和化合物やアクリル酸クロライドを付加反応させて
作る方法がある。Examples of the ethylenically unsaturated group at the side chain or the terminal of the molecule include vinyl group, allyl group, acryl group and methacryl group. As a method of adding such a side chain or a molecular terminal to an acrylic polymer, there is a method of making an addition reaction of an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an acrylic acid chloride with a carboxyl group in the acrylic polymer.

【００２１】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエ−テル、−エチルアクリ
ル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエ−テル、クロ
トン酸グリシジルエ−テル、イソクロトン酸グリシジル
エ−テルなどがあげられる。また、アクリル酸クロライ
ド化合物としては、アクリル酸クロライド、メタアクリ
ル酸クロライド、アリルクロライドなどがあげられる。
これらのグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物
あるいはアクリル酸クロライドの付加量はアクリル系ポ
リマ中のカルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量
が望ましく、さらに好ましくは０．１〜０．８モル当量
である。付加量が０．０５当量未満では感光特性が不良
となりパタ−ンの形成が困難となる。付加量が１モル当
量より大きい場合は、未露光部の現像液溶解性が低下し
たり、塗布膜の硬度が低くなる。Examples of the ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl crotonic acid and isocrotonic acid. Examples thereof include glycidyl ether. Examples of acrylic acid chloride compounds include acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride, and allyl chloride.
The addition amount of these ethylenically unsaturated compounds having a glycidyl group or acrylic acid chloride is preferably 0.05 to 1 mole equivalent, more preferably 0.1 to 0.8 mole, with respect to the carboxyl group in the acrylic polymer. It is equivalent. If the addition amount is less than 0.05 equivalent, the photosensitive characteristics become poor and it becomes difficult to form a pattern. When the addition amount is larger than 1 molar equivalent, the solubility of the developer in the unexposed area is lowered and the hardness of the coating film is lowered.

【００２２】このような側鎖または分子末端にカルボキ
シル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル重合体の
酸価（ＡＶ）は５０〜１６０であり、好ましくは７０〜
１４０である。さらに好ましくは８０〜１２０の範囲で
ある。酸価が５０未満であるとエチレン性不飽和基の量
が増加し、感光性を有するカルボキシル基の割合が低下
するので現像容幅が狭いうえ、パタ−ンエッジの切れが
悪くなる。また酸価が１６０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになる。このため現像
液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細
度を有するパターンが得られにくくなる。また塗布膜の
硬度が低下する。また上記の好ましい酸価を有するポリ
マにおいてポリマの分子量分布が鋭いほど、現像特性が
向上し、高精細なパターンが得られるので好ましい。The acid value (AV) of the acrylic polymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end is 50 to 160, preferably 70 to.
140. More preferably, it is in the range of 80 to 120. When the acid value is less than 50, the amount of ethylenically unsaturated groups increases and the proportion of photosensitive carboxyl groups decreases, so that the developing capacity is narrow and the pattern edge is not easily cut. On the other hand, if the acid value exceeds 160, the solubility of the unexposed area in the developing solution will decrease. For this reason, when the developer concentration is increased, peeling occurs even in the exposed portion, and it becomes difficult to obtain a pattern having high definition. In addition, the hardness of the coating film decreases. Further, in the polymer having the above preferable acid value, the sharper the molecular weight distribution of the polymer is, the more the developing characteristics are improved, and the fine pattern is obtained, which is preferable.

【００２３】本発明における感光性蛍光体ペースト中に
は、ポリマーバインダー成分として上記のアクリル系共
重合体以外の感光性ポリマーや非感光性ポリマーを含有
することもできる。The photosensitive phosphor paste in the present invention may contain a photosensitive polymer or a non-photosensitive polymer other than the above acrylic copolymer as a polymer binder component.

【００２４】感光性ポリマーとしては、光不溶化型のも
のと光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとし
て、１分子に不飽和基などを１つ以上有する官能性のモ
ノマ−やオリゴマ−を適当なポリマ−バインダ−と混合
したもの、芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、
有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を適当なポリマ
−バインダ−と混合したもの、既存の高分子に感光性の
基をペンダントさせることにより得られる感光性高分子
あるいはそれを改質したもの、ジアゾ系アミンとホルム
アルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれ
るものなど、光可溶型のものとしては、ジアゾ化合物の
無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類な
どを適当なポリマ−バインダ−と混合したもの、キノン
ジアゾ類を適当なポリマ−バインダ−と結合させた、例
えばフェノ−ル、ノボラック樹脂のナフトキノン１、２
−ジアジド−５−スルフォン酸エステルなどがあげられ
る。感光性ポリマーバインダー成分中に含まれる上記の
側鎖または分子末端にカルボキシル基とエチレン不飽和
基を有するアクリル系共重合体の割合は少なくとも５重
量％以上が好ましく、さらに好ましくは２０重量％以上
である。該アクリル系共重合体の含有量が５重量％未満
では現像許容幅の拡大効果が小さい上、現像性が低下し
やすく隔壁の裾野において尖鋭なパターンを作り難いた
め好ましくない。The photosensitive polymer is classified into a photo-insolubilizing type and a photo-solubilizing type. As the photo-insolubilizing type, a functional monomer or oligomer having one or more unsaturated groups in one molecule is used. -Mixed with a suitable polymer binder, an aromatic diazo compound, an aromatic azide compound,
A mixture of a photosensitive compound such as an organic halogen compound with a suitable polymer binder, a photosensitive polymer obtained by pendant to an existing polymer with a photosensitive group, or a modified one thereof, a diazo type As a photo-soluble type such as a so-called diazo resin such as a condensation product of amine and formaldehyde, a complex of an inorganic salt of a diazo compound or an organic acid, quinonediazos, etc. is mixed with an appropriate polymer binder. , Quinonediazos combined with a suitable polymer binder, for example, naphthoquinones 1, 2 of phenol and novolac resins.
-Diazide-5-sulfonic acid ester and the like. The proportion of the acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end contained in the photosensitive polymer binder component is preferably at least 5% by weight, more preferably 20% by weight or more. is there. When the content of the acrylic copolymer is less than 5% by weight, the effect of expanding the development allowable width is small, and the developability is liable to be lowered, which makes it difficult to form a sharp pattern in the skirt of the partition wall, which is not preferable.

【００２５】非感光性ポリマ−としては、ポリビニルア
ルコ−ル、ポリビニルブチラ−ル、メタクリル酸エステ
ル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エス
テル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチ
レン重合体、ブチルメタクリレ−ト樹脂などがあげられ
る。Examples of the non-photosensitive polymer include polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methacrylic acid ester polymer, acrylic acid ester polymer, acrylic acid ester-methacrylic acid ester copolymer, α-methylstyrene polymer. Examples thereof include coalesce and butyl methacrylate resin.

【００２６】本発明で感光性ポリマーに加えて光反応性
化合物（感光性モノマー）を使用すと露光感度が増加す
るので好ましい。光反応性化合物としては、光反応性を
有する炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その
具体的な例としてアリルアクリラ−ト、ベンジルアクリ
ラ−ト、ブトキシエチルアクリラ−ト、ブトキシトリエ
チレングリコ−ルアクリラ−ト、シクロヘキシルアクリ
ラ−ト、ジシクロペンタニルアクリラ−ト、ジシクロペ
ンテニルアクリラ−ト、２−エチルヘキシルアクリラ−
ト、グリセロ−ルアクリラ−ト、グリシジルアクリラ−
ト、ヘプタデカフロロデシルアクリラ−ト、２−ヒドロ
キシエチルアクリラ−ト、イソボニルアクリラ−ト、２
−ヒドロキシプロピルアクリラ−ト、イソデキシルアク
リラ−ト、イソオクチルアクリラ−ト、ラウリルアクリ
ラ−ト、２−メトキシエチルアクリラ−ト、メトキシエ
チレングリコ−ルアクリラ−ト、メトキシジエチレング
リコ−ルアクリラ−ト、オクタフロロペンチルアクリラ
−ト、フェノキシエチルアクリラ−ト、ステアリルアク
リラ−ト、トリフロロエチルアクリラ−ト、アリルかシ
クロヘキシルジアクリラ−ト、ビスフェノ−ルＡジアク
リラ−ト、１，４−ブタンジオ−ルジアクリラ−ト、
１，３−ブチレングリコ−ルジアクリラ−ト、エチレン
グリコ−ルジアクリラ−ト、ジエチレングリコ−ルジア
クリラ−ト、トリエチレングリコ−ルジアクリラ−ト、
ポリエチレングリコ−ルジアクリラ−ト、ジペンタエリ
スリト−ルヘキサアクリラ−ト、ジペンタエリスリト−
ルモノヒドロキシペンタアクリラ−ト、ジトリメチロ−
ルプロパンテトラアクリラ−ト、グリセロ−ルジアクリ
ラ−ト、メトキシかシクロヘキシルジアクリラ−ト、ネ
オペンチルグリコ−ルジアクリラ−ト、プロピレングリ
コ−ルジアクリラ−ト、ポリプロピレングリコ−ルジア
クリラ−ト、トリグリセロ−ルジアクリラ−ト、トリメ
チロ−ルプロパントリアクリラ−トおよび上記のアクリ
ラ−トをメタクリラ−トに変えたもの、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピ
ロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種ま
たは２種以上使用することができる。In the present invention, it is preferable to use a photoreactive compound (photosensitive monomer) in addition to the photosensitive polymer because the exposure sensitivity is increased. The photoreactive compound is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond having photoreactivity, and specific examples thereof include allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxytriethyleneglycol. -Luacrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate
Glycerol acryl, Glycidyl acryl
G, heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobonyl acrylate, 2
-Hydroxypropyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, octafluoro Pentyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allyl or cyclohexyl diacrylate, bisphenol A diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate,
1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate,
Polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol
Lumonohydroxypentaacrylate, ditrimethylol-
Rupropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, methoxy or cyclohexyl diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, triglyceryl diacrylate, trimethyloyl -Propane triacrylate and the above acrylates replaced with methacrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone and the like. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more.

【００２７】側鎖または分子末端にカルボキシル基とエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体は、光反
応性化合物に対して、通常、重量比で０．０５〜１０倍
量用いると好ましい。該アクリル系共重合体の量が少な
すぎると、スラリ−の粘度が小さくなり、スラリ−中で
の分散の均一性が低下したり、現像特性がするおそれが
ある。また、光反応性化合物が多くなるとペーストを塗
布後の乾燥性が、低下し、ベタベタするようになり、露
光マスクとのアライメントが困難になり好ましくない。
一方、アクリル系共重合体の量が多すぎれば、パターン
解像度が低下するようになり好ましくない。。The acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end is usually preferably used in an amount of 0.05 to 10 times the weight of the photoreactive compound. If the amount of the acrylic copolymer is too small, the viscosity of the slurry will be low, and the uniformity of dispersion in the slurry will be reduced, or the developing characteristics may be deteriorated. Further, when the amount of the photoreactive compound is large, the drying property after applying the paste is deteriorated and the paste becomes sticky, which makes alignment with the exposure mask difficult, which is not preferable.
On the other hand, if the amount of the acrylic copolymer is too large, the pattern resolution will decrease, which is not preferable. .

