JPH0986917A - Production of synthetic coal powder - Google Patents

Production of synthetic coal powder

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JPH0986917A
JPH0986917A JP25245895A JP25245895A JPH0986917A JP H0986917 A JPH0986917 A JP H0986917A JP 25245895 A JP25245895 A JP 25245895A JP 25245895 A JP25245895 A JP 25245895A JP H0986917 A JPH0986917 A JP H0986917A
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rotary kiln
silica gel
heating
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Yoshio Suguro
芳雄 勝呂
Masaru Shimoyama
勝 下山
Shoji Oishi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently obtain synthetic quartz powder slightly foaming when melted and molded. SOLUTION: This method for producing synthetic quartz powder comprises heat-treating silica gel powder while continuously supplying the powder from the end of a rotary kiln and fluidizing and operating the rotary kiln in such a way that the time required for the powder in the rotary kiln to pass through a zone at 450-550 deg.C is 0.5-10 hours.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、合成石英粉の効率
的な製造方法に関するものである。近年、光通信分野、
半導体産業等で使用されるガラス製品に於いては、その
微量不純物及び製品中の微小泡に関し非常に厳しい管理
が行われている。このような高品質のガラスは主に、
天然石英を精製する方法、四塩化珪素の酸水素炎中で
の分解で発生したヒュームを基体に付着・成長させる方
法、シリコンアルコキシド等の加水分解・ゲル化によ
り得たシリカゲルを焼成してガラス化する方法等によっ
て生成される。しかしながら、の方法では、微量不純
物含有率の低減に限界があり、の方法では、極めて製
造コストが高い等の問題点がある。一方、の、シリカ
ゲルを用いる方法、特に原料としてシリコンアルコキシ
ドを用いる方法では、の方法に比べると安価に微量不
純物含有率が低い合成石英粉が得られるが、要求レベル
を必ずしも満足しているとは言えないし、このシリコン
アルコキシドを用いる方法では、最終製品の成形体中
に、場合によっては、微小泡が発生すると言う問題点が
ある。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for efficiently producing synthetic quartz powder. In recent years, the optical communication field,
In glass products used in the semiconductor industry and the like, very strict control is carried out regarding trace impurities and micro bubbles in the products. Such high quality glass is mainly
A method for purifying natural quartz, a method for attaching and growing fumes generated by decomposition of silicon tetrachloride in an oxyhydrogen flame to a substrate, and a method for sintering silica gel obtained by hydrolysis and gelation of silicon alkoxide and the like. Generated by such a method. However, the method (1) has a limit in reducing the content of trace impurities, and the method (2) has problems such as extremely high manufacturing cost. On the other hand, in the method using silica gel, in particular, the method using silicon alkoxide as a raw material, a synthetic quartz powder having a low trace impurity content can be obtained at a lower cost than the method, but it does not necessarily satisfy the required level. In other words, the method using the silicon alkoxide has a problem that, in some cases, microbubbles are generated in the molded product of the final product.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らの鋭意検討
により、シリコンアルコキシドを用いる合成石英粉の製
造方法で、従来に比べ安価で、かつ成形体を製造する際
に微小泡の発生が極めて少ない合成石英粉を工業的に製
造するには、次に示す課題を解決すればよいことが判っ
た。
The inventors of the present invention have earnestly studied, and in the method for producing synthetic quartz powder using a silicon alkoxide, it is cheaper than the conventional method, and very small bubbles are generated when a molded body is produced. It was found that the following problems should be solved in order to industrially produce a small amount of synthetic quartz powder.

【0003】即ち、シリカゲルの焼成は、容器からの不
純物のコンタミを排除するために、一般には、石英製の
容器にシリカゲルを仕込み、電気炉等で加熱する方法が
採用される。特に、工業的に製造する場合、大口径の石
英るつぼが使用される。しかしながら、シリカゲルは石
英粉に比べ嵩密度が低いために、焼成に用いる容器を効
率的に利用できず、生産性が悪く、製造コストが高くな
っている。従って、生産性の向上にはるつぼに仕込む粉
体の嵩密度アップが重要な課題となる。
That is, in the firing of silica gel, a method of charging silica gel in a quartz container and heating it in an electric furnace or the like is generally adopted in order to eliminate contamination of impurities from the container. In particular, when industrially manufactured, a large-diameter quartz crucible is used. However, since silica gel has a lower bulk density than quartz powder, a container used for baking cannot be used efficiently, productivity is poor, and production cost is high. Therefore, increasing the bulk density of the powder charged in the crucible is an important issue for improving productivity.

【0004】一方、石英粉を用いた成形体の製造に於い
て、成形体を製造する際の微小泡の発生は、石英粉製造
時の焼成工程の昇温過程が影響を及ぼす。シリコンアル
コキシドの加水分解により得たシリカゲル粉末は、副生
したアルコールを乾燥により除去しても、未反応のアル
コキシ基及び副生したアルコールの一部が残存する。実
際、乾燥を施したシリカゲル粉末中のカーボン濃度を測
定すると、乾燥条件によっても異なるが、1〜3%であ
る。このシリカゲル粉末を酸素含有ガス中で焼成を行う
と、大部分のカーボンは、昇温過程で燃焼除去される
が、一部が未燃カーボンとして合成石英粉中に閉じ込め
られることがある。この未燃カーボンを含有する合成石
英粉を用いると、溶融成形の際にCOやCO2ガスとな
り、泡発生の原因となる。従って、シリカゲルの封孔前
に、未燃カーボンを実質的に全量除去することが必要と
なり、昇温過程における昇温速度が重要となるわけであ
る。
On the other hand, in the production of a molded body using quartz powder, the generation of microbubbles during the production of the molded body is affected by the heating process in the firing step in the production of quartz powder. The silica gel powder obtained by hydrolyzing the silicon alkoxide retains unreacted alkoxy groups and a part of the by-produced alcohol even if the by-produced alcohol is removed by drying. Actually, when the carbon concentration in the dried silica gel powder is measured, it is 1 to 3% depending on the drying conditions. When this silica gel powder is calcined in an oxygen-containing gas, most of the carbon is burned and removed in the course of raising the temperature, but part of the carbon is sometimes trapped as unburned carbon in the synthetic quartz powder. If this synthetic quartz powder containing unburned carbon is used, it will become CO or CO2 gas at the time of melt molding, which will cause generation of bubbles. Therefore, it is necessary to remove substantially all of the unburned carbon before sealing the silica gel, and the rate of temperature increase during the temperature increase process is important.

