JPH10204419A - ラップ液組成物 - Google Patents
ラップ液組成物Info
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- JPH10204419A JPH10204419A JP2009097A JP2009097A JPH10204419A JP H10204419 A JPH10204419 A JP H10204419A JP 2009097 A JP2009097 A JP 2009097A JP 2009097 A JP2009097 A JP 2009097A JP H10204419 A JPH10204419 A JP H10204419A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 砥粒の配合安定性および流動性に優れ、
加工後の洗浄が容易であるラップ液組成物。 【解決手段】 一般式（１）で表せるグリコールエーテ
ル（Ａ）と砥粒（Ｂ）を含有することを特徴とするラッ
プ液組成物。 一般式 Ｒ1Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ2 （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基またはアル
ケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基、Ｒ2は炭
素数１〜４のアルキル基、ｍは１〜１０の整数、ｎは２
〜４の整数である。）
加工後の洗浄が容易であるラップ液組成物。 【解決手段】 一般式（１）で表せるグリコールエーテ
ル（Ａ）と砥粒（Ｂ）を含有することを特徴とするラッ
プ液組成物。 一般式 Ｒ1Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ2 （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基またはアル
ケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基、Ｒ2は炭
素数１〜４のアルキル基、ｍは１〜１０の整数、ｎは２
〜４の整数である。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコン、セラミ
ックス、水晶などの脆性材料をワイヤソー、ブレードソ
ーなどで切断または研磨するときに使用するラップ液組
成物に関する。
ックス、水晶などの脆性材料をワイヤソー、ブレードソ
ーなどで切断または研磨するときに使用するラップ液組
成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】砥粒を使用してシリコン、セラミック
ス、水晶などの脆性材料をワイヤソー、ブレードソーな
どで切断または研磨するためのラップ液は、使用される
砥粒を液中に長時間安定に分散させることが必要であ
る。砥粒の分散が不安定であると、ラップ液中の砥粒が
沈降、不均一偏在し、加工精度を維持することが困難と
なり、加工能率が著しく低下する。このため、鉱油にグ
リースあるいは油脂などを含有させたものが使用されて
いる（例えば、特開昭５３−６７１９１号公報および特
開昭５６−１４５９６８号公報）。しかし、鉱油（例え
ば、灯油、スピンドル油、マシン油）を使用したもの
は、水に不溶なため加工後に被加工物を有機溶剤などで
洗浄し、さらに界面活性剤を含有した洗剤および水で洗
浄しなければならず、工程が長くなるという問題があっ
た。そこで、水溶性の加工液として、エチレングリコー
ルやエチルカルビトールなどのグリコール類に水および
有機ベントナイトを含有させたものなどが提案されてい
る（特開平４−２１８５９４号公報）。
ス、水晶などの脆性材料をワイヤソー、ブレードソーな
どで切断または研磨するためのラップ液は、使用される
砥粒を液中に長時間安定に分散させることが必要であ
る。砥粒の分散が不安定であると、ラップ液中の砥粒が
沈降、不均一偏在し、加工精度を維持することが困難と
なり、加工能率が著しく低下する。このため、鉱油にグ
リースあるいは油脂などを含有させたものが使用されて
いる（例えば、特開昭５３−６７１９１号公報および特
開昭５６−１４５９６８号公報）。しかし、鉱油（例え
ば、灯油、スピンドル油、マシン油）を使用したもの
は、水に不溶なため加工後に被加工物を有機溶剤などで
洗浄し、さらに界面活性剤を含有した洗剤および水で洗
浄しなければならず、工程が長くなるという問題があっ
た。そこで、水溶性の加工液として、エチレングリコー
ルやエチルカルビトールなどのグリコール類に水および
有機ベントナイトを含有させたものなどが提案されてい
る（特開平４−２１８５９４号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
グリコール類を使用したラップ液は、炭化珪素、ダイヤ
モンド、酸化アルミニウム等の砥粒の凝集がおこり、ラ
ップ液の粘度の上昇、流動性の悪化等で加工性能が悪く
なるという問題があった。本発明は、砥粒の配合安定性
に優れ、流動性が良好なラップ液組成物を提供するもの
である。
グリコール類を使用したラップ液は、炭化珪素、ダイヤ
