JPH1014266A - 静電チャック装置及び静電チャックを用いたウエハの保持方法及び静電チャックからのウエハの脱着方法 - Google Patents
静電チャック装置及び静電チャックを用いたウエハの保持方法及び静電チャックからのウエハの脱着方法Info
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- JPH1014266A JPH1014266A JP16121196A JP16121196A JPH1014266A JP H1014266 A JPH1014266 A JP H1014266A JP 16121196 A JP16121196 A JP 16121196A JP 16121196 A JP16121196 A JP 16121196A JP H1014266 A JPH1014266 A JP H1014266A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 温度変化を伴うプロセスに適用された際、静
電チャックが温度変化してもこれによってウエハ保持に
不都合が生じることを防止した、静電チャック装置の提
供が望まれている。 【解決手段】 静電チャック４と、静電チャック４の温
度を検出する温度検出部１０と、静電チャック４に吸着
力を発揮させるために静電チャック４に接続されてこれ
に直流電圧を印加する電源９と、温度検出部１０によっ
て検出された温度に基づき、電源９から印加する電圧の
電圧値を制御する制御部１１とを備えた静電チャック装
置２である。温度検出部によって検出された温度が予め
設定された温度より高くなると、制御部１１によって電
源９による印加電圧の電圧値を所定電圧値より下げ、予
め設定された温度より低くなると、制御部１１によって
電源９による印加電圧の電圧値を所定電圧値より上げ
る。
電チャックが温度変化してもこれによってウエハ保持に
不都合が生じることを防止した、静電チャック装置の提
供が望まれている。 【解決手段】 静電チャック４と、静電チャック４の温
度を検出する温度検出部１０と、静電チャック４に吸着
力を発揮させるために静電チャック４に接続されてこれ
に直流電圧を印加する電源９と、温度検出部１０によっ
て検出された温度に基づき、電源９から印加する電圧の
電圧値を制御する制御部１１とを備えた静電チャック装
置２である。温度検出部によって検出された温度が予め
設定された温度より高くなると、制御部１１によって電
源９による印加電圧の電圧値を所定電圧値より下げ、予
め設定された温度より低くなると、制御部１１によって
電源９による印加電圧の電圧値を所定電圧値より上げ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体および電子
デバイス部品に代表される微細プロセスにおいて、薄膜
形成やそのパターニングに広く使用されているエッチン
グ装置、ＣＶＤ装置、スパッタ装置等に好適に用いられ
る静電チャック装置、および静電チャックを用いたウエ
ハの保持方法と静電チャックからのウエハの脱着方法に
関する。
デバイス部品に代表される微細プロセスにおいて、薄膜
形成やそのパターニングに広く使用されているエッチン
グ装置、ＣＶＤ装置、スパッタ装置等に好適に用いられ
る静電チャック装置、および静電チャックを用いたウエ
ハの保持方法と静電チャックからのウエハの脱着方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エッチング装置、ＣＶＤ装置、ス
パッタ装置等の半導体製造装置においては、装置内にて
ウエハを処理するうえで、これを所定位置に固定するた
め、静電チャックが用いられている。静電チャックは、
絶縁体からなる誘電体と、この誘電体に誘電分極を起こ
させるための導体からなる電極とを備えて構成されるも
ので、電極に直流高圧電源が接続され、この直流高圧電
源から電極に直流電圧が印加されることにより誘電体が
誘電分極を起こし、これによって吸着力を発揮するもの
である。すなわち、この静電チャックによれば、直流電
圧の印加によって誘電体に吸着力を発揮させることによ
り、該誘電体上にウエハを吸着保持することができるの
である。
パッタ装置等の半導体製造装置においては、装置内にて
ウエハを処理するうえで、これを所定位置に固定するた
め、静電チャックが用いられている。静電チャックは、
絶縁体からなる誘電体と、この誘電体に誘電分極を起こ
させるための導体からなる電極とを備えて構成されるも
ので、電極に直流高圧電源が接続され、この直流高圧電
源から電極に直流電圧が印加されることにより誘電体が
誘電分極を起こし、これによって吸着力を発揮するもの
である。すなわち、この静電チャックによれば、直流電
圧の印加によって誘電体に吸着力を発揮させることによ
り、該誘電体上にウエハを吸着保持することができるの
である。
【０００３】また、このように静電チャック上にウエハ
を保持して所望の処理を行った後、該静電チャックから
ウエハを脱着するには、静電チャックに蓄積された電荷
を除去するべく先に印加した電圧と逆の電圧を印加し、
あるいはウエハに蓄積された電荷を除去するべく該ウエ
ハにプラズマを照射する、といったことがなされてい
る。
を保持して所望の処理を行った後、該静電チャックから
ウエハを脱着するには、静電チャックに蓄積された電荷
を除去するべく先に印加した電圧と逆の電圧を印加し、
あるいはウエハに蓄積された電荷を除去するべく該ウエ
ハにプラズマを照射する、といったことがなされてい
る。
【０００４】ところで、前記静電チャックを用いた処理
として、例えば各種のプラズマ処理を行う場合では、通
常、プラズマの発生に伴って静電チャックの温度が大き
く上昇してしまう。また、エッチング処理を行う場合な
どにおいて、一連の処理を複数のステップで行う場合で
は、ステップ間でウエハ温度を大きく変化させる必要が
あり、したがって静電チャックの温度を大きく変化させ
ることがある。
として、例えば各種のプラズマ処理を行う場合では、通
常、プラズマの発生に伴って静電チャックの温度が大き
く上昇してしまう。また、エッチング処理を行う場合な
どにおいて、一連の処理を複数のステップで行う場合で
は、ステップ間でウエハ温度を大きく変化させる必要が
あり、したがって静電チャックの温度を大きく変化させ
ることがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
処理の途中において静電チャックの温度を大きく変化さ
せると、以下に述べる不都合が生じる。静電チャックの
誘電体としては、一般にポリイミドやセラミックスが用
いられるが、ポリイミドは高温での使用に不適であるこ
とから、プラズマ処理などの高温での使用にあたっては
通常セラミックスが用いられる。しかしながら、セラミ
ックスは、図１１に示すように温度が高くなるとその固
有抵抗値が低くなり、温度が低くなるとその固有抵抗値
が高くなるというように、温度によって固有抵抗値が変
化し、したがってこれを用いた静電チャックの吸着力
も、図１２に示すように温度が高くなると吸着力が強く
なり、温度が低くなると吸着力が弱くなるというよう
に、温度変化によって変化する。
処理の途中において静電チャックの温度を大きく変化さ
せると、以下に述べる不都合が生じる。静電チャックの
誘電体としては、一般にポリイミドやセラミックスが用
いられるが、ポリイミドは高温での使用に不適であるこ
とから、プラズマ処理などの高温での使用にあたっては
通常セラミックスが用いられる。しかしながら、セラミ
ックスは、図１１に示すように温度が高くなるとその固
有抵抗値が低くなり、温度が低くなるとその固有抵抗値
が高くなるというように、温度によって固有抵抗値が変
化し、したがってこれを用いた静電チャックの吸着力
も、図１２に示すように温度が高くなると吸着力が強く
なり、温度が低くなると吸着力が弱くなるというよう
に、温度変化によって変化する。
【０００６】よって、一定の電圧が印加されている静電
チャックに温度変化が生じると、静電チャックの吸着
力、すなわちウエハ保持力が変化する。このとき、ウエ
ハ保持力が小さくなると、ウエハの位置ずれ等が起きて
処理が良好に行えなくなることがあり、ウエハ保持力が
大きくなると、ウエハを静電チャックから脱着する際、
ウエハが剥がれなくなることがある。
チャックに温度変化が生じると、静電チャックの吸着
力、すなわちウエハ保持力が変化する。このとき、ウエ
ハ保持力が小さくなると、ウエハの位置ずれ等が起きて
処理が良好に行えなくなることがあり、ウエハ保持力が
大きくなると、ウエハを静電チャックから脱着する際、
ウエハが剥がれなくなることがある。
【０００７】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、温度変化を伴うプロセス
に適用された際、静電チャックが温度変化してもこれに
よってウエハ保持に不都合が生じたり、あるいはウエハ
脱着に不都合が生じることを防止した、静電チャック装
置、および静電チャックを用いたウエハの保持方法と静
電チャックからのウエハの脱着方法とを提供することに
ある。
で、その目的とするところは、温度変化を伴うプロセス
に適用された際、静電チャックが温度変化してもこれに
よってウエハ保持に不都合が生じたり、あるいはウエハ
脱着に不都合が生じることを防止した、静電チャック装
置、および静電チャックを用いたウエハの保持方法と静
電チャックからのウエハの脱着方法とを提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、図１３に示すように
静電チャックへの印加電圧を温度によって変化させるこ
とにより、温度にかかわらず一定の吸着力を得ることが
できるとの考えに想到した。また、ウエハを静電チャッ
クから脱着するにあたっては、静電チャックまたはウエ
ハから電荷を逃がすべく、静電チャックに逆電圧を印加
したり、ウエハにプラズマを照射する際、静電チャック
の温度に応じて印加する逆電圧の電圧値や印加時間、ま
たプラズマの照射時間を制御することにより、温度に関
係なく安定した脱着を行うことができるとの考えに想到
した。そして、このような考えに基づき、さらに研究を
進めた結果、本発明を完成させたのである。
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、図１３に示すように
静電チャックへの印加電圧を温度によって変化させるこ
とにより、温度にかかわらず一定の吸着力を得ることが
できるとの考えに想到した。また、ウエハを静電チャッ
クから脱着するにあたっては、静電チャックまたはウエ
ハから電荷を逃がすべく、静電チャックに逆電圧を印加
したり、ウエハにプラズマを照射する際、静電チャック
の温度に応じて印加する逆電圧の電圧値や印加時間、ま
たプラズマの照射時間を制御することにより、温度に関
係なく安定した脱着を行うことができるとの考えに想到
した。そして、このような考えに基づき、さらに研究を
進めた結果、本発明を完成させたのである。
【０００９】すなわち、本発明における請求項１記載の
静電チャック装置では、静電チャックと、該静電チャッ
クの温度を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着
力を発揮させるために該静電チャックに接続されてこれ
に直流電圧を印加する電源とを具備してなり、前記温度
検出部によって検出された温度に基づき、前記電源から
