JPH10122573A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加熱室の内容積を小さくすることなく、任意
形状の被加熱物を均一に加熱できて、加熱むら及び解凍
むらを少なくできるようにする。 【解決手段】 加熱室１の壁面２ｄに、加熱室１の中心
下部に対向させ、加熱室底面との角度が４５度以上にな
るように平面反射面５１を設け、給電口４から送出され
る高周波３０を加熱室１の中心下部へ反射させるように
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱物の加熱む
ら及び解凍むらを少なくすることのできる高周波加熱装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図１７は従来の高周波加熱装置の構成を
示す正面断面図である。図において、１は加熱室であ
り、周壁となる金属板２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄと、後壁
となる金属板２ｅ及び前壁となる開閉扉（図示せず）と
で構成される直方体を呈している。３は高周波の発生源
であるマグネトロン、４は加熱室１に高周波３０を送出
させる給電口、５は被加熱物６を載置するテーブルであ
る。

【０００３】次に、従来の高周波加熱装置の動作につい
て図１７に基づき説明する。マグネトロン３で発生した
高周波３０は給電口４に導かれ、そして加熱室１の金属
板２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄに入射や反射を繰り返しなが
らテーブル５の上に置かれた被加熱物６に照射すること
によって、被加熱物６を加熱する。

【０００４】加熱室１は直方体からなり、かつ給電口４
から送出される高周波３０は直進する割合が多いため、
大部分は給電口４の対面に位置する金属板２ｄに入射
し、金属板２ｄで反射された高周波３０は金属板２ａに
入射し、金属板２ａで再度金属板２ｄに向けて反射され
る。このため、進行波と反射波で定在波が形成され、電
界の強い部分と弱い部分が生じる。これにより、電界の
強い部分では被加熱物６が強く加熱され、電界の弱い部
分では被加熱物６が殆ど加熱されない。したがって、被
加熱物６の加熱むら及び解凍むらが発生するという問題
が生じる。

【０００５】このような問題を解決する第１の技術とし
て特開平６−１９６２５７号公報に開示されるものがあ
る。図１８は同公報に開示されている高周波加熱装置を
示す正面断面図である。同公報のものは、加熱室１を構
成する天井板２０と底板２１の双方または一方を球面状
に形成し、マグネトロン３で発生して加熱室１内に導か
れて、加熱室１内の壁面などで反射、屈折を繰り返す高
周波３０が、天井板２０または底板２１のいずれかに入
射すると、この天井板２０または底板２１で反射する高
周波３０がテーブル５上に置かれた被加熱物６方向に向
かうようにして、高周波３０が被加熱物６を照射するま
での反射、屈折の繰り返し回数を少なくできるように
し、これによって高周波３０の減衰を少なくし、加熱効
率を高め、かつ加熱むら及び解凍むらを少なくできるよ
うにしている。

【０００６】また、前述のような問題を解決する第２の
技術として特開平４−１３７３９１号公報に開示される
ものがある。図１９は同公報に開示されている高周波加
熱装置を示す正面断面図である。同公報のものは、マイ
クロ波集束装置２２の加熱室１の内部に、別体からなる
第１の反射体２３と第２の反射体２４を対向配置し、ビ
ーム状マイクロ波発生器３Ａから発生した高周波３０
を、入射口４Ａからマイクロ波集束装置２２の加熱室内
部に導いて、２つの反射体２３，２４の間で連続的に往
復反射させ、２つの反射体２３，２４の間に配置された
被加熱物６部分を通過させることにより、急速加熱を可
能にさせている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、加熱室
１の天井板２０および底板２１を球面状に形成した前者
のものにあっては、加熱室１の内容積が必然的に小さく
なる。特に底板２１が球面状の場合、テーブル５の設置
可能エリアが限定され、テーブル５上に置かれる被加熱
物６の大きさ又は形状が限定される。テーブル５の設置
可能エリアを広げるためには、テーブル５を球面状底板
２１の円弧の内方に大きくズラせて設置する必要があ
り、この場合には加熱室１の内容積が一層小さくなるの
を避けられない。また加熱室１の内容積を確保するため
には、装置を外郭から大きくしなければならない。

【０００８】また、加熱室１の内部に別体からなる２つ
もの反射体２３，２４を対向配置した後者のものは、加
熱室１の内容積が前者のものよりも更に小さくなるのを
避けられない。したがって、テーブル上に置かれる被加
熱物６の大きさ又は形状が前者のものよりも更に限定さ
れるばかりでなく、反射体を複数別体構成としている
分、コストアップにもなる。

【０００９】いずれにしても、高周波加熱装置は被加熱
物を基本的に定在波中において加熱するものであるた
め、加熱室内の被加熱物に均等に高周波を照射させるこ
とは困難である。例えば徳利のように首の部分が括れて
いる形状の被加熱物の場合、均等に高周波が被加熱物に
照射されたとしても、必然的に首部が過加熱になるとい
う問題が依然として存在する。また被加熱物が例えば６
面体の場合、この被加熱物に均等に高周波が照射された
としても、実際には６面体被加熱物は、そのコーナ部に
おいては多方向から高周波が照射されるが、中心部はあ
る限定された方向からのみしか高周波の照射を受けな
い。したがって、中心部に比しコーナ部が過加熱になっ
てしまう。

【００１０】要するに、被加熱物に均等に高周波を照射
しても、被加熱物を均一に加熱することはできず、被加
熱物を均一に加熱するためには、被加熱物の中心部に対
する高周波の照射量をある程度増やさなければならな
い。

【００１１】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、加熱室の内容積を小さくするこ
となく、任意形状の被加熱物を均一に加熱できて、加熱
むら及び解凍むらを少なくすることのできる高周波加熱
装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室と、加熱
室に設けられ高周波を送出する給電口と、加熱室の壁面
に、加熱室の中心下部に対向させ、加熱室底面との角度
が４５度以上になるように形成され、給電口から送出さ
れる高周波を加熱室の中心下部へ反射させる平面反射面
と、を備えたものである。

