JPH10113606A - 写真用途のためのベース材料の大気圧グロー放電処理方法 - Google Patents

写真用途のためのベース材料の大気圧グロー放電処理方法

Info

Publication number
JPH10113606A
JPH10113606A JP9197539A JP19753997A JPH10113606A JP H10113606 A JPH10113606 A JP H10113606A JP 9197539 A JP9197539 A JP 9197539A JP 19753997 A JP19753997 A JP 19753997A JP H10113606 A JPH10113606 A JP H10113606A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
drum
khz
treatment
active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9197539A
Other languages
English (en)
Inventor
David A Glocker
エー．グロッカー デビッド
Mark M Romach
エム．ロマーチ マーク
Richard C Soper
シー．ソーパー リチャード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of JPH10113606A publication Critical patent/JPH10113606A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/10—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment
    • B29C59/12—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment in an environment other than air
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/14—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by electrical means
    • B05D3/141—Plasma treatment
    • B05D3/142—Pretreatment
    • B05D3/144—Pretreatment of polymeric substrates
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
    • G03C1/915—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/136—Coating process making radiation sensitive element
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/151—Matting or other surface reflectivity altering material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ４０kHz 〜５００kHz の周波数を選択するこ
とにより、高速度で且つ比較的低い電力で、ポリエステ
ル支持体への続いて塗布された乳剤の接着力を改良する
方法及び装置を提供する。 【解決手段】 本発明はポリエチレンナフタレート又は
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル支持
体の処理方法に関する。この処理は、大気圧でヘリウム
並びに任意に窒素及び／又は酸素のガス中で行われる。
この処理は、金属電極及び電極が発電機に接続され、約
１〜２mm間隔を空けて離れているときの大気グロー放電
結果を使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、次の被覆層の接着
を促進するために大気圧での放電により写真支持体を処
理する改良方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】種々の材料の間の接着を促進するため
に、コロナ放電が産業界で広く使用されている。写真製
品の製造に於いて、水性皮膜及び非水性皮膜を支持体材
料に接着させるためのコロナの種々の適用を記載した大
量の文献が存在している。これらのコロナの殆ど全部
は、空気中で大気圧で、高電圧（約５〜１０kV）で、比
較的高周波（１０kHz ）の信号を電極にかけることによ
って作られる。米国特許第４，２４１，１６９号、同第
４，７０１，４０３号、同第４，０８７，５７４号、同
第４，４２９，０３２号、同第４，３６３，８７２号、
同第４，２２９，５２３号、同第４，３９４，４４２
号、同第３，４１１，９０８号、同第３，５３１，３１
４号、同第３，５８２，３３９号、同第３，６０７，３
４５号、同第３，６３０，７４２号、同第３，８６０，
４２７号、同第３，８７４，８７７号、同第３，８８
８，７５３号、同第４，０５５，６８５号、同第４，５
１８，６８１号、同第５，００４，６６９号、フランス
特許第７６ １３０３４号、ＥＰ出願第９２３０３５５
６．２号参照。しかしながら、コロナ処理の有用性には
制限がある。コロナは、一般にストリーマーとして知ら
れている局部的に強力な放電を作り、これらのストリー
マーによって不均一なレベルの処理が起こるおそれがあ
る。これはまた、モトル欠陥を作る写真乳剤中の赤感光
度の不均質な損失に関係するようである。更に、コロナ
は皮膜のポリエチレンへの接着を促進する上で確かに有
効であるが、ＰＥＴ，ＰＥＮ等のような種々のポリエス
テル支持体への層の接着を促進する上では比較的効果が
ない。
【０００３】皮膜用のポリマーを製造する更に調節可能
で有効な方法は、低圧グロー放電処理によるものであ
る。本来、グロー放電は非常に拡散性で均質であり、一
層均一な処理をもたらす。更に、ガスを調節することに
よって、ポリエステル及びポリエチレンのような材料へ
の写真層の接着性を改良することが可能である。例え
ば、米国特許第４，９９３，２６７号、同第３，８３
７，８８６号及び同第４，４５１，４９７号参照。減圧
下で行われるグロー放電処理に於ける主な欠点は、処理
ステーションで低圧を維持する問題である。支持体をチ
ャンバーの中に入れ、空気を除去するバッチ方法又は支
持体を異なった圧力領域を通すことを必要とするインラ
イン方法を使用することが必要である。第一の場合に、
支持体は皮膜を適用する前に追加のオフライン工程を通
過しなくてはならない。これは製品の流れからみて魅力
が無く、追加の投資を必要とする。第二の選択は、移送
通路内で圧力差を維持するために必要な非常に厳しい許
容範囲のために、実用化することが困難であり、費用が
かかる。これには高価で複雑な機器及びポンプが必要で
ある。これらの処理を行うことができる大気圧に近づく
ほど、方法は単純で費用が少なくなる。
【０００４】適切な条件下で、安定な拡散グロー放電を
大気圧で作ることができることが知られている。この領
域での研究は、主としてフォトレジストのエッチング及
び材料の析出に限定され、向けられてきた。しかしなが
ら、接着のための処理についての文献（ＷＯ９４／２８
５６８）がある。多数の報告では、大気圧で拡散グロー
放電を作る信頼できる方法は、放電ガスとしてヘリウム
を使用することがあると示されている。文献に報告され
た仕事を再現し、信頼できるものであることがわかっ
た。更に、Ｙｏｓｈｉｋａｗａ等（米国特許第５，３１
６，７３９号）は、大気圧でヘリウム及びヘリウムと他
のガスとの混合物でゴムを処理するために使用される装
置を記載している。彼らは直流から１３．５６Mhz まで
