JPH10121280A - 次亜塩素酸塩の製造装置 - Google Patents
次亜塩素酸塩の製造装置Info
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- JPH10121280A JPH10121280A JP9210386A JP21038697A JPH10121280A JP H10121280 A JPH10121280 A JP H10121280A JP 9210386 A JP9210386 A JP 9210386A JP 21038697 A JP21038697 A JP 21038697A JP H10121280 A JPH10121280 A JP H10121280A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高濃度の次亜塩素酸塩を電気分解で製造する
保守の容易な装置を得る。 【解決手段】 陽イオン交換膜によって区画した電解槽
と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応
槽と陽極室および陰極室との間には、陽極室生成物およ
び陰極室生成物を次亜塩素酸塩反応槽に導入する導入手
段を設けることによって塩素の配管を電解槽の外部に設
ける必要がない次亜塩素酸塩の製造装置。
保守の容易な装置を得る。 【解決手段】 陽イオン交換膜によって区画した電解槽
と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応
槽と陽極室および陰極室との間には、陽極室生成物およ
び陰極室生成物を次亜塩素酸塩反応槽に導入する導入手
段を設けることによって塩素の配管を電解槽の外部に設
ける必要がない次亜塩素酸塩の製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は次亜塩素酸塩の電解
による製造装置に関し、とくに高濃度の次亜塩素酸塩を
製造する取り級いの容易な装置に関する。
による製造装置に関し、とくに高濃度の次亜塩素酸塩を
製造する取り級いの容易な装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】次亜塩素酸ナトリウムに代表される次亜
塩素酸塩類は、漂自剤、殺菌剤として、上下水の処理、
排水の処理から家庭の台所用あるいは洗濯用等の各方面
で用いられている。次亜塩素酸塩の製造は、食塩水等の
アルカリ金属塩化物の水溶液の電気分解によって得られ
たアルカリ金属水酸化物と塩素とを反応させて製造する
方法、あるいはアルカリ金属塩化物を無隔膜電解槽にお
いて電気分解を行って、電解槽中で次亜塩素酸塩を直接
製造する方法で行われている。アルカリ金属水酸化物と
塩素を反応させる方法は、高濃度の次亜塩素酸塩を得る
ことができるので、次亜塩素酸塩を販売する目的で製造
する場合にはこの方法で行われているが、アルカリ金属
水酸化物と塩素を製造する電解設備が必要となるので、
食塩水の電解工場において水酸化ナトリウムあるいは塩
素の製造に付随して大規模に行われている。
塩素酸塩類は、漂自剤、殺菌剤として、上下水の処理、
排水の処理から家庭の台所用あるいは洗濯用等の各方面
で用いられている。次亜塩素酸塩の製造は、食塩水等の
アルカリ金属塩化物の水溶液の電気分解によって得られ
たアルカリ金属水酸化物と塩素とを反応させて製造する
方法、あるいはアルカリ金属塩化物を無隔膜電解槽にお
いて電気分解を行って、電解槽中で次亜塩素酸塩を直接
製造する方法で行われている。アルカリ金属水酸化物と
塩素を反応させる方法は、高濃度の次亜塩素酸塩を得る
ことができるので、次亜塩素酸塩を販売する目的で製造
する場合にはこの方法で行われているが、アルカリ金属
水酸化物と塩素を製造する電解設備が必要となるので、
食塩水の電解工場において水酸化ナトリウムあるいは塩
素の製造に付随して大規模に行われている。
【０００３】図１１は、食塩水の電気分解によって得ら
れる水酸化ナトリウム水溶液と塩素とを反応させて次亜
塩素酸塩を製造する方法を示したものである。陽極室２
１には陽極２２が設けられており、陰極室２３には陰極
２４が設けられており、陽極室と陰極室が陽イオン交換
膜２５によって区画されたイオン交換膜電解槽２６の陽
極室には食塩水を供給し、陽極室２１からは濃度の低下
した食塩水を取り出して脱塩素塔２７において、溶存し
ている塩素を分離した後に食塩調整工程２８において食
塩を溶解するとともに食塩水を精製して陽極室に循環し
ている。
れる水酸化ナトリウム水溶液と塩素とを反応させて次亜
塩素酸塩を製造する方法を示したものである。陽極室２
１には陽極２２が設けられており、陰極室２３には陰極
２４が設けられており、陽極室と陰極室が陽イオン交換
膜２５によって区画されたイオン交換膜電解槽２６の陽
極室には食塩水を供給し、陽極室２１からは濃度の低下
した食塩水を取り出して脱塩素塔２７において、溶存し
ている塩素を分離した後に食塩調整工程２８において食
塩を溶解するとともに食塩水を精製して陽極室に循環し
ている。
【０００４】一方、陰極室２３には水２９を供給し陰極
液の水酸化ナトリウム水溶液の濃度を一定に保侍しなが
ら陰極液貯槽３０との間を循環している。そして、陰極
液貯槽の水酸化ナトリウム水溶液を吸収塔３１において
電解槽の陽極室で発生した塩素３２と反応させて次亜塩
素酸ナトリウム水溶液を製造し、貯槽３３において貯蔵
していた。
液の水酸化ナトリウム水溶液の濃度を一定に保侍しなが
ら陰極液貯槽３０との間を循環している。そして、陰極
液貯槽の水酸化ナトリウム水溶液を吸収塔３１において
電解槽の陽極室で発生した塩素３２と反応させて次亜塩
素酸ナトリウム水溶液を製造し、貯槽３３において貯蔵
していた。
【０００５】また、食塩などの水溶液を無隔膜電解槽に
おいて電気分解する方法も知られている。この方法で
は、生成する次亜塩素酸塩の濃度は比較的低濃度である
が、水の浄化や殺菌に直接利用することが可能な濃度の
ものを製造することができ、製造設備も水酸化アルカリ
と塩素を製造する電解設備に比べて簡単であるので、次
亜塩素酸塩を必要とする現場において製造されている。
