JPH0992703A - コレットおよびそのコレットを取り付けた移送装置 - Google Patents
コレットおよびそのコレットを取り付けた移送装置Info
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- JPH0992703A JPH0992703A JP24436195A JP24436195A JPH0992703A JP H0992703 A JPH0992703 A JP H0992703A JP 24436195 A JP24436195 A JP 24436195A JP 24436195 A JP24436195 A JP 24436195A JP H0992703 A JPH0992703 A JP H0992703A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＩＣを水平保持でき、かつ移動時にＩＣ保持
位置のずれを生じないコレットおよびそのコレットを取
り付けた移送装置を提供する。 【解決手段】 駆動本体から延在するアームと、前記ア
ームの先端に取り付けられた筒状の金属からなるコレッ
トとを有し、前記アームを駆動させて供給ステージにあ
る製品（ＩＣ）をコレットの下面の吸着面に真空吸着保
持した後、コレットに保持している製品を処理ステージ
上に移送する移送装置であって、前記コレットの吸着面
には耐磨耗性の微粒子を含む被膜が形成されている。前
記被膜はダイヤモンド粒子を電着させた電着層となって
いる。
位置のずれを生じないコレットおよびそのコレットを取
り付けた移送装置を提供する。 【解決手段】 駆動本体から延在するアームと、前記ア
ームの先端に取り付けられた筒状の金属からなるコレッ
トとを有し、前記アームを駆動させて供給ステージにあ
る製品（ＩＣ）をコレットの下面の吸着面に真空吸着保
持した後、コレットに保持している製品を処理ステージ
上に移送する移送装置であって、前記コレットの吸着面
には耐磨耗性の微粒子を含む被膜が形成されている。前
記被膜はダイヤモンド粒子を電着させた電着層となって
いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はコレット、特に半導
体装置を真空吸着する円筒形の金属コレットに関する。
体装置を真空吸着する円筒形の金属コレットに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に物品を保持移送する工具として、
円筒形の真空吸着構造のコレットやゴム製吸着パッドが
知られている。円筒形のコレットは半導体チップのボン
ディング用に使用されたり、半導体装置を実装する際使
用されている。たとえば、半導体チップを保持するコレ
ットについては、日刊工業新聞社発行「半導体製造装置
用語辞典」1991年９月28日発行、P215に記載されてい
る。
円筒形の真空吸着構造のコレットやゴム製吸着パッドが
知られている。円筒形のコレットは半導体チップのボン
ディング用に使用されたり、半導体装置を実装する際使
用されている。たとえば、半導体チップを保持するコレ
ットについては、日刊工業新聞社発行「半導体製造装置
用語辞典」1991年９月28日発行、P215に記載されてい
る。
【０００３】また、半導体装置を保持するためのゴム製
吸着パッドも市販されている。
吸着パッドも市販されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、ＬＳ
Ｉ，ＩＣ等半導体装置の外形寸法を測定するＩＣ外形寸
法測定機の製品ピックアップに、金属製のコレットやゴ
ム製吸着パッドを使用することを検討したが、以下のよ
うな問題が派生することが分かった。
Ｉ，ＩＣ等半導体装置の外形寸法を測定するＩＣ外形寸
法測定機の製品ピックアップに、金属製のコレットやゴ
ム製吸着パッドを使用することを検討したが、以下のよ
うな問題が派生することが分かった。
【０００５】ゴム製吸着パッドは、吸着力が強く、ＩＣ
のパッケージ部分を保持した場合上滑りは起き難いが、
パッケージの重心から外れた部分を保持すると、パッド
が変形して半導体装置が傾いてしまい、正確な移送がで
きなくなる場合がある。また、ゴム製吸着パッドはゴム