の周波数の範囲の電源を使用し、特定の周波数又は狭い
範囲の周波数を使用することによって利点が得られない
ことを示している。しかしながら、本発明者等は、新規
な放電装置内で微量の活性ガスを使用することによっ
て、一定の周波数で、ポリエチレン、ＰＥＴ及びＰＥＮ
のような材料を被覆することが困難な写真乳剤の接着性
を劇的に改良することができる安定な大気圧放電を作る
ことができることを見出した。
【０００５】１９９４年９月１日出願の米国特許出願０
８／２９９，７７６には、第一電極が第一表面を有し、
第一電極が第一表面に隣接する複数個の間隔を空けて離
れた穴を有し、第二電極を配置し、第一電極の第一表面
から間隔を空けて離れた第二表面を有し、この穴を通し
てガスを送り（但し、ガスは大気圧以上である）、ガス
がヘリウム並びに任意に酸素及び／又は窒素からなり、
１０kHz 〜５０Mhz の周波数を有する電源を第一電極に
接続し、そしてウエブを第一電極の第一表面と第二電極
の第二表面との間に配置して、ポリマーウエブを大気グ
ロー放電に付して接着性を改良することからなるポリマ
ー支持体の処理方法が開示されている。
【０００６】上記の方法は非常に有用であることが見出
されたが、５フィート／分以上のような極めて速い速度
で、且つ５ワット／平方センチメートル以下のような比
較的低い電力密度でフィルムを走行させることができる
ことが、写真システムに於いてかなり重要である。
【０００７】１９９６年２月１３日出願のＵＳＳＮ０８
／６００，５６８には、予想されるものよりも高い速度
で且つ予想されるものよりも低い電力密度で、上記装置
の使用を可能にする処理ガス及び処理周波数の好ましい
組合せが記載されている。特に、このガスはヘリウムと
任意に酸素及び／又は窒素とからなる。特に有効で速い
処理は、４０kHz 〜約５００kHz の周波数で電源を運転
するとき可能であろう。
【０００８】上記出願に記載された方法を使用すること
の一つの欠点は、複数個の間隔を近づけた穴を設けて製
作した処理電極を必要とすることである。このような電
極を製作することは精密機械を必要とし、かなりの費用
を必要とする。更に、これは特定のドラム電極に組み合
わさっており、他の直径のドラムと取り替えることがで
きない。これらの先行する出願に記載されているものと
同じ結果を達成するために、写真製造操作を通してその
多くのものが既に所定の位置にある、標準的なコロナ放
電処理装置を使用することができる顕著な利点が存在す
るであろう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高速度で処
理することによって写真システム内における接着を達成
するために、特定のガス及びガス混合物を用いて特定の
周波数範囲内の電源で運転する従来のコロナ放電処理機
器及び改良された機器を使用することによって従来技術
の問題点を解決しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に従えば、ドラム
形状の金属電極に対面させて配置した１個又はそれ以上
の金属活性電極を設けること、ヘリウムからなるガスを
ドラム形状の金属電極に送ること、４０kHz 〜５００kH
z の周波数を有する電源を、活性電極とドラム電極との
間に接続すること、及びポリマーウエブ形状材料をドラ
ム形状の電極の上で移送して、それを活性電極によって
作られる大気グロー放電に暴露させること、からなる大
気圧でのポリマー支持体の処理方法が提供される。
【００１１】本発明の特に好ましい態様では、ドラム形
状の金属電極に対面させて配置した１個又はそれ以上の
金属活性電極を設けること、ヘリウムからなるガスを、
スリットが電極に対して密閉されている電極装置に流れ
を分配することができる、スリットを含むガス分配バー
を通して供給すること、４０kHz 〜５００kHz の周波数
を有する電源を、活性電極と接地した電極との間に接続
すること、及びポリマーウエブ形状材料をドラム形状の
電極の上で移送して、それを活性電極によって作られる
大気グロー放電に暴露させること、によるポリマー支持
体の処理方法が提供される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の他の及び別の目的、利点
及び能力と共に、本発明のより良い理解のために、添付
する図面及び本発明の幾つかの面の記載と結び付けて以
下の詳細な記載及び特許請求の範囲を参照する。
【００１３】図１は、１９９６年２月１３日出願の米国
特許出願０８／６００，５６８号で使用されている大気
グロー放電装置の断面図を示す。電極２０には、それを
通して入口２４からのガスを供給する一連の開口２３が
含まれている。電極２０の寸法は、１２．１cm×１３．
３cmである。電極２０は、それぞれ１mmの直径を有する
３３３個の開口２３を有する。この開口は電極２０の上
に対称的に分布されている。高パーセントの反応性ガス
種である最も著名なＨｅ中のＮ2 及びＯ2 で大気圧での
安定なグロー放電が、図１に示す電極２０を使用して可
能である。これによって、低電力でポリエステル支持体
の一層完全な処理が可能である。図１に示される開口付
き電極形状は、開口２３を通って供給されるＨｅ中８％
のＮ2 の混合物で環境空気中で操作することができる。
【００１４】ポリマー支持体の処理に於いて、できるだ
け低い電力でできるだけ速い移送速度を使用して接着力
を増大させることが不可欠である。全ての写真処理を、
適当な費用考慮及び豊富な供給を維持するために極めて
高い速度で行うとき、より高いウエブ速度で所望の接着
力を達成できることが重要である。米国特許出願０８／
２９９，７７６に記載されているガス混合物を、１〜３
０フィート／分の種々の速度で使用する場合、このこと
は極めて困難である。ウエブの速度を上昇させたとき、
多くのガス混合物は等しい接着性を保持しなかった。
【００１５】大きな電力必要量は資本費用を増加させ、
処理するウエブを熱的に損傷し得るので、できるだけ最
低の電力を使用することが重要である。電力密度は、処
理電極に付与される電力を処理電極の面積で割ったもの
として定義され、ワット／平方センチメートルで測定さ
れる。１：１又はそれ以上の、フィート／分でのフエブ
速度のＷ／cm2 での電力密度に対する比での有効な処理
は、４０kHz 〜５００kHz の周波数のみで得ることがで
きることが、ここに見出された。
【００１６】図１の装置の開口の穴を必要としない器具
を使用できることが重要であるので、本発明を図３に示
す。
【００１７】図２は、一般的なカバーロールコロナ放電
処理（ＣＤＴ）ステーションの概略表示である。ＣＤＴ
は、プラスチックウエブを濡れ性にし、流体状で被覆さ
れるインキ及びその他の材料に対して接着性にするため
にプラスチックウエブを処理するための普通の方法であ
る。コロナ放電のための普通の方式は、空気中で運転す
ることである。空気についての放電開始電圧は、典型的
に必要な電界強度が、電圧を加えた電極と接地との間の
小さい空気間隙で、高い（３〜１５KV）電圧を加えて運
転することによって達成されるようなものである。コロ
ナ放電装置は、小さい半径点（ｒａｄｉｕｓ ｐｏｉｎ
ｔｓ）又は狭いゲージワイヤ（ｇａｕｇｅ ｗｉｒｅ
ｓ）の理由によって高電界強度を達成する。狭いゲージ
ワイヤは表面への近い接近は重要ではないが、このよう
なワイヤ電極装置について高い電流及び高い電力が適当
でないことを意味している。こうして平らな表面の電極
（１）及びウエブ間隙に対して小さい電極での平らなウ
エブのコロナ処理は、自然で、普通の、予測される適用
である。コロナ放電処理の他の面は、暴走電流が停止し
ないと破壊アークが高い電力で起こることである。これ
は典型的に、１５KV以上の電圧に耐えることができる誘
電体バリヤー層（５）でなされ、それで誘電体層での大
気放電はしばしばバリヤー放電と呼ばれる。必要な特性
は、かなりの電力が交流で発生し得るのみであり、それ
