JPH10101959A - ジスアゾ顔料組成物及び印刷インキ - Google Patents

ジスアゾ顔料組成物及び印刷インキ

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JPH10101959A
JPH10101959A JP20448797A JP20448797A JPH10101959A JP H10101959 A JPH10101959 A JP H10101959A JP 20448797 A JP20448797 A JP 20448797A JP 20448797 A JP20448797 A JP 20448797A JP H10101959 A JPH10101959 A JP H10101959A
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永年 小林
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貞幸 富岡
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茂人 青木
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インキや塗料に用いた場合に、高流動性と高
粘性を併せ持つジスアゾ顔料組成物、及びこの顔料組成
物を用いた印刷インキを提供すること。 【解決手段】 (1)ジスアゾ顔料、(2)水溶性基を
有する非対称型ジスアゾ化合物、及び(3)水素結合性
置換基を有する非対称型ジスアゾ化合物を含有するジス
アゾ顔料組成物、このジスアゾ顔料組成物を含有してな
る印刷インキ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジスアゾ顔料組成
物に関し、更に詳しくは、流動性及び粘性に優れたイン
キ及び塗料を調製できるジスアゾ顔料組成物、及びこの
ジスアゾ顔料組成物を含有してなる印刷インキに関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、ジスアゾ顔料を含有する印刷イン
キ及び塗料などの流動性、透明性を改良する方法とし
て、例えば、特公昭45−11026号公報には、ジス
アゾ顔料に、それらのスルホン酸化合物を混合する方法
が、特公昭55−49087号公報には、カップリング
成分としてカルボン酸基及び/またはスルホン酸基を有
する極性カップリング成分と非極性カップリング成分と
の混合物を使用して成るジスアゾ顔料を用いる方法が、
特開昭63−72762号公報及び特開昭63−178
169号公報には、極性カップリング成分と非極性カッ
プリング成分から成る非対称型ジスアゾ顔料組成物を用
いる方法が、それぞれ示されている。
【0003】非対称型ジスアゾ顔料は、特開昭63−7
2762号及び特開昭63−178169号において、
初めて選択的に製造する方法が開示されたものであっ
て、これ以前のジスアゾ顔料の製法では、特公昭55−
49087号公報に開示されているように、カルボン酸
基及び/またはスルホン酸基を有するアセトアセトアニ
リドの対称型ジスアゾ顔料と通常の対称型ジスアゾ顔料
の混合物が製造されていた。
【0004】また、ジスアゾ顔料の耐熱性(透明性)や
着色力を改良する方法として、水素結合性置換基を有す
るカップリング成分を通常のカップリング成分に混合し
て、ジスアゾ顔料を製造する方法、例えば、特公昭59
−19150号公報には、カルボンアミド基などを有す
るカップリング成分を通常のカップリング成分に混合し
て、ジスアゾ顔料を製造する方法が、特開昭55−89
356号公報には、アセチルアミノ基などを有するカッ
プリング成分を通常のカップリング成分に混合して、ジ
スアゾ顔料を製造する方法が、特開昭59−8761号
公報には、ベンツイミダゾロン基などを有するカップリ
ング成分を通常のカップリング成分に混合して、ジスア
ゾ顔料を製造する方法が、特開昭62−197460号
公報には、スルホンアミド基などを有するカップリング
成分を通常のカップリング成分に混合して、ジスアゾ顔
料を製造する方法などが開示されている。しかしなが
ら、これらの製造方法によるジスアゾ顔料の組成物は、
水素結合性置換基を有するアセトアセトアニリドの対称
型ジスアゾ顔料と通常の対称型ジスアゾ顔料の混合物、
または混晶(特公昭59−19150号公報)として考
えられており、非対称型ジスアゾ化合物の製造法や性能
効果は知られていなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術により、イ
ンキや塗料の流動性、耐熱性、着色力などは個別に解決
されてきた。特に、近年の印刷や塗装の高速化に伴っ
て、インキや塗料の流動性は著しく改善されたが、その
流動性の改善が、一方では、インキや塗料の粘性の低下
を引き起こした。粘性の低下に伴い、例えば、油性イン
キの粘性が低いと、網点の太りが生じ、印刷物の鮮明性
が損なわれたり、印刷時にミスチングというインキの飛
散現象が発生する、という実用上の問題が発生した。ま
た、リキッドインキでは、インキの浸透や拡散による
「にじみ」や「およぎ」が発生しやすくなる、という実
用上の問題が発生した。さらに、塗料においては、適当
な膜厚を保つことが困難になったり、塗装時の「たれ」
が出やすくなる、という実用上の問題が発生した。
【0006】このように、高い流動性を保ちながら、一
見、相反する性質である高い粘性を発現するジスアゾ顔
料は、今まで知られていなかった。
【0007】本発明が解決しようとする課題は、インキ
や塗料に用いた場合に、高流動性と高粘性を併せ持つジ
スアゾ顔料、及び高流動性と高粘性を併せ持つ印刷イン
キを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、高流動性
と高粘性を併せ持つジスアゾ顔料を開発すべく、鋭意研
究した結果、下記一般式(I)及び(II)で表される2
種類の非対称型のジスアゾ化合物をジスアゾ顔料に混合
することにより得られたジスアゾ顔料組成物、及びこの
ジスアゾ顔料組成物を含有してなる印刷インキが、これ
らの性能を満足すること等を見い出し、本発明を完成す
るに至った。
【0009】即ち、本発明は、 1. (1)ジスアゾ顔料、(2)一般式(I)
【0010】
【化4】
【0011】(式中、X及びYは、各々独立的に、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜
4のアルコキシル基を有するアルコキシカルボニル基を
表わすが、X及びYは同時に水素原子を表わすことはな
い。 Z1は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
を有していても良いフェニル基又はナフチル基を表わ
す。 Z2は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
を有していても良いフェニル基又はナフチル基であっ
て、カルボン酸基及び/又はスルホン酸基を1〜4個有
するフェニル基又はナフチル基を表わす。ただし、 Z2
において、カルボン酸基及び/又はスルホン酸基は、ア
ルカリ土類金属、アルミニウム、マグネシウム及び亜鉛
から成る群から選ばれる1種以上の金属の塩であっても
良い。)で表わされるジスアゾ化合物、及び(3)一般
式(II)
【0012】
【化5】
【0013】(式中、X及びYは、各々独立的に、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜
4のアルコキシル基を有するアルコキシカルボニル基を
表わすが、X及びYは同時に水素原子を表わすことはな
い。 Z1は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
を有していても良いフェニル基又はナフチル基を表わ
す。 Z3は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
を有していても良いフェニル基又はナフチル基であっ
て、カルボンアミド基、スルホンアミド基及びアセトア
ミノ基から成る群から選ばれる置換基を1〜4個有する
フェニル基もしくはナフチル基、又は、ベンツイミダゾ
ロン環残基もしくはフタルイミド環残基を表わす。)で
表わされるジスアゾ化合物を含有するジスアゾ顔料組成
物、
【0014】2. 一般式(I)中のX及びYが、各々
独立的に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4
のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は
炭素原子数1〜4のアルコキシル基を有するアルコキシ
カルボニル基(ただし、X及びYは同時に水素原子であ
ることはない。)、 Z1が、低級アルキル基、低級アル
コキシル基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシ
カルボニル基から成る群から選ばれる同一又は異なる1
〜4個の置換基を有していても良いフェニル基又はナフ
チル基、 Z2が、低級アルキル基、低級アルコキシル
基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニ
ル基から成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の
置換基を有していても良いフェニル基又はナフチル基で
あって、カルボン酸基及び/又はスルホン酸基を1〜4
個有するフェニル基又はナフチル基であり、かつ、一般
式(II)中のX及びYが、各々独立的に、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子
数1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜4のアル
コキシル基を有するアルコキシカルボニル基(ただし、
X及びYは同時に水素原子であることはない。)、 Z1
は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原
子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群
から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有して
いても良いフェニル基又はナフチル基、 Z3は、低級ア
ルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、水酸基
及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から選ばれ
る同一又は異なる1〜4個の置換基を有していても良い
フェニル基又はナフチル基であって、カルボンアミド
基、スルホンアミド基及びアセトアミノ基から成る群か
ら選ばれる置換基を1〜4個有するフェニル基又はナフ
チル基である上記1記載のジスアゾ顔料組成物、
【0015】3. 一般式(I)及び一般式(II)中の
X及びYが、各々独立的に、水素原子又は塩素原子(た
だし、X及びYは同時に水素原子であることはな
い。)、Z1が、1〜2個のメチル基又はメトキシ基を
有していても良いフェニル基、Z 2 が、水酸基又は塩素
原子を有していても良いフェニル基であって、カルボン
酸基又はスルホン酸基(ただし、これらはアルミニウム
塩であっても良い。)を有するフェニル基、かつ、 Z3
が、カルバモイル、アセトアミノ基又はスルファモイル
基を有するフェニル基、又は、ベンツイミダゾロン環残
基である上記1記載のジスアゾ顔料組成物、
【0016】4. 一般式(I)及び一般式(II)中の
X及びYが、各々独立的に、水素原子又は塩素原子(た
だし、X及びYは同時に水素原子であることはな
い。)、Z1が、1〜2個のメチル基又はメトキシ基を
有していても良いフェニル基、Z 2 が、水酸基を有して
いても良い、カルボン酸基(ただし、アルミニウム塩で
あっても良い。)を有するフェニル基、かつ、 Z3が、
カルバモイル基又はアセトアミノ基を有するフェニル基
である上記1記載のジスアゾ顔料組成物、
【0017】5. ジスアゾ顔料組成物の固形分中の一
般式(I)で表わされるジスアゾ化合物の含有割合が1
〜20重量%の範囲にあり、一般式(II)で表わされる
ジスアゾ化合物の含有割合が1〜20重量%の範囲にあ
る上記1〜4のいずれか1つに記載のジスアゾ顔料組成
物、
【0018】6. ジスアゾ顔料組成物の固形分中の一
般式(I)で表わされるジスアゾ化合物と一般式(II)
で表わされるジスアゾ化合物の合計の含有割合が4〜3
5重量%の範囲にあり、かつ、これらの重量比(I)/
(II)が30/70〜75/25の範囲である上記1〜
4のいずれか1つに記載のジスアゾ顔料組成物、
【0019】7. ジスアゾ顔料が、一般式(VII)
【0020】
【化6】
【0021】(式中、X及びYは、各々独立的に、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜
4のアルコキシル基を有するアルコキシカルボニル基を
表わすが、X及びYは同時に水素原子を表わすことはな
い。 Z1は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
を有していても良いフェニル基又はナフチル基を表わ
す。)で表わされるジスアゾ顔料である上記1〜6のい
ずれか1つに記載のジスアゾ顔料組成物、
【0022】8. 一般式(I)と一般式(II)と 一
般式(VII)中のX、Y及び Z1が、それぞれ同一であ
る上記7記載のジスアゾ顔料組成物、
【0023】9. ジスアゾ顔料が、CIピグメント番
号のY−12、Y−13、Y−14、Y−17、Y−5
5、Y−57及びY−81から成る群から選ばれる1種
以上の顔料である上記1〜6のいずれか1つに記載のジ
スアゾ顔料組成物、及び
【0024】10. 上記1〜9のいずれか1つに記載
のジスアゾ顔料組成物を含有してなることを特徴とする
印刷インキ、を提供するものである。
【0025】
【発明の実施の形態】本発明で使用する一般式(I)で
表わされるジスアゾ化合物は、例えば、以下の製造方法
に従って製造することができる。
【0026】即ち、一般式(III)
【0027】
【化7】
【0028】(式中、X及びYは、各々独立的に、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜
4のアルコキシル基を有するアルコキシカルボニル基を
表わすが、X及びYは同時に水素原子を表わすことはな
い。)で表わされる芳香族ジアミンを常法によりジアゾ
化したテトラゾ化物と、一般式(IV)
【0029】
【化8】CH3COCH2CONH−Z2 …(IV)
【0030】(式中、 Z2は、低級アルキル基、低級ア
ルコキシル基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキ
シカルボニル基から成る群から選ばれる同一又は異なる
1〜4個の置換基を有していても良いフェニル基又はナ
フチル基であって、カルボン酸基及び/又はスルホン酸
基を1〜4個有するフェニル基又はナフチル基を表わ
す。ただし、 カルボン酸基及び/又はスルホン酸基
は、アルカリ土類金属、アルミニウム、マグネシウム及
び亜鉛から成る群から選ばれる1種以上の金属の塩であ
っても良い。)で表わされるアセトアセトアミド系化合
物(以下、カップリング成分A2という)とを反応させ
た後、この反応生成物と、一般式(V)
【0031】
【化9】CH3COCH2CONH−Z1 …(V)
【0032】(式中、 Z1は、低級アルキル基、低級ア
ルコキシル基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキ
シカルボニル基から成る群から選ばれる同一又は異なる
1〜4個の置換基を有していても良いフェニル基又はナ
フチル基を表わす。)で表わされるアセトアセトアミド
系化合物(以下、カップリング成分A1という)と反応
させることにより、一般式(I)で表わされるジスアゾ
化合物を製造する方法である。
【0033】尚、本発明で使用する一般式(I)で表わ
されるジスアゾ化合物は、そのカルボン酸基及び/また
はスルホン酸基が、アルカリ土類金属、アルミニウム、
マグネシウム及び亜鉛から成る群から選ばれる金属の塩
となっていてもよい。
【0034】上記金属の塩は、例えば得られた一般式
(I)で表わされるジスアゾ化合物の懸濁液に、アルカ
リ土類金属、アルミニウム、マグネシウム及び亜鉛から
成る群から選ばれる金属の水可溶性金属塩、好ましくは
アルミニウムの水可溶性金属塩を、必要に応じて水溶液
として添加して反応させたのち、濾過・水洗すれば良
い。ここで用いる水可溶性金属塩としては、例えば塩化
カルシウム、塩化ストロンチウム、硝酸ストロンチウ
ム、塩化バリウム、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウ
ム(硫酸バンド)、塩化マグネシウム、塩化亜鉛等が挙
げられる。
【0035】これら一般式(I)で表わされるジスアゾ
化合物の中では、式中のX及びYが、各々独立的に、水
素原子又は塩素原子(ただし、X及びYは同時に水素原
子であることはない。)、 Z1が、1〜2個のメチル基
又はメトキシ基を有していても良いフェニル基、Z
2が、水酸基又は塩素原子を有していても良いフェニル
基であって、カルボン酸基又はスルホン酸基(ただし、
これらはアルミニウム塩であっても良い。)有するフェ
ニル基であるジスアゾ化合物が好ましく、更に、この中
でも、式中のX及びYが、各々独立的に、水素原子又は
塩素原子(ただし、X及びYは同時に水素原子であるこ
とはない。)、 Z1が、1〜2個のメチル基又はメトキ
シ基を有していても良いフェニル基、 Z2が、水酸基を
有していても良い、カルボン酸基(ただし、アルミニウ
ム塩であっても良い。)を有するフェニル基であるジス
アゾ化合物が特に好ましい。
【0036】本発明で使用する一般式(II)で表わされ
るジスアゾ化合物は、例えば、以下の製造方法に従って
製造することができる。
【0037】即ち、上記一般式(III)で表わされる芳
香族ジアミンを常法によりジアゾ化して得られるテトラ
ゾ化物と、一般式(VI)
【0038】
【化10】 CH3COCH2CONH−Z3 …(VI)
【0039】(式中、 Z3は、低級アルキル基、低級ア
ルコキシル基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキ
シカルボニル基から成る群から選ばれる同一又は異なる
1〜4個の置換基を有していても良いフェニル基又はナ
