JPH10172425A - プラズマディスプレイおよびその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイおよびその製造方法Info
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- JPH10172425A JPH10172425A JP8330948A JP33094896A JPH10172425A JP H10172425 A JPH10172425 A JP H10172425A JP 8330948 A JP8330948 A JP 8330948A JP 33094896 A JP33094896 A JP 33094896A JP H10172425 A JPH10172425 A JP H10172425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- phosphor
- plasma display
- organic component
- parts
- Prior art date
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- Pending
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高輝度な蛍光体層形成を可能にするプラズマデ
ィスプレイを提供する。 【解決手段】ガラス基板上に電極層および隔壁層を形成
した後、蛍光体ペーストを塗布および乾燥させて、蛍光
体層を形成するプラズマディスプレイの製造方法におい
て、感光性ペーストの塗布後ガラス基板を150〜21
0度傾斜させることを特徴とするプラズマディスプレイ
の製造方法。
ィスプレイを提供する。 【解決手段】ガラス基板上に電極層および隔壁層を形成
した後、蛍光体ペーストを塗布および乾燥させて、蛍光
体層を形成するプラズマディスプレイの製造方法におい
て、感光性ペーストの塗布後ガラス基板を150〜21
0度傾斜させることを特徴とするプラズマディスプレイ
の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なプラズマデ
ィスプレイおよびその製造方法に関する。
ィスプレイおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイ(PDP)は、液
晶パネルに比べて高速の表示が可能であり且つ大型化が
可能であることから、OA機器および広報表示装置など
の分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分
野などでの進展が非常に期待されている。
晶パネルに比べて高速の表示が可能であり且つ大型化が
可能であることから、OA機器および広報表示装置など
の分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分
野などでの進展が非常に期待されている。
【0003】この様な用途の拡大にともなって,PDP
は微細で多数の表示セルを有するカラーPDPが注目さ
れている。PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板
との間に備えられた放電空間内で対向するアノードおよ
びカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電
空間内に封入されているガスから発光させることにより
表示を行うものである。
は微細で多数の表示セルを有するカラーPDPが注目さ
れている。PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板
との間に備えられた放電空間内で対向するアノードおよ
びカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電
空間内に封入されているガスから発光させることにより
表示を行うものである。
【0004】この場合、R,G,Bのカラー表示を行う
ために各セル間には蛍光体層が形成されている。上記の
蛍光体層は、通常スクリーン印刷法によりR,G,Bを
塗布し、乾燥、焼成工程を経て形成される。プラズマデ
ィスプレイにおいては、高輝度化のために隔壁の底部の
みならず側面にも蛍光体層を設けて蛍光面とするのが望
ましい。しかし、隔壁ピッチの微細化により、従来の技
術では高輝度かつ高精細な蛍光体を形成するのは困難で
あった。
ために各セル間には蛍光体層が形成されている。上記の
蛍光体層は、通常スクリーン印刷法によりR,G,Bを
塗布し、乾燥、焼成工程を経て形成される。プラズマデ
ィスプレイにおいては、高輝度化のために隔壁の底部の
みならず側面にも蛍光体層を設けて蛍光面とするのが望
ましい。しかし、隔壁ピッチの微細化により、従来の技
術では高輝度かつ高精細な蛍光体を形成するのは困難で
あった。
【0005】この問題を解決する方法として、特開平4
−67529号公報および特開平4−308631号公
報では、フォトレジストを用いて蛍光体層を形成する方
法が提案されているが、フォトレジスト層を設ける必要
があるので製作工程が増えたり、コスト低減には限界が
あった。
−67529号公報および特開平4−308631号公
報では、フォトレジストを用いて蛍光体層を形成する方
法が提案されているが、フォトレジスト層を設ける必要
があるので製作工程が増えたり、コスト低減には限界が
あった。
【0006】また、特開平2−155142号公報では
蛍光体スラリーを隔壁内に充填した後、基板を垂直に傾
け壁面に沈降するまで静置し、沈降後乾燥して蛍光体層
を硬化させる方法が提案されている。しかし、この方法
では1回の乾燥で片側面への塗布しかできないため塗布
―乾燥の回数が多いという問題があった。
蛍光体スラリーを隔壁内に充填した後、基板を垂直に傾
け壁面に沈降するまで静置し、沈降後乾燥して蛍光体層
を硬化させる方法が提案されている。しかし、この方法
では1回の乾燥で片側面への塗布しかできないため塗布
―乾燥の回数が多いという問題があった。
【0007】さらに、特開平6−5205号公報および
特開平6−251702号公報では、サンドブラストや
液体ホーニングによる技術を用いて隔壁側面に蛍光体を
設ける方法が提案されているが、機械的な方法によるた
めパターン精度が低下し、隔壁側面の蛍光体を均一な状
態で除去するのが困難であったり、工程が複雑になると
いった問題があった。特開平5−41159号公報で
は、隔壁を形成した基板に粘着性の感光液を塗布し、こ
れに蛍光体粉末を吹き付けフォトリソグラフィーによっ
てパターニングする方法が提案されているが、余分な感
光液が必要であったり、吹き付け角度のコントロールが
難しく均一でかつ再現性のある蛍光体膜が得られない問
題がある。特開平6−139933号公報では、蛍光体
ペーストをシリコーン樹脂を主体とする弾性体にスクリ
ーン印刷法により印刷した後、パターンをパネル基板上
に転写して蛍光体パターンを形成する方法が提案されて
いるが、転写工程が必要となりコスト低減には限界があ
る。
特開平6−251702号公報では、サンドブラストや
液体ホーニングによる技術を用いて隔壁側面に蛍光体を
設ける方法が提案されているが、機械的な方法によるた
めパターン精度が低下し、隔壁側面の蛍光体を均一な状
態で除去するのが困難であったり、工程が複雑になると
いった問題があった。特開平5−41159号公報で
は、隔壁を形成した基板に粘着性の感光液を塗布し、こ
れに蛍光体粉末を吹き付けフォトリソグラフィーによっ
てパターニングする方法が提案されているが、余分な感
光液が必要であったり、吹き付け角度のコントロールが
難しく均一でかつ再現性のある蛍光体膜が得られない問
題がある。特開平6−139933号公報では、蛍光体
ペーストをシリコーン樹脂を主体とする弾性体にスクリ
ーン印刷法により印刷した後、パターンをパネル基板上
に転写して蛍光体パターンを形成する方法が提案されて
いるが、転写工程が必要となりコスト低減には限界があ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、プラズマデ
ィスプレイの製造方法において、より高輝度なプラズマ
ディスプレイの蛍光体層形成を可能にする方法を提案す
ることにある。
ィスプレイの製造方法において、より高輝度なプラズマ
ディスプレイの蛍光体層形成を可能にする方法を提案す
ることにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、ガラ
ス基板上に電極層および隔壁層を形成した後、蛍光体ペ
ーストを塗布および乾燥させて、蛍光体層を形成するプ
ラズマディスプレイの製造方法において、感光性ペース
トの塗布後ガラス基板を150〜210度傾斜させるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法であ
り、さらに本発明は、プラズマディスプレイの蛍光体層
の、隔壁高さの半分の位置の側面厚み(A)および底部
厚み(B)が、以下の範囲であることを特徴とするプラ
ズマディスプレイである。 10≦A≦50μm 10≦B≦50μm 0.2≦A/B≦5。
ス基板上に電極層および隔壁層を形成した後、蛍光体ペ
ーストを塗布および乾燥させて、蛍光体層を形成するプ
ラズマディスプレイの製造方法において、感光性ペース
トの塗布後ガラス基板を150〜210度傾斜させるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法であ
り、さらに本発明は、プラズマディスプレイの蛍光体層
の、隔壁高さの半分の位置の側面厚み(A)および底部
厚み(B)が、以下の範囲であることを特徴とするプラ
ズマディスプレイである。 10≦A≦50μm 10≦B≦50μm 0.2≦A/B≦5。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明は、ガラス基板上に電極層
および隔壁層を形成した後、蛍光体ペーストを塗布およ
び乾燥させて、蛍光体層を形成する方法に関し、本発明
方法は通常、蛍光体ペーストを任意の場所または全面に
塗布する工程(塗布工程)、基板を傾斜させて乾燥する
工程(乾燥工程)、焼成する工程(焼成工程)によって
構成される。
および隔壁層を形成した後、蛍光体ペーストを塗布およ
び乾燥させて、蛍光体層を形成する方法に関し、本発明
方法は通常、蛍光体ペーストを任意の場所または全面に
塗布する工程(塗布工程)、基板を傾斜させて乾燥する
工程(乾燥工程)、焼成する工程(焼成工程)によって
構成される。
【0011】以下、本発明に用いる材料について述べ
る。
る。
【0012】(ガラス基板)本発明に用いるガラス基板
は、公知のものであれば特に限定はないが、一般的なソ
ーダライムガラスやソーダライムガラスをアニール処理
したガラス、または、高歪み点ガラス(例えば、旭硝子
社製”PD−200”)等を用いることができる。ガラ
ス基板のサイズには特に限定はなく、1〜5mmの厚み
のガラスを用いることができる。
は、公知のものであれば特に限定はないが、一般的なソ
ーダライムガラスやソーダライムガラスをアニール処理
したガラス、または、高歪み点ガラス(例えば、旭硝子
社製”PD−200”)等を用いることができる。ガラ
ス基板のサイズには特に限定はなく、1〜5mmの厚み
のガラスを用いることができる。
【0013】また、ガラス基板上に、銀やアルミ、銅、
金、ニッケル、酸化錫、ITO等をスクリーン印刷や感
光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によ
って、電極層をパターン形成し、さらに電極の両側に隔
壁を設けたガラス基板を用いるのが一般的である。
金、ニッケル、酸化錫、ITO等をスクリーン印刷や感
光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によ
って、電極層をパターン形成し、さらに電極の両側に隔
壁を設けたガラス基板を用いるのが一般的である。
【0014】本発明は、高輝度なプラズマディスプレイ
であるため、隔壁のピッチP(μm)および線幅L(μ
m)が以下の範囲である、ことが好ましい。
であるため、隔壁のピッチP(μm)および線幅L(μ
m)が以下の範囲である、ことが好ましい。
【0015】100≦P≦200μm 10≦L≦50μm このような高精細な隔壁はサンドブラストまたはフォト
リソグラフィー法によって形成可能である。
リソグラフィー法によって形成可能である。
【0016】隔壁の材質はケイ素およびホウ素の酸化物
を必須成分とする公知のガラス材料が用いられる。ま
た、屈折率が1.5〜1.68のガラス材料を70重量
%以上含むことがフォトリソグラフィー法によって形成
する場合、特に有利である。
を必須成分とする公知のガラス材料が用いられる。ま
た、屈折率が1.5〜1.68のガラス材料を70重量
%以上含むことがフォトリソグラフィー法によって形成
する場合、特に有利である。
【0017】さらに、放電の安定化のために電極層の上
に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。
(蛍光体粉末)本発明に使用される蛍光体粉末としては
特に限定されず、公知の蛍光体粉末が適用される。例え
ば、赤色では、Y2O3:Eu、YVO4:Eu、(Y,
Gd)BO3:Eu,Y2O3S:Eu、γ−Zn3(PO
4)2:Mn、(ZnCd)S:Ag+In2O3などがあ
る。緑色では、Zn2GeO2:M、BaAl12O19:M
n、Zn2SiO4:Mn、LaPO4:Tb、ZnS:
Cu,Al、ZnS:Au,Cu,Al、(ZnCd)
S:Cu,Al、Zn2SiO4:Mn,As、Y3Al5
O12:Ce、CeMgAl11O19:Tb、Gd2O2S:
Tb、Y3Al5O12:Tb、ZnO:Znなどがある。
青色では、Sr5(PO4)3Cl:Eu、BaMgAl
14O23:Eu、BaMgAl16O27:Eu、BaMg2
Al14O24:Eu、ZnS:Ag+赤色顔料、Y2Si
O3:Ceなどである。
に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。
(蛍光体粉末)本発明に使用される蛍光体粉末としては
特に限定されず、公知の蛍光体粉末が適用される。例え
ば、赤色では、Y2O3:Eu、YVO4:Eu、(Y,
Gd)BO3:Eu,Y2O3S:Eu、γ−Zn3(PO
4)2:Mn、(ZnCd)S:Ag+In2O3などがあ
る。緑色では、Zn2GeO2:M、BaAl12O19:M
n、Zn2SiO4:Mn、LaPO4:Tb、ZnS:
Cu,Al、ZnS:Au,Cu,Al、(ZnCd)
S:Cu,Al、Zn2SiO4:Mn,As、Y3Al5
O12:Ce、CeMgAl11O19:Tb、Gd2O2S:
Tb、Y3Al5O12:Tb、ZnO:Znなどがある。
青色では、Sr5(PO4)3Cl:Eu、BaMgAl
14O23:Eu、BaMgAl16O27:Eu、BaMg2
Al14O24:Eu、ZnS:Ag+赤色顔料、Y2Si
O3:Ceなどである。
【0018】また、ツリウム(Tm)、テルビウム(T
b)およびユーロピウム(Eu)からなる群より選ばれ
た少なくとも1つの元素で、イットリウム(Y)、ガド
リウム(Gd)およびルテチウム(Lu)から選ばれた
少なくとも1つの母体構成稀土類元素を置換したタンタ
ル酸稀土類蛍光体が利用できる。好ましくは、タンタル
酸稀土類蛍光体が組成式Y1-xEuxTaO4(式中、X
はおよそ0.005〜0.1である)で表されるユーロ
ピウム付活タンタル酸イットリウム蛍光体である。
b)およびユーロピウム(Eu)からなる群より選ばれ
た少なくとも1つの元素で、イットリウム(Y)、ガド
リウム(Gd)およびルテチウム(Lu)から選ばれた
少なくとも1つの母体構成稀土類元素を置換したタンタ
ル酸稀土類蛍光体が利用できる。好ましくは、タンタル
酸稀土類蛍光体が組成式Y1-xEuxTaO4(式中、X
はおよそ0.005〜0.1である)で表されるユーロ
ピウム付活タンタル酸イットリウム蛍光体である。
【0019】赤色蛍光体には、ユーロピウム付活タンタ
ル酸イットリウムが好ましく、緑色蛍光体には、タンタ
ル酸稀土類蛍光体が組成式Y1-xTbxTaO4(式中、
Xはおよそ0.001〜0.2である)で表されるテル
ビウム付活タンタル酸イットリウムが好ましい。青色蛍
光体には、タンタル酸稀土類蛍光体がY1-xTbxTaO
4(式中、Xはおよそ0.001〜0.2である)で表
されるツリウム付活タンタル酸イットリウムが好まし
い。また、緑色蛍光体には、Mnがケイ酸亜鉛(Zn2
SiO4)母体量に対して0.2重量%以上、0.1重
量%未満付活された平均粒子径2.0μm以上8.0μ
m以下のマンガン付活亜鉛蛍光体(Zn2SiO4:M
n)および一般式が(Zn1-xMnx)O・αSiO
2(式中、Xおよびαは、0.01≦X≦0.2、0.