で典型的なコロナ放電処理機が３kHz 〜４０kKz の電源
（３）で作動することである。処理中に安定であるため
に、コロナ放電処理機の空気間隙は一定のままでなくて
はならず、それでウエブ処理に対する典型的な適用に
は、ウエブ（４）をローラに対して外周に配置された電
極（１）と共に位置決めするためにローラ（２）を使用
することが含まれる。処理するプラスチックウエブはバ
リヤーとして十分であるかもしれないが、普通装置内の
誘導体によって強化される。誘電体が電極上に配置され
ている場合、これは普通裸ロール処理機として知られて
いるＣＤＴ処理機の一般的を種類を定義する。ＣＤＴ処
理機の他の普通の種類であるカバーロール処理機（図
２）では、金属電極（１）を製作することの容易性でロ
ーラ（２）の上に配置された種々の誘電体（５）が使用
される。金属電極は普通、１／２〜１インチ幅の多重構
成単位として見出され、ウエブ表面間隙に対して電極の
保全を単純化するためにローラの周りに外周に沿って配
置させることができる。金属電極の他の普通の種類は
「シュー」であり、これは一定の空気間隙を維持するた
めにローラの直径に合わせて作られた１個の構成単位で
ある。裸ロール処理機は、誘電体カバー電極が電極上で
濃縮される高電力密度に付随する熱衝撃のために破壊
し、それで電極をカバーする誘電体材料の寿命を延長
し、普通のＣＤＴ副生物であるオゾンを排出するために
空気流を冷却することが発明された（米国特許第４，４
４６，１１０号参照）。空気中で作動するコロナ放電処
理機についての典型的な処理ドーズ量は、１〜４ワット
−分／平方フィートである。これらの処理ドーズ量及び
誘電体のために利用できる材料は、１０〜２０００フィ
ート／分のウエブ速度での成功した処理が可能であるこ
とを意味する。空気中でのＣＤＴの成功は、写真皮膜の
接着性に関してポリエチレンのようなウエブ表面に限定
される。
【００１８】本発明の装置を図３に示す。これは設備が
活性電極の下に実質的で均一なガス流を作るように製造
され、大気圧以上で作動する放電による以外は標準的な
コロナ放電装置に類似している。ガスは電極の対の間に
導入され、外側に流れて周りの空気を実質的に置換し、
所望のガス組成物を絶えず補充する。
【００１９】図３は、接地したローラ（２）と活性電極
（１）（電力が付与される電極）との間の関係を示す。
電源は普通に全ての電極（１）及び接地したローラコア
（２）に接続されている。ローラは絶縁層（５）でカバ
ーされている。処理するウエブ（４）は、ローラ（２）
の上で且つ電極（１）の下に向けられ、電極（１）は小
さい間隙のみが残るようにウエブから空間をあけて離れ
ている。典型的な間隙は０．０２０〜０．０６０インチ
であり、小さい間隙ほど好ましい。処理ガスはシリコー
ンゴムを有する電極に対して密閉され、この電極から絶
縁されている分配スリット（６）を経て電極の間に入
る。処理ガスは、電極面と処理するウエブとの間の放電
帯域を通って流れるように賦勢されている。処理ガス
は、均一に分布させる目的のためにチューブ（１０）を
経てスリットに分配される。チューブは上部構造物
（７）内の溝から与えられ、個々のチューブ（１０）へ
の流量を調節するためにネジ調節装置を利用することが
できる。上部構造物溝への進入は入口（８）を経る。
【００２０】性能を発揮するために、写真製品中の感光
性層はそれが被覆されている支持体に接着していなくて
はならないことは明らかである。この接着力は、乾燥状
態に於いてと現像液及びその他の溶液中で処理する間と
の両方で十分でなくてはならない。感光性層は、通常普
通に使用されるポリマー支持体に直接接着しないので、
しばしば「下塗り（ｓｕｂｂｉｎｇ）」層と呼ばれる接
着助長層が使用される。この層は支持体によく接着し、
またこれと写真層との間の良好な接着を促進する。下塗
層の支持体ポリマーへの接着を促進することができる、
又は直接支持体への写真層の接着を与えることができる
表面処理が検討されてきた。
【００２１】写真乳剤のほかに、支持体に帯電防止層、
磁性層及び潤滑層のような他の層を接着することができ
る。画像形成要素の製造及び使用に於ける静電荷に付随
する問題点はよく知られている。電荷の蓄積はごみ又は
埃の吸引になり、物理的欠陥を作り得る。放射線感受性
層（例えば、写真乳剤）の適用又は使用の際の蓄積され
た電荷の放電は、感光性層（群）に不規則なカブリパタ
ーン又はスタチックマークを作ることができる。これら
の静電荷問題は、増加した写真乳剤感光度、増加した被
覆機械速度及び増加した後被覆乾燥効率のために、ます
ます一層厳しくなってきた。輸送帯電は、他の材料に対
して相対的な運動があるとき電荷を蓄積する高誘電材料
の傾向の結果である。これは被覆並びにスリッティン
グ、及びスプーリングのような後被覆操作の間に静電帯
電する結果になる。静電荷蓄積はまた、画像要素の使用
の間、例えば自動カメラ内で写真フィルムのロールをフ
ィルムカセットから外に巻いたり、フィルムカセットの
中に巻き戻したりする間に起きるおそれがある。磁気読
み取り及び磁気書き込みの間の静電放電は、ビット誤り
率が増加する結果になり得る。これらの問題点は、低い
相対湿度で悪化し得る。同様に、画像形成要素の高速処
理は静電荷発生になり得る。静電荷制御のための増加し
た要求のために、広範囲の種々のイオン的に伝導性の材
料及び電子的に伝導性の材料が、写真画像形成要素、磁
気記録要素及びその他の画像形成要素用の帯電防止層の
中に含有されてきた。
【００２２】ポリエステル支持体に接着することがてき
る補助層の例としては、一般的な磁気記録技術で使用さ
れるものと類似の技術により、放射線感受性ハロゲン化
銀写真要素に磁気記録層に情報を記録するために、及び
磁気記録層から情報を読み取るために有利に使用するこ
とができる透明磁気記録層が含有されていてよいこと
が、第３，７８２，９４７号、第４，２７９，９４５
号、第４，９９０，２７６号、第５，２１７，８０４
号、第５，１４７，７６８号、第５，２２９，２５９
号、第５，２５５，０３１号その他を含む種々の米国特
許からよく知られている。情報交換のための磁気記録層
を使用することにより、感光性材料、写真条件、プリン
ト条件及びその他の情報を同定する情報の入力及び出力
により改良された写真プリント品質が可能になる。
【００２３】追加の補助層がまた画像要素中に存在して
いてもよい。これらの層は、耐摩耗性及びその他の保護
層、研磨剤含有層、接着助長層、カール調節層、輸送調
節層、潤滑層、磁性層並びに改良されたウエブ輸送、光
学的性質、物理的性質及び耐久性のような目的のための
その他の層のために使用することができるが、これらに
限定されない。図３に示すもののような装置を、２種の
放電電源周波数で幾つかのガス及びガス混合物で運転し
た。ポリエチレンナフタレートを、写真乳剤の塗布のよ
うな他の製造操作と共にインラインで作動するための処
理の能力を評価するために、幾つかの速度で処理帯域を
通過させて輸送した。次いでこのようにして処理した表
面を、多くのカラー写真システムの第一層であるハレー
ション防止層で手によって塗布した。乳剤が固まり乾燥
した後、処理したＰＥＮの接着性を試験するために一連
の接着試験を行った。
【００２４】下記の場合のそれぞれに於いて、ハレーシ
ョン防止層の接着性を、湿潤状態及び乾燥状態の両方で
評価した。試験する前に、塗布したフィルムを２２℃及
び４０％相対湿度で７２時間（乾燥試験）又は３３６時
間（湿潤試験）の何れかで乾燥した。乾燥試験は、５段
階の次第に攻撃的になる段階で接着テープで支持体から
乳剤を剥離することを試みることによって行った。一連
のものは、テープ種類、テープ幅、刻み目入れ工具の種
類、刻み目の種類及びテープ剥離速度を変更することか
らなっている。乳剤にかき傷を付けるために、高速（Ｈ
ＳＳ）差込バイト（ｔｏｏｌ ｂｉｔ）又は解剖用メス
を使用した。パターン（「Ｈ」又は「＃」）を使用する
とき、乳剤表面にパターンを形成するためにＨＳＳバイ
ト又はメスを使用した。次いで一片の特別のテープを調