【0005】ところが、先述の様に、合成石英粉を工業
的に製造する場合、大口径の石英るつぼが使用され、昇
温過程に於ける、るつぼ内の温度は不均一となるので、
容器内の全ての部分を所定の温度パターンで昇温するの
は困難である。その結果、場合によっては、カーボンが
残存した合成石英粉が部分的に生成しその合成石英粉を
用いた成形体中に、微小泡が発生するという現象が見ら
れるのである。
However, as described above, in the case of industrially producing synthetic quartz powder, a large-diameter quartz crucible is used, and the temperature inside the crucible becomes uneven during the temperature rising process.
It is difficult to raise the temperature of all parts in the container in a predetermined temperature pattern. As a result, in some cases, a phenomenon is observed in which synthetic quartz powder in which carbon remains is partially generated, and microbubbles are generated in a molded body using the synthetic quartz powder.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み、更に鋭意検討を行った結果、シリカゲルを焼成
前に適当な条件及び操作で加熱処理することにより、焼
成に供する粉体の嵩密度を焼成後と同等にすることがで
き、なおかつ、アルコキシ基及び水酸基を十分に除去す
ることができることを見いだし、本発明を完成するに到
った。即ち、本発明は、シリカゲル粉末を、ロータリー
キルンの片端より連続的に供給しつつ、流動させながら
加熱処理することにより合成石英粉を製造する方法であ
って、ロータリーキルン内の粉体の温度が450〜55
0℃のゾーンの通過時間が0.5〜10時間となるよう
に操作することを特徴とする合成石英粉の製造方法、に
ある。
Means for Solving the Problems In view of the above problems, the present inventors have conducted further intensive studies. As a result, the silica gel is subjected to heat treatment under appropriate conditions and operations before firing, so that the powder to be fired is obtained. It has been found that the bulk density can be made equal to that after firing, and that the alkoxy group and the hydroxyl group can be sufficiently removed, and the present invention has been completed. That is, the present invention is a method for producing a synthetic quartz powder by continuously supplying silica gel powder from one end of a rotary kiln and performing heat treatment while flowing, and the temperature of the powder in the rotary kiln is 450 to 55
The method for producing synthetic quartz powder is characterized in that the operation is carried out so that the passage time through the zone of 0 ° C. is 0.5 to 10 hours.

【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
対象となる合成石英粉は、シリカゲル粉末を、焼成する
ことにより無孔化してなる合成石英粉である。シリカゲ
ル粉末の製造法は特に限定されず、種々の公知方法を採
用できるが、高純度を容易に達成できる等の観点からア
ルコキシシラン等の加水分解・ゲル化による、いわゆる
ゾルゲル法によるものが好ましい。ゾルゲル法によるア
ルコキシシランの加水分解は、公知の方法にしたがっ
て、アルコキシシランと水を反応させることによって行
われる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The synthetic quartz powder targeted by the present invention is a synthetic quartz powder obtained by firing silica gel powder to make it non-porous. The method for producing the silica gel powder is not particularly limited, and various known methods can be adopted, but from the viewpoint of easily achieving high purity, the so-called sol-gel method by hydrolysis / gelation of alkoxysilane or the like is preferable. Hydrolysis of alkoxysilane by the sol-gel method is carried out by reacting alkoxysilane with water according to a known method.

【0008】原料として用いられるアルコキシシランと
しては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
等のC1〜C4の低級アルコキシシラン或いはそのオリ
ゴマーが好ましい。水の使用量は、通常、アルコキシシ
ラン中のアルコキシ基の1倍等量以上から10倍等量以
下の範囲から選択される。この際、必要に応じて、水と
相溶性のあるアルコール類やエーテル類等の有機溶媒を
混合して使用してもよい。使用されるアルコールの代表
例としては、メタノール・エタノール等の低級脂肪族ア
ルコールが挙げられる。
As the alkoxysilane used as a raw material, C1 to C4 lower alkoxysilane such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane or an oligomer thereof is preferable. The amount of water used is usually selected from the range of 1 to 10 equivalents of the alkoxy group in the alkoxysilane. At this time, if necessary, an organic solvent such as an alcohol or an ether which is compatible with water may be mixed and used. Representative examples of the alcohol used include lower aliphatic alcohols such as methanol and ethanol.

