JPH10144777A - 真空吸着装置 - Google Patents
真空吸着装置Info
- Publication number
- JPH10144777A JPH10144777A JP30265996A JP30265996A JPH10144777A JP H10144777 A JPH10144777 A JP H10144777A JP 30265996 A JP30265996 A JP 30265996A JP 30265996 A JP30265996 A JP 30265996A JP H10144777 A JPH10144777 A JP H10144777A
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- Japan
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- vacuum suction
- sample
- seal portion
- seal
- suction device
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Abstract
(57)【要約】
【課題】試料の真空吸着装置と接する面における損傷の
発生を抑制することが可能な真空吸着装置を提供する。 【解決手段】基部７の上面に設けた複数の微小突起４で
形成された真空吸着部１と、真空吸着部１の周囲に配設
されたシール部２と、真空吸着部１に接続された真空排
気孔３とを含んで構成される真空吸着装置において、微
小突起４の上面の縁及びシール部２の上面の縁を円弧状
または直線状に面取りするか、あるいは微小突起４の上
面を球面状に、シール部２の上面を断面形状が円の一部
をなすように形成し、あるいは更に、真空吸着部１及び
シール部２の少なくとも試料５と接触する部分を試料５
より硬度が低い材料で形成する。
発生を抑制することが可能な真空吸着装置を提供する。 【解決手段】基部７の上面に設けた複数の微小突起４で
形成された真空吸着部１と、真空吸着部１の周囲に配設
されたシール部２と、真空吸着部１に接続された真空排
気孔３とを含んで構成される真空吸着装置において、微
小突起４の上面の縁及びシール部２の上面の縁を円弧状
または直線状に面取りするか、あるいは微小突起４の上
面を球面状に、シール部２の上面を断面形状が円の一部
をなすように形成し、あるいは更に、真空吸着部１及び
シール部２の少なくとも試料５と接触する部分を試料５
より硬度が低い材料で形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加工を施す試料等
を保持する真空吸着装置に関し、特に試料の真空吸着装
置と接する面における損傷の発生を抑制することが可能
な真空吸着装置に関するものである。
を保持する真空吸着装置に関し、特に試料の真空吸着装
置と接する面における損傷の発生を抑制することが可能
な真空吸着装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の真空吸着装置を示す図であ
る。この図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部の
１部断面図である。
る。この図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部の
１部断面図である。
【０００３】図に示す真空吸着装置は、基部７上に設け
た複数の同一の高さの角柱状のピン状微小突起４で形成
された真空吸着部１と、真空吸着部１の周囲に配設さ
れ、微小突起４と同一の高さを有する環状のシール部２
とを含んで構成されている。真空吸着部１とシール部２
の上面は高精度の平面に加工されている。また、真空吸
着部１の底部には真空排気を行う真空排気孔３が複数設
けられ、真空排気孔３は真空ポンプ（図示せず）に接続
されている。
た複数の同一の高さの角柱状のピン状微小突起４で形成
された真空吸着部１と、真空吸着部１の周囲に配設さ
れ、微小突起４と同一の高さを有する環状のシール部２
とを含んで構成されている。真空吸着部１とシール部２
の上面は高精度の平面に加工されている。また、真空吸
着部１の底部には真空排気を行う真空排気孔３が複数設
けられ、真空排気孔３は真空ポンプ（図示せず）に接続
されている。
【０００４】このような真空吸着装置の上面にウェーハ
等の試料５を載置した後、真空ポンプを作動させると、
真空排気孔３から矢印で示すように空気が排出され、真
空吸着部１と試料５の間は真空となり、大気圧によって
試料５は微小突起４上に押しつけられる。このため、試
料５は真空吸着部１の高精度な平面に倣い、反りや曲が
りは矯正され、真空吸着部１上に保持される。
等の試料５を載置した後、真空ポンプを作動させると、
真空排気孔３から矢印で示すように空気が排出され、真
空吸着部１と試料５の間は真空となり、大気圧によって
試料５は微小突起４上に押しつけられる。このため、試
料５は真空吸着部１の高精度な平面に倣い、反りや曲が
