JPH09865A - 排ガスの処理方法及び装置 - Google Patents
排ガスの処理方法及び装置Info
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- JPH09865A JPH09865A JP7176695A JP17669595A JPH09865A JP H09865 A JPH09865 A JP H09865A JP 7176695 A JP7176695 A JP 7176695A JP 17669595 A JP17669595 A JP 17669595A JP H09865 A JPH09865 A JP H09865A
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Abstract
び装置において、湿式電気集塵装置の使用を必要としな
い方法を提供する。 【構成】 排ガスを冷却除塵塔31に導入し、噴霧状液
滴粒子と接触させた後、冷却除塵塔から抜出し、第1隔
板2と第2隔板3とによって第1室5と第2室6と第3
室7とに区画された密閉槽の第2室に供給し、排ガス分
散管9を通して第1室の吸収液中に吹込み、第1室の上
部空間に存在する排ガスを排ガス上昇筒10内を上昇さ
せ、第3室に上昇してきた排ガスを、その先端から洗浄
液が液幕状に流下している排ガス衝突板26に衝突さ
せ、液幕と接触させ、ついで排ガスを第3室に配設され
排ガス出口11から排出させ、ミストエリミネータ12
に導入し、排ガス中の液滴粒子を除去した後、大気中へ
放出させる。
Description
む排ガスの処理方法及び処理装置に関するものである。
冷却除塵塔に導入し、ここで排ガスを冷却除塵した後、
脱硫装置に導入して脱硫処理し、次いで脱硫処理された
排ガスをミストエリミネータに導入し、ここで排ガス中
の液滴粒子(ミスト)を除去した後、湿式電気集塵装置
に導入し、ここで排ガス中に残存する粉塵を除去した
後、大気へ放出する排ガスの処理方法は広く行われてい
る。
おいては、排ガス中に含まれる粉塵を除去するために、
前記したように、湿式電気集塵装置が用いられている
が、このものは、大規模の装置でありその装置コストは
非常に高く、しかもその設置面積も広いことから、排ガ
ス処理コストを上昇させる大きな要因の1つになってい
る。従って、このような湿式電気集塵装置は、可能であ
れば、その配設を省略することが望ましいものである
が、大気へ放出させる排ガス中の粉塵濃度規制は年々厳
しくなってきており、この点から、前記湿式電気集塵装
置の配設は余儀ないものとされていた。
酸ガスを含む排ガスの処理方法及び装置において、湿式
電気集塵装置の使用を必要としない方法及び装置を提供
することをその課題とする。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、粉塵と亜硫酸ガスを
含む排ガスを処理する方法において、(i)排ガスを冷
却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、そ
の冷却除塵塔から抜出すこと、(ii)冷却除塵塔から抜
出された排ガスを、第1隔板とその上方に位置する第2
隔板とによってその内部が第1室と第1室の上方に隣接
する第2室と第2室の上方に隣接する第3室とに区画さ
れた密閉槽におけるその第2室に供給すること、(ii
i)第2室に供給された排ガスを第1隔板に形成された
透孔に垂設された排ガス分散管を通して第1室に収容さ
れている吸収液中に吹込むこと、(iv)第1室の上部空
間に存在する排ガスを第1室と第3室との間を連絡し、
その上端が第2隔板表面より上方に位置する排ガス上昇
筒内を上昇させること、(v)排ガス上昇筒を通して第
3室に上昇してきた排ガスをその排ガス上昇筒の上方に
配設されている液体流下壁を有し、その先端から洗浄液
が液幕状に流下している排ガス衝突板に衝突させるとと
もに、排ガスをその液幕と接触させること、(vi)第3
室内において前記液幕と接触させた後の排ガスを第3室
に配設された排ガス出口から排出させること、(vii)
第3室から排出された後の排ガスをミストエリミネータ
に導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去した後、
ミストエリミネータから抜出すこと、(viii)ミストエ
リミネータから抜出した排ガスを湿式電気集塵処理する
ことなく大気中へ放出させること、を特徴とする排ガス
の処理方法が提供される。