5<α≦1.5の範囲の値である)で表されるマンガン
付活ケイ酸亜鉛蛍光体が好ましい。
ル酸イットリウムが好ましく、緑色蛍光体には、タンタ
ル酸稀土類蛍光体が組成式Y1-xTbxTaO4(式中、
Xはおよそ0.001〜0.2である)で表されるテル
ビウム付活タンタル酸イットリウムが好ましい。青色蛍
光体には、タンタル酸稀土類蛍光体がY1-xTbxTaO
4(式中、Xはおよそ0.001〜0.2である)で表
されるツリウム付活タンタル酸イットリウムが好まし
い。また、緑色蛍光体には、Mnがケイ酸亜鉛(Zn2
SiO4)母体量に対して0.2重量%以上、0.1重
量%未満付活された平均粒子径2.0μm以上8.0μ
m以下のマンガン付活亜鉛蛍光体(Zn2SiO4:M
n)および一般式が(Zn1-xMnx)O・αSiO
2(式中、Xおよびαは、0.01≦X≦0.2、0.
5<α≦1.5の範囲の値である)で表されるマンガン
付活ケイ酸亜鉛蛍光体が好ましい。
【0020】蛍光体粉末量としては、40〜75重量%
であることが好ましい。40重量%以下では収縮率が大
きすぎるため剥がれや割れが生じ、75重量%を越える
と収縮率が小さすぎるため蛍光体層が50μm以上にな
る。
であることが好ましい。40重量%以下では収縮率が大
きすぎるため剥がれや割れが生じ、75重量%を越える
と収縮率が小さすぎるため蛍光体層が50μm以上にな
る。
【0021】上記において使用される蛍光体粉末粒子径
は、作製しようとする蛍光体層パターンの線幅、幅間隔
(スペース)および厚みを考慮して選ばれるが、粉末
は、50重量%粒子径が1〜6μm、比表面積0.1〜
2m2 /gであることが好ましい。この範囲にあると紫
外線露光時に光が充分透過し、高精度なパターン形状が
得られる。また、蛍光体の発光効率がよく、高寿命にな
るので好ましい。粉末粒子径が1.0μm未満、比表面
積が2.0m2 /gを越えると粉末が細かくなりすぎて
露光時に光が散乱され未露光部分が光硬化する。このた
め現像時にパターンの残膜(未露光部に余分な蛍光体が
残存すること)の発生が起こり、高精細なパターンが得
られない。さらに、蛍光体の発光効率や寿命が低下す
る。 蛍光体粉末の形状としては、多面体状(粒状)の
ものが使用できるが、凝集のない粉末が好ましい。その
中で球状の粉末は露光時に散乱の影響を少なくできるの
でより好ましい。球状粉末が球形率80個数%いじょう
の粒子形状を有していると好ましい。さらに好ましく
は、球形率90個数%以上である。球形率80個数%未
満である場合には、紫外線露光時に蛍光体粉末による散
乱の影響を受けて高精細なパターンが得られにくくな
る。球形率の測定は、蛍光体粉末を光学顕微鏡で300
倍の倍率にて撮影し、このうち計数可能な粒子を計数す
ることにより行い、球形のものの比率を球形率とする。
は、作製しようとする蛍光体層パターンの線幅、幅間隔
(スペース)および厚みを考慮して選ばれるが、粉末
は、50重量%粒子径が1〜6μm、比表面積0.1〜
2m2 /gであることが好ましい。この範囲にあると紫
外線露光時に光が充分透過し、高精度なパターン形状が
得られる。また、蛍光体の発光効率がよく、高寿命にな
るので好ましい。粉末粒子径が1.0μm未満、比表面
積が2.0m2 /gを越えると粉末が細かくなりすぎて
露光時に光が散乱され未露光部分が光硬化する。このた
め現像時にパターンの残膜(未露光部に余分な蛍光体が
残存すること)の発生が起こり、高精細なパターンが得
られない。さらに、蛍光体の発光効率や寿命が低下す
る。 蛍光体粉末の形状としては、多面体状(粒状)の
ものが使用できるが、凝集のない粉末が好ましい。その
中で球状の粉末は露光時に散乱の影響を少なくできるの
でより好ましい。球状粉末が球形率80個数%いじょう
の粒子形状を有していると好ましい。さらに好ましく
は、球形率90個数%以上である。球形率80個数%未
満である場合には、紫外線露光時に蛍光体粉末による散
乱の影響を受けて高精細なパターンが得られにくくな
る。球形率の測定は、蛍光体粉末を光学顕微鏡で300
倍の倍率にて撮影し、このうち計数可能な粒子を計数す
ることにより行い、球形のものの比率を球形率とする。
【0022】(有機成分)本発明に使用される有機成分
は、公知の有機バインダー、可塑剤および必要に応じて
分散剤、レベリング剤などの添加物が含まれる。
は、公知の有機バインダー、可塑剤および必要に応じて
分散剤、レベリング剤などの添加物が含まれる。
【0023】本発明では、この有機成分に溶媒は含んで
いない。
いない。
【0024】有機バインダーの具体的な例としては、
(ポリ)ビニルブチラール、(ポリ)ビニルアセテー
ト、(ポリ)ビニルアルコール、セルロース系ポリマー
(例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシエチルセル
ロース)、ポリエチレン、シリコンポリマー(例えば、
(ポリ)メチルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシ
ロキサン)、ポリスチレン、ブタジエン/スチレンコポ
リマー、ポリスチレン、(ポリ)ビニルピロリドン、ポ
リアミド、高分子量ポリエーテル、エチレンオキシドと
ポロピレンオキシドのコポリマーポリアクリルアミドお
よび種々のアクリルポリマー(例えば、ポリアクリル酸
ナトリウム、(ポリ)低級アルキルアクリレート、(ポ
リ)低級アルキルメタクリレートおよび低級アルキルア
クリレートおよびメタクリレートの種々のコポリマーお
よびマルチポリマーである。
(ポリ)ビニルブチラール、(ポリ)ビニルアセテー
ト、(ポリ)ビニルアルコール、セルロース系ポリマー
(例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシエチルセル
ロース)、ポリエチレン、シリコンポリマー(例えば、
(ポリ)メチルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシ
ロキサン)、ポリスチレン、ブタジエン/スチレンコポ
リマー、ポリスチレン、(ポリ)ビニルピロリドン、ポ
リアミド、高分子量ポリエーテル、エチレンオキシドと
ポロピレンオキシドのコポリマーポリアクリルアミドお
よび種々のアクリルポリマー(例えば、ポリアクリル酸
ナトリウム、(ポリ)低級アルキルアクリレート、(ポ
リ)低級アルキルメタクリレートおよび低級アルキルア
クリレートおよびメタクリレートの種々のコポリマーお
よびマルチポリマーである。
【0025】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。
【0026】本発明においては、感光性化合物を含む有
機成分と蛍光体粉末を必須成分とする感光性蛍光体ペー
ストを用いた蛍光体層形成も可能である。
機成分と蛍光体粉末を必須成分とする感光性蛍光体ペー
ストを用いた蛍光体層形成も可能である。
【0027】この場合の形成方法としては、電極層およ
び隔壁層を形成したガラス基板に、感光性蛍光体ペース
トを任意の場所または全面に塗布する工程、基板を傾斜
させて乾燥する工程、露光する工程、現像する工程、焼
成する工程によって構成される。
び隔壁層を形成したガラス基板に、感光性蛍光体ペース
トを任意の場所または全面に塗布する工程、基板を傾斜
させて乾燥する工程、露光する工程、現像する工程、焼
成する工程によって構成される。
【0028】感光性蛍光体ペーストに用いられる有機成
分は、感光性化合物を含む有機成分であることが必須で
ある。感光性化合物を含む有機成分とは、感光性ポリマ
ー、感光性モノマー、感光性オリゴマーのうち少なくと
も1種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要
に応じて光重合開始剤、増感剤紫外線吸光剤などの添加
物を加えることも行われる。
分は、感光性化合物を含む有機成分であることが必須で
ある。感光性化合物を含む有機成分とは、感光性ポリマ
ー、感光性モノマー、感光性オリゴマーのうち少なくと
も1種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要
に応じて光重合開始剤、増感剤紫外線吸光剤などの添加
物を加えることも行われる。
【0029】本発明に用いる感光性化合物を含む有機成
分量は、25〜60重量%であることが好ましい。25
重量%以下では感光不足のためパターン性が劣化し、6
0重量%以上では、焼成時の脱バインダー性が悪く焼成
不足になる。
分量は、25〜60重量%であることが好ましい。25
重量%以下では感光不足のためパターン性が劣化し、6
0重量%以上では、焼成時の脱バインダー性が悪く焼成
不足になる。
【0030】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 (A)分子内に不飽和基などを1つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの (B)芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの (C)ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 (A)分子内に不飽和基などを1つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの (B)芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの (C)ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
【0031】また、光可溶型のものとしては、 (D)ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの (E)キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン1,2−ジアジド−5−スルフォン酸エステル等
がある。
ス、キノンジアゾ類を含有するもの (E)キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン1,2−ジアジド−5−スルフォン酸エステル等
がある。
【0032】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、(1)のものが好ましい。
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、(1)のものが好ましい。
【0033】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチル
アクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソ−ブ
チルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n
−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキ
シトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジ
シクロペンテニルアクリレート、2−エチルヘキシルア
クリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルア
クリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキ
シルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリ
ルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メ
トキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエ
チレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチル
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステア
リルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、ア
リル化シクロヘキシルジアクリレート、1,4−ブタン
ジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘ
キシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、
フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、1−ナフチルアクリレー
ト、2−ナフチルアクリレート、ビスフェノールAジア
クリレート、ビスフェノールA−エチレンオキサイド付
加物のジアクリレート、ビスフェノールA−プロピレン
オキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールア
クリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、ま
た、これらの芳香環の水素原子のうち、1〜5個を塩素
または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレ
ン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−
メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α
−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシ
メチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナ
フタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、
および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もし
くはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2
−ピロリドンなどが挙げられる。
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチル
アクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソ−ブ
チルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n
−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキ
シトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジ
シクロペンテニルアクリレート、2−エチルヘキシルア
クリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルア
クリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキ
シルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリ
ルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メ
トキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエ
チレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチル
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステア
リルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、ア
リル化シクロヘキシルジアクリレート、1,4−ブタン
ジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘ
キシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、
フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、1−ナフチルアクリレー
ト、2−ナフチルアクリレート、ビスフェノールAジア
クリレート、ビスフェノールA−エチレンオキサイド付
加物のジアクリレート、ビスフェノールA−プロピレン
オキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールア
クリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、ま
た、これらの芳香環の水素原子のうち、1〜5個を塩素
または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレ
ン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−
メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α
−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシ
メチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナ
フタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、
および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もし
くはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2
−ピロリドンなどが挙げられる。
【0034】本発明ではこれらを1種または2種以上使
用することができる。
用することができる。
【0035】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。
【0036】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
【0037】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも1種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。
化合物のうち少なくとも1種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。
【0038】重合する際に、これらのモノマーの含有率
が10重量%以上、さらに好ましくは35重量%以上に
なるように、他の感光性のモノマーと共重合することが
できる。
が10重量%以上、さらに好ましくは35重量%以上に
なるように、他の感光性のモノマーと共重合することが
できる。
【0039】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
【0040】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
(AV)は50〜180、さらには70〜140の範囲
が好ましい。酸価が50未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が180を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
(AV)は50〜180、さらには70〜140の範囲
が好ましい。酸価が50未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が180を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。
【0041】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。
【0042】好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和
基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、
ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが
あげられる。
基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、
ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが
あげられる。
【0043】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。
【0044】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。
【0045】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、(メタ)アクリロイルイソシアネー
ト、(メタ)アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。
和化合物としては、(メタ)アクリロイルイソシアネー
ト、(メタ)アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。
【0046】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して0.05〜1モル当量付加させる
ことが好ましい。
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して0.05〜1モル当量付加させる
ことが好ましい。
【0047】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,
4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4−ジク
ロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,
2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−
2−フェニル−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチル
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジルベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシ
エチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2
−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノ
ン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズア
ントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4
−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−
アジドベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビス
(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサ
ノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−
メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパ
ンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、
1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エ
トキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エト
キシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキ
シム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、
ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニル
クロライド、N−フェニルチオアクリドン、4,4−ア
ゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、
ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィ
ン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェ
ニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチ
レンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、ト
リエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげら
れる。
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,
4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4−ジク
ロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,
2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−
2−フェニル−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチル
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジルベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシ
エチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2
−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノ
ン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズア
ントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4
−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−
アジドベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビス
(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサ
ノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−
メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパ
ンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、
1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エ
トキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エト
キシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキ
シム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、
ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニル
クロライド、N−フェニルチオアクリドン、4,4−ア
ゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、
ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィ
ン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェ
ニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチ
レンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、ト
リエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげら
れる。
【0048】本発明ではこれらを1種または2種以上使
用することができる。
用することができる。
【0049】光重合開始剤は、感光性成分に対し、0.