りは矯正され、真空吸着部１上に保持される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、真空排気の際
に試料５が微小突起４上を滑動したり、試料５と微小突
起４との間に介在する異物を除去するために試料５が微
小突起４上で前後左右に擦られたりすると、特に裏面が
鏡面のウェーハにおいては、微小突起４やシール部２の
上面の縁によって試料の真空吸着装置と接する面が損傷
する場合があるという問題があった。
に試料５が微小突起４上を滑動したり、試料５と微小突
起４との間に介在する異物を除去するために試料５が微
小突起４上で前後左右に擦られたりすると、特に裏面が
鏡面のウェーハにおいては、微小突起４やシール部２の
上面の縁によって試料の真空吸着装置と接する面が損傷
する場合があるという問題があった。
【０００６】本発明の目的は、上記問題点を解決して、
試料の真空吸着装置と接する面における損傷の発生を抑
制することが可能な真空吸着装置を提供することにあ
る。
試料の真空吸着装置と接する面における損傷の発生を抑
制することが可能な真空吸着装置を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、本発明の真空吸着装置は、基部の上面に設けた複
数の微小突起で形成された真空吸着部と、前記真空吸着
部の周囲に配設されたシール部と、前記真空吸着部に接
続された真空排気孔とを含んで構成される真空吸着装置
において、前記微小突起の上面の縁及び前記シール部の
上面の縁を円弧状または直線状に面取りするか、あるい
は前記微小突起の上面を球面状に、前記シール部の上面
を断面形状が円の一部をなすように形成する。
めに、本発明の真空吸着装置は、基部の上面に設けた複
数の微小突起で形成された真空吸着部と、前記真空吸着
部の周囲に配設されたシール部と、前記真空吸着部に接
続された真空排気孔とを含んで構成される真空吸着装置
において、前記微小突起の上面の縁及び前記シール部の
上面の縁を円弧状または直線状に面取りするか、あるい
は前記微小突起の上面を球面状に、前記シール部の上面
を断面形状が円の一部をなすように形成する。
【０００８】この場合、前記真空吸着部及び前記シール
部の少なくとも試料と接触する部分を、試料より硬度が
低い材料で形成する。
部の少なくとも試料と接触する部分を、試料より硬度が
低い材料で形成する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
【００１０】図１は、本発明の第１の実施の形態を示す
図である。図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部
断面図である。
図である。図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部
断面図である。
【００１１】図に示す真空吸着装置は、基部７上に設け
た複数の角柱状の微小突起４で形成された真空吸着部１
と、真空吸着部１の周囲に設けられ、微小突起４と高さ
が等しいシール部２と、真空吸着部１に接続される真空
排気孔３とを含んで構成される。
た複数の角柱状の微小突起４で形成された真空吸着部１
と、真空吸着部１の周囲に設けられ、微小突起４と高さ
が等しいシール部２と、真空吸着部１に接続される真空
排気孔３とを含んで構成される。
【００１２】また、図中の（ｃ）、（ｄ）は、微小突起
４とシール部２の形状を示す図である。これらのうち、
（ｃ）は、微小突起４の上面の縁及びシール部２の上面
の縁を直線状に面取りした場合の例を、（ｄ）は、微小
突起４の上面の縁及びシール部２の上面の縁を円弧状に
面取りした場合の例を示す。
４とシール部２の形状を示す図である。これらのうち、
（ｃ）は、微小突起４の上面の縁及びシール部２の上面
の縁を直線状に面取りした場合の例を、（ｄ）は、微小
突起４の上面の縁及びシール部２の上面の縁を円弧状に
面取りした場合の例を示す。
【００１３】図に示す上面の縁が直線状または円弧状に
面取りされた微小突起４は、真空吸着時に試料にたわみ
を生じない程度の間隔に試料厚さに応じて離散配置さ
れ、接触面積を減らすためにできる限り小さく造られ、
且つ、上面は高精度平面に加工されている。
面取りされた微小突起４は、真空吸着時に試料にたわみ
を生じない程度の間隔に試料厚さに応じて離散配置さ
れ、接触面積を減らすためにできる限り小さく造られ、
且つ、上面は高精度平面に加工されている。
【００１４】一例として、厚さが５００μｍより大の試
料５を吸着する場合に、微小突起４の間隔を１ｍｍ、微
小突起４を水平断面の１辺が０．２ｍｍの正方形の角柱
とした場合、試料５のたわみはほとんど観察されず、且
つ、試料５の裏面と微小突起４上面との接触率は、面取
りのない場合の約４％に比し、その半分以下にすること
ができる。従って、試料５と微小突起４との間に異物が
介在することによる影響を小さくさせることができ、試
料５の全面に亘って高い平面度が得られると同時に、面
取りにより微小突起４の上面の縁及びシール部２の上面