【００２８】本発明で用いる光重合開始剤としての具体
的な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香
酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェ
ノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル
−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フ
ルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフ
ェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノ
ン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサ
ントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチル
チオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノ−
ル、ベンジル−−メトキシエチルアセタ−ル、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエ−テル、ベンゾインブチルエ−
テル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノ
ン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキ
ノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロ
ン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフ
ェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シク
ロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデ
ン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−
１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）
オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−
エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−
プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オ
キシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオ
ン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラ−ケト
ン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニ
ルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フ
ェニルチオアクリドン、４、４−アゾビスイソブチロニ
トリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾ−ルジ
スルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファ−キノ
ン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸
化ベンゾイン及びエオシン、メチレンブル−などの光還
元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノ−ルアミンな
どの還元剤の組合せなどがあげられる。本発明ではこれ
らを１種または２種以上使用することができる。Specific examples of the photopolymerization initiator used in the present invention include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4 , 4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,
2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethyl. Thioxanthone, benzyl, benzyl dimethyl ketano-
, Benzyl-methoxyethyl acetate, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether
Ter, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzilidene) ) Cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-
1,2-butadione-2- (o-methoxycarbonyl)
Oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-
Ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-
Propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, Michler-ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl]- Two
-Morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinolinesulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphor-quinone, Examples include a combination of carbon tetrabromide, tribromophenyl sulfone, benzoin peroxide and eosin, a photoreducing dye such as methylene blue and a reducing agent such as ascorbic acid and triethanolamine. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more.

【００２９】光重合開始剤は、側鎖または分子末端にカ
ルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系
共重合体と光反応性化合物の和に対し、１〜４０重量％
の範囲で添加され、より好ましくは、５〜２５重量％で
ある。重合開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良と
なり、光重合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率
が小さくなりすぎるおそれがある。The photopolymerization initiator is used in an amount of 1 to 40% by weight based on the sum of the acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end and the photoreactive compound.
Is added, and more preferably 5 to 25% by weight. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity becomes poor, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.

【００３０】本発明において、蛍光体パターン形成のた
めに紫外線吸光剤を添加することが必須である。紫外線
吸収効果の高い吸光剤を添加することによって高精細、
高解像度のパターンが得られる。In the present invention, it is essential to add an ultraviolet light absorber for forming the phosphor pattern. High definition by adding a light absorber with a high ultraviolet absorption effect,
A high resolution pattern is obtained.

【００３１】すなわち、通常、蛍光体粉末だけでは、紫
外線が１μｍ以下の蛍光体粉末や不均一な形状の蛍光体
粉末によって散乱されて余分な部分まで光硬化し、露光
マスク通りのパターンができなくなる。このためマスク
以外に部分が現像できなくなることが起こる。この原因
について本発明者らが鋭意検討を行った結果、散乱され
た紫外光が吸収されて或いは弱められて露光マスクによ
る遮光部分にまでまわり込むことが原因であることが判
明した。したがって紫外線吸光剤を添加することによっ
て散乱光のまわり込みがほぼ回避され，マスク部分の感
光性樹脂の硬化を防ぎ、露光マスクに相当したパタ−ン
が正確に形成される。That is, usually, only with the phosphor powder, ultraviolet rays are scattered by the phosphor powder having a size of 1 μm or less or the phosphor powder having a non-uniform shape and photo-cured to an excessive portion, so that a pattern according to the exposure mask cannot be formed. . For this reason, it may happen that the portions other than the mask cannot be developed. As a result of intensive investigations by the present inventors regarding this cause, it has been found that the cause is that scattered ultraviolet light is absorbed or weakened and reaches the light-shielding portion by the exposure mask. Therefore, by adding the ultraviolet light absorber, the scattering of the scattered light is almost avoided, the curing of the photosensitive resin in the mask portion is prevented, and the pattern corresponding to the exposure mask is accurately formed.

【００３２】紫外線吸光剤としては有機系染料からなる
ものが好ましく用いられ、中でも３５０〜４５０ｎｍの
波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好まし
く用いられる。具体的には、、アゾ系染料、アミノケト
ン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノ
ケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、
ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−
アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は
吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残
存しないで吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくでき
るので好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフ
ェノン系染料が好ましい。As the ultraviolet light absorber, those composed of organic dyes are preferably used, and among them, organic dyes having a high UV absorption coefficient in the wavelength range of 350 to 450 nm are preferably used. Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, aminoketone dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes,
Diphenyl cyanoacrylate type, triazine type, p-
Aminobenzoic acid dyes can be used. Even when the organic dye is added as a light absorbing agent, it is preferable because deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorbing agent can be reduced without remaining in the insulating film after firing. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferred.

【００３３】アゾ系染料としての代表的なものとして、
スダンブル−（Ｓｕｄａｎ Ｂｌｕｅ、Ｃ_{2 2} Ｈ_{1 8} Ｎ
₂ Ｏ₂ ＝３４２．４）、スダンＲ（Ｃ_{1 7} Ｈ_{1 4} Ｎ₂ Ｏ
₂ ＝２７８．３１）、スダンII（Ｃ_{1 8} Ｈ_{1 4} Ｎ₂ Ｏ＝
２７６．３４）、スダンIII（Ｃ_{2 2} Ｈ_{1 6} Ｎ₄ ０＝３
５２．４）、スダンIV（Ｃ_{2 4} Ｈ₂ ０Ｎ₄ ０＝３８０．
４５）、オイルオレンジＳＳ（Ｏｉｌ Ｏｒａｎｇｅ
ＳＳ、ＣＨ₃ Ｃ₆ Ｈ₄Ｎ：ＮＣ_{1 0} Ｈ₆ ＯＨ＝２６２．
３１）オイルバイオレット（Ｏｉｌ Ｖｉｏｌｅｔ，Ｃ
_{2 4} Ｈ_{2 1} Ｎ₅ ＝３７９．４６）、オイルイエロ−ＯＢ
（Ｏｉｌ Ｙｅｌｌｏｗ ＯＢ、ＣＨ₃ Ｃ₄ Ｈ₄ Ｎ：Ｎ
Ｃ_{1 0} Ｈ₄ ＮＨ₂ ＝２６１．３３）などである。Typical examples of azo dyes include:
Sudanburu- (Sudan Blue, C _{2 2} H ₁₈ N
₂ O ₂ = 342.4), Sudan R (C ₁₇ H ₁₄ N ₂ O
₂ = 278.31), Sudan II (C ₁₈ H ₁₄ N ₂ O =
276.34), Sudan III (C _{2 2} H _{1 6} N ₄ 0 = 3)
52.4), Sudan IV (C _{2 4} H ₂ 0N ₄₀ = 380.
45), Oil Orange SS (Oil Orange)
_{SS, CH 3 C 6 H 4} N: NC 1 0 H 6 OH = 262.
31) Oil Violet, C
_{2 4 H 2 1 N 5 =} 379.46), Oil yellow -OB
(Oil Yellow OB, CH ₃ C ₄ H ₄ N: N
_{C 1 0 H 4 NH 2 =} 261.33) , and the like.

【００３４】ベンゾフェノン系染料としては、ユビナー
ルＤ−５０（Ｃ₁₃Ｈ₁₀Ｏ₅ ＝２４６．２２，２，２´，
４，４´−テトラハイドロオキシベンゾフェノン）、ユ
ビナールＭＳ４０（Ｃ₁₄Ｈ₁₂Ｏ₆ Ｓ＝３０８，２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン５−スルフォン
酸）、ユビナールＤＳ４９（Ｃ₁₅Ｈ₁₂Ｏ₁₁Ｓ₂ Ｎａ₂ ＝
４７８，２、２−ジヒドロキシ−４、４´−ジメトキシ
ベンゾフェノン５、５´−ジスルフォン酸ナトリウム）
などがある。Examples of benzophenone dyes include Ubinal D-50 (C ₁₃ H ₁₀ O ₅ = 246.22,2,2 ',
4,4'-tetra hydro-oxy benzophenone), Uvinul _{MS40 (C 14 H 12 O 6} S = 308,2- hydroxy-4-methoxybenzophenone 5-sulfonic acid), Uvinul _{DS49 (C 15 H 12 O 11} S 2 Na ₂ =
478,2,2-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone 5,5'-sodium disulphonate)
and so on.

【００３５】有機系染料の添加量は蛍光体特性を低下さ
せない範囲で蛍光体粉末に対して０．０５から２重量％
が好ましい。０．０５重量％未満では紫外線吸光剤の添
加効果が減少し、露光マスクの遮光部分まで紫外線が回
り込み、マスク通りのパターン形成が困難となる。２重
量％を越えると紫外線吸光剤による吸光効果が強くなり
過ぎて紫外線が蛍光体膜の下部まで到達するまでに吸収
されてしまい光硬化が十分なされない。このため、現像
時に下部の膜の剥がれが起こり、パターン形成不良とな
る。また、有機染料が２重量％越えると蛍光体が焼成時
に揮発せずに、残存するようになり、蛍光体の輝度特性
が低下するので好ましくない。より好ましくは０．０７
〜０．３重量％である。The organic dye is added in an amount of 0.05 to 2% by weight with respect to the phosphor powder as long as the phosphor characteristics are not deteriorated.
Is preferred. If it is less than 0.05% by weight, the effect of adding the ultraviolet light absorber decreases, and the ultraviolet light reaches the light-shielding portion of the exposure mask, which makes it difficult to form a pattern as the mask. If it exceeds 2% by weight, the absorption effect of the ultraviolet absorber becomes too strong, and ultraviolet rays are absorbed by the time they reach the lower part of the phosphor film, resulting in insufficient photocuring. Therefore, the lower film is peeled off during development, resulting in defective pattern formation. On the other hand, if the amount of the organic dye exceeds 2% by weight, the phosphor will remain without being volatilized during firing, and the luminance characteristics of the phosphor will deteriorate, which is not preferable. More preferably 0.07
~ 0.3% by weight.

【００３６】有機系染料からなる紫外線吸光剤の添加方
法としては、以下の方法によることが好ましい。すなわ
ち、有機系染料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製す
る。次に該有機溶媒中に蛍光体粉末を混合・攪拌しなが
ら乾燥する。この方法によって個々の蛍光体粉末表面に
均質に有機系染料の膜をコ−トした、いわゆるカプセル
状の蛍光体粉末が作製できる。As a method of adding the ultraviolet light absorber composed of an organic dye, the following method is preferable. That is, a solution in which an organic dye is previously dissolved in an organic solvent is prepared. Next, the phosphor powder is mixed in the organic solvent and dried with stirring. By this method, a so-called capsule-shaped phosphor powder can be produced in which a film of an organic dye is uniformly coated on the surface of each phosphor powder.

