JPH10122573A - High-frequency wave heater - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform a uniform heating of an item to be heated and reduce an irregular heating as well as an irregular freezing by a method wherein a flat reflecting plate is arranged at a wall surface of a heating chamber in such a way that it is being oppositely faced against a central lower part of the heating chamber with an angle with the bottom surface of the heating chamber being more than 45 deg. and then a high-frequency wave is reflected from an electricity supplying port to the central lower part of the heating chamber. SOLUTION: A high-frequency wave 30 fed from a magnetron 3 passes through an electricity supplying port 4 and is fed into a heating chamber 1. A component of the high-frequency wave 30 fed out into the heating chamber 1 frequently advances in straight forward, so that almost of the component of the high-frequency wave 30 is incident to a flat reflecting plate 51 in the heating chamber 1, reflected by the flat reflecting plate 51 in a slant downward direction so as to radiate against a region near the center of the item to be heated 6 on a table 5. In this case, an inclination of the flat reflecting plate 51 against the bottom surface of the heating chamber 1 is set to be 45 deg. or more and almost the high-frequency wave 30 fed out of the electricity supplying port 4 into the heating chamber 1 can be radiated by the flat reflecting plate 52 through once reflection against the region near the central part of the item to be heated on the table 5, resulting in that a heating efficiency is improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱物の加熱む
ら及び解凍むらを少なくすることのできる高周波加熱装
置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency heating apparatus capable of reducing uneven heating and thawing of an object to be heated.

【０００２】[0002]

【従来の技術】図１７は従来の高周波加熱装置の構成を
示す正面断面図である。図において、１は加熱室であ
り、周壁となる金属板２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄと、後壁
となる金属板２ｅ及び前壁となる開閉扉（図示せず）と
で構成される直方体を呈している。３は高周波の発生源
であるマグネトロン、４は加熱室１に高周波３０を送出
させる給電口、５は被加熱物６を載置するテーブルであ
る。2. Description of the Related Art FIG. 17 is a front sectional view showing the structure of a conventional high-frequency heating device. In the figure, reference numeral 1 denotes a heating chamber, which is a rectangular parallelepiped formed by metal plates 2a, 2b, 2c, and 2d serving as peripheral walls, a metal plate 2e serving as a rear wall, and an opening / closing door (not shown) serving as a front wall. Present. Reference numeral 3 denotes a magnetron that is a source of high frequency, 4 denotes a power supply port for transmitting the high frequency 30 to the heating chamber 1, and 5 denotes a table on which an object 6 to be heated is placed.

【０００３】次に、従来の高周波加熱装置の動作につい
て図１７に基づき説明する。マグネトロン３で発生した
高周波３０は給電口４に導かれ、そして加熱室１の金属
板２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄに入射や反射を繰り返しなが
らテーブル５の上に置かれた被加熱物６に照射すること
によって、被加熱物６を加熱する。Next, the operation of the conventional high-frequency heating device will be described with reference to FIG. The high-frequency wave 30 generated by the magnetron 3 is guided to the power supply port 4 and irradiates the object to be heated 6 placed on the table 5 while repeatedly entering and reflecting the metal plates 2 a, 2 b, 2 c and 2 d of the heating chamber 1. This heats the object 6 to be heated.

【０００４】加熱室１は直方体からなり、かつ給電口４
から送出される高周波３０は直進する割合が多いため、
大部分は給電口４の対面に位置する金属板２ｄに入射
し、金属板２ｄで反射された高周波３０は金属板２ａに
入射し、金属板２ａで再度金属板２ｄに向けて反射され
る。このため、進行波と反射波で定在波が形成され、電
界の強い部分と弱い部分が生じる。これにより、電界の
強い部分では被加熱物６が強く加熱され、電界の弱い部
分では被加熱物６が殆ど加熱されない。したがって、被
加熱物６の加熱むら及び解凍むらが発生するという問題
が生じる。[0004] The heating chamber 1 is formed of a rectangular parallelepiped.
High frequency 30 sent from
Most of the light is incident on the metal plate 2d located opposite the power supply port 4, and the high frequency wave 30 reflected on the metal plate 2d is incident on the metal plate 2a, and is reflected again on the metal plate 2a toward the metal plate 2d. Therefore, a standing wave is formed by the traveling wave and the reflected wave, and a strong electric field and a weak electric field are generated. As a result, the object to be heated 6 is strongly heated in a portion where the electric field is strong, and the object to be heated 6 is hardly heated in a portion where the electric field is weak. Therefore, there is a problem that unevenness in heating and thawing of the object to be heated 6 occurs.

【０００５】このような問題を解決する第１の技術とし
て特開平６−１９６２５７号公報に開示されるものがあ
る。図１８は同公報に開示されている高周波加熱装置を
示す正面断面図である。同公報のものは、加熱室１を構
成する天井板２０と底板２１の双方または一方を球面状
に形成し、マグネトロン３で発生して加熱室１内に導か
れて、加熱室１内の壁面などで反射、屈折を繰り返す高
周波３０が、天井板２０または底板２１のいずれかに入
射すると、この天井板２０または底板２１で反射する高
周波３０がテーブル５上に置かれた被加熱物６方向に向
かうようにして、高周波３０が被加熱物６を照射するま
での反射、屈折の繰り返し回数を少なくできるように
し、これによって高周波３０の減衰を少なくし、加熱効
率を高め、かつ加熱むら及び解凍むらを少なくできるよ
うにしている。As a first technique for solving such a problem, there is a technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-196257. FIG. 18 is a front sectional view showing the high-frequency heating device disclosed in the publication. In the publication, both or one of a ceiling plate 20 and a bottom plate 21 constituting a heating chamber 1 is formed in a spherical shape, generated by a magnetron 3 and guided into the heating chamber 1, and a wall surface in the heating chamber 1 is formed. When the high-frequency wave 30 that repeats reflection and refraction is incident on either the ceiling plate 20 or the bottom plate 21, the high-frequency wave 30 reflected on the ceiling plate 20 or the bottom plate 21 is directed toward the object 6 to be heated placed on the table 5. In this way, the number of times of repetition of reflection and refraction until the high frequency 30 irradiates the object 6 to be heated can be reduced, whereby the attenuation of the high frequency 30 is reduced, the heating efficiency is increased, and uneven heating and defrosting are achieved. Is to be able to reduce.

【０００６】また、前述のような問題を解決する第２の
技術として特開平４−１３７３９１号公報に開示される
ものがある。図１９は同公報に開示されている高周波加
熱装置を示す正面断面図である。同公報のものは、マイ
クロ波集束装置２２の加熱室１の内部に、別体からなる
第１の反射体２３と第２の反射体２４を対向配置し、ビ
ーム状マイクロ波発生器３Ａから発生した高周波３０
を、入射口４Ａからマイクロ波集束装置２２の加熱室内
部に導いて、２つの反射体２３，２４の間で連続的に往
復反射させ、２つの反射体２３，２４の間に配置された
被加熱物６部分を通過させることにより、急速加熱を可
能にさせている。A second technique for solving the above-mentioned problem is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-137391. FIG. 19 is a front sectional view showing the high-frequency heating device disclosed in the publication. In the publication, a first reflector 23 and a second reflector 24, which are separate bodies, are opposed to each other inside a heating chamber 1 of a microwave focusing device 22, and are generated from a beam-shaped microwave generator 3A. High frequency 30
From the entrance 4A to the inside of the heating chamber of the microwave converging device 22, and continuously reflected back and forth between the two reflectors 23 and 24, so as to be disposed between the two reflectors 23 and 24. Rapid heating is made possible by passing through the heating object 6 part.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、加熱室
１の天井板２０および底板２１を球面状に形成した前者
のものにあっては、加熱室１の内容積が必然的に小さく
なる。特に底板２１が球面状の場合、テーブル５の設置
可能エリアが限定され、テーブル５上に置かれる被加熱
物６の大きさ又は形状が限定される。テーブル５の設置
可能エリアを広げるためには、テーブル５を球面状底板
２１の円弧の内方に大きくズラせて設置する必要があ
り、この場合には加熱室１の内容積が一層小さくなるの
を避けられない。また加熱室１の内容積を確保するため
には、装置を外郭から大きくしなければならない。However, in the former case in which the ceiling plate 20 and the bottom plate 21 of the heating chamber 1 are formed in a spherical shape, the internal volume of the heating chamber 1 is necessarily reduced. In particular, when the bottom plate 21 is spherical, the area where the table 5 can be installed is limited, and the size or shape of the object 6 placed on the table 5 is limited. In order to widen the area where the table 5 can be installed, the table 5 needs to be installed with a large displacement inside the arc of the spherical bottom plate 21. In this case, the inner volume of the heating chamber 1 is further reduced. Inevitable. Further, in order to secure the internal volume of the heating chamber 1, the device must be enlarged from the outer shell.

【０００８】また、加熱室１の内部に別体からなる２つ
もの反射体２３，２４を対向配置した後者のものは、加
熱室１の内容積が前者のものよりも更に小さくなるのを
避けられない。したがって、テーブル上に置かれる被加
熱物６の大きさ又は形状が前者のものよりも更に限定さ
れるばかりでなく、反射体を複数別体構成としている
分、コストアップにもなる。The latter, in which as many as two reflectors 23, 24, which are separate bodies, are arranged inside the heating chamber 1, is to prevent the internal volume of the heating chamber 1 from becoming smaller than that of the former. I can't. Therefore, the size or shape of the object to be heated 6 placed on the table is not only more limited than that of the former, but the cost is increased because the reflectors are formed in a plurality of separate members.

【０００９】いずれにしても、高周波加熱装置は被加熱
物を基本的に定在波中において加熱するものであるた
め、加熱室内の被加熱物に均等に高周波を照射させるこ
とは困難である。例えば徳利のように首の部分が括れて
いる形状の被加熱物の場合、均等に高周波が被加熱物に
照射されたとしても、必然的に首部が過加熱になるとい
う問題が依然として存在する。また被加熱物が例えば６
面体の場合、この被加熱物に均等に高周波が照射された
としても、実際には６面体被加熱物は、そのコーナ部に
おいては多方向から高周波が照射されるが、中心部はあ
る限定された方向からのみしか高周波の照射を受けな
い。したがって、中心部に比しコーナ部が過加熱になっ
てしまう。In any case, since the high-frequency heating device basically heats the object to be heated in the standing wave, it is difficult to uniformly irradiate the object to be heated in the heating chamber with the high frequency. For example, in the case of an object to be heated having a neck portion constricted, such as a bottleneck, there is still a problem that even if high frequency is applied to the object to be heated, the neck is necessarily overheated. The object to be heated is, for example, 6
In the case of a hexahedron, even if the object to be heated is uniformly irradiated with the high frequency, the object to be heated is actually irradiated with the high frequency from many directions in the corner portion, but the central portion is limited. It receives high frequency radiation only from the opposite direction. Therefore, the corner portion is overheated compared to the center portion.

【００１０】要するに、被加熱物に均等に高周波を照射
しても、被加熱物を均一に加熱することはできず、被加
熱物を均一に加熱するためには、被加熱物の中心部に対
する高周波の照射量をある程度増やさなければならな
い。[0010] In short, even if the object to be heated is irradiated with high frequency evenly, the object to be heated cannot be heated evenly. The high frequency radiation dose must be increased to some extent.

【００１１】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、加熱室の内容積を小さくするこ
となく、任意形状の被加熱物を均一に加熱できて、加熱
むら及び解凍むらを少なくすることのできる高周波加熱
装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and can uniformly heat an object having an arbitrary shape without reducing the internal volume of the heating chamber. An object of the present invention is to provide a high-frequency heating device capable of reducing thawing unevenness.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室と、加熱
室に設けられ高周波を送出する給電口と、加熱室の壁面
に、加熱室の中心下部に対向させ、加熱室底面との角度
が４５度以上になるように形成され、給電口から送出さ
れる高周波を加熱室の中心下部へ反射させる平面反射面
と、を備えたものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a high-frequency heating apparatus comprising: a heating chamber for accommodating an object to be heated; a power supply port provided in the heating chamber for transmitting a high frequency; A flat reflecting surface that faces the lower center of the heating chamber, is formed so that the angle with the bottom of the heating chamber is 45 degrees or more, and reflects the high frequency wave transmitted from the power supply port to the lower center of the heating chamber. It is a thing.