の縁の鋭いエッジがなくなるので、試料５の裏面におけ
る損傷の発生を抑制することもできる。
料５を吸着する場合に、微小突起４の間隔を１ｍｍ、微
小突起４を水平断面の１辺が０．２ｍｍの正方形の角柱
とした場合、試料５のたわみはほとんど観察されず、且
つ、試料５の裏面と微小突起４上面との接触率は、面取
りのない場合の約４％に比し、その半分以下にすること
ができる。従って、試料５と微小突起４との間に異物が
介在することによる影響を小さくさせることができ、試
料５の全面に亘って高い平面度が得られると同時に、面
取りにより微小突起４の上面の縁及びシール部２の上面
の縁の鋭いエッジがなくなるので、試料５の裏面におけ
る損傷の発生を抑制することもできる。
【００１５】図に示す真空吸着装置において、真空排気
孔３から空気を排出すると矢印のように空気が流れ、真
空吸着部１の周囲に配置されたシール部２の上面と試料
５の裏面とが接触してシール部２に囲まれた部分が密閉
され、試料５と真空吸着部１の間の圧力が下がり、試料
５は大気圧により微小突起上面に押しつけられて保持さ
れ、平面に矯正される。
孔３から空気を排出すると矢印のように空気が流れ、真
空吸着部１の周囲に配置されたシール部２の上面と試料
５の裏面とが接触してシール部２に囲まれた部分が密閉
され、試料５と真空吸着部１の間の圧力が下がり、試料
５は大気圧により微小突起上面に押しつけられて保持さ
れ、平面に矯正される。
【００１６】図２は、本発明の第２の実施の形態を示す
図である。図において、（ａ）は平面図、（ｂ）〜
（ｅ）は、微小突起４とシール部２の形状を示す図であ
る。図に示す（ｂ）〜（ｄ）の例においては微小突起４
は太さ一定の円柱状に、シール部２は断面が矩形状に形
成され、（ｅ）の例においては微小突起４は上端に向か
って先細の円柱状に、シール部２は断面が台形状に形成
されている。
図である。図において、（ａ）は平面図、（ｂ）〜
（ｅ）は、微小突起４とシール部２の形状を示す図であ
る。図に示す（ｂ）〜（ｄ）の例においては微小突起４
は太さ一定の円柱状に、シール部２は断面が矩形状に形
成され、（ｅ）の例においては微小突起４は上端に向か
って先細の円柱状に、シール部２は断面が台形状に形成
されている。
【００１７】これらのうち、（ｂ）は、微小突起４の上
面の縁及びシール部２の上面の縁を直線状に面取りした
場合の例を、（ｃ）は、微小突起４の上面の縁及びシー
ル部２の上面の縁を円弧状に面取りした場合の例を示
す。
面の縁及びシール部２の上面の縁を直線状に面取りした
場合の例を、（ｃ）は、微小突起４の上面の縁及びシー
ル部２の上面の縁を円弧状に面取りした場合の例を示
す。
【００１８】更に、（ｄ）、（ｅ）に示す例において
は、微小突起４の上面を球面状に、シール部２の上面
を、断面形状が円の一部をなすように形成した場合を示
す。この場合、試料５の裏面と微小突起４上面との接触
率を１％以下とすることが可能である。また、（ｅ）の
例においては、微小突起４の先端部の面積が小さいの
で、試料５の裏面と微小突起４上面との接触率は更に小
さく、且つ、微小突起４の根元の直径が大であるので破
損しにくいという利点を併せ持つ。なお、先細の円柱状
に代えて、先細の角柱状に形成してもよい。
は、微小突起４の上面を球面状に、シール部２の上面
を、断面形状が円の一部をなすように形成した場合を示
す。この場合、試料５の裏面と微小突起４上面との接触
率を１％以下とすることが可能である。また、（ｅ）の
例においては、微小突起４の先端部の面積が小さいの
で、試料５の裏面と微小突起４上面との接触率は更に小
さく、且つ、微小突起４の根元の直径が大であるので破
損しにくいという利点を併せ持つ。なお、先細の円柱状
に代えて、先細の角柱状に形成してもよい。
【００１９】図３は、本発明の第３の実施の形態を示す
図である。図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部
断面図である。
図である。図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部
断面図である。
【００２０】図に示す真空吸着装置においては、セラミ
ック、ステンレス鋼等からなる基部７の上面に試料５よ
り硬度が低い材料、例えば、硬質プラスチックまたはテ
フロン等からなる貼り付け材６を接着または溶着により
よって貼付し、貼り付け材６を加工して、上面が複数の
ピン状微小突起４で形成された真空吸着部１と、真空吸
着部１の周囲に配設された環状のシール部２とを形成す
る。真空吸着部１には、空気を排気する真空排気孔３が
接続される。
ック、ステンレス鋼等からなる基部７の上面に試料５よ
り硬度が低い材料、例えば、硬質プラスチックまたはテ
フロン等からなる貼り付け材６を接着または溶着により
よって貼付し、貼り付け材６を加工して、上面が複数の
ピン状微小突起４で形成された真空吸着部１と、真空吸
着部１の周囲に配設された環状のシール部２とを形成す
る。真空吸着部１には、空気を排気する真空排気孔３が
接続される。
【００２１】図には、微小突起４が角柱状の場合につい
