JPH10207064A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】アルコール性水酸基を含有する光重合開始
剤で反応せしめたポリアミド酸と光重合可能なＣ−Ｃ不
飽和化合物とから成る感光性樹脂組成物や、さらにアル
コール性水酸基含有化合物やアルコール性水酸基かつ不
飽和基を含有した化合物と反応させたポリアミド酸から
構成され、さらに光重合開始剤を混合した感光性樹脂組
成物である。また上記感光性樹脂組成物は含チッソ系有
機溶剤とグリコールエーテル系有機溶剤で希釈せしめて
なる感光性樹脂組成物である。 【効果】微細な金属加工を必要とするプリント配線板、
フレキシブル配線板や精密金属加工製品の金属部分を
熱、薬品、溶剤等から導体回路や金属表面の防錆効果や
さらに配線板の層間絶縁膜として利用できる。またフォ
ト法による保護皮膜の形成ができアルカリ現像の可能な
耐熱性の感光性樹脂組成物である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性および耐
熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性、可とう性、電
気特性等に優れた、特にプリント配線基板、可とう性回
路基板などの製造に適したアルカリ水溶液で現像可能な
液状レジストインキ組成物、カバーコート剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント配線板は、スクリーン印
刷法でエッチングレジストあるいは、メッキレジストパ
ターンを形成したレジストパターン形成後、金属箔のエ
ッチング、あるいはめっきを施し、所望の導体回路パタ
ーンを形成していた。この導体回路パターンの酸化防止
や絶縁性を維持する目的から熱硬化性の樹脂組成物、あ
るいは光硬化性の樹脂組成物を導体回路形成時と同様
に、スクリーン印刷法を用いて目的とする形状の皮膜を
形成していた。最近では、パターン密度を高めるために
導体回路の微細化が進んでいる。このことから導体回路
形成時のエッチング、あるいはめっきレジストもフォト
法を用いて形成することが広く用いられている。

【０００３】フォト法で形成したエッチングあるいは、
めっきレジストパターンは、スクリーン印刷法に比べて
位置精度や寸法精度が一段と高まっている。導体回路パ
ターンの微細化と位置精度の向上と、更に実装部品の小
型化、ＩＣパッケージのリードのファインピッチ化に依
って、ソルダーレジスト皮膜等の絶縁皮膜形成も画像精
度や位置精度の向上を必要とされていた。従って、近年
では、精度良く皮膜形成ができる方法として前記のフォ
ト法を用いて、ソルダーレジスト皮膜や絶縁皮膜を形成
する方法が広く使用されるようになった。

【０００４】上記フォト法では、所望の大きさに感光性
樹脂組成物を塗布した後、必要に応じて乾燥して、感光
性皮膜を形成する。この感光性皮膜にネガのフォトマス
クを乗せて、紫外線等の活性光線で露光焼き付けを行
う。フォトマスクの透明部分を透過した活性光線が感光
性皮膜を硬化させる。未硬化部分は、現像で剥離して、
感光性皮膜を除去する。上記フォト法で形成した感光性
皮膜は更に、熱硬化や活性光線で硬化して、ソルダーレ
ジスト皮膜や絶縁皮膜に成るが、形成された画像は、フ
ォトマスクに極めて近い精度で形成できるため、微細な
画像や位置精度を容易に得ることができる。

【０００５】しかしながら、この方法は、後に現像工程
を必要とする。現像では、未露光部の未硬化部分を有機
溶剤で溶解剥離することで除去していた。溶剤は、１，
１，１−トリクロロエタン等の毒性の強い溶剤あるいは
可燃性の溶剤が一般的に使用されていて、作業安全性等
の面からアルカリ水溶液を現像液としたフォトソルダー
レジストが望まれていた。そこで、アルカリ水溶液現像
型のフォトソルダーレジストの研究が近年盛んとなり、
幾つかの組成物については開示されている。例えば、特
公昭５６−４０３２９公報には、エポキシ樹脂に不飽和
モノカルボン酸を付加させ更に多塩基酸無水物を付加さ
せて成る反応生成物をベースポリマーとする感光性樹脂
組成物が開示されている。あるいは、特開昭６１ー２４
３８６９公報には、それぞれノボラック型エポキシアク
リレート等に多塩基酸無水物を付加させた反応生成物を
ベースポリマーとし、アルカリ水溶液を現像液とするフ
ォトソルダーレジスト組成物が開示されている。しかし
ながら、上記の組成物で得られるソルダーレジスト皮膜
は耐熱性、耐溶剤性や耐薬品性において不十分であり、
絶縁性、誘電率に関する特性も十分とはいえない。ま
た、可とう性に乏しいために、可とう性回路基板には適
用できない。

【０００６】また、ポリイミド前駆体であるポリアミド
酸を加熱処理することによって得られるポリイミドが、
その優れた耐熱性、誘電特性から、ＩＣの保護膜、層間
絶縁膜として使用されており、さらに、露光、現像によ
り直接パターンが形成できる感光性ポリイミド前駆体が
提案されている。（特開昭６０−２２８５３７公報、特
公昭５９−５２８２２号公報）しかしながら、これらの
感光性ポリイミドは、現像に有機溶剤が使用されてお
り、作業安全性の観点等から、アルカリ水溶液で現像で
きる感光性ポリイミドが望まれている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記課
題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、分子鎖にア
ルコール性水酸基を含有する光重合開始剤を反応せしめ
たポリアミド酸と光重合可能なＣ−Ｃ不飽和２重結合を
有する化合物からなる感光性樹脂組成物を用いることに
より水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液等
のアルカリ水溶液で現像することができるとともに、露
光による画像の焼き付け時に十分に硬化した皮膜を得る
ことができ、現像後の熱処理によるイミド化後の皮膜特
性として、優れた耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、可とう
性、電気絶縁性、誘電特性を発現する感光性樹脂組成物
やフォトソルダーレジスト、可とう性回路基板のカバー
コート剤に適した感光性組成物を提供することである。
これらの感光性皮膜により耐熱、耐酸化性、電気絶縁特
性に優れた金属加工製品を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、 （１）（Ａ）ポリマーの分子末端が一般式（１）（化
４）で表される光重合開始剤（以下、Ｐ１という）で封
止され、かつ、一般式（２）（化５）で表されるポリア
ミド酸（以下、ＰＡ１という）、および（Ｂ）光重合可
能なＣ−Ｃ不飽和２重結合を有する化合物。とから成る
感光性樹脂組成物、