【0009】この加水分解反応には、触媒として塩酸・
酢酸等の酸や、アンモニア等のアルカリを触媒として添
加してもよい。なお、当然のことながら、ここで使用す
る水・触媒等の、反応系に導入される物質はすべて高純
度であることが必要である。加水分解生成物のゲル化
は、加熱下あるいは常温で実施される。加熱を行うと、
ゲル化の速度を向上することができるので、加熱の程度
を調節することにより、ゲル化時間を調節することがで
きる。
In this hydrolysis reaction, hydrochloric acid is used as a catalyst.
An acid such as acetic acid or an alkali such as ammonia may be added as a catalyst. It is needless to say that all substances to be introduced into the reaction system, such as water and catalyst used here, need to be of high purity. Gelation of the hydrolysis product is performed under heating or at room temperature. When heating,
Since the speed of gelation can be improved, the gelation time can be adjusted by adjusting the degree of heating.

【0010】得られたゲルは水分及び加水分解により生
成したアルコールを多量に含むウェットシリカゲルであ
り、これを細分化してから乾燥してもよいし、乾燥して
から細分化してもよい。いずれにしても、乾燥後の粒径
が、10〜1000μm、好ましくは、100〜600
μmと成るように細分化を行う。乾燥は、常圧、或い
は、減圧下で加熱しつつ行われる。加熱温度は、条件に
よっても異なるが、通常、50〜200℃である。ま
た、操作は、回分・連続のいずれによっても行うことが
できる。乾燥の程度は、通常、含液率が1〜30重量%
まで行われる。ここで言う含液率とは、160℃におい
て恒量に達した時の重量減少率である。
The obtained gel is wet silica gel containing a large amount of water and alcohol produced by hydrolysis, and may be subdivided and dried, or may be dried and subdivided. In any case, the particle size after drying is 10 to 1000 μm, preferably 100 to 600 μm.
Subdivision is performed to a size of μm. Drying is performed while heating under normal pressure or reduced pressure. The heating temperature varies depending on the conditions, but is usually 50 to 200 ° C. The operation can be performed either batchwise or continuously. The degree of drying is usually 1 to 30% by weight.
Done until. The liquid content referred to here is the weight reduction rate when a constant weight is reached at 160 ° C.

【0011】このようにして得られた乾燥シリカゲル粉
末を、以下に述べる特定の条件下で加熱処理する。即
ち、シリカゲル粉末をロータリーキルン内で特定の温度
条件下でロータリーキルンを回転してシリカゲル粉末を
流動させながら加熱処理する。この加熱処理は、複数の
ロータリーキルンを用いて加熱処理を行ってもよい。こ
こで言う「粉体の流動」とは、例えば粉体を仕込んだ回
転状態のロータリーキルンの断面を示す図2を用い静止
状態のロータリーキルンの断面を示す図1と比較して説
明すると、粉体(1)と炉心管(2)壁の接粉面(3)
との間には実質的に滑りが生じておらず、炉心管壁で持
ち上げられ、安息角以上で粉体が壁面を離れて炉心管壁
下部に流下している状態(図2中の黒矢印方向)をい
う。
The dried silica gel powder thus obtained is heat-treated under the specific conditions described below. That is, the silica gel powder is heated in the rotary kiln under specific temperature conditions by rotating the rotary kiln to cause the silica gel powder to flow. This heat treatment may be performed using a plurality of rotary kilns. The "flow of powder" referred to here is, for example, as shown in FIG. 2 which shows a cross section of a rotary kiln in a rotating state in which powder is charged, in comparison with FIG. 1 which shows a cross section of a rotary kiln in a stationary state. 1) and core tube (2) wall contact surface (3)
There is substantially no slippage between the core and the core, the core is lifted by the core wall, and the powder leaves the wall above the angle of repose and flows down to the bottom of the core wall (black arrow in Fig. 2). Direction).

【0012】炉心管の材質は、処理を行った粉への材質
のコンタミが発生しないものを選択する必要があり、石
英製が好ましい。石英製の場合、製作上、炉心管のサイ
ズに限界があるので、条件によっては、多段のロータリ
ーキルンを用いて加熱処理を行うこととなる。加熱処理
を行う温度領域は、50〜1100℃である。通常、加
熱はヒーターによって行われる。
It is necessary to select a material for the furnace tube that does not cause contamination of the material to the treated powder, and is preferably made of quartz. In the case of quartz, there is a limit in the size of the furnace tube in terms of manufacturing, so that heat treatment is performed using a multi-stage rotary kiln depending on conditions. The temperature range in which the heat treatment is performed is 50 to 1100 ° C. Usually, heating is performed by a heater.

【0013】加熱処理により、まず、シリカゲルが含有
する水及びアルコールが揮発する。続いて、残存するカ
ーボン成分の燃焼温度領域に昇温される。この温度領域
は、300〜600℃である。しかしながら、本発明者
らの検討によって、300〜430℃で、残存するカー
ボン成分を燃焼するための加熱をロータリーキルンで行
うと、ロータリーキルン内の粉体の流動性が極めて悪い
ことが判明した。そこで、残存するカーボン成分の燃焼
は450℃以上の温度で行われる。
[0013] By the heat treatment, first, water and alcohol contained in the silica gel are volatilized. Subsequently, the temperature is raised to the combustion temperature range of the remaining carbon component. This temperature range is 300 to 600 ° C. However, the present inventors have found that when heating at 300 to 430 ° C. for burning the remaining carbon component is performed in a rotary kiln, the fluidity of the powder in the rotary kiln is extremely poor. Therefore, the combustion of the remaining carbon component is performed at a temperature of 450 ° C. or higher.