【００１３】また、本発明の請求項２に係る高周波加熱
装置は、給電口の対面に位置する加熱室の壁面に平面反
射面を形成したものである。

【００１４】また、本発明の請求項３に係る高周波加熱
装置は、被加熱物を収容する加熱室と、加熱室に設けら
れ高周波を送出する給電口と、加熱室の壁面に、加熱室
の中心下部に対向するように形成され、加熱室寸法の最
小値の１／４よりも大きい曲率半径を有し、給電口から
送出される高周波を加熱室の中心下部へ反射させる凹面
状の曲面反射面と、を備えたものである。

【００１５】また、本発明の請求項４に係る高周波加熱
装置は、給電口の対面に位置する加熱室の壁面に曲面反
射面を形成したものである。

【００１６】また、本発明の請求項５に係る高周波加熱
装置は、被加熱物を収容する加熱室と、加熱室に設けら
れ、高周波を送出する給電口と、加熱室に設けられ、被
加熱物が載置され回転するターンテーブルと、ターンテ
ーブルの回転位置を検出する回転位置検出手段と、ター
ンテーブルに載置される被加熱物の形状及び位置を検出
する形状・位置検出手段と、加熱室にターンテーブルに
対向するように設けられた平面反射板と、平面反射板と
ターンテーブルとの角度を変化させるように平面反射板
を駆動させる反射板駆動手段と、回転位置検出手段によ
り検出されたターンテーブルの回転位置、および形状・
位置検出手段により検出された被加熱物の形状・位置に
基づいて、反射板駆動手段により平面反射板の角度を変
化させ、給電口から送出した高周波を被加熱物へ反射さ
せる反射板角度制御手段と、を備えたものである。

【００１７】

【発明の実施の形態】

実施形態１．図１は本発明の請求項１，２に係る高周波
加熱装置の第１例を示す正面断面図であり、図中、従来
の図１７に相当する部分には同一符号を付してある。

【００１８】図において、１は加熱室、３は高周波３０
の発生源であるマグネトロン、４は加熱室１に高周波３
０を送出させる給電口、５は被加熱物６を載置するテー
ブルである。加熱室１は、金属板からなる壁面２ａ，２
ｂ，２ｃ，２ｄと、給電口４の対面に位置する壁面２ｄ
の上部に形成されて上端側が給電口４側に傾斜する平面
反射板５１と、後壁を形成する金属板からなる壁面２ｅ
及び前壁となる開閉扉（図示せず）とから構成されてい
る。なお、平面反射板５１は平面反射面を示し、その加
熱室底面に対する角度が４５度以上に設定され、給電口
４から送出されて直進してきた高周波３０成分を斜め下
方に反射させて、この反射波を被加熱物６の中心部付近
の領域に照射させる機能を有している。それ以外の構成
は従来の図１７のものと同様である。

【００１９】次に、本実施形態の高周波加熱装置の動作
について図１に基づき説明する。マグネトロン３で発生
した高周波３０は給電口４へ導かれ、給電口４から加熱
室１内に送出される。加熱室１内に送出された高周波３
０成分は直進する割合が多いので、大部分の高周波３０
成分が加熱室１を形成する平面反射板５１に入射して、
平面反射板５１で斜め下方へ反射され、テーブル５の上
に置かれた被加熱物６の中心部付近の領域に照射する。
更に加熱室１下部の高周波３０成分は、テーブル５の上
に置かれた被加熱物６に直接照射され、あるいは給電口
４の対面に位置する垂直壁面２ｄと給電口４側の壁面２
ａとの間で反射を繰り返すうちに被加熱物６に照射さ
れ、または垂直壁面２ｄと給電口４側の壁面２ａとの間
で反射を繰り返すうちに平面反射板５１に入射して、平
面反射板５１で被加熱物６の中心部付近の領域に向けて
照射される。

【００２０】すなわち、給電口４の対面に位置する壁面
２ｄの上部を、上端側が給電口４側に傾斜する平面反射
板５１に形成することによって、加熱室１の形状を直方
体から崩し、定在波が形成されないようにして、電界の
強い部分と弱い部分が生じるのを防止している。そして
通常、被加熱物６の存在していない加熱室１上部の高周
波３０成分はその向きを平面反射板５１によって変えら
れ、テーブル５の上に置かれた被加熱物６の中心部付近
の領域に照射する。被加熱物６が図に示す如く縦長に置
かれている場合、このような被加熱物６は殆どが徳利か
それに類する液体収容容器であり、加熱の対象は下方に
位置する液体である。したがって平面反射板５１によっ
て向きが変えられた高周波３０成分は、被加熱物６が徳
利の場合、液体が収容されている下部に集中し、液体を
加熱する。更に加熱室１下部の反射波を含む高周波３０
成分によっても被加熱物６の液体は加熱される。これに
よって、液体中に対流が発生し、液体が効率良く加熱さ
れるとともに、徳利の上方に位置する首部が過加熱にな
るのが防止される。

【００２１】また、平面反射板５１の加熱室底面に対す
る傾きを４５度以上に設定して、給電口４から加熱室１
内に送出された大部分の高周波３０成分を、平面反射板
５１によって１回の反射でテーブル５上の被加熱物６の
中心部付近の領域に照射できるようにしているので、高
周波３０の減衰が少なくなり、加熱効率が向上し、被加
熱物６の加熱むら及び解凍むらを少なくすることができ
て、被加熱物６の均一加熱が可能となる。このため、加
熱時間の短縮化が図れ、電力消費量を抑えることができ
る。

【００２２】以上のような作用、効果は、テーブル５の
設置の有無に関係なく得られる。このことは、以下の実
施形態２〜１５についても同様である。

【００２３】実施形態２．図２は本発明の請求項１に係
る高周波加熱装置の第１例を示す側面断面図であり、図
中、従来の図１７に相当する部分には同一符号を付して
ある。

【００２４】この実施形態の高周波加熱装置は、加熱室
１の前面開口を覆う開閉扉７の対面に位置する壁面２ｅ
の上部に、上端側が開閉扉７側に傾斜する平面反射板５
２を形成している。なお、平面反射板５２は平面反射面
を示し、平面反射板５２の加熱室底面に対する角度は４
５度以上に設定されている。