【００１３】また、本発明の請求項２に係る高周波加熱
装置は、給電口の対面に位置する加熱室の壁面に平面反
射面を形成したものである。Further, a high frequency heating apparatus according to a second aspect of the present invention has a flat reflecting surface formed on a wall surface of a heating chamber located opposite to a power supply port.

【００１４】また、本発明の請求項３に係る高周波加熱
装置は、被加熱物を収容する加熱室と、加熱室に設けら
れ高周波を送出する給電口と、加熱室の壁面に、加熱室
の中心下部に対向するように形成され、加熱室寸法の最
小値の１／４よりも大きい曲率半径を有し、給電口から
送出される高周波を加熱室の中心下部へ反射させる凹面
状の曲面反射面と、を備えたものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided a high-frequency heating apparatus comprising: a heating chamber for accommodating an object to be heated; a power supply port provided in the heating chamber for transmitting a high frequency; A concave curved reflection formed so as to face the lower center and having a radius of curvature larger than 1/4 of the minimum value of the heating chamber size and reflecting the high frequency wave transmitted from the power supply port to the lower center of the heating chamber. And a surface.

【００１５】また、本発明の請求項４に係る高周波加熱
装置は、給電口の対面に位置する加熱室の壁面に曲面反
射面を形成したものである。In the high frequency heating apparatus according to a fourth aspect of the present invention, a curved reflecting surface is formed on a wall surface of the heating chamber located opposite to the power supply port.

【００１６】また、本発明の請求項５に係る高周波加熱
装置は、被加熱物を収容する加熱室と、加熱室に設けら
れ、高周波を送出する給電口と、加熱室に設けられ、被
加熱物が載置され回転するターンテーブルと、ターンテ
ーブルの回転位置を検出する回転位置検出手段と、ター
ンテーブルに載置される被加熱物の形状及び位置を検出
する形状・位置検出手段と、加熱室にターンテーブルに
対向するように設けられた平面反射板と、平面反射板と
ターンテーブルとの角度を変化させるように平面反射板
を駆動させる反射板駆動手段と、回転位置検出手段によ
り検出されたターンテーブルの回転位置、および形状・
位置検出手段により検出された被加熱物の形状・位置に
基づいて、反射板駆動手段により平面反射板の角度を変
化させ、給電口から送出した高周波を被加熱物へ反射さ
せる反射板角度制御手段と、を備えたものである。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a high-frequency heating apparatus, comprising: a heating chamber for accommodating an object to be heated; a power supply port provided in the heating chamber for transmitting a high frequency; A turntable on which an object is mounted and rotated; a rotational position detecting means for detecting the rotational position of the turntable; a shape / position detecting means for detecting the shape and position of the object to be heated mounted on the turntable; A flat reflector provided in the chamber so as to face the turntable; a reflector driving means for driving the flat reflector so as to change an angle between the flat reflector and the turntable; and a rotational position detector. Turntable rotation position and shape
Reflector angle control means for changing the angle of the flat reflector by the reflector driving means based on the shape and position of the object to be heated detected by the position detecting means and reflecting the high frequency transmitted from the power supply port to the object to be heated. And with.

【００１７】[0017]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

実施形態１．図１は本発明の請求項１，２に係る高周波
加熱装置の第１例を示す正面断面図であり、図中、従来
の図１７に相当する部分には同一符号を付してある。Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a front sectional view showing a first example of a high-frequency heating apparatus according to claims 1 and 2 of the present invention. In the drawing, portions corresponding to those in FIG.

【００１８】図において、１は加熱室、３は高周波３０
の発生源であるマグネトロン、４は加熱室１に高周波３
０を送出させる給電口、５は被加熱物６を載置するテー
ブルである。加熱室１は、金属板からなる壁面２ａ，２
ｂ，２ｃ，２ｄと、給電口４の対面に位置する壁面２ｄ
の上部に形成されて上端側が給電口４側に傾斜する平面
反射板５１と、後壁を形成する金属板からなる壁面２ｅ
及び前壁となる開閉扉（図示せず）とから構成されてい
る。なお、平面反射板５１は平面反射面を示し、その加
熱室底面に対する角度が４５度以上に設定され、給電口
４から送出されて直進してきた高周波３０成分を斜め下
方に反射させて、この反射波を被加熱物６の中心部付近
の領域に照射させる機能を有している。それ以外の構成
は従来の図１７のものと同様である。In the figure, 1 is a heating chamber, 3 is a high frequency 30
, A magnetron that is the source of the generation, and a high-frequency 3
A power supply port 5 for transmitting 0 is a table on which the object 6 is placed. The heating chamber 1 includes wall surfaces 2a, 2 made of a metal plate.
b, 2c, 2d, and a wall surface 2d located opposite the power supply port 4
A flat reflecting plate 51 formed at the top of the base plate and having an upper end inclined toward the power supply port 4 side, and a wall surface 2e formed of a metal plate forming a rear wall
And an opening / closing door (not shown) serving as a front wall. The flat reflecting plate 51 has a flat reflecting surface, and its angle with respect to the bottom of the heating chamber is set to 45 degrees or more. The 30 high-frequency components transmitted straight from the power supply port 4 are reflected obliquely downward. It has a function of irradiating waves near the center of the object 6 to be heated. Other configurations are the same as those of the conventional FIG.

【００１９】次に、本実施形態の高周波加熱装置の動作
について図１に基づき説明する。マグネトロン３で発生
した高周波３０は給電口４へ導かれ、給電口４から加熱
室１内に送出される。加熱室１内に送出された高周波３
０成分は直進する割合が多いので、大部分の高周波３０
成分が加熱室１を形成する平面反射板５１に入射して、
平面反射板５１で斜め下方へ反射され、テーブル５の上
に置かれた被加熱物６の中心部付近の領域に照射する。
更に加熱室１下部の高周波３０成分は、テーブル５の上
に置かれた被加熱物６に直接照射され、あるいは給電口
４の対面に位置する垂直壁面２ｄと給電口４側の壁面２
ａとの間で反射を繰り返すうちに被加熱物６に照射さ
れ、または垂直壁面２ｄと給電口４側の壁面２ａとの間
で反射を繰り返すうちに平面反射板５１に入射して、平
面反射板５１で被加熱物６の中心部付近の領域に向けて
照射される。Next, the operation of the high-frequency heating device of this embodiment will be described with reference to FIG. The high-frequency wave 30 generated by the magnetron 3 is guided to the power supply port 4 and sent out from the power supply port 4 into the heating chamber 1. High frequency wave 3 sent into heating chamber 1
Most of the high frequency 30
The component is incident on the flat reflecting plate 51 forming the heating chamber 1,
The light is reflected obliquely downward by the plane reflection plate 51, and irradiates an area near the center of the heated object 6 placed on the table 5.
Further, the high-frequency component 30 in the lower part of the heating chamber 1 is directly irradiated onto the object 6 to be heated placed on the table 5 or the vertical wall surface 2 d located opposite the power supply port 4 and the wall surface 2 on the power supply port 4 side.
The light is irradiated to the object to be heated 6 while the reflection is repeated between the light source and the flat reflection plate 51 while the reflection is repeated between the vertical wall surface 2d and the wall surface 2a on the power supply port 4 side. Irradiation is performed by the plate 51 toward a region near the center of the object 6 to be heated.

【００２０】すなわち、給電口４の対面に位置する壁面
２ｄの上部を、上端側が給電口４側に傾斜する平面反射
板５１に形成することによって、加熱室１の形状を直方
体から崩し、定在波が形成されないようにして、電界の
強い部分と弱い部分が生じるのを防止している。そして
通常、被加熱物６の存在していない加熱室１上部の高周
波３０成分はその向きを平面反射板５１によって変えら
れ、テーブル５の上に置かれた被加熱物６の中心部付近
の領域に照射する。被加熱物６が図に示す如く縦長に置
かれている場合、このような被加熱物６は殆どが徳利か
それに類する液体収容容器であり、加熱の対象は下方に
位置する液体である。したがって平面反射板５１によっ
て向きが変えられた高周波３０成分は、被加熱物６が徳
利の場合、液体が収容されている下部に集中し、液体を
加熱する。更に加熱室１下部の反射波を含む高周波３０
成分によっても被加熱物６の液体は加熱される。これに
よって、液体中に対流が発生し、液体が効率良く加熱さ
れるとともに、徳利の上方に位置する首部が過加熱にな
るのが防止される。That is, by forming the upper portion of the wall surface 2d located opposite to the power supply port 4 on a flat reflecting plate 51 whose upper end is inclined toward the power supply port 4, the shape of the heating chamber 1 is broken from a rectangular parallelepiped, and the heating chamber 1 is stationary. Waves are prevented from being formed, thereby preventing the generation of strong and weak electric fields. Usually, the direction of the high-frequency component 30 in the upper part of the heating chamber 1 where the object 6 is not present is changed by the plane reflector 51, and the area near the center of the object 6 placed on the table 5 Irradiation. When the object to be heated 6 is placed vertically long as shown in the figure, such an object to be heated 6 is mostly a liquid storage container similar to a liquid container, and the object to be heated is a liquid located below. Accordingly, when the object 6 to be heated is virtuous, the high-frequency component 30 whose direction has been changed by the plane reflection plate 51 concentrates on the lower portion where the liquid is stored, and heats the liquid. Furthermore, a high frequency 30 including a reflected wave at the lower part of the heating chamber 1
The liquid of the object to be heated 6 is also heated by the components. As a result, convection occurs in the liquid and the liquid is efficiently heated, and the neck located above the bottle is prevented from being overheated.

【００２１】また、平面反射板５１の加熱室底面に対す
る傾きを４５度以上に設定して、給電口４から加熱室１
内に送出された大部分の高周波３０成分を、平面反射板
５１によって１回の反射でテーブル５上の被加熱物６の
中心部付近の領域に照射できるようにしているので、高
周波３０の減衰が少なくなり、加熱効率が向上し、被加
熱物６の加熱むら及び解凍むらを少なくすることができ
て、被加熱物６の均一加熱が可能となる。このため、加
熱時間の短縮化が図れ、電力消費量を抑えることができ
る。The inclination of the flat reflecting plate 51 with respect to the bottom surface of the heating chamber is set to 45 degrees or more, and
Most of the high-frequency 30 components transmitted into the table 5 can be radiated to the area near the center of the heated object 6 on the table 5 by the single reflection by the flat reflector 51, so that the high-frequency 30 is attenuated. , Heating efficiency is improved, and uneven heating and thawing of the object to be heated 6 can be reduced, so that the object to be heated 6 can be uniformly heated. Therefore, the heating time can be shortened, and the power consumption can be suppressed.

【００２２】以上のような作用、効果は、テーブル５の
設置の有無に関係なく得られる。このことは、以下の実
施形態２〜１５についても同様である。The above-described functions and effects can be obtained regardless of whether the table 5 is installed. This is the same for the following embodiments 2 to 15.

【００２３】実施形態２．図２は本発明の請求項１に係
る高周波加熱装置の第１例を示す側面断面図であり、図
中、従来の図１７に相当する部分には同一符号を付して
ある。Embodiment 2 FIG. FIG. 2 is a side sectional view showing a first example of the high-frequency heating device according to claim 1 of the present invention. In the drawing, the same reference numerals are given to portions corresponding to those in FIG.

【００２４】この実施形態の高周波加熱装置は、加熱室
１の前面開口を覆う開閉扉７の対面に位置する壁面２ｅ
の上部に、上端側が開閉扉７側に傾斜する平面反射板５
２を形成している。なお、平面反射板５２は平面反射面
を示し、平面反射板５２の加熱室底面に対する角度は４
５度以上に設定されている。The high-frequency heating apparatus of this embodiment has a wall surface 2e located opposite to an opening / closing door 7 which covers the front opening of the heating chamber 1.
A flat reflecting plate 5 whose upper end is inclined toward the door 7
2 are formed. The plane reflecting plate 52 indicates a plane reflecting surface, and the angle of the plane reflecting plate 52 with respect to the bottom of the heating chamber is four.
It is set to 5 degrees or more.