しかも、電気分解による次亜塩素酸塩の製造は、次亜塩
素酸塩の量に応じて通電する電流を調整することによっ
て製造量を調製することが可能であり、得られるものは
殺菌などに有効な塩素分がすべて水中に溶解しているの
で利用が容易であるという特徴を有している。
おいて電気分解する方法も知られている。この方法で
は、生成する次亜塩素酸塩の濃度は比較的低濃度である
が、水の浄化や殺菌に直接利用することが可能な濃度の
ものを製造することができ、製造設備も水酸化アルカリ
と塩素を製造する電解設備に比べて簡単であるので、次
亜塩素酸塩を必要とする現場において製造されている。
しかも、電気分解による次亜塩素酸塩の製造は、次亜塩
素酸塩の量に応じて通電する電流を調整することによっ
て製造量を調製することが可能であり、得られるものは
殺菌などに有効な塩素分がすべて水中に溶解しているの
で利用が容易であるという特徴を有している。
【０００６】したがって、これまで液体塩素の貯蔵設備
を設け、発生した気体状の塩素を溶解したり、あるいは
濃厚な次亜塩素酸塩を貯蔵し希釈して使用する、塩素あ
るいは次亜塩素酸塩の使用設備においても、塩素等の貯
蔵や運搬の必要がない現場での電気分解による次亜塩素
酸の製造が行われるようになっている。
を設け、発生した気体状の塩素を溶解したり、あるいは
濃厚な次亜塩素酸塩を貯蔵し希釈して使用する、塩素あ
るいは次亜塩素酸塩の使用設備においても、塩素等の貯
蔵や運搬の必要がない現場での電気分解による次亜塩素
酸の製造が行われるようになっている。
【０００７】また、食塩などの塩化アルカリの水溶液
を、無隔膜電解槽を使用して電気分解を行う方法の場合
には、電解液として供給する塩水は濃度が２％ないし４
％程度のものである。食塩濃度が高いほど陽極での塩素
の発生効率は高いが、電気分解で製造した次亜塩素酸を
含む塩水をそのまま水処理等に使用するために濃厚な塩
水を使用すれば、高濃度の塩水が被処理水に混合するた
めに、好ましくないので、通常は海水の食塩濃度程度の
ものを使用している。電気分解では、陽極側で生じた塩
素と陰極側で生じたアルカリとの反応によって次亜塩素
酸塩を生じるが、次亜塩素塩は電解槽中において更に電
気分解を続けていると塩素酸塩へと変化する。したがっ
て、比較的濃度が低い塩水を原料として無隔膜電解槽に
おいて高濃度の次亜塩素酸塩を製造しようとして、電解
液の滞留時間を長くしても塩素酸塩の生成量が多くなる
のみで、次亜塩素酸塩の生成効率は低下する。
を、無隔膜電解槽を使用して電気分解を行う方法の場合
には、電解液として供給する塩水は濃度が２％ないし４
％程度のものである。食塩濃度が高いほど陽極での塩素
の発生効率は高いが、電気分解で製造した次亜塩素酸を
含む塩水をそのまま水処理等に使用するために濃厚な塩
水を使用すれば、高濃度の塩水が被処理水に混合するた
めに、好ましくないので、通常は海水の食塩濃度程度の
ものを使用している。電気分解では、陽極側で生じた塩
素と陰極側で生じたアルカリとの反応によって次亜塩素
酸塩を生じるが、次亜塩素塩は電解槽中において更に電
気分解を続けていると塩素酸塩へと変化する。したがっ
て、比較的濃度が低い塩水を原料として無隔膜電解槽に
おいて高濃度の次亜塩素酸塩を製造しようとして、電解
液の滞留時間を長くしても塩素酸塩の生成量が多くなる
のみで、次亜塩素酸塩の生成効率は低下する。
【０００８】そこで、高電流効率で次亜塩素酸塩を製造
するためには、単位電解槽での電気分解率を高くせず
に、陽極と陰極を備えた複数の電解槽を仕切板を介して
多段式に設置した電解槽が提案されている（例えば、特
公昭５２−２８１０４号公報、特公昭６１−４４９５６
号公報）。ところが、このような方法において得られる
次亜塩素酸の濃度は十分なものではなく、高効率で高濃
度の次亜塩素酸塩を電気分解で製造する方法が求められ
ていた。そこで、本出願人は、陽イオン交換膜によって
区画した電解槽の陽極室において得られる濃度の低下し
たアルカリ金属塩化物水溶液を陰極室に加えて得られた
次亜塩素酸塩を含有したアルカリ水溶液と陽極室で得ら
れた塩素を反応させることによって高濃度の次亜塩素酸
塩水溶液を得る方法を特開平５−１７９４７５号公報と
して提案しているが、この方法では、特定化学物質とし
て安全上の規制がある塩素を発生させて陰極液と反応さ
せるために、塩素製造設備と同様に取り扱う必要があ
り、塩素が機器の配管等から漏洩しないように保守には
細心の注意を払う必要があった。
するためには、単位電解槽での電気分解率を高くせず
に、陽極と陰極を備えた複数の電解槽を仕切板を介して
多段式に設置した電解槽が提案されている（例えば、特
公昭５２−２８１０４号公報、特公昭６１−４４９５６
号公報）。ところが、このような方法において得られる
次亜塩素酸の濃度は十分なものではなく、高効率で高濃
度の次亜塩素酸塩を電気分解で製造する方法が求められ
ていた。そこで、本出願人は、陽イオン交換膜によって
区画した電解槽の陽極室において得られる濃度の低下し
たアルカリ金属塩化物水溶液を陰極室に加えて得られた
次亜塩素酸塩を含有したアルカリ水溶液と陽極室で得ら
れた塩素を反応させることによって高濃度の次亜塩素酸
塩水溶液を得る方法を特開平５−１７９４７５号公報と
して提案しているが、この方法では、特定化学物質とし
て安全上の規制がある塩素を発生させて陰極液と反応さ
せるために、塩素製造設備と同様に取り扱う必要があ
り、塩素が機器の配管等から漏洩しないように保守には
細心の注意を払う必要があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高濃度の次
亜塩素酸塩を製造することが可能な次亜塩素酸塩の製造
装置を提供することを課題とするものであり、食塩水の
イオン交換膜電解槽による電気分解で得られる水酸化ナ
トリウムと塩素を用いた場合と同様の高濃度の次亜塩素
酸塩の製造が可能であり、しかも塩素の漏洩の心配がな
い次亜塩素酸塩の製造装置を提供することを課題とする
ものである。
亜塩素酸塩を製造することが可能な次亜塩素酸塩の製造
装置を提供することを課題とするものであり、食塩水の
イオン交換膜電解槽による電気分解で得られる水酸化ナ