印加する電圧の電圧値を制御する制御部を備えたことを
前記課題の解決手段とした。
静電チャック装置では、静電チャックと、該静電チャッ
クの温度を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着
力を発揮させるために該静電チャックに接続されてこれ
に直流電圧を印加する電源とを具備してなり、前記温度
検出部によって検出された温度に基づき、前記電源から
印加する電圧の電圧値を制御する制御部を備えたことを
前記課題の解決手段とした。
【００１０】この静電チャック装置によれば、制御部を
備えたことにより、例えば温度検出部によって検出され
た静電チャックの温度が予め設定された温度より高くな
ると、前記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値よ
り下げ、静電チャックの温度が前記予め設定された温度
より低くなると、前記電源による印加電圧の電圧値を所
定電圧値より上げるように前記制御部で制御すれば、静
電チャックの吸着力を温度変化に追従させて一定に維持
することが可能になる。
備えたことにより、例えば温度検出部によって検出され
た静電チャックの温度が予め設定された温度より高くな
ると、前記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値よ
り下げ、静電チャックの温度が前記予め設定された温度
より低くなると、前記電源による印加電圧の電圧値を所
定電圧値より上げるように前記制御部で制御すれば、静
電チャックの吸着力を温度変化に追従させて一定に維持
することが可能になる。
【００１１】請求項３記載の静電チャック装置では、静
電チャックと、該静電チャックの温度を検出する温度検
出部と、静電チャックに吸着力を発揮させるために該静
電チャックに接続されてこれに直流電圧を印加する電源
とを具備し、前記電源からの印加電圧の正負を逆に切り
換えるための切換部と、前記切換部によって前記電源か
ら印加された電圧の正負が逆に切り換えられる際、前記
温度検出部によって検出された温度に基づき、切り換え
後の電圧の電圧値を規定する逆電圧規定部を備えたこと
を前記課題の解決手段とした。
電チャックと、該静電チャックの温度を検出する温度検
出部と、静電チャックに吸着力を発揮させるために該静
電チャックに接続されてこれに直流電圧を印加する電源
とを具備し、前記電源からの印加電圧の正負を逆に切り
換えるための切換部と、前記切換部によって前記電源か
ら印加された電圧の正負が逆に切り換えられる際、前記
温度検出部によって検出された温度に基づき、切り換え
後の電圧の電圧値を規定する逆電圧規定部を備えたこと
を前記課題の解決手段とした。
【００１２】この静電チャック装置によれば、切換部と
逆電圧規定部とを備えたことにより、例えば静電チャッ
ク上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、温度
検出部によって検出された静電チャックの温度が予め設
定された温度より高い場合に、前記逆電圧規定部によっ
て前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予め設定さ
れた所定値より大きくし、静電チャックの温度が予め設
定された温度より低い場合に、前記逆電圧規定部によっ
て前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予め設定さ
れた所定値より小さくすれば、静電チャックの、ウエハ
保持時の吸着力に対応する電荷を除去することが可能に
なる。
逆電圧規定部とを備えたことにより、例えば静電チャッ
ク上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、温度
検出部によって検出された静電チャックの温度が予め設
定された温度より高い場合に、前記逆電圧規定部によっ
て前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予め設定さ
れた所定値より大きくし、静電チャックの温度が予め設
定された温度より低い場合に、前記逆電圧規定部によっ
て前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予め設定さ
れた所定値より小さくすれば、静電チャックの、ウエハ
保持時の吸着力に対応する電荷を除去することが可能に
なる。
【００１３】請求項５記載の静電チャック装置では、静
電チャックと、該静電チャックの温度を検出する温度検
出部と、静電チャックに吸着力を発揮させるために該静
電チャックに接続されてこれに直流電圧を印加する電源
とを具備し、前記電源からの印加電圧の正負を逆に切り
換えるための切換部と、前記切換部によって前記電源か
ら印加された電圧の正負が逆に切り換えられる際、前記
温度検出部によって検出された温度に基づき、切り換え
後の電圧の印加時間を規定する時間規定部とを備えたこ
とを前記課題の解決手段とした。
電チャックと、該静電チャックの温度を検出する温度検
出部と、静電チャックに吸着力を発揮させるために該静
電チャックに接続されてこれに直流電圧を印加する電源
とを具備し、前記電源からの印加電圧の正負を逆に切り
換えるための切換部と、前記切換部によって前記電源か
ら印加された電圧の正負が逆に切り換えられる際、前記
温度検出部によって検出された温度に基づき、切り換え
後の電圧の印加時間を規定する時間規定部とを備えたこ
とを前記課題の解決手段とした。
【００１４】この静電チャック装置によれば、切換部と
時間規定部とを備えたことにより、例えば静電チャック
上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、温度検
出部によって検出された静電チャックの温度が予め設定
された温度より高い場合に、前記時間規定部によって前
記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定された所定時
間より長くし、静電チャックの温度が予め設定された温
度より低い場合に、前記時間規定部によって前記切り換
え後の電圧の印加時間を予め設定された所定時間より短
くすれば、静電チャックの、ウエハ保持時の吸着力に対
応する電荷を除去することが可能になる。
時間規定部とを備えたことにより、例えば静電チャック
上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、温度検
出部によって検出された静電チャックの温度が予め設定
された温度より高い場合に、前記時間規定部によって前
記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定された所定時
間より長くし、静電チャックの温度が予め設定された温
度より低い場合に、前記時間規定部によって前記切り換
え後の電圧の印加時間を予め設定された所定時間より短
くすれば、静電チャックの、ウエハ保持時の吸着力に対
応する電荷を除去することが可能になる。
【００１５】請求項７記載の静電チャック装置では、静
電チャックと、該静電チャックの温度を検出する温度検
出部と、静電チャックに吸着力を発揮させるために該静
電チャックに接続されてこれに直流電圧を印加する電源
と、プラズマを発生させて該プラズマを前記静電チャッ
ク上に照射するプラズマ照射手段とを具備し、前記温度
検出部によって検出された温度に基づき、前記プラズマ
照射手段によるプラズマ照射時間を規定するプラズマ規
定部を備えたことを前記課題の解決手段とした。
電チャックと、該静電チャックの温度を検出する温度検
出部と、静電チャックに吸着力を発揮させるために該静
電チャックに接続されてこれに直流電圧を印加する電源
と、プラズマを発生させて該プラズマを前記静電チャッ
ク上に照射するプラズマ照射手段とを具備し、前記温度
検出部によって検出された温度に基づき、前記プラズマ
照射手段によるプラズマ照射時間を規定するプラズマ規
定部を備えたことを前記課題の解決手段とした。
【００１６】この静電チャック装置によれば、プラズマ
規定部を備えたことにより、例えば静電チャック上に吸
着保持されたウエハを脱着するに際して、温度検出部に
よって検出された静電チャックの温度が予め設定された
温度より高い場合に、前記プラズマ規定部によって前記
プラズマの照射時間を予め設定された所定時間より長く
し、静電チャックの温度が予め設定された温度より低い
場合に、前記プラズマ規定部によって前記プラズマの照
射時間を予め設定された所定時間より短くすれば、ウエ
ハの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去する
ことが可能になる。
規定部を備えたことにより、例えば静電チャック上に吸
着保持されたウエハを脱着するに際して、温度検出部に
よって検出された静電チャックの温度が予め設定された
温度より高い場合に、前記プラズマ規定部によって前記
プラズマの照射時間を予め設定された所定時間より長く
し、静電チャックの温度が予め設定された温度より低い
場合に、前記プラズマ規定部によって前記プラズマの照
射時間を予め設定された所定時間より短くすれば、ウエ
ハの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去する
ことが可能になる。
【００１７】請求項９記載の静電チャックからのウエハ
の脱着方法では、静電チャックと、該静電チャックの温
度を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発
揮させるために該静電チャックに接続されてこれに直流
電圧を印加する電源と、前記電源からの印加電圧の正負
を逆に切り換えるための切換部と、プラズマを発生させ
て該プラズマを前記静電チャック上に照射するプラズマ
照射手段とを備えた静電チャック装置を用い、前記静電
チャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際し
て、前記温度検出部によって検出された静電チャックの
温度に基づき、前記切換部によって前記電源から正負切
り換え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、前
記プラズマ照射手段によって静電チャック上のウエハに
プラズマを照射することを前記課題の解決手段とした。
の脱着方法では、静電チャックと、該静電チャックの温
度を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発
揮させるために該静電チャックに接続されてこれに直流
電圧を印加する電源と、前記電源からの印加電圧の正負
を逆に切り換えるための切換部と、プラズマを発生させ
て該プラズマを前記静電チャック上に照射するプラズマ
照射手段とを備えた静電チャック装置を用い、前記静電
チャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際し
て、前記温度検出部によって検出された静電チャックの
温度に基づき、前記切換部によって前記電源から正負切
り換え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、前
記プラズマ照射手段によって静電チャック上のウエハに
プラズマを照射することを前記課題の解決手段とした。
【００１８】この静電チャックからのウエハの脱着方法