【００２５】平面反射板５２は、加熱室１の形状を直方
体から崩し、定在波が形成されないようにして、電界の
強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能と、給電
口から送出されて反射、屈折により入射してきた高周波
成分を斜め下方に反射させて、この反射波を被加熱物６
の中心部付近の領域に照射させる機能と、を有してい
る。それ以外の構成は従来の図１７のものと同様であ
る。The flat reflecting plate 52 has a function of breaking the shape of the heating chamber 1 from a rectangular parallelepiped so as to prevent the formation of standing waves, thereby preventing a portion having a strong electric field and a portion having a weak electric field, and being transmitted from a power supply port. The high-frequency component incident by reflection and refraction is reflected obliquely downward, and this reflected wave is reflected by the object 6 to be heated.
And a function of irradiating an area near the center of the image. Other configurations are the same as those of the conventional FIG.

【００２６】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第１実施形態と同様に平面反射板５２によっ
て被加熱物６の中心部に対する高周波の照射量を増やす
ことができるので、被加熱物６を均一に加熱することが
できる。Also in the high-frequency heating device of this embodiment, the amount of high-frequency irradiation to the center of the object 6 can be increased by the plane reflector 52 as in the first embodiment described above. Can be uniformly heated.

【００２７】実施形態３．図３は本発明の請求項１，２
に係る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であ
り、図中、前述の第１及び第２実施形態（図１，図２）
に相当する部分には同一符号を付してある。Embodiment 3 FIG. 3 shows claims 1 and 2 of the present invention.
FIG. 4 is a top cross-sectional view showing a second example of the high-frequency heating device according to the first and second embodiments described above (FIGS. 1 and 2).
Are given the same reference numerals.

【００２８】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの両側部に、両側端側が給
電口側に傾斜する平面反射板５３，５４を形成してい
る。なお、平面反射板５３，５４は平面反射面を示し、
各平面反射板５３，５４の給電口４に対する角度はそれ
ぞれ４５度以下に設定されている。In the high-frequency heating device of this embodiment, flat reflecting plates 53 and 54 whose both end sides are inclined toward the power supply port are formed on both sides of the wall surface 2d located opposite to the power supply port 4. The plane reflecting plates 53 and 54 indicate plane reflecting surfaces,
The angle of each of the plane reflection plates 53 and 54 with respect to the power supply port 4 is set to 45 degrees or less.

【００２９】平面反射板５３，５４は、加熱室１の形状
を直方体から崩し、定在波が形成されないようにして、
電界の強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能
と、給電口４から送出されて直進してきた高周波３０成
分を１回の反射でその進行方向を被加熱物６の中心部付
近の領域に向けさせて照射させる機能を有している。な
お、壁面２ｄの上部には前述の第１実施形態（図１）で
説明した平面反射板５１が設けられているが、ここでは
省略する。The plane reflecting plates 53 and 54 break the shape of the heating chamber 1 from a rectangular parallelepiped so that no standing wave is formed.
A function of preventing the generation of a strong part and a weak part of the electric field, and the reflection of the high-frequency 30 components transmitted straight from the power supply port 4 to the area near the center of the object 6 by one reflection. It has the function of directing and irradiating. Note that the flat reflector 51 described in the first embodiment (FIG. 1) is provided above the wall surface 2d, but is omitted here.

【００３０】この実施形態の高周波加熱装置において
は、上部の平面反射板５１（図１）による被加熱物６の
中心部付近の領域への照射による効果と、平面反射板５
３，５４による被加熱物６の中心部付近の領域への照射
による効果の相乗効果により、被加熱物６に対する高周
波３０成分の照射量を更に増やすことができるので、加
熱効率が更に向上し、被加熱物６の加熱むら及び解凍む
らを少なくすることができて、被加熱物６の均一加熱を
短時間で達成することができる。In the high-frequency heating apparatus of this embodiment, the effect of irradiating the area near the center of the object 6 to be heated by the upper flat reflector 51 (FIG. 1) and the flat reflector 5
Due to the synergistic effect of the effect of the irradiation of the region near the center of the object 6 by 3, 54, the amount of irradiation of the high frequency 30 component to the object 6 can be further increased, so that the heating efficiency is further improved, Uneven heating and thawing of the object 6 can be reduced, and uniform heating of the object 6 can be achieved in a short time.

【００３１】実施形態４．図４は本発明の請求項１に係
る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であり、図
中、前述の第２実施形態（図２）に相当する部分には同
一符号を付してある。Embodiment 4 FIG. FIG. 4 is a top cross-sectional view showing a second example of the high-frequency heating device according to claim 1 of the present invention. In the drawing, portions corresponding to the above-described second embodiment (FIG. 2) are denoted by the same reference numerals. It is.

【００３２】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７の対面に位置する壁面２ｅの両側部に、両側端側が開
閉扉側に傾斜する平面反射板５５，５６を形成してい
る。なお、各平面反射板５５，５６の開閉扉７に対する
角度はそれぞれ４５度以下に設定されている。In the high-frequency heating device of this embodiment, flat reflecting plates 55 and 56 whose both end sides are inclined toward the opening / closing door are formed on both sides of the wall surface 2e located opposite to the opening / closing door 7. In addition, the angle of each of the plane reflecting plates 55 and 56 with respect to the door 7 is set to 45 degrees or less.

【００３３】平面反射板５５，５６は、加熱室１の形状
を直方体から崩し、定在波が形成されないようにして、
電界の強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能
と、給電口４から送出されて反射、屈折により入射して
きた高周波成分を被加熱物６の中心部付近の領域に向け
させて照射させる機能を有している。なお、壁面２ｅの
上部には前述の第２実施形態（図２）で説明した平面反
射板５２が設けられているが、ここでは省略する。The flat reflecting plates 55 and 56 break the shape of the heating chamber 1 from a rectangular parallelepiped so that no standing wave is formed.
A function of preventing the generation of a strong portion and a weak portion of an electric field, and a function of irradiating a high-frequency component transmitted from the power supply port 4 by reflection and refraction to a region near the center of the object 6 to be heated. have. Note that the planar reflector 52 described in the second embodiment (FIG. 2) is provided above the wall surface 2e, but is omitted here.

【００３４】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第３実施形態と同様に上部の平面反射板５２
（図２）による被加熱物６の中心部付近の領域への照射
による効果と、平面反射板５５，５６による被加熱物６
の中心部付近の領域への照射による効果の相乗効果によ
り、被加熱物６に対する高周波成分の照射量を更に増や
すことができるので、加熱効率が更に向上し、被加熱物
６の加熱むら及び解凍むらを少なくすることができて、
被加熱物６の均一加熱を短時間で達成することができ
る。In the high-frequency heating apparatus according to this embodiment, the upper flat reflecting plate 52 is provided similarly to the third embodiment.
The effect of irradiating the region near the center of the object 6 to be heated by FIG.
Can be further increased by the synergistic effect of the effect of the irradiation on the area near the center of the object, the heating efficiency of the object to be heated 6 can be further increased. Can reduce unevenness,
Uniform heating of the object to be heated 6 can be achieved in a short time.

【００３５】実施形態５．図５は本発明の請求項３，４
に係る高周波加熱装置の第１例を示す正面断面図であ
り、図中、前述の第１実施形態（図１）に相当する部分
には同一符号を付してある。Embodiment 5 FIG. FIG. 5 shows claims 3 and 4 of the present invention.
2 is a front sectional view showing a first example of the high-frequency heating device according to the first embodiment, in which parts corresponding to those in the above-described first embodiment (FIG. 1) are denoted by the same reference numerals.

【００３６】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの上部に、加熱室１の中心
下部に対向するように凹面状の曲面反射板５７を設けて
いる。なお、曲面反射板５７は曲面反射面を示し、曲面
反射板５７の曲率半径は、加熱室１寸法（間口、奥行、
高さ）の最小値の１／４より大きく設定されている。こ
こでは、曲率半径を３００mmとした。In the high-frequency heating device of this embodiment, a concave curved reflecting plate 57 is provided on the upper surface of the wall surface 2 d facing the power supply port 4 so as to face the lower center of the heating chamber 1. The curved reflecting plate 57 indicates a curved reflecting surface, and the radius of curvature of the curved reflecting plate 57 is one dimension of the heating chamber (frontage, depth,
(Height) is set to be larger than 1/4 of the minimum value. Here, the radius of curvature was 300 mm.

【００３７】曲面反射板５７は、給電口４から送出され
て直進してきた高周波３０成分を縦方向で絞り込んで横
長のビームにして斜め下方に反射させ、この横長ビーム
状の反射波を被加熱物６の下部中心付近の領域に照射さ
せる機能を有している。それ以外の構成は前述の第１実
施形態のものと同様である。The curved reflecting plate 57 narrows down the high frequency 30 components sent straight out from the power supply port 4 in the vertical direction to form a horizontally long beam and reflects it obliquely downward. 6 has a function of irradiating a region near the lower center. The other configuration is the same as that of the first embodiment.

【００３８】この実施形態の高周波加熱装置において、
マグネトロン３で発生した高周波３０は給電口４へ導か
れ、給電口４から加熱室１内に送出される。加熱室１内
に送出された高周波３０成分は直進する割合が多いの
で、大部分の高周波３０成分が加熱室１を形成する曲面
反射板５７に入射して、曲面反射板５７で縦方向が収束
された横長状のビームとなって斜め下方へ反射され、テ
ーブル５の上に置かれた被加熱物６の中心部付近の領域
に多量に照射する。更に加熱室１下部の高周波３０成分
は、テーブル５の上に置かれた被加熱物６に直接照射さ
れ、あるいは給電口４の対面に位置する垂直壁面２ｄと
給電口４側の壁面２ａとの間で反射を繰り返すうちに被
加熱物６に照射され、または垂直壁面２ｄと給電口４側
の壁面２ａとの間で反射を繰り返すうちに平面反射板５
１に入射して、平面反射板５１で被加熱物６の下部中心
付近の領域に向けて照射される。In the high-frequency heating device of this embodiment,
The high-frequency wave 30 generated by the magnetron 3 is guided to the power supply port 4 and sent out from the power supply port 4 into the heating chamber 1. Since the high-frequency 30 components sent into the heating chamber 1 have a high percentage of going straight, most of the high-frequency 30 components enter the curved reflecting plate 57 forming the heating chamber 1, and the vertical direction converges on the curved reflecting plate 57. The beam is reflected obliquely downward as a horizontally elongated beam, and irradiates a large amount of an area near the center of the object 6 placed on the table 5. Further, the high-frequency component 30 in the lower part of the heating chamber 1 is directly irradiated to the object 6 to be heated placed on the table 5 or the vertical wall 2 d located opposite the power supply port 4 and the wall surface 2 a on the power supply port 4 side. The object to be heated 6 is irradiated while the reflection is repeated between the two, or the plane reflecting plate 5 is repeatedly reflected between the vertical wall surface 2 d and the wall surface 2 a on the side of the power supply port 4.
1 and is irradiated by the flat reflector 51 toward a region near the lower center of the object 6 to be heated.

【００３９】すなわち、給電口４の対面に位置する壁面
２ｄの上部を曲面反射板５７に形成することによって、
加熱室１の形状を直方体から崩し、定在波が形成されな
いようにして、電界の強い部分と弱い部分が生じるのを
防止している。そして通常、被加熱物６の存在していな
い加熱室１上部の高周波３０成分はその向きを曲面反射
板５７によって変えられ、テーブル５の上に置かれた被
加熱物６の下部中心付近の領域に照射する。したがっ
て、加熱効率が良く、かつ加熱むら及び解凍むらが少な
くなる。That is, by forming the upper part of the wall surface 2 d located on the opposite side of the power supply port 4 on the curved reflecting plate 57,
The shape of the heating chamber 1 is broken from a rectangular parallelepiped so that a standing wave is not formed, thereby preventing a portion having a strong electric field and a portion having a weak electric field from occurring. Normally, the direction of the high-frequency component 30 in the upper part of the heating chamber 1 where the object 6 is not present is changed by the curved reflecting plate 57, and the area near the lower center of the object 6 placed on the table 5 Irradiation. Therefore, the heating efficiency is good and the unevenness in heating and thawing is reduced.