製した領域の上に手で適用し、押し付けた。リーダー又
は引張タブの長さは、剥離速度を更に調節するために試
験特異性である。
【００２５】使用したテープには、全てスリーエム社
（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）によって製造された８１０
（１／２インチ幅）、６１０（１インチ幅）及び３９６
（３／４インチ幅）が含まれる。差込バイトの一つは、
テープの下の領域に剥離応力を集中させるためにテープ
の縁で乳剤を薄切りするのに使用することができる。剥
離力は縁に刻み目を付けないで展開され得る。それぞれ
の場合に、剥離角をテープと支持体との間で９０度にな
るようにしてテープを剥離する。剥離運動の速度は、特
別の試験の攻撃性に影響を与える他の要因である。攻撃
性を増大させるために、試験の二つは多重剥離を使用す
る。試験の要約を、攻撃性が増大する順に、表Ｉに示
す。
【００２６】
【表１】
【００２７】テープによって除去された乳剤の量を、各
条件についてテープの下の元の結合領域のパーセントと
して記録し、表IIに示す。０％除去の評価点は全ての条
件下で乳剤が除去されないことを意味し、製品品質写真
フィルムのために必要であると考えられる。１００％の
評価点は、５種の条件の全てで完全な除去があったこと
を意味する。０％と１００％との間の評価点は、５種の
条件の全てについての除去を平均することによって決定
される。湿潤接着性は、塗布したフィルムを３８℃の温
度の現像液中に入れ、１．０Ｎ／cm2 の圧力をパッドに
かけながら研磨パッド（Ｓｃｏｔｃｈｂｒｉｔｅ）でそ
れを摩擦することによって評価する。パッドの下での６
０回の後進前進サイクルの後、除去された乳剤の量を研
磨面積のパーセントとして評価した。除去ゼロの評価点
が製品品質写真フィルムのために必要であると考えられ
る。
【００２８】
【実施例】以下、実施例及び比較例によって本発明を更
に説明するが、本発明の範囲をこれらの実施例に限定す
るものでないことは言うまでもない。
【００２９】実施例１ 図３に示すような処理装置を、電極を貫通して流した４
０リットル／分のヘリウム及び４リットル／分の窒素で
操作した。４５０kHz の周波数及び１９２ワットの電力
で操作する電源を使用した。ポリエチレンナフタレート
を、１０フィート／分の線速度で処理ゾーンを貫通させ
て移送した。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空
けた、６個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前
記のようにしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥し
た。この処理の結果は、湿潤試験及び乾燥試験の両方に
ついて０％除去であった。
【００３０】実施例２ 図３に示すような処理装置を、電極を貫通して流した４
０リットル／分のヘリウム及び８リットル／分の窒素で
操作した。４５０kHz の周波数及び１８６ワットの電力
で操作する電源を使用した。ポリエチレンナフタレート
を、１０フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移
送した。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空け
た、６個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記
のようにしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。
この処理の結果は、湿潤試験について０％除去で、乾燥
試験について１％除去であった。
【００３１】実施例３ 図３に示すような処理装置を、電極を貫通して流した４
０リットル／分のヘリウム単独で操作した。４５０kHz
の周波数及び１６８ワットの電力で操作する電源を使用
した。ポリエチレンナフタレートを、３０フィート／分
の線速度で処理ゾーンを通して移送した。ゴム被覆ドラ
ムから０．７６mmの間隔を空けた、６個の裸チタン処理
バーを使用した。処理後に前記のようにしてポリエステ
ル支持体を塗布し、乾燥した。この処理の結果は湿潤試
験について０％除去で、乾燥試験について３％除去であ
った。
【００３２】実施例４ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した４０
リットル／分のヘリウム及び８リットル／分の窒素で操
作した。４５０kHz の周波数及び１８８ワットの電力で
操作する電源を使用した。ポリエチレンナフタレート
を、３０フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移
送した。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空け
た、６個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記
のようにしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。
この処理の結果は湿潤試験について０％除去で、乾燥試
験について０％除去であった。
【００３３】比較例１ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８リ
ットル／分のヘリウム単独で操作した。１０kHz の周波
数及び４００ワットの電力で操作する、従来のコロナ放
電処理電源を使用した。ポリエチレンナフタレートを、
１０フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移送し
た。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空けた、６
個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記のよう
にしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。この処
理の結果は湿潤試験について１００％除去で、乾燥試験
について１％除去であった。
【００３４】比較例２ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８リ
ットル／分のヘリウム及び０．３２リットル／分の窒素
で操作した。１０kHz の周波数及び４６８ワットの電力
で操作する、従来のコロナ放電処理電源を使用した。ポ
リエチレンナフタレートを、１０フィート／分の線速度
で処理ゾーンを通して移送した。ゴム被覆ドラムから
０．７６mmの間隔を空けた、６個の裸チタン処理バーを
使用した。処理後に前記のようにしてポリエステル支持
体を塗布し、乾燥した。この処理の結果は湿潤試験につ
いて８６％除去で、乾燥試験について０％除去であっ
た。
【００３５】比較例３ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８０
リットル／分のヘリウム及び３．２リットル／分の窒素
で操作した。１０kHz の周波数及び３９６ワットの電力
で操作する、従来のコロナ放電処理電源を使用した。ポ
リエチレンナフタレートを、１０フィート／分の線速度
で処理ゾーンを通して移送した。ゴム被覆ドラムから
０．７６mmの間隔を空けた、６個の裸チタン処理バーを
使用した。処理後に前記のようにしてポリエステル支持
体を塗布し、乾燥した。この処理の結果は湿潤試験につ
いて１００％除去で、乾燥試験について２％除去であっ
た。
【００３６】比較例４ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８リ
ットル／分の窒素単独で操作した。１０kHz の周波数及
び４２６ワットの電力で操作する、従来のコロナ放電処