フチル基であって、カルボンアミド基、スルホンアミド
基及びアセトアミノ基から成る群から選ばれる置換基を
1〜4個有するフェニル基もしくはナフチル基、又は、
ベンツイミダゾロン環残基もしくはフタルイミド環残基
を表わす。)で表わされるアセトアセトアミド系化合物
(以下、カップリング成分A3という)とを反応させた
後、この反応生成物と、一般式(V)
【0040】
【化11】 CH3COCH2CONH−Z1 …(V)
【0041】(式中、 Z1は、低級アルキル基、低級ア
ルコキシル基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキ
シカルボニル基から成る群から選ばれる同一又は異なる
1〜4個の置換基を有していても良いフェニル基又はナ
フチル基を表わす。)で表わされるアセトアセトアミド
系化合物(カップリング成分A1)と反応させることに
より、一般式(II)で表わされるジスアゾ化合物を製造
する方法である。
【0042】これら一般式(II)で表わされるジスアゾ
化合物の中では、式中のX及びYが、各々独立的に、水
素原子又は塩素原子(ただし、X及びYは同時に水素原
子であることはない。)、 Z1が、1〜2個のメチル基
又はメトキシ基を有していても良いフェニル基、 Z
3が、カルバモイル基、アセトアミノ基又はスルファモ
イル基を有するフェニル基、又は、ベンツイミダゾロン
環残基であるジスアゾ化合物が好ましく、更に、この中
でも、式中のX及びYが、各々独立的に、水素原子又は
塩素原子(ただし、X及びYは同時に水素原子であるこ
とはない。)、 Z1が、1〜2個のメチル基又はメトキ
シ基を有していても良いフェニル基、 Z3が、カルバモ
イル基又はアセトアミノ基を有するフェニル基であるジ
スアゾ化合物が特に好ましい。
【0043】一般式(III)で表わされる芳香族ジアミ
ンとしては、 例えば、3,3′−ジクロロベンジジ
ン、3,3′−ジブロモベンジジン、2,2′−ジクロ
ロベンジジン、3,3′−ジメトキシベンジジン、3,
3′−ジメチルベンジジン、3,3′,6,6′−テト
ラクロロベンジジン、3,3′−ジメトキシカルボニル
ベンジジン、3,3′−ジブチルベンジジン、3,3′
−ジブトキシカルボニルベンジジン等が挙げられる。
【0044】一般式(IV)で表わされるアセトアセトア
ミド系化合物としては、例えば、2−アセトアセチルア
ミノベンゼンスルホン酸、3−アセトアセチルアミノベ
ンゼンスルホン酸、4−アセトアセチルアミノベンゼン
スルホン酸、2−アセトアセチルアミノ−5−メチルベ
ンゼンスルホン酸、2−アセトアセチルアミノ−4−ク
ロロ−5−メチルベンゼンスルホン酸、2−アセトアセ
チルアミノ−5−クロロ−4−メチルベンゼンスルホン
酸、4−アセトアセチルアミノ−2,5−ジクロロベン
ゼンスルホン酸、2−アセトアセチルアミノナフタレン
スルホン酸、アセトアセチルアミノメタンスルホン酸、
アセトアセチルアミノエタンスルホン酸、2−アセトア
セチルアミノ安息香酸、3−アセトアセチルアミノ安息
香酸、4−アセトアセチルアミノ安息香酸、3−アセト
アセチルアミノ−4−クロロ安息香酸、2−アセトアセ
チルアミノ−5−ブロモ安息香酸、3−アセトアセチル
アミノ−4−メトキシ安息香酸、2−アセトアセチルア
ミノ−5−クロロ安息香酸、2−アセトアセチルアミノ
テレフタル酸、3−アセトアセチルアミノイソフタル
酸、4−アセトアセチルアミノ−2−ヒドロキシ安息香
酸、5−アセトアセチルアミノ−2−ヒドロキシ安息香
酸等が挙げられる。
【0045】一般式(V)で表わされるアセトアセトア
ミド系化合物としては、例えば、アセトアセトアニリ
ド、アセトアセト−o−トルイジド、アセトアセト−p
−トルイジド、アセトアセト−m−キシリダイド、アセ
トアセト−o−クロロアニリド、アセトアセト−p−ブ
ロモアニリド、アセトアセト−o−アニシダイド、アセ
トアセト−p−アニシジド、アセトアセト−4−クロロ
−2,5−ジメトキシアニリド、アセトアセト−4−エ
チルアニリド、1−アセトアセチルアミノナフタレン等
が挙げられる。
【0046】一般式(VI)で表わされるアセトアセトア
ミド系化合物としては、例えば、4−アセトアセチルア
ミノベンズアミド、4−アセトアセチルアミノベンゼン
スルホンアミド、3−アセトアセチルアミノ−4−クロ
ロベンズアミド、3−アセトアセチルアミノ−4−メチ
ルベンズアミド、4−アセトアセチルアミノアセトアニ
リド、5−アセトアセチルアミノベンズイミダゾロン、
4−アセトアセチルアミノフタルイミド等が挙げられ
る。
【0047】本発明で使用するジスアゾ顔料としては、
例えば、一般式(VII)
【0048】
【化12】
【0049】(式中、X及びYは、各々独立的に、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜
4のアルコキシル基を有するアルコキシカルボニル基を
表わすが、X及びYは同時に水素原子を表わすことはな
い。 Z1は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
を有していても良いフェニル基又はナフチル基を表わ
す。)で表わされるジスアゾ顔料が挙げられる。
【0050】また、本発明で使用するジスアゾ顔料を
C.I.ピグメント番号により例示すると、Y−12、
Y−13、Y−14、Y−16、Y−17、Y−55、
Y−57、Y−81、Y−83、Y−113、O−1
5、O−16等が挙げられ、なかでもY−12、Y−1
3、Y−14、Y−17、Y−55、Y−57、Y−8
1が好ましい。
【0051】ジスアゾ顔料、一般式(I)で表わされる
ジスアゾ化合物及び一般式(II)で表わされるジスアゾ
化合物を含有する本発明のジスアゾ顔料組成物は、 常法により合成されたジスアゾ顔料に、一般式(I)
で表わされるジスアゾ化合物と一般式(II)で表わされ
るジスアゾ化合物とを混合し、ウエット顔料またはパウ
ダー顔料として取り出す方法、 インキまたは塗料などを調製する際に、それぞれ別々
に保存しておいた、常法により合成されたジスアゾ顔
料、一般式(I)で表わされるジスアゾ化合物、一般式
(II)で表わされるジスアゾ化合物を順次混合する方
法、 ジスアゾ顔料と一般式(I)で表わされるジスアゾ化
合物と一般式(II)で表わされるジスアゾ化合物とを同
時に合成する方法などの方法によって製造することがで
きる。
【0052】上記の方法は、具体的には、 一般式(I
II)で表わされる芳香族ジアミンのテトラゾ化物とカッ
プリング成分A2との反応中間物と、 一般式(III)で
表わされる芳香族ジアミンのテトラゾ化物とカップリン
グ成分A3との反応中間物とを混合した後、あるいは混
合せずに同時に添加してカップリング成分A1と反応さ
せることより、ジスアゾ顔料組成物を得る方法である。
尚、 一般式(III)で表わされる芳香族ジアミンのテト
ラゾ化物とカップリング成分A2との反応中間物と、カ
ップリング成分A1を反応させて得た顔料組成物と、
一般式(III)で表わされる芳香族ジアミンのテトラゾ
化物とカップリング成分A3との反応中間物と、カップ
リング成分A1を反応させて得た顔料組成物とを混合す
る方法でも良い。
【0053】上記の方法では、一般式(I)で表わさ
れるジスアゾ化合物と一般式(II)で表わされるジスア
ゾ化合物の本発明のジスアゾ顔料組成物の固形分中での
含有率が、後記する範囲になるように、カップリング成
分A2とカップリング成分A3とカップリング成分A1
の使用比率を適宜選択する必要がある。
【0054】上記〜の方法の中では、一般式(I)
で表わされるジスアゾ化合物と、一般式(II)で表わさ
れるジスアゾ化合物とが、ジスアゾ顔料中に良好に微分
散した効果の高いジスアゾ顔料組成物が容易に得られる
ことから、の方法が特に好ましい。
【0055】本発明のジスアゾ顔料組成物の製造に際し
ては、ジスアゾ顔料、一般式(I)で表わされるジスア
ゾ化合物及び一般式(II)で表わされるジスアゾ化合物
として、共通骨格を有しているもの、例えば一般式中の
X、Y及び Z1がそれぞれ同一となるように、一般式
(VII)で表わされるジスアゾ顔料と、一般式(I)で
表わされるジスアゾ化合物と、一般式(II)で表わされ
るジスアゾ化合物とを選択して用いると、分散が容易で
効果が高いことから好ましい。
【0056】本発明のジスアゾ顔料組成物中のジスアゾ
顔料、一般式(I)で表わされるジスアゾ化合物及び一
般式(II)で表わされるジスアゾ化合物との含有比率
は、高流動性と高粘性を併せ持つジスアゾ顔料組成物を
得る上で重要である。本発明のジスアゾ顔料組成物の固
形分中の一般式(I)で表わされるジスアゾ化合物の含
有割合は、0.5〜49重量%の範囲が好ましく、原料
コストを考慮すると、1〜20重量%の範囲が特に好ま
しい。ジスアゾ顔料組成物中の一般式(I)で表わされ
るジスアゾ化合物の含有割合が0.5重量%よりも低い
場合、得られたインキ又は塗料の流動性が低くなる傾向
にあり、49重量%よりも高い場合、得られたインキ又
は塗料の粘性が低くなる傾向にある。また、本発明のジ
スアゾ顔料組成物の固形分中の一般式(II)で表わされ
るジスアゾ化合物の含有割合は、0.5〜49重量%の
範囲が好ましく、原料コスト考慮すると、1〜20重量
%の範囲が特に好ましい。ジスアゾ顔料組成物中の一般
式(II)で表わされるジスアゾ化合物の含有比率が0.