によれば、温度検出部によって検出された静電チャック
の温度に基づき、切換部によって前記電源から正負切り
換え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、プラ
ズマ照射手段によって静電チャック上のウエハにプラズ
マを照射するので、切換部により、静電チャックの、ウ
エハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去することが可
能になり、また、プラズマ発生手段により、ウエハの、
ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去することが
可能になる。
によれば、温度検出部によって検出された静電チャック
の温度に基づき、切換部によって前記電源から正負切り
換え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、プラ
ズマ照射手段によって静電チャック上のウエハにプラズ
マを照射するので、切換部により、静電チャックの、ウ
エハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去することが可
能になり、また、プラズマ発生手段により、ウエハの、
ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去することが
可能になる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
図１は本発明における請求項１記載の静電チャック装置
をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施形態例を示す
図であり、図１において符号１はプラズマ処理装置、２
は静電チャック装置である。
図１は本発明における請求項１記載の静電チャック装置
をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施形態例を示す
図であり、図１において符号１はプラズマ処理装置、２
は静電チャック装置である。
【００２０】プラズマ処理装置１は、真空チャンバー３
と、該真空チャンバー３内に配設された前記静電チャッ
ク装置２と、この静電チャック装置２の静電チャック４
を載置固定する冷却ジャケット５とを備えたものであ
り、真空チャンバー３の外に配設された高周波発生装置
６ａと、電極板６ｂとからなるプラズマ照射手段６によ
ってプラズマＰを発生させ、静電チャッ４上に載置され
たウエハＷをプラズマ処理するものである。真空チャン
バー３には、真空ポンプ７とプロセスガス流量コントロ
ーラ８とが接続されており、これによって真空チャンバ
ー３内の圧力が放電可能な圧力に調整可能になり、かつ
所定のプラズマ処理が可能になっている。
と、該真空チャンバー３内に配設された前記静電チャッ
ク装置２と、この静電チャック装置２の静電チャック４
を載置固定する冷却ジャケット５とを備えたものであ
り、真空チャンバー３の外に配設された高周波発生装置
６ａと、電極板６ｂとからなるプラズマ照射手段６によ
ってプラズマＰを発生させ、静電チャッ４上に載置され
たウエハＷをプラズマ処理するものである。真空チャン
バー３には、真空ポンプ７とプロセスガス流量コントロ
ーラ８とが接続されており、これによって真空チャンバ
ー３内の圧力が放電可能な圧力に調整可能になり、かつ
所定のプラズマ処理が可能になっている。
【００２１】静電チャック装置２は、前述したように静
電チャック４と、直流高圧電源９と、温度検出部１０と
を備えて構成されたものである。静電チャック４は、従
来と同様に絶縁体からなる誘電体（図示略）と、この誘
電体に誘電分極を起こさせるための導体からなる電極
（図示略）とを有したもので、電極に前記直流高圧電源
９が接続され、この直流高圧電源９から電極に直流電圧
が印加されることによって吸着力を発揮するものであ
る。また、この静電チャック４には、該静電チャック４
の温度を検出する前記温度検出部１０が接続されてい
る。この温度検出部１０は、光ファイバ温度計によって
形成されたもので、静電チャック４の温度を検出し、そ
の検出値を制御部１１に出力するものである。制御部１
１は、前記温度検出部１０によって検出された温度に基
づき、前記直流高圧電源９から印加する電圧の電圧値を
制御するもので、これにより静電チャック４のウエハＷ
に対する吸着保持力を変化させるものである。
電チャック４と、直流高圧電源９と、温度検出部１０と
を備えて構成されたものである。静電チャック４は、従
来と同様に絶縁体からなる誘電体（図示略）と、この誘
電体に誘電分極を起こさせるための導体からなる電極
（図示略）とを有したもので、電極に前記直流高圧電源
９が接続され、この直流高圧電源９から電極に直流電圧
が印加されることによって吸着力を発揮するものであ
る。また、この静電チャック４には、該静電チャック４
の温度を検出する前記温度検出部１０が接続されてい
る。この温度検出部１０は、光ファイバ温度計によって
形成されたもので、静電チャック４の温度を検出し、そ
の検出値を制御部１１に出力するものである。制御部１
１は、前記温度検出部１０によって検出された温度に基
づき、前記直流高圧電源９から印加する電圧の電圧値を
制御するもので、これにより静電チャック４のウエハＷ
に対する吸着保持力を変化させるものである。
【００２２】前記冷却ジャケット５には、その上面側、
すなわち静電チャック４側にセラミックスヒータ１２が
配設されている。このセラミックスヒータ１２は、静電
チャック４を加熱し、これにより該静電チャック４を介
してこれの上に保持固定されたウエハＷを加熱するもの
で、このセラミックスヒータ１２には該ヒータ１２の加
熱の度合いを調整するための温度調節器１３が接続され
ている。また、冷却ジャケット５には、これにＨｅ（ヘ
リウム）ガス等の冷熱媒体を循環させて該冷却ジャケッ
ト５を冷却するための冷却装置１４が接続されている。
この冷却装置１４は、冷熱媒体を冷却ジャケット５に供
給するための配管と、供給した冷熱媒体を冷却ジャケッ
ト５から冷却装置１４に戻すための配管とを介して冷却
ジャケット５に接続されたもので、該配管には冷熱媒体
流量制御部１５が設けられている。冷熱媒体流量制御部
１５は電子制御バルブ等によって形成されたもので、冷
却装置１４から冷却ジャケット５に供給される冷熱媒体
の流量を調節し、これによって冷却ジャケット５の温度
を調節するものである。
すなわち静電チャック４側にセラミックスヒータ１２が
配設されている。このセラミックスヒータ１２は、静電
チャック４を加熱し、これにより該静電チャック４を介
してこれの上に保持固定されたウエハＷを加熱するもの
で、このセラミックスヒータ１２には該ヒータ１２の加
熱の度合いを調整するための温度調節器１３が接続され
ている。また、冷却ジャケット５には、これにＨｅ（ヘ
リウム）ガス等の冷熱媒体を循環させて該冷却ジャケッ
ト５を冷却するための冷却装置１４が接続されている。
この冷却装置１４は、冷熱媒体を冷却ジャケット５に供
給するための配管と、供給した冷熱媒体を冷却ジャケッ
ト５から冷却装置１４に戻すための配管とを介して冷却
ジャケット５に接続されたもので、該配管には冷熱媒体
流量制御部１５が設けられている。冷熱媒体流量制御部
１５は電子制御バルブ等によって形成されたもので、冷
却装置１４から冷却ジャケット５に供給される冷熱媒体
の流量を調節し、これによって冷却ジャケット５の温度
を調節するものである。
【００２３】次に、このようなプラズマ処理装置１、静
電チャック装置２を用いたプラズマ処理方法に基づき、
本発明における請求項２記載の静電チャックを用いたウ
エハの保持方法を説明する。まず、ウエハＷを静電チャ
ック装置２の静電チャック４上に載置し、さらにその状
態で真空ポンプ７を作動させ、真空チャンバー３内を真
空にする。次に、温度調節器１３を所定の温度となるよ
うに設定してセラミクスヒータ８に通電し、かつ冷却装
置１４を作動させて冷熱媒体を循環させ、これにより静
電チャック４上のウエハＷをプラズマ処理に適した所定
温度、例えば２５℃に調整する。
電チャック装置２を用いたプラズマ処理方法に基づき、
本発明における請求項２記載の静電チャックを用いたウ
エハの保持方法を説明する。まず、ウエハＷを静電チャ
ック装置２の静電チャック４上に載置し、さらにその状
態で真空ポンプ７を作動させ、真空チャンバー３内を真
空にする。次に、温度調節器１３を所定の温度となるよ
うに設定してセラミクスヒータ８に通電し、かつ冷却装
置１４を作動させて冷熱媒体を循環させ、これにより静
電チャック４上のウエハＷをプラズマ処理に適した所定
温度、例えば２５℃に調整する。
【００２４】次いで、プロセスガス流量コントローラ８
によって真空チャンバー３内を放電可能な圧力に調整
し、さらにこの状態で高周波発生装置６ａ、電極板６ｂ
によって真空チャンバー３内にプラズマＰを発生させ
る。また、静電チャック装置２の直流高圧電源９より静
電チャック４の電極（図示略）に所定の電圧値、例えば
５００Ｖの直流高電圧を印加し、これによって静電チャ
ック２に所定の吸着力を発揮させ、ウエハＷを静電チャ
ック２上に保持固定する。
によって真空チャンバー３内を放電可能な圧力に調整
し、さらにこの状態で高周波発生装置６ａ、電極板６ｂ
によって真空チャンバー３内にプラズマＰを発生させ
る。また、静電チャック装置２の直流高圧電源９より静
電チャック４の電極（図示略）に所定の電圧値、例えば
５００Ｖの直流高電圧を印加し、これによって静電チャ
ック２に所定の吸着力を発揮させ、ウエハＷを静電チャ
ック２上に保持固定する。
【００２５】このようにウエハＷを保持固定したら、プ
ロセスガス流量コントローラ８を開いてプロセスガスを
真空チャンバー３内に導入し、所望のプラズマ処理を行
う。このとき、ウエハＷを保持固定する静電チャック４
は、プラズマＰから熱が与えられることにより、その温
度が大きく上昇して例えば２００℃程度になる。そこ
で、本発明では、この静電チャック４の温度上昇（温度
変化）を温度検出部１０で連続的に検出する。そして、
検出された静電チャック４の温度が予め設定した温度よ
り高くなると、すなわち例えば２００℃になると、前記
制御部１１によって前記直流高圧電源９による印加電圧
の電圧値を所定電圧値（５００Ｖ）から例えば１５０Ｖ
に下げる。また、プロセスの内容によって静電チャック
４の温度が前記予め設定した温度より低くなった場合に
は、制御部１１によって直流高圧電源９による印加電圧
の電圧値を所定電圧値より上げる。
ロセスガス流量コントローラ８を開いてプロセスガスを
真空チャンバー３内に導入し、所望のプラズマ処理を行
う。このとき、ウエハＷを保持固定する静電チャック４
は、プラズマＰから熱が与えられることにより、その温
度が大きく上昇して例えば２００℃程度になる。そこ
で、本発明では、この静電チャック４の温度上昇（温度
変化）を温度検出部１０で連続的に検出する。そして、
検出された静電チャック４の温度が予め設定した温度よ
り高くなると、すなわち例えば２００℃になると、前記
制御部１１によって前記直流高圧電源９による印加電圧
の電圧値を所定電圧値（５００Ｖ）から例えば１５０Ｖ
に下げる。また、プロセスの内容によって静電チャック
４の温度が前記予め設定した温度より低くなった場合に
は、制御部１１によって直流高圧電源９による印加電圧
の電圧値を所定電圧値より上げる。