【０００９】

【化４】 （但し、Ｒ₁、Ｒ₂はＨ、炭素数１〜４のアルキル基、フ
ェニル基、またはアリル基、ｋは１〜４の整数、ｌは０
または１〜４の整数を表わす。）

【００１０】

【化５】 （式中、Ｘ、Ｚはそれぞれ炭素数が２〜２２であり、芳
香族基、脂肪族基または脂環式化合物基を、ｎは重合度
を表わし、Ｙは前記に同じ） （２）ポリアミド酸が、上記の式（２）で表されるポリ
アミド酸に、炭素数１〜４の低級アルコール、グリコー
ル、セロソルブ及び炭素数２〜１０の多価アルコールか
ら選ばれた少なくとも１種を反応せしめて得られるポリ
アミド酸（以下、ＰＡ２という）であることを特徴とす
る上記（１）記載の感光性樹脂組成物、 （３）ポリアミド酸が、上記の式（２）で表されるポリ
アミド酸に、炭素１〜４の低級アルコール、グリセリ
ン、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール及びトリメチロールプロパンよ
り選ばれた少なくとも１種とアクリル酸とのアクリル酸
エステルを反応せしめて得られるポリアミド酸（以下、
ＰＡ３という）であることを特徴とする上記（１）記載
の感光性樹脂組成物、 （４）ポリアミド酸が、上記のＰＡ１、ＰＡ２、または
ＰＡ３のポリアミド酸に、式（３）（化６）で表される
ポリアミド酸を混合せしめたものであることを特徴とす
る上記（１）記載の感光性樹脂組成物、

【００１１】

【化６】 （式中、Ｘ、Ｚ、ｎは前記に同じ） （５）上記の式（１）で表される光重合開始剤（以下、
Ｐ１という）以外の光重合開始剤（以下、Ｐ２という）
を混合せしめた上記（１）〜（４）記載の感光性樹脂組
成物、 （６）有機フィラーあるいは無機フィラーあるいは顔料
を配合せしめたことを特徴とする上記（１）〜（５）記
載の感光性樹脂組成物、 （７）上記（１）〜（６）の感光性樹脂組成物を、含チ
ッソ系有機溶剤１００部に対し、１０〜１０００部のグ
リコールエーテル系有機溶剤よりなる溶剤で希釈せしめ
たことを特徴とす感光性樹脂組成物溶液、及び （８）上記（１）〜（７）に記載の感光性樹脂組成物ま
たはその溶液を金属、プラスチック、セラミックなどに
塗布乾燥して形成した感光性皮膜を有する加工品であ
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明で使用する分子鎖にアルコ
ール性水酸基を含有する式（１）で表わされる光重合開
始剤（以下Ｐ１と略す）として次の化合物が代表的に挙
げられる。例えばベンゾイン、ベンゾインとエチレンオ
キサイドの等モル付加物や、２倍モル付加物、３倍モル
付加物、４倍モル付加物、ベンゾインとプロピレンオキ
サイドの等モル付加物や２倍モル付加物３倍モル付加
物、、４倍モル付加物、αアリルベンゾイン、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトンとエチレンオキサイドの
等モル付加物、２倍モル付加物、３倍モル付加物、４倍
モル付加物、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トンとプロピレンオキサイドの等モル付加物、２倍モル
付加物、３倍モル付加物、４倍モル付加物、ベンゾイル
安息香酸とエチレングリコール等モル反応物、ベンゾイ
ル安息香酸とプロピレングリコール等モル反応物、ヒド
ロキシベンゾフェノンとエチレンオキサイドの等モル付
加物、２倍モル付加物、３倍モル付加物、４倍モル付加
物、ヒドロキシベンゾフェノンとプロピレンオキサイド
の等モル付加物、２倍モル付加物、３倍モル付加物、４
倍モル付加物、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、４−
（２−アクロオキシエトキシ）−フェニル−（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）ケトン、４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ケトンとエチレンオキサイドの等モル付加物、２倍
モル付加物、３倍モル付加物、４倍モル付加物、４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキ
シ−２−プロピル）ケトンとプロピレンオキサイドの等
モル付加物、２倍モル付加物、３倍モル付加物、４倍モ
ル付加物、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−（４−デシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２
−メチルプロパン−１−オン等が挙げられる。これらは
１種または２種以上混合して使用する。本発明で使用す
るテトラカルボン酸２無水物（以下ＴＣＡと略す）は、
一般式（４）〔化７〕