1〜6重量%の範囲で添加され、より好ましくは、0.
2〜5重量%である。重合開始剤の量が少なすぎると光
に対する感度が鈍くなり、光重合開始剤の量が多すぎれ
ば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
1〜6重量%の範囲で添加され、より好ましくは、0.
2〜5重量%である。重合開始剤の量が少なすぎると光
に対する感度が鈍くなり、光重合開始剤の量が多すぎれ
ば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【0050】紫外線吸光剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも35
0〜450nmの波長範囲で高UV吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、p−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の蛍光体層中に残存しないで吸光剤による輝度の低下
を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系お
よびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加
量は0.05〜5重量%が好ましい。0.05重量%以
下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、5重量%を越
えると焼成後に蛍光体層中に残存する可能性があり好ま
しくない。より好ましくは0.15〜1重量%である。
有機顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げ
ると、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製
し、次に該有機溶媒中にガラス粉末を混合後、乾燥する
ことによってできる。この方法によってガラス粉末の個
々の粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の粉末が作製できる。
る。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも35
0〜450nmの波長範囲で高UV吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、p−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の蛍光体層中に残存しないで吸光剤による輝度の低下
を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系お
よびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加
量は0.05〜5重量%が好ましい。0.05重量%以
下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、5重量%を越
えると焼成後に蛍光体層中に残存する可能性があり好ま
しくない。より好ましくは0.15〜1重量%である。
有機顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げ
ると、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製
し、次に該有機溶媒中にガラス粉末を混合後、乾燥する
ことによってできる。この方法によってガラス粉末の個
々の粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の粉末が作製できる。
【0051】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、2,4−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、2,3−ビ
ス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン、
2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)シクロヘ
キサノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
4,4−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、
4,4−ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4−ビ
ス(ジエチルアミノ)カルコン、p−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、p−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、2−(p−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン)−イソナフトチアゾール、1,3−ビス(4−
ジメチルアミノベンザル)アセトン、1,3−カルボニ
ル−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)アセトン、
3,3−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン)、N−フェニル−N−エチルエタノールアミン、N
−フェニルエタノールアミン、N−トリルジエタノール
アミン、N−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、3−フェニル−5−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、1−フェニル−5−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを1種また
は2種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常0.05〜10重量%、より
好ましくは0.1〜10重量%である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。
れる。増感剤の具体例としては、2,4−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、2,3−ビ
ス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン、
2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)シクロヘ
キサノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
4,4−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、
4,4−ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4−ビ
ス(ジエチルアミノ)カルコン、p−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、p−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、2−(p−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン)−イソナフトチアゾール、1,3−ビス(4−
ジメチルアミノベンザル)アセトン、1,3−カルボニ
ル−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)アセトン、
3,3−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン)、N−フェニル−N−エチルエタノールアミン、N
−フェニルエタノールアミン、N−トリルジエタノール
アミン、N−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、3−フェニル−5−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、1−フェニル−5−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを1種また
は2種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常0.05〜10重量%、より
好ましくは0.1〜10重量%である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。
【0052】(溶媒)本発明では、蛍光体ペーストの粘
度を調製したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このと
き使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ブチルカルビトールアセ
テート、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクト
ン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香
酸などやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混
合物が用いられる。
度を調製したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このと
き使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ブチルカルビトールアセ
テート、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクト
ン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香
酸などやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混
合物が用いられる。
【0053】感光性蛍光体ペーストは、通常、蛍光体粉
末、紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、
光重合開始剤および溶剤の各種成分を所定の組成となる
ように調合した後、3本ローラーや混練機で均質に混合
分散し作製する。
末、紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、
光重合開始剤および溶剤の各種成分を所定の組成となる
ように調合した後、3本ローラーや混練機で均質に混合
分散し作製する。
【0054】ペーストの粘度は蛍光体粉末、有機溶媒、
可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調
製されるが、その範囲は1〜50Psが好ましい。
可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調
製されるが、その範囲は1〜50Psが好ましい。
【0055】本発明に使用される有機溶媒量は、10〜
50重量%が好ましい。添加量が10重量%以下の場合
は粘度が50Ps以上となり、塗布時に隔壁の内部にペ
ーストが入りにくく、50重量%以上では、ペースト作
製時に粉末の沈殿が起こり分離してしまう。
50重量%が好ましい。添加量が10重量%以下の場合
は粘度が50Ps以上となり、塗布時に隔壁の内部にペ
ーストが入りにくく、50重量%以上では、ペースト作
製時に粉末の沈殿が起こり分離してしまう。
【0056】(蛍光体形成方法)次に本発明によって、
プラズマディスプレイの蛍光体層を形成する一例につい
て説明する。但し、本発明はこれに限定されない。
プラズマディスプレイの蛍光体層を形成する一例につい
て説明する。但し、本発明はこれに限定されない。
【0057】(1)塗布工程 電極層および隔壁層を形成したガラス基板上に、蛍光体
ペーストを任意の場所に塗布する。感光性蛍光体ペース
トを用いる場合は、任意の場所または全面塗布でもよ
い。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコータ
ー、ロールコーター、ダイコーター、インクジェット等
公知の方法を用いることが出来る。塗布厚みは、塗布回
数、コーターのギャップ、スクリーンのメッシュおよび
ペースト粘度を選ぶことによって調製できるが、プラズ
マディスプレイの蛍光体は隔壁底部および側面に10〜
50μmの厚みが必要であり、乾燥や焼成による収縮を
考慮して、20〜80μm程度の厚みで塗布することが
好ましい。
ペーストを任意の場所に塗布する。感光性蛍光体ペース
トを用いる場合は、任意の場所または全面塗布でもよ
い。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコータ
ー、ロールコーター、ダイコーター、インクジェット等
公知の方法を用いることが出来る。塗布厚みは、塗布回
数、コーターのギャップ、スクリーンのメッシュおよび
ペースト粘度を選ぶことによって調製できるが、プラズ
マディスプレイの蛍光体は隔壁底部および側面に10〜
50μmの厚みが必要であり、乾燥や焼成による収縮を
考慮して、20〜80μm程度の厚みで塗布することが
好ましい。
【0058】(2)乾燥工程 具体的には、乾燥工程においてガラス基板を150〜2
10度傾斜させることにより隔壁の側面および底部に蛍
光体層を均一に形成することができる。より好ましくは
170〜190度である。従来の乾燥方法では、ここで
いう0度の傾斜で乾燥を行っているため、塗布後蛍光体
ペーストが底に溜まり隔壁側面に蛍光体層を形成するの
が困難であった。
10度傾斜させることにより隔壁の側面および底部に蛍
光体層を均一に形成することができる。より好ましくは
170〜190度である。従来の乾燥方法では、ここで
いう0度の傾斜で乾燥を行っているため、塗布後蛍光体
ペーストが底に溜まり隔壁側面に蛍光体層を形成するの
が困難であった。
【0059】蛍光体層の厚みについては、側面および底
部に10〜50μmであることが好ましい。また、側面
/底部の比は0.2〜5.0の範囲にあることが好まし
い。
部に10〜50μmであることが好ましい。また、側面
/底部の比は0.2〜5.0の範囲にあることが好まし
い。
【0060】特に、本発明では基板を150〜210度
傾斜することによって蛍光体を隔壁側面および底部に同
時に形成することができるここで、傾斜の角度について
図1に示す。同図(a)に示すように、基板上に電極1
aおよび隔壁2aが垂直に形成されている状態のガラス
基板3aの角度を0度とする。これを基準に同図(b)
のように、時計回りまたは反時計回りの方向に傾斜した
時のガラス基板3bの角度Aを傾斜の角度とする。
傾斜することによって蛍光体を隔壁側面および底部に同
時に形成することができるここで、傾斜の角度について
図1に示す。同図(a)に示すように、基板上に電極1
aおよび隔壁2aが垂直に形成されている状態のガラス
基板3aの角度を0度とする。これを基準に同図(b)
のように、時計回りまたは反時計回りの方向に傾斜した
時のガラス基板3bの角度Aを傾斜の角度とする。
【0061】この乾燥時の傾斜が150度以下または2
10度以上のとき、底部および側面に10〜50μmの
厚みの蛍光体層が形成できない。
10度以上のとき、底部および側面に10〜50μmの
厚みの蛍光体層が形成できない。
【0062】塗布した後、乾燥を行う。ここで、隔壁の
側面および底部に均一に蛍光体層を形成するため塗布後
の基板を傾斜する。乾燥温度や傾斜角度はペースト組成
や粘性によって異なるが、乾燥温度は70〜140℃で
10〜60分行う。傾斜角度は150〜210度が好ま
しく、より好ましくは170〜190度で行うことでよ
り均一な蛍光体層が形成可能である。
側面および底部に均一に蛍光体層を形成するため塗布後
の基板を傾斜する。乾燥温度や傾斜角度はペースト組成
や粘性によって異なるが、乾燥温度は70〜140℃で
10〜60分行う。傾斜角度は150〜210度が好ま
しく、より好ましくは170〜190度で行うことでよ
り均一な蛍光体層が形成可能である。
【0063】(3)露光工程 感光性蛍光体ペーストを用いた場合、露光工程、現像工
程が必要である。露光は通常のフォトリソグラフィーで
行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する
方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分
の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選
定する。また、フォトマスクを用いずに、レーザー光な
どで直接描画する方法を用いても良い。露光装置として
は、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用い
ることができる。
程が必要である。露光は通常のフォトリソグラフィーで
行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する
方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分
の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選
定する。また、フォトマスクを用いずに、レーザー光な
どで直接描画する方法を用いても良い。露光装置として
は、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用い
ることができる。
【0064】また、大面積の露光を行う場合は、ガラス
基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬
送しながら露光を行うことによって、小さな有効露光面
積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬
送しながら露光を行うことによって、小さな有効露光面
積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【0065】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、X線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、X線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
【0066】フォトマスクを用いる場合は、パターン幅
の設計が重要である。通常は、隔壁ピッチから隔壁幅を
ひいた幅(スペース)と同じ幅を用いるが、アライメン
ト精度および露光時の光散乱を考慮して、スペースより
2〜30μm狭くしたパターンのフォトマスクを用いて
もよい。
の設計が重要である。通常は、隔壁ピッチから隔壁幅を
ひいた幅(スペース)と同じ幅を用いるが、アライメン
ト精度および露光時の光散乱を考慮して、スペースより
2〜30μm狭くしたパターンのフォトマスクを用いて
もよい。
【0067】(4)現像工程 露光後、現像液を使用して現像を行なうが、この場合、
浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行なう。
浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行なう。
【0068】現像液は、感光性ペースト中の有機成分が
溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒
にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化
合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。ア
ルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウ
ム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できる
が、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ
成分を除去しやすいので好ましい。
溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒
にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化
合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。ア
ルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウ
ム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できる
が、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ
成分を除去しやすいので好ましい。
【0069】有機アルカリとしては、公知のアミン化合
物を用いることができる。具体的には、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモ
ニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度
は通常0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜
5重量%である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が
除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部
を剥離させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良く
ない。また、現像時の現像温度は、20〜50℃で行う
ことが工程管理上好ましい。
物を用いることができる。具体的には、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモ
ニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度
は通常0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜
5重量%である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が
除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部
を剥離させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良く
ない。また、現像時の現像温度は、20〜50℃で行う
ことが工程管理上好ましい。
【0070】(5)焼成工程 次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や、温度はペー
ストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水
素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は400〜610
℃で行う。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト
式の連続型焼成炉を用いることができる。
ストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水
素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は400〜610
℃で行う。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト
式の連続型焼成炉を用いることができる。
【0071】また、以上の工程中に、乾燥、予備反応の
目的で、50〜300℃加熱工程を導入しても良い。
目的で、50〜300℃加熱工程を導入しても良い。
【0072】以上の工程によって得られた蛍光体層を有
するガラス基板はプラズマディスプレイの背面側に用い
ることができる。
するガラス基板はプラズマディスプレイの背面側に用い
ることができる。
【0073】形成したガラス基板を前背面のガラス基板
と合わせて封着し、ヘリウム、ネオン、キセノン等の希
ガスを封入することによって、プラズマディスプレイの
パネル部分を製造できる。
と合わせて封着し、ヘリウム、ネオン、キセノン等の希
ガスを封入することによって、プラズマディスプレイの
パネル部分を製造できる。
【0074】さらに、駆動用のドライバーICを実装す
ることによって、プラズマディスプレイを製造すること
ができる。
ることによって、プラズマディスプレイを製造すること
ができる。
【0075】
【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。但し、本発明はこれに限定されない。なお、
実施例、比較例中の濃度(%)は特に断らない限り重量
%である。
説明する。但し、本発明はこれに限定されない。なお、
実施例、比較例中の濃度(%)は特に断らない限り重量
%である。
【0076】実施例1 溶媒(エタノール)およびポリビニルアルコールを40
%溶液となるように混合し、攪拌しながら60℃まで加
熱し均質に溶解した。ついで溶液を室温まで冷却し、可
塑剤(ジブチルフタレート)、溶媒(エタノール)を表
1に示す比率で加えて溶解させた。その後、この溶液を
400メッシュのフィルターを用いて濾過し有機バイン
ダーを作製した。蛍光体粉末は、(赤:(Y,Gd,E
u)BO3、緑:(Zn,Mn)2SiO4、青:(B
a,Eu)MgAl10O17)の組成のものを用いた。上
記有機バインダーおよび蛍光体粉末を表1に示す組成に
なるように3本ローラーで混合・分散して蛍光体ペース
トを調整した。
%溶液となるように混合し、攪拌しながら60℃まで加
熱し均質に溶解した。ついで溶液を室温まで冷却し、可
塑剤(ジブチルフタレート)、溶媒(エタノール)を表
1に示す比率で加えて溶解させた。その後、この溶液を
400メッシュのフィルターを用いて濾過し有機バイン
ダーを作製した。蛍光体粉末は、(赤:(Y,Gd,E
u)BO3、緑:(Zn,Mn)2SiO4、青:(B
a,Eu)MgAl10O17)の組成のものを用いた。上
記有機バインダーおよび蛍光体粉末を表1に示す組成に
なるように3本ローラーで混合・分散して蛍光体ペース
トを調整した。
【0077】次に、高さ150μm,幅30μmの隔壁
が形成されたガラス基板上に赤,緑,青色の各ペースト
をストライプ状に塗布後、180度に傾斜し80℃で6
0分乾燥した。さらに、得られたガラス基板を500℃
で30分間焼成を行った。
が形成されたガラス基板上に赤,緑,青色の各ペースト
をストライプ状に塗布後、180度に傾斜し80℃で6
0分乾燥した。さらに、得られたガラス基板を500℃
で30分間焼成を行った。
【0078】評価は、側面厚み、底部厚みを電子顕微鏡
により観察した。輝度は輝度計により測定した。
により観察した。輝度は輝度計により測定した。
【0079】実施例2〜3 傾斜角度を170〜190度の間で変化させながら乾燥
した以外は、実施例1と同様にしてパターン形成を行っ
た。良好なパターンが形成できた。
した以外は、実施例1と同様にしてパターン形成を行っ
た。良好なパターンが形成できた。
【0080】実施例4 溶媒(γ−ブチルラクトン)および感光性ポリマー40
%溶液となるように混合し、攪拌しながら60℃まで加
熱しすべてのポリマーを均質に溶解させた。感光性ポリ
マーは、40%のメタクリル酸(MAA)、30%のメ
チルメタアクリレート(MMA)および30%のスチレ
ン(St)からなる共重合体のカルボキシル基に対して
0.4当量のグリシジルメタアクリレート(GMA)を
付加反応させた重量平均分子量43000、酸価95の
感光性ポリマーを用いた。ついで溶液を室温まで冷却
し、感光性モノマー、光重合開始剤、可塑剤(ジブチル
フタレート)、溶媒(γ−ブチルラクトン)等を加えて
溶解させた。その後、この溶液を400メッシュのフィ
ルターを用いて濾過し感光性有機バインダーを作製し
た。
%溶液となるように混合し、攪拌しながら60℃まで加
熱しすべてのポリマーを均質に溶解させた。感光性ポリ
マーは、40%のメタクリル酸(MAA)、30%のメ
チルメタアクリレート(MMA)および30%のスチレ
ン(St)からなる共重合体のカルボキシル基に対して
0.4当量のグリシジルメタアクリレート(GMA)を
付加反応させた重量平均分子量43000、酸価95の
感光性ポリマーを用いた。ついで溶液を室温まで冷却
し、感光性モノマー、光重合開始剤、可塑剤(ジブチル
フタレート)、溶媒(γ−ブチルラクトン)等を加えて
溶解させた。その後、この溶液を400メッシュのフィ
ルターを用いて濾過し感光性有機バインダーを作製し
た。
【0081】ここで、用いた感光性モノマー、光重合開
始剤は次のような化合物である。
始剤は次のような化合物である。
【0082】感光性モノマー;TMPTA(トリメチロ
ールプロパントリアクリレート)
ールプロパントリアクリレート)
【化1】
【0083】光重合開始剤;イルガキュア907(2−
メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノ
ホリノプロパノン−1)。
メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノ
ホリノプロパノン−1)。
【0084】次に、スダン−IVをガラス粉末に対して
0.18%の割合で秤量した。スダン−IVとは化学式
C24H20N4O、分子量380.45のアゾ系有機染料で
ある。そのスダン−IVをアセトンに溶解させ、分散剤を
加えてホモジナイザーで均質に攪拌し、この溶液中に蛍