【００２６】ここで、静電チャック４の予め設定した温
度としては、例えば、ウエハＷを保持固定するべく吸着
力を発揮させるため、直流高電圧を印加したときの静電
チャック４の当初の設定温度（この例では２５℃）が採
用される。このようにプラズマ処理中において静電チャ
ック４の温度が変化したら、静電チャック４に印加する
電圧値を前述したように変化させることにより、予め設
定した静電チャック４の吸着保持力、すなわち静電チャ
ック４の当初の設定温度に対して印加した直流高電圧の
電圧値によって得られる吸着保持力を、静電チャック４
の温度変化にかかわらず維持できるのである。
度としては、例えば、ウエハＷを保持固定するべく吸着
力を発揮させるため、直流高電圧を印加したときの静電
チャック４の当初の設定温度（この例では２５℃）が採
用される。このようにプラズマ処理中において静電チャ
ック４の温度が変化したら、静電チャック４に印加する
電圧値を前述したように変化させることにより、予め設
定した静電チャック４の吸着保持力、すなわち静電チャ
ック４の当初の設定温度に対して印加した直流高電圧の
電圧値によって得られる吸着保持力を、静電チャック４
の温度変化にかかわらず維持できるのである。
【００２７】したがって、この静電チャック装置２を用
いたウエハの保持方法にあっては、静電チャック４の温
度変化にかかわらずその吸着保持力を一定に維持するこ
とができることから、ウエハ保持力が小さくなることに
起因するウエハＷの位置ずれや、ウエハ保持力が大きく
なることに起因してウエハ脱着時にウエハが剥がれなく
なるといった不都合を解消することができる。
いたウエハの保持方法にあっては、静電チャック４の温
度変化にかかわらずその吸着保持力を一定に維持するこ
とができることから、ウエハ保持力が小さくなることに
起因するウエハＷの位置ずれや、ウエハ保持力が大きく
なることに起因してウエハ脱着時にウエハが剥がれなく
なるといった不都合を解消することができる。
【００２８】また、このような静電チャック装置２を備
えたプラズマ処理装置１にあっては、エッチング処理な
ど一連の処理を複数のステップを、図２に示すようにス
テップ間で該静電チャック４の温度、すなわちウエハの
処理温度を大きく変化させて行うのに好適となる。つま
り、静電チャック４の温度変化に応じて印加電圧値を変
化させない従来のものでは、図２に示したように温度を
変化させると、静電チャック４の吸着力は図３に示すよ
うに温度変化に対応して大きく変化してしまい、このよ
うな変化に起因して前述したような不都合を生じてしま
う。しかして、静電チャック装置２を備えたプラズマ処
理装置１にあっては、静電チャック４の温度に応じて図
４に示すように印加電圧値を変化させることから、図４
中に示すように静電チャック４の吸着力を一定に維持で
きるのである。
えたプラズマ処理装置１にあっては、エッチング処理な
ど一連の処理を複数のステップを、図２に示すようにス
テップ間で該静電チャック４の温度、すなわちウエハの
処理温度を大きく変化させて行うのに好適となる。つま
り、静電チャック４の温度変化に応じて印加電圧値を変
化させない従来のものでは、図２に示したように温度を
変化させると、静電チャック４の吸着力は図３に示すよ
うに温度変化に対応して大きく変化してしまい、このよ
うな変化に起因して前述したような不都合を生じてしま
う。しかして、静電チャック装置２を備えたプラズマ処
理装置１にあっては、静電チャック４の温度に応じて図
４に示すように印加電圧値を変化させることから、図４
中に示すように静電チャック４の吸着力を一定に維持で
きるのである。
【００２９】図５は本発明における請求項３記載の静電
チャック装置をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施
形態例を示す図であり、図５において符号２０はプラズ
マ処理装置、２１は静電チャック装置である。この静電
チャック装置２１が図１に示した静電チャック装置２と
異なるところは、制御部１１に代えて、直流高圧電源９
に印加電圧の正負を逆に切り換えるための切換部２２を
備え、かつ、該切換部２２によって切り換えた後の電圧
の電圧値を規定する逆電圧規定部２３を備えた点にあ
る。すなわち、この静電チャック装置２１は、図１に示
した静電チャック装置２が静電チャック４の吸着力を一
定にすることを目的としているのと異なり、ウエハＷを
静電チャック４から取り外す際、静電チャック４の温度
変化に伴って吸着力が変化し、これによってウエハＷが
取り外せなくなることなどを防止するものである。
チャック装置をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施
形態例を示す図であり、図５において符号２０はプラズ
マ処理装置、２１は静電チャック装置である。この静電
チャック装置２１が図１に示した静電チャック装置２と
異なるところは、制御部１１に代えて、直流高圧電源９
に印加電圧の正負を逆に切り換えるための切換部２２を
備え、かつ、該切換部２２によって切り換えた後の電圧
の電圧値を規定する逆電圧規定部２３を備えた点にあ
る。すなわち、この静電チャック装置２１は、図１に示
した静電チャック装置２が静電チャック４の吸着力を一
定にすることを目的としているのと異なり、ウエハＷを
静電チャック４から取り外す際、静電チャック４の温度
変化に伴って吸着力が変化し、これによってウエハＷが
取り外せなくなることなどを防止するものである。
【００３０】切換部２２は、プラズマ処理装置２０の図
示しない処理制御部等に接続され、プラズマ処理が終了
した段階で自動的に、あるいは手動によって直流高圧電
源９からの印加電圧の正負を逆に切り換えるものであ
る。逆電圧規定部２３は、切換部２２によって印加電圧
の正負が逆に切り換えられる際、温度検出部１０によっ
て検出された静電チャック４の温度に基づき、切り換え
た後の電圧の電圧値を規定するものである。すなわちこ
の逆電圧規定部２３は、温度検出部１０によって検出さ
れた静電チャック４の温度が予め設定された温度より高
い場合に、図６に示すように逆電圧規定部２３によって
切り換え後の電圧の電圧値の絶対値Ｖ1 を予め設定され
た所定値Ｖ0 より大きくし、また、静電チャック４の温
度が予め設定された温度より低い場合に、逆電圧規定部
２３によって切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予め
設定された所定値より小さくするものである。
示しない処理制御部等に接続され、プラズマ処理が終了
した段階で自動的に、あるいは手動によって直流高圧電
源９からの印加電圧の正負を逆に切り換えるものであ
る。逆電圧規定部２３は、切換部２２によって印加電圧
の正負が逆に切り換えられる際、温度検出部１０によっ
て検出された静電チャック４の温度に基づき、切り換え
た後の電圧の電圧値を規定するものである。すなわちこ
の逆電圧規定部２３は、温度検出部１０によって検出さ
れた静電チャック４の温度が予め設定された温度より高
い場合に、図６に示すように逆電圧規定部２３によって
切り換え後の電圧の電圧値の絶対値Ｖ1 を予め設定され
た所定値Ｖ0 より大きくし、また、静電チャック４の温
度が予め設定された温度より低い場合に、逆電圧規定部
２３によって切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予め
設定された所定値より小さくするものである。
【００３１】ここで、静電チャック４の予め設定した温
度としては、例えば、先の例と同様にウエハＷを保持固
定するべく吸着力を発揮させるため、直流高電圧を印加
したときの静電チャック４の当初の設定温度とされる。
また、切り換え後の電圧の電圧値の予め設定された所定
値Ｖ0 としては、前記設定温度において、静電チャック
４に蓄積されている電荷を所定時間で除去できる電圧値
が採用される。なお、ここでいう所定時間としては、プ
ラズマ処理を行ううえで、その一連のプロセスのなかで
予め設定された時間が採用される。
度としては、例えば、先の例と同様にウエハＷを保持固
定するべく吸着力を発揮させるため、直流高電圧を印加
したときの静電チャック４の当初の設定温度とされる。
また、切り換え後の電圧の電圧値の予め設定された所定
値Ｖ0 としては、前記設定温度において、静電チャック
４に蓄積されている電荷を所定時間で除去できる電圧値
が採用される。なお、ここでいう所定時間としては、プ
ラズマ処理を行ううえで、その一連のプロセスのなかで
予め設定された時間が採用される。
【００３２】次に、このようなプラズマ処理装置２０、
静電チャック装置２１を用いたプラズマ処理方法に基づ
き、本発明における請求項４記載の静電チャックからの
ウエハの脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と
同様にして、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定
し、その状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理
中においては、静電チャック４への印加電圧値を変化さ
せることなく、所定電圧を一定に印加する。
静電チャック装置２１を用いたプラズマ処理方法に基づ
き、本発明における請求項４記載の静電チャックからの
ウエハの脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と
同様にして、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定
し、その状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理
中においては、静電チャック４への印加電圧値を変化さ
せることなく、所定電圧を一定に印加する。
【００３３】このようにしてプラズマ処理を終了した
ら、静電チャック４に蓄積された電荷を除去するべく、
切換部２２によって静電チャック４への印加電圧の正負
を逆にする。このとき、正負を逆にした電圧の電圧値に
ついては、予め温度検出部１０によって静電チャック４
の温度を検出しておき、その検出値に基づいて逆電圧規
定部２３で規定する。すなわち、静電チャック４の温度
が変化しない場合に比べ、温度変化によって静電チャッ
ク４に蓄積された電荷量が変化した分を相殺できるよう
に、印加する逆電圧の電圧値（絶対値）を規定するので
ある。
ら、静電チャック４に蓄積された電荷を除去するべく、
切換部２２によって静電チャック４への印加電圧の正負
を逆にする。このとき、正負を逆にした電圧の電圧値に
ついては、予め温度検出部１０によって静電チャック４
の温度を検出しておき、その検出値に基づいて逆電圧規
定部２３で規定する。すなわち、静電チャック４の温度
が変化しない場合に比べ、温度変化によって静電チャッ
ク４に蓄積された電荷量が変化した分を相殺できるよう
に、印加する逆電圧の電圧値（絶対値）を規定するので
ある。
【００３４】このようにして規定された逆電圧を静電チ
ャック４に印加することにより、静電チャック４に蓄積
された電荷が確実に除去され、これにより静電チャック
４の温度変化に起因して静電チャック４の吸着力が変化
し、ウエハＷが静電チャック４から取り外せなくなると
いったことがなくなる。したがって、この静電チャック
装置２１からのウエハの脱着方法にあっては、静電チャ
ック４の、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去