モンド、酸化アルミニウム等の砥粒の凝集がおこり、ラ
ップ液の粘度の上昇、流動性の悪化等で加工性能が悪く
なるという問題があった。本発明は、砥粒の配合安定性
に優れ、流動性が良好なラップ液組成物を提供するもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
について鋭意研究した結果、本発明に到達した。すなわ
ち、本発明は、一般式（１）で表せるグリコールエーテ
ル（Ａ）と砥粒（Ｂ）を含有するラップ液組成物であ
る。 一般式 Ｒ1Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ2 （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基またはアル
ケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基、Ｒ2は炭
素数１〜４のアルキル基、ｍは１〜１０の整数、ｎは２
〜４の整数である。）
について鋭意研究した結果、本発明に到達した。すなわ
ち、本発明は、一般式（１）で表せるグリコールエーテ
ル（Ａ）と砥粒（Ｂ）を含有するラップ液組成物であ
る。 一般式 Ｒ1Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ2 （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基またはアル
ケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基、Ｒ2は炭
素数１〜４のアルキル基、ｍは１〜１０の整数、ｎは２
〜４の整数である。）
【０００５】
【発明の実施の形態】一般式（１）における（ＣnＨ2n
Ｏ）は、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブ
チレンを表し、式中のｍが２以上の場合は、単独、ラン
ダムまたはブロックのいずれでも良い。
Ｏ）は、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブ
チレンを表し、式中のｍが２以上の場合は、単独、ラン
ダムまたはブロックのいずれでも良い。
【０００６】Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基または
アルケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基であ
り、具体例としてメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、プロピル基、
ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基、セチル基、ステアリル基、オレイル
基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基などが挙げ
られる。Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基であり、具体
例としてメチル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基
が挙げられる。
アルケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基であ
り、具体例としてメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、プロピル基、
ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基、セチル基、ステアリル基、オレイル
基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基などが挙げ
られる。Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基であり、具体
例としてメチル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基
が挙げられる。
【０００７】本発明の（Ａ）としては例えば、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールプロピルメチルエーテル、
ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチ
レングリコールオクチルフェノールメチルエーテル、ジ
エチレングリコールノニルフェニルメチルエーテルなど
が挙げられるがこれに限定されるものではない。
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールプロピルメチルエーテル、
ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチ
レングリコールオクチルフェノールメチルエーテル、ジ
エチレングリコールノニルフェニルメチルエーテルなど
が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【０００８】（Ａ）のＳＰ値は、流動性の観点から通