【0014】450℃以上の温度領域に加熱された粉体
は、残存カーボンの減少が進行する。粉体温度が、60
0℃以上となるとシリカゲルの封孔が開始するので、こ
の温度領域に到達するまでに、残存するカーボンのほぼ
全量を消失させておかなければならない。さもなけれ
ば、得られた合成石英粉中に未燃カーボンが残存し、溶
融成形の際に泡が発生する。
In the powder heated to a temperature range of 450 ° C. or higher, the residual carbon decreases. If the powder temperature is 60
When the temperature reaches 0 ° C. or higher, sealing of the silica gel starts, so that almost all of the remaining carbon must be eliminated before the temperature reaches this temperature range. Otherwise, unburned carbon remains in the obtained synthetic quartz powder, and bubbles are generated during melt molding.

【0015】そのために、粉体が450〜550℃の温
度領域を通過する時間を適切に制御する必要がある。ロ
ータリーキルンでは、粉体は進行方向に対し、ほぼピス
トンフロー的に移動する。従って、所定温度ゾーンの通
過時間は、ロータリーキルン内の所定温度ゾーンの長さ
と粉体の進行方向に対する移動速度からおのずと求めら
れる。例えば、所定温度ゾーンの長さが1mで、粉体の
進行方に対する移動速度が0.5m/Hrであると、通
過時間は2Hrとなる。
For this purpose, it is necessary to appropriately control the time during which the powder passes through the temperature range of 450 to 550 ° C. In a rotary kiln, powder moves in a piston flow substantially in the traveling direction. Therefore, the passage time in the predetermined temperature zone is naturally determined from the length of the predetermined temperature zone in the rotary kiln and the moving speed in the traveling direction of the powder. For example, when the length of the predetermined temperature zone is 1 m and the moving speed of the powder in the traveling direction is 0.5 m / Hr, the passage time is 2 Hr.

【0016】本発明においては、通過時間を、0.5〜
10時間、好ましくは、1〜5時間とする。この範囲よ
り短いと、十分に未燃カーボンを減少させるのが非常に
困難であり、また、これ以上の通過時間では、未燃カー
ボン量に差が見られず、装置が大型化し経済的ではな
い。次に、これまで述べた加熱処理の制御方法について
説明する。
In the present invention, the passage time is 0.5 to
The time is 10 hours, preferably 1 to 5 hours. If it is shorter than this range, it is very difficult to sufficiently reduce unburned carbon, and if the passage time is longer than this, there is no difference in the amount of unburned carbon, and the apparatus is large and not economical. . Next, a control method of the heat treatment described above will be described.

【0017】本発明では、操作を連続で行うので、処理
粉体の進行方向に従い炉心管の加熱ゾーンを複数個に分
割し、粉体の温度が所定領域になるように、各々のゾー
ンのヒーターの加熱強度を調節することにより達成され
る。具体的には、炉心管の片端より清浄な空気あるい
は、酸素含有ガスを供給し、他端より排出する方法がと
られる。ガスの供給量は、通常、連続的に供給する粉体
1kg当たり、酸素換算で30〜300リットル/Hr
である。ロータリーキルンを用い粉体を流動させつつ行
うことにより、カーボンの減少が促進されるとともに、
均質な処理粉体が得られる。
In the present invention, since the operation is performed continuously, the heating zone of the furnace tube is divided into a plurality of zones in accordance with the traveling direction of the processing powder, and the heaters of each zone are set so that the temperature of the powder becomes a predetermined region. This can be achieved by adjusting the heating intensity. Specifically, a method of supplying clean air or oxygen-containing gas from one end of the core tube and discharging it from the other end is adopted. The gas supply amount is usually 30 to 300 liters / Hr in terms of oxygen per 1 kg of powder continuously supplied.
It is. By using a rotary kiln while flowing the powder, the reduction of carbon is promoted and
A homogeneous treated powder is obtained.

【0018】この処理により、シリカゲル中のカーボン
濃度は、50〜1000ppm程度に減少する。残存す
るカーボンがほぼ消失した処理粉体は、引き続き加熱さ
れ、最終的な粉体の温度は、900〜1100℃、好ま
しくは950〜1050まで高められる。この際の昇温
速度は通常、100〜1000℃/Hrである。ロータ
リーキルンでは、粉体は進行方向に対し、ほぼピストン
フロー的に流れるので、供給した粉体はロータリーキル
ン内を進行方向に移動するに従い昇温されることとな
る。従って、粉体の昇温速度は、ロータリーキルン内の
温度分布と粉体の進行方向に対する移動速度からおのず
と求められる。例えば、温度測定点間の距離が1mで温
度差が200℃であり、粉体の進行方向に対する移動速
度が0.5m/Hrであると、昇温速度は400℃/H
rとなる。
By this treatment, the carbon concentration in silica gel is reduced to about 50 to 1000 ppm. The treated powder in which the residual carbon has almost disappeared is subsequently heated, and the temperature of the final powder is increased to 900 to 1100 ° C, preferably 950 to 1050. The heating rate at this time is usually 100 to 1000 ° C./Hr. In the rotary kiln, the powder flows substantially in a piston flow in the traveling direction, so that the temperature of the supplied powder increases as it moves in the rotary kiln in the traveling direction. Therefore, the temperature rising rate of the powder is naturally obtained from the temperature distribution in the rotary kiln and the moving speed of the powder in the traveling direction. For example, if the distance between the temperature measurement points is 1 m, the temperature difference is 200 ° C., and the moving speed of the powder in the traveling direction is 0.5 m / Hr, the heating rate is 400 ° C./H.
r.