【００３７】本発明において、好ましい吸光度の積分値
（波長測定範囲；３５０〜４５０ｎｍ）の範囲がある。
吸光度の積分値は、粉末の状態で測定されるもので、蛍
光体粉末の表面を有機染料でコ−トした粉末について測
定される。In the present invention, there is a preferable range of integrated value of absorbance (wavelength measurement range; 350 to 450 nm).
The integrated value of the absorbance is measured in a powder state, and is measured for a powder obtained by coating the surface of the phosphor powder with an organic dye.

【００３８】本発明で、吸光度は下記のように定義され
る。すなわち、市販の分光光度計を使用して積分球の中
で光を測定用試料に当て、そこで反射された光を集めて
検出する。また積分球により検出された光以外は、すべ
て吸収光とみなして下記の式から求められる。In the present invention, the absorbance is defined as follows. That is, using a commercially available spectrophotometer, light is applied to a measurement sample in an integrating sphere, and the light reflected there is collected and detected. In addition, all the light except for the light detected by the integrating sphere is regarded as absorption light and can be obtained from the following equation.

【００３９】対照光の光強度をＩｒ（Ｉｒは試料の吸光
度を測定する前に、積分球内面に塗布してある材料と同
じ材料のＢａＳＯ₃ を試料台に取り付けて反射による光
強度を測定したデ−タ）、試料に入射した光の光強度を
Ｉ、試料に当たった後、吸収分の光強度をＩｏとする
と、試料からの反射分の光強度は（Ｉ−Ｉｏ）で表わさ
れ、吸光度は下記の（１）式のように定義される。上記
で光強度の単位は、Ｗ／ｃｍ² で表わす。 吸光度＝−ｌｏｇ（（Ｉ−Ｉ₀ ）／Ｉｒ） （１）The light intensity of the control light was Ir (Ir is the BaSO ₃ of the same material as the material coated on the inner surface of the integrating sphere, was attached to the sample stage before measuring the absorbance of the sample, and the light intensity by reflection was measured. Data), the light intensity of the light incident on the sample is I, and the light intensity of the absorbed component after hitting the sample is Io, the light intensity of the reflected component from the sample is represented by (I-Io). , Absorbance is defined by the following equation (1). In the above, the unit of light intensity is W / cm ² . Absorbance = −log ((I−I ₀ ) / Ir) (1)

【００４０】吸光度の測定は下記のようにして行う。The absorbance is measured as follows.

【００４１】１．吸光剤を添加した粉末をプレス機で直
径２０ｍｍ、厚み４ｍｍのサイズに成型する。1. The powder to which the light absorber is added is molded into a size having a diameter of 20 mm and a thickness of 4 mm by a pressing machine.

【００４２】２．次に分光光度計を用いて積分球の反射
試料の取り付け口に粉末の成型体を取り付けて、反射光
による吸光度を波長範囲２００〜６５０ｎｍで測定する
と図１のようなグラフが得られる。縦軸は（１）式の吸
光度で、横軸は測定波長を示す。３．次に図１で波長３
５０〜４５０ｎｍの範囲を１０ｎｍ毎の１０区間に分
け、それぞれの区間毎の面積を求める。面積は次のよう
に求められる。例えば、 ３５０ｎｍのときの吸光度を０．７５ ３６０ｎｍのときの吸光度を０．８０ ３７０ｎｍのときの吸光度を０．８５ ・ ・ ４４０ｎｍのときの吸光度を０．６０ ・ ４５０ｎｍのときの吸光度を０．５５として、３５０〜
３６０ｎｍの部分の面積をＡとし、台形とみなすとＡは
下記のように計算される。 ３５０〜３６０ｎｍの面積Ａ＝（（０．７５＋０．８
０）×１０）／２＝７．７５ 同様に３６０〜３７０ｎｍの面積Ｂ＝（（０．８０＋
０．８５）×１０）／２＝８．２５ ・ ・ 同様に４４０〜４５０ｎｍの面積Ｊ＝（（０．６０＋
０．５５）×１０）／２＝５．７５ となる。１０区間の面積の積分値Ｓは下記のようにして
求められる。 Ｓ＝Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋・・・・＋Ｊ 上記の面積Ｓを吸光度として定義した。2. Next, the molded body of the powder is attached to the mounting hole of the reflecting sample of the integrating sphere using a spectrophotometer, and the absorbance due to the reflected light is measured in a wavelength range of 200 to 650 nm, whereby a graph as shown in FIG. 1 is obtained. The vertical axis indicates the absorbance of equation (1), and the horizontal axis indicates the measurement wavelength. 3. Next, in FIG.
The range of 50 to 450 nm is divided into 10 intervals of 10 nm, and the area of each interval is calculated. The area is determined as follows. For example, the absorbance at 350 nm is 0.75, the absorbance at 360 nm is 0.80, the absorbance at 370 nm is 0.85, the absorbance at 440 nm is 0.60, the absorbance at 450 nm is 0.55. As 350
Assuming that the area of the 360 nm portion is A and is regarded as a trapezoid, A is calculated as follows. Area A of 350 to 360 nm A = ((0.75 + 0.8
0) × 10) /2=7.75 Similarly, the area B of 360 to 370 nm B = ((0.80+
0.85) × 10) /2=8.25 Similarly, the area J of 440 to 450 nm J = ((0.60+
0.55) × 10) /2=5.75. The integrated value S of the area of 10 sections is obtained as follows. S = A + B + C + ... + J The area S was defined as the absorbance.

【００４３】本発明で上記の吸光度の積分値の好ましい
範囲は、２０〜８０であり、さらに好ましい範囲は３０
〜６０である。吸光度が２０未満であると紫外線露光時
において光が蛍光体層の下部まで十分透過する前に蛍光
体粉末によって散乱されてしまいマスクの遮光部である
未露光部を硬化するようになり、高精細のパターン形成
ができなくなる。また吸光度が８０を超えると光が蛍光
体の下部に達する前に蛍光体粉末に吸収されてしまい、
下部の蛍光体層まで光が透過しないため光硬化が不十分
になる。この結果、現像時に剥がれるようになり、良好
なパターン形成が困難になる。In the present invention, the preferable range of the above integrated value of absorbance is 20 to 80, and the more preferable range is 30.
-60. When the absorbance is less than 20, the light is scattered by the phosphor powder before being sufficiently transmitted to the lower part of the phosphor layer during UV exposure, and the unexposed part of the mask, which is a light shielding part, is cured, resulting in high definition. Pattern cannot be formed. If the absorbance exceeds 80, light will be absorbed by the phosphor powder before it reaches the bottom of the phosphor,
Light does not pass through to the lower phosphor layer, resulting in insufficient photocuring. As a result, peeling occurs during development, and it becomes difficult to form a good pattern.

【００４４】本発明において蛍光体粉末に含まれる，Ｃ
ｄ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｍｇ，Ｂａ，Ｖ，Ｃｕ，Ｌａなどの金
属および酸化物がペースト中に含有する感光性ポリマー
のカルボキシル基と反応してペーストが短時間でゲル化
し、塊となりペーストとして印刷できなくなる場合があ
る。これはポリマーのイオン架橋反応と推定されるが、
このような架橋反応を防止するために感光性ポリマーは
勿論、光反応性化合物、光重合開始剤或いは可塑剤など
に悪い影響を与えない化合物（安定化剤）を添加してゲ
ル化を防止することが好ましい。すなわち、ゲル化反応
を引き起こす金属或いは酸化物粉末との錯体化或いは酸
官能基との塩形成などの効果のある化合物で粉末を表面
処理し、感光性絶縁ペーストを安定化させる。そのよう
な安定化剤としては、トリアゾール化合物が好ましく用
いられる。トリアゾール化合物の中でも特にベンゾトリ
アゾールが有効に作用する。また、上述のゲル化反応
は、蛍光体粉末、感光性ポリマー、光反応性化合物（感
光性モノマー）、光重合開始剤、および有機溶媒などに
微量含有する水分によって加速促進されるので水分を
０．１重量％以下に除去することが必要である。C contained in the phosphor powder in the present invention
Metals and oxides such as d, Mn, Zn, Mg, Ba, V, Cu, La react with the carboxyl groups of the photosensitive polymer contained in the paste, and the paste gels in a short time to form a lump and print as a paste. It may not be possible. This is presumed to be the ionic crosslinking reaction of the polymer,
In order to prevent such a cross-linking reaction, not only a photosensitive polymer but also a compound (stabilizer) that does not adversely affect a photoreactive compound, a photopolymerization initiator or a plasticizer is added to prevent gelation. It is preferable. That is, the powder is surface-treated with a compound that has an effect of complexing with a metal or oxide powder that causes a gelation reaction or salt formation with an acid functional group to stabilize the photosensitive insulating paste. As such a stabilizer, a triazole compound is preferably used. Among the triazole compounds, benzotriazole works particularly effectively. Further, since the gelation reaction described above is accelerated and accelerated by the moisture contained in a small amount in the phosphor powder, the photosensitive polymer, the photoreactive compound (photosensitive monomer), the photopolymerization initiator, the organic solvent, etc. It is necessary to remove to less than 1% by weight.

【００４５】本発明において使用されるベンゾトリアゾ
ールによる蛍光体粉末の表面処理は次のようにして行う
と好ましい。すなわち１００〜２００℃で十分乾燥した
蛍光体粉末を後、粉末に対して所定の量のベンゾトリア
ゾ−ルを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、
メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら
粉末が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２４
時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自
然乾燥して溶媒を蒸発させた後、７０〜１００℃で３〜
２４時間乾燥させて水分を除去し、トリアゾール処理を
行った粉末を作製する。The surface treatment of the phosphor powder with benzotriazole used in the present invention is preferably performed as follows. That is, a phosphor powder that has been sufficiently dried at 100 to 200 ° C. is formed, and then a predetermined amount of benzotriazole is added to the powder, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl alcohol,
After being dissolved in an organic solvent such as methyl alcohol, 1 to 24 in the solution so that these powders can be sufficiently immersed.
Soak for hours. After dipping, it is preferably air-dried at 20 to 30 ° C to evaporate the solvent, and then at 70 to 100 ° C for 3 to
It is dried for 24 hours to remove water, and triazole-treated powder is prepared.