【００２５】平面反射板５２は、加熱室１の形状を直方
体から崩し、定在波が形成されないようにして、電界の
強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能と、給電
口から送出されて反射、屈折により入射してきた高周波
成分を斜め下方に反射させて、この反射波を被加熱物６
の中心部付近の領域に照射させる機能と、を有してい
る。それ以外の構成は従来の図１７のものと同様であ
る。

【００２６】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第１実施形態と同様に平面反射板５２によっ
て被加熱物６の中心部に対する高周波の照射量を増やす
ことができるので、被加熱物６を均一に加熱することが
できる。

【００２７】実施形態３．図３は本発明の請求項１，２
に係る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であ
り、図中、前述の第１及び第２実施形態（図１，図２）
に相当する部分には同一符号を付してある。

【００２８】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの両側部に、両側端側が給
電口側に傾斜する平面反射板５３，５４を形成してい
る。なお、平面反射板５３，５４は平面反射面を示し、
各平面反射板５３，５４の給電口４に対する角度はそれ
ぞれ４５度以下に設定されている。

【００２９】平面反射板５３，５４は、加熱室１の形状
を直方体から崩し、定在波が形成されないようにして、
電界の強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能
と、給電口４から送出されて直進してきた高周波３０成
分を１回の反射でその進行方向を被加熱物６の中心部付
近の領域に向けさせて照射させる機能を有している。な
お、壁面２ｄの上部には前述の第１実施形態（図１）で
説明した平面反射板５１が設けられているが、ここでは
省略する。

【００３０】この実施形態の高周波加熱装置において
は、上部の平面反射板５１（図１）による被加熱物６の
中心部付近の領域への照射による効果と、平面反射板５
３，５４による被加熱物６の中心部付近の領域への照射
による効果の相乗効果により、被加熱物６に対する高周
波３０成分の照射量を更に増やすことができるので、加
熱効率が更に向上し、被加熱物６の加熱むら及び解凍む
らを少なくすることができて、被加熱物６の均一加熱を
短時間で達成することができる。

【００３１】実施形態４．図４は本発明の請求項１に係
る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であり、図
中、前述の第２実施形態（図２）に相当する部分には同
一符号を付してある。

【００３２】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７の対面に位置する壁面２ｅの両側部に、両側端側が開
閉扉側に傾斜する平面反射板５５，５６を形成してい
る。なお、各平面反射板５５，５６の開閉扉７に対する
角度はそれぞれ４５度以下に設定されている。

【００３３】平面反射板５５，５６は、加熱室１の形状
を直方体から崩し、定在波が形成されないようにして、
電界の強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能
と、給電口４から送出されて反射、屈折により入射して
きた高周波成分を被加熱物６の中心部付近の領域に向け
させて照射させる機能を有している。なお、壁面２ｅの
上部には前述の第２実施形態（図２）で説明した平面反
射板５２が設けられているが、ここでは省略する。

【００３４】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第３実施形態と同様に上部の平面反射板５２
（図２）による被加熱物６の中心部付近の領域への照射
による効果と、平面反射板５５，５６による被加熱物６
の中心部付近の領域への照射による効果の相乗効果によ
り、被加熱物６に対する高周波成分の照射量を更に増や
すことができるので、加熱効率が更に向上し、被加熱物
６の加熱むら及び解凍むらを少なくすることができて、
被加熱物６の均一加熱を短時間で達成することができ
る。

【００３５】実施形態５．図５は本発明の請求項３，４
に係る高周波加熱装置の第１例を示す正面断面図であ
り、図中、前述の第１実施形態（図１）に相当する部分
には同一符号を付してある。

【００３６】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの上部に、加熱室１の中心
下部に対向するように凹面状の曲面反射板５７を設けて
いる。なお、曲面反射板５７は曲面反射面を示し、曲面
反射板５７の曲率半径は、加熱室１寸法（間口、奥行、
高さ）の最小値の１／４より大きく設定されている。こ
こでは、曲率半径を３００mmとした。

【００３７】曲面反射板５７は、給電口４から送出され
て直進してきた高周波３０成分を縦方向で絞り込んで横
長のビームにして斜め下方に反射させ、この横長ビーム
状の反射波を被加熱物６の下部中心付近の領域に照射さ
せる機能を有している。それ以外の構成は前述の第１実
施形態のものと同様である。

【００３８】この実施形態の高周波加熱装置において、
マグネトロン３で発生した高周波３０は給電口４へ導か
れ、給電口４から加熱室１内に送出される。加熱室１内
に送出された高周波３０成分は直進する割合が多いの
で、大部分の高周波３０成分が加熱室１を形成する曲面
反射板５７に入射して、曲面反射板５７で縦方向が収束
された横長状のビームとなって斜め下方へ反射され、テ
ーブル５の上に置かれた被加熱物６の中心部付近の領域
に多量に照射する。更に加熱室１下部の高周波３０成分
は、テーブル５の上に置かれた被加熱物６に直接照射さ
れ、あるいは給電口４の対面に位置する垂直壁面２ｄと
給電口４側の壁面２ａとの間で反射を繰り返すうちに被
加熱物６に照射され、または垂直壁面２ｄと給電口４側
の壁面２ａとの間で反射を繰り返すうちに平面反射板５
１に入射して、平面反射板５１で被加熱物６の下部中心
付近の領域に向けて照射される。

【００３９】すなわち、給電口４の対面に位置する壁面
２ｄの上部を曲面反射板５７に形成することによって、
加熱室１の形状を直方体から崩し、定在波が形成されな
いようにして、電界の強い部分と弱い部分が生じるのを
防止している。そして通常、被加熱物６の存在していな
い加熱室１上部の高周波３０成分はその向きを曲面反射
板５７によって変えられ、テーブル５の上に置かれた被
加熱物６の下部中心付近の領域に照射する。したがっ
て、加熱効率が良く、かつ加熱むら及び解凍むらが少な
くなる。

【００４０】また、曲面反射板５７の曲率半径を加熱室
１寸法の最小値の１／４より大きく設定して、給電口４
から加熱室１内に送出された大部分の高周波３０成分
を、曲面反射板５７によって１回の反射でテーブル５上
の被加熱物６の下部中心付近の領域に照射できるように
しているので、高周波３０の減衰が少なくなり、加熱効
率が向上し、被加熱物６の加熱むら及び解凍むらを少な
くすることができて、被加熱物６の均一加熱が可能とな
る。このため、加熱時間の短縮化が図れ、電力消費量を
抑えることができる。