【0019】この温度領域に於ける加熱処理も、清浄な
空気あるいは、酸素含有ガス雰囲気下で行われる。具体
的には、炉心管の片端より清浄な空気あるいは、酸素含
有ガスを供給し、他端より排出する方法がとられる。ガ
スの供給量は、通常、連続的に供給する粉体1kg当た
り、酸素換算で3〜50リットル/Hrである。またこ
の温度領域に於ける加熱処理もロータリーキルンを用い
粉体を流動させつつ行う事が望ましい。ロータリーキル
ンを用い粉体を流動させつつ行うことにより、均一な加
熱が行われ、均質な処理粉体が得られる。この処理によ
りシリカゲルの封孔はほぼ終了し、0.7〜0.8g/
ml程度であった粉体のタップ嵩密度(以後、嵩密度と
称す)は、1.0〜1.2g/ml程度まで上昇する。
The heat treatment in this temperature range is also performed in a clean air or oxygen-containing gas atmosphere. Specifically, a method of supplying clean air or oxygen-containing gas from one end of the core tube and discharging it from the other end is adopted. The supply amount of gas is usually 3 to 50 liter / Hr in terms of oxygen per 1 kg of powder continuously supplied. Further, it is desirable that the heat treatment in this temperature range is also carried out by using a rotary kiln while flowing the powder. By performing the process while the powder is flowing using a rotary kiln, uniform heating is performed, and a uniform processed powder is obtained. With this treatment, the sealing of the silica gel was almost completed, and 0.7-0.8 g /
The tap bulk density (hereinafter referred to as bulk density) of the powder, which was about ml, rises to about 1.0 to 1.2 g / ml.

【0020】本発明に従いシリカゲル粉末に加熱処理を
施すと合成石英粉が得られるが、通常、シラノールが1
000ppm以上残存している。そこで、更に高められ
た温度領域での焼成を行う。焼成に用いる容器は、合成
石英粉への不純物のコンタミを発生させない材質、例え
ば、石英製のるつぼを用いる。この焼成に於いては、す
でに、焼成に用いる粉体中のカーボンは実質的に全量除
去されているので、昇温速度に特別な注意を払う必要は
ない。従って、容器内での昇温速度のばらつきが品質に
影響を与えないので、均質な製品が得られ、従来に比
べ、大容量の容器の使用も可能となる。また、予め、粉
体の嵩密度が十分に高められており、焼成前の粉体の嵩
密度と焼成後の粉体の嵩密度に大きな変化がなく、容器
を効率的に利用できるので、生産性の向上が計られる。
When silica gel powder is heat-treated in accordance with the present invention, synthetic quartz powder is obtained.
000 ppm or more remains. Therefore, firing is performed in a further elevated temperature range. As a container used for firing, a material that does not generate contamination of the synthetic quartz powder with impurities, for example, a crucible made of quartz is used. In this firing, it is not necessary to pay special attention to the heating rate because substantially all of the carbon in the powder used for firing has already been removed. Therefore, since the variation in the heating rate in the container does not affect the quality, a homogeneous product can be obtained, and a container having a larger capacity can be used as compared with the related art. In addition, since the bulk density of the powder has been sufficiently increased in advance, there is no significant change in the bulk density of the powder before firing and the bulk density of the powder after firing, and the container can be used efficiently, so production It is possible to improve the sex.

【0021】焼成温度は、通常、1100〜1300℃
である。昇温速度は特に限定されず、100〜2000
℃/Hrの範囲から適宜選択さる。焼成時間は、焼成温
度にもよるが、通常10〜100時間で、合成石英粉中
のシラノール濃度が100ppm以下、好ましくは、6
0ppm以下となるまで継続される。また、加熱の際に
実質的に水分を含有しない空気、あるいは、不活性ガス
を流通しつつ行うとシラノール基の減少速度が加速され
るので好ましい。当然ながら、焼成後の合成石英粉中に
は、実質的にカーボンは存在しない。
The firing temperature is usually 1100-1300 ° C.
It is. The heating rate is not particularly limited, and is 100 to 2000.
It is appropriately selected from the range of ° C / Hr. Although the firing time depends on the firing temperature, it is usually 10 to 100 hours, and the silanol concentration in the synthetic quartz powder is 100 ppm or less, preferably 6 hours.
It is continued until it becomes 0 ppm or less. Further, it is preferable that the heating is carried out while flowing air containing substantially no water or an inert gas, because the rate of reduction of silanol groups is accelerated. Naturally, carbon does not substantially exist in the synthetic quartz powder after firing.

【0022】このようにして得られた合成石英粉は、成
形体に成形される。その、成形方法は、成形体の用途に
よって異なるが、例えば、用途がるつぼで有る場合には
アークメルト法が、IC用治具である場合には、一旦、
酸・水素炎によるベルヌーイ法でインゴットに成形する
方法や、炭素製の鋳型を用い真空下で加熱溶融するヒュ
ージョン法等が挙げられる。
The synthetic quartz powder thus obtained is formed into a compact. The molding method differs depending on the use of the molded body. For example, when the use is a crucible, the arc melt method is used.
Examples thereof include a method of forming an ingot by a Bernoulli method using an acid / hydrogen flame, and a fusion method of heating and melting under a vacuum using a carbon mold.

【0023】いずれにしても、本発明方法によって得ら
れた合成石英粉を用いると、泡の発生が極めて少ない成
形体が得られるので、成形体の品質及び製品歩留りが大
きく向上する。
In any case, when the synthetic quartz powder obtained by the method of the present invention is used, a molded product with extremely few bubbles is obtained, so that the quality of the molded product and the product yield are greatly improved.