の導電率が低く帯電し、ＩＣにおいて静電破壊事故が発
生する場合もあり、製品を損傷させるおそれがある。ま
た、ゴム製吸着パッドはゴムが劣化し易くパッドの寿命
が短くなる。
のパッケージ部分を保持した場合上滑りは起き難いが、
パッケージの重心から外れた部分を保持すると、パッド
が変形して半導体装置が傾いてしまい、正確な移送がで
きなくなる場合がある。また、ゴム製吸着パッドはゴム
の導電率が低く帯電し、ＩＣにおいて静電破壊事故が発
生する場合もあり、製品を損傷させるおそれがある。ま
た、ゴム製吸着パッドはゴムが劣化し易くパッドの寿命
が短くなる。
【０００６】一方、金属製のコレットは、ＩＣのパッケ
ージの重心から外れた部分を真空吸着した場合であって
もコレットが変形しないことからＩＣを水平に保持する
ことができる。しかし、金属であり、表面の摩擦係数が
小さいため、コレットを保持するアームを回動させた場
合、ＩＣが金属製コレットに対して横滑りを起こしてし
まい保持位置がずれる。この結果、ＩＣ外形寸法測定機
のステージ上の所定位置に正確にＩＣを供給できない場
合が起きる。
ージの重心から外れた部分を真空吸着した場合であって
もコレットが変形しないことからＩＣを水平に保持する
ことができる。しかし、金属であり、表面の摩擦係数が
小さいため、コレットを保持するアームを回動させた場
合、ＩＣが金属製コレットに対して横滑りを起こしてし
まい保持位置がずれる。この結果、ＩＣ外形寸法測定機
のステージ上の所定位置に正確にＩＣを供給できない場
合が起きる。
【０００７】本発明の目的は、製品を水平保持でき、か
つ移動時に製品保持位置のずれを生じないコレットおよ
びそのコレットを取り付けた移送装置を提供することに
ある。
つ移動時に製品保持位置のずれを生じないコレットおよ
びそのコレットを取り付けた移送装置を提供することに
ある。
【０００８】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【００１０】（１）駆動本体から延在するアームと、前
記アームの先端に取り付けられた筒状の金属からなるコ
レットとを有し、前記アームを駆動させて供給ステージ
にある製品（ＩＣ）をコレットの下面の吸着面に真空吸
着保持した後、コレットに保持しているＩＣを処理ステ
ージ上に移送する移送装置であって、前記コレットの吸
着面には摩擦係数が大きい被膜が形成されている。前記
被膜はダイヤモンド粒子を電着させた耐磨耗性の電着層
となっている。
記アームの先端に取り付けられた筒状の金属からなるコ
レットとを有し、前記アームを駆動させて供給ステージ
にある製品（ＩＣ）をコレットの下面の吸着面に真空吸
着保持した後、コレットに保持しているＩＣを処理ステ
ージ上に移送する移送装置であって、前記コレットの吸
着面には摩擦係数が大きい被膜が形成されている。前記
被膜はダイヤモンド粒子を電着させた耐磨耗性の電着層
となっている。
【００１１】前記（１）の手段によれば、（ａ）コレッ
トは剛体（金属）からなっていることから、製品（Ｉ
Ｃ）の重心位置を外れてコレットで真空吸着保持して
も、製品は傾いたりしない。
トは剛体（金属）からなっていることから、製品（Ｉ
Ｃ）の重心位置を外れてコレットで真空吸着保持して
も、製品は傾いたりしない。
【００１２】（ｂ）コレットの吸着面には摩擦係数が大
きい被膜が設けられているため、アームを回転させた
り、停止させたりした場合、ＩＣがコレットに対して横
滑りすることがなくなり、処理ステージの所定位置に正
確にＩＣを供給できる。
きい被膜が設けられているため、アームを回転させた
り、停止させたりした場合、ＩＣがコレットに対して横
滑りすることがなくなり、処理ステージの所定位置に正
確にＩＣを供給できる。
【００１３】（ｃ）コレットの吸着面に設けられる被膜
は耐磨耗性に優れたダイヤモンド粒子による電着層とな
っていることから、コレットの寿命が長くなり、長期間
に亘ってＩＣを正確に処理ステージに供給できる。
は耐磨耗性に優れたダイヤモンド粒子による電着層とな
っていることから、コレットの寿命が長くなり、長期間
に亘ってＩＣを正確に処理ステージに供給できる。
【００１４】（ｄ）コレットは金属製であり、コレット
の吸着面に設けた被膜もダイヤモンド粒子による導体で