常、７．５〜９．０で好ましくは８．０〜８．５であ
る。尚、ＳＰ値は一般式（２）で表せる。 一般式 δ＝（ΔＨ／Ｖ）1/2 （２） ｛式中、δは溶解度パラメーター、ΔＨはモル蒸発熱
（ｃａｌ）、Ｖはモル体積（ｃｍ3）である。｝
常、７．５〜９．０で好ましくは８．０〜８．５であ
る。尚、ＳＰ値は一般式（２）で表せる。 一般式 δ＝（ΔＨ／Ｖ）1/2 （２） ｛式中、δは溶解度パラメーター、ΔＨはモル蒸発熱
（ｃａｌ）、Ｖはモル体積（ｃｍ3）である。｝
【０００９】（Ｂ）としては、炭化珪素、ダイヤモン
ド、酸化アルミニウム等の微粉末が挙げられ、平均粒径
が２〜２０μｍのものを主に使用する。
ド、酸化アルミニウム等の微粉末が挙げられ、平均粒径
が２〜２０μｍのものを主に使用する。
【００１０】（Ａ）の含有量は、砥粒の配合安定性およ
び加工性能の観点から通常、１〜７０重量％で好ましく
は５〜５０重量％である。（Ｂ）の含有量は、流動性お
よび加工性能の観点から通常、３０〜７０重量％で好ま
しくは４０〜６５重量％である。
び加工性能の観点から通常、１〜７０重量％で好ましく
は５〜５０重量％である。（Ｂ）の含有量は、流動性お
よび加工性能の観点から通常、３０〜７０重量％で好ま
しくは４０〜６５重量％である。
【００１１】本発明の組成物においては、必要に応じ
て、水溶性分散剤、水溶性増粘剤、界面活性剤、防錆
剤、消泡剤を添加することができる。
て、水溶性分散剤、水溶性増粘剤、界面活性剤、防錆
剤、消泡剤を添加することができる。
【００１２】水溶性分散剤として、例えばポリアクリル
酸ナトリウム、ポリアクリル酸のアンモニウム塩、ポリ
アクリル酸のモノエタノールアミン塩、ポリスチレンス
ルホン酸ナトリウム、ポリスチレンスルホン酸のアンモ
ニウム塩、ポリスチレンスルホン酸のモノエタノールア
ミン塩、ナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン縮
合物などが挙げられる。
酸ナトリウム、ポリアクリル酸のアンモニウム塩、ポリ
アクリル酸のモノエタノールアミン塩、ポリスチレンス
ルホン酸ナトリウム、ポリスチレンスルホン酸のアンモ
ニウム塩、ポリスチレンスルホン酸のモノエタノールア
ミン塩、ナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン縮
合物などが挙げられる。
【００１３】水溶性増粘剤として、例えばキサンタンガ
ム、メチルセルローズ、エチルセルローズ、カルボキシ
ルメチルセルローズ、ポリアクリルアミドなどが挙げら
れる。
ム、メチルセルローズ、エチルセルローズ、カルボキシ
ルメチルセルローズ、ポリアクリルアミドなどが挙げら
れる。
【００１４】界面活性剤としては、（１）ノニオン界面
活性剤（例えばポリエチレングリコール型ノニオン界面
活性剤、プルロニック型ノニオン界面活性剤、多価アル
コール型ノニオン界面活性剤）、（２）アニオン界面活
性剤（例えば、リン酸エステル塩、硫酸エステル塩、カ
ルボン酸塩、スルホン酸塩）、（３）カチオン界面活性
剤（例えば、アミン塩型界面活性剤、第４級アンモニウ
ム型カチオン界面活性剤）、（４）両性界面活性剤（例
えば、アミノ酸型両性界面活性剤、ベタイン型両性界面
活性剤）。これらは単独で用いても併用しても良い。こ
れらのうち、好ましいものはノニオン界面活性剤であ
る。ポリエチレングリコール型ノニオン界面活性剤とし
ては、例えばポリオキシエチレンドデシルエーテル、ポ
リオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレン
オレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられ、プルロニック型ノニオン界面活性剤と
しては、例えば分子量１７５０のポリプロピレングリコ
ールのエチレンオキサイド付加物（全分子量中のエチレ
ンオキサイド含量：２０重量％）、分子量２０５０のポ
リプロピレングリコールのエチレンオキサイド付加物
（全分子量中のエチレンオキサイド含量：４０重量％）
等が挙げられ、多価アルコール型ノニオン界面活性剤と
しては、例えばヤシ油ジエタノールアミド等が挙げられ
るが、これに限定されるものではない。
活性剤（例えばポリエチレングリコール型ノニオン界面
活性剤、プルロニック型ノニオン界面活性剤、多価アル
コール型ノニオン界面活性剤）、（２）アニオン界面活
性剤（例えば、リン酸エステル塩、硫酸エステル塩、カ
ルボン酸塩、スルホン酸塩）、（３）カチオン界面活性
剤（例えば、アミン塩型界面活性剤、第４級アンモニウ
ム型カチオン界面活性剤）、（４）両性界面活性剤（例
えば、アミノ酸型両性界面活性剤、ベタイン型両性界面
活性剤）。これらは単独で用いても併用しても良い。こ
れらのうち、好ましいものはノニオン界面活性剤であ
る。ポリエチレングリコール型ノニオン界面活性剤とし
ては、例えばポリオキシエチレンドデシルエーテル、ポ
リオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレン
オレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられ、プルロニック型ノニオン界面活性剤と