【００４０】また、曲面反射板５７の曲率半径を加熱室
１寸法の最小値の１／４より大きく設定して、給電口４
から加熱室１内に送出された大部分の高周波３０成分
を、曲面反射板５７によって１回の反射でテーブル５上
の被加熱物６の下部中心付近の領域に照射できるように
しているので、高周波３０の減衰が少なくなり、加熱効
率が向上し、被加熱物６の加熱むら及び解凍むらを少な
くすることができて、被加熱物６の均一加熱が可能とな
る。このため、加熱時間の短縮化が図れ、電力消費量を
抑えることができる。The radius of curvature of the curved reflecting plate 57 is set to be larger than 1/4 of the minimum value of the dimension of the heating chamber 1 so that the power supply port 4
Most of the 30 high-frequency components transmitted into the heating chamber 1 can be radiated to the area near the lower center of the object 6 to be heated on the table 5 by one reflection by the curved reflecting plate 57. The attenuation of the high frequency wave 30 is reduced, the heating efficiency is improved, and the uneven heating and thawing of the object 6 can be reduced, so that the object 6 can be uniformly heated. Therefore, the heating time can be shortened, and the power consumption can be suppressed.

【００４１】[0041]

【表１】 [Table 1]

【００４２】表１はこの実施形態の高周波加熱装置によ
る被加熱物（ここではビーカと徳利を用いた）の上下加
熱ムラの実験データを従来例と比較して示したものであ
る。なお、ここでは出力はいずれも５００Ｗ、この実施
形態に係る曲面反射板５７の曲率半径は３００mmとし
た。Table 1 shows the experimental data of the unevenness of the upper and lower heating of the object to be heated (here, using a beaker and a bottle) by the high-frequency heating apparatus of this embodiment in comparison with the conventional example. Here, the output was 500 W, and the radius of curvature of the curved reflecting plate 57 according to this embodiment was 300 mm.

【００４３】表１から明らかなように、この実施形態の
高周波加熱装置の場合は、給電口４から加熱室１内に送
出された大部分の高周波３０成分を、曲面反射板５７に
よって１回の反射でテーブル５上の被加熱物の下部中心
付近の領域に横長状のビームの状態で多量に照射できる
ため、徳利のような上が括れている形状の被加熱物の場
合は、括れている場所に高周波３０の反射波が照射され
ず、徳利の下部中心付近に集中的に照射される。この結
果、効率的に内部の液体が加熱されて対流が発生し、均
一加熱が行われる。このため、上下加熱ムラ（温度差）
が３．２℃と小さくなっている。As is clear from Table 1, in the case of the high-frequency heating device of this embodiment, most of the high-frequency 30 components sent out of the power supply port 4 into the heating chamber 1 are converted by the curved reflecting plate 57 into one time. Since a large amount of horizontally elongated beams can be applied to the area near the lower center of the object to be heated on the table 5 by reflection, the object to be heated having a constricted upper portion such as a bottle is constricted. The reflected wave of the high frequency 30 is not radiated to the place, but is intensively radiated near the lower center of the bottle. As a result, the liquid inside is efficiently heated, convection is generated, and uniform heating is performed. For this reason, uneven heating up and down (temperature difference)
Is as small as 3.2 ° C.

【００４４】これに対し、従来例では、均等に高周波が
被加熱物に照射されていたとしても、首部が過加熱にな
り、上下加熱ムラ（温度差）が３５．８℃と非常に大き
くなっている。On the other hand, in the conventional example, even if the object to be heated is evenly irradiated with the high frequency, the neck is overheated, and the unevenness in upper and lower heating (temperature difference) becomes extremely large at 35.8 ° C. ing.

【００４５】また、ビ−カのようにストレートの縦長形
状の被加熱物の場合でも、この実施形態の高周波加熱装
置では、給電口４から加熱室１内に送出された大部分の
高周波３０成分がビ−カの下部中心付近に集中的に照射
されるため、効率的に内部の液体が加熱されて対流が発
生し、均一加熱が行われる。このため、上下加熱ムラ
（温度差）が３．９℃と小さくなっている。しかし、従
来例では均等に高周波が被加熱物に照射されていたとし
ても、上下加熱ムラ（温度差）が５．８℃と大きくなっ
ている。Even in the case of an object to be heated having a vertically long straight shape such as a beaker, the high-frequency heating apparatus of this embodiment is capable of supplying most of the 30 high-frequency components transmitted from the power supply port 4 into the heating chamber 1. Is intensively applied to the vicinity of the lower center of the beaker, so that the liquid inside is efficiently heated, convection is generated, and uniform heating is performed. Therefore, the upper and lower heating unevenness (temperature difference) is as small as 3.9 ° C. However, in the conventional example, even if the object to be heated is evenly irradiated with the high frequency, the unevenness of the upper and lower heating (temperature difference) is as large as 5.8 ° C.

【００４６】このように、この実施形態の高周波加熱装
置においては、大部分の高周波３０成分を、曲面反射板
５７によって１回の反射でテーブル５上の被加熱物の下
部中心付近の領域に横長状のビームの状態で多量に照射
できるので、内部の液体を効率的に対流で均一に加熱す
ることができ、被加熱物の加熱むら及び解凍むらをより
一層少なくすることができる。As described above, in the high-frequency heating device of this embodiment, most of the high-frequency 30 components are horizontally reflected by the curved reflecting plate 57 to the area near the lower center of the object to be heated on the table 5 by one reflection. Since a large amount of light can be irradiated in the shape of a beam, the liquid inside can be efficiently and uniformly heated by convection, and uneven heating and thawing of the object to be heated can be further reduced.

【００４７】実施形態６．図６は本発明の請求項３に係
る高周波加熱装置の第１例を示す側面断面図であり、図
中、前述の第２実施形態（図２）に相当する部分には同
一符号を付してある。Embodiment 6 FIG. FIG. 6 is a side sectional view showing a first example of a high-frequency heating device according to claim 3 of the present invention. In the drawing, portions corresponding to the above-described second embodiment (FIG. 2) are denoted by the same reference numerals. It is.

【００４８】この実施形態の高周波加熱装置は、加熱室
１の前面開口を覆う開閉扉７の対面に位置する壁面２ｅ
の上部に、開閉扉面に対して凹面状となるように曲面反
射板５８を設けている。なお、曲面反射板５８は曲面反
射面を示し、曲面反射板５８の曲率半径は、加熱室１寸
法（間口、奥行、高さ）の最小値の１／４より大きく設
定されている。ここでは、曲率半径を３００mmとした。The high-frequency heating device of this embodiment has a wall surface 2 e located opposite to the opening / closing door 7 which covers the front opening of the heating chamber 1.
A curved reflecting plate 58 is provided on the upper side of the opening so as to be concave with respect to the door surface. Note that the curved reflecting plate 58 indicates a curved reflecting surface, and the radius of curvature of the curved reflecting plate 58 is set to be larger than 1/4 of the minimum value of one dimension (width, depth, height) of the heating chamber 1. Here, the radius of curvature was 300 mm.

【００４９】曲面反射板５８は、加熱室１の形状を直方
体から崩し、定在波が形成されないようにして、電界の
強い部分と弱い部分が生じるのを防止する機能と、給電
口から送出されて反射、屈折により入射してきた高周波
成分を縦方向で絞り込んで横長のビームにして斜め下方
に反射させ、この反射波を被加熱物６の下部中心付近の
領域に照射させる機能と、を有している。それ以外の構
成は前述の第２実施形態のものと同様である。The curved reflecting plate 58 has a function of breaking the shape of the heating chamber 1 from a rectangular parallelepiped so that a standing wave is not formed, thereby preventing a portion having a strong electric field and a portion having a weak electric field from being generated. A function of narrowing down the high-frequency component incident by reflection and refraction in the vertical direction, turning it into a horizontally long beam, reflecting it obliquely downward, and irradiating the reflected wave to a region near the lower center of the object 6 to be heated. ing. Other configurations are the same as those of the above-described second embodiment.

【００５０】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第５実施形態と同様に曲面反射板５８によっ
て被加熱物６の下部中心付近の領域に横長状のビームの
状態で多量に照射できるので、被加熱物６の中心部に対
する高周波の照射量を増やすことができ、被加熱物６を
均一に加熱することができる。In the high-frequency heating device of this embodiment, similarly to the fifth embodiment, since the curved reflecting plate 58 can irradiate the region near the lower center of the object 6 to be heated in a large amount in the form of a horizontally long beam. In addition, the amount of high frequency irradiation to the central portion of the object to be heated 6 can be increased, and the object to be heated 6 can be uniformly heated.

【００５１】実施形態７．図７は本発明の請求項３，４
に係る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であ
り、図中、前述の第５実施形態（図５）に相当する部分
には同一符号を付してある。Embodiment 7 FIG. FIG. 7 shows claims 3 and 4 of the present invention.
FIG. 6 is a top cross-sectional view showing a second example of the high-frequency heating device according to the first embodiment, in which parts corresponding to those in the fifth embodiment (FIG. 5) are denoted by the same reference numerals.

【００５２】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面の全域を、加熱室１の中心下部
に対向するように凹面状となる球面形状をしている曲面
反射板６１に形成している。曲面反射板６１は曲面反射
面を示し、その曲率半径が加熱室１寸法（間口、奥行、
高さ）の最小値の１／４より大きく設定されているとと
もに、その図示しない上端側を給電口４側に若干傾かせ
て設定され、下方へ球面収差が発生するようにしてい
る。それ以外の構成は前述の第５実施形態のものと同様
である。In the high-frequency heating device of this embodiment, the entire surface of the wall surface facing the power supply port 4 is formed into a curved reflecting plate 61 having a concave spherical shape so as to face the lower center of the heating chamber 1. Is formed. The curved reflecting plate 61 indicates a curved reflecting surface, and its radius of curvature is one dimension of the heating chamber (frontage, depth,
The height is set to be larger than 1/4 of the minimum value of the height, and the upper end (not shown) is slightly inclined toward the power supply port 4 so that spherical aberration is generated downward. The other configuration is the same as that of the fifth embodiment.

【００５３】この実施形態の高周波加熱装置において、
マグネトロン３で発生した高周波３０は給電口４へ導か
れ、給電口４から加熱室１内に送出される。加熱室１内
に送出された高周波３０成分は直進する割合が多いの
で、テーブル５の上に置かれた被加熱物６に直接照射さ
れるものを除く加熱室１上部や直進方向左右の殆どの高
周波３０成分が給電口４の対面に位置する壁面すなわち
曲面反射板６１に入射して、曲面反射板６１で反射され
る。曲面反射板６１は下方へ球面収差が発生するように
上端側を給電口４側に若干傾かせて設置されているの
で、反射波は収束されながら球面収差の効果により、テ
ーブル５の上に置かれた被加熱物６の下部中心に向けて
多量に照射される。In the high-frequency heating device of this embodiment,
The high-frequency wave 30 generated by the magnetron 3 is guided to the power supply port 4 and sent out from the power supply port 4 into the heating chamber 1. Since the high frequency 30 components sent into the heating chamber 1 have a high percentage of going straight, most of the upper part of the heating chamber 1 and most of the left and right directions in the straight traveling direction except those directly irradiated on the object to be heated 6 placed on the table 5 The 30 high-frequency components are incident on the wall surface located opposite the power supply port 4, that is, the curved reflecting plate 61, and are reflected by the curved reflecting plate 61. Since the curved reflecting plate 61 is installed with the upper end slightly inclined toward the power supply port 4 so that spherical aberration is generated downward, the reflected wave is converged and placed on the table 5 by the effect of spherical aberration. A large amount is irradiated toward the lower center of the heated object 6.

【００５４】すなわち、給電口４の対面に位置する壁面
を、曲面反射板６１に形成することによって、加熱室１
の形状を直方体から崩し、定在波が形成されないように
して、電界の強い部分と弱い部分が生じるのを防止して
いる。そして通常、被加熱物６の存在していない加熱室
１上部や直進方向左右の高周波３０成分はその向きを曲
面反射板６１によって変えられ、テーブル５の上に置か
れた被加熱物６の下部中心に照射する。したがって、加
熱効率が一層良くなり、かつ加熱むら及び解凍むらが少
なくなる。That is, by forming the wall surface located opposite the power supply port 4 on the curved reflecting plate 61, the heating chamber 1
Is broken from a rectangular parallelepiped so that a standing wave is not formed, thereby preventing a portion having a strong electric field and a portion having a weak electric field from occurring. Usually, the upper part of the heating chamber 1 where there is no object to be heated 6 or the high frequency 30 components in the left and right directions in the straight direction are changed in direction by the curved reflecting plate 61 and the lower part of the object to be heated 6 placed on the table 5 Illuminate the center. Therefore, heating efficiency is further improved, and uneven heating and thawing are reduced.