【００１３】

【化７】 （式中、Ｚは前記に同じ）で示される。

【００１４】本発明では、テトラカルボン酸２無水物
（ＴＣＡ）として、例えば、脂肪族系または脂環式系の
ものを使用することができ、その具体的な例として、ブ
タンテトラカルボン酸２無水物、ペンタンテトラカルボ
ン酸２無水物、ヘキサンテトラカルボン酸２無水物、シ
クロブタンテトラカルボン酸２無水物、シクロペンタン
テトラカルボン酸２無水物、ビシクロヘキセンテトラカ
ルボン酸２無水物、シクロプロパンテトラカルボン酸２
無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸２無水物、メ
チルシクロヘキセンテトラカルボン酸２無水物などが挙
げられる。また、耐熱性の良い芳香族系の具体的な例と
しては、３，３' ，４，４’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸２無水物、ピロメリット酸２無水物、２，３，
６，７−ナフタレンテトラカルボン酸２無水物、３，
３’，４，４’−ジフェニルテトラカルボン酸２無水
物、２，２’，３，３’−ジフェニルテトラカルボン酸
２無水物、２，３，３’，４−ジフェニルテトラカルボ
ン酸２無水物、３，３’，４，４’−ｐ−テルフェニル
テトラカルボン酸２無水物、１，２，５，６−ナフタレ
ンテトラカルボン酸２無水物、２，２−ビス（３，４−
ジカルボキシジフェニル）エーテル２無水物、１，２，
４，５−ナフタレンテトラカルボン酸２無水物、１，
４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸２無水物、
２，６−ジクロロナフタレン−１，４，５，８−テトラ
カルボン酸２無水物、フェナンスレン−１，２，９，１
０−テトラカルボン酸２無水物、ピロリジン−２，３，
４，５−テトラカルボン酸２無水物、ピラジン−２，
３，５，６−テトラカルボン酸２無水物、２，２−ビス
（２，５−ジカルボキシフェニル）プロパン２無水物、
１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン
２無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）エタン２無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェ
ニル）メタン２無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェニル）スルホン２無水物、ベンゼン−１，２，３，４
−ブタンテトラカルボン酸２無水物、チオフェン−２，
３，４，５−テトラカルボン酸２無水物などである。こ
れらは１種又は２種以上混合して使用する。

【００１５】上記、芳香族テトラカルボン酸２無水物の
他に、各種特性を付与するために、シリコーン系テトラ
カルボン酸２無水物や脂肪族系テトラカルボン酸２無水
物も併用することができる。本発明で使用するジアミン
（以下ＤＡと略す）は、一般式（５）〔化８〕

【００１６】

【化８】Ｈ₂Ｎ−Ｙ−ＮＨ₂ （５） （式中Ｒ₂は炭素数２〜２２の有機基を表わす）で示さ
れる。ジアミンの具体的な例としては、芳香族ジアミン
として、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４、
４’−ジアミノジフェニルスルホン、４、４’−ジアミ
ノジフェニルサルファイド、４，４’−ジ（メタアミノ
フェノキシ）ジフェニルスルホン、４，４’−ジ（パラ
アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン、オルトフェニ
レンジアミン、メタフェニレンジアミン、パラフェニレ
ンジアミン、ベンジジン、３、３’−ジアミノベンゾフ
ェノン、４、４’−ジアミノジフェニル−２，２−プロ
パン、１，５−ジアミノナフタレン、１，８−ジアミノ
ナフタレン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）
ビフェニル、２，２−ビス｛４−（パラアミノフェノキ
シ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフロロプロパン、
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，
３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−
ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ジ
アミノ−３，３‘−ジエチル−５，５’−ジメチルジフ
ェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’，５，
５’−テトラメチルジフェニルメタン、１，４−ジアミ
ノトルエン、メタキシレンジアミン、２，２’−ジメチ
ルベンジジンなど、脂肪族ジアミンとしては、トリメチ
レンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミンなど、シリコン系ジアミンとしては、ビス
（パラアミノフェノキシ）ジメチルシラン、１，４−ビ
ス（３−アミノプロピルジメチルシリル）ベンゼン、ビ
ス（３ーアミノプロピル）テトラメチルジシロキサンな
ど、脂環式ジアミンとしては、１，４−ジアミノシクロ
ヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、
イソフォロンジアミンなど、グアナミン類としては、ア
セトグアナミン、ベンゾグアナミンなどを挙げることが
できる。本発明では、これらのジアミンの１種または２
種以上混合して使用する。

【００１７】本発明で使用する前記した光重合開始剤
（Ｐ１）を反応せしめたポリアミド酸（以下ＰＡ１と略
す）を得る際は例えば次の方法で得ることができる。前
記した光重合開始剤（Ｐ１：モル数Ｐ１）と前記したテ
トラカルボン酸２無水物（ＴＣＡ：モル数ＴＣＡ）の反
応モル比Ｐ１／ＴＣＡは、例えば水酸基を１個含有する
光重合開始剤では４．０〜０．０５好ましくは３．０〜
０．１の範囲である。反応のモル比が３．０を超えると
同じ反応器内で前記したテトラカルボン酸（ＴＣＡ）と
前記したジアミン（ＤＡ）とからポリアミド酸（後記す
るＰＡ４）を合成する際の反応のモル比（ＴＣＡ／Ｄ
Ａ）が崩れて好ましくない。反応のモル比が０．０５以
下では前記した光重合開始剤の効果が発揮しない。

【００１８】合成する際は前記光重合開始剤（Ｐ１）と
前記テトラカルボン酸２無水物（ＴＣＡ）と有機溶剤を
反応器内に仕込、室温〜１００℃の温度で反応させるこ
とができる。（中間生成物をＰ１−ＴＣＡとする。） ついで上記Ｐ１−ＴＣＡからポリアミド酸（ＰＡ１）を
合成する際は、前記テトラカルボン酸二無水物（ＴＣ
Ａ）と前記ジアミンとの反応のモル比が１．０未満にな
る様に、中間生成物（Ｐ１−ＴＣＡ）を含む反応器に仕
込み室温〜１００℃で反応させる等の合成方法により前
記ポリアミド酸（ＰＡ１）を得ることができる。また予
め後記するポリアミド酸（ＰＡ４）を合成しこの際の過
剰のジアミン（ＤＡ）やテトラカルボン酸２無水物（Ｔ
ＣＡ）などを利用して前記テトラカルボン酸２無水物
（ＴＣＡ）と前記光重合開始剤（Ｐ１）から前記ポリア
ミド酸（ＰＡ１）を得る方法もある。

【００１９】本発明で使用するポリアミド酸（ＰＡ２）
を得るために、ポリアミド酸（ＰＡ１）に反応させるた
めのアルコール、グリコール、セロソルブ、多価アルコ
ールとしては（以下まとめてＡＣと略す）はごく代表的
には以下に挙げられる。メチルアルコール、エチルアル
コール、ｎ−プロピルアルコール、ｔｅｒｔブチルアル
コール、ｓｅｃブチルアルコール、イソプロピルアルル
等の１価アルコールやエチレングリコール、プロピレン
グリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール等の多価アルコール、更にメチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類等
が挙げられるがこれらは１種または２種以上混合して使
用する。