しては、例えば分子量１７５０のポリプロピレングリコ
ールのエチレンオキサイド付加物（全分子量中のエチレ
ンオキサイド含量：２０重量％）、分子量２０５０のポ
リプロピレングリコールのエチレンオキサイド付加物
（全分子量中のエチレンオキサイド含量：４０重量％）
等が挙げられ、多価アルコール型ノニオン界面活性剤と
しては、例えばヤシ油ジエタノールアミド等が挙げられ
るが、これに限定されるものではない。
【００１５】防錆剤としては、カルボン酸塩、ソルビタ
ンモノオレート、スルホン酸塩、アルキルリン酸エステ
ルアミン塩、アルキルアミンのエチレンオキサイドまた
はプロピレンオキサイド付加物、アルケニルコハク酸ア
ミド、ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
ンモノオレート、スルホン酸塩、アルキルリン酸エステ
ルアミン塩、アルキルアミンのエチレンオキサイドまた
はプロピレンオキサイド付加物、アルケニルコハク酸ア
ミド、ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００１６】消泡剤としては、プルロニック型非イオン
界面活性剤、ポリプロピレングリコール、シリコーン樹
脂系消泡剤が挙げられる。
界面活性剤、ポリプロピレングリコール、シリコーン樹
脂系消泡剤が挙げられる。
【００１７】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。はじめ
に、実施例に使用したグリコールエーテルの構造につい
て表１に示す。表中の数値は重量％を示す。
が、本発明はこれに限定されるものではない。はじめ
に、実施例に使用したグリコールエーテルの構造につい
て表１に示す。表中の数値は重量％を示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】実施例１〜７；比較例１〜４ 表２に示す組成物を、ＤＣスターラーにて２時間撹拌し
た後、下記の性能評価を行った。得られた結果を表３に
示す。
た後、下記の性能評価を行った。得られた結果を表３に
示す。
【００２０】＜配合安定性試験＞ラップ液組成物を１０
０ｍｌのメスシリンダーに１００ｍｌ採取し、２５℃の
恒温槽中に２４時間静置させ、上層の分離液層の高さを
測定して以下の基準で配合安定性を評価した。その結果
を表３に示す。 評価基準 ○ ： ５ｍｍ未満 △ ： ５ｍｍ以上１０ｍｍ未満 × ： １０ｍｍ以上
０ｍｌのメスシリンダーに１００ｍｌ採取し、２５℃の
恒温槽中に２４時間静置させ、上層の分離液層の高さを
測定して以下の基準で配合安定性を評価した。その結果
を表３に示す。 評価基準 ○ ： ５ｍｍ未満 △ ： ５ｍｍ以上１０ｍｍ未満 × ： １０ｍｍ以上
【００２１】＜流動性試験＞Ｂ型回転粘度計（東京計器
製）を用い、ローターＮｏ．２を用いて、２５℃におけ
る粘度を測定し、以下の基準で流動性を評価した。その
結果を表３に示す。 評価基準 ○ ： ５００ｃＰ未満 × ： ５００ｃＰ以上
製）を用い、ローターＮｏ．２を用いて、２５℃におけ
る粘度を測定し、以下の基準で流動性を評価した。その
結果を表３に示す。 評価基準 ○ ： ５００ｃＰ未満 × ： ５００ｃＰ以上
【００２２】＜水溶性試験＞ガラス板（２ｃｍ×５ｃ
ｍ）をラップ液中に浸漬し、取り出した後、室温にて１
時間放置した。この試験片を水道水にて１０秒間シャワ
ー洗浄し、乾燥した後、付着物の有無を目視にて観察
し、以下の基準で水溶性を評価した。その結果を表３に
示す。 評価基準 ○ ： 付着なし △ ： わずかに付着物あり × ： 付着物多い
ｍ）をラップ液中に浸漬し、取り出した後、室温にて１
時間放置した。この試験片を水道水にて１０秒間シャワ
ー洗浄し、乾燥した後、付着物の有無を目視にて観察
し、以下の基準で水溶性を評価した。その結果を表３に
示す。 評価基準 ○ ： 付着なし △ ： わずかに付着物あり × ： 付着物多い
【００２３】
【表２】
【００２４】
【表３】
【００２５】表３から本発明のラップ液組成物（実施例
１〜７）は、比較例１〜３のラップ液組成物よりも、配
合安定性および流動性が優れていることがわかる。
１〜７）は、比較例１〜３のラップ液組成物よりも、配
合安定性および流動性が優れていることがわかる。
【００２６】表２に示す実施例３〜７のラップ液組成物
および従来の油性ラップ液組成物（比較例４）を使用し
て、マルチワイヤソーにて水晶のインゴット（幅６０ｍ
ｍ、高さ１５ｍｍ、長さ７０ｍｍ）を以下の条件で切断
した。結果を表４に示す。
および従来の油性ラップ液組成物（比較例４）を使用し
て、マルチワイヤソーにて水晶のインゴット（幅６０ｍ
ｍ、高さ１５ｍｍ、長さ７０ｍｍ）を以下の条件で切断
した。結果を表４に示す。
【００２７】
【００２８】
【表４】
【００２９】表４の結果より、本発明のラップ液組成物
は、従来の油性のラップ液組成物と同等の加工性能を示
すことが確認された。
は、従来の油性のラップ液組成物と同等の加工性能を示
すことが確認された。
【００３０】
【発明の効果】本発明のラップ液組成物は、砥粒の配合
安定性に優れ、流動性が良好である。また、従来の油性
のラップ液組成物と同等の加工性能を示し、さらに水溶