あることから、ＩＣを静電破壊によって損傷させること
がなくなる。
の吸着面に設けた被膜もダイヤモンド粒子による導体で
あることから、ＩＣを静電破壊によって損傷させること
がなくなる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１６】なお、発明の実施の形態を説明するための
全図において、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
全図において、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
【００１７】図１は、本発明の一実施形態である金属製
コレットを示す斜視図、図２は本発明の一実施形態であ
る金属製コレットを取り付けたＩＣ外形寸法測定機の一
部を示す正面図、図３は本実施形態のＩＣ外形寸法測定
機の一部を示す模式的平面図、図４は本実施形態のＩＣ
外形寸法測定機の移送装置の一部を示す拡大図である。
コレットを示す斜視図、図２は本発明の一実施形態であ
る金属製コレットを取り付けたＩＣ外形寸法測定機の一
部を示す正面図、図３は本実施形態のＩＣ外形寸法測定
機の一部を示す模式的平面図、図４は本実施形態のＩＣ
外形寸法測定機の移送装置の一部を示す拡大図である。
【００１８】本発明の一実施形態であるコレット１は、
図１に示すように筒形、たとえば円筒形となっている。
本実施形態においては、コレット１は３段の段付き円筒
体となり、最も太い下端部分がコレット本体２を形成し
ている。また、最も細い上端部分は、コレット１の取付
軸３となっている。また、コレット１の内部の真空吸着
穴４は、前記コレット本体２部分で太くなっている。コ
レット１は、たとえばステンレスで形成され、剛体でか
つ導体となっている。
図１に示すように筒形、たとえば円筒形となっている。
本実施形態においては、コレット１は３段の段付き円筒
体となり、最も太い下端部分がコレット本体２を形成し
ている。また、最も細い上端部分は、コレット１の取付
軸３となっている。また、コレット１の内部の真空吸着
穴４は、前記コレット本体２部分で太くなっている。コ
レット１は、たとえばステンレスで形成され、剛体でか
つ導体となっている。
【００１９】前記コレット本体２の先端（下端）には、
摩擦係数が大きい被膜７が形成され、吸着面８を形成し
ている。前記被膜７はダイヤモンド粒子を電着して形成
した電着層となり、たとえば、数ｍｍの厚さとなってい
る。ダイヤモンド粒子の粒度は直径３μｍ（＃３００
０）のものまたは＃２０００〜＃３０００のものが使用
されている。これによって、被膜７の摩擦係数は、従来
のような金属面と異なり大きなものとなり、製品を真空
吸着保持した状態でコレットを移動させたり回転させた
りしても、製品がコレットの吸着面８で横滑りしなくな
る。
摩擦係数が大きい被膜７が形成され、吸着面８を形成し
ている。前記被膜７はダイヤモンド粒子を電着して形成
した電着層となり、たとえば、数ｍｍの厚さとなってい
る。ダイヤモンド粒子の粒度は直径３μｍ（＃３００
０）のものまたは＃２０００〜＃３０００のものが使用
されている。これによって、被膜７の摩擦係数は、従来
のような金属面と異なり大きなものとなり、製品を真空
吸着保持した状態でコレットを移動させたり回転させた
りしても、製品がコレットの吸着面８で横滑りしなくな
る。
【００２０】つぎに、ＩＣ外形寸法測定機の移送装置
（ピックアップ装置）に本実施形態の金属製コレットを
取り付けた例について説明する。
（ピックアップ装置）に本実施形態の金属製コレットを
取り付けた例について説明する。
【００２１】図２および図３はＩＣ外形寸法測定機の要
部を示す模式図であり、ＩＣ外形寸法測定部は省略して
ある。ＩＣ外形寸法測定機は、機台１０の一隅に移送装
置（ピックアップ装置）１１を配置し、機台１０の中央
に処理ステージ１２を有する構造となっている。
部を示す模式図であり、ＩＣ外形寸法測定部は省略して
ある。ＩＣ外形寸法測定機は、機台１０の一隅に移送装
置（ピックアップ装置）１１を配置し、機台１０の中央
に処理ステージ１２を有する構造となっている。
【００２２】移送装置１１は、上部が昇降制御自在の駆
動本体１３と、この駆動本体１３から延在するアーム１