する排ガス冷却除塵塔と、冷却除塵塔からの排ガスを脱
硫するための脱硫装置と、脱硫装置から排出された排ガ
ス中の液滴粒子を除去するためのミストエリミネータ
と、ミストエリミネータからの排ガスを大気中へ放出さ
せる排ガス排出筒を備えたものであって、前記脱硫装置
は、第1隔板とその上方に位置する第2隔板とによって
その内部が第1室と第1室の上方に隣接する第2室と第
2室の上方に隣接する第3室とに区画された密閉槽と、
第2室の周壁に形成された排ガス入口と、第3室に配設
された脱硫排ガス出口と、第1隔板に形成された透孔
と、その透孔に垂設された排ガス分散管と、第1室と第
3室とを連絡し、その上端が第2隔板表面より上方に位
置する排ガス上昇筒と、第3室において排ガス上昇筒の
上方に配設され、液体流下壁とその液体流下壁に洗浄液
を供給する液分散機構を有する排ガス衝突板を備えたこ
とを特徴とする排ガスの処理装置が提供される。
図1は、本発明の排ガスの処理装置の模式図を示す。こ
の図において、1は排ガス処理装置、1’は密閉槽(又
は排ガス脱硫装置)、2は第1隔板、3は第2隔板、4
は天板、5は第1室、6は第2室、7は第3室、8は排
ガス導入ダクト、9は排ガス分散管、10は排ガス上昇
筒、11は排ガス導出ダクト、12はミストエリミネー
タ、13は排ガス洗浄液抜出し管、14は排ガス洗浄液
槽、15はポンプ、16は排ガス洗浄液供給管、17は
排ガス洗浄液スプレーノズル、18は吸収剤供給管、1
9,19’は洗浄液供給管、20は排ガス洗浄液補給
管、21は酸素含有ガス供給管、22は酸素含有ガス噴
出ノズル、23は排液管、24は撹拌機、25は排ガス
洗浄液導管、26は排ガス衝突板、31は冷却除塵塔、
31’は密閉筒体、32は排ガス導入ダクト、33は冷
却液抜出し管、34はポンプ、35は冷却液供給管、3
6は冷却液スプレーノズル、37は加熱器、38は排ガ
ス排出筒、Aはフロス層(気液混合層)、L1は吸収
液、L2は排ガス洗浄液、L3は冷却液を各示す。
は、大型の密閉槽1’から構成され、その槽の内部は、
第1隔板2及びその上方に位置する第2隔板3によって
第1室5と第1室の上方に隣接する第2室6と第2室の
上方に隣接する第3室7とに区画されている。第3室の
上部空間は天板4によって密閉されている。第1隔板2
は水平又はやや傾斜したものであることができる。第2
隔板3は水平又は傾斜したものであることができ、その
傾斜角は特に制約されない。第1室5の内部には、吸収
液L1が収容されている。また、第1室には、撹拌機2
4と、吸収液L1中に酸素を供給する必要がある場合に
用いられる酸素含有ガス噴出ノズル22が配設されてい
る。第2室6の周壁には排ガス入口が配設され、この入
口には排ガス導入ダクト8が連結されている。第2室の
空間には特別の装置の配設は特に必要とはされないが、
必要に応じ、吸収液をスプレーするためのスプレーノズ
ル(図示されず)を配設することもできる。第3室7の
内には、排ガス上昇筒10の出口の上方に排ガス衝突板
26が配設されている。第3室7の上方に配設された天
板4には、排ガス出口が配設され、この出口には脱硫排
ガス導出ダクト11が連結されている。また、排ガス出
口は周壁に形成することもできる。密閉槽1’の外部に
は、第3室7の床面を構成する第2隔板3上に滞留する
洗浄液L2を、第3室の排ガス衝突板26に配設した液
分散機構とスプレーノズル17に循環させるための循環
ラインが配設されている。この循環ラインは、洗浄液抜
出し管13、洗浄液槽14、循環ポンプ15及び洗浄液
供給管16、19、19’からなる。洗浄液槽14に
は、洗浄液を補給するための洗浄液補給管20が連結さ
れている。
間を連絡する透孔が多数配設され、各透孔にはその先端
が第1室の吸収液L1中に延びる排ガス分散管9が垂設
されている。また、第1隔板2及び第2隔板3には、排
ガス上昇筒10を配設するための開口が配設され、これ
らの開口には、第1室5の上部空間に存在する排ガスを
第3室7に導入させるための排ガス上昇筒10が連結さ
れている。この場合、排ガス上昇筒10の上端は第2隔
板の表面より上方に突出し、第2隔板上の洗浄液が第2
隔板上に一定量滞留するようになっている。排ガス上昇
筒の横断面形状は、円形や正方形、長方形等の各種の形
状であることができる。排ガス上昇筒10の上方には、
排ガス衝突板26が配設されている。
流下壁とその液体流下壁に洗浄液を供給する液分散機構
を有するものである。この衝突板は、排ガス上昇筒10
を上昇してきた排ガスをその下面で受け、排ガス中に含