【００５５】また、曲面反射板６１の曲率半径を加熱室
１寸法の最小値の１／４より大きく設定して、給電口４
から加熱室１内に送出された大部分の高周波３０成分
を、曲面反射板６１によって１回の反射でテーブル５上
の被加熱物６の下部中心に照射できるようにしているの
で、高周波３０の減衰が少なくなり、加熱効率が一層向
上し、被加熱物６の加熱むら及び解凍むらを少なくする
ことができて、被加熱物６の均一加熱が可能となる。こ
のため、加熱時間の一層の短縮化が図れ、電力消費量を
抑えることができる。Further, the radius of curvature of the curved reflecting plate 61 is set to be larger than 最小 of the minimum value of the dimension of the heating chamber 1, and
Most of the high-frequency 30 components sent from the to the heating chamber 1 can be irradiated to the lower center of the object 6 to be heated on the table 5 by a single reflection by the curved reflecting plate 61. The attenuation is reduced, the heating efficiency is further improved, and the uneven heating and thawing of the heated object 6 can be reduced, so that the heated object 6 can be uniformly heated. Therefore, the heating time can be further shortened, and the power consumption can be suppressed.

【００５６】実施形態８．図８は本発明の請求項３に係
る高周波加熱装置の第２例を示す上面断面図であり、図
中、前述の第６実施形態（図６）に相当する部分には同
一符号を付してある。Embodiment 8 FIG. FIG. 8 is a top sectional view showing a second example of the high-frequency heating device according to claim 3 of the present invention. In the figure, the same reference numerals are given to portions corresponding to the above-described sixth embodiment (FIG. 6). It is.

【００５７】この実施形態の高周波加熱装置は、加熱室
１の前面開口を覆う開閉扉７の対面に位置する壁面の全
域を、開閉扉面に対して凹面状となる球面形状をしてい
る曲面反射板６２に形成している。曲面反射板６２は曲
面反射面を示し、その曲率半径が加熱室１寸法（間口、
奥行、高さ）の最小値の１／４より大きく設定されてい
るとともに、その図示しない上端側を開閉扉７側に若干
傾かせて設定され、下方へ球面収差が発生するようにし
ている。それ以外の構成は前述の第６実施形態のものと
同様である。In the high-frequency heating device of this embodiment, the entire surface of the wall surface opposite to the door 7 that covers the front opening of the heating chamber 1 has a spherical surface that is concave with respect to the door surface. It is formed on the reflection plate 62. The curved reflecting plate 62 shows a curved reflecting surface whose radius of curvature is one dimension of the heating chamber (frontage,
(Depth, height) is set to be larger than 1/4 of the minimum value, and the upper end (not shown) is slightly inclined toward the opening / closing door 7 so that spherical aberration is generated downward. Other configurations are the same as those of the above-described sixth embodiment.

【００５８】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第７実施形態と同様に反射波を収束させなが
ら曲面反射板６２の球面収差の効果により、被加熱物６
の下部中心に向けて多量に照射できるので、被加熱物６
の中心部に対する高周波の照射量を増やすことができ、
被加熱物６を均一に加熱することができる。Also in the high-frequency heating apparatus of this embodiment, the object 6 to be heated is condensed by the spherical aberration of the curved reflecting plate 62 while converging the reflected wave similarly to the seventh embodiment.
Since a large amount of light can be irradiated toward the lower center of the
Can increase the amount of high-frequency radiation to the center of the
The object to be heated 6 can be heated uniformly.

【００５９】実施形態９．図９は本発明の請求項３，４
に係る高周波加熱装置の第３例を示す正面断面図であ
り、図中、前述の第５実施形態（図５）に相当する部分
には同一符号を付してある。Embodiment 9 FIG. FIG. 9 shows claims 3 and 4 of the present invention.
FIG. 6 is a front sectional view showing a third example of the high-frequency heating device according to the first embodiment, in which parts corresponding to those in the above-described fifth embodiment (FIG. 5) are denoted by the same reference numerals.

【００６０】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの上部に設けた曲面反射板
５７の上下方向の中間位置と下部位置に、オーブン皿８
の一側を段階的に支持する溝状の支持部９ａ，９ｂを奥
行方向に延出させて形成するとともに、壁面２ｄの垂直
面部の上下方向の上部位置と中間位置に、奥行方向に延
出するオーブン皿用の支持レール９ｃ，９ｄを設けてい
る。このうち垂直面部の上方に位置する支持レール９ｃ
は、曲面反射板５７の下方に位置する溝の深さが浅い支
持部９ｂの溝下縁に沿って設置され、支持部９ｂからオ
ーブン皿８が脱落するのを防止する機能を有している。The high-frequency heating apparatus according to this embodiment includes an oven plate 8 at an intermediate position in a vertical direction and a lower position of a curved reflecting plate 57 provided on an upper surface of a wall surface 2 d facing the power supply port 4.
Groove-shaped support portions 9a and 9b for supporting one side in a stepwise manner are formed by extending in the depth direction, and extend in the depth direction to upper and lower positions in the vertical direction of the vertical surface of the wall surface 2d. Support rails 9c and 9d for the oven dish to be heated. Of these, the support rail 9c located above the vertical surface portion
Is installed along the lower edge of the support portion 9b having a shallow groove located below the curved reflecting plate 57, and has a function of preventing the oven plate 8 from falling off from the support portion 9b. .

【００６１】また、給電口４側の壁面２ａにも、壁面２
ｄ側の各支持部９ａ，９ｂ及び支持レール９ｄに対応す
る高さ位置に、オーブン皿８の他側を段階的に支持する
奥行方向の支持レール９ｅ，９ｆ，９ｇが設けられてお
り、オーブン皿８は、これら左右の支持部や支持レール
に支持案内されて加熱室１内に設置されるようになって
いる。The wall surface 2a on the side of the power supply port 4 also has the wall surface 2a.
Depth-direction support rails 9e, 9f, 9g for supporting the other side of the oven dish 8 stepwise are provided at height positions corresponding to the respective support portions 9a, 9b and the support rail 9d on the d side. The plate 8 is installed in the heating chamber 1 while being supported and guided by these left and right support portions and support rails.

【００６２】この実施形態の高周波加熱装置において
は、曲面反射板５７にオーブン皿８を支持する支持部９
ａ，９ｂを設けたことにより、曲面反射板５７によって
高周波による加熱効率が向上したレンジに、更にオーブ
ン調理機能を付加することができる。In the high-frequency heating device of this embodiment, the support 9 supporting the oven plate 8 on the curved reflecting plate 57
By providing a and 9b, an oven cooking function can be further added to the range in which the heating efficiency by high frequency is improved by the curved reflecting plate 57.

【００６３】なお、ここでは曲面反射板５７にオーブン
皿８の支持部９ａ，９ｂを設けたものを例に挙げて説明
したが、これを前述の第１実施形態（図１）で説明した
平面反射板５１にも設けることができることは言うまで
もなく、この場合でも同等の作用効果を奏する。Here, the example in which the curved reflecting plate 57 is provided with the supporting portions 9a and 9b of the oven dish 8 has been described as an example, but this is described with reference to the plan view described in the first embodiment (FIG. 1). Needless to say, the same function and effect can be obtained in this case.

【００６４】実施形態１０．図１０は本発明の請求項
３，４に係る高周波加熱装置の第４例を示す正面断面図
であり、図中、前述の第５実施形態（図５）に相当する
部分には同一符号を付してある。Embodiment 10 FIG. FIG. 10 is a front sectional view showing a fourth example of the high-frequency heating device according to claims 3 and 4 of the present invention. In the drawing, the same reference numerals are used to designate portions corresponding to the above-described fifth embodiment (FIG. 5). It is attached.

【００６５】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄの上部に設けた曲面反射板
５７に投光用の多数の穴５７ａを設けるとともに、その
裏に庫内灯１０を設置したものである。それ以外の構成
は前述の第５実施形態のものと同様である。In the high-frequency heating device of this embodiment, the curved reflecting plate 57 provided on the upper surface of the wall surface 2d facing the power supply port 4 is provided with a large number of holes 57a for projecting light, and the interior lamp is provided on the back thereof. 10 are installed. The other configuration is the same as that of the fifth embodiment.

【００６６】この実施形態の高周波加熱装置において
は、給電口４の対面に位置する壁面２ｄの上部に設けた
曲面反射板５７によって、曲面反射板５７の裏面側に広
いスペースが生じる。このスペースに庫内灯１０を設置
することで、スペースの有効利用が図れ、かつ加熱室１
内における投光角度が従来より広がり、明るい加熱室１
を得ることができる。In the high-frequency heating device of this embodiment, a large space is created on the back side of the curved reflecting plate 57 by the curved reflecting plate 57 provided on the upper surface of the wall surface 2d opposite to the power supply port 4. By installing the interior light 10 in this space, the space can be effectively used, and the heating room 1
Lighting chamber 1 with a wider light projection angle than before
Can be obtained.

【００６７】なお、ここでは曲面反射板５７の裏面側に
庫内灯１０を設置したものを例に挙げて説明したが、こ
れを前述の第１実施形態（図１）で説明した平面反射板
５１の裏面側にも設けることができることは言うまでも
なく、この場合でも同等の作用効果を奏する。Here, the case where the interior lamp 10 is installed on the back side of the curved reflecting plate 57 has been described as an example, but this is the same as the flat reflecting plate described in the first embodiment (FIG. 1). Needless to say, it can be provided also on the back side of 51, and in this case, the same operation and effect can be obtained.

【００６８】実施形態１１．図１１は本発明の請求項３
に係る高周波加熱装置の第３例を示す側面断面図であ
り、図中、前述の第６実施形態（図６）に相当する部分
には同一符号を付してある。Embodiment 11 FIG. FIG. 11 shows claim 3 of the present invention.
FIG. 7 is a side sectional view showing a third example of the high-frequency heating device according to the first embodiment, in which parts corresponding to those in the sixth embodiment (FIG. 6) are denoted by the same reference numerals.

【００６９】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７の対面に位置する壁面２ｅの上部に設けた曲面反射板
５８に投光用の多数の穴５８ａを設けるとともに、その
裏に庫内灯１０を設置したものである。それ以外の構成
は前述の第６実施形態のものと同様である。In the high-frequency heating device of this embodiment, the curved reflecting plate 58 provided on the upper surface of the wall surface 2e opposite to the opening / closing door 7 is provided with a large number of holes 58a for projecting light, and the interior lamp on the back thereof. 10 are installed. Other configurations are the same as those of the above-described sixth embodiment.

【００７０】この実施形態の高周波加熱装置において
も、開閉扉７の対面に位置する壁面２ｅの上部に設けた
曲面反射板５８によって、曲面反射板５８の裏面側に広
いスペースが生じる。このスペースに庫内灯１０を設置
することで、スペースの有効利用が図れ、かつ加熱室１
内における投光角度が従来より広がり、明るい加熱室１
内を得ることができるAlso in the high-frequency heating device of this embodiment, a large space is created on the back side of the curved reflecting plate 58 by the curved reflecting plate 58 provided on the upper surface of the wall surface 2e facing the opening / closing door 7. By installing the interior light 10 in this space, the space can be effectively used, and the heating room 1
Lighting chamber 1 with a wider light projection angle than before
Can get inside

【００７１】なお、ここでは曲面反射板５８の裏面側に
庫内灯１０を設置したものを例に挙げて説明したが、こ
れを前述の第２実施形態（図２）で説明した平面反射板
５２の裏面側にも設けることができることは言うまでも
なく、この場合でも同等の作用効果を奏する。Although the case where the interior lamp 10 is installed on the back side of the curved reflecting plate 58 has been described as an example, this is the same as the flat reflecting plate described in the second embodiment (FIG. 2). Needless to say, it can be provided also on the back side of 52, and in this case, the same operation and effect can be obtained.

【００７２】実施形態１２．図１２は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第１例を示す正面断面図であ
り、図中、従来の図１７に相当する部分には同一符号を
付してある。Embodiment 12 FIG. FIG. 12 shows claim 5 of the present invention.
17 is a front sectional view showing a first example of the high-frequency heating device according to the present invention, in which parts corresponding to those in FIG. 17 of the related art are denoted by the same reference numerals.