することができることから、ウエハＷが静電チャック４
から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プロセ
スを安定して進めることができる。
ャック４に印加することにより、静電チャック４に蓄積
された電荷が確実に除去され、これにより静電チャック
４の温度変化に起因して静電チャック４の吸着力が変化
し、ウエハＷが静電チャック４から取り外せなくなると
いったことがなくなる。したがって、この静電チャック
装置２１からのウエハの脱着方法にあっては、静電チャ
ック４の、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去
することができることから、ウエハＷが静電チャック４
から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プロセ
スを安定して進めることができる。
【００３５】図７は本発明における請求項５記載の静電
チャック装置をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施
形態例を示す図であり、図７において符号３０はプラズ
マ処理装置、３１は静電チャック装置である。この静電
チャック装置３１が図５に示した静電チャック装置２１
と異なるところは、前記逆電圧規定部２３に代えて、前
記切換部２２によって切り換えた後の電圧の印加時間を
規定する時間規定部３２を備えた点にある。すなわち、
この静電チャック装置３１も、図５に示した静電チャッ
ク装置２１と同様に、ウエハＷを静電チャック４から取
り外す際、静電チャック４の温度変化に伴って吸着力が
変化し、これによってウエハＷが取り外せなくなること
などを防止するものである。
チャック装置をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施
形態例を示す図であり、図７において符号３０はプラズ
マ処理装置、３１は静電チャック装置である。この静電
チャック装置３１が図５に示した静電チャック装置２１
と異なるところは、前記逆電圧規定部２３に代えて、前
記切換部２２によって切り換えた後の電圧の印加時間を
規定する時間規定部３２を備えた点にある。すなわち、
この静電チャック装置３１も、図５に示した静電チャッ
ク装置２１と同様に、ウエハＷを静電チャック４から取
り外す際、静電チャック４の温度変化に伴って吸着力が
変化し、これによってウエハＷが取り外せなくなること
などを防止するものである。
【００３６】時間規定部３２は、切換部２２によって印
加電圧の正負が逆に切り換えられる際、温度検出部１０
によって検出された静電チャック４の温度に基づき、切
り換えた後の電圧の印加時間を規定するものである。す
なわちこの時間規定部３２は、温度検出部１０によって
検出された静電チャック４の温度が予め設定された温度
より高い場合に、図８に示すように時間規定部３２によ
って切り換え後の電圧の印加時間ｔ1 を予め設定された
所定印加時間ｔ0 より長くし、また、静電チャック４の
温度が予め設定された温度より低い場合に、時間規定部
３２によって切り換え後の電圧の印加時間を予め設定さ
れた所定値より短くするものである。
加電圧の正負が逆に切り換えられる際、温度検出部１０
によって検出された静電チャック４の温度に基づき、切
り換えた後の電圧の印加時間を規定するものである。す
なわちこの時間規定部３２は、温度検出部１０によって
検出された静電チャック４の温度が予め設定された温度
より高い場合に、図８に示すように時間規定部３２によ
って切り換え後の電圧の印加時間ｔ1 を予め設定された
所定印加時間ｔ0 より長くし、また、静電チャック４の
温度が予め設定された温度より低い場合に、時間規定部
３２によって切り換え後の電圧の印加時間を予め設定さ
れた所定値より短くするものである。
【００３７】ここで、静電チャック４の予め設定した温
度としては、例えば、先の例と同様にウエハＷを保持固
定するべく吸着力を発揮させるため、直流高電圧を印加
したときの静電チャック４の当初の設定温度とされる。
また、切り換え後の電圧の予め設定された所定印加時間
ｔ0 としては、前記設定温度において、静電チャック４
に蓄積されている電荷を所定電圧で除去できる時間が採
用される。なお、ここでいう所定電圧としては、例え
ば、プラズマ処理中にウエハＷを保持固定するべく静電
チャック４に印加した電圧の電圧値と、絶対値が同じで
ある逆電圧が採用される。
度としては、例えば、先の例と同様にウエハＷを保持固
定するべく吸着力を発揮させるため、直流高電圧を印加
したときの静電チャック４の当初の設定温度とされる。
また、切り換え後の電圧の予め設定された所定印加時間
ｔ0 としては、前記設定温度において、静電チャック４
に蓄積されている電荷を所定電圧で除去できる時間が採
用される。なお、ここでいう所定電圧としては、例え
ば、プラズマ処理中にウエハＷを保持固定するべく静電
チャック４に印加した電圧の電圧値と、絶対値が同じで
ある逆電圧が採用される。
【００３８】次に、このようなプラズマ処理装置３０、
静電チャック装置３１を用いたプラズマ処理方法に基づ
き、本発明における請求項６記載の静電チャックからの
ウエハの脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と
同様にして、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定
し、その状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理
中においても、静電チャック４への印加電圧値を変化さ
せることなく、所定電圧を一定に印加する。
静電チャック装置３１を用いたプラズマ処理方法に基づ
き、本発明における請求項６記載の静電チャックからの
ウエハの脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と
同様にして、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定
し、その状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理
中においても、静電チャック４への印加電圧値を変化さ
せることなく、所定電圧を一定に印加する。
【００３９】このようにしてプラズマ処理を終了した
ら、静電チャック４に蓄積された電荷を除去するべく、
切換部２２によって静電チャック４への印加電圧の正負
を逆にする。このとき、正負を逆にした電圧の印加時間
については、予め温度検出部１０によって静電チャック
４の温度を検出しておき、その検出値に基づいて時間規
定部３２で規定する。すなわち、静電チャック４の温度
が変化しない場合に比べ、温度変化によって静電チャッ
ク４に蓄積された電荷量が変化した分を相殺できるよう
に、印加する逆電圧の印加時間を規定するのである。
ら、静電チャック４に蓄積された電荷を除去するべく、
切換部２２によって静電チャック４への印加電圧の正負
を逆にする。このとき、正負を逆にした電圧の印加時間
については、予め温度検出部１０によって静電チャック
４の温度を検出しておき、その検出値に基づいて時間規
定部３２で規定する。すなわち、静電チャック４の温度
が変化しない場合に比べ、温度変化によって静電チャッ
ク４に蓄積された電荷量が変化した分を相殺できるよう
に、印加する逆電圧の印加時間を規定するのである。
【００４０】このようにして規定された時間逆電圧を静
電チャック４に印加することにより、静電チャック４に
蓄積された電荷が確実に除去され、これにより静電チャ
ック４の温度変化に起因して静電チャック４の吸着力が
変化し、ウエハＷが静電チャック４から取り外せなくな
るといったことがなくなる。したがって、この静電チャ
ック装置３１からのウエハの脱着方法にあっても、静電
チャック４の、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を
除去することができることから、ウエハＷが静電チャッ
ク４から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プ
ロセスを安定して進めることができる。
電チャック４に印加することにより、静電チャック４に
蓄積された電荷が確実に除去され、これにより静電チャ
ック４の温度変化に起因して静電チャック４の吸着力が
変化し、ウエハＷが静電チャック４から取り外せなくな
るといったことがなくなる。したがって、この静電チャ
ック装置３１からのウエハの脱着方法にあっても、静電
チャック４の、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を
除去することができることから、ウエハＷが静電チャッ
ク４から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プ
ロセスを安定して進めることができる。
【００４１】図９は本発明における請求項７記載の静電
チャック装置をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施
形態例を示す図であり、図９において符号４０はプラズ
マ処理装置、４１は静電チャック装置である。この静電
チャック装置４１が図５に示した静電チャック装置２１
と異なるところは、静電チャック装置４１にプラズマ照
射手段６が備えられている点と、前記切換部２２、およ
び逆電圧規定部２３に代えて、前記プラズマ照射手段に
よるプラズマ照射時間を規定するプラズマ規定部４２を
備えた点にある。すなわち、この静電チャック装置４１
も、図５に示した静電チャック装置２１と同様に、ウエ
ハＷを静電チャック４から取り外す際、静電チャック４
の温度変化に伴って吸着力が変化し、これによってウエ
ハＷが取り外せなくなることを防止するものである。
チャック装置をプラズマ処理装置に用いた場合の一実施
形態例を示す図であり、図９において符号４０はプラズ
マ処理装置、４１は静電チャック装置である。この静電
チャック装置４１が図５に示した静電チャック装置２１
と異なるところは、静電チャック装置４１にプラズマ照
射手段６が備えられている点と、前記切換部２２、およ
び逆電圧規定部２３に代えて、前記プラズマ照射手段に
よるプラズマ照射時間を規定するプラズマ規定部４２を
備えた点にある。すなわち、この静電チャック装置４１
も、図５に示した静電チャック装置２１と同様に、ウエ
ハＷを静電チャック４から取り外す際、静電チャック４
の温度変化に伴って吸着力が変化し、これによってウエ
ハＷが取り外せなくなることを防止するものである。
【００４２】プラズマ照射手段６は、図１に示したプラ
ズマ照射手段６と同じ構成からなるもので、冷却ジャケ
ット５に接続されてこれに高周波を流すための高周波発
生装置６ａと、電極板６ｂとからなるものであり、静電
チャック４上にプラズマを照射して所望のプラズマ処理
を行うとともに、処理後、静電チャック４上に保持固定
されたウエハＷにプラズマを照射し、ウエハＷに蓄積さ
れた電荷を除去するためのものである。なお、この例に
おいては、プラズマ処理装置４０は静電チャック装置４
１を必須とし、この静電チャック装置４１のプラズマ照
射手段６を備えることによってプラズマ処理装置として
機能するようになっている。