光体粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエ
バポレーターを用いて150〜200℃の温度で乾燥
し、アセトンを完全に蒸発させた。こうして有機染料か
らなる紫外線吸収剤の膜で蛍光体粉末の表面を均質にコ
ーティングした粉末を作製した。蛍光体粉末は、(赤:
(Y,Gd,Eu)BO3、緑:(Zn,Mn)2Si
O4、青:(Ba,Eu)MgAl10O17)の組成のも
のを用いた。
0.18%の割合で秤量した。スダン−IVとは化学式
C24H20N4O、分子量380.45のアゾ系有機染料で
ある。そのスダン−IVをアセトンに溶解させ、分散剤を
加えてホモジナイザーで均質に攪拌し、この溶液中に蛍
光体粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエ
バポレーターを用いて150〜200℃の温度で乾燥
し、アセトンを完全に蒸発させた。こうして有機染料か
らなる紫外線吸収剤の膜で蛍光体粉末の表面を均質にコ
ーティングした粉末を作製した。蛍光体粉末は、(赤:
(Y,Gd,Eu)BO3、緑:(Zn,Mn)2Si
O4、青:(Ba,Eu)MgAl10O17)の組成のも
のを用いた。
【0085】上記感光性有機バインダーと上記紫外線吸
収剤添加の蛍光体粉末を表1に示す組成になるように添
加し、3本ローラーで混合・分散して、感光性蛍光体ペ
ーストを調整した。
収剤添加の蛍光体粉末を表1に示す組成になるように添
加し、3本ローラーで混合・分散して、感光性蛍光体ペ
ーストを調整した。
【0086】次に、高さ150μm,幅30μmの隔壁
が形成されたガラス基板上に感光性赤色蛍光体ペースト
を全面塗布後、180度に傾斜し80℃で60分乾燥し
た。乾燥後、室温まで冷却しフォトマスクをのせ100
mJ/cm2で露光し、さらに、アルカリ水溶液でシャ
ワー現像した。緑色の感光性蛍光体ペースト、青色の感
光性蛍光体ペーストについて同様に行い、赤,緑,青の
ストライプ状のパターンを形成した。さらに、得られた
ガラス基板を500℃で30分焼成を行った。
が形成されたガラス基板上に感光性赤色蛍光体ペースト
を全面塗布後、180度に傾斜し80℃で60分乾燥し
た。乾燥後、室温まで冷却しフォトマスクをのせ100
mJ/cm2で露光し、さらに、アルカリ水溶液でシャ
ワー現像した。緑色の感光性蛍光体ペースト、青色の感
光性蛍光体ペーストについて同様に行い、赤,緑,青の
ストライプ状のパターンを形成した。さらに、得られた
ガラス基板を500℃で30分焼成を行った。
【0087】評価は、側面厚み、底部厚みを電子顕微鏡
により観察した。輝度は輝度計により測定した。
により観察した。輝度は輝度計により測定した。
【0088】実施例5〜6 傾斜角度170〜190度の間で変化させながら乾燥し
た以外は、実施例4と同様にしてパターン形成を行っ
た。良好なパターンが形成できた。
た以外は、実施例4と同様にしてパターン形成を行っ
た。良好なパターンが形成できた。
【0089】得られた、蛍光体層の厚みおよび平均輝度
特性を表2に示した。
特性を表2に示した。
【0090】比較例1 傾斜角度を0度にした以外は、実施例1と同様にしてパ
ターン形成を行った。良好なパターンが形成できなかっ
た。
ターン形成を行った。良好なパターンが形成できなかっ
た。
【0091】
【表1】
【0092】
【表2】
【0093】
【発明の効果】本発明によって、隔壁の側面および底部
に均一に蛍光体層形成が可能となる。これによって、高
輝度なプラズマディスプレイが簡便に作製できる。
に均一に蛍光体層形成が可能となる。これによって、高
輝度なプラズマディスプレイが簡便に作製できる。
【図1】ガラス基板を傾斜させる際の傾斜の角度が0度
のときのガラス基板の側面図
のときのガラス基板の側面図
【図2】ガラス基板を傾斜させる際の傾斜の角度が90
度のときのガラス基板の側面図
度のときのガラス基板の側面図
【符号の説明】 1a、1b:電極 2a、2b:隔壁 3a、3b:ガラス基板
Claims (14)
- 【請求項1】ガラス基板上に電極層および隔壁層を形成
した後、蛍光体ペーストを塗布および乾燥させて、蛍光
体層を形成するプラズマディスプレイの製造方法におい
て、感光性ペーストの塗布後ガラス基板を150〜21
0度傾斜させることを特徴とするプラズマディスプレイ
の製造方法。 - 【請求項2】隔壁層が、そのピッチP(μm)および線
幅L(μm)が以下の範囲である、ストライプ状の隔壁
層であることを特徴とする請求項1記載のプラズマディ
スプレイの製造方法。 100≦P≦200 10≦L≦50 - 【請求項3】蛍光体ペーストが、有機成分、蛍光体粉末
および溶媒を含有するものであることを特徴とする請求
項1記載のプラズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項4】蛍光体ペースト中の各成分の組成が以下の
範囲であることを特徴とする請求項3記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法。 有機成分 :25〜60重量部 蛍光体粉末:40〜75重量部 溶媒 :10〜50重量部 - 【請求項5】有機成分が感光性化合物を含むことを特徴
とする請求項3記載のプラズマディスプレイの製造方
法。 - 【請求項6】蛍光体ペースト中の各成分の組成が以下の
範囲であることを特徴とする請求項5記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法。 感光性化合物を含む有機成分:25〜60重量部 蛍光体粉末 :40〜75重量部 溶媒 :10〜50重量部 光重合開始剤 :0.1〜6重量部 - 【請求項7】有機成分が、分子内にカルボキシル基を含
有する重量平均分子量500〜10万のオリゴマーもし
くはポリマーを10〜90重量%含むことを特徴とする
請求項5記載のプラズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項8】有機成分が、分子内に不飽和二重結合を有
する重量平均分子量500〜10万のオリゴマーもしく
はポリマーを10〜90重量%含むことを特徴とする請
求項5記載のプラズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項9】有機成分が、分子内にカルボキシル基と不
飽和二重結合を含有する重量平均分子量500〜10万
のオリゴマーもしくはポリマーを10〜90重量%含む
ことを特徴とする請求項5記載のプラズマディスプレイ
の製造方法。 - 【請求項10】有機成分が、多官能のアクリレート化合
物および/またはメタアクリレート化合物を10〜80
重量%含むことを特徴とする請求項5記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法。 - 【請求項11】有機成分が、紫外線吸収特性を持つ化合
物を0.05〜5重量%含有することを特徴とする請求
項5記載のプラズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項12】紫外線吸収特性を持つ化合物が、有機染
料であることを特徴とする請求項11記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法。 - 【請求項13】赤(R),緑(G),青(B)の蛍光体
層をストライプ状に形成することを特徴とする請求項1
記載のプラズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項14】プラズマディスプレイの蛍光体層の、隔
壁高さの半分の位置の側面厚み(A)および底部厚み
(B)が、以下の範囲であることを特徴とするプラズマ
ディスプレイ。 10≦A≦50(μm) 10≦B≦50(μm) 0.2≦A/B≦5
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8330948A JPH10172425A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | プラズマディスプレイおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8330948A JPH10172425A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | プラズマディスプレイおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10172425A true JPH10172425A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=18238210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8330948A Pending JPH10172425A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | プラズマディスプレイおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10172425A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002038146A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | インクジェット法用蛍光体及び蛍光体インキ |
-
1996
- 1996-12-11 JP JP8330948A patent/JPH10172425A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002038146A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | インクジェット法用蛍光体及び蛍光体インキ |
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