トリウムと塩素を用いた場合と同様の高濃度の次亜塩素
酸塩の製造が可能であり、しかも塩素の漏洩の心配がな
い次亜塩素酸塩の製造装置を提供することを課題とする
ものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、塩水の電気分
解による次亜塩素酸塩の製造装置において、陽イオン交
換膜によって陰極室と陽極室に区画した電解槽と一体に
次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応槽と、陽
極室あるいは陰極室の少なくともいずれか一方との間に
は、陽極室生成物あるいは陰極室生成物の少なくともい
ずれか一方を次亜塩素酸塩反応槽へ導入する導入手段を
設けた次亜塩素酸塩の製造装置である。陰極室生成物か
ら水素を分離する水素分離手段を設け、水素を分離した
陰極室生成物を次亜塩素酸塩反応槽に供給するか、次亜
塩素酸塩反応槽の生成物から水素を分離する水素分離手
段を設けた前記の次亜塩素酸塩の製造装置である。ま
た、次亜塩素酸塩反応槽が陰極室または陽極室のいずれ
かを兼用するものである前記の次亜塩素酸塩の製造装置
である。次亜塩素酸塩の循環槽および循環手段を設け、
次亜塩素酸塩反応槽と循環槽の間を次亜塩素酸塩を循環
する前記の次亜塩素酸塩の製造装置である。次亜塩素酸
塩反応槽と循環槽を結合する管路中に冷却装置を設けた
前記の次亜塩素酸塩の製造装置である。冷却装置を次亜
塩素酸塩反応槽に接して設けた前記の次亜塩素酸塩の製
造装置である。
解による次亜塩素酸塩の製造装置において、陽イオン交
換膜によって陰極室と陽極室に区画した電解槽と一体に
次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応槽と、陽
極室あるいは陰極室の少なくともいずれか一方との間に
は、陽極室生成物あるいは陰極室生成物の少なくともい
ずれか一方を次亜塩素酸塩反応槽へ導入する導入手段を
設けた次亜塩素酸塩の製造装置である。陰極室生成物か
ら水素を分離する水素分離手段を設け、水素を分離した
陰極室生成物を次亜塩素酸塩反応槽に供給するか、次亜
塩素酸塩反応槽の生成物から水素を分離する水素分離手
段を設けた前記の次亜塩素酸塩の製造装置である。ま
た、次亜塩素酸塩反応槽が陰極室または陽極室のいずれ
かを兼用するものである前記の次亜塩素酸塩の製造装置
である。次亜塩素酸塩の循環槽および循環手段を設け、
次亜塩素酸塩反応槽と循環槽の間を次亜塩素酸塩を循環
する前記の次亜塩素酸塩の製造装置である。次亜塩素酸
塩反応槽と循環槽を結合する管路中に冷却装置を設けた
前記の次亜塩素酸塩の製造装置である。冷却装置を次亜
塩素酸塩反応槽に接して設けた前記の次亜塩素酸塩の製
造装置である。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置
は、陽イオン交換膜によって陰極室と陽極室に区画した
イオン交換膜電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け
るとともに、イオン交換膜電解槽で生成する塩素を電解
槽外に取り出すことなく、陰極室で生成した水酸化アル
カリ水溶液と反応させ、次亜塩素酸塩を製造するもので
ある。
は、陽イオン交換膜によって陰極室と陽極室に区画した
イオン交換膜電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け
るとともに、イオン交換膜電解槽で生成する塩素を電解
槽外に取り出すことなく、陰極室で生成した水酸化アル
カリ水溶液と反応させ、次亜塩素酸塩を製造するもので
ある。
【００１２】本発明の装置においては、陰極室の生成物
を直接に次亜塩素酸塩反応槽に供給しても、あるいは次
亜塩素酸塩の製造には不要な水素を陰極室の生成物から
分離した後に次亜塩素酸塩反応槽に供給しても良いが、
いずれの方法でも塩素を電解槽の外部に取り出すことが
ないので、陽極室で発生する塩素が配管等の損傷によっ
て漏洩することはなく、製造設備の設置場所を選ばず、
また保守も容易となる。
を直接に次亜塩素酸塩反応槽に供給しても、あるいは次
亜塩素酸塩の製造には不要な水素を陰極室の生成物から
分離した後に次亜塩素酸塩反応槽に供給しても良いが、
いずれの方法でも塩素を電解槽の外部に取り出すことが
ないので、陽極室で発生する塩素が配管等の損傷によっ
て漏洩することはなく、製造設備の設置場所を選ばず、
また保守も容易となる。
【００１３】また、次亜塩素酸塩は、温度が高くなると
分解するので、次亜塩素酸塩反応槽に接した冷却装置を
設けたり、あるいは次亜塩素酸塩反応槽と次亜塩素酸塩
循環槽の間に冷却装置を設けて循環ポンプ等によって循
環して冷却をしても良い。
分解するので、次亜塩素酸塩反応槽に接した冷却装置を
設けたり、あるいは次亜塩素酸塩反応槽と次亜塩素酸塩
循環槽の間に冷却装置を設けて循環ポンプ等によって循
環して冷却をしても良い。
【００１４】以下に、本発明を図面を参照して説明す
る。図１は、本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の一実施
例を示す図である。陽イオン交換膜１によって区画され
たイオン交換膜電解槽２の陰極室３にはニッケル、ステ
ンレス、チタンあるいはこれらの金属に水素過電圧を低
下させる陰極活性物質の被覆を形成した陰極４が設けら
れており、陽極室５には、チタン等の金属基体上に白金
族の金属の酸化物を含む電極触媒物質の被覆が形成され
た陽極６が設けられている。陽極室５には食塩水溶解工
程において食塩の溶解によって作製した食塩水７を供給
し、陰極室には水８を供給して陰極液中の水酸化ナトリ
ウムの濃度を一定に保持しながら電気分解を行う。陰極
室３の上部からは、水酸化ナトリウム水溶液と水素を含
んだ陰極室生成物を、陰極室生成物導入手段９によって
次亜塩素酸塩反応槽１０に供給すると共に、陽極室５の
上部からは、食塩濃度が低下した食塩水と塩素を含んだ
陽極室生成物を陽極室生成物導入手段１１によって次亜
塩素酸塩反応槽に供給する。次亜塩素酸塩反応槽１０に
おいて、塩素と水酸化ナトリウムが反応して次亜塩素酸
塩が生成する。また、次亜塩素酸塩反応槽内では、陰極