４と、前記アーム１４の先端に取り付けられたコレット
１とからなっている。
動本体１３と、この駆動本体１３から延在するアーム１
４と、前記アーム１４の先端に取り付けられたコレット
１とからなっている。
【００２３】コレット１は、図４に示すように、アーム
１４には最上段の取付軸３が挿入固定されるが、アーム
１４から上方に突出した取付軸３部分には、タイミング
ベルト１５に噛み合う従動歯車１６が固定されている。
また、前記タイミングベルト１５は、ドライブモータ１
７の回転軸１８に固定された駆動歯車１９に噛み合って
いる。前記ドライブモータ１７は前記駆動本体１３内に
配設され、ドライブモータ１７の回転軸１８の先端を前
記駆動本体１３の外に突出させている。駆動歯車１９は
駆動本体１３の外に突出した回転軸１８部分に固定され
ている。
１４には最上段の取付軸３が挿入固定されるが、アーム
１４から上方に突出した取付軸３部分には、タイミング
ベルト１５に噛み合う従動歯車１６が固定されている。
また、前記タイミングベルト１５は、ドライブモータ１
７の回転軸１８に固定された駆動歯車１９に噛み合って
いる。前記ドライブモータ１７は前記駆動本体１３内に
配設され、ドライブモータ１７の回転軸１８の先端を前
記駆動本体１３の外に突出させている。駆動歯車１９は
駆動本体１３の外に突出した回転軸１８部分に固定され
ている。
【００２４】これによって、ドライブモータ１７を適宜
駆動させることによってコレット１はアーム１４に対し
て回動し、コレット１の下面の吸着面８に真空吸着保持
した製品（ＩＣ）２０の方向性を自由に修正できる。Ｉ
Ｃ２０は、レジンで形成される矩形体からなるパッケー
ジ２１と、前記パッケージ２１の周囲から突出するガル
ウィング型のリード２２とからなる。コレット１の吸着
面８は、パッケージ２１の平坦な面に当てられ、コレッ
ト１を真空吸着保持する。
駆動させることによってコレット１はアーム１４に対し
て回動し、コレット１の下面の吸着面８に真空吸着保持
した製品（ＩＣ）２０の方向性を自由に修正できる。Ｉ
Ｃ２０は、レジンで形成される矩形体からなるパッケー
ジ２１と、前記パッケージ２１の周囲から突出するガル
ウィング型のリード２２とからなる。コレット１の吸着
面８は、パッケージ２１の平坦な面に当てられ、コレッ
ト１を真空吸着保持する。
【００２５】また、図３に示すように、機台１０の一側
にはＩＣ２０を供給する供給ステージ３０が配設されて
いる。
にはＩＣ２０を供給する供給ステージ３０が配設されて
いる。
【００２６】一方、前記アーム１４の先端に固定された
コレット１の駆動本体１３先端には、図示しない真空吸
引システムに接続されるパイプ３１が接続されている。
したがって、図示しない真空吸引システムを駆動（オ
ン）させることによって、コレット１の吸着面８にＩＣ
２０を真空吸着保持できる。また、コレット１に真空吸
着保持されたＩＣ２０を外す場合は、前記真空吸引シス
テムをオフ動作させれば良い。
コレット１の駆動本体１３先端には、図示しない真空吸
引システムに接続されるパイプ３１が接続されている。
したがって、図示しない真空吸引システムを駆動（オ
ン）させることによって、コレット１の吸着面８にＩＣ
２０を真空吸着保持できる。また、コレット１に真空吸
着保持されたＩＣ２０を外す場合は、前記真空吸引シス
テムをオフ動作させれば良い。
【００２７】このような移送装置１１は、駆動本体１３
の昇降動作と回転動作の組み合わせによって、前記機台
１０の一側に配置された供給ステージ３０にあるＩＣ２
０をコレット１の下面の吸着面８に真空吸着保持して、
処理ステージ１２上に供給する。この際、ドライブモー
タ１７を適宜駆動させることによってコレット１を回転
制御し、処理ステージ１２に供給するＩＣ２０の方向性
を補正できる。
の昇降動作と回転動作の組み合わせによって、前記機台
１０の一側に配置された供給ステージ３０にあるＩＣ２
０をコレット１の下面の吸着面８に真空吸着保持して、
処理ステージ１２上に供給する。この際、ドライブモー
タ１７を適宜駆動させることによってコレット１を回転
制御し、処理ステージ１２に供給するＩＣ２０の方向性
を補正できる。
【００２８】したがって、本実施形態による移送装置１