【００４６】本発明において使用される安定化剤の割合
（安定化剤／蛍光体粉末）は０．２〜４重量％が好まし
く、さらに０．４〜３重量％であることがより好まし
い。０．２重量％未満ではポリマ−の架橋反応を防止す
るのに効果がなく、短時間でゲル化する。また４重量％
を越えると安定化剤の量が多くなり過ぎて蛍光体ペース
トでパターン形成した膜を４００〜５００℃で焼き付け
時において安定化剤の脱バインダーが困難となり、プラ
ズマ・ディスプレイ・パネルの蛍光体の発光特性が低下
するので好ましくない。The ratio of the stabilizer used in the present invention (stabilizer / phosphor powder) is preferably 0.2 to 4% by weight, and more preferably 0.4 to 3% by weight. If it is less than 0.2% by weight, it is ineffective in preventing the crosslinking reaction of the polymer and gels in a short time. 4% by weight
If the temperature exceeds the above range, the amount of the stabilizer becomes too large, and it becomes difficult to remove the binder when the film patterned with the phosphor paste is baked at 400 to 500 ° C., and the emission of the phosphor of the plasma display panel becomes difficult. It is not preferable because the characteristics are deteriorated.

【００４７】また、本発明のプラズマ・ディスプレイ・
パネル用感光性蛍光体ペースト中に、ガラスフリットを
含有することが好ましい。ガラスフリットは蛍光体粉末
をガラス基板上に４００〜５５０℃の温度で焼き付ける
ために、また蛍光体粉末を焼結するための焼結助剤とし
て効果があるためである。ガラスフリットのガラス転移
温度（Ｔｇ）およびガラス軟化点（Ｔｓ）は低いほうが
好ましく、それぞれ２５０〜５００℃、３５０〜５５０
℃であるのが良い。より好ましくはＴｇが３２０〜４０
０℃、Ｔｓが３８０〜４５０℃である。Ｔｇが２５０℃
未満では、ポリマーバインダーやモノマーなどの有機成
分が蒸発する前に焼結が始まり、脱バインダが完全にで
きないため好ましくない。また、Ｔｇが５００℃を越え
るガラスフリットでは４００〜５００℃の焼き付け温度
で行ったときにガラス基板との接着性が劣る結果となる
ので好ましくない。Further, the plasma display of the present invention
A glass frit is preferably contained in the photosensitive phosphor paste for a panel. This is because the glass frit is effective for baking the phosphor powder on the glass substrate at a temperature of 400 to 550 ° C. and as a sintering aid for sintering the phosphor powder. The glass transition temperature (Tg) and the glass softening point (Ts) of the glass frit are preferably low, and they are 250 to 500 ° C. and 350 to 550, respectively.
It is good to be ° C. More preferably Tg is 320-40
0 degreeC and Ts are 380-450 degreeC. Tg is 250 ° C
If it is less than the above range, sintering is started before the organic components such as the polymer binder and the monomer are evaporated, and the binder cannot be completely removed, which is not preferable. Further, a glass frit having a Tg of more than 500 ° C. is not preferable because it results in poor adhesion to the glass substrate when performed at a baking temperature of 400 to 500 ° C.

【００４８】ガラスフリットは、酸化物換算表記で ＳｉＯ₂ ４〜３０重量％ Ｂｉ₂ Ｏ₃ ３０〜７０重量％ ＺｎＯ ２〜２０重量％ Ｂ₂ Ｏ₃ １０〜２０重量％ ＢａＯ ５〜２５重量％ の組成範囲からなるものを８０重量％以上含有すること
が好ましい。この範囲であると４００〜５００℃でガラ
ス基板上に焼き付けできるガラスフリットが得られる。The glass frit is composed of SiO ₂ 4 to 30 wt% Bi ₂ O ₃ 30 to 70 wt% ZnO 2 to 20 wt% B ₂ O ₃ 10 to 20 wt% BaO 5 to 25 wt% in terms of oxide. It is preferable to contain 80% by weight or more of those having a composition range. Within this range, a glass frit that can be baked on a glass substrate at 400 to 500 ° C is obtained.

【００４９】ガラスフリットの組成としては、ＳｉＯ₂
は４〜３０重量％の範囲で配合することが好ましく、４
重量％未満の場合は基板上に焼き付けたときの密着性、
強度や安定性が低下する。また３０重量％より多くなる
と耐熱温度が増加し、５００℃以下でガラス基板上に焼
き付けが難しくなる。The composition of the glass frit is SiO ₂
Is preferably blended in the range of 4 to 30% by weight.
If it is less than the weight%, the adhesion when baked on the substrate,
Strength and stability decrease. If it is more than 30% by weight, the heat resistant temperature increases, and it becomes difficult to print on a glass substrate at 500 ° C. or less.

【００５０】Ｂｉ₂ Ｏ₃ は３０〜７０重量％の範囲で配
合することが好ましい。３０重量％未満ではペーストを
ガラス基盤板上に焼付けする時に、焼き付け温度を制御
するのに効果が少ない。７０重量％を越えるとガラスの
耐熱温度が高くなり過ぎてガラス基板上に焼き付けが難
しくなる。Bi ₂ O ₃ is preferably blended in the range of 30 to 70% by weight. If it is less than 30% by weight, it is less effective in controlling the baking temperature when the paste is baked on the glass substrate. If it exceeds 70% by weight, the heat resistant temperature of the glass becomes too high and it becomes difficult to print it on a glass substrate.

【００５１】Ｂ₂ Ｏ₃ は１０〜２０重量％の範囲で配合
することが好ましい。Ｂ₂ Ｏ₃ は蛍光体ペーストの焼付
け温度をＡｌ₂ Ｏ₃ が多い場合でも電気絶縁性、強度、
熱膨張係数などの電気、機械および熱的特性を損なうこ
とのないように焼付け温度を４００〜５００℃の範囲に
制御するために配合される。１０重量％未満では密着強
度が低下し、また２０重量％を越えるとガラスフリット
の安定性が低下する。ＢａＯは５〜２５重量％の範囲で
配合することが好ましい。５重量％未満では導電ペース
トをガラス基板上に焼付けする時に、焼付け温度を制御
するのに効果が少ない。２５重量％を越えるとガラスの
耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが
難しくなる。B ₂ O ₃ is preferably blended in the range of 10 to 20% by weight. B ₂ O ₃ has a high firing temperature of the phosphor paste even if the Al ₂ O ₃ content is high.
It is compounded to control the baking temperature in the range of 400 to 500 ° C. so as not to impair the electrical, mechanical and thermal properties such as the coefficient of thermal expansion. If it is less than 10% by weight, the adhesion strength will be lowered, and if it exceeds 20% by weight, the stability of the glass frit will be lowered. BaO is preferably added in the range of 5 to 25% by weight. If it is less than 5% by weight, it is less effective in controlling the baking temperature when the conductive paste is baked on the glass substrate. If it exceeds 25% by weight, the heat resistant temperature of the glass becomes too low and it becomes difficult to bake it on a glass substrate.

【００５２】また、ガラスフリット粉末には、プラズマ
の放電特性、蛍光体の発光特性、蛍光体ペーストのパタ
ーン解像度およびペースト寿命を低下させるＮａ₂ Ｏ，
Ｙ₂Ｏ₃ ，Ｋ₂ Ｏ，ＰｂＯなどの酸化物金属を含まない
ことが好ましい。含有した場合にも３重量％以下である
ことが好ましい。Further, the glass frit powder contains Na ₂ O, which reduces plasma discharge characteristics, phosphor emission characteristics, phosphor paste pattern resolution and paste life.
It is preferable not to include an oxide metal such as Y ₂ O ₃ , K ₂ O or PbO. Even when it is contained, it is preferably 3% by weight or less.

【００５３】また、ガラスフリッ中にＣａＯ，Ａｌ₂ Ｏ
₃ ，ＺｒＯ₂ 、Ｌｉ₂ Ｏなどを含有することによって熱
膨張係数やガラス軟化点（Ｔｓ）、ガラス転移温度（Ｔ
ｇ）の制御あるいはガラス基板との接着強度の増加がで
きるが、その量は１０重量％以下であることが好まし
い。Further, CaO and Al ₂ O are contained in the glass frit.
_{By including 3} , ZrO ₂ , Li ₂ O, etc., the coefficient of thermal expansion, the glass softening point (Ts), the glass transition temperature (T
Although g) can be controlled or the adhesive strength with the glass substrate can be increased, the amount is preferably 10% by weight or less.

【００５４】使用するガラスフリットの粒子径は、微粒
子であればあるほど、低温で融解するので好ましい。５
０％径が０．５〜２μｍの範囲、９０％径が０．７〜３
μｍの範囲が好ましく、低温で融解し、ガラス基板上に
強固に接着するので好ましい。The particle size of the glass frit used is preferably finer, because it melts at a lower temperature. 5
0% diameter is in the range of 0.5 to 2 μm, 90% diameter is in the range of 0.7 to 3
The range of μm is preferable, because it is melted at a low temperature and firmly adheres to a glass substrate.

【００５５】ＰＤＰ用感光性蛍光体ペースト中のガラス
フリット含有量としては、蛍光体粉末、ポリマー（側鎖
または分子末端にカルボキシル基とエチレン不飽和基を
有するアクリル系共重合体）、光反応性化合物およびガ
ラスフリットの総和に対して１〜５重量％であることが
好ましい。より好ましくは１．５〜３．５重量％であ
る。ＰＤＰの蛍光体の輝度特性の低下を抑えるにはガラ
スフリットの量が低いほうが好ましい。ガラスフリット
は電気絶縁性であるので含有量が５重量％を越えると輝
度が低下するので好ましくない。１重量％以下では、蛍
光体膜とガラス基板との強固な接着強度が得られにく
い。The glass frit content in the PDP photosensitive phosphor paste is as follows: phosphor powder, polymer (acrylic copolymer having carboxyl group and ethylenically unsaturated group at side chain or molecular end), photoreactivity It is preferably 1 to 5% by weight based on the total amount of the compound and the glass frit. More preferably, it is 1.5 to 3.5% by weight. The amount of glass frit is preferably low in order to suppress the deterioration of the brightness characteristics of the phosphor of the PDP. Since the glass frit is electrically insulative, if the content exceeds 5% by weight, the brightness decreases, which is not preferable. When it is 1% by weight or less, it is difficult to obtain a strong adhesive strength between the phosphor film and the glass substrate.

【００５６】本発明において感光性蛍光体ペ−スト中
に、増感剤、増感助剤（または光重合促進剤）、熱重合
禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、有機あ
るいは無機の沈殿防止剤などを添加することも好ましく
行われる。In the present invention, a sensitizer, a sensitization aid (or a photopolymerization accelerator), a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a thickener, an antioxidant and a dispersant are contained in the photosensitive phosphor paste. It is also preferable to add an organic or inorganic precipitation inhibitor or the like.