【００４１】

【表１】

【００４２】表１はこの実施形態の高周波加熱装置によ
る被加熱物（ここではビーカと徳利を用いた）の上下加
熱ムラの実験データを従来例と比較して示したものであ
る。なお、ここでは出力はいずれも５００Ｗ、この実施
形態に係る曲面反射板５７の曲率半径は３００mmとし
た。

【００４３】表１から明らかなように、この実施形態の
高周波加熱装置の場合は、給電口４から加熱室１内に送
出された大部分の高周波３０成分を、曲面反射板５７に
よって１回の反射でテーブル５上の被加熱物の下部中心
付近の領域に横長状のビームの状態で多量に照射できる
ため、徳利のような上が括れている形状の被加熱物の場
合は、括れている場所に高周波３０の反射波が照射され
ず、徳利の下部中心付近に集中的に照射される。この結
果、効率的に内部の液体が加熱されて対流が発生し、均
一加熱が行われる。このため、上下加熱ムラ（温度差）
が３．２℃と小さくなっている。

【００４４】これに対し、従来例では、均等に高周波が
被加熱物に照射されていたとしても、首部が過加熱にな
り、上下加熱ムラ（温度差）が３５．８℃と非常に大き
くなっている。

【００４５】また、ビ−カのようにストレートの縦長形
状の被加熱物の場合でも、この実施形態の高周波加熱装
置では、給電口４から加熱室１内に送出された大部分の
高周波３０成分がビ−カの下部中心付近に集中的に照射
されるため、効率的に内部の液体が加熱されて対流が発
生し、均一加熱が行われる。このため、上下加熱ムラ
（温度差）が３．９℃と小さくなっている。しかし、従
来例では均等に高周波が被加熱物に照射されていたとし
ても、上下加熱ムラ（温度差）が５．８℃と大きくなっ
ている。

【００４６】このように、この実施形態の高周波加熱装
置においては、大部分の高周波３０成分を、曲面反射板
５７によって１回の反射でテーブル５上の被加熱物の下
部中心付近の領域に横長状のビームの状態で多量に照射
できるので、内部の液体を効率的に対流で均一に加熱す
ることができ、被加熱物の加熱むら及び解凍むらをより
一層少なくすることができる。

【００４７】実施形態６．図６は本発明の請求項３に係
る高周波加熱装置の第１例を示す側面断面図であり、図
中、前述の第２実施形態（図２）に相当する部分には同
一符号を付してある。

【００４８】この実施形態の高周波加熱装置は、加熱室
１の前面開口を覆う開閉扉７の対面に位置する壁面２ｅ
の上部に、開閉扉面に対して凹面状となるように曲面反
射板５８を設けている。なお、曲面反射板５８は曲面反
射面を示し、曲面反射板５８の曲率半径は、加熱室１寸
法（間口、奥行、高さ）の最小値の１／４より大きく設
定されている。ここでは、曲率半径を３００mmとした。

【００４９】曲面反射板５８は、加熱室１の形状を直方
体から崩し、定在波が形成されないようにして、電界の
強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能と、給電
口から送出されて反射、屈折により入射してきた高周波
成分を縦方向で絞り込んで横長のビームにして斜め下方
に反射させ、この反射波を被加熱物６の下部中心付近の
領域に照射させる機能と、を有している。それ以外の構
成は前述の第２実施形態のものと同様である。

【００５０】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第５実施形態と同様に曲面反射板５８によっ
て被加熱物６の下部中心付近の領域に横長状のビームの
状態で多量に照射できるので、被加熱物６の中心部に対
する高周波の照射量を増やすことができ、被加熱物６を
均一に加熱することができる。

【００５１】実施形態７．図７は本発明の請求項３，４
に係る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であ
り、図中、前述の第５実施形態（図５）に相当する部分
には同一符号を付してある。

【００５２】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面の全域を、加熱室１の中心下部
に対向するように凹面状となる球面形状をしている曲面
反射板６１に形成している。曲面反射板６１は曲面反射
面を示し、その曲率半径が加熱室１寸法（間口、奥行、
高さ）の最小値の１／４より大きく設定されているとと
もに、その図示しない上端側を給電口４側に若干傾かせ
て設定され、下方へ球面収差が発生するようにしてい
る。それ以外の構成は前述の第５実施形態のものと同様
である。

【００５３】この実施形態の高周波加熱装置において、
マグネトロン３で発生した高周波３０は給電口４へ導か
れ、給電口４から加熱室１内に送出される。加熱室１内
に送出された高周波３０成分は直進する割合が多いの
で、テーブル５の上に置かれた被加熱物６に直接照射さ
れるものを除く加熱室１上部や直進方向左右の殆どの高
周波３０成分が給電口４の対面に位置する壁面すなわち
曲面反射板６１に入射して、曲面反射板６１で反射され
る。曲面反射板６１は下方へ球面収差が発生するように
上端側を給電口４側に若干傾かせて設置されているの
で、反射波は収束されながら球面収差の効果により、テ
ーブル５の上に置かれた被加熱物６の下部中心に向けて
多量に照射される。

【００５４】すなわち、給電口４の対面に位置する壁面
を、曲面反射板６１に形成することによって、加熱室１
の形状を直方体から崩し、定在波が形成されないように
して、電界の強い部分と弱い部分が生じるのを防止して
いる。そして通常、被加熱物６の存在していない加熱室
１上部や直進方向左右の高周波３０成分はその向きを曲
面反射板６１によって変えられ、テーブル５の上に置か
れた被加熱物６の下部中心に照射する。したがって、加
熱効率が一層良くなり、かつ加熱むら及び解凍むらが少
なくなる。