１を有するＩＣ外形寸法測定機では、処理ステージ１２
の所定位置に正確にＩＣ２０が供給されるため、その後
のＩＣ外形寸法測定が正確かつ効率良く行える。
１を有するＩＣ外形寸法測定機では、処理ステージ１２
の所定位置に正確にＩＣ２０が供給されるため、その後
のＩＣ外形寸法測定が正確かつ効率良く行える。
【００２９】本実施形態のコレット１およびそのコレッ
ト１を取り付けた移送装置１１によれば、以下の効果を
奏する。
ト１を取り付けた移送装置１１によれば、以下の効果を
奏する。
【００３０】（１）製品であるＩＣ２０の重心位置を外
れた部分をコレット１で真空吸着保持しても、コレット
１が金属体（剛体）で形成されていることから、コレッ
ト１が変形（曲がったり）せず、ＩＣ２０が傾いたりし
なくなり、処理ステージ１２の所定位置に正確にＩＣ２
０を供給することができる。
れた部分をコレット１で真空吸着保持しても、コレット
１が金属体（剛体）で形成されていることから、コレッ
ト１が変形（曲がったり）せず、ＩＣ２０が傾いたりし
なくなり、処理ステージ１２の所定位置に正確にＩＣ２
０を供給することができる。
【００３１】（２）コレット１の吸着面８は摩擦係数が
大きい被膜７で形成されているため、コレット１を支持
するアーム１４を回転させたり、停止させたりした場
合、コレット１に保持されるＩＣ２０がコレット１に対
して横滑りすることがなくなり、処理ステージ１２の所
定位置に正確にＩＣ２０を供給できる。
大きい被膜７で形成されているため、コレット１を支持
するアーム１４を回転させたり、停止させたりした場
合、コレット１に保持されるＩＣ２０がコレット１に対
して横滑りすることがなくなり、処理ステージ１２の所
定位置に正確にＩＣ２０を供給できる。
【００３２】（３）コレット１の吸着面８に設けられる
被膜７は耐磨耗性に優れたダイヤモンド粒子による電着
層となっていることから、コレット１の寿命が長くな
り、長期間に亘ってＩＣ２０を正確に処理ステージ１２
に供給できる。
被膜７は耐磨耗性に優れたダイヤモンド粒子による電着
層となっていることから、コレット１の寿命が長くな
り、長期間に亘ってＩＣ２０を正確に処理ステージ１２
に供給できる。
【００３３】（４）コレット１は金属製であり、コレッ
ト１の吸着面に設けた被膜７もダイヤモンド粒子による
導体であることから、ＩＣ２０を静電破壊によって損傷
させることがなくなる。
ト１の吸着面に設けた被膜７もダイヤモンド粒子による
導体であることから、ＩＣ２０を静電破壊によって損傷
させることがなくなる。
【００３４】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない、たとえ
ば、前記実施形態では、コレットをステンレス製とした
が、鉄，アルミニウム等ダイヤモンド粒子を電着できれ
ば他の金属でもよい。また、コレットはセラミック等で
形成して剛体としても良い。この場合、コレットの表面
に導体ペーストを印刷・焼成して、ダイヤモンド粒子の
電着化を可能とするとともに、ＩＣの静電破壊を防止す
るようにしても良い。
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない、たとえ
ば、前記実施形態では、コレットをステンレス製とした
が、鉄，アルミニウム等ダイヤモンド粒子を電着できれ
ば他の金属でもよい。また、コレットはセラミック等で
形成して剛体としても良い。この場合、コレットの表面
に導体ペーストを印刷・焼成して、ダイヤモンド粒子の
電着化を可能とするとともに、ＩＣの静電破壊を防止す
るようにしても良い。
【００３５】また、前記実施形態では、ダイヤモンド粒
子の粒度を＃２０００〜＃３０００としたが、常に確実
な真空吸着保持が可能となるように、真空吸着保持する
製品の表面の粗さによって適宜選択すれば良い。この結
果、信頼性の高いハンドリングが可能となる。
子の粒度を＃２０００〜＃３０００としたが、常に確実
な真空吸着保持が可能となるように、真空吸着保持する
製品の表面の粗さによって適宜選択すれば良い。この結
果、信頼性の高いハンドリングが可能となる。
【００３６】図５は本発明の他の実施形態である移送装
置の一部を示す正面図である。この実施形態では、アー
ム１４に複数のコレット１を配設し、表面積の大きい製