【００７３】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄ寄りに、加熱室１の頂面を
形成する壁面２ｂから垂下する揺動可能な平面反射板６
３を配置するとともに、平面反射板６３を左右にスイン
グさせるための反射板駆動手段６４を設け、反射板駆動
手段６４の加熱室底面に対する角度を反射板制御装置に
よって、披加熱物６の形状、載置位置によって変化させ
るようにしたものである。The high-frequency heating device of this embodiment has a swingable flat reflecting plate 6 hanging down from the wall surface 2b forming the top surface of the heating chamber 1 near the wall surface 2d opposite to the power supply port 4.
3 and a reflector driving means 64 for swinging the plane reflector 63 to the left and right is provided. The angle of the reflector driving means 64 with respect to the bottom of the heating chamber is adjusted by the reflector control device to determine the shape of the heating object 6, This is changed according to the mounting position.

【００７４】これを更に詳述すると、反射板駆動手段６
４は、平面反射板６３の基端が固定された軸部材６５
と、軸部材６５にギヤ機構、ベルト機構またはリンク機
構等からなる動力伝達機構６６を介して連結されたスイ
ング用モータ（図示せず）とから構成されている。This will be described in more detail.
4 is a shaft member 65 to which the base end of the flat reflecting plate 63 is fixed.
And a swing motor (not shown) connected to the shaft member 65 via a power transmission mechanism 66 including a gear mechanism, a belt mechanism, a link mechanism, and the like.

【００７５】反射板制御装置は、被加熱物６が載置され
かつモータ９１により回転させられるターンテーブル５
Ａの回転位置を検出する回転位置検出手段９２と、加熱
室１内に臨ませてその上部設置したカメラ９３からの撮
像情報に基づいてターンテーブル５Ａに載置されている
被加熱物６の輪郭の形状およびターンテーブル５Ａ上の
位置を検出する形状・位置検出手段９４と、回転位置検
出手段９２により検出されたターンテーブル５Ａの回転
位置情報、及び形状・位置検出手段９４により検出され
た被加熱物６の形状・位置情報に基づいて、反射板駆動
手段６４により平面反射板６３の角度を変化させ、給電
口４から送出した高周波を被加熱物６へ反射させる反射
板角度制御手段９５とから構成され、これら各手段は高
周波加熱装置の制御部内に設けられている。なお、ここ
では撮像情報を得る手段としてカメラ９３を例に挙げた
が、それ以外に電解強度センサ等の採用も可能である。
それ以外の構成は従来の図１７のものと同様である。The reflection plate control device includes a turntable 5 on which the object to be heated 6 is placed and which is rotated by a motor 91.
A rotation position detection means 92 for detecting the rotation position of A, and a contour of the object 6 to be heated placed on the turntable 5A based on image pickup information from a camera 93 placed above and facing the heating chamber 1. Shape / position detection means 94 for detecting the shape of the turntable 5A and the position on the turntable 5A, the rotation position information of the turntable 5A detected by the rotation position detection means 92, and the heated object detected by the shape / position detection means 94. Based on the shape / position information of the object 6, the angle of the planar reflector 63 is changed by the reflector driving means 64, and the reflector angle control means 95 reflects the high frequency transmitted from the power supply port 4 to the object 6. Each of these means is provided in the control unit of the high-frequency heating device. Here, the camera 93 has been described as an example of a means for obtaining the imaging information, but an electrolytic strength sensor or the like may be employed.
Other configurations are the same as those of the conventional FIG.

【００７６】次に、この実施形態の高周波加熱装置の動
作を、被加熱物に徳利を用いた場合を例に挙げて説明す
る。まず、カメラ９３により徳利を撮影し、徳利および
ターンテーブル５Ａの画像データを形状・位置検出手段
９４に入力する。形状・位置検出手段９４では、この画
像データを分析し、ターンテーブル５Ａ上の徳利の形状
および位置を検出する。Next, the operation of the high-frequency heating apparatus according to this embodiment will be described with reference to an example in which a liquid is used as an object to be heated. First, a photograph is taken by the camera 93, and the image data of the bottle and the turntable 5A are input to the shape / position detecting means 94. The shape / position detecting means 94 analyzes the image data and detects the shape and position of the bottle on the turntable 5A.

【００７７】一方、ターンテーブル５Ａを回転駆動する
モータ９１の回転信号を回転位置検出手段９２に入力す
る。回転位置検出手段９２では、この回転信号に基づい
てターンテーブル５Ａの回転位置を検出する。On the other hand, a rotation signal of the motor 91 for rotating the turntable 5A is input to the rotation position detecting means 92. The rotation position detection means 92 detects the rotation position of the turntable 5A based on the rotation signal.

【００７８】次いで、ターンテーブル５Ａ上の徳利の形
状及び位置を示すデータと、ターンテーブル５Ａの回転
位置を示すデータを用いて、平面反射板６３により反射
される電磁波が徳利の下部に集中するように、平面反射
板６３の角度を設定する。すなわち、反射板角度制御手
段９５が前記２つのデータを用いて、平面反射板６３が
徳利下部と対向するための平面反射板６３の最適角度を
検出し、この検出した角度になるように、反射板駆動手
段６４によりスイング用モータを駆動させ、平面反射板
６３の基端の軸部材６５支点として左右に揺動させる。
ここで、徳利がターンテーブル５Ａの中央からずれた位
置に載置された場合であっても、反射板角度制御手段９
５がターンテーブル５Ａの回転に伴う徳利の位置の変化
を逐次検出し、徳利下部に平面反射板６３が対向するよ
うに反射板駆動手段６４により、平面反射板６３を揺動
制御する。Next, using the data indicating the shape and position of the bottle on the turntable 5A and the data indicating the rotational position of the turntable 5A, the electromagnetic waves reflected by the plane reflector 63 are concentrated below the bottle. Then, the angle of the flat reflector 63 is set. That is, the reflector angle control means 95 detects the optimum angle of the flat reflector 63 for the flat reflector 63 to face the lower part of the bottle using the above two data, and sets the reflection angle so as to be the detected angle. The swing motor is driven by the plate driving means 64 to swing left and right as a shaft member 65 fulcrum at the base end of the flat reflecting plate 63.
Here, even if the bottle is placed at a position shifted from the center of the turntable 5A, the reflector angle control means 9
5 sequentially detects a change in the position of the bottle with the rotation of the turntable 5A, and controls the swing of the plate reflector 63 by the reflector driving means 64 so that the plate reflector 63 faces the lower part of the bottle.

【００７９】このように、給電口４から直進してきた大
部分の高周波成分が、平面反射板６３によって１回の反
射で被加熱物６の中心部付近の領域へ照射される。そし
て、被加熱物６の位置に応じて平面反射板６３の傾きが
変化し、これによって常に被加熱物６の中心部付近の領
域へ高周波を集中的に照射させることができる。このた
め、加熱効率が向上し、加熱むら及び解凍むらを少なく
できて、被加熱物６を均一に加熱することができる。As described above, most of the high-frequency components traveling straight from the power supply port 4 are radiated by the flat reflector 63 to the region near the center of the object 6 by one reflection. Then, the inclination of the flat reflecting plate 63 changes according to the position of the object 6 to be heated, so that the high frequency can always be intensively applied to a region near the center of the object 6 to be heated. For this reason, the heating efficiency is improved, uneven heating and uneven thawing can be reduced, and the object to be heated 6 can be uniformly heated.

【００８０】実施形態１３．図１３は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第２例を示す側面断面図であ
り、図中、前述の第１２実施形態（図１２）に相当する
部分には同一符号を付してある。Embodiment 13 FIG. FIG. 13 shows claim 5 of the present invention.
FIG. 13 is a side sectional view showing a second example of the high-frequency heating device according to the first embodiment, in which parts corresponding to those in the twelfth embodiment (FIG. 12) are denoted by the same reference numerals.

【００８１】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７対面に位置する壁面２ｅ寄りに、加熱室１の頂面を形
成する壁面２ｂから垂下する揺動可能な平面反射板６８
を配置するとともに、平面反射板６８を前後にスイング
させるための反射板駆動手段６４を設け、反射板駆動手
段６４の加熱室底面に対する角度を反射板制御装置によ
って、披加熱物６の形状、載置位置によって変化させる
ようにしたものである。In the high-frequency heating device of this embodiment, the oscillating flat reflecting plate 68 hanging down from the wall surface 2b forming the top surface of the heating chamber 1 is located closer to the wall surface 2e located opposite to the opening / closing door 7.
And a reflection plate driving means 64 for swinging the plane reflection plate 68 back and forth is provided, and the angle of the reflection plate driving means 64 with respect to the bottom surface of the heating chamber is adjusted by the reflection plate control device so that the shape and mounting of the heating object 6 are adjusted. This is changed according to the position.

【００８２】反射板駆動手段６４は、前述の第１２実施
形態で説明したと同様に平面反射板６８の基端が固定さ
れた軸部材６５と、軸部材６５にギヤ機構、ベルト機構
またはリンク機構等からなる動力伝達機構６６を介して
連結されたスイング用モータ（図示せず）とから構成さ
れている。The reflector driving means 64 includes a shaft member 65 to which the base end of the flat reflector 68 is fixed, as described in the twelfth embodiment, and a gear mechanism, a belt mechanism or a link mechanism attached to the shaft member 65. And a swing motor (not shown) connected via a power transmission mechanism 66 composed of the above.

【００８３】また、反射板制御装置も、前述の第１２実
施形態で説明したと同様に被加熱物６が載置されかつモ
ータ９１により回転させられるターンテーブル５Ａの回
転位置を検出する回転位置検出手段９２と、加熱室１内
に臨ませてその上部設置したカメラ９３からの撮像情報
に基づいてターンテーブル５Ａに載置されている被加熱
物６の輪郭の形状およびターンテーブル５Ａ上の位置を
検出する形状・位置検出手段９４と、回転位置検出手段
９２により検出されたターンテーブル５Ａの回転位置情
報、及び形状・位置検出手段９４により検出された被加
熱物６の形状・位置情報に基づいて、反射板駆動手段６
４により平面反射板６３の角度を変化させ、給電口４か
ら送出した高周波を被加熱物６へ反射させる反射板角度
制御手段９５とから構成され、これら各手段が高周波加
熱装置の制御部内に設けられている。それ以外の構成は
前述の第１２実施形態のものと同様である。Also, as described in the twelfth embodiment, the reflector control device also detects the rotation position of the turntable 5A on which the object 6 is placed and rotated by the motor 91. The shape of the contour of the object 6 to be heated placed on the turntable 5A and the position on the turntable 5A are determined based on the image pickup information from the means 92 and the camera 93 installed above and facing the heating chamber 1. Based on the shape / position detection means 94 to be detected, the rotation position information of the turntable 5A detected by the rotation position detection means 92, and the shape / position information of the heated object 6 detected by the shape / position detection means 94 , Reflector driving means 6
4, a reflector angle control means 95 for changing the angle of the plane reflector 63 and reflecting the high frequency transmitted from the power supply port 4 to the object 6 to be heated, and these means are provided in the control section of the high frequency heating device. Have been. Other configurations are the same as those of the twelfth embodiment.

【００８４】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第１２実施形態と同様に平面反射板６８によ
って、被加熱物６の中心部付近の領域への高周波の照射
量を増やすことができる。このため、加熱効率が向上
し、加熱むら及び解凍むらを少なくできて、被加熱物６
を均一に加熱することができる。Also in the high-frequency heating apparatus of this embodiment, the amount of high-frequency irradiation to the area near the center of the object 6 to be heated can be increased by the flat reflecting plate 68 as in the twelfth embodiment. For this reason, heating efficiency is improved, and uneven heating and thawing can be reduced.
Can be uniformly heated.

【００８５】実施形態１４．図１４は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第３例を示す正面断面図、図１
５はその曲率変更機構の要部を示す斜視図であり、各図
中、前述の第１２実施形態（図１２）に相当する部分に
は同一符号を付してある。Embodiment 14 FIG. FIG. 14 shows claim 5 of the present invention.
FIG. 1 is a front sectional view showing a third example of the high-frequency heating device according to the present invention.
5 is a perspective view showing a main part of the curvature changing mechanism, in which parts corresponding to those in the twelfth embodiment (FIG. 12) are denoted by the same reference numerals.