【００２０】本発明で使用する前記ポリアミド酸（ＰＡ
２）を得る際は、例えば次の方法で得ることができる。
前記光重合開始剤（Ｐ１：モル数Ｐ１）と前記化合物
（ＡＣ：モル数ＡＣ）の総モル数に対するＰ１のモル％
（１００×Ｐ１／(Ｐ１＋ＡＣ)）の範囲は５モル％〜９
９モル好ましくは１０モル％〜９５モル％である。また
反応のモル比すなわちテトラカルボン酸２無水物（ＴＣ
Ａ）に対する光重合開始剤（Ｐ１）と前記化合物（Ａ
Ｃ）の総モル数（(Ｐ１＋ＡＣ)／ＴＣＡ）は、例えば水
酸基１個含有する光重合開始剤と水酸基１個含有する前
記化合物（ＡＣ）では４．０〜０．０５好ましくは３．
０〜０．１の範囲である。合成する際は前記光重合開始
剤（Ｐ１）と前記化合物（ＡＣ）と前記テトラカルボン
酸２無水物（ＴＣＡ）更に有機溶剤を反応器に仕込室温
〜１００℃の温度で反応させることができる。 （中間
生成物をＰ１−ＡＣ−ＴＣＡとする） ついで上記Ｐ１−ＡＣ−ＴＣＡから上記ポリアミド酸
（ＰＡ２）を合成する際は、前記テトラカルボン酸と前
記ジアミンとの反応のモル比が１．０未満となる様に中
間生成物（Ｐ１−ＡＣ−ＴＣＡ） の入った反応器に仕
込、室温〜１００℃で反応させる等の合成法により前記
ポリアミド酸（ＰＡ２）を得ることができる。

【００２１】本発明で使用するポリアミド酸（ＰＡ３）
を得るためにポリアミド酸（ＰＡ１）に反応させるため
のアクリル酸エステル（以下まとめてＡＭ２と略す）と
しては炭素１〜４の低級アルコール、グリセリン、ポリ
エチレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタ
エリスリトール及びトリメチロールプロパンより選ばれ
た少なくとも１種とアクリル酸とのアクリル酸エステル
であり、ごく代表的には以下に挙げられる。具体的には
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
ブチル（メタ）アクリレートで表わされるＣ₂〜Ｃ₄まで
の低級グリコールと（メタ）アクリル酸の等モル縮合
物、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、グリセロ
ールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ン、モノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ンジ（メタ）アクリレートで表わされるトリオールとメ
タ（アクリル酸）のモノエステル、ジエステル、ポリエ
チレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールモノ（メタ）アクリレートで表わされ
るモノエステル、ペンタエリスリトールモノ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート
やジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げ
られる。これらは１種又は２種以上混合して使用する。

【００２２】本発明で使用する前記ポリアミド酸（ＰＡ
３）を得る際は例えば、次の方法で得ることができる。
前記した光重合開始剤（Ｐ１：モル数Ｐ１モル）と前記
化合物（ＡＭ２：モル数ＡＭ２）の総モル数に対するＰ
１のモル数（１００×Ｐ１／( Ｐ１＋ＡＣ２)）の範囲
は５モル％〜９９モル％好ましくは１０モル％〜９５モ
ル％である。また反応のモル比すなわちテトラカルボン
酸（ＴＣＡ）に対する光重合開始剤（Ｐ１）と前記化合
物（ＡＭ２）総モル数（( Ｐ１＋ＡＭ２) ／ＴＣＡ）
は、例えば水酸基１個含有した光重合開始剤と水酸基１
個含有した前記化合物（ＡＭ２）では４．０〜０．０５
好ましくは３．０〜０．１の範囲である。合成する際は
前記光重合開始剤（Ｐ１）と前記化合物（ＡＭ２）と前
記テトラカルボン酸２無水物（ＴＣＡ）さらに有機溶剤
を反応器内に仕込、室温〜１００℃の温度で反応させる
ことができる。（中間生成物Ｐ１−ＡＭ２−ＴＣＡとす
る。） 次いで上記Ｐ１−ＡＭ２−ＴＣＡから前記ポリアミド酸
（ＰＡ３）を合成する際は前記テトラカルボン酸２無水
物（ＴＣＡ）と前記ジアミン（ＤＡ）との反応のモル比
が１．０未満となる様に、中間生成物（Ｐ１−ＡＭ２−
ＴＣＡ）の入った反応器に仕込、室温〜１００℃で反応
させる等の合成法により前記ポリアミド酸（ＰＡ３）を
得ることができる。本発明で使用する前記ポリアミド酸
（ＰＡ４）は式（３）で表わされるポリアミド酸と前記
したポリアミド酸（ＰＡ１，ＰＡ２，ＰＡ３）に混合し
たものである。