品２０や重量の大きい製品２０を真空吸着保持するよう
にしたものである。この実施形態でも、コレット１の吸
着面を摩擦係数が大きい被膜７で形成してあることか
ら、アーム１４を回転させたり、停止させたりした場
合、コレット１に保持される製品２０がコレット１に対
して横滑りすることがなくなり、所定位置に正確に製品
２０を供給できる。
置の一部を示す正面図である。この実施形態では、アー
ム１４に複数のコレット１を配設し、表面積の大きい製
品２０や重量の大きい製品２０を真空吸着保持するよう
にしたものである。この実施形態でも、コレット１の吸
着面を摩擦係数が大きい被膜７で形成してあることか
ら、アーム１４を回転させたり、停止させたりした場
合、コレット１に保持される製品２０がコレット１に対
して横滑りすることがなくなり、所定位置に正確に製品
２０を供給できる。
【００３７】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるＩＣ外
形寸法測定機に適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではない。本発明は少なくとも製品を
真空吸着する筒状のコレットを取り付けた各種機器には
適用できる。
なされた発明をその背景となった利用分野であるＩＣ外
形寸法測定機に適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではない。本発明は少なくとも製品を
真空吸着する筒状のコレットを取り付けた各種機器には
適用できる。
【００３８】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【００３９】（１）コレットは金属で形成されているこ
とから、ＩＣの重心位置を外れてコレットで真空吸着保
持しても、ＩＣは傾いたりしない。
とから、ＩＣの重心位置を外れてコレットで真空吸着保
持しても、ＩＣは傾いたりしない。
【００４０】（２）コレットの吸着面には摩擦係数が大
きい被膜が設けられているため、アームを回転させた
り、停止させたりした場合、ＩＣがコレットに対して横
滑りすることがなくなり、処理ステージの所定位置に正
確にＩＣを供給できる。
きい被膜が設けられているため、アームを回転させた
り、停止させたりした場合、ＩＣがコレットに対して横
滑りすることがなくなり、処理ステージの所定位置に正
確にＩＣを供給できる。
【図１】本発明の一実施形態である金属製コレットを示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態である金属製コレットを取
り付けたＩＣ外形寸法測定機の一部を示す正面図であ
る。
り付けたＩＣ外形寸法測定機の一部を示す正面図であ
る。
【図３】本実施形態のＩＣ外形寸法測定機の一部を示す
模式的平面図である。
模式的平面図である。
【図４】本実施形態のＩＣ外形寸法測定機の移送装置の
一部を示す拡大図である。
一部を示す拡大図である。
【図５】本発明の他の実施形態である移送装置の一部を
示す正面図である。
示す正面図である。
１…コレット、２…コレット本体、３…取付軸、４…真
空吸着穴、７…被膜、８…吸着面、１０…機台、１１…
移送装置、１２…処理ステージ、１３…駆動本体、１４
…アーム、１５…タイミングベルト、１６…従動歯車、
１７…ドライブモータ、１８…回転軸、１９…駆動歯
車、２０…製品（ＩＣ）、２１…パッケージ、２２…リ
ード、３０…供給ステージ、３１…パイプ。
空吸着穴、７…被膜、８…吸着面、１０…機台、１１…
移送装置、１２…処理ステージ、１３…駆動本体、１４
…アーム、１５…タイミングベルト、１６…従動歯車、
１７…ドライブモータ、１８…回転軸、１９…駆動歯
車、２０…製品（ＩＣ）、２１…パッケージ、２２…リ
ード、３０…供給ステージ、３１…パイプ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇佐美 薫 秋田県南秋田郡天王町天王字長沼64 アキ タ電子株式会社内 (72)発明者 村上 信博 秋田県秋田市飯島川端二丁目３−34 有限 会社 オーエスイー内
Claims (5)
- 【請求項１】 製品を真空吸着保持する吸着面を有する