【００５５】また、曲面反射板６１の曲率半径を加熱室
１寸法の最小値の１／４より大きく設定して、給電口４
から加熱室１内に送出された大部分の高周波３０成分
を、曲面反射板６１によって１回の反射でテーブル５上
の被加熱物６の下部中心に照射できるようにしているの
で、高周波３０の減衰が少なくなり、加熱効率が一層向
上し、被加熱物６の加熱むら及び解凍むらを少なくする
ことができて、被加熱物６の均一加熱が可能となる。こ
のため、加熱時間の一層の短縮化が図れ、電力消費量を
抑えることができる。

【００５６】実施形態８．図８は本発明の請求項３に係
る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であり、図
中、前述の第６実施形態（図６）に相当する部分には同
一符号を付してある。

【００５７】この実施形態の高周波加熱装置は、加熱室
１の前面開口を覆う開閉扉７の対面に位置する壁面の全
域を、開閉扉面に対して凹面状となる球面形状をしてい
る曲面反射板６２に形成している。曲面反射板６２は曲
面反射面を示し、その曲率半径が加熱室１寸法（間口、
奥行、高さ）の最小値の１／４より大きく設定されてい
るとともに、その図示しない上端側を開閉扉７側に若干
傾かせて設定され、下方へ球面収差が発生するようにし
ている。それ以外の構成は前述の第６実施形態のものと
同様である。

【００５８】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第７実施形態と同様に反射波を収束させなが
ら曲面反射板６２の球面収差の効果により、被加熱物６
の下部中心に向けて多量に照射できるので、被加熱物６
の中心部に対する高周波の照射量を増やすことができ、
被加熱物６を均一に加熱することができる。

【００５９】実施形態９．図９は本発明の請求項３，４
に係る高周波加熱装置の第３例を示す正面断面図であ
り、図中、前述の第５実施形態（図５）に相当する部分
には同一符号を付してある。

【００６０】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの上部に設けた曲面反射板
５７の上下方向の中間位置と下部位置に、オーブン皿８
の一側を段階的に支持する溝状の支持部９ａ，９ｂを奥
行方向に延出させて形成するとともに、壁面２ｄの垂直
面部の上下方向の上部位置と中間位置に、奥行方向に延
出するオーブン皿用の支持レール９ｃ，９ｄを設けてい
る。このうち垂直面部の上方に位置する支持レール９ｃ
は、曲面反射板５７の下方に位置する溝の深さが浅い支
持部９ｂの溝下縁に沿って設置され、支持部９ｂからオ
ーブン皿８が脱落するのを防止する機能を有している。

【００６１】また、給電口４側の壁面２ａにも、壁面２
ｄ側の各支持部９ａ，９ｂ及び支持レール９ｄに対応す
る高さ位置に、オーブン皿８の他側を段階的に支持する
奥行方向の支持レール９ｅ，９ｆ，９ｇが設けられてお
り、オーブン皿８は、これら左右の支持部や支持レール
に支持案内されて加熱室１内に設置されるようになって
いる。

【００６２】この実施形態の高周波加熱装置において
は、曲面反射板５７にオーブン皿８を支持する支持部９
ａ，９ｂを設けたことにより、曲面反射板５７によって
高周波による加熱効率が向上したレンジに、更にオーブ
ン調理機能を付加することができる。

【００６３】なお、ここでは曲面反射板５７にオーブン
皿８の支持部９ａ，９ｂを設けたものを例に挙げて説明
したが、これを前述の第１実施形態（図１）で説明した
平面反射板５１にも設けることができることは言うまで
もなく、この場合でも同等の作用効果を奏する。

【００６４】実施形態１０．図１０は本発明の請求項
３，４に係る高周波加熱装置の第４例を示す正面断面図
であり、図中、前述の第５実施形態（図５）に相当する
部分には同一符号を付してある。

【００６５】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの上部に設けた曲面反射板
５７に投光用の多数の穴５７ａを設けるとともに、その
裏に庫内灯１０を設置したものである。それ以外の構成
は前述の第５実施形態のものと同様である。

【００６６】この実施形態の高周波加熱装置において
は、給電口４の対面に位置する壁面２ｄの上部に設けた
曲面反射板５７によって、曲面反射板５７の裏面側に広
いスペースが生じる。このスペースに庫内灯１０を設置
することで、スペースの有効利用が図れ、かつ加熱室１
内における投光角度が従来より広がり、明るい加熱室１
を得ることができる。

【００６７】なお、ここでは曲面反射板５７の裏面側に
庫内灯１０を設置したものを例に挙げて説明したが、こ
れを前述の第１実施形態（図１）で説明した平面反射板
５１の裏面側にも設けることができることは言うまでも
なく、この場合でも同等の作用効果を奏する。

【００６８】実施形態１１．図１１は本発明の請求項３
に係る高周波加熱装置の第３例を示す側面断面図であ
り、図中、前述の第６実施形態（図６）に相当する部分
には同一符号を付してある。

【００６９】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７の対面に位置する壁面２ｅの上部に設けた曲面反射板
５８に投光用の多数の穴５８ａを設けるとともに、その
裏に庫内灯１０を設置したものである。それ以外の構成
は前述の第６実施形態のものと同様である。

【００７０】この実施形態の高周波加熱装置において
も、開閉扉７の対面に位置する壁面２ｅの上部に設けた
曲面反射板５８によって、曲面反射板５８の裏面側に広
いスペースが生じる。このスペースに庫内灯１０を設置
することで、スペースの有効利用が図れ、かつ加熱室１
内における投光角度が従来より広がり、明るい加熱室１
内を得ることができる

【００７１】なお、ここでは曲面反射板５８の裏面側に
庫内灯１０を設置したものを例に挙げて説明したが、こ
れを前述の第２実施形態（図２）で説明した平面反射板
５２の裏面側にも設けることができることは言うまでも
なく、この場合でも同等の作用効果を奏する。

【００７２】実施形態１２．図１２は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第１例を示す正面断面図であ
り、図中、従来の図１７に相当する部分には同一符号を
付してある。

【００７３】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄ寄りに、加熱室１の頂面を
形成する壁面２ｂから垂下する揺動可能な平面反射板６
３を配置するとともに、平面反射板６３を左右にスイン
グさせるための反射板駆動手段６４を設け、反射板駆動
手段６４の加熱室底面に対する角度を反射板制御装置に
よって、披加熱物６の形状、載置位置によって変化させ
るようにしたものである。