【００５７】増感剤は、高感度を向上させるために添加
される。増感剤の具体例としては、２、４−ジエチルチ
オキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−
ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノ
ン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シク
ロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベン
ザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラ−ケト
ン、４，４、−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４
−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミ
ノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベン
ジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ルビニレン）−イソナフトチアゾ−ル、１，３−＾ビス
（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カ
ルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセト
ン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノク
マリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノ−ルアミ
ン、Ｎ−フェニルエタノ−ルアミン、Ｎ−トリルジエタ
ノ−ルアミン、Ｎ−フェニルエタノ−ルアミン、ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸
イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオ−テト
ラゾ−ラゾ−ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニ
ルチオ−テトラゾ−ルなどがあげられる。本発明ではこ
れらを１種または２種以上使用することができる。な
お、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるも
のがある。増感剤を本発明の蛍光体ペ−ストに添加する
場合、その添加量は側鎖または分子末端にカルボキシル
基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体と
光反応性化合物の和に対して通常０．１〜３０重量％、
より好ましくは０．５〜１５重量％である。増感剤の量
が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、
増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりす
ぎるおそれがある。The sensitizer is added to improve high sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, and 2,3-diethylthioxanthone.
Bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4-methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4, -bis (diethylamino) -benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone, 4,4
-Bis (diethylamino) chalcone, p-dimethylaminocinnamylideneindanone, p-dimethylaminobenzylideneindanone, 2- (p-dimethylaminophenylvinylene) -isonaphthothiazole, 1,3- ^ bis (4-dimethyl) Aminobenzal) acetone, 1,3-carbonyl-bis (4-diethylaminobenzal) acetone, 3,3-carbonyl-bis (7-diethylaminocoumarin), N-phenyl-N-ethylethanolamine, N-phenylethano -Lamine, N-tolyldiethanolamine, N-phenylethanolamine, dimethylaminobenzoic acid isoamyl, diethylaminobenzoic acid isoamyl, 3-phenyl-5-benzoylthio-tetrazo-razol, 1-phenyl-5-ethoxycarbonyl Thio-tetrazo- And the like. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more. Some sensitizers can also be used as photopolymerization initiators. When the sensitizer is added to the phosphor paste of the present invention, the amount added is the sum of the acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end and the photoreactive compound. On the other hand, usually 0.1 to 30% by weight,
More preferably, it is 0.5 to 15% by weight. If the amount of sensitizer is too small, the effect of improving photosensitivity will not be exhibited,
If the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.

【００５８】熱重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上
させるために添加される。熱重合禁止剤の具体的な例と
しては、ヒドロキノン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミ
ン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコ−ル、Ｎ−
フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ
−メチルフェノ−ル、クロラニ−ル、ピロガロ−ルなど
が挙げられる。熱重合禁止剤を添加する場合、その添加
量は、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共
重合体と光反応性重合性化合物の和に対し、通常、０．
１〜２０重量％、より好ましくは、０．５〜１０重量％
である。熱重合禁止剤の量が少なすぎれば、保存時の熱
的な安定性を向上させる効果が発揮されず、熱重合禁止
剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎ
るおそれがある。The thermal polymerization inhibitor is added to improve the thermal stability during storage. Specific examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, N-nitrosodiphenylamine, phenothiazine, pt-butylcatechol, N-.
Phenylnaphthylamine, 2,6-di-t-butyl-p
-Methylphenol, chloranil, pyrogallol and the like. When the thermal polymerization inhibitor is added, the addition amount is usually 0.1 to the sum of the acrylic copolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain and the photoreactive polymerizable compound.
1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight
It is. If the amount of the thermal polymerization inhibitor is too small, the effect of improving the thermal stability during storage will not be exhibited, and if the amount of the thermal polymerization inhibitor is too large, the residual rate of the exposed portion may be too small. is there.

【００５９】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレ−ト、ジオクチルフタレ−ト、ポリエチレングリコ
−ル、グリセリンなどがあげられる。Specific examples of the plasticizer include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, polyethylene glycol and glycerin.

【００６０】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
−ル、ブチル化ヒドロキシアニソ−ル、２、６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノ−ル、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
−ル）、４，４−チビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノ−ル）、１，１，３−トリス−（２−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、１，１，３−トリス−
（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）
ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシッド］グリコ−
ルエステル、ジラウリルチオジプロピオナ−ト、トリフ
ェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添
加する場合、その添加量は通常、蛍光体粉末、側鎖また
は分子末端にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体、光反応性化合物および光重合
開始剤の総和に対して０．０１〜５重量％、より好まし
くは０．１〜１重量％である。酸化防止剤の量が少なけ
れば保存時のアクリル系共重合体の酸化を防ぐ効果が得
られず、酸化防止剤の量が多すぎれば露光部の残存率が
小さくなりすぎるおそれがある。The antioxidant is added to prevent oxidation of the acrylic copolymer during storage. Specific examples of antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, and 2,6-di-t.
-4-ethylphenol, 2,2-methylene-bis-
(4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2-
Methylene-bis- (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4-tibis- (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,1,3-tris- (2-methyl) −
6-t-butylphenol), 1,1,3-tris-
(2-methyl-4-hydroxy-t-butylphenyl)
Butane, bis [3,3-bis- (4-hydroxy-3-
t-Butylphenyl) butyric acid] glyco-
Examples thereof include ruester, dilauryl thiodipropionate, and triphenyl phosphite. When adding an antioxidant, the addition amount is usually a phosphor powder, an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at a side chain or a molecular end, a photoreactive compound and a photopolymerization initiator. It is 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight, based on the total amount. If the amount of the antioxidant is small, the effect of preventing oxidation of the acrylic copolymer during storage cannot be obtained, and if the amount of the antioxidant is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.

【００６１】感光性蛍光体ペ−ストの好ましい組成とし
ては、次の範囲で選択するのが良い。The preferable composition of the photosensitive phosphor paste is selected within the following range.

【００６２】（ａ）蛍光体粉末 ；（ａ），（ｂ）の
和に対して８２〜９４重量％ （ｂ）側鎖または分子末端にカルボキシル基とエチレン
不飽和基を有するアクリル系共重合体と光反応性化合
物；（ａ），（ｂ）の和に対して１８〜６重量％ （ｃ）光重合開始剤 ；（ｂ）に対して５〜２５重量％ （ｄ）ガラスフリット；（ａ），（ｂ），（ｃ）の和に
対して１〜５重量％ （ｅ）紫外線吸光剤 ；（ａ）に対して０．０５〜２重
量％ 上記においてより好ましくは、（ａ），（ｂ），（ｄ）
および（ｅ）成分の組成をそれぞれ８６〜９２重量％、
１４〜８重量％、、２〜３．５重量％および０．１〜
０．５重量％である。この範囲にあると露光時において
紫外線が良く透過し、光硬化の機能が十分発揮され、後
の現像時における未露光部の残膜の発生をほとんどなく
することができ、高精細度の蛍光体のパターン形成がで
きる。また蛍光体粉末の割合が上記の好ましい範囲にあ
り、（ｂ）成分である側鎖にカルボキシル基とエチレン
性不飽和基を有するアクリル系共重合体と光反応性化合
物の合計量をこの範囲とすることにより焼成後の蛍光体
層が緻密になり、高輝度の膜が得られる利点がある。(A) Phosphor powder: 82 to 94% by weight based on the sum of (a) and (b) (b) Acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end And photoreactive compound; 18 to 6% by weight based on the sum of (a) and (b) (c) Photopolymerization initiator; 5 to 25% by weight based on (b) (d) Glass frit; (a ), (B), (c) 1 to 5 wt% (e) UV absorber; (a) 0.05 to 2 wt% In the above, more preferably (a), ( b), (d)
And the composition of the component (e) is 86 to 92% by weight,
14-8 wt%, 2-3.5 wt% and 0.1
0.5% by weight. Within this range, ultraviolet rays are well transmitted during exposure, the photo-curing function is fully exerted, and the generation of residual film in the unexposed area during subsequent development can be almost eliminated, and a high-definition phosphor can be obtained. Pattern can be formed. Further, the ratio of the phosphor powder is in the above preferred range, and the total amount of the acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group in the side chain which is the component (b) and the photoreactive compound is within this range. By doing so, there is an advantage that the phosphor layer after firing becomes dense and a film with high brightness can be obtained.

【００６３】本発明の感光性蛍光体ペ−ストは、側鎖ま
たは分子末端にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を
有するアクリル系共重合体と光重合開始剤を溶解し、こ
の溶液に紫外線吸光剤で処理した蛍光体粉末を分散させ
ることによって製造することができる。また、感光性蛍
光体ペーストを好ましくは、側鎖または分子末端にエチ
レン性不飽和基を有するアクリル系共重合体と光重合開
始剤を光反応性化合物に溶解させ、この溶液に紫外線吸
光剤を分散させることによって製造することができる。
側鎖または分子末端にカルボキシル基とエチレン性不飽
和基を有するアクリル系共重合体と光重合開始剤が光反
応性化合物に溶解しない場合、あるいは溶液の粘度を調
整したい場合には該アクリル系共重合体、光重合開始剤
及び光反応性化合物の混合溶液が溶解可能である有機溶
媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒として
は、メチルセルソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、
シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアル
コ−ル、イソプロピルアルコ−ル、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトンなど
やこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が
用いられる。The photosensitive phosphor paste of the present invention is prepared by dissolving an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at a side chain or a molecular end, and a photopolymerization initiator, and absorbing ultraviolet light in this solution. It can be produced by dispersing the phosphor powder treated with the agent. The photosensitive phosphor paste is preferably dissolved in a photoreactive compound with an acrylic copolymer having an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end, and a UV absorber in this solution. It can be manufactured by dispersing.
When the acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at the side chain or molecular end and the photopolymerization initiator are not dissolved in the photoreactive compound, or when it is desired to adjust the viscosity of the solution, the acrylic copolymer is used. You may add the organic solvent which can melt | dissolve the mixed solution of a polymer, a photoinitiator, and a photoreactive compound. As the organic solvent used at this time, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone,
Cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone and the like, and an organic solvent mixture containing at least one of them are used.

【００６４】さらに必要に応じて有機溶媒、増感剤、増
感助剤、光重合促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、酸化防
止剤、増粘剤、分散剤および有機或いは無機の沈殿防止
剤を添加し、混合物のスラリ−とする。所定の組成とな
るように調合されたスラリ−を予め混練機で均質に分散
した後、３本ローラやロールミルで混練してペ−ストを
作製する。ペ−ストの粘度は蛍光体粉末、増粘剤、有機
溶媒、可塑剤、沈殿防止剤およびガラスフリットなどの
添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は２００
０〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。蛍光体ペ
ーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、ド
クターブレード法、ロールコーティング法、スピナー
法、バ−コータなど公知のコーティング法がいずれも使
用できる。例えばガラス基板への塗布をスクリ−ン印刷
法以外にスピンコ−ト法で行う場合は、２０００〜５０
００ｃｐｓが好ましい。スクリ−ン印刷法で１回塗布し
て膜厚１０〜４０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓ
が好ましい。Further, if necessary, an organic solvent, a sensitizer, a sensitization aid, a photopolymerization accelerator, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, an antioxidant, a thickener, a dispersant and an organic or inorganic precipitation preventive agent. The agent is added to form a slurry of the mixture. A slurry prepared to have a predetermined composition is homogeneously dispersed in advance by a kneader and then kneaded by a three-roller or a roll mill to prepare a paste. The viscosity of the paste is appropriately adjusted by the addition ratio of the phosphor powder, the thickener, the organic solvent, the plasticizer, the suspending agent, the glass frit, etc., but the range is 200.
It is 0-200,000 cps (centipoise). As a method for applying the phosphor paste, any known coating method such as a screen printing method, a doctor blade method, a roll coating method, a spinner method and a bar coater can be used. For example, when the coating on the glass substrate is performed by a spin coat method other than the screen printing method, 2000 to 50
00 cps is preferred. 50,000 to 200,000 cps to obtain a film thickness of 10 to 40 μm by applying once by the screen printing method.
Is preferred.