室で発生した水素気泡によって撹拌混合されるが、塩素
と水酸化ナトリウム水溶液の反応効率を高めるために、
邪魔板を設けたり充填物を充填しても良い。
る。図１は、本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の一実施
例を示す図である。陽イオン交換膜１によって区画され
たイオン交換膜電解槽２の陰極室３にはニッケル、ステ
ンレス、チタンあるいはこれらの金属に水素過電圧を低
下させる陰極活性物質の被覆を形成した陰極４が設けら
れており、陽極室５には、チタン等の金属基体上に白金
族の金属の酸化物を含む電極触媒物質の被覆が形成され
た陽極６が設けられている。陽極室５には食塩水溶解工
程において食塩の溶解によって作製した食塩水７を供給
し、陰極室には水８を供給して陰極液中の水酸化ナトリ
ウムの濃度を一定に保持しながら電気分解を行う。陰極
室３の上部からは、水酸化ナトリウム水溶液と水素を含
んだ陰極室生成物を、陰極室生成物導入手段９によって
次亜塩素酸塩反応槽１０に供給すると共に、陽極室５の
上部からは、食塩濃度が低下した食塩水と塩素を含んだ
陽極室生成物を陽極室生成物導入手段１１によって次亜
塩素酸塩反応槽に供給する。次亜塩素酸塩反応槽１０に
おいて、塩素と水酸化ナトリウムが反応して次亜塩素酸
塩が生成する。また、次亜塩素酸塩反応槽内では、陰極
室で発生した水素気泡によって撹拌混合されるが、塩素
と水酸化ナトリウム水溶液の反応効率を高めるために、
邪魔板を設けたり充填物を充填しても良い。
【００１５】次亜塩素酸塩水溶液は、水封安全器を備え
た水素分離手段１２において水素１３を分離して、次亜
塩素酸塩水溶液の循環槽１４に流入する。循環槽１４か
らは製品として次亜塩素酸塩水溶液１５を取り出すと共
に、次亜塩素酸塩水溶液を循環ポンプ１６によって冷却
装置１７に供給して次亜塩素酸塩水溶液の温度を冷却し
て次亜塩素酸塩反応槽１０に循環する。これによって、
電解槽の温度上昇を防止すると共に、生成した次亜塩素
酸塩の分解を防止することができる。
た水素分離手段１２において水素１３を分離して、次亜
塩素酸塩水溶液の循環槽１４に流入する。循環槽１４か
らは製品として次亜塩素酸塩水溶液１５を取り出すと共
に、次亜塩素酸塩水溶液を循環ポンプ１６によって冷却
装置１７に供給して次亜塩素酸塩水溶液の温度を冷却し
て次亜塩素酸塩反応槽１０に循環する。これによって、
電解槽の温度上昇を防止すると共に、生成した次亜塩素
酸塩の分解を防止することができる。
【００１６】また、次亜塩素酸塩反応槽では、下記の電
気分解によって ２ＮａＣｌ＋２Ｈ2Ｏ→２ＮａＯＨ＋Ｃｌ2＋Ｈ2 生成した水酸化ナトリウムと塩素の全量が、下記の反応
式によって反応し、 ２ＮａＯＨ＋Ｃｌ2→ＮａＣｌＯ＋ＮａＣｌ＋Ｈ2Ｏ 次亜塩素酸塩と等モルの食塩が生成する。一方、本発明
の方法で次亜塩素酸塩反応槽に供給した塩水中には６０
ないし７０ｇ／ｌの食塩が含まれているので、生成する
次亜塩素酸塩の水溶液中には、次亜塩素酸塩の生成反応
で生じた食塩と塩水中に含まれていた食塩の両者が含ま
れることとなる。したがって、食塩の濃度が問題となる
用途において使用する場合には、陽極室への塩水の供給
量を減少し、食塩の分解率を上昇させることによって陽
極室中の食塩の含有量を減少させたり、あるいは、次亜
塩素酸塩水溶液中から食塩を冷却等によって晶析させて
分離しても良い。また、晶析して分離した食塩は原料塩
として再度溶解して利用することができる。本発明の装
置では、陰極室へ供給する水の量の調製によって、使用
目的に応じ低濃度から高濃度までの次亜塩素酸塩水溶液
を製造することができる。
気分解によって ２ＮａＣｌ＋２Ｈ2Ｏ→２ＮａＯＨ＋Ｃｌ2＋Ｈ2 生成した水酸化ナトリウムと塩素の全量が、下記の反応
式によって反応し、 ２ＮａＯＨ＋Ｃｌ2→ＮａＣｌＯ＋ＮａＣｌ＋Ｈ2Ｏ 次亜塩素酸塩と等モルの食塩が生成する。一方、本発明
の方法で次亜塩素酸塩反応槽に供給した塩水中には６０
ないし７０ｇ／ｌの食塩が含まれているので、生成する
次亜塩素酸塩の水溶液中には、次亜塩素酸塩の生成反応
で生じた食塩と塩水中に含まれていた食塩の両者が含ま
れることとなる。したがって、食塩の濃度が問題となる
用途において使用する場合には、陽極室への塩水の供給
量を減少し、食塩の分解率を上昇させることによって陽
極室中の食塩の含有量を減少させたり、あるいは、次亜
塩素酸塩水溶液中から食塩を冷却等によって晶析させて
分離しても良い。また、晶析して分離した食塩は原料塩
として再度溶解して利用することができる。本発明の装
置では、陰極室へ供給する水の量の調製によって、使用
目的に応じ低濃度から高濃度までの次亜塩素酸塩水溶液
を製造することができる。
【００１７】また、本発明の方法で使用するイオン交換
膜電解槽の陽イオン交換膜には、フッ素樹脂系の陽イオ
ン交換膜を用いることができるが、陰極で生成する水酸
化ナトリウム水溶液の濃度をとくに高濃度とする必要は
ないので、低濃度用の陽イオン交換膜を用いることがで
きる。本発明の装置では、原料の食塩として不純物の少
ないものを用いることにより、食塩の溶解によって得ら
れた塩水を直接に使用することができるが、得られる食
塩あるいは塩水に不純物が多く含まれている場合には、
食塩水の溶解工程に食塩水の精製工程を設けても良い。
膜電解槽の陽イオン交換膜には、フッ素樹脂系の陽イオ
ン交換膜を用いることができるが、陰極で生成する水酸
化ナトリウム水溶液の濃度をとくに高濃度とする必要は
ないので、低濃度用の陽イオン交換膜を用いることがで
きる。本発明の装置では、原料の食塩として不純物の少
ないものを用いることにより、食塩の溶解によって得ら
れた塩水を直接に使用することができるが、得られる食
塩あるいは塩水に不純物が多く含まれている場合には、
食塩水の溶解工程に食塩水の精製工程を設けても良い。
【００１８】図２は、本発明の他の実施例を説明する図
である。図１で示した装置が、次亜塩素酸塩の循環回路
内に冷却装置１７を有しているのに対して、図２で示し
た装置は、次亜塩素酸塩反応槽１０に接して冷却装置１
７を設けて次亜塩素酸塩反応槽１０での発熱を直接に取