【００２３】本発明で使用する光重合可能なＣ−Ｃ不飽
和２重結合を有する化合物（以下ＡＭ１と略す）は公知
のアクリレート化合物やメタクリレート化合物等であ
る。上記アクリレート化合物は以下に分類できる。 （イ）構造分類（原料、生成物などから分類） アルキルアクリレート類、アルキルアミノアクリレート
類、ヒドロキシルアルキルアクリレート類、オリゴエス
テルアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、オ
リゴエーテルアクリレート類、ポリエーテルアクリレー
ト類、エポキシアクリレート類、等 （ロ）官能基数分類（官能基アクリロイル基の数から分
類） １官能アクリレート類、２官能アクリレート類、３官能
アクリレート類から多官能アクリレート類、 （ハ）アミノ基分類（アミノ基の有無による分類） アミノ系アクリレート類、非アミノ系アクリレート類 具体的には、アルキルアクリレート類としてエチルアク
リレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート等。アルキルアミノアクリレート類としてジ
メチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノメチルアクリレート、
ジエチルアミノメチルアクリレート、ジアクリレートト
ジエチルアミンの付加物、トリアクリレートとジエチル
アミンの付加物等。ヒドロキシアルキルアクリレート類
としてヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート等。
オリゴエステルアクリレート類としてＫＡＹＡＲＡＤ
ＭＡＮＤＡ，ＫＡＹＡＲＡＤＲ５２６，等。ポリエチレ
ングリコールアジペート・２モルアクリル酸の縮合物、
ポリジエチレングリコールアジペート・２モルアクリル
酸の縮合物、ポリエステルアクリレート類としてポリ
１，４ブタンジオールアジペート・２モルアクリル酸の
縮合物、ポリネオペンチルグリコールアジペート・２モ
ルアクリル酸の縮合物等。オリゴエーテルアクリレート
類としてジエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート類。ポリエーテルアクリレート類としてポリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジアクリレート、ポリテトラメチレンエーテルグ
リコールジアクリレート等。エポキシアクリレート類と
してビスフェノールＦジグリシジルエーテル・２モルア
クリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル・２モルアクリル酸付加物、ビスフェノールＳジグリ
シジルエーテル・２モルアクリル酸付加物、ノボラック
エポキシとアクリル酸付加物、クレゾールノボラックエ
ポキシとアクリル酸付加物等。

【００２４】１官能アクリレート類としてフェノキシエ
チルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレー
ト、フェノキシプロピルアクリレート、ノニルフェノキ
シプロピルアクリレート等。２官能アクリレート類とし
てジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチル
グリコールジアクリレートブチルグリコールジアクリレ
ート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート等。３
官能アクリレート類としてトリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、グリセリントリアクリレート等。多官能アクリレー
ト類としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＣＰＡ３０、ノボラックエポキ
シとアクリル酸の付加物、クレゾールノボラックエポキ
シとアクリル酸の付加物 等。アミノ系アクリレート類
としてジメチルアミノエチルアクリレートジエチルアミ
ノエチルアクリレート、ジメチルアミノメチルアクリレ
ート、ジエチルアミノメチルアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート・モノエタノールアミン
の１モルから２モル付加物、エチレングリコールジアク
リレートとアルキルアミン（Ｃ₁からＣ₆のアミン）の等
モル付加物、トリメチロールプロパントリアクリレート
とアルキルアミン（Ｃ₁からＣ₆のアミン）の１モルから
２モル付加物、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
トとアルキルアミン（Ｃ₁からＣ₆のアミン）の１モルか
ら３モル付加物等。非アミノ系アクリレートとしてノニ
ルフェノキシプロピルアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、クレゾール
ノボラックエポキシトリアクリレートとアクリル酸の付
加物等。

【００２５】さらに前記化合物（ＡＭ２）や公知のポリ
エン・チオール類が挙げられる。これらは１種または２
種以上混合して使用する。また前記メタクリレート化合
物は上記アクリレート化合物をメタクリレートに置換し
た化合物である。上記化合物（ＡＭ１）の感光性樹脂組
成物の固形分総量に対する割合は上記化合物（ＡＭ１）
の性状にもよるが４．５ＷＴ％〜９９ＷＴ％好ましくは
５ＷＴ％〜９０ＷＴ％である。

【００２６】本発明で使用する光重合開始剤（以下Ｐ２
と略す）は公知のもであり、ごく具体的にはベンゾフェ
ノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、２，２ジメトキシ−２−フェニルアセ
トフェノン、２−ヒドロキシ２−フェニルアセトフェノ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２
−ヒドロキシ−４−イソプロピル−２−メチルプロピオ
フェノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチル
アントラキノン、ジエチルチオキサントン、クロルチオ
キサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイ
ル安息香酸、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニ
ル）−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，
６トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ド等が挙げられる。さらに前記光重合開始剤（Ｐ１）も
あげられる。これら光重合開始剤（Ｐ１，Ｐ２）は１種
または２種以上混合して使用する。

【００２７】また公知光重合開始助剤を併用してもよ
い。これら光重合開始助剤としてはごく具体的には、ト
リエタノールアミン、ジエタノールアミン、エタノール
アミン、トリプロパノールアミン、ジプロパノールアミ
ン、プロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、４ージメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙
げられる。上記光重合開始助剤は１種または２種以上混
合して使用する。上記光重合開始剤（Ｐ２）の感光性樹
脂組成物の固形分総量に対する割合は０．１ＷＴ％〜２
０ＷＴ％好ましくは０．１５ＷＴ％〜１５ＷＴ％であ
る。

【００２８】本発明で使用する含チッソ系有機溶剤とし
ては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチルー２−ピロリドン、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン等が挙げられる。グ
リコールエーテル系溶剤としては、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
メチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル
等が挙げられる。上記有機溶剤は１種または２種以上混
合して使用する。

【００２９】上記含チッソ系有機溶剤とグリコールエー
テル系有機溶剤の混合割合は含チッソ系有機溶剤１００
重量部に対しグリコールエーテル系有機溶剤は１０重量
部〜１０００重量部 好ましくは、２０〜５００重量部
の範囲である。グリコールエーテル系有機溶剤の量が１
０重量部以下では、アルカリ現像の際に、塗膜にクラッ
クが生じる。グリコールエーテル系有機溶剤の量が１０
００重量部以上では、アルカリ現像の際に塗膜の溶解性
が悪く、均一な塗膜が得られず好ましくない。