て示したが、円柱状でもよい。
て示したが、円柱状でもよい。
【００２２】図に示す真空吸着装置において、真空排気
孔３から空気を排出すると矢印のように空気が流れ、真
空吸着部１の周囲に配置されたシール部２の上面と試料
５の裏面とが接触してシール部２に囲まれた部分が密閉
され、試料５と真空吸着部１の間の圧力が下がり、試料
５は大気圧により微小突起上面に押しつけられて保持さ
れ、平面に矯正される。
孔３から空気を排出すると矢印のように空気が流れ、真
空吸着部１の周囲に配置されたシール部２の上面と試料
５の裏面とが接触してシール部２に囲まれた部分が密閉
され、試料５と真空吸着部１の間の圧力が下がり、試料
５は大気圧により微小突起上面に押しつけられて保持さ
れ、平面に矯正される。
【００２３】この場合、試料５が微小突起４及びシール
部２上で滑動しても、微小突起４及びシール部は試料５
より硬度が低い材料で作られているので、試料５の裏面
における損傷の発生を抑制することが出来る。更に、微
小突起４の上面の縁及びシール部２の上面の縁を円弧状
または直線状に面取りするか、あるいは微小突起４の上
面を球面状に、シール部の上面を断面形状が円の一部を
なすように形成することにより、試料５と微小突起４及
びシール部２との接触面積を小さくすることが出来るの
で、試料５と微小突起４との間に異物が介在することに
よる影響を小さくさせることができる。
部２上で滑動しても、微小突起４及びシール部は試料５
より硬度が低い材料で作られているので、試料５の裏面
における損傷の発生を抑制することが出来る。更に、微
小突起４の上面の縁及びシール部２の上面の縁を円弧状
または直線状に面取りするか、あるいは微小突起４の上
面を球面状に、シール部の上面を断面形状が円の一部を
なすように形成することにより、試料５と微小突起４及
びシール部２との接触面積を小さくすることが出来るの
で、試料５と微小突起４との間に異物が介在することに
よる影響を小さくさせることができる。
【００２４】上記説明においては、本願発明を比較的簡
単な構造の真空吸着装置に適用する場合について述べた
が、本願発明の適用はこのような簡単な構造の真空吸着
装置に限定されるものではない。例えば、真空吸着部の
周囲に円環状溝を設け該溝の中にシール具を配置した真
空吸着装置（特願平６−３８０８０の図１、図３、特願
平７−４５２４０の図５、図６、図８参照）、真空吸着
部の上面とシール部の上面に突子を設けた真空吸着装置
（特願平６−２８４９７０の図１〜図６、特願平７−４
９５８１の図１〜図１２参照）、真空吸着部の周囲の円
環状溝に陽圧供給孔から陽圧空気を供給する真空吸着装
置（特願平７−８２３７１の図１〜図４参照）、真空吸
着部に円環状溝を設けた真空吸着装置（特願平７−１５
１３７３の図４参照）、真空吸着装置を有するエッチン
グ装置（特願平８−１００７９１参照）等にも適用可能
であることはいうまでもない。
単な構造の真空吸着装置に適用する場合について述べた
が、本願発明の適用はこのような簡単な構造の真空吸着
装置に限定されるものではない。例えば、真空吸着部の
周囲に円環状溝を設け該溝の中にシール具を配置した真
空吸着装置（特願平６−３８０８０の図１、図３、特願
平７−４５２４０の図５、図６、図８参照）、真空吸着
部の上面とシール部の上面に突子を設けた真空吸着装置
（特願平６−２８４９７０の図１〜図６、特願平７−４
９５８１の図１〜図１２参照）、真空吸着部の周囲の円
環状溝に陽圧供給孔から陽圧空気を供給する真空吸着装
置（特願平７−８２３７１の図１〜図４参照）、真空吸
着部に円環状溝を設けた真空吸着装置（特願平７−１５
１３７３の図４参照）、真空吸着装置を有するエッチン
グ装置（特願平８−１００７９１参照）等にも適用可能
であることはいうまでもない。
【００２５】
【発明の効果】本発明の真空吸着装置においては、真空
吸着部の微小突起の上面の縁及びシール部の上面の縁の
鋭いエッジがなくなるので、試料の裏面における損傷の
発生を抑制することが可能になるという効果がある。
吸着部の微小突起の上面の縁及びシール部の上面の縁の
鋭いエッジがなくなるので、試料の裏面における損傷の
発生を抑制することが可能になるという効果がある。
【００２６】また、試料の裏面と微小突起及びシール部
上面との接触面積を小さくすることが出来るので、試料
と微小突起またはシール部との間に異物が介在すること
による影響を小さくさせることができるという効果があ
る。
上面との接触面積を小さくすることが出来るので、試料
と微小突起またはシール部との間に異物が介在すること
による影響を小さくさせることができるという効果があ
る。
【００２７】逆に、微小突起やシール部と試料裏面との
接触面積を一定とした場合には、微小突起部やシール部
の根元を大きく作ることが可能となるので、微小突起部
やシール部の破損等の発生を減少させることが可能にな
るという効果がある。
接触面積を一定とした場合には、微小突起部やシール部
の根元を大きく作ることが可能となるので、微小突起部
やシール部の破損等の発生を減少させることが可能にな