【００７４】これを更に詳述すると、反射板駆動手段６
４は、平面反射板６３の基端が固定された軸部材６５
と、軸部材６５にギヤ機構、ベルト機構またはリンク機
構等からなる動力伝達機構６６を介して連結されたスイ
ング用モータ（図示せず）とから構成されている。

【００７５】反射板制御装置は、被加熱物６が載置され
かつモータ９１により回転させられるターンテーブル５
Ａの回転位置を検出する回転位置検出手段９２と、加熱
室１内に臨ませてその上部設置したカメラ９３からの撮
像情報に基づいてターンテーブル５Ａに載置されている
被加熱物６の輪郭の形状およびターンテーブル５Ａ上の
位置を検出する形状・位置検出手段９４と、回転位置検
出手段９２により検出されたターンテーブル５Ａの回転
位置情報、及び形状・位置検出手段９４により検出され
た被加熱物６の形状・位置情報に基づいて、反射板駆動
手段６４により平面反射板６３の角度を変化させ、給電
口４から送出した高周波を被加熱物６へ反射させる反射
板角度制御手段９５とから構成され、これら各手段は高
周波加熱装置の制御部内に設けられている。なお、ここ
では撮像情報を得る手段としてカメラ９３を例に挙げた
が、それ以外に電解強度センサ等の採用も可能である。
それ以外の構成は従来の図１７のものと同様である。

【００７６】次に、この実施形態の高周波加熱装置の動
作を、被加熱物に徳利を用いた場合を例に挙げて説明す
る。まず、カメラ９３により徳利を撮影し、徳利および
ターンテーブル５Ａの画像データを形状・位置検出手段
９４に入力する。形状・位置検出手段９４では、この画
像データを分析し、ターンテーブル５Ａ上の徳利の形状
および位置を検出する。

【００７７】一方、ターンテーブル５Ａを回転駆動する
モータ９１の回転信号を回転位置検出手段９２に入力す
る。回転位置検出手段９２では、この回転信号に基づい
てターンテーブル５Ａの回転位置を検出する。

【００７８】次いで、ターンテーブル５Ａ上の徳利の形
状及び位置を示すデータと、ターンテーブル５Ａの回転
位置を示すデータを用いて、平面反射板６３により反射
される電磁波が徳利の下部に集中するように、平面反射
板６３の角度を設定する。すなわち、反射板角度制御手
段９５が前記２つのデータを用いて、平面反射板６３が
徳利下部と対向するための平面反射板６３の最適角度を
検出し、この検出した角度になるように、反射板駆動手
段６４によりスイング用モータを駆動させ、平面反射板
６３の基端の軸部材６５支点として左右に揺動させる。
ここで、徳利がターンテーブル５Ａの中央からずれた位
置に載置された場合であっても、反射板角度制御手段９
５がターンテーブル５Ａの回転に伴う徳利の位置の変化
を逐次検出し、徳利下部に平面反射板６３が対向するよ
うに反射板駆動手段６４により、平面反射板６３を揺動
制御する。

【００７９】このように、給電口４から直進してきた大
部分の高周波成分が、平面反射板６３によって１回の反
射で被加熱物６の中心部付近の領域へ照射される。そし
て、被加熱物６の位置に応じて平面反射板６３の傾きが
変化し、これによって常に被加熱物６の中心部付近の領
域へ高周波を集中的に照射させることができる。このた
め、加熱効率が向上し、加熱むら及び解凍むらを少なく
できて、被加熱物６を均一に加熱することができる。

【００８０】実施形態１３．図１３は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第２例を示す側面断面図であ
り、図中、前述の第１２実施形態（図１２）に相当する
部分には同一符号を付してある。

【００８１】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７対面に位置する壁面２ｅ寄りに、加熱室１の頂面を形
成する壁面２ｂから垂下する揺動可能な平面反射板６８
を配置するとともに、平面反射板６８を前後にスイング
させるための反射板駆動手段６４を設け、反射板駆動手
段６４の加熱室底面に対する角度を反射板制御装置によ
って、披加熱物６の形状、載置位置によって変化させる
ようにしたものである。

【００８２】反射板駆動手段６４は、前述の第１２実施
形態で説明したと同様に平面反射板６８の基端が固定さ
れた軸部材６５と、軸部材６５にギヤ機構、ベルト機構
またはリンク機構等からなる動力伝達機構６６を介して
連結されたスイング用モータ（図示せず）とから構成さ
れている。

【００８３】また、反射板制御装置も、前述の第１２実
施形態で説明したと同様に被加熱物６が載置されかつモ
ータ９１により回転させられるターンテーブル５Ａの回
転位置を検出する回転位置検出手段９２と、加熱室１内
に臨ませてその上部設置したカメラ９３からの撮像情報
に基づいてターンテーブル５Ａに載置されている被加熱
物６の輪郭の形状およびターンテーブル５Ａ上の位置を
検出する形状・位置検出手段９４と、回転位置検出手段
９２により検出されたターンテーブル５Ａの回転位置情
報、及び形状・位置検出手段９４により検出された被加
熱物６の形状・位置情報に基づいて、反射板駆動手段６
４により平面反射板６３の角度を変化させ、給電口４か
ら送出した高周波を被加熱物６へ反射させる反射板角度
制御手段９５とから構成され、これら各手段が高周波加
熱装置の制御部内に設けられている。それ以外の構成は
前述の第１２実施形態のものと同様である。

【００８４】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第１２実施形態と同様に平面反射板６８によ
って、被加熱物６の中心部付近の領域への高周波の照射
量を増やすことができる。このため、加熱効率が向上
し、加熱むら及び解凍むらを少なくできて、被加熱物６
を均一に加熱することができる。

【００８５】実施形態１４．図１４は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第３例を示す正面断面図、図１
５はその曲率変更機構の要部を示す斜視図であり、各図
中、前述の第１２実施形態（図１２）に相当する部分に
は同一符号を付してある。

【００８６】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄ寄りに、凹面状の球面反射
板７１を、加熱室下部中心に臨ませて配置するととも
に、球面反射板７１の曲率を、運転時間の経過とともに
変化させる曲率変更機構７２を設けたものである。