【００３０】本発明で使用するフィラーは有機フィラー
あるいは無機フィラーである。有機フィラーとしては、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、テフロン樹脂、
ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、等の樹脂を使用する溶剤に不溶となるまで高分子化
し微粒子化したタイプあるいは、架橋し微粒子化したタ
イプのフィラーである。無機フィラーとしては、アルミ
ナ、シリカ、マグネシア、フェライトなどの金属酸化物
の微粒子、あるいはタルク、マイカ、カオリン、ゼオラ
イトなどの桂酸塩類、硫酸バリウム、炭酸カルシウムな
どの微粒子を使用する。上記フィラーは１種又は２種以
上混合して使用する。上記フィラーは、好ましくは、平
均粒径が１０μｍ以下の微粒子であり、より好ましくは
５μｍ以下の微粒子である。

【００３１】また、微粒子の比表面積は、１００ｍ² ／
ｇ以下であり、好ましくは６０ｍ²／ｇ以下である。微
粒子の比表面積が１００ｍ² ／ｇを超えると均一な混合
分散が困難となり好ましくない。フィラーの添加量は、
感光性樹脂組成物の固形分総量に対し８０重量％以下で
あり、好ましくは５０重量％以下である。８０重量％を
超える感光性皮膜や絶縁性皮膜の形成が困難となり好ま
しくない。

【００３２】本発明で使用する顔料は公知のフタロシア
ニンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン等の
着色顔料である。前記フィラーと顔料と感光性樹脂組成
物と溶剤等を混合する際は、フィラーや顔料が樹脂組成
物中に均一に分散することが好ましい。分散は公知の方
法で行うことができ、例えば、ボールミル、ロールミ
ル、ミジアミル等のせん断力の強い分散装置を用いて分
散混合の良好な感光性樹脂組成物を得ることができる。
更に、分散混合を良好に行うために、湿潤剤、分散剤、
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、消泡剤
等を添加することもできる。

【００３３】このようにして、感光性樹脂組成物を得る
ことができるが、これらの感光性樹脂組成物を使用し
て、金属や金属積層板の表面にソルダーレジスト皮膜や
絶縁皮膜を形成する方法は、既に公知のロールコーター
やスクリーン塗布、バーコーター等を用いて容易に塗布
することができる。塗布した感光性樹脂組成物は、溶剤
を揮発させることで感光性皮膜となるが、乾燥も公知の
方法で良く例えば、熱風乾燥機や遠赤外線、近赤外線等
の乾燥機を用いて５０〜１５０℃で１０〜６０分乾燥す
ることで感光性皮膜を形成することができる。

【００３４】感光性皮膜の膜厚は、５〜２００μｍが適
当で好ましくは、１５〜１００μｍである。膜厚が５μ
ｍに満たないと、絶縁信頼性がの乏しく、２００μｍを
超えると露光感度の低下を招き現像時間がかかるので好
ましくない。また本発明の感光性樹脂組成物は、ソルダ
ーレジスト皮膜や絶縁皮膜の形成材料となるばかりでな
くポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等の無
色透明なフィルムに塗布乾燥することで感光性フィルム
を得ることができる。

【００３５】上記感光性フィルムは、上記した膜厚１０
〜１００μｍのフィルムにリバースロールコーターやグ
ラビアロールコーター、コンマコーター、カーテンコー
ター等の公知の方法で塗布することができる。乾燥は、
熱風乾燥や遠赤外線、近赤外線を用いた乾燥機で温度５
０〜１２０℃で乾燥でき、好ましくは６０〜１００℃で
１０〜６０分乾燥すると感光性フィルムを得ることがで
きる。この際の感光性樹脂組成物の膜厚は、５〜２００
μｍであり、好ましくは１５〜１００μｍである。膜厚
が５μｍに満たないと、絶縁信頼性に欠け、２００μｍ
を超えると露光感度の低下を招き現像に時間がかかるの
で好ましくない。

【００３６】なお、上記感光性フィルムを用いてソルダ
ーレジスト皮膜や絶縁皮膜を得るには、平板プレスやロ
ールプレス等の公知の方法により、４０〜１５０℃に加
熱しながら、１〜５ｋｇｆ／ｃｍ² で熱圧着することで
感光性皮膜を金属板や金属積層板の表面に形成すること
ができる。

【００３７】このようにして、感光性皮膜は、通常のフ
ォトマスクを用いて露光される。この際に使用される活
性光線としては、たとえば、紫外線、電子線、Ｘ線など
が挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましく、そ
の光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが挙げられる。露光
後、現像液を使用して現像行う際には、浸漬法やスプレ
ー法を用いることができる。現像液としては、水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液が
使用される。現像後は、希塩酸、希硫酸等の酸性水溶液
でリンスすることが望ましい。現像によって得られたパ
ターンは、その後、加熱処理することによって、ポリイ
ミドのパターンに変換される。加熱処理は、１５０〜４
５０℃の温度のもとで、０．１〜５時間、連続的または
段階的に行われる。

【００３８】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 合成例１（ポリアミド酸ＰＡ１） 温度計、撹はん機、冷却器および乾燥空気導入口を取り
付けた反応容器に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１１
７ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル１１７ｇ
更に３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸２無水物１１．２８ｇ（０．０３５モル）、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン８．６３ｇ（０．０５２５モル）を仕込み、乾燥空気
流入下、８０℃で２時間反応せしめた。中間生成物Ｐ１
−ＴＣＡを得た。（Ｐ１／ＴＣＡのモル比＝１．５０） 次いで室温まで冷却し、１，３−ビス（３−アミノフェ
ノキシ）ベンゼン５３．２９ｇ（０．１８２５モル）を
仕込、溶解ののち３，３^,，４，４^,，−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸２無水物５３．１３ｇ（Ｏ．１６５モ
ル）を仕込室温で１０時間反応させて、ポリアミド酸
（ＰＡ１）得た。（ＴＣＡ／ＤＡのモル比＝０．９０
４）。

【００３９】合成例２（ポリアミド酸ＰＡ１） 合成例１で２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンの代わりベンゾイン１１．１３ｇ
（０．０５２５モル）を使用する以外は同様にしてポリ
アミド酸（ＰＡ１）を得た。