【0024】[0024]

〔実施例1〕[Example 1]

(ドライシリカゲルの作成)高純度テトラメトキシシラ
ンを水と反応させ、塊状のウェトゲルを得た。続いて、
この塊状のウェトゲルを網式粉砕機で粉砕した後、減圧
下で加熱乾燥し、粉状のドライシリカゲルを得た。この
粉状のドライシリカゲルを、振動篩別機で分級し500
μm以下及び100μm以上の粒子を取得した。この粉
状のドライシリカゲルを分析したところ、含液率は1
9.5重量%で、カーボン濃度は1.1重量%であっ
た。また、この粉状のドライシリカゲルの嵩密度は、
0.92g/mlであった。
(Preparation of dry silica gel) High-purity tetramethoxysilane was reacted with water to obtain a lumpy wet gel. continue,
The lump-shaped wet gel was crushed by a net crusher and then dried by heating under reduced pressure to obtain powdery dry silica gel. This powdery dry silica gel is classified with a vibration sieving machine to 500
Particles of less than 100 μm and more than 100 μm were obtained. When this powdery dry silica gel was analyzed, the liquid content was 1
The carbon concentration was 9.5% by weight, and the carbon concentration was 1.1% by weight. The bulk density of this powdery dry silica gel is
It was 0.92 g / ml.

【0025】概略を図3に示すロータリーキルンを用
い、以下の加熱処理を行った。図3中、6はドライゲル
ホッパー、7はテーブルフィーダー、8は炉心管、9は
供給口、10は供給口ドーナツ状堰、11は空気供給
管、12は排出口、13は排出口ドーナツ状堰、14は
処理粉受器、15は第1加熱ヒーター、16は第2加熱
ヒーター、17は第3加熱ヒーター、18は第4加熱ヒ
ーター、19は第5加熱ヒーターである。炉心管は材質
が石英で、長さ(加熱ゾーン):2m、内径:200m
m、供給口ドーナツ状堰開口径:20mm、排出口ナツ
状堰開口径: 40mmの寸法とし、最大層高が80m
mとなるように設定した。また、炉心管は、傾斜角度が
0.2°になるように調節した。 (加熱処理)まず、加熱ヒーターを昇温し(第1加熱ヒ
ーター:330℃、第2加熱ヒーター:330℃、第3
加熱ヒーター:455℃、第4加熱ヒーター:455
℃、第5加熱ヒーター:455℃)、炉心管を8rpm
で回転させつつ粉状のドライシリカゲルを11kg/時
で、空気を100リットル/分で供給口より供給した。
The following heat treatment was performed using the rotary kiln whose outline is shown in FIG. In FIG. 3, 6 is a dry gel hopper, 7 is a table feeder, 8 is a furnace tube, 9 is a supply port, 10 is a supply port donut-shaped weir, 11 is an air supply pipe, 12 is a discharge port, and 13 is a donut-shaped discharge port. Weir, 14 is a processing powder receiver, 15 is a first heater, 16 is a second heater, 17 is a third heater, 18 is a fourth heater, and 19 is a fifth heater. The furnace tube is made of quartz, length (heating zone): 2m, inner diameter: 200m
m, opening diameter of doughnut-shaped weir at supply port: 20 mm, opening diameter of doughnut-shaped weir at discharge port: 40 mm, maximum bed height 80 m
It was set to be m. The core tube was adjusted so that the inclination angle was 0.2 °. (Heat treatment) First, the temperature of the heater is raised (first heater: 330 ° C, second heater: 330 ° C, third heater
Heater: 455 ° C, 4th heater: 455
℃, 5th heater: 455 ℃), the core tube 8 rpm
The powdery dry silica gel was supplied at a rate of 11 kg / hour and the air at a rate of 100 l / min from the supply port while rotating at.

【0026】炉心管内の粉体は、連続して、終始流動し
ていた。各加熱ゾーンの粉体の温度は、第1加熱ヒータ
ー部:110℃、第2加熱ヒーター部:135℃、第3
加熱ヒーター部:265℃、第4加熱ヒーター部:43
3℃、第5加熱ヒーター部:464℃であった。粉体温
度が300℃以下のゾーンの、ガスの発生量は、310
N-リットル/Kg・Hrであった。また、粉体温度が30
0〜430℃のゾーンの長さは、30cmであった。さ
らに、粉体温度が450〜464℃のゾーンの通過時間
は、0.6時間であった。次に、供給操作開始後、4、
6、8時間目に排出された粉を分析したところ、表1に
示す値であった。
The powder in the core tube was continuously flowing all the time. The temperature of the powder in each heating zone is as follows: 1st heating heater part: 110 ° C, 2nd heating heater part: 135 ° C, 3rd
Heating heater part: 265 ° C, 4th heating heater part: 43
It was 3 degreeC and the 5th heater part: 464 degreeC. The amount of gas generated in the zone where the powder temperature is 300 ° C. or lower is 310
It was N-liter / Kg · Hr. Also, the powder temperature is 30
The length of the zone from 0 to 430 ° C was 30 cm. Further, the passage time through the zone where the powder temperature was 450 to 464 ° C. was 0.6 hours. Next, after starting the supply operation,
When the powder discharged at 6th and 8th hours was analyzed, the values shown in Table 1 were obtained.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】表1から判るように、粉体の分析値は安定
していた。続いて、同じロータリーキルンを用い、上記
操作で得られた粉を、以下に示件で加熱処理した。第1
加熱ヒーター:500℃、第2加熱ヒーター:750℃
3加熱ヒーター:750℃、第4加熱ヒーター:100
0℃、第5加熱ヒーター:1030℃に昇温し、炉心管
を8rpmで回転させつつ、粉体を9.2kg/Hr
で、空気を110リットル/分で供給口より供給した。
As can be seen from Table 1, the analytical values of the powder were stable. Then, using the same rotary kiln, the powder obtained by the above operation was heat-treated under the following conditions. First
Heater: 500 ℃, 2nd heater: 750 ℃
3 heaters: 750 ° C, 4th heaters: 100
0 ° C., 5th heater: heated to 1030 ° C., while rotating the core tube at 8 rpm, powder 9.2 kg / Hr
Then, air was supplied from the supply port at 110 l / min.