【００８７】球面反射板７１は、一辺が加熱室１の頂面
を形成する壁面２ｂに所定角度をもって固定された平板
状の基体７３と、基体７３の中央部に形成した孔の周り
にヒンジ７４により結合されて基体裏面側に配置され、
シャッタのようにそれぞれが部分的に積層された複数の
球面形成片７５とから構成されている。

【００８８】曲率変更機構７２は、各ヒンジ７４に装着
され、一端が基体７３の裏面に、他端が球面形成片７５
の背面に、結合されて、それぞれが対応する球面形成片
７５を常時背面側（曲率を小さくする方向）に付勢する
複数のねじりばね７６と、各球面形成片７５の背面に形
成された紐ガイド７７と、これら紐ガイド７７により脱
落が防止されて球面反射板７１の背面に巻回され、一端
が基体７３の裏面側に結合されるとともに、他端が基体
７３の裏面に設けたリング部材７８を通して加熱室１の
上面に延出してボビン７９に巻回された紐８１と、ボビ
ン７９を回転駆動することによって球面反射板７１の曲
率を変化させるモータ８２と、紐８１のリング部材７８
とボビン７９との間に装着されてリング部材７８と係合
可能なストッパリング８３とから構成され、モータ８２
は図示しない操作パネルにより（披加熱物の形状、特徴
によって）使用者が設定する運転モードに応じて、運転
時間の経過とともに球面反射板７１の曲率を変化させる
機能を有し、またストッパリング８３は球面反射板７１
の曲率を、通常は給電口４から直進してきた高周波成分
をテーブル５の上に置かれた被加熱物６の下部中心に向
けて反射させ得る曲率（以下、基準曲率という）に保持
させる機能を有している。なお、リング部材７８の紐８
１が摺動する内面には低摩擦材が塗布され、紐８１がス
ムーズにスライドできるようになっているが、これをピ
ンチローラに置き換えてもよい。それ以外の構成は前述
の第１２実施形態のものと同様である。

【００８９】この実施形態の高周波加熱装置において、
操作パネルにより使用者が運転モードを設定し、スター
トキーを押すと、マグネトロン３で高周波が発生し、給
電口４に導かれ、給電口４から加熱室１内に送出され
る。加熱室１内に送出された高周波成分は直進する割合
が多いので、大部分の高周波成分が球面反射板７１に入
射する。球面反射板７１は、通常はストッパリング８３
により基準曲率に保持されている状態にあるため、運転
開始当初は給電口４から直進してきた高周波成分は、球
面反射板７１によってテーブル５の上に置かれた被加熱
物６の下部中心に向けて反射させられる。

【００９０】使用者が設定した運転モードが、例えば手
動モードで加熱時間が２分間に設定されている場合、被
加熱物６の下部中心への照射を１分間とし、１分経過す
るとモータ８２が作動し、ボビン７９により紐８１を巻
き取っていき、これにより各球面形成片７５をそれぞれ
のねじりばね７６の付勢力に抗して表面側（曲率を大き
くする方向）に揺動させて、その焦点距離を長くし、被
加熱物６に対する高周波成分の照射領域が拡大するよう
に変化させる。そして設定された加熱時間（２分間）が
経過すると、ねじりばね７６の付勢力によってボビン７
９から紐８１が繰り出され、ストッパリング８３がリン
グ部材７８と係合することにより紐８１の繰り出しが停
止し、球面反射板７１がその曲率を基準曲率に保持され
る。

【００９１】このように、給電口４から直進してきた大
部分の高周波成分が、球面反射板７１によって１回の反
射で被加熱物６の下部中心に照射される。そして、運転
時間の経過とともに球面反射板７１の曲率が変化し、こ
れによって被加熱物６に高周波を集中的に照射させる場
所が変化（拡大）し、被加熱物６の全域に高周波成分を
隈無く照射させる。したがって、被加熱物６の中心部に
対する高周波の照射量を増やしながら被加熱物６の全域
に対しても１回の反射で高周波成分を隈無く照射させる
ことができる。このため、加熱効率が向上し、加熱むら
及び解凍むらを少なくできて、被加熱物６を均一に加熱
することができる。

【００９２】実施形態１５．図１６は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第４例を示す側面断面図であ
り、図中、前述の第１４実施形態（図１４，図１５）に
相当する部分には同一符号を付してある。

【００９３】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７の対面に位置する壁面２ｅ寄りに、開閉扉面に対して
凹面状となる球面反射板８４を、加熱室下部中心に臨ま
せて配置するとともに、球面反射板８４の曲率を、運転
時間の経過とともに変化させる曲率変更機構７２を設け
たものである。なお、球面反射板８４および曲率変更機
構７２の構成は前述の第１４実施形態で説明したものと
同様であるので詳細については省略し、説明に当たって
は前述の図１５を参照するものとする。

【００９４】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第１４実施形態と同様に球面反射板８４によ
って、被加熱物６の中心部に対する高周波の照射量を増
やしながら被加熱物６の全域に対しても高周波成分を隈
無く照射させることができる。このため、加熱効率が向
上し、加熱むら及び解凍むらを少なくできて、被加熱物
６を均一に加熱することができる。

【００９５】

【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
れば、加熱室の壁面に、加熱室の中心下部に対向させ
て、加熱室底面との角度が４５度以上になるように平面
反射面を形成し、給電口から送出される高周波を加熱室
の中心下部へ反射させるようにしたので、平面反射面に
よって被加熱物の中心部付近の領域に照射することがで
きる。このため、高周波の減衰が少なくなり、加熱効率
が向上し、被加熱物の加熱むら及び解凍むらを少なくす
ることができて、被加熱物の均一加熱が可能となる。更
に加熱時間の短縮化が図れ、電力消費量を抑えることが
できる。

【００９６】また、請求項２の発明によれば、給電口の
対面に位置する加熱室の壁面に平面反射面を形成したの
で、平面反射面による高周波の反射効率が向上し、被加
熱物の中心部付近の領域に対しより効率良く照射するこ
とができる。