理電源を使用した。ポリエチレンナフタレートを、１０
フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移送した。
ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空けた、６個の
裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記のようにし
てポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。この処理の
結果は湿潤試験について１％除去で、乾燥試験について
２％除去であった。
【００３７】比較例５ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８リ
ットル／分のヘリウム単独で操作した。１０kHz の周波
数及び４３８ワットの電力で操作する、従来のコロナ放
電処理電源を使用した。ポリエチレンナフタレートを、
３０フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移送し
た。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空けた、６
個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記のよう
にしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。この処
理の結果は湿潤試験について１００％除去で、乾燥試験
について２％除去であった。
【００３８】比較例６ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８リ
ットル／分のヘリウム及び０．３２リットル／分の窒素
で操作した。１０kHz の周波数及び４８２ワットの電力
で操作する、従来のコロナ放電処理電源を使用した。ポ
リエチレンナフタレートを、３０フィート／分の線速度
で処理ゾーンを通して移送した。ゴム被覆ドラムから
０．７６mmの間隔を空けた、６個の裸チタン処理バーを
使用した。処理後に前記のようにしてポリエステル支持
体を塗布し、乾燥した。この処理の結果は湿潤試験につ
いて１００％除去で、乾燥試験について０％除去であっ
た。
【００３９】比較例７ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８０
リットル／分のヘリウム及び３．２リットル／分の窒素
で操作した。１０kHz の周波数及び３７６ワットの電力
で操作する、従来のコロナ放電処理電源を使用した。ポ
リエチレンナフタレートを、３０フィート／分の線速度
で処理ゾーンを通して移送した。ゴム被覆ドラムから
０．７６mmの間隔を空けた、６個の裸チタン処理バーを
使用した。処理後に前記のようにしてポリエステル支持
体を塗布し、乾燥した。この処理の結果は湿潤試験につ
いて１００％除去で、乾燥試験について１％除去であっ
た。
【００４０】比較例８ 図３に示すような処理装置を、電極を通して流した８０
リットル／分のヘリウム単独で操作した。１０kHz の周
波数及び３９６ワットの電力で操作する、従来のコロナ
放電処理電源を使用した。ポリエチレンナフタレート
を、３０フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移
送した。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空け
た、６個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記
のようにしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。
この処理の結果は湿潤試験について１００％除去で、乾
燥試験について１％除去であった。
【００４１】比較例９ 図３に示すような処理装置を、どのようなガスも電極を
通して流すこと無く空気中で操作した。１０kHz の周波
数及び４９０ワットの電力で操作する、従来のコロナ放
電処理電源を使用した。ポリエチレンナフタレートを、
３０フィート／分の線速度で処理ゾーンを通して移送し
た。ゴム被覆ドラムから０．７６mmの間隔を空けた、６
個の裸チタン処理バーを使用した。処理後に前記のよう
にしてポリエステル支持体を塗布し、乾燥した。この処
理の結果は湿潤試験について１００％除去で、乾燥試験
について１％除去であった。
【００４２】下記の表IIに、これらの例の接着結果を要
約する。この表には未処理の支持体も含める。処理しな
い支持体では、湿潤試験及び乾燥試験の両方で１００％
除去が存在し、未処理のＰＥＮへの写真乳剤の接着力は
許容できないものであることを示している。
【００４３】
【表２】
【００４４】表IIのデータから明らかである重要で且つ
驚くべき結果は、接着力の電源周波数への依存性であ
る。全ての場合に、４５０kHz の周波数で湿潤接着力は
完全であり、二つの場合に湿潤接着力及び乾燥接着力の
両方で完全であった。条件の広範囲の組合せを研究した
にも拘わらず、如何なることがあっても１０kHz の従来
の周波数で行った処理によって完全な湿潤接着力は得ら
れなかった。この研究の過程で４５０kHz の周波数で操
作するために、担体ガスとしてヘリウムを使用すること
が必要であることも見出された。
【００４５】Ｒｏｔｈ等（ＷＯ９４／２８５６８）は、
彼らが、放電が持続する周波数の下限を計算した大気グ
ロー放電装置の解析を示している。彼らに従って、この
周波数は下記式によって与えられる。
【００４６】
【数１】
【００４７】（但し、ｅはイオン電荷であり、Ｖは二乗
平均平方根放電電圧であり、ｍはイオン質量であり、γ
はイオン衝突頻度であり（Ｒｏｔｈ等により、６．８×
１０9／秒として与えられる）、そしてｄは放電のため
の電極離隔距離である）。４５０kHz で、本発明のヘリ
ウム放電は、１１００Ｖのｒｍｓ電圧で０．７６mmの電
極離隔距離で作動する。Ｒｏｔｈの教示により、これら
の条件下で放電が持続することができる最低周波数は
２．２Mhz である。上記の有効な処理は４５０kHzで作
動し、これはＲｏｔｈが教示する下限よりも５倍小さ
い。
【００４８】これらの結果は、正しい周波数でなされ
る、ヘリウム又はヘリウムと他のガスとの混合物中での
ポリマー支持体の処理によって、支持体への直接の乳剤
の接着力を顕著に改良できることを示している。これら
の種類の結果は、典型的に３〜４０kHz の範囲内の周波
数でなされる従来のコロナ処理では不可能である。
【００４９】以上、本発明を好ましい態様を特に参照し
て記載したが、本発明の範囲から逸脱することなく種々
の変更を行うことができ、好ましい態様の要素を等価物
で置き換えることができることが、当業者により理解さ
れるであろう。更に、本発明の本質的な教示から逸脱す
ることなく、本発明の教示に重要な特別の状況に適合す
るために、多くの修正を行うことができる。
【００５０】
【発明の効果】本発明は、経済的に維持することができ
るグロー放電装置を使用してポリエステル支持体の接着
性を改良する利点を提供し、これらの運転は比較的低い
電力密度での高速の支持体処理を維持しながら、大気圧
で維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】先行技術の電極の説明図である。
【図２】一般的なコロナ放電処理装置の説明図である。
【図３】本発明で使用するとき、特に好ましいコロナ放
電処理装置の説明図である。
【符号の説明】
１…活性電極 ２…ローラ ３…電源 ４…ウエブ ５…絶縁層又は誘電体バリヤー層 ６…分配スリット ７…上部構造物 ８…入口 １０…チューブ ２０…電極 ２３…開口 ２４…入口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード シー．ソーパー アメリカ合衆国，ニューヨーク 14564− 9344，ビクター，ブレース ロード 1488