【0029】加熱処理の粉体の最終温度は、1020℃
であった。炉心管内の粉体は、連続して、終始流動して
いた。供給操作開始後、4、6、8時間目に排出された
合成石英粉を分析したところ、表2に示す値であった。
The final temperature of the heat-treated powder is 1020 ° C.
Met. The powder in the furnace tube was flowing continuously and continuously. When the synthetic quartz powder discharged at 4, 6, and 8 hours after the start of the supply operation was analyzed, the values shown in Table 2 were obtained.

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】(焼成)加熱処理で得られた合成石英粉1
30kgを直径550mmの石英るつぼに仕込み、電気
炉内で加熱し焼成を行った。炉は昇温速度 200℃/
Hrで到達温度1200℃まで昇温後、同温度で40時
間保持した。この際、るつぼに、露点が−60℃の清浄
な乾燥空気を780リットル/Hrで流通した。保持終
了後、加熱を停止し、室温まで冷却した。冷却の際にも
清浄な乾燥空気は流通した。焼成後られた合成石英粉
は、112kgであった。得られた合成石英粉を、サン
プリング場所毎に分析したところ表3に示す値であっ
た。
(Baking) Synthetic quartz powder 1 obtained by heat treatment
30 kg was charged into a quartz crucible having a diameter of 550 mm, and heated and fired in an electric furnace. Furnace heating rate 200 ℃ /
After the temperature was increased to an ultimate temperature of 1200 ° C. with Hr, the temperature was maintained at the same temperature for 40 hours. At this time, clean dry air having a dew point of −60 ° C. was passed through the crucible at 780 liters / hr. After the completion of the holding, the heating was stopped and the temperature was cooled to room temperature. During the cooling, clean dry air circulated. The calcined synthetic quartz powder weighed 112 kg. When the obtained synthetic quartz powder was analyzed for each sampling location, the values shown in Table 3 were obtained.

【0032】[0032]

【表3】 [Table 3]

【0033】(成形)焼成で得られた合成石英粉を、各
々のサンプリング場所毎に、ベルヌーイ法で、インゴッ
トに成形した。インゴット中に、泡の発生は見られなか
った。 〔比較例1〕各ヒ−ターの温度を第1加熱ヒーター:4
50℃、第2加熱ヒーター:450℃、第3加熱ヒータ
ー:450℃、第4加熱ヒーター:450℃、第5加熱
ヒーター:450℃にした以外は、実施例1と同様のロ
ータリーキルンを用い、実施例1(ドライシリカゲルの
作成)で得られた粉状のドライシリカゲルの加熱処理を
実施した。粉体温度が300℃以下のゾーンの、ガスの
発生量は、600N-リットル/Kg・Hrであった。第2
加熱ヒーター部の粉体は断続的に、突沸を繰り返し、流
動性が不良であった。
(Molding) The synthetic quartz powder obtained by firing was molded into an ingot by the Bernoulli method at each sampling location. No foaming was observed during the ingot. [Comparative Example 1] First heater: 4
50 ° C., second heating heater: 450 ° C., third heating heater: 450 ° C., fourth heating heater: 450 ° C., fifth heating heater: 450 ° C. The powdery dry silica gel obtained in Example 1 (preparation of dry silica gel) was heat-treated. The amount of gas generated in the zone where the powder temperature was 300 ° C. or lower was 600 N-liter / Kg · Hr. Second
The powder in the heating heater section intermittently repeated bumping and had poor fluidity.

【0034】〔比較例2〕各ヒ−ターの温度を第1加熱
ヒーター:330℃、第2加熱ヒーター:330℃、第
3加熱ヒーター:330℃、第4加熱ヒーター:330
℃、第5加熱ヒーター:330℃にした以外は、実施例
1と同様のロータリーキルンを用い、実施例1(ドライ
シリカゲルの作成)で得られた粉状のドライシリカゲル
の加熱処理を実施した。 各加熱ゾーンの粉体の温度
は、第1加熱ヒーター部:110℃、第2加熱ヒーター
部:135℃、第3加熱ヒーター部:220℃、第4加
熱ヒーター部:320℃、第5加熱ヒーター部:330
℃であった。粉体温度が300〜430℃のゾーンの長
さは、100cmであった。第3加熱ヒーター部以降
は、ほとんど流動が見られなかった。
[Comparative Example 2] The temperature of each heater was set as follows: first heating heater: 330 ° C, second heating heater: 330 ° C, third heating heater: 330 ° C, fourth heating heater: 330.
C., 5th heater: The same rotary kiln as in Example 1 was used except that the temperature was set to 330.degree. C., and the powdery dry silica gel obtained in Example 1 (preparation of dry silica gel) was heat-treated. The temperature of the powder in each heating zone is as follows: first heating heater part: 110 ° C., second heating heater part: 135 ° C., third heating heater part: 220 ° C., fourth heating heater part: 320 ° C., fifth heating heater. Part: 330
° C. The length of the zone where the powder temperature was 300 to 430 ° C. was 100 cm. Almost no flow was observed after the third heater part.