性であるため洗浄が容易であり、加工後の工程短縮が可
能となる。
安定性に優れ、流動性が良好である。また、従来の油性
のラップ液組成物と同等の加工性能を示し、さらに水溶
性であるため洗浄が容易であり、加工後の工程短縮が可
能となる。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１）で表せるグリコールエーテ
ル（Ａ）と砥粒（Ｂ）を含有することを特徴とするラッ
プ液組成物。 一般式 Ｒ1Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ2 （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基またはアル
ケニル基、アルキルフェニル基、フェニル基、Ｒ2は炭
素数１〜４のアルキル基、ｍは１〜１０の整数、ｎは２
〜４の整数である。） - 【請求項２】 （Ａ）の溶解度パラメーター（以下ＳＰ
値という）が７．５〜９．０である請求項１記載のラッ
プ液組成物。 - 【請求項３】 （Ａ）の含有量が１〜７０重量％、
（Ｂ）の含有量が３０〜７０重量％である請求項１また
は２記載のラップ液組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009097A JP3790314B2 (ja) | 1997-01-16 | 1997-01-16 | ラップ液組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009097A JP3790314B2 (ja) | 1997-01-16 | 1997-01-16 | ラップ液組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10204419A true JPH10204419A (ja) | 1998-08-04 |
| JP3790314B2 JP3790314B2 (ja) | 2006-06-28 |
Family
ID=12017418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009097A Expired - Fee Related JP3790314B2 (ja) | 1997-01-16 | 1997-01-16 | ラップ液組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3790314B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383239B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-07 | Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. | Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same |
| JP2007031502A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Yushiro Chem Ind Co Ltd | 水性砥粒分散媒組成物 |
| JP2012512954A (ja) * | 2008-12-20 | 2012-06-07 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物 |
| WO2024106249A1 (ja) * | 2022-11-18 | 2024-05-23 | 株式会社サイコックス | 研磨組成物 |
-
1997
- 1997-01-16 JP JP2009097A patent/JP3790314B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383239B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-07 | Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. | Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same |
| JP2007031502A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Yushiro Chem Ind Co Ltd | 水性砥粒分散媒組成物 |
| JP2012512954A (ja) * | 2008-12-20 | 2012-06-07 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物 |
| WO2024106249A1 (ja) * | 2022-11-18 | 2024-05-23 | 株式会社サイコックス | 研磨組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3790314B2 (ja) | 2006-06-28 |
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