【００８６】この実施形態の高周波加熱装置は、給電口
４の対面に位置する壁面２ｄ寄りに、凹面状の球面反射
板７１を、加熱室下部中心に臨ませて配置するととも
に、球面反射板７１の曲率を、運転時間の経過とともに
変化させる曲率変更機構７２を設けたものである。In the high-frequency heating device of this embodiment, a concave spherical reflecting plate 71 is arranged near the wall surface 2d opposite to the power supply port 4 so as to face the center of the lower portion of the heating chamber. Is provided with a curvature changing mechanism 72 for changing the curvature with the lapse of operation time.

【００８７】球面反射板７１は、一辺が加熱室１の頂面
を形成する壁面２ｂに所定角度をもって固定された平板
状の基体７３と、基体７３の中央部に形成した孔の周り
にヒンジ７４により結合されて基体裏面側に配置され、
シャッタのようにそれぞれが部分的に積層された複数の
球面形成片７５とから構成されている。The spherical reflecting plate 71 has a flat base 73 fixed at a predetermined angle to a wall surface 2 b having one side forming the top surface of the heating chamber 1, and a hinge 74 around a hole formed in the center of the base 73. And arranged on the back side of the base,
It is composed of a plurality of spherical forming pieces 75 partially laminated like a shutter.

【００８８】曲率変更機構７２は、各ヒンジ７４に装着
され、一端が基体７３の裏面に、他端が球面形成片７５
の背面に、結合されて、それぞれが対応する球面形成片
７５を常時背面側（曲率を小さくする方向）に付勢する
複数のねじりばね７６と、各球面形成片７５の背面に形
成された紐ガイド７７と、これら紐ガイド７７により脱
落が防止されて球面反射板７１の背面に巻回され、一端
が基体７３の裏面側に結合されるとともに、他端が基体
７３の裏面に設けたリング部材７８を通して加熱室１の
上面に延出してボビン７９に巻回された紐８１と、ボビ
ン７９を回転駆動することによって球面反射板７１の曲
率を変化させるモータ８２と、紐８１のリング部材７８
とボビン７９との間に装着されてリング部材７８と係合
可能なストッパリング８３とから構成され、モータ８２
は図示しない操作パネルにより（披加熱物の形状、特徴
によって）使用者が設定する運転モードに応じて、運転
時間の経過とともに球面反射板７１の曲率を変化させる
機能を有し、またストッパリング８３は球面反射板７１
の曲率を、通常は給電口４から直進してきた高周波成分
をテーブル５の上に置かれた被加熱物６の下部中心に向
けて反射させ得る曲率（以下、基準曲率という）に保持
させる機能を有している。なお、リング部材７８の紐８
１が摺動する内面には低摩擦材が塗布され、紐８１がス
ムーズにスライドできるようになっているが、これをピ
ンチローラに置き換えてもよい。それ以外の構成は前述
の第１２実施形態のものと同様である。The curvature changing mechanism 72 is mounted on each hinge 74, and has one end on the back surface of the base 73 and the other end on the spherical forming piece 75.
A plurality of torsion springs 76, which are coupled to each other and always bias the corresponding spherical forming piece 75 to the rear side (in a direction of decreasing the curvature), and a string formed on the rear face of each spherical forming piece 75 A ring member having a guide 77, which is prevented from falling off by these string guides 77, is wound around the back surface of the spherical reflector 71, and has one end connected to the back surface side of the base 73 and the other end provided on the back surface of the base 73. A string 81 extending to the upper surface of the heating chamber 1 and wound around a bobbin 79 through a motor 78, a motor 82 that changes the curvature of the spherical reflection plate 71 by rotating the bobbin 79, and a ring member 78 of the string 81.
And a stopper ring 83 mounted between the motor and the bobbin 79 and engageable with the ring member 78.
Has a function of changing the curvature of the spherical reflector 71 with the elapse of operation time according to the operation mode set by the user (depending on the shape and characteristics of the heated object) by an operation panel (not shown). Is a spherical reflector 71
Has a function of maintaining a curvature (hereinafter referred to as a reference curvature) that can reflect a high-frequency component that has normally traveled straight from the power supply port 4 toward the lower center of the heated object 6 placed on the table 5. Have. The string 8 of the ring member 78
Although a low friction material is applied to the inner surface on which 1 slides so that the string 81 can slide smoothly, this may be replaced with a pinch roller. Other configurations are the same as those of the twelfth embodiment.

【００８９】この実施形態の高周波加熱装置において、
操作パネルにより使用者が運転モードを設定し、スター
トキーを押すと、マグネトロン３で高周波が発生し、給
電口４に導かれ、給電口４から加熱室１内に送出され
る。加熱室１内に送出された高周波成分は直進する割合
が多いので、大部分の高周波成分が球面反射板７１に入
射する。球面反射板７１は、通常はストッパリング８３
により基準曲率に保持されている状態にあるため、運転
開始当初は給電口４から直進してきた高周波成分は、球
面反射板７１によってテーブル５の上に置かれた被加熱
物６の下部中心に向けて反射させられる。In the high-frequency heating device of this embodiment,
When the user sets an operation mode using the operation panel and presses a start key, a high frequency is generated in the magnetron 3, guided to the power supply port 4, and sent out from the power supply port 4 into the heating chamber 1. Since the high-frequency component sent into the heating chamber 1 has a high rate of going straight, most of the high-frequency component is incident on the spherical reflector 71. The spherical reflector 71 is usually provided with a stopper ring 83.
Therefore, at the beginning of the operation, the high-frequency component that has traveled straight from the power supply port 4 is directed toward the lower center of the object 6 placed on the table 5 by the spherical reflector 71. And reflected.

【００９０】使用者が設定した運転モードが、例えば手
動モードで加熱時間が２分間に設定されている場合、被
加熱物６の下部中心への照射を１分間とし、１分経過す
るとモータ８２が作動し、ボビン７９により紐８１を巻
き取っていき、これにより各球面形成片７５をそれぞれ
のねじりばね７６の付勢力に抗して表面側（曲率を大き
くする方向）に揺動させて、その焦点距離を長くし、被
加熱物６に対する高周波成分の照射領域が拡大するよう
に変化させる。そして設定された加熱時間（２分間）が
経過すると、ねじりばね７６の付勢力によってボビン７
９から紐８１が繰り出され、ストッパリング８３がリン
グ部材７８と係合することにより紐８１の繰り出しが停
止し、球面反射板７１がその曲率を基準曲率に保持され
る。When the operation mode set by the user is, for example, a manual mode and the heating time is set to 2 minutes, the irradiation to the lower center of the object 6 is set to 1 minute, and the motor 82 is turned on after 1 minute. It operates and winds the string 81 by the bobbin 79, thereby swinging each spherical surface forming piece 75 toward the surface side (in the direction of increasing the curvature) against the biasing force of each torsion spring 76, and The focal length is increased, and the area to be irradiated with the high-frequency component on the object 6 is changed so as to be enlarged. When the set heating time (two minutes) elapses, the urging force of the torsion spring 76 causes the bobbin 7 to rotate.
The string 81 is extended from 9 and the extension of the string 81 is stopped by the engagement of the stopper ring 83 with the ring member 78, and the curvature of the spherical reflector 71 is maintained at the reference curvature.

【００９１】このように、給電口４から直進してきた大
部分の高周波成分が、球面反射板７１によって１回の反
射で被加熱物６の下部中心に照射される。そして、運転
時間の経過とともに球面反射板７１の曲率が変化し、こ
れによって被加熱物６に高周波を集中的に照射させる場
所が変化（拡大）し、被加熱物６の全域に高周波成分を
隈無く照射させる。したがって、被加熱物６の中心部に
対する高周波の照射量を増やしながら被加熱物６の全域
に対しても１回の反射で高周波成分を隈無く照射させる
ことができる。このため、加熱効率が向上し、加熱むら
及び解凍むらを少なくできて、被加熱物６を均一に加熱
することができる。As described above, most of the high-frequency components traveling straight from the power supply port 4 are radiated by the spherical reflector 71 to the lower center of the object 6 by one reflection. Then, the curvature of the spherical reflector 71 changes with the elapse of the operation time, thereby changing (enlarging) the place where the high frequency is intensively radiated to the heated object 6, and the high frequency component is covered over the entire area of the heated object 6. Irradiate without. Therefore, it is possible to irradiate the entire area of the object to be heated 6 with the high-frequency component by a single reflection while increasing the amount of high-frequency irradiation to the central portion of the object to be heated 6. For this reason, the heating efficiency is improved, uneven heating and uneven thawing can be reduced, and the object to be heated 6 can be uniformly heated.

【００９２】実施形態１５．図１６は本発明の請求項５
に係る高周波加熱装置の第４例を示す側面断面図であ
り、図中、前述の第１４実施形態（図１４，図１５）に
相当する部分には同一符号を付してある。Embodiment 15 FIG. FIG. 16 shows claim 5 of the present invention.
14 is a side sectional view showing a fourth example of the high-frequency heating device according to the present invention, in which parts corresponding to those of the above-described fourteenth embodiment (FIGS. 14 and 15) are denoted by the same reference numerals.

【００９３】この実施形態の高周波加熱装置は、開閉扉
７の対面に位置する壁面２ｅ寄りに、開閉扉面に対して
凹面状となる球面反射板８４を、加熱室下部中心に臨ま
せて配置するとともに、球面反射板８４の曲率を、運転
時間の経過とともに変化させる曲率変更機構７２を設け
たものである。なお、球面反射板８４および曲率変更機
構７２の構成は前述の第１４実施形態で説明したものと
同様であるので詳細については省略し、説明に当たって
は前述の図１５を参照するものとする。In the high-frequency heating device of this embodiment, a spherical reflector 84 having a concave surface with respect to the opening / closing door surface is arranged near the wall surface 2e opposite to the opening / closing door 7 so as to face the center of the lower portion of the heating chamber. In addition, a curvature changing mechanism 72 for changing the curvature of the spherical reflector 84 with the elapse of the operation time is provided. Note that the configurations of the spherical reflector 84 and the curvature changing mechanism 72 are the same as those described in the above-described fourteenth embodiment, and thus the detailed description thereof will be omitted, and the description will be made with reference to FIG.

【００９４】この実施形態の高周波加熱装置において
も、前述の第１４実施形態と同様に球面反射板８４によ
って、被加熱物６の中心部に対する高周波の照射量を増
やしながら被加熱物６の全域に対しても高周波成分を隈
無く照射させることができる。このため、加熱効率が向
上し、加熱むら及び解凍むらを少なくできて、被加熱物
６を均一に加熱することができる。Also in the high-frequency heating device of this embodiment, similarly to the above-described fourteenth embodiment, the spherical reflector 84 is used to increase the amount of high-frequency irradiation with respect to the central portion of the object 6 while covering the entire area of the object 6 to be heated. On the other hand, it is possible to irradiate the high-frequency component without fail. For this reason, the heating efficiency is improved, uneven heating and uneven thawing can be reduced, and the object to be heated 6 can be uniformly heated.

【００９５】[0095]

【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
れば、加熱室の壁面に、加熱室の中心下部に対向させ
て、加熱室底面との角度が４５度以上になるように平面
反射面を形成し、給電口から送出される高周波を加熱室
の中心下部へ反射させるようにしたので、平面反射面に
よって被加熱物の中心部付近の領域に照射することがで
きる。このため、高周波の減衰が少なくなり、加熱効率
が向上し、被加熱物の加熱むら及び解凍むらを少なくす
ることができて、被加熱物の均一加熱が可能となる。更
に加熱時間の短縮化が図れ、電力消費量を抑えることが
できる。As described above, according to the first aspect of the present invention, the angle between the wall surface of the heating chamber and the bottom surface of the heating chamber is 45 degrees or more, facing the lower center of the heating chamber. Since the flat reflecting surface is formed to reflect the high-frequency wave transmitted from the power supply port toward the lower center of the heating chamber, the flat reflecting surface can irradiate an area near the center of the object to be heated. For this reason, high frequency attenuation is reduced, heating efficiency is improved, and uneven heating and thawing of the object to be heated can be reduced, and uniform heating of the object to be heated becomes possible. Further, the heating time can be shortened, and the power consumption can be suppressed.