り除くものであり、外部に冷却装置を設ける必要がな
い。次亜塩素酸塩反応槽１０と冷却装置１７との間の熱
伝導面積を大きくし冷却効率を高めるために、隔壁部分
には表面積の大きな部材で形成しても良い。
である。図１で示した装置が、次亜塩素酸塩の循環回路
内に冷却装置１７を有しているのに対して、図２で示し
た装置は、次亜塩素酸塩反応槽１０に接して冷却装置１
７を設けて次亜塩素酸塩反応槽１０での発熱を直接に取
り除くものであり、外部に冷却装置を設ける必要がな
い。次亜塩素酸塩反応槽１０と冷却装置１７との間の熱
伝導面積を大きくし冷却効率を高めるために、隔壁部分
には表面積の大きな部材で形成しても良い。
【００１９】また、図３は、本発明の他の実施例を示す
図である。図３で示した装置は、図２で示した装置に比
べて、小型の製造装置に適した装置であり、次亜塩素酸
塩反応槽１０に接した冷却装置１７に冷却水１８を導入
して冷却するものであり、次亜塩素酸塩反応槽１０から
取り出した反応生成物を水素分離手段１２において水素
１３を分離して次亜塩素酸塩水溶液１５を得るものであ
る。循環装置を設けていないので、構造が簡単となり、
小型の製造装置に適したものである。
図である。図３で示した装置は、図２で示した装置に比
べて、小型の製造装置に適した装置であり、次亜塩素酸
塩反応槽１０に接した冷却装置１７に冷却水１８を導入
して冷却するものであり、次亜塩素酸塩反応槽１０から
取り出した反応生成物を水素分離手段１２において水素
１３を分離して次亜塩素酸塩水溶液１５を得るものであ
る。循環装置を設けていないので、構造が簡単となり、
小型の製造装置に適したものである。
【００２０】また、図４は、本発明の他の実施例を示す
図である。図４で示した装置は、陰極室３から取り出し
た陰極室生成物を水素分離手段１２で水素１３を分離し
た後に循環槽１４へ供給し、循環槽１４から循環ポンプ
１６によって冷却装置１７に供給して冷却した後に、次
亜塩素酸塩反応槽１０に供給し、陽極室生成物導入手段
１１から供給される陽極室生成物と反応させて反応生成
物を循環槽１４へ供給し、次亜塩素酸塩水溶液１５を得
るものである。
図である。図４で示した装置は、陰極室３から取り出し
た陰極室生成物を水素分離手段１２で水素１３を分離し
た後に循環槽１４へ供給し、循環槽１４から循環ポンプ
１６によって冷却装置１７に供給して冷却した後に、次
亜塩素酸塩反応槽１０に供給し、陽極室生成物導入手段
１１から供給される陽極室生成物と反応させて反応生成
物を循環槽１４へ供給し、次亜塩素酸塩水溶液１５を得
るものである。
【００２１】図５は、図４に示した装置において、冷却
装置１７を次亜塩素酸塩水溶液の循環管路中に設けるの
ではなく、次亜塩素酸塩反応槽１０に接して冷却装置１
７を設けて冷却水１８を供給して次亜塩素酸塩反応槽１
０を冷却するものである。
装置１７を次亜塩素酸塩水溶液の循環管路中に設けるの
ではなく、次亜塩素酸塩反応槽１０に接して冷却装置１
７を設けて冷却水１８を供給して次亜塩素酸塩反応槽１
０を冷却するものである。
【００２２】また、図６は、本発明の他の実施例を示す
図である。図６で示した装置は、陰極室３から取り出し
た陰極室生成物を水素分離手段１２で水素１３を分離し
た後に次亜塩素酸塩反応槽１０へ上部から供給するとと
もに、陽極室生成物も陽極室生成物導入手段１１で供給
される。次亜塩素酸塩反応槽１０には、邪魔板１９が設
けられており、上部から下部へ向かって流れながら反応
し、循環槽１４へ供給される。循環槽１４から次亜塩素
酸塩水溶液を取り出すとともに、循環槽１４から循環ポ
ンプ１６によって冷却装置１７へ送液して冷却して次亜
塩素酸塩反応槽１０へ循環する。次亜塩素酸塩反応槽１
７に邪魔板を設けるとともに、冷却装置１７において冷
却された液が供給されるので、次亜塩素酸塩の反応およ
び冷却効率を高めることができる。
図である。図６で示した装置は、陰極室３から取り出し
た陰極室生成物を水素分離手段１２で水素１３を分離し
た後に次亜塩素酸塩反応槽１０へ上部から供給するとと
もに、陽極室生成物も陽極室生成物導入手段１１で供給
される。次亜塩素酸塩反応槽１０には、邪魔板１９が設
けられており、上部から下部へ向かって流れながら反応
し、循環槽１４へ供給される。循環槽１４から次亜塩素
酸塩水溶液を取り出すとともに、循環槽１４から循環ポ
ンプ１６によって冷却装置１７へ送液して冷却して次亜
塩素酸塩反応槽１０へ循環する。次亜塩素酸塩反応槽１
７に邪魔板を設けるとともに、冷却装置１７において冷
却された液が供給されるので、次亜塩素酸塩の反応およ
び冷却効率を高めることができる。
【００２３】また、図７は、本発明の他の実施例を説明
する図である。イオン交換膜電解槽２の上部に次亜塩素
酸塩反応槽１０を設け、陰極室生成物導入手段９および
陽極室生成物導入手段１１で陰極室生成物および陽極室
生成物を供給して反応させる。反応生成物は、水素分離
手段１２で水素１３を分離した後に循環槽１４へ供給さ
れ、循環ポンプ１６によって冷却装置１７によって冷却
して次亜塩素酸塩反応槽１０へ循環する。この装置は、
電解槽の陰極室と陽極室の上部に次亜塩素酸塩反応槽を
設けたので、装置を小型化することが可能であり、装置
を設置する面積が小さな場合に適する。
する図である。イオン交換膜電解槽２の上部に次亜塩素
酸塩反応槽１０を設け、陰極室生成物導入手段９および
陽極室生成物導入手段１１で陰極室生成物および陽極室
生成物を供給して反応させる。反応生成物は、水素分離
手段１２で水素１３を分離した後に循環槽１４へ供給さ
れ、循環ポンプ１６によって冷却装置１７によって冷却
して次亜塩素酸塩反応槽１０へ循環する。この装置は、
電解槽の陰極室と陽極室の上部に次亜塩素酸塩反応槽を
設けたので、装置を小型化することが可能であり、装置
を設置する面積が小さな場合に適する。
【００２４】図８は、本発明の他の実施例を説明する図
であり、比較的低濃度の次亜塩素酸塩の製造に適した装
置である。図８の装置は、陽極室５の上部の一部を次亜
塩素酸塩反応槽１０としたものであり、陰極室と陽極室
の上部の隔壁に貫通孔１９を形成し、陰極室３へ供給す
る水８と陽極室５へ供給する塩水７および循環する次亜
塩素酸塩水溶液の流量を調整して、陰極室生成物が貫通