5重量%よりも低い場合、得られたインキ又は塗料の粘
性が低くなる傾向にあり、49重量%よりも高い場合、
得られたインキ又は塗料の流動性が低くなる傾向にあ
る。
【0057】本発明のジスアゾ顔料組成物の固形分中に
おいて、一般式(I)で表わされるジスアゾ化合物と一
般式(II)で表わされるジスアゾ化合物の合計の含有割
合は、1〜49重量%以下の範囲が好ましく、なかでも
4〜35重量%の範囲が特に好ましい。また、一般式
(I)で表わされるジスアゾ化合物と一般式(II)で表
わされるジスアゾ化合物の重量比(I)/(II)は、2
0/80〜80/20の範囲が好ましく、なかでも30
/70〜75/25の範囲が特に好ましい。
【0058】本発明のジスアゾ顔料組成物は、印刷イン
キ用ビヒクルと混練されて印刷インキに使用することが
できる。
【0059】オフセットインキ用ビヒクルは,例えば、
ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、アルキッド樹脂
又はこれら乾性油変性樹脂等の樹脂と、必要に応じて、
アマニ油、桐油、大豆油等の植物油と、n−パラフィ
ン、イソパラフィン、芳香族炭化水素系混合溶剤、ナフ
テン、α−オレフィン等の溶剤から成るものであって、
それらの混合割合は、重量比で、樹脂:植物油:溶剤=
20〜50部:0〜30部:10〜60部の範囲が好ま
しい。
【0060】本発明のジスアゾ顔料組成物を配合したオ
フセットインキ用ビヒクルは、必要に応じて、インキ溶
剤、ドライヤー、レベリング改良剤、増粘剤等の公知の
添加剤を適宜配合して印刷インキと成る。
【0061】また、グラビアインキ用ビヒクルは、ガム
ロジン、ウッドロジン、トール油ロジン、石灰化ロジ
ン、ライムロジン、ロジンエステル、マレイン酸樹脂、
ギルソナイト、ダンマル、セラック、ポリアミド樹脂、
ビニル樹脂、ニトロセルロース、環化ゴム、塩化ゴム、
エチルセルロース、酢酸セルロース、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
アルキッド樹脂等の樹脂混合物と、n−ヘキサン、トル
エン、エタノール、メタノール、アセトン、酢酸エチ
ル、乳酸エチル、セロソルブ、ジアセトンアルコール、
クロルベンゾール、エチルエーテル、アセタールエチル
エーテル、アセト酢酸エチル、酢酸ブチルセロソルブ等
の溶剤から成るものであって、それらの混合割合は、重
量比で、樹脂混合物:溶剤=10〜50部:30〜80
部の範囲が好ましい。
【0062】本発明のジスアゾ顔料組成物を配合したグ
ラビアインキ用ビヒクルは、必要に応じて、硫酸バリウ
ム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、セッコウ、アルミ
ナ白、クレー、シリカ、シリカ白、タルク、ケイ酸カル
シウム、沈降性炭酸マグネシウム等の体質顔料の他、補
助剤として、可塑剤、紫外線防止剤、酸化防止剤、帯電
防止剤等の適宜配合して印刷インキと成る。
【0063】
【実施例】以下、実施例、比較例及び試験例を用いて本
発明を更に詳細に説明するが、本発明は、これらの実施
例に限定されるものではない。なお、以下の例中におけ
る「部」および「%」は、特に断りのない限り、いずれ
も重量基準である。
【0064】<実施例1> 式(1)
【0065】
【化13】
【0066】で表わされる3,3′−ジクロロベンジジ
ン150部に相当する量の3,3′−ジクロロベンジジ
ン塩酸塩のウエットケーキ、35%塩酸186部、水1
500部及び氷750部を混合撹拌した後、氷浴下、亜
硝酸ナトリウム86部の水溶液を加えて、3,3′−ジ
クロロベンジジンのテトラゾ溶液を得た。この3,3′
−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液中に、式(2)
【0067】
【化14】
【0068】で表わされる2−アセトアセチルアミノ安
息香酸16.5部を添加し、3時間撹拌を続けて、反応
中間物(A1)を得た。
【0069】別途、式(1)で表わされる3,3′−ジ
クロロベンジジン150部に相当する量の3,3′−ジ
クロロベンジジン塩酸塩のウエット、35%塩酸186
部、水1500部及び氷750部を混合撹拌した後、氷
浴下、亜硝酸ナトリウム86部の水溶液を加えて、3,
3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液を得た。この
3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液中に、式
(3)
【0070】
【化15】
【0071】で表わされる4−アセトアセチルアミノベ
ンズアミド16.4部を添加し、3時間撹拌を続けて、
反応中間物(B1)を得た。
【0072】次に、式(4)
【0073】
【化16】
【0074】で表わされるアセトアセトアニリド41
4.3部、25%水酸化ナトリウム水溶液546.4部
及び水7200部を混合撹拌して溶解した後、90%酢
酸228部及び水1000部から成る希酢酸を1時間か
けて滴下して、結晶を析出させて反応中間物(C1)を
得た。
【0075】反応中間物(A1)と反応中間物(B1)
とを等速度で滴下できるように供給ポンプを設定し、液
温を5〜10℃に調整しながら、3時間かけて、これら
を反応中間物(C1)に滴下して顔料スラリーを得た。
滴下終了後、さらに1時間撹拌を続けた後、80℃まで
加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗し
て、本発明のジスアゾ顔料組成物の顔料ウエットを得
た。以下、これを実施例ウエット1とする。
【0076】なお、実施例ウエット1を一部乾燥させ、
FD/MS測定をした結果、m/z=628、m/z=
672およびm/z=671に分子イオンに起因するピ
ークを有していたので、実施例ウエット1には、式(P
−1)
【0077】
【化17】
【0078】で表わされるジスアゾ顔料(C.I.ピグ
メント Y−12)、式(I−1)
【0079】
【化18】
【0080】で表わされるジスアゾ化合物(一般式
(I)で表わされる化合物に相当)、及び式(II−1)
【0081】
【化19】
【0082】で表わされるジスアゾ化合物(一般式(I
I)で表わされる化合物に相当)が生成していることが
確認できた。また、得られたジスアゾ顔料組成物の固形
分中の式(I−1)で表わされるジスアゾ化合物と式
(II−1)で表わされるジスアゾ化合物の含有割合は、
それぞれ6%及び6%であった。
【0083】<比較例1>式(1)で表わされる3,
3′−ジクロロベンジジン300部に相当する量の3,
3′−ジクロロベンジジン塩酸塩のウエット、35%塩
酸372部、水3000部及び氷1500部とを混合撹
拌した後、氷浴下、亜硝酸ナトリウム172部の水溶液
を加えて、3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶
液を得た。この3,3′−ジクロロベンジジンのテトラ
ゾ溶液中に、式(2)で表わされる2−アセトアセチル
アミノ安息香酸16.5部を添加し、3時間撹拌を続け
て、反応中間物(a1)を得た。
【0084】式(4)で表わされるアセトアセトアニリ