ズマ照射手段６と同じ構成からなるもので、冷却ジャケ
ット５に接続されてこれに高周波を流すための高周波発
生装置６ａと、電極板６ｂとからなるものであり、静電
チャック４上にプラズマを照射して所望のプラズマ処理
を行うとともに、処理後、静電チャック４上に保持固定
されたウエハＷにプラズマを照射し、ウエハＷに蓄積さ
れた電荷を除去するためのものである。なお、この例に
おいては、プラズマ処理装置４０は静電チャック装置４
１を必須とし、この静電チャック装置４１のプラズマ照
射手段６を備えることによってプラズマ処理装置として
機能するようになっている。
【００４３】プラズマ規定部４２は、静電チャック４上
に吸着保持されたウエハＷを脱着する際に、温度検出部
１０によって検出された温度に基づき、前記プラズマ照
射手段６によるプラズマ照射時間を規定するもので、温
度検出部１０によって検出された静電チャック４の温度
が予め設定された温度より高い場合には、プラズマ照射
時間を予め設定された所定時間より長くし、静電チャッ
ク４の温度が予め設定された温度より低い場合には、プ
ラズマ照射時間を予め設定された所定時間より短くする
ものである。
に吸着保持されたウエハＷを脱着する際に、温度検出部
１０によって検出された温度に基づき、前記プラズマ照
射手段６によるプラズマ照射時間を規定するもので、温
度検出部１０によって検出された静電チャック４の温度
が予め設定された温度より高い場合には、プラズマ照射
時間を予め設定された所定時間より長くし、静電チャッ
ク４の温度が予め設定された温度より低い場合には、プ
ラズマ照射時間を予め設定された所定時間より短くする
ものである。
【００４４】ここで、静電チャック４の予め設定した温
度としては、例えば、先の例と同様にウエハＷを保持固
定するべく吸着力を発揮させるため、直流高電圧を印加
したときの静電チャック４の当初の設定温度とされる。
プラズマ規定部４２によるプラズマ照射時間の規定につ
いては、予め実験等によって求められたプラズマ照射時
間、すなわち、静電チャック４が前記設定温度にある場
合にウエハＷに蓄積された電荷を、プラズマ照射によっ
て除去するのに必要な時間を基準時間とし、前記設定温
度より高い場合に前記基準時間より長く、前記設定温度
より低い場合に前記基準時間より短くする。なお、静電
チャック４の検出温度と、プラズマ照射時間を基準時間
より長く、あるいは短くする度合いとの関係について
は、予め実験等によって求め、これをプラズマ規定部４
２に記憶させておく。
度としては、例えば、先の例と同様にウエハＷを保持固
定するべく吸着力を発揮させるため、直流高電圧を印加
したときの静電チャック４の当初の設定温度とされる。
プラズマ規定部４２によるプラズマ照射時間の規定につ
いては、予め実験等によって求められたプラズマ照射時
間、すなわち、静電チャック４が前記設定温度にある場
合にウエハＷに蓄積された電荷を、プラズマ照射によっ
て除去するのに必要な時間を基準時間とし、前記設定温
度より高い場合に前記基準時間より長く、前記設定温度
より低い場合に前記基準時間より短くする。なお、静電
チャック４の検出温度と、プラズマ照射時間を基準時間
より長く、あるいは短くする度合いとの関係について
は、予め実験等によって求め、これをプラズマ規定部４
２に記憶させておく。
【００４５】次に、このようなプラズマ処理装置４０、
静電チャック装置４１を用いたプラズマ処理方法に基づ
き、本発明における請求項８記載の静電チャックからの
ウエハの脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と
同様にして、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定
し、その状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理
中においても、静電チャック４への印加電圧値を変化さ
せることなく、所定電圧を一定に印加する。
静電チャック装置４１を用いたプラズマ処理方法に基づ
き、本発明における請求項８記載の静電チャックからの
ウエハの脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と
同様にして、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定
し、その状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理
中においても、静電チャック４への印加電圧値を変化さ
せることなく、所定電圧を一定に印加する。
【００４６】このようにして所望のプラズマ処理を行っ
たら、プラズマ処理に用いたプロセスガスの流入を停止
してプラズマ処理を終了し、その状態で、ウエハＷに蓄
積された電荷を除去するべく、プラズマ照射手段６によ
ってプラズマ照射のみを続行する。このとき、プラズマ
照射時間については、予め温度検出部１０によって静電
チャック４の温度を検出しておき、その検出値に基づい
てプラズマ規定部４２で規定する。すなわち、静電チャ
ック４の温度が変化しない場合に比べ、温度変化によっ
てウエハＷに蓄積された電荷量が変化した分を相殺でき
るように、プラズマ照射時間を規定するのである。
たら、プラズマ処理に用いたプロセスガスの流入を停止
してプラズマ処理を終了し、その状態で、ウエハＷに蓄
積された電荷を除去するべく、プラズマ照射手段６によ
ってプラズマ照射のみを続行する。このとき、プラズマ
照射時間については、予め温度検出部１０によって静電
チャック４の温度を検出しておき、その検出値に基づい
てプラズマ規定部４２で規定する。すなわち、静電チャ
ック４の温度が変化しない場合に比べ、温度変化によっ
てウエハＷに蓄積された電荷量が変化した分を相殺でき
るように、プラズマ照射時間を規定するのである。
【００４７】このようにしてプラズマを規定された時間
ウエハＷに照射することにより、ウエハＷに蓄積された
電荷が確実に除去され、これにより静電チャック４の温
度変化に起因して静電チャック４とウエハＷとの間の吸
着力が変化し、ウエハＷが静電チャック４から取り外せ
なくなるといったことがなくなる。したがって、この静
電チャック装置４１からのウエハの脱着方法にあって
も、ウエハＷの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷
を除去することができることから、ウエハＷが静電チャ
ック４から取り外せなくなるといった不都合を防止し、
プロセスを安定して進めることができる。
ウエハＷに照射することにより、ウエハＷに蓄積された
電荷が確実に除去され、これにより静電チャック４の温
度変化に起因して静電チャック４とウエハＷとの間の吸
着力が変化し、ウエハＷが静電チャック４から取り外せ
なくなるといったことがなくなる。したがって、この静
電チャック装置４１からのウエハの脱着方法にあって
も、ウエハＷの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷
を除去することができることから、ウエハＷが静電チャ
ック４から取り外せなくなるといった不都合を防止し、
プロセスを安定して進めることができる。
【００４８】図１０は本発明における請求項９記載の静
電チャックからのウエハの脱着方法が適用されるプラズ
マ処理装置の一例を示す図であり、図１０において符号
５０はプラズマ処理装置、５１は静電チャック装置であ
る。この静電チャック装置５１は、図７に示した静電チ
ャック装置３１と同様に切換部２２および時間規定部３
２を備え、かつ、図９に示した静電チャック装置４１と
同様にプラズ発生手段６およびプラズマ規定部４２を備
えて構成されたものである。なお、この例においても、
プラズマ処理装置５０は前記プラズマ処理装置４０と同
様に、静電チャック装置５１を必須とし、この静電チャ
ック装置５１のプラズマ照射手段６を備えることによっ
てプラズマ処理装置として機能するようになっている。
電チャックからのウエハの脱着方法が適用されるプラズ
マ処理装置の一例を示す図であり、図１０において符号
５０はプラズマ処理装置、５１は静電チャック装置であ
る。この静電チャック装置５１は、図７に示した静電チ
ャック装置３１と同様に切換部２２および時間規定部３
２を備え、かつ、図９に示した静電チャック装置４１と
同様にプラズ発生手段６およびプラズマ規定部４２を備
えて構成されたものである。なお、この例においても、
プラズマ処理装置５０は前記プラズマ処理装置４０と同
様に、静電チャック装置５１を必須とし、この静電チャ
ック装置５１のプラズマ照射手段６を備えることによっ
てプラズマ処理装置として機能するようになっている。
【００４９】このようなプラズマ処理装置５０、静電チ
ャック装置５１を用いたプラズマ処理方法に基づき、本
発明における請求項９記載の静電チャックからのウエハ
の脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と同様に
して、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定し、その
状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理中におい
ても、静電チャック４への印加電圧値を変化させること
なく、例えば５００Ｖを一定に印加し続ける。
ャック装置５１を用いたプラズマ処理方法に基づき、本
発明における請求項９記載の静電チャックからのウエハ
の脱着方法を説明する。まず、先に説明した例と同様に
して、ウエハＷを静電チャック４上に保持固定し、その
状態でプラズマ処理を行う。ただし、この処理中におい
ても、静電チャック４への印加電圧値を変化させること
なく、例えば５００Ｖを一定に印加し続ける。
【００５０】このようにして所望のプラズマ処理を行っ
たら、プラズマ処理に用いたプロセスガスの流入を停止
してプラズマ処理を終了し、その状態で、静電チャック
４に蓄積された電荷を除去するべく、切換部２２によっ
て静電チャック４への印加電圧の正負を逆にする。この
とき、正負を逆にした電圧の印加時間については、予め
温度検出部１０によって静電チャック４の温度を検出し
ておき、その検出値に基づいて時間規定部３２で規定す
る。例えば、前述したように静電チャック４に５００Ｖ
を印加し続けており、設定温度が２５℃であるのに対し
検出温度が２００℃となった場合、逆電圧を２秒間印加
する。
たら、プラズマ処理に用いたプロセスガスの流入を停止
してプラズマ処理を終了し、その状態で、静電チャック
４に蓄積された電荷を除去するべく、切換部２２によっ
て静電チャック４への印加電圧の正負を逆にする。この
とき、正負を逆にした電圧の印加時間については、予め
温度検出部１０によって静電チャック４の温度を検出し
ておき、その検出値に基づいて時間規定部３２で規定す
る。例えば、前述したように静電チャック４に５００Ｖ
を印加し続けており、設定温度が２５℃であるのに対し
検出温度が２００℃となった場合、逆電圧を２秒間印加
する。
【００５１】また、この逆電圧印加に続いて、ウエハＷ
に蓄積された電荷を除去するべく、プラズマ照射手段６
によってプラズマ照射を再度行う。このとき、プラズマ
照射時間については、予め温度検出部１０によって静電
チャック４の温度を検出しておき、その検出値に基づい
てプラズマ規定部４２で規定する。例えば、前述したよ
うに静電チャック４に５００Ｖを印加し続けており、設