孔２０を通過して陽極室５の上部へ流入するようにす
る。陽極室の上部で陰極室からの水酸化ナトリウム水溶
液は、陽極室で発生した塩素と反応し、水素分離手段１
２へ送られて水素を分離した後に、循環槽１４へと送ら
れ、循環槽１４から次亜塩素酸塩水溶液１５が取り出さ
れる。
であり、比較的低濃度の次亜塩素酸塩の製造に適した装
置である。図８の装置は、陽極室５の上部の一部を次亜
塩素酸塩反応槽１０としたものであり、陰極室と陽極室
の上部の隔壁に貫通孔１９を形成し、陰極室３へ供給す
る水８と陽極室５へ供給する塩水７および循環する次亜
塩素酸塩水溶液の流量を調整して、陰極室生成物が貫通
孔２０を通過して陽極室５の上部へ流入するようにす
る。陽極室の上部で陰極室からの水酸化ナトリウム水溶
液は、陽極室で発生した塩素と反応し、水素分離手段１
２へ送られて水素を分離した後に、循環槽１４へと送ら
れ、循環槽１４から次亜塩素酸塩水溶液１５が取り出さ
れる。
【００２５】図９は、本発明の他の実施例を説明する図
であり、図８の装置が陽極室５の上部の一部を次亜塩素
酸塩反応槽としたものに対して、図９に示した装置は、
陰極室３の上部を次亜塩素酸塩反応槽としたものであ
り、陰極室と陽極室の上部の隔壁に貫通孔２０を形成
し、陽極室５へ供給する塩水７、陰極室３へ供給する水
８とおよび循環する次亜塩素酸塩水溶液の流量を調整し
て、陽極室生成物が貫通孔２０を通過して陰極室３の上
部へ流入するようにする。陰極室３で生成した水酸化ナ
トリウムは、陽極室からの塩素と反応し、次亜塩素酸塩
を生成する。次亜塩素酸塩水溶液は、水素分離手段１２
へ送られて水素を分離した後に、循環槽１４へと送ら
れ、循環槽１４から次亜塩素酸塩水溶液１５が取り出さ
れるとともに、循環ポンプ１６および冷却装置１７によ
って冷却されて陰極室へ循環される。この装置も図８に
示した装置と同様に比較的濃度が低い次亜塩素酸塩を必
要とする場合に適した装置であるが、陰極室の一部を反
応槽としているために生成した次亜塩素酸塩が陰極表面
で還元を受ける可能性があるので、図８のように、陽極
室の一部を次亜塩素酸塩反応槽とする場合に比べて、電
流効率が低くなる可能性があるが、電流効率が問題とな
らない小型の装置においては、充分に利用することがで
きる。また、陰極として、次亜塩素酸塩の還元を抑制す
ることができる陰極を用いることによって電流効率を改
善することもできる。
であり、図８の装置が陽極室５の上部の一部を次亜塩素
酸塩反応槽としたものに対して、図９に示した装置は、
陰極室３の上部を次亜塩素酸塩反応槽としたものであ
り、陰極室と陽極室の上部の隔壁に貫通孔２０を形成
し、陽極室５へ供給する塩水７、陰極室３へ供給する水
８とおよび循環する次亜塩素酸塩水溶液の流量を調整し
て、陽極室生成物が貫通孔２０を通過して陰極室３の上
部へ流入するようにする。陰極室３で生成した水酸化ナ
トリウムは、陽極室からの塩素と反応し、次亜塩素酸塩
を生成する。次亜塩素酸塩水溶液は、水素分離手段１２
へ送られて水素を分離した後に、循環槽１４へと送ら
れ、循環槽１４から次亜塩素酸塩水溶液１５が取り出さ
れるとともに、循環ポンプ１６および冷却装置１７によ
って冷却されて陰極室へ循環される。この装置も図８に
示した装置と同様に比較的濃度が低い次亜塩素酸塩を必
要とする場合に適した装置であるが、陰極室の一部を反
応槽としているために生成した次亜塩素酸塩が陰極表面
で還元を受ける可能性があるので、図８のように、陽極
室の一部を次亜塩素酸塩反応槽とする場合に比べて、電
流効率が低くなる可能性があるが、電流効率が問題とな
らない小型の装置においては、充分に利用することがで
きる。また、陰極として、次亜塩素酸塩の還元を抑制す
ることができる陰極を用いることによって電流効率を改
善することもできる。
【００２６】図１０は、本発明の他の実施例を説明する
図であり、図８および図９と同様に比較的濃度が低い次
亜塩素酸塩の製造に適した装置である。陰極室３から陰
極室生成物を取り出して、水素分離手段１２へ供給して
水素１３を分離した後に、循環ポンプ１６によって陽極
室５へ、塩水７とともに供給するものであり、陽極室５
を次亜塩素酸塩反応槽として陽極室より次亜塩素酸塩水
溶液１５を得るものである。また、次亜塩素酸塩反応槽
を兼ねた陽極室５に接して冷却装置１７を設けて冷却水
１８によって冷却して、次亜塩素酸塩の分解を抑制して
いる。以上のように、本発明の次亜塩素酸塩製造装置
は、多様な実施態様が存在し、必要とする次亜塩素酸塩
の濃度等に応じて、適当な装置を選択することができ
る。
図であり、図８および図９と同様に比較的濃度が低い次
亜塩素酸塩の製造に適した装置である。陰極室３から陰
極室生成物を取り出して、水素分離手段１２へ供給して
水素１３を分離した後に、循環ポンプ１６によって陽極
室５へ、塩水７とともに供給するものであり、陽極室５
を次亜塩素酸塩反応槽として陽極室より次亜塩素酸塩水
溶液１５を得るものである。また、次亜塩素酸塩反応槽
を兼ねた陽極室５に接して冷却装置１７を設けて冷却水
１８によって冷却して、次亜塩素酸塩の分解を抑制して
いる。以上のように、本発明の次亜塩素酸塩製造装置
は、多様な実施態様が存在し、必要とする次亜塩素酸塩
の濃度等に応じて、適当な装置を選択することができ
る。
【００２７】
【実施例】以下に、実施例を示し本発明を説明する。 実施例１ 縦３００ｍｍ、横１６５ｍｍの自金族金属の酸化物を含
有する電極触媒物質を被覆した陽極を設けた陽極室、チ
タン陰極を有する陰極室、陽極室の陰極室に対向する面
とは反対側に、厚さ１４ｍｍの次亜塩素酸塩反応槽を電
解槽と一体に設け、フッ素樹脂系の陽イオン交換膜（デ
ュポン社 ナフィオン３２４）を使用して、陽極室と陰
極室を区画して電解槽を組み立てた。陽極室および陰極
室の上部からは次亜塩素酸塩反応槽中ヘ、それぞれ直径
１０ｍｍの導入手段を結合した。この電解槽に１００ア
ンペアの電流を通電したところ、槽電圧は４Ｖであっ
た。陽極室には３００ｇ／ｌの食塩水を１リットル／時
間の流量で供給し、陰極室には、１．１リットル／時間
で水を添加したところ、５８ｇ／ｌの次亜塩素酸塩水溶
液が２．１リットル／時で得られた。次亜塩素酸塩の製