ド427.5部、25%水酸化ナトリウム水溶液54
6.4部及び水7200部を混合撹拌して溶解した後、
90%酢酸228部及び水1000部から成る希酢酸を
1時間かけて滴下して、結晶を析出させて反応中間物
(c1)を得た。
【0085】反応中間物(a1)を等速度で滴下できる
ように供給ポンプを設定し、3時間かけて、液温を5〜
10℃に調整しながら、反応中間物(c1)に滴下して
顔料スラリーを得た。さらに1時間撹拌を続けた後、8
0℃まで加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣
を水洗して、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料及
び式(I−1)で表わされるジスアゾ化合物を含有する
顔料ウエットを得た。また、得られた顔料ウエットの固
形分中の式(I−1)で表わされるジスアゾ化合物の含
有割合は、6%であった。以下、これを比較例ウエット
1とする。
【0086】<比較例2>式(1)で表わされる3,
3′−ジクロロベンジジン300部に相当する量の3,
3′−ジクロロベンジジン塩酸塩のウエット、35%塩
酸372部、水3000部及び氷1500部を混合撹拌
した後、氷浴下、亜硝酸ナトリウム172部からなる水
溶液を加えて、3,3′−ジクロロベンジジンのテトラ
ゾ溶液を得た。この3,3′−ジクロロベンジジンのテ
トラゾ溶液中に、式(3)で表わされる4−アセトアセ
チルアミノベンズアミド16.4部を添加し、3時間撹
拌を続けて、反応中間物(b2)を得た。
【0087】式(4)で表されるアセトアセトアニリド
427.5部、25%水酸化ナトリウム水溶液546.
4部及び水7200部を混合撹拌して溶解した後、90
%酢酸228部及び水1000部から成る希酢酸を1時
間かけて滴下して、結晶を析出させて反応中間物(c
2)を得た。
【0088】反応中間(b2)を等速度で滴下できるよ
うに供給ポンプを設定し、3時間かけて、液温を5〜1
0℃に調整しながら、反応中間物(c2)に滴下して顔
料スラリーを得た。さらに1時間撹拌を続けた後、80
℃まで加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を
水洗して、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料及び
式(II−1)で表わされるジスアゾ化合物を含有する顔
料ウエットを得た。また、得られた顔料ウエットの固形
分中の式(II−1)で表わされるジスアゾ化合物の含有
割合は、6%であった。以下、これを比較例ウエット2
とする。
【0089】<実施例2>実施例1において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸16.
5部に代えて、式(5)
【0090】
【化20】
【0091】で表わされる5−アセトアセチルアミノ−
2−ヒドロキシ安息香酸35.4部を使用し、式(3)
で表わされる4−アセトアセチルアミノベンズアミドの
使用量を16.4部から43.8部に増量し、式(4)
で表わされるアセトアセトアニリドの使用量を414.
3部から379.1部に減量した以外は、実施例1と同
様にして、本発明のジスアゾ顔料組成物の顔料ウエット
を得た。以下、これを実施例ウエット2とする。
【0092】なお、実施例ウエット2を一部乾燥させ、
FD/MS測定をした結果、m/z=628、m/z=
688およびm/z=671に分子イオンに起因するピ
ークを有していたので、実施例ウエット2には、式(P
−1)で表わされるジスアゾ顔料(C.I.ピグメント
Y−12)、式(I−2)
【0093】
【化21】
【0094】で表わされるジスアゾ化合物(一般式
(I)で表わされる化合物に相当)、式(II−1)で表
わされるジスアゾ化合物(一般式(II)で表わされる化
合物に相当)が生成していることが確認できた。また、
得られたジスアゾ顔料組成物の固形分中の式(I−2)
で表わされるジスアゾ化合物と式(II−1)で表わされ
るジスアゾ化合物の含有割合は、それぞれ13%及び1
7%であった。
【0095】<比較例3>比較例1において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸16.
5部に代えて、式(5)で表わされる5−アセトアセチ
ルアミノ−2−ヒドロキシ安息香酸35.4部を使用
し、アセトアセトアニリドの使用量を427.5部から
414.3部に減量した以外は、比較例1と同様にし
て、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料及び式(I
−2)で表わされるジスアゾ化合物を含有する顔料ウエ
ットを得た。また、得られた顔料ウエットの固形分中の
式(I−2)で表わされるジスアゾ化合物の含有割合
は、13%であった。以下、これを比較例ウエット3と
する。
【0096】<比較例4>比較例2において、4−アセ
トアセチルアミノベンズアミドの使用量を16.4部か
ら43.8部に増量し、アセトアセトアニリドの使用量
を427.5部からアセトアセトアニリド405.5部
に減量した以外は、比較例2と同様にして、式(P−
1)で表わされるジスアゾ顔料及び式(II−1)で表わ
されるジスアゾ化合物を含有する顔料ウエットを得た。
また、得られた顔料ウエットの固形分中の式(II−1)
で表わされるジスアゾ化合物の含有割合は、17%であ
った。以下、これを比較例ウエット4とする。
【0097】<実施例3>実施例1において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸の使用
量を16.5部から33部に増量し、式(3)で表わさ
れる4−アセトアセチルアミノベンズアミド16.4部
に代えて、式(6)
【0098】
【化22】
【0099】で表わされる5−アセトアセチルアミノベ
ンズイミダゾロン17.4部を使用し、アセトアセトア
ニリドの使用量を414.3部から401.1部に減量
した以外は、実施例1と同様にして、式(P−1)で表
わされるジスアゾ顔料(C.I.ピグメント Y−1
2)、式(I−1)で表わされるジスアゾ化合物(一般
式(I)で表わされる化合物に相当)、及び式(II−
2)
【0100】
【化23】
【0101】で表わされるジスアゾ化合物(一般式(I
I)で表わされる化合物に相当)を含有する本発明のジ
スアゾ顔料組成物の顔料ウエットを得た。また、得られ
たジスアゾ顔料組成物の固形分中の式(I−1)で表わ
されるジスアゾ化合物と式(II−2)で表わされるジス
アゾ化合物の含有割合は、それぞれ13%及び6%であ
った。以下、これを実施例ウエット3とする。
【0102】<比較例5>比較例1において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸の使用
量を16.5部から33部に増量し、式(4)で表わさ
れるアセトアセトアニリドの使用量を427.5部から
414.3部に減量した以外は、比較例1と同様にし
て、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料及び式(I
−1)で表わされるジスアゾ化合物を含有する顔料ウエ