【００６５】次に、感光性蛍光体ペーストを用いて蛍光
体のパターン形成する方法の一例について説明するが、
本発明はこれに限定されない。Next, an example of a method for forming a phosphor pattern using a photosensitive phosphor paste will be described.
The present invention is not limited to this.

【００６６】まず、パターンの形成方法について説明す
る。ＩＴＯなどの透明電極を形成した前面ガラス基板上
にスクリーン印刷法で感光性蛍光体ペーストを塗布し、
乾燥する。First, the pattern forming method will be described. Apply a photosensitive phosphor paste on the front glass substrate with a transparent electrode such as ITO by screen printing,
dry.

【００６７】ここでペ−ストをガラス基板上に塗布する
場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表
面処理を行うとよい。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなど或いは有機金属例えば有機チタン、有機アルミ
ニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップリ
ング剤或いは有機金属を有機溶媒例えばエチレングリコ
−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノエチ
ルエ−テル、メチルアルコ−ル、エチルアルコ−ル、プ
ロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ルなどで０．１〜５
％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液
をスピナ−などで基板上に均一に塗布した後に８０〜１
４０℃で１０〜６０分間乾燥する事によって表面処理が
できる。Here, when the paste is applied on the glass substrate, the surface treatment of the substrate may be performed in order to enhance the adhesion between the substrate and the coating film. Examples of the surface treatment liquid include silane coupling agents such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and tris-silane.
(2-methoxyethoxy) vinylsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, γ (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane and the like or organic metals such as organic titanium, organic aluminum and organic zirconium. The silane coupling agent or organic metal is used in an organic solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, etc.
Use the one diluted to a concentration of%. Then, this surface treatment solution is uniformly applied to the substrate by a spinner or the like, and then 80 to 1
Surface treatment can be performed by drying at 40 ° C. for 10 to 60 minutes.

【００６８】ガラス基板上に一様に塗布した蛍光体ペー
ストの膜を７０〜１００℃で数分から１時間加熱して溶
媒類を蒸発・乾燥して蛍光体膜を形成する。A phosphor paste film uniformly applied on a glass substrate is heated at 70 to 100 ° C. for several minutes to 1 hour to evaporate and dry the solvents to form a phosphor film.

【００６９】蛍光体膜の表面にＰＶＡの膜を形成するこ
とによって感度がさらに向上できるので好ましい。ＰＶ
Ａ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重量％の水溶液をス
ピナ−などの方法で基板上に均一に塗布した後に７０〜
９０℃で１０〜６０分間乾燥することによって水分を蒸
発させて行う。また水溶液中にアルコ−ルを少量添加す
ると蛍光体膜との塗れ性が良くなり蒸発が容易になるの
で好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶液濃度は、１〜
３重量％である。この範囲にあると感度が一層向上す
る。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するのは次の理由が
推定される。すなわち感光性ポリマ−およびモノマ−が
光硬化する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を
妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸
素を遮断できるので露光時に感度が向上するので好まし
い。ＰＶＡ以外に水溶性で、透明なポリマ−例えばセル
ロ−ス系のメチルセルロ−スなども使用できる。It is preferable to form a PVA film on the surface of the phosphor film because the sensitivity can be further improved. PV
The film A is formed by applying an aqueous solution having a concentration of 0.5 to 5% by weight onto the substrate evenly by a method such as a spinner, and then 70 to
This is carried out by evaporating the water content by drying at 90 ° C. for 10 to 60 minutes. Further, it is preferable to add a small amount of alcohol to the aqueous solution because the wettability with the phosphor film is improved and evaporation is facilitated. More preferable PVA solution concentration is 1 to
It is 3% by weight. Within this range, the sensitivity is further improved. It is estimated that the reason why the PVA coating improves the sensitivity is as follows. That is, when the photosensitive polymer and the monomer are photo-cured, the presence of oxygen in the air is considered to interfere with the photo-curing sensitivity. It is preferable because it improves. In addition to PVA, water-soluble and transparent polymers such as cellulose-based methyl cellulose can also be used.

【００７０】このように必要に応じてＰＶＡ膜を形成し
た後、マスクを介して露光、現像処理を行う。露光は通
常のフォトマスク法で露光される。フォトリソグラフィ
ー法により選択的に露光した後、現像して未硬化部分を
除去（いわゆるネガ型の）して、所定のパターンを形成
する。このときは、塗布厚み６〜６０μｍに形成し、非
露光部をマスクし、露光する。蛍光体層の厚みは、焼成
後で５〜５０μｍであるが、輝度が最大となる１５〜３
０μｍが好ましい。５０μｍを超えても輝度が向上しな
くなり、焼成後の緻密性が低下し、輝度の寿命が低下す
るようになるので好ましくない。塗布厚みは、塗布回
数、スクリ−ンのメッシュ、ペ−ストの粘度を選ぶこと
によって調整できる。After forming the PVA film as needed, exposure and development are performed through a mask. The exposure is performed by a normal photomask method. After selective exposure by photolithography, development is performed to remove uncured portions (a so-called negative type) to form a predetermined pattern. At this time, a coating thickness of 6 to 60 μm is formed, and the non-exposed portion is masked and exposed. The thickness of the phosphor layer is 5 to 50 μm after firing, but it is 15 to 3 that maximizes the brightness.
0 μm is preferred. Even if it exceeds 50 μm, the brightness is not improved, the denseness after firing is deteriorated, and the life of the brightness is shortened, which is not preferable. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, the screen mesh, and the viscosity of the paste.

【００７１】本発明の感光性蛍光体ペ−ストの調合、印
刷、露光、現像工程では紫外線を遮断できるところで行
う必要がある。そうでないとペ−スト或いは塗布膜が紫
外線によって光硬化してしまい、本発明の効果を発揮で
きる蛍光体層が得られない。感光性蛍光体ペ−ストは通
常のフォトマスク法を用いて露光される。この際使用さ
れる活性光源はたとえば紫外線、電子線、Ｘ線などが挙
げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源
としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀灯、ハロゲンラ
ンプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高
圧水銀灯が好適である。露光条件は導体膜の厚みによっ
て異なるが、５〜１００ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水
銀灯を用いて１〜３０分間露光を行なう。The steps of preparing, printing, exposing and developing the photosensitive phosphor paste of the present invention must be carried out at a place where ultraviolet rays can be blocked. Otherwise, the paste or the coating film is photo-cured by ultraviolet rays, and the phosphor layer capable of exerting the effect of the present invention cannot be obtained. The photosensitive phosphor paste is exposed using a normal photomask method. The active light source used at this time includes, for example, ultraviolet rays, electron beams, X-rays and the like. Among these, ultraviolet rays are preferable, and as the light source, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a germicidal lamp, etc. can be used. . Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred. Exposure conditions vary depending on the thickness of the conductor film, but exposure is performed for 1 to 30 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp having an output of 5 to 100 mW / cm ² .

【００７２】露光後、現像液を使用して現像を行なう
が、この場合、浸漬法やスプレ−法で行なう。現像液と
しては前記の側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリ
ル系共重合体、光反応性化合物および光重合開始剤の混
合物が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有
機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加しても
よい。またアクリル系共重合体の側鎖にカルボキシル基
が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカ
リ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウム水
溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、
有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分
を除去しやすいので好ましい。有機アルカリの具体例と
しては、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、ト
リメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエ
タノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミンなどが挙げられ
る。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量
％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ
濃度が低すぎれば未露光部が除去されずに、アルカリ濃
度が高すぎれば、パタ−ン部を剥離させ、また露光部を
腐食させるおそれがあり良くない。After exposure, development is carried out using a developing solution. In this case, dipping or spraying is used. As the developer, an organic solvent in which a mixture of the acrylic copolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain, a photoreactive compound, and a photopolymerization initiator can be used. Water may be added to the organic solvent as long as the solvent does not lose its solubility. When the side chain of the acrylic copolymer has a carboxyl group, it can be developed with an aqueous alkali solution. As the alkaline aqueous solution, a metallic alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or calcium hydroxide aqueous solution can be used,
It is preferable to use an organic alkaline aqueous solution because the alkaline component can be easily removed during firing. Specific examples of the organic alkali include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethylanolamine and the like. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the unexposed area is not removed. If the alkali concentration is too high, the pattern area may be peeled off and the exposed area may be corroded.

【００７３】次に焼成炉にて焼成を行って蛍光体層が形
成される。焼成雰囲気や温度はガラス基板や導体の種類
によって異なるが、通常は空気中で３５０〜５００℃の
温度で１０〜６０分間保持して蛍光体層を作製する。Next, firing is performed in a firing furnace to form a phosphor layer. The firing atmosphere and temperature differ depending on the type of glass substrate and conductor, but usually, the phosphor layer is prepared by holding in air at a temperature of 350 to 500 ° C. for 10 to 60 minutes.

【００７４】[0074]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれに限定されない。下記の実施例にお
いて特に断らない限りすべて重量部で表わす。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples, all parts are by weight unless otherwise specified.

【００７５】Ａ．蛍光体粉末成分 赤色の蛍光体組成は、Ｙ₂ Ｏ₃ ；Ｅｕ₂ Ｏ₃ （Ｙ₂ Ｏ
₃ ／Ｅｕ₂ Ｏ₃ ＝９５／５）である。蛍光体粉末は、予
めアトライター粉砕および分級により粒度調整を行った
もので、平均粒子径６．０μｍ，比表面積０．２８ｍ²
／ｇの粉末を使用した。A. Phosphor powder component The red phosphor composition is Y ₂ O ₃ ; Eu ₂ O ₃ (Y ₂ O
₃ / Eu ₂ O ₃ = 95/5). The particle size of the phosphor powder was adjusted by attritor pulverization and classification in advance. The average particle diameter was 6.0 μm and the specific surface area was 0.28 m ^2.
/ G of powder was used.