造の電流効率は、９２％であった。また、このときの次
亜塩素酸塩水溶液の循環量は、４０リットル／時間であ
り、冷却装置を用いて電解槽の温度は２６℃に保持し
た。
有する電極触媒物質を被覆した陽極を設けた陽極室、チ
タン陰極を有する陰極室、陽極室の陰極室に対向する面
とは反対側に、厚さ１４ｍｍの次亜塩素酸塩反応槽を電
解槽と一体に設け、フッ素樹脂系の陽イオン交換膜（デ
ュポン社 ナフィオン３２４）を使用して、陽極室と陰
極室を区画して電解槽を組み立てた。陽極室および陰極
室の上部からは次亜塩素酸塩反応槽中ヘ、それぞれ直径
１０ｍｍの導入手段を結合した。この電解槽に１００ア
ンペアの電流を通電したところ、槽電圧は４Ｖであっ
た。陽極室には３００ｇ／ｌの食塩水を１リットル／時
間の流量で供給し、陰極室には、１．１リットル／時間
で水を添加したところ、５８ｇ／ｌの次亜塩素酸塩水溶
液が２．１リットル／時で得られた。次亜塩素酸塩の製
造の電流効率は、９２％であった。また、このときの次
亜塩素酸塩水溶液の循環量は、４０リットル／時間であ
り、冷却装置を用いて電解槽の温度は２６℃に保持し
た。
【００２８】また、陰極室への水の添加量を３リットル
／時間にした点を除き、他は同様の条件で動作させる
と、３２ｇ／ｌの次亜塩素酸塩水溶液が得られ、水の添
加量を０．５リットル／時間にすると、９５ｇ／ｌの次
亜塩素酸塩水溶液が得られた。
／時間にした点を除き、他は同様の条件で動作させる
と、３２ｇ／ｌの次亜塩素酸塩水溶液が得られ、水の添
加量を０．５リットル／時間にすると、９５ｇ／ｌの次
亜塩素酸塩水溶液が得られた。
【００２９】
【発明の効果】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置は、陽
イオン交換膜を使用したアルカリ金属塩化物水溶液の電
解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設けるとともに、電
解槽の陽極室および陰極室の生成物の全量を次亜塩素酸
塩反応槽に供給したので、陽極室で生成した塩素と陰極
室で生成した水酸化ナトリウムを全量反応させることが
でき、しかも塩素が配管等から外部に漏洩する可能性が
なく、保守の容易な高濃度の次亜塩素酸塩水溶液の製造
装置が得られるので、低濃度から高濃度までの次亜塩素
酸塩を次亜塩素酸塩の消費場所において容易に製造する
ことができる。
イオン交換膜を使用したアルカリ金属塩化物水溶液の電
解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設けるとともに、電
解槽の陽極室および陰極室の生成物の全量を次亜塩素酸
塩反応槽に供給したので、陽極室で生成した塩素と陰極
室で生成した水酸化ナトリウムを全量反応させることが
でき、しかも塩素が配管等から外部に漏洩する可能性が
なく、保守の容易な高濃度の次亜塩素酸塩水溶液の製造
装置が得られるので、低濃度から高濃度までの次亜塩素
酸塩を次亜塩素酸塩の消費場所において容易に製造する
ことができる。
【図１】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の一実施例を
説明する図である。
説明する図である。
【図２】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図３】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図４】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図５】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図６】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図７】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図８】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図９】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施例
を説明する図である。
を説明する図である。
【図１０】本発明の次亜塩素酸塩の製造装置の他の実施
例を説明する図である。
例を説明する図である。
【図１１】イオン交換膜電解槽を用いた従来の次亜塩素
酸塩の製造方法を説明する図である。
酸塩の製造方法を説明する図である。
１…陽イオン交換膜、２…イオン交換膜電解槽、３…陰
極室、４…陰極、５…陽極室、６…陽極、７…食塩水、
８…水、９…陰極室生成物導入手段、１０…次亜塩素酸
塩反応槽、１１…陽極室生成物導入手段、１２…水封安
全器、１３…水素、１４…循環槽、１５…次亜塩素酸塩
水溶液、１６…循環ポンプ、１７…冷却装置、１８…冷
却水、１９…邪魔板、２０…貫通孔、２１…陽極室、２
２…陽極、２３…陰極室、２４…陰極、２５…陽イオン
交換膜、２６…イオン交換膜電解槽、２７…脱塩素塔、
２８…食塩水調整工程、２９…水、３０…陰極液貯槽、
３１…吸収塔、３２…塩素、３３…貯槽
極室、４…陰極、５…陽極室、６…陽極、７…食塩水、
８…水、９…陰極室生成物導入手段、１０…次亜塩素酸
塩反応槽、１１…陽極室生成物導入手段、１２…水封安
全器、１３…水素、１４…循環槽、１５…次亜塩素酸塩
水溶液、１６…循環ポンプ、１７…冷却装置、１８…冷
却水、１９…邪魔板、２０…貫通孔、２１…陽極室、２
２…陽極、２３…陰極室、２４…陰極、２５…陽イオン
交換膜、２６…イオン交換膜電解槽、２７…脱塩素塔、
２８…食塩水調整工程、２９…水、３０…陰極液貯槽、
３１…吸収塔、３２…塩素、３３…貯槽
Claims (7)
- 【請求項１】 塩水の電気分解による次亜塩素酸塩の製
造装置において、陽イオン交換膜によって陰極室と陽極
室に区画した電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設
け、次亜塩素酸塩反応槽と、陽極室あるいは陰極室の少
なくともいずれか一方との間には、陽極室生成物あるい