【００４０】合成例３（ポリアミド酸ＰＡ１） 合成例１で３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸２無水物の代わりに、３，３’，４，４’−
ビフェニルテトラカルボン酸２無水物を使用した。この
際、中間生成物の合成のさい１０．２９ｇ（０．０３５
モル），ポリアミド酸の合成のさい４８．５１ｇ（０．
１６５モル）と分けて反応させる以外は同様にしてポリ
アミド酸（ＰＡ１）を得た。

【００４１】合成例４（ポリアミド酸ＰＡ２） 合成例１で２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンの代わりイソプロピルアルコール
０．６３ｇ（０．０１０５モル），２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン６．８９ｇ
（０．０４２モル）を使用する以外は同様にしてポリア
ミド酸（ＰＡ２）を得た。尚中間生成物Ｐ１−ＡＣ−Ｔ
ＣＡを合成する際の反応のモル比（Ｐ１＋ＡＣ）／ＴＣ
Ａ＝１．５０，光重合開始剤のモル％ １００（Ｐ１）
／（Ｐ１＋ＡＣ）＝８０モル％。

【００４２】合成例５（ポリアミド酸ＰＡ３） 合成例１で２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンの代わりヒドロキシエチルアクリレ
ート１．２２ｇ（０．０１０５モル），２−ヒドロキシ
−２−メチル−１−フェニルプロパンー１ーオン６．８
９ｇ（０．０４２モル）を使用する以外は同様にしてポ
リアミド酸（ＰＡ３）を得た。尚中間生成物Ｐ１−ＡＭ
２−ＴＣＡを合成する際の反応のモル比（Ｐ１＋ＡＭ
２）／ＴＣＡ＝１．５０，光重合開始剤のモル％ １０
０（Ｐ１）／（Ｐ１＋ＡＭ２）＝８０モル％。

【００４３】合成例６（ポリアミド酸ＰＡ３） 合成例５でヒドロキシエチルアクリレートの代わりペン
タエリスリトールトリアクリレート３．１２ｇ（０．０
１０５モル）を使用する以外は同様にしてポリアミド酸
（ＰＡ３）を得た。

【００４４】合成例７（ポリアミド酸ＰＡ４） 合成例１で２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンを省いた以外は３，３^,，４，４^,，
ベンゾフェノンテトラカルボン酸２無水物５８．７７ｇ
（０．１８２５モル）、１，３−ビス（３ーアミノフェ
ノキシ）ベンゼン５３．２９ｇ（０．１８２５モル）を
仕込８０℃２時間反応させポリアミド酸（ＰＡ４）を得
た。

【００４５】合成例８ （ポリアミド酸ＰＡ１） 合成例１で有機溶剤全量をＮ，Ｎジメチルアセトアミド
２３４ｇに代える以外は同様にしてポリアミド酸（ＰＡ
１）を得た。

【００４６】合成例９（エポキシアクリレート樹脂） エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４）を１６
４ｇとトリフェニルホスフィン０．７５ｇとアクリル酸
７２ｇをキシレン４０ｇに溶解した。９０℃で５時間反
応させた。更にテトラヒドロ無水フタル酸１５０ｇを添
加して９０℃で５時間反応させた。反応終了後、キシレ
ンを減圧除去しエポキシアクリレート樹脂を得た。上記
合成例で示したポリアミド酸およびエポキシアクリレー
ト樹脂を使用し本発明の感光性樹脂組成物の実施例を以
下に示す。

【００４７】［実施例１］ 配合量（重量部） 合成例１ ポリアミド酸（ＰＡ１） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ［実施例２］ 配合量（重量部） 合成例２ ポリアミド酸（ＰＡ１） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ［実施例３］ 配合量（重量部） 合成例３ ポリアミド酸（ＰＡ１） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ［実施例４］ 合成例４ ポリアミド酸（ＰＡ２） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ［実施例５］ 合成例５ ポリアミド酸（ＰＡ３） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０

【００４８】［実施例６」 合成例６ ポリアミド酸（ＰＡ３） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ［実施例７］ 合成例１ ポリアミド酸（ＰＡ１） １７５ 合成例７ ポリアミド酸（ＰＡ４） ４５ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ［実施例８］ 合成例１ ポリアミド酸（ＰＡ１） ２２０ ヘ゜ ンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ９０７（チバガイギー社製） ０．６ カヤキュアーＤＥＴＸ （日本化薬製） ０．２ ［実施例９］ 合成例１ ポリアミド酸（ＰＡ１） ２２０ ペンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７ １．８ カヤキュア−ＤＥＴＸ Ｏ．６ Ｂ−３４（堺化学製） ４０ レオロシルＤＭ３０（( 株) トクヤマ製） ３ フタロシアニングリーン Ｏ．６

【００４９】［比較例１］ 合成例７ ポリアミド酸（ＰＡ４） ２２０ ペンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ２ー ヒドロキシー ２ー メチルー １ー フェニルプロパンー １ー オン ５．３ ［較例２］ 合成例８ ポリアミド酸（ＰＡ１） ２２０ ペンタエリスリトールトリアクリレート ３０

【００５０】［比較例３］ 合成例９ エポキシアクリレート樹脂 ５０ エポキシ樹脂（エピコート１５４ 油化シェル製） ２０ ペンタエリスリトールトリアクリレート ３０ ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ ９０７ ６ カヤキュアー ＤＥＴＸ ２ ジエチレングリコー ルジメチルエー テル ７５ ジメチルアセトアミド ７５ 上記の感光性樹脂組成物を調整して導体回路パターンを
描いたプリント配線板に、ドクターブレードを用い均一
に塗布した。その後、８０℃で４０分間乾燥して試験用
のサンプルを作製した。また、同時に厚み１ｍｍの金属
板に塗布乾燥してテストサンプルとした。乾燥した塗布
膜厚は、導体回路上および金属板上で２０〜２５μｍの
感光性皮膜が得られるように調整した。