【００７６】緑色の蛍光体組成は、Ｚｎ₂ ＳｉＯ₄ ：
Ｍｎ（ＳｉＯ₂ ／ＭｎＯ₂ ／ＺｎＯ＝２４／３．１／７
２）である。蛍光体粉末は、予めアトライター粉砕およ
び分級により粒度調整を行ったもので、平均粒子径８．
０μｍ，比表面積０．４１ｍ²／ｇの粉末を使用した。The composition of the green phosphor is Zn ₂ SiO ₄ :
Mn (SiO ₂ / MnO ₂ /ZnO=24/3.1/7
2). The particle size of the phosphor powder was adjusted by attritor pulverization and classification in advance, and the average particle size was 8.
A powder having a particle size of 0 μm and a specific surface area of 0.41 m ² / g was used.

【００７７】青色の蛍光体組成は、ＢａＭｇＡｌ₁₂Ｏ
₁₉：Ｍｎ（Ａｌ₂ Ｏ₃ ／ＢａＯ／ＭｇＯ／Ｅｕ₂ Ｏ₃ ＝
７５／１５／７．４／２．３）である。蛍光体粉末は、
予めアトライター粉砕および分級により粒度調整を行っ
たもので、平均粒子径５．５μｍ，比表面積０．４６ｍ
² ／ｇの粉末を使用した。The composition of the blue phosphor is BaMgAl ₁₂ O.
₁₉ : Mn (Al ₂ O ₃ / BaO / MgO / Eu ₂ O ₃ =
75/15 / 7.4 / 2.3). The phosphor powder is
The particle size was adjusted beforehand by attritor pulverization and classification. Average particle size 5.5 μm, specific surface area 0.46 m
² / g of powder was used.

【００７８】Ｂ．紫外線吸光剤 有機染料；アゾ系染料；スダン（Ｓｕｄａｎ）、化学
式；Ｃ_{2 4} Ｈ₂ ＯＮ₄ Ｏ，分子量；３８０．４５。B. UV absorber Organic dye; Azo dye; Sudan, chemical formula: C _{2 4} H ₂ ON ₄ O, molecular weight: 380.45.

【００７９】有機染料；ベンゾフェノン系染料；ユビ
ナールＤ−５０，化学式；Ｃ₁₃Ｈ₁₀Ｏ₅ ，分子量；２４
６．２２。Organic dyes; benzophenone dyes; Ubinard D-50, chemical formula; C ₁₃ H ₁₀ O ₅ , molecular weight; 24
6.22.

【００８０】Ｃ．ポリマーバインダ ４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメ
タアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓ
ｔ）からなる共重合体のカルボキシル基（ＭＡＡ）に対
して０．４当量（４０％に相当する）のグリシジルメタ
アクリレート（ＧＭＡ）を付加反応させたポリマー。ポ
リマーの酸価は９５であった。C. Polymer binder 40% methacrylic acid (MAA), 30% methyl methacrylate (MMA) and 30% styrene (S
A polymer obtained by adding 0.4 equivalents (corresponding to 40%) of glycidyl methacrylate (GMA) to the carboxyl group (MAA) of the copolymer comprising t). The acid value of the polymer was 95.

【００８１】Ｄ．モノマ トリメチロール・プロパン・トリアクリラート Ｅ．ガラスフリット ガラスフリット；（成分重量％）二酸化ケイ素（１．
５）、酸化アルミニウム（３．６）、酸化ホウ素（６
１．３），酸化バリウム（１９．１）、酸化カリウム
（９．８）酸化ナトリウム（４．７） Ｆ．溶媒 γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）。D. Monomer Trimethylol propane triacrylate E.I. Glass frit Glass frit; (% by weight of component) Silicon dioxide (1.
5), aluminum oxide (3.6), boron oxide (6)
1.3), barium oxide (19.1), potassium oxide (9.8) and sodium oxide (4.7) F.I. Solvent γ-butyrolactone (γ-BL).

【００８２】Ｇ．光重合開始剤 ２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルホリノプロパノン−１と２，４−ジエチルチオキ
サントンをポリマーとモノマーとの総和に対してそれぞ
れ２０％添加した。G. Photopolymerization initiator 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2
20% each of morpholinopropanone-1 and 2,4-diethylthioxanthone were added to the total amount of polymer and monomer.

【００８３】Ｈ．増感剤 ２、４−ジエチルチオキサントン（光重合開始剤と同じ
割合添加）。H. Sensitizer 2,4-diethylthioxanthone (added in the same proportion as the photopolymerization initiator).

【００８４】Ｊ．光重合促進剤 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル（ＥＰＡ）
（光重合開始剤の半分添加）。J. Photopolymerization accelerator p-Dimethylaminobenzoic acid ethyl ester (EPA)
(Half addition of photopolymerization initiator).

【００８５】Ｋ．可塑剤 ジブチルフタレート（ＤＢＰ） Ｌ．増粘剤 酢酸２−（２−ブトキシエトキシ）エチルに溶解させた
ＳｉＯ₂ 濃度１５％をポリマーに対して４％添加した。K. Plasticizer dibutyl phthalate (DBP) L.I. Thickener 4% SiO ₂ concentration 15% dissolved in 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate was added to the polymer.

【００８６】＜蛍光体ペーストの製造＞ Ａ．有機ビヒクルの作製 溶媒およびポリマーバインダを５０％溶液となるよう混
合し、攪拌しながら１２０℃まで加熱しすべてのポリマ
ーバインダを均質に溶解させた。ついで溶液を室温まで
冷却し、光重合開始剤、増感剤および光重合促進剤を加
えて溶解させた。その後この溶液を４００メッシュのフ
ィルターを用いて濾過した。<Production of Phosphor Paste> A. Preparation of Organic Vehicle A solvent and a polymer binder were mixed so as to form a 50% solution and heated to 120 ° C. with stirring to uniformly dissolve all the polymer binders. Then, the solution was cooled to room temperature, and a photopolymerization initiator, a sensitizer and a photopolymerization accelerator were added and dissolved. The solution was then filtered using a 400 mesh filter.

【００８７】Ｂ．吸光剤添加粉末の作製 有機染料を所定の量秤量し、イソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）に溶解させた溶液に分散剤を加えてホモジナ
イザで均質に攪拌した。次にこの溶液中に赤、緑あるい
は青色のそれぞれの蛍光体粉末を所定の量添加して均質
に分散・混合後、ロータリーエバポレータを用いて、１
５０〜２００℃の温度で乾燥し、ＩＰＡを蒸発させた。
こうして有機染料の膜で蛍光体粉末の表面を均質にコー
ティングした（いわゆるカプセル処理した）３種類の粉
末を作製した。粉末の吸光度の積分値について測定した
結果を表１にまとめて示した。B. Preparation of Light-Absorptive Additive Powder A predetermined amount of an organic dye was weighed, a dispersant was added to a solution of the organic dye dissolved in isopropyl alcohol (IPA), and the mixture was homogeneously stirred with a homogenizer. Next, a predetermined amount of red, green, or blue phosphor powder was added to this solution, and the mixture was uniformly dispersed / mixed, and then 1 using a rotary evaporator.
It was dried at a temperature of 50 to 200 ° C. and IPA was evaporated.
Thus, three types of powders were produced in which the surface of the phosphor powder was uniformly coated with the film of the organic dye (so-called capsule treatment). The results of measurement of the integrated value of the absorbance of the powder are summarized in Table 1.

【００８８】Ｃ．蛍光体ペースト調製 ペーストの作製は上記の有機ビヒクルに光反応性化合
物、吸光剤添加の粉末（有機染料でカプセル処理した蛍
光体）、増粘剤および可塑剤を所定の組成となるように
添加し、３本ローラで混合・分散して調製した。調製し
た組成を表１に示す。C. Preparation of phosphor paste To prepare the paste, add the photoreactive compound, light-absorbing agent-added powder (phosphor encapsulated with organic dye), thickener and plasticizer to the above-mentioned organic vehicle to a prescribed composition. It was prepared by mixing and dispersing with three rollers. The prepared composition is shown in Table 1.

【００８９】[0089]

【表１】 Ｄ．蛍光体層形成 直流（ＤＣ）型ＰＤＰにおける前面板上の蛍光体層を形
成する場合の実施例を説明する。図２の（ａ）に示すよ
うに、ガラスからなる前面板１上に厚膜印刷法により複
数の平行なストライプ状パターンの陽極電極２を線幅１
００μｍ、膜厚１５μｍ、ピッチ２５０μｍにて形成す
る。電極は銀ペーストを使用した。オーブンにて１６０
℃で１５分間乾燥させ、焼成炉にてピーク温度５８０℃
で１５分間焼成を行い前面板１に陽極電極２を形成し
た。次に、（ｂ）に示すように基板１上の蛍光体を形成
したい面に、上記の赤（Ｒ）の感光性蛍光体ペースト３
をスクリーン印刷法によって全面塗布し、乾燥させる。
その後、（ｃ）に示すように所定の蛍光体パターンを形
成したマスク４を介して紫外線５によりパターン露光し
た後、（ｄ）に示すように現像を行いパターンニングし
た蛍光体層６を形成する。ここで、蛍光体層は、ピッチ
２５０μｍ、ライン幅５０μｍのマトリックス上のセル
障壁によって囲まれる障壁空間内に赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の３種類について、各色が所定の配列
状態となるように形成する。露光は、ピッチ７５０μ
ｍ，１５０μｍ角のＲ用ドットパターンマスクを介して
行った。続いて、緑および青の蛍光体についても同様の
工程を繰り返すことにより（ｅ）に示すように所定の位
置にそれぞれ各色の蛍光体層を形成した。最後に焼成を
行って図２の（ｆ）に示すように前面板上に蛍光体７を
形成した。なお、露光・現像・焼成条件の詳細について
下記で説明する。[Table 1] D. Formation of Phosphor Layer An example of forming a phosphor layer on the front plate of a direct current (DC) PDP will be described. As shown in FIG. 2A, a plurality of parallel stripe-shaped anode electrodes 2 having a line width of 1 are formed on a front plate 1 made of glass by a thick film printing method.
It is formed with a thickness of 00 μm, a film thickness of 15 μm, and a pitch of 250 μm. The electrode used silver paste. 160 in the oven
Dry for 15 minutes at ℃, peak temperature 580 ℃ in the baking furnace
By firing for 15 minutes, the anode electrode 2 was formed on the front plate 1. Next, as shown in (b), the red (R) photosensitive phosphor paste 3 is formed on the surface of the substrate 1 on which the phosphor is to be formed.
Is applied over the entire surface by a screen printing method and dried.
Then, as shown in (c), pattern exposure is performed with ultraviolet rays 5 through a mask 4 on which a predetermined phosphor pattern is formed, and then development is performed as shown in (d) to form a patterned phosphor layer 6. . Here, the phosphor layer has a predetermined color for each of three types of red (R), green (G), and blue (B) in a barrier space surrounded by cell barriers on a matrix having a pitch of 250 μm and a line width of 50 μm. It is formed so as to be in an array state. Exposure pitch is 750μ
m, 150 μm square through a R dot pattern mask. Subsequently, the same steps were repeated for the green and blue phosphors to form phosphor layers of respective colors at predetermined positions as shown in (e). Finally, baking was performed to form a phosphor 7 on the front plate as shown in FIG. The details of the exposure, development and baking conditions will be described below.