ットを得た。また、得られた顔料ウエットの固形分中の
式(I−1)で表わされるジスアゾ化合物の含有割合
は、13%であった。以下、これを比較例ウエット5と
する。
【0103】<比較例6>比較例2において、式(3)
で表わされる4−アセトアセチルアミノベンズアミド1
6.4部に代えて、式(6)で表わされる5−アセトア
セチルアミノベンズイミダゾロン17.4部を使用した
以外は、比較例2と同様にして、式(P−1)で表わさ
れるジスアゾ顔料及び式(II−2)で表わされるジスア
ゾ化合物を含有する顔料ウエットを得た。また、得られ
た顔料ウエットの固形分中の式(II−2)で表わされる
ジスアゾ化合物の含有割合は、6%であった。以下、こ
れを比較例ウエット6とする。
【0104】<実施例4>実施例1で得た顔料スラリー
を、さらに1時間撹拌した後、水酸化ナトリウム水溶液
を用いてpH8に調整した。これに、ロジンのナトリウ
ム溶液(ロジン換算で40部)を添加した後、80℃ま
で加熱し、同温度で1時間加熱した後、硫酸バンド36
部を添加した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水
洗して、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料、式
(I−1)で表わされるジスアゾ化合物のアルミニウム
塩及び式(II−1)で表わされるジスアゾ化合物を含有
する本発明のジスアゾ顔料組成物の顔料ウエットを得
た。また、得られたジスアゾ顔料組成物の固形分中の式
(I−1)で表わされるジスアゾ化合物のアルミニウム
塩と式(II−1)で表わされるジスアゾ化合物の含有割
合は、それぞれ6%及び6%であった。以下、これを実
施例ウエット4とする。
【0105】<比較例7>比較例1で得た顔料スラリー
を、さらに1時間撹拌した後、水酸化ナトリウム水溶液
を用いてpH8に調整した。これに、ロジンのナトリウ
ム溶液(ロジン換算で40部)を添加した後、80℃ま
で加熱し、同温度で1時間加熱した後、硫酸バンド36
部を添加した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水
洗して、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料及び式
(I−1)で表わされるジスアゾ化合物のアルミニウム
塩を含有する顔料ウエットを得た。また、得られた顔料
ウエットの固形分中の式(I−1)で表わされるジスア
ゾ化合物のアルミニウム塩の含有割合は、6%であっ
た。以下、これを比較例ウエット7とする。
【0106】<比較例8>比較例2で得た顔料スラリー
を、さらに1時間撹拌した後、水酸化ナトリウム水溶液
を用いてpH8に調整した。これに、ロジンのナトリウ
ム溶液(ロジン換算で40部)を添加した後、80℃ま
で加熱し、同温度1時間加熱した後、硫酸バンド36部
を添加した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗
して、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔料及び式
(II−1)で表わされるジスアゾ化合物を含有する顔料
ウエットを得た。また、得られた顔料ウエットの固形分
中の式(II−1)で表わされるジスアゾ化合物の含有割
合は、6%であった。以下、これを比較例ウエット8と
する。
【0107】<実施例5>実施例1において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸16.
5部に代えて、式(7)
【0108】
【化24】
【0109】で表わされる4−アセトアセチルアミノベ
ンゼンスルホン酸22.1部を使用した以外は、実施例
1と同様にして、式(P−1)で表わされるジスアゾ顔
料(C.I. ピグメント Y−12)、式(I−3)
【0110】
【化25】
【0111】で表わされるジスアゾ化合物(一般式
(I)で表わされる化合物に相当)、及び式(II−1)
で表わされるジスアゾ化合物(一般式(II)で表わされ
る化合物に相当)を含有する顔料スラリーを得た。
【0112】この顔料スラリーを、さらに1時間撹拌し
た後、硫酸バンド20部を添加した。この混合物に水酸
化ナトリウム水溶液を加えてpH5に調整した後、80
℃まで加熱した。得られた反応混合物を濾過し、濾取し
た残渣を水洗して、本発明のジスアゾ顔料組成物の顔料
ウエットを得た。また、得られたジスアゾ顔料組成物の
固形分中の式(I−3)で表わされるジスアゾ化合物の
アルミニウム塩と式(II−1)で表わされる化合物の含
有割合は、それぞれ7%及び6%であった。以下、これ
を実施例ウエット5とする。
【0113】<比較例9>比較例1において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸16.
5部に代えて、式(7)で表わされる4−アセトアセチ
ルアミノベンゼンスルホン酸22.1部を使用した以外
は、比較例1と同様にして、式(P−1)で表わされる
ジスアゾ顔料及び式(I−3)で表わされるジスアゾ化
合物を含有する顔料スラリーを得た。また、得られた顔
料スラリーの固形分中の式(I−3)で表わされるジス
アゾ化合物の含有割合は、7%であった。
【0114】この顔料スラリーを、さらに1時間撹拌し
た後、硫酸バンド20部を添加した。この混合物に水酸
化ナトリウム水溶液を加えてpH5に調整した後、80
℃まで加熱した。得られた反応混合物を濾過し、濾取し
た残渣を水洗して、顔料ウエットを得た。以下、これを
比較例ウエット9とする。
【0115】<比較例10>比較例2で得た顔料スラリ
ーを、さらに1時間撹拌した後、硫酸バンド20部を添
加した。この混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて
pH5に調整した後、80℃まで加熱した。得られた反
応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗して、式(P−
1)で表わされるジスアゾ顔料及び式(II−1)で表わ
されるジスアゾ化合物を含有する顔料スラリーを得た。
また、得られた顔料スラリーの固形分中の式(II−1)
で表わされるジスアゾ化合物の含有割合は、6%であっ
た。以下、これを比較例ウエット10とする。
【0116】<実施例6>式(1)で表わされる3,
3′−ジクロロベンジジン150部に相当する量の3,
3′−ジクロロベンジジン塩酸塩のウエット、35%塩
酸186部、水1500部及び氷750部を混合撹拌し
た後、氷浴下、亜硝酸ナトリウム86部の水溶液を加え
て、3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液を得
た。この3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液
中に、式(2)で表わされる2−アセトアセチルアミノ
安息香酸27.5部を添加した後、3時間撹拌を続け
て、反応中間物(A6)を得た。
【0117】式(8)
【0118】
【化26】
【0119】で表わされるアセトアセト−m−キシリダ
イド230部、25%水酸化ナトリウム水溶液273.