定温度が２５℃であるのに対し検出温度が２００℃とな
った場合、逆電圧を２秒間印加した後、プラズマ照射を
３０秒間行う。
に蓄積された電荷を除去するべく、プラズマ照射手段６
によってプラズマ照射を再度行う。このとき、プラズマ
照射時間については、予め温度検出部１０によって静電
チャック４の温度を検出しておき、その検出値に基づい
てプラズマ規定部４２で規定する。例えば、前述したよ
うに静電チャック４に５００Ｖを印加し続けており、設
定温度が２５℃であるのに対し検出温度が２００℃とな
った場合、逆電圧を２秒間印加した後、プラズマ照射を
３０秒間行う。
【００５２】このようにして規定された時間逆電圧を静
電チャック４に印加し、さらにプラズマを規定された時
間ウエハＷに照射することにより、静電チャック４に蓄
積された電荷が確実に除去され、かつウエハＷに蓄積さ
れた電荷も確実に除去される。したがって、静電チャッ
ク４の温度変化に起因して静電チャック４とウエハＷと
の間の吸着力が変化し、ウエハＷが静電チャック４から
取り外せなくなるといったことがなくなり、これにより
プロセスをより安定して進めることができる。
電チャック４に印加し、さらにプラズマを規定された時
間ウエハＷに照射することにより、静電チャック４に蓄
積された電荷が確実に除去され、かつウエハＷに蓄積さ
れた電荷も確実に除去される。したがって、静電チャッ
ク４の温度変化に起因して静電チャック４とウエハＷと
の間の吸着力が変化し、ウエハＷが静電チャック４から
取り外せなくなるといったことがなくなり、これにより
プロセスをより安定して進めることができる。
【００５３】なお、図１０に示した例においては、静電
チャック装置５１として、切換部２２と時間規定部３２
とを備えたものとしたが、時間規定部３２に代えて図５
に示した逆電圧規定部２３を備えたものとしてもよい。
チャック装置５１として、切換部２２と時間規定部３２
とを備えたものとしたが、時間規定部３２に代えて図５
に示した逆電圧規定部２３を備えたものとしてもよい。
【００５４】
【発明の効果】以上説明したように本発明における請求
項１記載の静電チャック装置は、制御部を備えたもので
あるから、例えば温度検出部によって検出された静電チ
ャックの温度が予め設定された温度より高くなると、前
記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値より下げ、
静電チャックの温度が前記予め設定された温度より低く
なると、前記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値
より上げるように前記制御部で制御すれば、静電チャッ
クの吸着力を温度変化に追従させて一定に維持すること
ができ、これにより静電チャックによるウエハ保持を安
定させてプロセスの安定化を図ることができる。
項１記載の静電チャック装置は、制御部を備えたもので
あるから、例えば温度検出部によって検出された静電チ
ャックの温度が予め設定された温度より高くなると、前
記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値より下げ、
静電チャックの温度が前記予め設定された温度より低く
なると、前記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値
より上げるように前記制御部で制御すれば、静電チャッ
クの吸着力を温度変化に追従させて一定に維持すること
ができ、これにより静電チャックによるウエハ保持を安
定させてプロセスの安定化を図ることができる。
【００５５】請求項３記載の静電チャック装置は、切換
部と逆電圧規定部とを備えたものであるから、例えば静
電チャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際し
て、温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記逆電圧規定
部によって前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予
め設定された所定値より大きくし、静電チャックの温度
が予め設定された温度より低い場合に、前記逆電圧規定
部によって前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予
め設定された所定値より小さくすれば、静電チャック
の、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去するこ
とができ、これによりウエハが静電チャックから取り外
せなくなるといった不都合を防止し、プロセスの安定化
を図ることができる。
部と逆電圧規定部とを備えたものであるから、例えば静
電チャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際し
て、温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記逆電圧規定
部によって前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予
め設定された所定値より大きくし、静電チャックの温度
が予め設定された温度より低い場合に、前記逆電圧規定
部によって前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予
め設定された所定値より小さくすれば、静電チャック
の、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除去するこ
とができ、これによりウエハが静電チャックから取り外
せなくなるといった不都合を防止し、プロセスの安定化
を図ることができる。
【００５６】請求項５記載の静電チャック装置は、切換
部と時間規定部とを備えたものであるから、例えば静電
チャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際し
て、温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記時間規定部
によって前記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定さ
れた所定時間より長くし、静電チャックの温度が予め設
定された温度より低い場合に、前記時間規定部によって
前記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定された所定
時間より短くすれば、静電チャックの、ウエハ保持時の
吸着力に対応する電荷を除去することができ、これによ
りウエハが静電チャックから取り外せなくなるといった
不都合を防止し、プロセスの安定化を図ることができ
る。
部と時間規定部とを備えたものであるから、例えば静電
チャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際し
て、温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記時間規定部
によって前記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定さ
れた所定時間より長くし、静電チャックの温度が予め設
定された温度より低い場合に、前記時間規定部によって
前記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定された所定
時間より短くすれば、静電チャックの、ウエハ保持時の
吸着力に対応する電荷を除去することができ、これによ
りウエハが静電チャックから取り外せなくなるといった
不都合を防止し、プロセスの安定化を図ることができ
る。
【００５７】請求項７記載の静電チャック装置は、プラ
ズマ規定部を備えたものであるから、例えば静電チャッ
ク上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、温度
検出部によって検出された静電チャックの温度が予め設
定された温度より高い場合に、前記プラズマ規定部によ
って前記プラズマの照射時間を予め設定された所定時間
より長くし、静電チャックの温度が予め設定された温度
より低い場合に、前記プラズマ規定部によって前記プラ
ズマの照射時間を予め設定された所定時間より短くすれ
ば、ウエハの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を
除去することができ、これによりウエハが静電チャック
から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プロセ
スの安定化を図ることができる。
ズマ規定部を備えたものであるから、例えば静電チャッ
ク上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、温度
検出部によって検出された静電チャックの温度が予め設
定された温度より高い場合に、前記プラズマ規定部によ
って前記プラズマの照射時間を予め設定された所定時間
より長くし、静電チャックの温度が予め設定された温度
より低い場合に、前記プラズマ規定部によって前記プラ
ズマの照射時間を予め設定された所定時間より短くすれ
ば、ウエハの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を
除去することができ、これによりウエハが静電チャック
から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プロセ
スの安定化を図ることができる。
【００５８】請求項９記載の静電チャックからのウエハ
の脱着方法は、温度検出部によって検出された静電チャ
ックの温度に基づき、切換部によって前記電源から正負
切り換え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、
プラズマ照射手段によって静電チャック上のウエハにプ
ラズマを照射するものであるから、切換部により、静電
チャックの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除
去することが可能になり、また、プラズマ発生手段によ
り、ウエハの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を
除去することができ、これによりウエハが静電チャック
から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プロセ
スの安定化を図ることができる。
の脱着方法は、温度検出部によって検出された静電チャ
ックの温度に基づき、切換部によって前記電源から正負
切り換え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、
プラズマ照射手段によって静電チャック上のウエハにプ
ラズマを照射するものであるから、切換部により、静電
チャックの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を除
去することが可能になり、また、プラズマ発生手段によ
り、ウエハの、ウエハ保持時の吸着力に対応する電荷を
除去することができ、これによりウエハが静電チャック
から取り外せなくなるといった不都合を防止し、プロセ
スの安定化を図ることができる。