【００５１】次に、所望のフォトマスクを用いて３ｋｗ
の超高圧水銀灯を用いて感光性皮膜に５００ｍｊ／ｃｍ
² の光量が照射できるように露光した。露光した感光性
皮膜を１．０ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液で３０℃
に調節した現像液に５０秒間浸漬して現像を行った。実
施例１〜９および比較例３では未露光部は容易に現像液
で剥離され所望の画像が得られた。なお比較例１では露
光部も現像時に一部溶解し、所望の画像が得られなかっ
た。比較例２においては、所望の画像が得られるもの
の、膜にクラックが発生した。実施例１〜９では更に、
２５０℃ １０分間加熱処理により、イミド化を行っ
た。比較例３では、１５０℃、３０分間の加熱処理を行
った。

【００５２】上記の感光性樹脂組成物液で作製した感光
性皮膜の評価を、以下のように行った。（評価−１）の
硬化表面の鉛筆硬度試験は、（ＪＩＳ Ｋー５４０５）
に記載の方法で行った。（評価−２）のクロスカット後
の密着性は、（ＪＩＳ Ｋー５４０５）に記載の方法で
行った。（評価−３）の耐溶剤性試験は、ＪＩＳ Ｋー
５４０５に記載のクロスカットを入れた後、室温のアセ
トンに１２時間浸漬し、碁盤目の残量を測定した。（評
価−４）の耐薬品性試験は、ＪＩＳ Ｋー５４０５に記
載のクロスカットを入れた後、６０℃の１０ｗｔ％の塩
酸水溶液に１２時間浸漬し、碁盤目の残量を測定した。

【００５３】（評価−５）の耐薬品性試験は、ＪＩＳ
Ｋー５４０５に記載のクロスカットを入れた後、６０℃
の１０ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液に１２時間浸漬
し、碁盤目の残量を測定した。（評価−６）感光性皮膜
でソルダーレジストパターンを形成した銅箔積層板を６
０℃−９５％ＲＨの環境下で１００時間放置した。この
サンプルを２８０℃で溶融したはんだに２０秒間浸漬し
て銅箔とソルダーレジスト皮膜の剥離や膨れの有無を確
認した。（評価−７）０．２mm銅板上に形成したテスト
サンプルにおいて、９０°の角度の折り曲げ試験を行
い、皮膜のクラック発生の有無を確認した。実施例１〜
９及び比較例１〜３を表１に示す。実施例と比較例の比
較から実施例においては、アルカリ水溶液で現像するこ
とができ、屈曲性、耐薬品性に優れ、さらに、はんだ耐
熱性試験で、剥離や膨れの発生しにくい点が特徴であ
る。

【００５４】

【表１】

【００５５】

【表２】

【００５６】

【発明の効果】実施例および比較例にて説明した様に、
本発明による感光性樹脂組成物からなる絶縁皮膜および
ソルダーレジスト皮膜は、表１から判るように、アルカ
リ水溶液で現像することができ、屈曲性に優れている。
さらに、Ｃ−Ｃ不飽和２重結合を含有する化合物（アク
リレート化合物）に比較して耐熱性を高くすることがで
き、はんだ付け時の熱ショックに対して高い耐性を示
す、配線板の絶縁皮膜形成材料、フレキシブル基板のカ
バーコート材として、有効なものである。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）ポリマーの分子末端が一般式（１）
   （化１）で表される光重合開始剤（Ｐ１）で封止され、
   かつ、一般式（２）（化２）で表されるポリアミド酸
   （ＰＡ１）、および（Ｂ）光重合可能なＣ−Ｃ不飽和２
   重結合を有する化合物。とから成る感光性樹脂組成物。 【化１】 （但し、Ｒ₁、Ｒ₂はＨ、炭素数１〜４のアルキル基、フ
   ェニル基、またはアリル基、ｋは１〜４の整数、ｌは０
   または１〜４の整数を表わす。） 【化２】 （式中、Ｘ、Ｚはそれぞれ炭素数が２〜２２であり、芳
   香族基、脂肪族基または脂環式化合物基を、ｎは重合度
   を表わし、Ｙは前記に同じ）
2. 【請求項２】ポリアミド酸が、上記の式（２）で表され
   るポリアミド酸に、炭素数１〜４の低級アルコール、グ
   リコール、セロソルブ及び炭素数２〜１０の多価アルコ
   ールから選ばれた少なくとも１種を反応せしめて得られ
   るポリアミド酸（ＰＡ２）であることを特徴とする請求
   項１記載の感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】ポリアミド酸が、上記の式（２）で表され
   るポリアミド酸に、炭素１〜４の低級アルコール、グリ
   セリン、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトー
   ル、ジペンタエリスリトール及びトリメチロールプロパ
   ンより選ばれた少なくとも１種とアクリル酸とのアクリ
   ル酸エステルを反応せしめて得られるポリアミド酸（Ｐ
   Ａ３）であることを特徴とする請求項１記載の感光性樹
   脂組成物。
4. 【請求項４】ポリアミド酸が、上記のＰＡ１、ＰＡ２、
   またはＰＡ３のポリアミド酸に、式（３）（化３）で表
   されるポリアミド酸を混合せしめたものであることを特
   徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物。 【化３】 （式中、Ｘ、Ｚ、ｎは前記に同じ）
5. 【請求項５】上記の式（１）で表される光重合開始剤
   （Ｐ１）以外の光重合開始剤（Ｐ２）を混合せしめた請
   求項１〜４記載の感光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】 有機フィラーあるいは無機フィラーある
   いは顔料を配合せしめたことを特徴とする請求項１〜５
   記載の感光性樹脂組成物。
7. 【請求項７】 請求項１〜６の感光性樹脂組成物を、含
   チッソ系有機溶剤１００部に対し、１０〜１０００部の
   グリコールエーテル系有機溶剤よりなる溶剤で希釈せし
   めたことを特徴とす感光性樹脂組成物溶液。
8. 【請求項８】 請求項１〜７に記載の感光性樹脂組成物
   またはその溶液を金属、プラスチック、セラミックなど
   に塗布乾燥して形成した感光性皮膜を有する加工品。