【0035】〔比較例3〕各ヒ−ターの温度を第1加熱
ヒーター:330℃、第2加熱ヒーター:330℃、第
3加熱ヒーター:450℃、第4加熱ヒーター:650
℃、第5加熱ヒーター:650℃にした以外は、実施例
1と同様のロータリーキルンを用い、実施例1(ドライ
シリカゲルの作成)で得られた粉状のドライシリカゲル
の加熱処理を実施した。各加熱ゾーンの粉体の温度は、
第1加熱ヒーター部:100℃、第2加熱ヒーター部:
120℃、第3加熱ヒーター部:440℃、第4加熱ヒ
ーター部:640℃、第5加熱ヒーター部:660℃で
あった。
[Comparative Example 3] The temperature of each heater was set as follows: first heating heater: 330 ° C., second heating heater: 330 ° C., third heating heater: 450 ° C., fourth heating heater: 650.
C., 5th heater: The powdery dry silica gel obtained in Example 1 (preparation of dry silica gel) was heat-treated using the same rotary kiln as in Example 1 except that the heating temperature was 650.degree. The temperature of the powder in each heating zone is
First heating heater part: 100 ° C, second heating heater part:
The temperature was 120 ° C., the third heating heater part was 440 ° C., the fourth heating heater part was 640 ° C., and the fifth heating heater part was 660 ° C.

【0036】粉体は、連続して、終始流動していた。粉
体温度が450〜550℃のゾーンの通過時間は、0.
3時間であった。次に、供給操作開始後、4、6、8時
間目に排出された粉を観察したところ、いずれも黒色粒
子の混入が見られた。
The powder was continuously flowing all the time. The passing time through the zone where the powder temperature is 450 to 550 ° C. is 0.
It was 3 hours. Next, when the powder discharged 4 hours, 6 hours, and 8 hours after the start of the feeding operation was observed, black particles were found to be mixed in all of them.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明により、溶融時に発泡の原因とな
る残存カーボン量の少ない合成石英粉を容易に得ること
ができる。
According to the present invention, it is possible to easily obtain a synthetic quartz powder having a small amount of residual carbon which causes foaming during melting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】粉体を仕込んだ静止状態のロータリーキルンの
断面図
FIG. 1 is a cross-sectional view of a stationary rotary kiln charged with powder.

【図2】仕込んだ粉体が流動状態にある、回転状態のロ
ータリーキルンの断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a rotating rotary kiln in which charged powder is in a flowing state.

【図3】本発明に用いることのできるロータリーキルン
の概略を示す図
FIG. 3 is a diagram schematically showing a rotary kiln that can be used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:粉体 2:炉心管 3:接粉面 4:炉心管内の空隙 5:粉体表面 6:ドライゲルホッパー 7:テーブルフィーダー 8:炉心管 9:供給口 10:供給口ドーナツ状堰 11:空気供給管 12:排出口 13:排出口ドーナツ状堰 14:処理粉受器 15:第1加熱ヒーター 16:第2加熱ヒーター 17:第3加熱ヒーター 18:第4加熱ヒーター 19:第5加熱ヒーター 1: powder 2: furnace tube 3: powder contact surface 4: void in furnace tube 5: powder surface 6: dry gel hopper 7: table feeder 8: furnace tube 9: supply port 10: supply port donut weir 11: Air supply pipe 12: Outlet 13: Outlet donut-shaped weir 14: Processing powder receiver 15: First heater 16: Second heater 17: Third heater 18: Fourth heater 19: Fifth heater

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリカゲル粉末を、ロータリーキルンの
片端より連続的に供給しつつ、流動させながら加熱処理
することにより合成石英粉を製造する方法であって、ロ
ータリーキルン内の粉体の温度が450〜550℃のゾ
ーンの通過時間が0.5〜10時間となるように操作す
ることを特徴とする合成石英粉の製造方法。
1. A method for producing a synthetic quartz powder by continuously supplying silica gel powder from one end of a rotary kiln and heating while flowing, wherein the temperature of the powder in the rotary kiln is 450 to 550. A method for producing synthetic quartz powder, which is operated such that the passage time in a zone of ° C is 0.5 to 10 hours.
【請求項2】 加熱処理の最終温度が900〜1100
℃である請求項1記載の製造方法。
2. The final temperature of the heat treatment is 900 to 1100.
The manufacturing method according to claim 1, wherein the temperature is ° C.
【請求項3】 加熱処理を1100℃以下で行った後、
更に1100℃を超える温度で焼成する請求項1又は2
に記載の製造方法。
3. After the heat treatment is performed at 1100 ° C. or lower,
Further, firing is performed at a temperature exceeding 1100 ° C.
The production method described in 1.
【請求項4】 多段のロータリーキルンを用いて行う請
求項1乃至3のいずれかに記載の製造方法。
4. The manufacturing method according to claim 1, which is carried out using a multistage rotary kiln.
【請求項5】 ロータリーキルンの炉心管材質が石英で
ある請求項1乃至4のいずれかに記載の製造方法。
5. The manufacturing method according to claim 1, wherein the material of the core tube of the rotary kiln is quartz.
【請求項6】 シリカゲル粉末がテトラアルコキシシラ
ンの加水分解により得られたものである請求項1乃至5
のいずれかに記載の製造方法。
6. The silica gel powder is obtained by hydrolysis of tetraalkoxysilane.
The manufacturing method according to any one of 1.
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