【００９７】また、請求項３の発明によれば、加熱室の
壁面に、加熱室の中心下部に対向するように、加熱室寸
法の最小値の１／４よりも大きい曲率半径を有する凹面
状の曲面反射面を設け、給電口から送出される高周波を
加熱室の中心下部へ反射させるようにしたので、曲面反
射面によって被加熱物の下部中心付近の領域に集中的に
照射させることができる。このため、加熱効率が良く、
かつ被加熱物の加熱むら及び解凍むらを少なくすること
ができ、被加熱物を均一に加熱することができる。

【００９８】また、請求項４の発明によれば、給電口の
対面に位置する加熱室の壁面に曲面反射面を形成したの
で、曲面反射面による高周波の反射効率が向上し、被加
熱物の中心部付近の領域に対しより効率良く集中するこ
とができる。

【００９９】また、請求項５の発明によれば、被加熱物
が載置され回転するターンテーブルの回転位置を検出す
る回転位置検出手段と、ターンテーブルに載置される被
加熱物の形状及び位置を検出する形状・位置検出手段
と、加熱室にターンテーブルに対向するように設けられ
た平面反射板と、平面反射板とターンテーブルとの角度
を変化させるように平面反射板を駆動させる反射板駆動
手段と、回転位置検出手段により検出されたターンテー
ブルの回転位置、および形状・位置検出手段により検出
された被加熱物の形状・位置に基づいて、反射板駆動手
段により平面反射板の角度を変化させ、給電口から送出
した高周波を被加熱物へ反射させる反射板角度制御手段
とを設けたので、被加熱物の位置に応じて平面反射板の
傾きを変化させることができる。そして、この揺動可能
な平面反射板によって常に被加熱物の中心部付近の領域
へ高周波を集中的に照射させることができ、加熱効率が
向上し、加熱むら及び解凍むらを少なくできて、被加熱
物を均一に加熱することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施形態に係る高周波加熱装置
を示す正面断面図である。

【図２】 本発明の第２実施形態に係る高周波加熱装置
を示す側面断面図である。

【図３】 本発明の第３実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。

【図４】 本発明の第４実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。

【図５】 本発明の第５実施形態に係る高周波加熱装置
を示す正面断面図である。

【図６】 本発明の第６実施形態に係る高周波加熱装置
を示す側面断面図である。

【図７】 本発明の第７実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。

【図８】 本発明の第８実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。

【図９】 本発明の第９実施形態に係る高周波加熱装置
を示す正面断面図である。

【図１０】 本発明の第１０実施形態に係る高周波加熱
装置を示す正面断面図である。

【図１１】 本発明の第１１実施形態に係る高周波加熱
装置を示す側面断面図である。

【図１２】 本発明の第１２実施形態に係る高周波加熱
装置を示す正面断面図である。

【図１３】 本発明の第１３実施形態に係る高周波加熱
装置を示す側面断面図である。

【図１４】 本発明の第１４実施形態に係る高周波加熱
装置を示す正面断面図である。

【図１５】 第１４実施形態に係る高周波加熱装置の曲
率変更機構の要部を示す斜視図である。

【図１６】 本発明の第１５実施形態に係る高周波加熱
装置を示す側面断面図である。

【図１７】 従来の高周波加熱装置の一例を示す正面断
面図である。

【図１８】 従来の高周波加熱装置の他の例を示す正面
断面図である。

【図１９】 従来の高周波加熱装置の更に他の例を示す
正面断面図である。

【符号の説明】

１ 加熱室、２ｄ 給電口対面の壁面（加熱室の壁
面）、２ｅ 開閉扉対面の壁面（加熱室の壁面）、３
マグネトロン、４ 給電口、５Ａ ターンテーブル、６
被加熱物、３０ 高周波、５１，５２ 平面反射板
（平面反射面）、５７，５８，６１，６２ 曲面反射板
（曲面反射面）、６３，６８ 揺動可能な平面反射板、
６４ 反射板駆動手段、９１ モータ、９２ 回転位置
検出手段、９４形状・位置検出手段、９５ 反射板角度
制御手段。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金井 孝博 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内 (72)発明者 小岩 芳明 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被加熱物を収容する加熱室と、 該加熱室に設けられ高周波を送出する給電口と、 該加熱室の壁面に、該加熱室の中心下部に対向させ、該
   加熱室底面との角度が４５度以上になるように形成さ
   れ、該給電口から送出される高周波を該加熱室の中心下
   部へ反射させる平面反射面と、を備えたことを特徴とす
   る高周波加熱装置。
2. 【請求項２】 前記給電口の対面に位置する前記加熱室
   の壁面に前記平面反射面を形成したことを特徴とする請
   求項１記載の高周波加熱装置。
3. 【請求項３】 被加熱物を収容する加熱室と、 該加熱室に設けられ高周波を送出する給電口と、 該加熱室の壁面に、該加熱室の中心下部に対向するよう
   に形成され、該加熱室寸法の最小値の１／４よりも大き
   い曲率半径を有し、該給電口から送出される高周波を該
   加熱室の中心下部へ反射させる凹面状の曲面反射面と、
   を備えたことを特徴とする高周波加熱装置。
4. 【請求項４】 前記給電口の対面に位置する前記加熱室
   の壁面に前記曲面反射面を形成したことを特徴とする請
   求項３記載の高周波加熱装置。
5. 【請求項５】 被加熱物を収容する加熱室と、 該加熱室に設けられ、高周波を送出する給電口と、 該加熱室に設けられ、被加熱物が載置され回転するター
   ンテーブルと、 該ターンテーブルの回転位置を検出する回転位置検出手
   段と、 該ターンテーブルに載置される被加熱物の形状及び位置
   を検出する形状・位置検出手段と、 該加熱室に該ターンテーブルに対向するように設けられ
   た平面反射板と、 この平面反射板と該ターンテーブルとの角度を変化させ
   るように該平面反射板を駆動させる反射板駆動手段と、 該回転位置検出手段により検出された該ターンテーブル
   の回転位置、および該形状・位置検出手段により検出さ
   れた被加熱物の形状・位置に基づいて、該反射板駆動手
   段により該平面反射板の角度を変化させ、該給電口から
   送出した高周波を被加熱物へ反射させる反射板角度制御
   手段と、を備えたことを特徴とする高周波加熱装置。