るという効果がある。
【００２８】更に、真空吸着部及びシール部の少なくと
も試料と接触する部分を、試料より硬度が低い材料で形
成した場合には、微小突起及びシール部上で試料が滑動
しても、微小突起及びシール部は試料より硬度が低い材
料で作られているので、試料の裏面における損傷の発生
を抑制することが可能になるという効果がある。
も試料と接触する部分を、試料より硬度が低い材料で形
成した場合には、微小突起及びシール部上で試料が滑動
しても、微小突起及びシール部は試料より硬度が低い材
料で作られているので、試料の裏面における損傷の発生
を抑制することが可能になるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【図４】従来の真空吸着装置を示す図である。
１…真空吸着部 ２…シール部 ３…真空排気孔 ４…微小突起 ５…試料 ６…貼り付け材 ７…基部
Claims (2)
- 【請求項１】基部の上面に設けた複数の微小突起で形成
された真空吸着部と、 前記真空吸着部の周囲に配設されたシール部と、 前記真空吸着部に接続された真空排気孔と、を含んで構
成される真空吸着装置において、 前記微小突起の上面の縁及び前記シール部の上面の縁を
円弧状または直線状に面取りするか、あるいは前記微小
突起の上面を球面状に、前記シール部の上面を断面形状
が円の一部をなすように形成することを特徴とする真空
吸着装置。 - 【請求項２】請求項１に記載の真空吸着装置において、
前記真空吸着部及び前記シール部の少なくとも試料と接
触する部分は、試料より硬度が低い材料で形成すること
を特徴とする真空吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30265996A JPH10144777A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 真空吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30265996A JPH10144777A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 真空吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10144777A true JPH10144777A (ja) | 1998-05-29 |
Family
ID=17911650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30265996A Pending JPH10144777A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 真空吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10144777A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2001176957A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 吸着プレート及び真空吸引装置 |
| JP2011119326A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Tokyo Electron Ltd | 基板載置台、その製造方法及び基板処理装置 |
| US9740109B2 (en) | 2014-11-28 | 2017-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Holding device, lithography apparatus, and method for manufacturing item |
| KR20200007126A (ko) * | 2018-07-12 | 2020-01-22 | 주식회사 테스 | 기판처리장치의 진공 처킹 서셉터 |
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| JPH0230159A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-01-31 | Nikon Corp | 基板吸着装置 |
| JPH0547909A (ja) * | 1991-08-21 | 1993-02-26 | Canon Inc | ウエハチヤツク |
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-
1996
- 1996-11-14 JP JP30265996A patent/JPH10144777A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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