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ドラム形状の金属電極に対面させて配置
    した１個又はそれ以上の金属活性電極を設けること、 ヘリウムからなるガスをドラム形状の金属電極に送るこ
    と、 ４０kHz 〜５００kHz の周波数を有する電源を、活性電
    極とドラム電極との間に接続すること、及びポリマーウ
    エブ形状材料をドラム形状の電極の上で移送して、それ
    を活性電極によって作られる大気グロー放電に暴露させ
    ることからなる、大気圧でのポリマー支持体の処理方
    法。
  2. 【請求項２】 ドラム形状金属電極に対面させて配置し
    た１個又はそれ以上の金属活性電極を設けること、 ヘリウムからなるガスを、スリットが電極に対して密閉
    されている電極装置に流れを分配することができるスリ
    ットを含むガス分配バーを通して送ること、 ４０kHz 〜５００kHz の周波数を有する電源を活性電極
    とドラム電極との間に接続すること、及びポリマーウエ
    ブ形状材料をドラム形状電極の上で移送して、それを活
    性電極によって作られる大気グロー放電に暴露させるこ
    とからなる、大気圧でのポリマー支持体の処理方法。
JP9197539A 1996-07-23 1997-07-23 写真用途のためのベース材料の大気圧グロー放電処理方法 Pending JPH10113606A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/685,353 US5789145A (en) 1996-07-23 1996-07-23 Atmospheric pressure glow discharge treatment of base material for photographic applications
US08/685353 1996-07-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10113606A true JPH10113606A (ja) 1998-05-06

Family

ID=24751828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9197539A Pending JPH10113606A (ja) 1996-07-23 1997-07-23 写真用途のためのベース材料の大気圧グロー放電処理方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5789145A (ja)
EP (1) EP0821273B1 (ja)
JP (1) JPH10113606A (ja)
DE (1) DE69727175T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006503406A (ja) * 2002-09-30 2006-01-26 フジ　フォト　フィルム　ビー．ブイ． 大気圧グロー放電プラズマを発生させるための方法及び装置

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5895744A (en) * 1997-02-28 1999-04-20 Eastman Kodak Company Method and apparatus for making polyester web having high adhesion to coated layers
US5954926A (en) * 1997-02-28 1999-09-21 Eastman Kodak Company Glow discharge treatment of a web substrate surface in a web coating line
US5888713A (en) * 1997-05-19 1999-03-30 Eastman Kodak Company Atmospheric pressure glow discharge treatment of paper base material for imaging applications
US6146462A (en) * 1998-05-08 2000-11-14 Astenjohnson, Inc. Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same
US6287687B1 (en) 1998-05-08 2001-09-11 Asten, Inc. Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same
NL1010287C2 (nl) * 1998-10-09 2000-04-11 Fuji Photo Film Bv Werkwijze voor de behandeling van een fotografische drager met een atmosferische druk gloeiontlading.
US6774018B2 (en) * 1999-02-01 2004-08-10 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Barrier coatings produced by atmospheric glow discharge
US7067405B2 (en) * 1999-02-01 2006-06-27 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Atmospheric glow discharge with concurrent coating deposition
US6118218A (en) * 1999-02-01 2000-09-12 Sigma Technologies International, Inc. Steady-state glow-discharge plasma at atmospheric pressure
US6441553B1 (en) 1999-02-01 2002-08-27 Sigma Technologies International, Inc. Electrode for glow-discharge atmospheric-pressure plasma treatment
US6355405B1 (en) 1999-02-26 2002-03-12 Eastman Kodak Company Multi-layer article with improved adhesion and method of making
US7091605B2 (en) * 2001-09-21 2006-08-15 Eastman Kodak Company Highly moisture-sensitive electronic device element and method for fabrication
DE69913518T2 (de) * 1999-08-31 2004-11-11 Agfa-Gevaert Verfahren zur Erneuerung einer Flachdruckplatte
US6408755B1 (en) 1999-08-31 2002-06-25 Agfa-Gavaert Method for erasing a lithographic printing master
JP3915365B2 (ja) * 2000-03-10 2007-05-16 コニカミノルタホールディングス株式会社 熱現像用ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法