【図１】本発明における請求項１記載の静電チャック装
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
【図２】プロセス時間と静電チャック温度との関係を示
すグラフ図である。
すグラフ図である。
【図３】プロセス時間と静電チャックの吸着力との関係
を示すグラフ図である。
を示すグラフ図である。
【図４】プロセス時間と印加電圧および静電チャックの
吸着力との関係を示すグラフ図である。
吸着力との関係を示すグラフ図である。
【図５】本発明における請求項３記載の静電チャック装
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
【図６】図５に示した静電チャック装置による、逆電圧
の印加の仕方を説明するためのグラフ図である。
の印加の仕方を説明するためのグラフ図である。
【図７】本発明における請求項５記載の静電チャック装
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
【図８】図７に示した静電チャック装置による、逆電圧
の印加の仕方を説明するためのグラフ図である。
の印加の仕方を説明するためのグラフ図である。
【図９】本発明における請求項７記載の静電チャック装
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
置を用いたプラズマ処理装置の概略構成図である。
【図１０】本発明における請求項９記載の静電チャック
からのウエハの脱着方法に用いられる、プラズマ処理装
置の概略構成図である。
からのウエハの脱着方法に用いられる、プラズマ処理装
置の概略構成図である。
【図１１】セラミックスの固有抵抗値の、温度依存性を
示すグラフ図である。
示すグラフ図である。
【図１２】静電チャックの吸着力の、温度依存性を示す
グラフ図である。
グラフ図である。
【図１３】静電チャックの温度と印加電圧および静電チ
ャックの吸着力との関係を示すグラフ図である。
ャックの吸着力との関係を示すグラフ図である。
１、２０、３０、４０、５０ プラズマ処理装置 ２、２１、３１、４１、５１ 静電チャック装置 ４
静電チャック ６ プラズマ照射手段 ９ 直流高圧電源 １０
温度検出部 １１ 制御部 ２２ 切換部 ２３ 逆電圧規定部
３２ 時間規定部 ４２ プラズマ規定部
静電チャック ６ プラズマ照射手段 ９ 直流高圧電源 １０
温度検出部 １１ 制御部 ２２ 切換部 ２３ 逆電圧規定部
３２ 時間規定部 ４２ プラズマ規定部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ
Claims (9)
- 【請求項１】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源とを具備した静電チャック装置であっ
て、 前記温度検出部によって検出された温度に基づき、前記
電源から印加する電圧の電圧値を制御する制御部を備え
たことを特徴とする静電チャック装置。 - 【請求項２】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源と、前記温度検出部で検出された温度
に基づいて前記電源から印加する電圧の電圧値を制御す
る制御部を備えた静電チャック装置を用い、前記静電チ
ャック上にウエハを保持する方法であって、 前記温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高くなると、前記制御部によ
って前記電源による印加電圧の電圧値を所定電圧値より
下げ、 静電チャックの温度が前記予め設定された温度より低く
なると、前記制御部によって前記電源による印加電圧の
電圧値を所定電圧値より上げることを特徴とする静電チ
ャックを用いたウエハの保持方法。 - 【請求項３】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源とを具備した静電チャック装置であっ
て、 前記電源からの印加電圧の正負を逆に切り換えるための
切換部と、 前記切換部によって前記電源から印加された電圧の正負
が逆に切り換えられる際、前記温度検出部によって検出
された温度に基づき、切り換え後の電圧の電圧値を規定
する逆電圧規定部とを備えたことを特徴とする静電チャ
ック装置。 - 【請求項４】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源と、前記電源からの印加電圧の正負を
逆に切り換えるための切換部と、前記切換部によって前
記電源から印加された電圧の正負が逆に切り換えられる
際、前記温度検出部で検出された温度に基づいて切り換
え後の電圧の電圧値を規定する逆電圧規定部とを備えた
静電チャック装置を用い、前記静電チャック上に吸着保
持されたウエハを脱着するに際して、 前記温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記逆電圧規定
部によって前記切り換え後の電圧の電圧値の絶対値を予
め設定された所定値より大きくし、 静電チャックの温度が予め設定された温度より低い場合
に、前記逆電圧規定部によって前記切り換え後の電圧の
電圧値の絶対値を予め設定された所定値より小さくする
ことを特徴とする静電チャックからのウエハの脱着方
法。 - 【請求項５】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源とを具備した静電チャック装置であっ
て、 前記電源からの印加電圧の正負を逆に切り換えるための
切換部と、 前記切換部によって前記電源から印加された電圧の正負
が逆に切り換えられる際、前記温度検出部によって検出
された温度に基づき、切り換え後の電圧の印加時間を規
定する時間規定部とを備えたことを特徴とする静電チャ
ック装置。 - 【請求項６】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源と、前記電源からの印加電圧の正負を
逆に切り換えるための切換部と、前記切換部によって前
記電源から印加された電圧の正負が逆に切り換えられる
際、前記温度検出部で検出された温度に基づいて切り換
え後の電圧の印加時間を規定する時間規定部とを備えた
静電チャック装置を用い、前記静電チャック上に吸着保
持されたウエハを脱着するに際して、 前記温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記時間規定部
によって前記切り換え後の電圧の印加時間を予め設定さ
れた所定時間より長くし、 静電チャックの温度が予め設定された温度より低い場合
に、前記時間規定部によって前記切り換え後の電圧の印
加時間を予め設定された所定時間より短くすることを特
徴とする静電チャックからのウエハの脱着方法。 - 【請求項７】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源と、プラズマを発生させて該プラズマ
を前記静電チャック上に照射するプラズマ照射手段とを
具備した静電チャック装置であって、 前記温度検出部によって検出された温度に基づき、前記
プラズマ照射手段によるプラズマ照射時間を規定するプ
ラズマ規定部を備えたことを特徴とする静電チャック装
置。 - 【請求項８】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源と、プラズマを発生させて該プラズマ
を前記静電チャック上に照射するプラズマ照射手段と、
前記温度検出部で検出された温度に基づいて前記プラズ
マ照射手段によるプラズマ照射時間を規定するプラズマ
規定部とを備えた静電チャック装置を用い、前記静電チ
ャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、 前記温度検出部によって検出された静電チャックの温度
が予め設定された温度より高い場合に、前記プラズマ規
定部によって前記プラズマの照射時間を予め設定された
所定時間より長くし、 静電チャックの温度が予め設定された温度より低い場合
に、前記プラズマ規定部によって前記プラズマの照射時
間を予め設定された所定時間より短くすることを特徴と
する静電チャックからのウエハの脱着方法。 - 【請求項９】 静電チャックと、該静電チャックの温度
を検出する温度検出部と、静電チャックに吸着力を発揮
させるために該静電チャックに接続されてこれに直流電
圧を印加する電源と、前記電源からの印加電圧の正負を
逆に切り換えるための切換部と、プラズマを発生させて
該プラズマを前記静電チャック上に照射するプラズマ照
射手段とを備えた静電チャック装置を用い、前記静電チ
ャック上に吸着保持されたウエハを脱着するに際して、 前記温度検出部によって検出された静電チャックの温度
に基づき、前記切換部によって前記電源から正負切り換
え後の電圧を静電チャックに印加するとともに、前記プ
ラズマ照射手段によって静電チャック上のウエハにプラ
ズマを照射することを特徴とする静電チャックからのウ
エハの脱着方法。
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|---|---|---|---|
| JP16121196A JPH1014266A (ja) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | 静電チャック装置及び静電チャックを用いたウエハの保持方法及び静電チャックからのウエハの脱着方法 |
| US08/879,221 US6084763A (en) | 1996-06-21 | 1997-06-19 | Method of holding wafer, method of removing wafer and electrostatic chucking device |
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|---|---|---|---|
| JP16121196A JPH1014266A (ja) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | 静電チャック装置及び静電チャックを用いたウエハの保持方法及び静電チャックからのウエハの脱着方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1014266A true JPH1014266A (ja) | 1998-01-16 |
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ID=15730726
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16121196A Withdrawn JPH1014266A (ja) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | 静電チャック装置及び静電チャックを用いたウエハの保持方法及び静電チャックからのウエハの脱着方法 |
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|---|---|
| US (2) | US6084763A (ja) |
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