2部、水3600部を混合撹拌して溶解した後、90%
酢酸114部及び水500部から成る希酢酸を1時間か
けて滴下して、結晶を析出させて反応中間物(C61)
を得た。
【0120】反応中間物(A6)を等速度で滴下できる
ように供給ポンプを設定し、液温を5〜10℃に調整し
ながら、3時間かけて、反応中間物(C61)に滴下し
た。滴下終了後、さらに1時間撹拌した後、80℃まで
加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗
し、乾燥させて、式(P−2)
【0121】
【化27】
【0122】で表わされるジスアゾ顔料(C.I. ピ
グメント Y−13)320部、及び式(I−4)
【0123】
【化28】
【0124】で表されるジスアゾ化合物(一般式(I)
で表わされる化合物に相当)83部を含有するパウダー
顔料(P1)を得た。
【0125】別途、3,3′−ジクロロベンジジン15
0部に相当する量の3,3′−ジクロロベンジジン塩酸
塩のウエット、35%塩酸186部、水1500部及び
氷750部を混合撹拌した後、氷浴下、亜硝酸ナトリウ
ム86部の水溶液を加えて、3,3′−ジクロロベンジ
ジンのテトラゾ溶液を得た。この3,3′−ジクロロベ
ンジジンのテトラゾ溶液中に、式(3)で表わされる4
−アセトアセチルアミノベンズアミド8.2部を添加し
た後、3時間撹拌を続けて、反応中間物(B6)を得
た。
【0126】式(8)で表わされるアセトアセト−m−
キシリダイド247.6部、25%水酸化ナトリウム水
溶液273.2部及び水3600部を混合撹拌して溶解
した後、90%酢酸114部及び水500部から成る希
酢酸を1時間かけて滴下して、結晶を析出させて反応中
間物(C62)を得た。
【0127】反応中間物(B6)を等速度で滴下できる
ように供給ポンプを設定し、液温を5〜10℃に調整し
ながら、3時間かけて、反応中間物(C62)に滴下し
た。滴下終了後、さらに1時間撹拌した後、80℃まで
加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗
し、乾燥させて、式(P−2)で表わされるジスアゾ顔
料380部及び式(II−3)
【0128】
【化29】
【0129】で表わされるジスアゾ化合物(一般式(I
I)で表わされる化合物に相当)25部を含有するパウ
ダー顔料(P2)を得た。
【0130】パウダー顔料(P1)とパウダー顔料(P
2)とを混合して、本発明に係るジスアゾ顔料組成物の
顔料パウダーを得た。以下、これを実施例パウダー6と
する。
【0131】<比較例11>式(1)で表わされる3,
3′−ジクロロベンジジン150部に相当する量の3,
3′−ジクロロベンジジン塩酸塩のウエット、35%塩
酸186部、水1500部及び氷750部を混合撹拌し
た後、氷浴下、亜硝酸ナトリウム86部の水溶液を加え
て、3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液を得
た。この3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液
中に、式(2)で表わされる2−アセトアセチルアミノ
安息香酸27.5部を添加した後、3時間撹拌して、反
応中間物(a11)を得た。
【0132】式(8)で表わされるアセトアセト−m−
キシリダイド230部、25%水酸化ナトリウム水溶液
273.2部及び水3600部を混合撹拌して溶解した
後、90%酢酸114部及び水500部から成る希酢酸
を1時間かけて滴下して、結晶を析出させた。以下、こ
れを反応中間物(c11)とする。
【0133】反応中間物(a11)を等速度で滴下でき
るように供給ポンプを設定し、液温を5〜10℃に調整
しながら、3時間かけて、反応中間物(c11)に滴下
した。滴下終了後、さらに1時間撹拌した後、80℃ま
で加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗
し、乾燥させて、式(P−2)で表わされるジスアゾ顔
料320部及び式(I−4)で表わされるジスアゾ化合
物83部を含有するパウダー顔料を得た。以下、これを
比較例パウダー11とする。
【0134】<比較例12>式(1)で表わされる3,
3′−ジクロロベンジジン150部に相当する量の3,
3′−ジクロロベンジジン塩酸塩のウエット、35%塩
酸186部、水1500部及び氷750部を混合撹拌し
た後、氷浴下、亜硝酸ナトリウム86部の水溶液を加え
て、3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液を得
た。この3,3′−ジクロロベンジジンのテトラゾ溶液
中に、式(3)で表わされる4−アセトアセチルアミノ
ベンズアミド8.2部を添加した後、3時間撹拌して、
反応中間物(b12)を得た。
【0135】式(8)で表わされるアセトアセト−m−
キシリダイド247.6部、25%水酸化ナトリウム水
溶液273.2部及び水3600部を混合撹拌して溶解
した後、90%酢酸114部及び水500部から成る希
酢酸を1時間かけて滴下して、結晶を析出させた。以
下、反応中間物(c12)という。
【0136】反応中間物(b12)を等速度で滴下でき
るように供給ポンプを設定し、液温を5〜10℃に調整
しながら、3時間かけて、反応中間物(c12)に滴下
した。滴下終了後、さらに1時間撹拌した後、80℃ま
で加熱した。反応混合物を濾過し、濾取した残渣を水洗
し、乾燥させて、式(P−2)で表わされるジスアゾ顔
料380部及び式(II−3)で表わされるジスアゾ化合
物25部を含有するパウダー顔料を得た。以下、これを
比較例パウダー12とする。
【0137】<実施例7>実施例6において、式(2)
で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸27.
5部に代えて、式(9)
【0138】
【化30】
【0139】で表わされる3−アセトアセチルアミノ−
4−クロロ安息香酸31.8部を使用し、式(8)で表
わされるアセトアセト−m−キシリダイド230部に代
えて、式(10)
【0140】
【化31】
【0141】で表わされるアセトアセト−o−アニシダ
イド232.5部を使用し、式(3)で表わされる4−
アセトアセチルアミノベンズアミド8.2部に代えて、
式(11)
【0142】
【化32】
【0143】で表わされる4−アセトアセチルアミノア
セトアニリド8.7部を使用し、式(8)で表わされる
アセトアセト−m−キシリダイド247.6部に代え
て、式(10)で表わされるアセトアセト−o−アニシ
ダイド250.3部を使用した以外は、実施例6と同様
にして、式(P−3)
【0144】
【化33】
【0145】で表わされるジスアゾ顔料(C.I. ピ
グメント Y−17)705部、式(I−5)
【0146】
【化34】
【0147】で表わされるジスアゾ化合物(一般式
(I)で表わされる化合物に相当)91部、及び式(II
−5)
【0148】
【化35】
【0149】で表わされるジスアゾ化合物(一般式(I
I)で表わされる化合物に相当)26部を含有する本発
明のジスアゾ顔料組成物の顔料パウダーを得た。以下、
これを実施例パウダー7とする。
【0150】<比較例13>比較例11において、式
(2)で表わされる2−アセトアセチルアミノ安息香酸
27.5部に代えて、式(9)で表わされる3−アセト
アセチルアミノ−4−クロロ安息香酸31.8部を使用
し、式(8)で表わされるアセトアセト−m−キシリダ
イド230部に代えて、式(10)で表わされるアセト
アセト−o−アニシダイド232.5部を使用した以外
は、比較例11と同様にして、式(P−3)で表わされ
るジスアゾ顔料322部及び式(I−5)で表わされる
ジスアゾ化合物91部を含有するパウダー顔料を得た。
以下、これを比較例パウダー13とする。
【0151】<比較例14>比較例12において、式
(3)で表わされる4−アセトアセチルアミノベンズア
ミド8.2部に代えて、式(11)で表わされる4−ア
セトアセチルアミノアセトアニリド8.7部を使用し、
式(8)で表わされるアセトアセト−m−キシリダイド
247.6部に代えて、式(10)で表わされるアセト
アセト−o−アニシダイド250.3部を使用した以外
は、比較例12と同様にして、式(P−3)で表わされ
るジスアゾ顔料382部及び式(II−5)で表わされる
ジスアゾ化合物26部を含有するパウダー顔料を得た。
以下、これを比較例パウダー14とする。
【0152】<試験例1>以下の方法により、実施例1
〜5及び比較例1〜10で得た各顔料ウエットをインキ
化した。
【0153】フラッシャーに60℃に加熱した平版イン
キ用途ワニス(大日本インキ化学工業(株)製のロジン変
性フェノール樹脂を含有するワニス)300部を添加し
た後、顔料固形分換算で100部に相当する顔料ウエッ
トを添加し、30分間混練しながらフラッシングを行な
った。遊離した水を除いた後、真空脱水しながら、フラ
ッシャー温度を80℃に昇温し、水分を除去した。水分
が除去されたのを確認した後、平版インキ用途ワニス
(大日本インキ化学工業(株)製のロジン変性フェノール
樹脂を含有するワニス)170部及び軽油30部を徐々
に加え、試験インキを得た。
【0154】上記方法により調製した各試験インキにつ
いて、ガラス板流動性とラレー粘度を測定し、その結果
を表1にまとめて示した。
【0155】上記ガラス板流動性の数値は、大きいほ
ど、高流動性を有する平版インキであることを示し、ラ
レー粘度の数値は、大きいほど、高粘性を有する平版イ
ンキであることを示す。
【0156】尚、ガラス板流動性は、印刷インキ1gを
ヘラを用いて1分間混練した後、傾斜角70°で設置し
たガラス板の上方に置き、60分間放置した時に下方に
流動した印刷インキの長さ(印刷インキの上端から下端
までの長さ)である。
【0157】
【表1】
【0158】表1に示した結果から、実施例1〜5で得
た本発明のジスアゾ顔料組成物を使用した平版インキ
は、高流動性と高粘性を併せ持つことが理解できる。一
方、比較例1〜10で得た従来法のジスアゾ顔料は、
「流動性が高いが、粘性が低い」平版インキ、あるいは
「粘性が高いが、流動性が低い」平版インキであり、高
流動性と高粘性を併せ持つものではないことが理解でき
る。
【0159】<試験例2>以下の方法により、実施例6
〜7及び比較例11〜14で得た各顔料パウダーをイン
キ化した。
【0160】具体的には、ステンレス容器に40℃に加
熱した平版インキ用途ワニス300部と、顔料パウダー
100部を仕込み、ラボミキサーを使用して混合して、
ミルベースを作製した。ミルベースを3本ロールを使用
して練肉して、ベースインキを作製した。3本ロール上
で、ベースインキに平版インキ用途ワニス170部及び
軽油30部を徐々に加え、試験インキを調製した。
【0161】上記方法により調製した各試験インキにつ
いて、ガラス板流動性とラレー粘度を測定し、その結果
を表2にまとめて示した。
【0162】
【表2】
【0163】表2に示した結果から、実施例6〜7で得
た本発明のジスアゾ顔料組成物を使用した平版インキ
は、高流動性と高粘性を併せ持つことが理解できる。一
方、比較例11〜14で得た従来法のジスアゾ顔料は、
「流動性が高いが、粘性が低い」平版インキ、あるいは