US6429595B1 (en) 2001-02-14 2002-08-06 Enercon Industries Corporation Multi-mode treater with internal air cooling system
US7288204B2 (en) 2002-07-19 2007-10-30 Fuji Photo Film B.V. Method and arrangement for treating a substrate with an atmospheric pressure glow plasma (APG)
JP2005536635A (ja) * 2002-08-26 2005-12-02 シグマ・ラボラトリーズ・オブ・アリゾナ・インコーポレーテツド 大気圧グロー放電により生成された遮断被膜
US20050235915A1 (en) * 2004-04-27 2005-10-27 Ho Yeu-Chuan S Plasma surface treatment electrode assembly and arrangement
US7220462B2 (en) * 2004-04-27 2007-05-22 Praxair Technology, Inc. Method and electrode assembly for non-equilibrium plasma treatment

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3607345A (en) * 1958-04-26 1971-09-21 Eastman Kodak Co Process for coating photographic emulsion layers
GB1005631A (en) * 1964-03-10 1965-09-22 Eastman Kodak Co Photographic materials
US3531314A (en) * 1968-05-13 1970-09-29 Eastman Kodak Co Treatment of polymer surfaces for coating with photographic layers
US3582339A (en) * 1968-10-30 1971-06-01 Eastman Kodak Co Photographic element
BE757569A (fr) * 1969-10-16 1971-03-16 Eastman Kodak Co Procede pour preparer un support photographique et produit obtenu
JPS4932135B1 (ja) * 1970-05-15 1974-08-28
US3874877A (en) * 1971-07-30 1975-04-01 Fuji Photo Film Co Ltd Subbing method for photographic film support
US3888753A (en) * 1971-08-13 1975-06-10 Eastman Kodak Co Coruscate electrical discharge treatment of polymeric film to improve adherability thereof to gelatinous and other coatings
JPS4873146A (ja) * 1971-12-28 1973-10-02
US3782947A (en) * 1972-01-28 1974-01-01 Eastman Kodak Co Photographic product with photographically transparent magnetic recording medium
JPS57487B2 (ja) * 1974-08-31 1982-01-06
DE2519233A1 (de) * 1975-04-30 1976-11-18 Agfa Gevaert Ag Verfahren zur verbesserung der haftung photographischer schichten auf folienbahnen mittels einer corona-behandlung
JPS51135526A (en) * 1975-05-19 1976-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd Method for subbing on plastic film support
FR2382325A1 (fr) * 1977-03-02 1978-09-29 Kodak Pathe Produit comprenant une couche d'enregistrement magnetique transparente
US4241169A (en) * 1979-05-21 1980-12-23 E. I. Du Pont De Nemours & Company Gelatin-polyester-aziridine product subbing layer for polyester photographic base
DE3039951A1 (de) * 1980-10-23 1982-05-27 Andreas Dipl.-Ing. 6420 Lauterbach Ahlbrandt Vorrichtung zum behandeln der oberflaeche von gegenstaenden durch elektrische spruehentladung
US4363872A (en) * 1981-02-24 1982-12-14 Imperial Chemical Industries Limited Coated film bases, photographic films derived from the bases and processes for their production
EP0065329B1 (en) * 1981-05-18 1985-05-02 Agfa-Gevaert N.V. Surface-treated vinyl chloride polymer material including an adhering hydrophilic layer
US4518681A (en) * 1981-06-25 1985-05-21 The Dow Chemical Company Process for the manufacture of synthetic paper and the product thereof
DE3134615A1 (de) * 1981-09-01 1983-03-10 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Verfahren und vorrichtung zur vorbehandlung von fotografischen traegermaterialien
US4394442A (en) * 1982-03-15 1983-07-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Post-stretch water-dispersible subbing composition for polyester film base
JPS59193265A (ja) * 1983-03-14 1984-11-01 Stanley Electric Co Ltd プラズマｃｖｄ装置
JPS61174542A (ja) * 1985-01-16 1986-08-06 イー・アイ・デユポン・ド・ネモアース・アンド・コンパニー ポリマー成形品に静電防止層を被覆する方法および写真フイルムを製造する方法
US4993267A (en) * 1988-04-08 1991-02-19 General Electric Company Electronic transducer