【００９０】３原色の蛍光体層形成のために上記の前面
ガラス基板上に、３２５メッシュのスクリ−ンを用いて
感光性蛍光体ペ−ストをそれぞれ分けて印刷を行った。
塗布膜にピンホ−ルなどの発生を回避するために印刷・
乾燥を数回繰り返し行い、膜厚みの調整を行った。途中
の乾燥は、８０℃で１０分間行った。最後に、８０℃で
４０分間保持して乾燥し、厚み３５μｍの蛍光体膜を作
製した。In order to form a phosphor layer of three primary colors, a photosensitive phosphor paste was separately printed on the front glass substrate using a 325-mesh screen.
Printing to avoid the occurrence of pinholes on the coating film
The drying was repeated several times to adjust the film thickness. Drying on the way was performed at 80 ° C. for 10 minutes. Finally, it was kept at 80 ° C. for 40 minutes and dried to form a phosphor film having a thickness of 35 μm.

【００９１】Ｆ．露光・現像 蛍光体層の形成は、赤、青、緑のそれぞれの色について
露光・現像を分けて行った。前面ガラス板上に全面印刷
した赤の蛍光体層に、クロムマスクを介して上面から２
０００ｍＪ／ｃｍ² 出力の超高圧水銀灯で紫外線露光し
た。次に、２５℃に保持したモノエタノ−ルアミンの
０．５重量％の水溶液に浸漬して現像し、その後シャワ
ースプレ−を用いて光硬化していないスペース部分を水
洗浄し、除去して赤の蛍光体パターンを形成した。さら
に、緑、青色についても、印刷・乾燥の工程を繰り返し
て蛍光体パターンを形成した。現像は、それぞれの色に
ついて一回で行った。F. Exposure / Development The phosphor layer was formed by separately exposing and developing each color of red, blue and green. From the top surface through a chrome mask on the red phosphor layer printed all over the front glass plate.
Ultraviolet exposure was carried out with an ultrahigh pressure mercury lamp with an output of 000 mJ / cm ² . Next, it is immersed in a 0.5% by weight aqueous solution of monoethanolamine held at 25 ° C. for development, and then the non-photocured space portion is washed with water using a shower spray to remove the red portion. A phosphor pattern was formed. Further, for green and blue, the steps of printing and drying were repeated to form a phosphor pattern. Development was done once for each color.

【００９２】Ｈ．焼き付け 上記Ｆで得られた赤、緑および青色の蛍光体層を形成し
たガラス基板を空気中で４５０℃で２０分焼成を行い、
焼き付けた。H. Baking The glass substrate on which the red, green, and blue phosphor layers obtained in the above F were formed is baked in air at 450 ° C. for 20 minutes,
Baked.

【００９３】Ｊ．パネル組み立て評価 上記Ｈで蛍光体層を形成した前面板と、別途陰極とセル
障壁を形成した背面板とを組み合わせることによって、
赤、緑、青の３原色が視認されるマトリックス上のカラ
ーＰＤＰを作製した。ＰＤＰを点灯し、スポット輝度計
で、５カ所の点輝度の平均輝度およびバラツキを測定し
た。J. Panel Assembly Evaluation By combining the front plate having the phosphor layer formed with the above H with the rear plate having the cathode and the cell barrier separately formed,
A color PDP on a matrix in which the three primary colors of red, green and blue are visually recognized was manufactured. The PDP was turned on, and the average luminance and variation of the spot luminances at 5 locations were measured with a spot luminance meter.

【００９４】なお、交流（ＡＣ）型のストライプ上の障
壁を持つ構造のＰＤＰについても同様の工程で形成でき
る。また、背面板上やセル障壁の壁面に蛍光体層を設け
る場合についても感光性蛍光体ペースト用いてフォトリ
ソ法で適用できるものである。A PDP having a structure having a barrier on an alternating current (AC) type stripe can be formed by the same process. Further, the case where the phosphor layer is provided on the back plate or on the wall surface of the cell barrier can also be applied by the photolithography method using the photosensitive phosphor paste.

【００９５】表には示さなかったが、本発明の蛍光体ペ
ーストを用いて作製した赤、緑および青の蛍光体層は、
パターンの乱れも殆どなく、線幅の精度は±２μｍ、断
面は矩形形状、高さ精度±５μｍが得られ、且つ全パネ
ルに渡って均一に形成されていた。Although not shown in the table, the red, green and blue phosphor layers produced by using the phosphor paste of the present invention are as follows.
Almost no pattern disorder was observed, the line width accuracy was ± 2 μm, the cross section was rectangular, and the height accuracy was ± 5 μm, and it was formed uniformly over the entire panel.

【００９６】比較例１ 上記の蛍光体粉末のうち、およびの蛍光体粉末を
用いて粉末組成７９．７％，アクリレ−ト樹脂６．５
％，低融点ガラスフリット２．５％、γ−ブチロラクト
ン９．８およびジブチルフタレ−ト１．５％を３本ロ−
ラで混合・分散し、非感光性の蛍光体ペーストを作製し
た。Comparative Example 1 Of the above phosphor powders, the phosphor powders of and were used, and the powder composition was 79.7% and the acrylate resin 6.5.
%, Low melting glass frit 2.5%, γ-butyrolactone 9.8 and dibutyl phthalate 1.5% 3 rolls
A non-photosensitive phosphor paste was prepared by mixing and dispersing with a la.

【００９７】次に、スクリーン印刷法で３２５メッシュ
スクリーンを用いて上記Ｄの蛍光体層形成の項で述べた
前面板１上に陽極電極２を形成した面に蛍光体層を形成
する。形成方法は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青色
（Ｂ）の蛍光体ペーストを順次印刷し、乾燥を繰り返し
て所定の厚みの膜にした後、、焼成してＲ，ＧおよびＢ
の蛍光体層を形成した。次に、別途陰極とセル障壁を形
成した背面板を組み合わせてカラーＰＤＰを作製した。
ＰＤＰを点灯して点輝度を測定したが、輝度が低くバラ
ツキも大きかった。ＰＤＰパネルとしての性能を満足で
きなかった。Ｒ，ＧおよびＢのそれぞれの蛍光体層の断
面を観察したが、線幅が不均一で、パターン精度が非常
に悪かった。Next, a phosphor layer is formed on the surface on which the anode electrode 2 is formed on the front plate 1 described in the above section D of forming the phosphor layer by a screen printing method using a 325 mesh screen. The formation method is as follows. Red (R), green (G), and blue (B) phosphor pastes are sequentially printed, and drying is repeated to form a film having a predetermined thickness, followed by firing to obtain R, G, and B.
Was formed. Next, a color PDP was manufactured by separately combining a cathode and a back plate on which a cell barrier was formed.
The PDP was turned on and the point luminance was measured, but the luminance was low and the variation was large. The performance as a PDP panel was not satisfied. When the cross sections of the R, G and B phosphor layers were observed, the line width was non-uniform and the pattern accuracy was very poor.

【００９８】[0098]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の蛍光体層は、感光
性蛍光体ペーストを使用してフォトリソ法により所定の
場所に蛍光体層が形成できるのでに正確にパターンニン
グされしかも均一形成できるので輝度効率の高い長寿命
のプラズマ・ディスプレイ・パネルが得られる。この発
明のにより形成したプラズマ・ディスプレイ・パネルは
高精細、高表示品位、高密度表示が可能となり、また４
０インチ以上の大型ＰＤＰの達成を容易にすることがで
きる。As described above, the phosphor layer of the plasma display panel (PDP) of the present invention can be formed at a predetermined place by the photolithography method using the photosensitive phosphor paste. Therefore, it is possible to obtain a long-life plasma display panel with high luminance efficiency because it is accurately patterned and can be formed uniformly. The plasma display panel formed by the present invention enables high definition, high display quality and high density display.
It is possible to easily achieve a large PDP of 0 inch or more.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】測定波長と吸光度の関係を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the relationship between measurement wavelength and absorbance.

【図２】プラズマ・ディスプレイ・パネルの製造工程の
一例を示すものである。FIG. 2 shows an example of a manufacturing process of a plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 前面版 ２ 陽極電極 ３ 蛍光体ペースト ４ ネガマスク ５ 紫外線 ６ 蛍光体層 ７ 蛍光体 1 Front plate 2 Anode electrode 3 Phosphor paste 4 Negative mask 5 UV rays 6 Phosphor layer 7 Phosphor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 133/02 ＰＧＡ Ｃ０９Ｄ 133/02 ＰＧＡ Ｇ０９Ｆ 9/313 7426−5Ｈ Ｇ０９Ｆ 9/313 Ｚ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification number Office reference number FI Technical display location C09D 133/02 PGA C09D 133/02 PGA G09F 9/313 7426-5H G09F 9/313 Z H01J 11 / 02 H01J 11/02 Z

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】蛍光体粉末、感光性樹脂組成物および紫外
線吸光剤を含有することを特徴とするプラズマ・ディス
プレイ・パネル用感光性蛍光体ペ−スト。1. A photosensitive phosphor paste for a plasma display panel, which comprises a phosphor powder, a photosensitive resin composition and an ultraviolet absorber. 【請求項２】蛍光体粉末のうち、５０重量％が１〜１５
μｍ、比表面積０．１〜２．０ｍ² ／ｇサイズを有して
いることを特徴とする請求項１記載の感光性蛍光体ペ−
スト。2. 50% by weight of the phosphor powder is 1 to 15
^2. The photosensitive phosphor sheet according to claim 1, having a size of .mu.m and a specific surface area of 0.1 to 2.0 m.sup.2 / g.
Strike. 【請求項３】感光性樹脂組成物が、側鎖または分子末端
にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリ
ル系共重合体を含有することを特徴とする請求項１記載
のプラズマ・ディスプレイ・パネル用感光性蛍光体ペ−
スト。3. The plasma display according to claim 1, wherein the photosensitive resin composition contains an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group at a side chain or a molecular end. Photosensitive phosphor panel for panel
Strike. 【請求項４】紫外線吸光剤が有機染料であることを特徴
とする請求項１記載のプラズマ・ディスプレイ・パネル
用感光性蛍光体ペースト。4. The photosensitive phosphor paste for a plasma display panel according to claim 1, wherein the ultraviolet light absorber is an organic dye. 【請求項５】紫外線吸光剤の３５０〜４５０ｎｍにおけ
る吸光度の積分値が３０〜１００であることを特徴とす
る請求項１記載のプラズマ・ディスプレイ・パネ用感光
性蛍光体ペースト。5. The photosensitive phosphor paste for plasma display panel according to claim 1, wherein the integrated value of the absorbance of the ultraviolet light absorber at 350 to 450 nm is 30 to 100.