「粘性が高いが、流動性が低い」平版インキであり、高
流動性と高粘性を併せ持つものではないことが理解でき
る。
【0164】
【発明の効果】本発明のジスアゾ顔料組成物は、印刷の
高速化に対応しうる高流動性と、網点の太りや、印刷物
の鮮明性の喪失や、印刷時のミスチングというインキの
飛散現象が発生しない高粘性とを有する平版インキを提
供することができる。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)ジスアゾ顔料、(2)一般式
    (I) 【化1】 (式中、X及びYは、各々独立的に、水素原子、ハロゲ
    ン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1
    〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜4のアルコキ
    シル基を有するアルコキシカルボニル基を表わすが、X
    及びYは同時に水素原子を表わすことはない。 Z1は、
    低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、
    水酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から
    選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有していて
    も良いフェニル基又はナフチル基を表わす。 Z2は、低
    級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、水
    酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から選
    ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有していても
    良いフェニル基又はナフチル基であって、カルボン酸基
    及び/又はスルホン酸基を1〜4個有するフェニル基又
    はナフチル基を表わす。ただし、 Z2において、カルボ
    ン酸基及び/又はスルホン酸基は、アルカリ土類金属、
    アルミニウム、マグネシウム及び亜鉛から成る群から選
    ばれる1種以上の金属の塩であっても良い。)で表わさ
    れるジスアゾ化合物、及び(3)一般式(II) 【化2】 (式中、X及びYは、各々独立的に、水素原子、ハロゲ
    ン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1
    〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜4のアルコキ
    シル基を有するアルコキシカルボニル基を表わすが、X
    及びYは同時に水素原子を表わすことはない。 Z1は、
    低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、
    水酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から
    選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有していて
    も良いフェニル基又はナフチル基を表わす。 Z3は、低
    級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、水
    酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から選
    ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有していても
    良いフェニル基又はナフチル基であって、カルボンアミ
    ド基、スルホンアミド基及びアセトアミノ基から成る群
    から選ばれる置換基を1〜4個有するフェニル基もしく
    はナフチル基、又は、ベンツイミダゾロン環残基もしく
    はフタルイミド環残基を表わす。)で表わされるジスア
    ゾ化合物を含有するジスアゾ顔料組成物。
  2. 【請求項2】 一般式(I)中のX及びYが、各々独立
    的に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のア
    ルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシル基又は炭素
    原子数1〜4のアルコキシル基を有するアルコキシカル
    ボニル基(ただし、X及びYは同時に水素原子であるこ
    とはない。)、 Z1が、低級アルキル基、低級アルコキ
    シル基、ハロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカル
    ボニル基から成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4
    個の置換基を有していても良いフェニル基又はナフチル
    基、 Z2が、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
    ロゲン原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基か
    ら成る群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基
    を有していても良いフェニル基又はナフチル基であっ
    て、カルボン酸基及び/又はスルホン酸基を1〜4個有
    するフェニル基又はナフチル基であり、かつ、一般式
    (II)中のX及びYが、各々独立的に、水素原子、ハロ
    ゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数
    1〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜4のアルコ
    キシル基を有するアルコキシカルボニル基(ただし、X
    及びYは同時に水素原子であることはない。)、 Z
    1は、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン
    原子、水酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る
    群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有し
    ていても良いフェニル基又はナフチル基、 Z3は、低級
    アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、水酸
    基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から選ば
    れる同一又は異なる1〜4個の置換基を有していても良
    いフェニル基又はナフチル基であって、カルボンアミド
    基、スルホンアミド基及びアセトアミノ基から成る群か
    ら選ばれる置換基を1〜4個有するフェニル基又はナフ
    チル基である請求項1記載のジスアゾ顔料組成物。
  3. 【請求項3】 一般式(I)及び一般式(II)中のX及
    びYが、各々独立的に、水素原子又は塩素原子(ただ
    し、X及びYは同時に水素原子であることはない。)、
    1が、1〜2個のメチル基又はメトキシ基を有してい
    ても良いフェニル基、 Z2が、水酸基又は塩素原子を有
    していても良いフェニル基であって、カルボン酸基又は
    スルホン酸基(ただし、これらはアルミニウム塩であっ
    ても良い。)を有するフェニル基、かつ、 Z3が、カル
    バモイル基、アセトアミノ基又はスルファモイル基を有
    するフェニル基、又は、ベンツイミダゾロン環残基であ
    る請求項1記載のジスアゾ顔料組成物。
  4. 【請求項4】 一般式(I)及び一般式(II)中のX及
    びYが、各々独立的に、水素原子又は塩素原子(ただ
    し、X及びYは同時に水素原子であることはない。)、
    1が、1〜2個のメチル基又はメトキシ基を有してい
    ても良いフェニル基、 Z2が、水酸基を有していても良
    い、カルボン酸基(ただし、アルミニウム塩であっても
    良い。)を有するフェニル基、かつ、 Z3が、カルバモ
    イル基又はアセトアミノ基を有するフェニル基である請
    求項1記載のジスアゾ顔料組成物。
  5. 【請求項5】 ジスアゾ顔料組成物の固形分中の一般式
    (I)で表わされるジスアゾ化合物の含有割合が1〜2
    0重量%の範囲にあり、一般式(II)で表わされるジス
    アゾ化合物の含有割合が1〜20重量%の範囲にある請
    求項1〜4のいずれか1つに記載のジスアゾ顔料組成
    物。
  6. 【請求項6】 ジスアゾ顔料組成物の固形分中の一般式
    (I)で表わされるジスアゾ化合物と一般式(II)で表
    わされるジスアゾ化合物の合計の含有割合が4〜35重
    量%の範囲にあり、かつ、これらの重量比(I)/(I
    I)が30/70〜75/25の範囲である請求項1〜
    4のいずれか1つに記載のジスアゾ顔料組成物。
  7. 【請求項7】 ジスアゾ顔料が、一般式(VII) 【化3】 (式中、X及びYは、各々独立的に、水素原子、ハロゲ
    ン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1
    〜4のアルコキシル基又は炭素原子数1〜4のアルコキ
    シル基を有するアルコキシカルボニル基を表わすが、X
    及びYは同時に水素原子を表わすことはない。 Z1は、
    低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子、
    水酸基及び低級アルコキシカルボニル基から成る群から
    選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有していて
    も良いフェニル基又はナフチル基を表わす。)で表わさ
    れるジスアゾ顔料である請求項1〜6のいずれか1つに
    記載のジスアゾ顔料組成物。
  8. 【請求項8】 一般式(I)と一般式(II)と 一般式
    (VII)中のX、Y及び Z1が、それぞれ同一である請
    求項7記載のジスアゾ顔料組成物。
  9. 【請求項9】 ジスアゾ顔料が、CIピグメント番号の
    Y−12、Y−13、Y−14、Y−17、Y−55、
    Y−57及びY−81から成る群から選ばれる1種以上
    の顔料である請求項1〜6のいずれか1つに記載のジス
    アゾ顔料組成物。
  10. 【請求項10】 請求項1〜9のいずれか1つに記載の
    ジスアゾ顔料組成物を含有してなることを特徴とする印
    刷インキ。
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