US5004669A (en) * 1988-10-31 1991-04-02 Konica Corporation Light-sensitive silver halide photographic material
JP2747837B2 (ja) * 1989-03-10 1998-05-06 富士写真フイルム株式会社 支持体の帯電方法
US5255031A (en) * 1989-11-13 1993-10-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Data-retainable photographic film cartridge
US4990276A (en) * 1990-02-01 1991-02-05 Eastman Kodak Company Magnetic dispersion
JP2699014B2 (ja) * 1990-07-10 1998-01-19 富士写真フイルム株式会社 磁気記録要素を有するハロゲン化銀カラー写真感光材料
JP2684232B2 (ja) * 1990-08-13 1997-12-03 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
US5217804A (en) * 1990-11-06 1993-06-08 Eastman Kodak Company Magnetic particles
US5244780A (en) * 1991-05-28 1993-09-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Element having adhesion of gelatin and emulsion coatings to polyester film
GB2259185B (en) * 1991-08-20 1995-08-16 Bridgestone Corp Method and apparatus for surface treatment
JPH08511898A (ja) * 1993-05-28 1996-12-10 ザ ユニバーシティ オブ テネシー リサーチ コーポレーション ポリマー材の大気圧のグロー放電プラズマ処理方法および装置
US5425980A (en) * 1994-02-22 1995-06-20 Eastman Kodak Company Use of glow discharge treatment to promote adhesion of aqueous coats to substrate
EP0674218B1 (en) * 1994-02-25 2002-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat treatment method of photographic polyester support
US5558843A (en) * 1994-09-01 1996-09-24 Eastman Kodak Company Near atmospheric pressure treatment of polymers using helium discharges
US5714308A (en) * 1996-02-13 1998-02-03 Eastman Kodak Company Atmospheric pressure glow discharge treatment of polymeric supports to promote adhesion for photographic applications

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006503406A (ja) * 2002-09-30 2006-01-26 フジ　フォト　フィルム　ビー．ブイ． 大気圧グロー放電プラズマを発生させるための方法及び装置
JP4921710B2 (ja) * 2002-09-30 2012-04-25 フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー．ブイ． 大気圧グロー放電プラズマを発生させるための方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5789145A (en) 1998-08-04
EP0821273B1 (en) 2004-01-14
DE69727175D1 (de) 2004-02-19
EP0821273A1 (en) 1998-01-28
DE69727175T2 (de) 2004-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10113606A (ja) 写真用途のためのベース材料の大気圧グロー放電処理方法
US3730753A (en) Method for treating a web
US5714308A (en) Atmospheric pressure glow discharge treatment of polymeric supports to promote adhesion for photographic applications
EP0386796B1 (en) Method of applying single polar electrostatic charges to continously travelling long web support, and apparatus practicing same
US4577362A (en) Apparatus for removing foreign matter from flexible support
US5122386A (en) Double side coating method
US3729648A (en) Method and apparatus for treating a web
US5304254A (en) Method of removing dust from a web involving non-contact scraping and blowing
US4472467A (en) Polymer surface treating method
US3712735A (en) Apparatus for photo etching
JP2000189871A (ja) コ―ティングプロセスにおける静電パタ―ン転写を低減するデバイス
US5954926A (en) Glow discharge treatment of a web substrate surface in a web coating line
JP3646281B2 (ja) 支持体の表面処理方法、及び表面処理装置
US5955251A (en) Method for producing information recording medium
JP2000063548A (ja) プラスティック支持体の表面処理方法、磁気記録媒体及びハロゲン化銀写真感光材料
JPS59202461A (ja) 写真感光材料の製造方法
JPH10333276A (ja) 写真用途のための紙基材への大気圧グロー放電
JP2000246091A (ja) 基体の表面処理方法及びその装置並びに表面処理した基体
JP2000155388A (ja) 写真用支持体の大気圧グロ―放電処理方法
JPS60251962A (ja) 支持体へのコロナ放電処理装置
JPS5913536B2 (ja) 放電処理方法
JP6464880B2 (ja) ポリエステルフィルムおよびその製造方法
JP3340063B2 (ja) 芳香族系ポリエステルフィルムの製造方法
JPH02209349A (ja) ウエブロール装置
JPH11293011A (ja) 表面処理方法