【００９６】また、請求項２の発明によれば、給電口の
対面に位置する加熱室の壁面に平面反射面を形成したの
で、平面反射面による高周波の反射効率が向上し、被加
熱物の中心部付近の領域に対しより効率良く照射するこ
とができる。According to the second aspect of the present invention, since the flat reflecting surface is formed on the wall surface of the heating chamber located opposite to the power supply port, the efficiency of high-frequency reflection by the flat reflecting surface is improved, and the object to be heated is improved. It is possible to more efficiently irradiate a region near the center.

【００９７】また、請求項３の発明によれば、加熱室の
壁面に、加熱室の中心下部に対向するように、加熱室寸
法の最小値の１／４よりも大きい曲率半径を有する凹面
状の曲面反射面を設け、給電口から送出される高周波を
加熱室の中心下部へ反射させるようにしたので、曲面反
射面によって被加熱物の下部中心付近の領域に集中的に
照射させることができる。このため、加熱効率が良く、
かつ被加熱物の加熱むら及び解凍むらを少なくすること
ができ、被加熱物を均一に加熱することができる。According to the third aspect of the present invention, a concave surface having a radius of curvature larger than 1/4 of the minimum value of the size of the heating chamber is formed on the wall surface of the heating chamber so as to face the lower center of the heating chamber. Is provided to reflect the high-frequency wave transmitted from the power supply port to the lower center of the heating chamber, so that the curved reflecting surface can intensively irradiate an area near the lower center of the object to be heated. . For this reason, heating efficiency is good,
In addition, uneven heating and thawing of the object to be heated can be reduced, and the object to be heated can be uniformly heated.

【００９８】また、請求項４の発明によれば、給電口の
対面に位置する加熱室の壁面に曲面反射面を形成したの
で、曲面反射面による高周波の反射効率が向上し、被加
熱物の中心部付近の領域に対しより効率良く集中するこ
とができる。According to the fourth aspect of the present invention, since the curved reflecting surface is formed on the wall surface of the heating chamber located opposite to the power supply port, the reflection efficiency of the high frequency by the curved reflecting surface is improved, and the object to be heated is improved. It is possible to concentrate more efficiently on the area near the center.

【００９９】また、請求項５の発明によれば、被加熱物
が載置され回転するターンテーブルの回転位置を検出す
る回転位置検出手段と、ターンテーブルに載置される被
加熱物の形状及び位置を検出する形状・位置検出手段
と、加熱室にターンテーブルに対向するように設けられ
た平面反射板と、平面反射板とターンテーブルとの角度
を変化させるように平面反射板を駆動させる反射板駆動
手段と、回転位置検出手段により検出されたターンテー
ブルの回転位置、および形状・位置検出手段により検出
された被加熱物の形状・位置に基づいて、反射板駆動手
段により平面反射板の角度を変化させ、給電口から送出
した高周波を被加熱物へ反射させる反射板角度制御手段
とを設けたので、被加熱物の位置に応じて平面反射板の
傾きを変化させることができる。そして、この揺動可能
な平面反射板によって常に被加熱物の中心部付近の領域
へ高周波を集中的に照射させることができ、加熱効率が
向上し、加熱むら及び解凍むらを少なくできて、被加熱
物を均一に加熱することができる。According to the fifth aspect of the present invention, there is provided a rotation position detecting means for detecting a rotation position of a turntable on which an object to be heated is mounted and which rotates, and the shape and the shape of the object to be heated mounted on the turntable. A shape / position detecting means for detecting the position, a flat reflector provided in the heating chamber so as to face the turntable, and a reflection for driving the flat reflector so as to change an angle between the flat reflector and the turntable. The angle of the flat reflector by the reflector driving means based on the plate driving means, the rotation position of the turntable detected by the rotation position detecting means, and the shape / position of the object to be heated detected by the shape / position detecting means. And a reflector angle control means for reflecting the high-frequency wave transmitted from the power supply port to the object to be heated, so that the inclination of the flat reflector can be changed according to the position of the object to be heated. Can. The oscillating flat reflector can always irradiate the high frequency intensively to the area near the center of the object to be heated, improving the heating efficiency and reducing uneven heating and thawing. The heating object can be heated uniformly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 本発明の第１実施形態に係る高周波加熱装置
を示す正面断面図である。FIG. 1 is a front sectional view showing a high-frequency heating device according to a first embodiment of the present invention.

【図２】 本発明の第２実施形態に係る高周波加熱装置
を示す側面断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing a high-frequency heating device according to a second embodiment of the present invention.

【図３】 本発明の第３実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。FIG. 3 is a top cross-sectional view illustrating a high-frequency heating device according to a third embodiment of the present invention.

【図４】 本発明の第４実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。FIG. 4 is a top sectional view showing a high-frequency heating device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図５】 本発明の第５実施形態に係る高周波加熱装置
を示す正面断面図である。FIG. 5 is a front sectional view showing a high-frequency heating device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図６】 本発明の第６実施形態に係る高周波加熱装置
を示す側面断面図である。FIG. 6 is a side sectional view showing a high-frequency heating device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図７】 本発明の第７実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。FIG. 7 is a top sectional view showing a high-frequency heating device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図８】 本発明の第８実施形態に係る高周波加熱装置
を示す上面断面図である。FIG. 8 is a top sectional view showing a high-frequency heating device according to an eighth embodiment of the present invention.

【図９】 本発明の第９実施形態に係る高周波加熱装置
を示す正面断面図である。FIG. 9 is a front sectional view showing a high-frequency heating device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図１０】 本発明の第１０実施形態に係る高周波加熱
装置を示す正面断面図である。FIG. 10 is a front sectional view showing a high-frequency heating device according to a tenth embodiment of the present invention.

【図１１】 本発明の第１１実施形態に係る高周波加熱
装置を示す側面断面図である。FIG. 11 is a side sectional view showing a high-frequency heating device according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図１２】 本発明の第１２実施形態に係る高周波加熱
装置を示す正面断面図である。FIG. 12 is a front sectional view showing a high-frequency heating device according to a twelfth embodiment of the present invention.

【図１３】 本発明の第１３実施形態に係る高周波加熱
装置を示す側面断面図である。FIG. 13 is a side sectional view showing a high-frequency heating device according to a thirteenth embodiment of the present invention.

【図１４】 本発明の第１４実施形態に係る高周波加熱
装置を示す正面断面図である。FIG. 14 is a front sectional view showing a high-frequency heating device according to a fourteenth embodiment of the present invention.

【図１５】 第１４実施形態に係る高周波加熱装置の曲
率変更機構の要部を示す斜視図である。FIG. 15 is a perspective view showing a main part of a curvature changing mechanism of a high-frequency heating device according to a fourteenth embodiment.

【図１６】 本発明の第１５実施形態に係る高周波加熱
装置を示す側面断面図である。FIG. 16 is a side sectional view showing a high-frequency heating device according to a fifteenth embodiment of the present invention.

【図１７】 従来の高周波加熱装置の一例を示す正面断
面図である。FIG. 17 is a front sectional view showing an example of a conventional high-frequency heating device.

【図１８】 従来の高周波加熱装置の他の例を示す正面
断面図である。FIG. 18 is a front sectional view showing another example of the conventional high-frequency heating device.

【図１９】 従来の高周波加熱装置の更に他の例を示す
正面断面図である。FIG. 19 is a front sectional view showing still another example of the conventional high-frequency heating device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 加熱室、２ｄ 給電口対面の壁面（加熱室の壁
面）、２ｅ 開閉扉対面の壁面（加熱室の壁面）、３
マグネトロン、４ 給電口、５Ａ ターンテーブル、６
被加熱物、３０ 高周波、５１，５２ 平面反射板
（平面反射面）、５７，５８，６１，６２ 曲面反射板
（曲面反射面）、６３，６８ 揺動可能な平面反射板、
６４ 反射板駆動手段、９１ モータ、９２ 回転位置
検出手段、９４形状・位置検出手段、９５ 反射板角度
制御手段。1 heating room, 2d wall surface facing power supply port (wall surface of heating room), 2e wall surface facing opening / closing door (wall surface of heating room), 3
Magnetron, 4 power supply port, 5A turntable, 6
Object to be heated, 30 high frequency, 51, 52 plane reflector (planar reflector), 57, 58, 61, 62 curved reflector (curved reflector), 63, 68 swingable planar reflector,
64 reflector driving means, 91 motor, 92 rotational position detecting means, 94 shape / position detecting means, 95 reflector angle controlling means.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金井 孝博 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内 (72)発明者 小岩 芳明 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takahiro Kanai 1728-1, Koeda, Oaza, Hanazono-cho, Osato-gun, Saitama Prefecture Inside Mitsubishi Electric Home Equipment Co., Ltd. Mitsubishi Electric Home Equipment Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 被加熱物を収容する加熱室と、 該加熱室に設けられ高周波を送出する給電口と、 該加熱室の壁面に、該加熱室の中心下部に対向させ、該
加熱室底面との角度が４５度以上になるように形成さ
れ、該給電口から送出される高周波を該加熱室の中心下
部へ反射させる平面反射面と、を備えたことを特徴とす
る高周波加熱装置。A heating chamber for accommodating an object to be heated; a power supply port provided in the heating chamber for transmitting a high frequency; a bottom surface of the heating chamber opposed to a wall of the heating chamber at a lower center of the heating chamber; And a flat reflecting surface for reflecting the high-frequency wave transmitted from the power supply port to a lower central portion of the heating chamber. 【請求項２】 前記給電口の対面に位置する前記加熱室
の壁面に前記平面反射面を形成したことを特徴とする請
求項１記載の高周波加熱装置。2. The high-frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the flat reflecting surface is formed on a wall surface of the heating chamber located opposite to the power supply port. 【請求項３】 被加熱物を収容する加熱室と、 該加熱室に設けられ高周波を送出する給電口と、 該加熱室の壁面に、該加熱室の中心下部に対向するよう
に形成され、該加熱室寸法の最小値の１／４よりも大き
い曲率半径を有し、該給電口から送出される高周波を該
加熱室の中心下部へ反射させる凹面状の曲面反射面と、
を備えたことを特徴とする高周波加熱装置。3. A heating chamber for accommodating an object to be heated, a power supply port provided in the heating chamber for transmitting a high frequency, and formed on a wall surface of the heating chamber so as to face a lower center portion of the heating chamber; A concave curved reflecting surface having a radius of curvature larger than 1/4 of the minimum value of the heating chamber dimension, and reflecting a high frequency transmitted from the power supply port to the lower center of the heating chamber;
A high-frequency heating device comprising: 【請求項４】 前記給電口の対面に位置する前記加熱室
の壁面に前記曲面反射面を形成したことを特徴とする請
求項３記載の高周波加熱装置。4. The high-frequency heating device according to claim 3, wherein the curved reflecting surface is formed on a wall surface of the heating chamber located opposite to the power supply port. 【請求項５】 被加熱物を収容する加熱室と、 該加熱室に設けられ、高周波を送出する給電口と、 該加熱室に設けられ、被加熱物が載置され回転するター
ンテーブルと、 該ターンテーブルの回転位置を検出する回転位置検出手
段と、 該ターンテーブルに載置される被加熱物の形状及び位置
を検出する形状・位置検出手段と、 該加熱室に該ターンテーブルに対向するように設けられ
た平面反射板と、 この平面反射板と該ターンテーブルとの角度を変化させ
るように該平面反射板を駆動させる反射板駆動手段と、 該回転位置検出手段により検出された該ターンテーブル
の回転位置、および該形状・位置検出手段により検出さ
れた被加熱物の形状・位置に基づいて、該反射板駆動手
段により該平面反射板の角度を変化させ、該給電口から
送出した高周波を被加熱物へ反射させる反射板角度制御
手段と、を備えたことを特徴とする高周波加熱装置。5. A heating chamber for accommodating an object to be heated, a power supply port provided in the heating chamber and transmitting a high frequency, a turntable provided in the heating chamber, on which the object to be heated is mounted and rotated, Rotation position detection means for detecting the rotation position of the turntable; shape / position detection means for detecting the shape and position of the object to be heated placed on the turntable; and the heating chamber facing the turntable. Reflector driving means for driving the flat reflector so as to change the angle between the flat reflector and the turntable; and the turn detected by the rotational position detecting means. Based on the rotation position of the table and the shape / position of the object to be heated detected by the shape / position detecting means, the angle of the flat reflecting plate is changed by the reflecting plate driving means and transmitted from the power supply port. High frequency heating apparatus characterized by comprising: a reflector plate angle control means for reflecting high frequency to the object to be heated, the.