筒形の剛体からなるコレットであって、前記コレットの
吸着面には摩擦係数が大きい被膜が形成されていること
を特徴とするコレット。 - 【請求項２】 前記被膜はダイヤモンド粒子が含まれて
いることを特徴とする請求項１記載のコレット。 - 【請求項３】 前記コレットは導体からなり、前記被膜
は電着によって形成された電着層となっていることを特
徴とする請求項１または請求項２記載のコレット。 - 【請求項４】 駆動本体から延在するアームと、前記ア
ームの先端に取り付けられた筒状の剛体からなるコレッ
トとを有し、前記アームを駆動させて供給ステージにあ
る製品をコレットの下面の吸着面に真空吸着保持した
後、コレットに保持している製品を処理ステージ上に移
送する移送装置であって、前記コレットの吸着面には摩
擦係数が大きい被膜が形成されていることを特徴とする
移送装置。 - 【請求項５】 前記コレットは導体からなり、前記被膜
はダイヤモンド粒子を電着させた耐磨耗性の電着層とな
っていることを特徴とする請求項４記載の移送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24436195A JPH0992703A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | コレットおよびそのコレットを取り付けた移送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24436195A JPH0992703A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | コレットおよびそのコレットを取り付けた移送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0992703A true JPH0992703A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17117558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24436195A Pending JPH0992703A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | コレットおよびそのコレットを取り付けた移送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0992703A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006013297A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Murata Mfg Co Ltd | 超音波接合装置 |
| KR101972343B1 (ko) * | 2018-03-02 | 2019-04-25 | 에스더블류텍(주) | 세라믹 피커 어셈블리 |
| US11960213B2 (en) | 2012-02-03 | 2024-04-16 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
-
1995
- 1995-09-22 JP JP24436195A patent/JPH0992703A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006013297A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Murata Mfg Co Ltd | 超音波接合装置 |
| US11960213B2 (en) | 2012-02-03 | 2024-04-16 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
| KR101972343B1 (ko) * | 2018-03-02 | 2019-04-25 | 에스더블류텍(주) | 세라믹 피커 어셈블리 |
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