は陰極室生成物の少なくともいずれか一方を次亜塩素酸
塩反応槽へ導入する導入手段を設けたことを特徴とする
次亜塩素酸塩の製造装置。 - 【請求項２】 陰極室生成物から水素を分離する水素分
離手段を設け、水素を分離した陰極室生成物を次亜塩素
酸塩反応槽に供給するか、次亜塩素酸塩反応槽の生成物
から水素を分離する水素分離手段を設けたことを特徴と
する請求項１記載の次亜塩素酸塩の製造装置。 - 【請求項３】 次亜塩素酸塩反応槽が上部に流入口を有
し、下部に流出口を有するものであることを特徴とする
請求項１〜２項のいずれかに記載の次亜塩素酸塩の製造
装置。 - 【請求項４】 次亜塩素酸塩反応槽が陰極室または陽極
室のいずれかを兼用するものであることを特徴とする請
求項１〜３項のいずれかに記載の次亜塩素酸塩の製造装
置。 - 【請求項５】 次亜塩素酸塩の循環槽および循環手段を
設け、次亜塩素酸塩反応槽と循環槽の間を次亜塩素酸塩
を循環することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに
記載の次亜塩素酸塩の製造装置。 - 【請求項６】 次亜塩素酸塩反応槽と循環槽を結合する
管路中に冷却装置を設けたことを特徴とする請求項５記
載の次亜塩素酸塩の製造装置。 - 【請求項７】 冷却装置を次亜塩素酸塩反応槽に接して
設けたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載
の次亜塩素酸塩の製造装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21038697A JP3729432B2 (ja) | 1996-08-29 | 1997-08-05 | 次亜塩素酸塩の製造装置 |
| EP97114877A EP0826794B1 (en) | 1996-08-29 | 1997-08-28 | Apparatus for producing hypochlorite |
| US08/920,361 US5935393A (en) | 1996-08-29 | 1997-08-29 | Apparatus for producing hypochlorite |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-228545 | 1996-08-29 | ||
| JP22854596 | 1996-08-29 | ||
| JP21038697A JP3729432B2 (ja) | 1996-08-29 | 1997-08-05 | 次亜塩素酸塩の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10121280A true JPH10121280A (ja) | 1998-05-12 |
| JP3729432B2 JP3729432B2 (ja) | 2005-12-21 |
Family
ID=26518024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21038697A Expired - Lifetime JP3729432B2 (ja) | 1996-08-29 | 1997-08-05 | 次亜塩素酸塩の製造装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5935393A (ja) |
| EP (1) | EP0826794B1 (ja) |
| JP (1) | JP3729432B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0733891A (ja) * | 1993-07-22 | 1995-02-03 | Tonen Chem Corp | 表面層架橋吸水性樹脂成形体の製造方法 |
| JP2009520884A (ja) * | 2005-12-20 | 2009-05-28 | セラマテック・インク | Ｎａイオン伝導セラミックス膜を使用した過塩素酸ナトリウム製造の電解プロセス |
| KR100928978B1 (ko) * | 2002-11-18 | 2009-11-26 | 주식회사 포스코 | 단일셀을 이용한 해수 재사용 염소발생장치 |
| WO2014168024A1 (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 株式会社デイリーテクノ | 次亜塩素酸水の生成用電解槽 |
| KR20190122708A (ko) * | 2017-03-06 | 2019-10-30 | 에보쿠아 워터 테크놀로지스 엘엘씨 | 전기염소화 장치를 자동 세척하기 위한 반전지 전기화학 구성 |
| JP2021070842A (ja) * | 2019-10-30 | 2021-05-06 | 株式会社テックコーポレーション | 電解水生成装置 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR20190122708A (ko) * | 2017-03-06 | 2019-10-30 | 에보쿠아 워터 테크놀로지스 엘엘씨 | 전기염소화 장치를 자동 세척하기 위한 반전지 전기화학 구성 |
| JP2021070842A (ja) * | 2019-10-30 | 2021-05-06 | 株式会社テックコーポレーション | 電解水生成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0826794B1 (en) | 2001-06-13 |
| JP3729432B2 (ja) | 2005-12-21 |
| US5935393A (en) | 1999-08-10 |
| EP0826794A1 (en) | 1998-03-04 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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