まれる液滴粒子をその下面に液膜として形成させる作用
を有する。また、この衝突板は、液体流下壁とその液体
流下壁に洗浄液を供給する液分散機構を有し、その液体
流下壁の先端から洗浄液を液幕状に流下させる作用を有
する。
れないが、一般的には、中央部が排ガス衝突面に形成さ
れ、その周縁に液体流下壁を有する下端開口した中空構
造物からなる排ガス衝突面は平面や曲面、凹凸面等の種
々の面であることができる。液体流下壁面は、液体がそ
の面に沿って流下し、その先端から下方に流下し得る面
であればよく、平面や曲面、凹凸面等であることができ
る。液体流下壁を有する衝突板の形状例を示すと、箱
状、中空半球状の他、周縁部よりも中央部が上方に突出
した形状、例えば陣笠形状等であることができる。
対して、液分散機構を配設する。図2に液分散機構を下
面に配設した衝突板の1つの例について示す。図2にお
いて、26は衝突板を示し、このものは排ガス衝突部A
と、その周縁に形成された液体流下壁Bから構成され
る。また、衝突板の下面に配設された液分散機構は、衝
突板の液体流下壁に洗浄液を供給するもので、衝突板の
中央部下方に開口する液体導入管41と、その液体導入
管の開口部を包囲する短筒42と、その短筒の先端開口
に配設した液分散板43から構成される。液分散板43
としては、液体を放射状に噴出又は流出させる構造のも
のであればよい。図3及び図4に液分散板の斜視図を示
す。
突板26に対し、その液体導入管41を通して排ガス洗
浄液を供給すると、その洗浄液は矢印aの方向に噴出又
は流出され、衝突板26の液体流下壁Bの内面に受止さ
れ、その内面を下方に流下し、その液体流下壁先端から
矢印b方向に液幕状で流下する。排ガス上昇筒を上昇し
てきた排ガスは、衝突板26の衝突部Aの下面に衝突
し、その流路を液体流下壁Bに案内されて下方向に変更
し、その液体流下壁先端から下方に向けて形成されてい
る洗浄液の液幕を通過するとともに、その通過に際して
液幕と接触する。そして、排ガス中の粉塵はこの液幕と
の接触により排ガス中から除去される。
に、冷却除塵塔31を配設する。この冷却除塵塔31
は、密閉筒体31’と、その天板に連結された排ガス導
入ダクト32と、密閉筒体の下部に形成された排ガス導
出口と、密閉筒体の底部に収容する冷却液L3を密閉筒
体の上部に冷却液循環ラインと、冷却液L3をスプレー
させるスプレーノズル36から構成される。また、冷却
液循環ラインは、冷却液抜出し管33と循環ポンプ34
と冷却液供給管35から構成される。
するには、排ガスを排ガス導入ダクト32を介して冷却
除塵塔31内に導入する。冷却除塵塔31では、冷却液
L3が冷却液抜出し管33、循環ポンプ34及び冷却液
供給管35を通してスプレーノズル36からスプレーさ
れており、冷却除塵塔31内に導入された排ガスは、こ
のスプレーされた冷却液粒子と接触し、排ガスの除塵と
ともに、排ガスの冷却増湿が行われる。冷却液として
は、水や、吸収液、アルカリ性水溶液が用いられる。
の冷却除塵塔31の下部に連結された排ガス処理装置の
密閉槽1に連絡する排ガス導入ダクト8を介して、第2
室6内に導入され、ここから排ガス分散管9を介して第
1室5内の吸収液L1中に吹込まれる。吸収液L1中に吹
込まれた排ガスは気泡となって上昇し、その分散管のガ
ス噴出孔より上方には気泡と吸収液との混合相からなる
フロス層Aが形成される。排ガスが吸収液中を気泡とし
て上昇する間に排ガス中に含まれている粉塵や亜硫酸ガ
ス等の汚染物質は吸収液に捕捉され、排ガス中から除去
される。
ス層Aから上部空間に放散され、ここから排ガス上昇筒
10を通って第3室7に導入される。この第3室内に
は、その床面を形成する第2隔板3の上面に滞留する洗
浄液L2を抜出すための洗浄液抜出し管13、洗浄液槽
14、ポンプ15、洗浄液供給管16及び19、19’
を通って循環される洗浄液が、衝突板26に配設されて
いる液分散機構に供給され、その衝突板26の液体流下
壁の先端から洗浄液が液幕状に流下されている。衝突板
26の下面に衝突した排ガスは、この洗浄液の流下液幕
を通過するが、その際、洗浄液の流下液幕と接触し、排
ガス中に残存している粉塵がこの液幕に捕捉され、排ガ
ス中から除去される。
れた天板4の開口部に連結された排ガス導出ダクト11
を通って槽外へ抜出され、ミストエリミネータ12に導
入され、ここでそのガス中に含まれていた吸収液粒子等
が除去された後、加熱器37に入り、ここでガス中に残
存するミストが気化された後、排ガス筒38を通って大
気へ放出される。
流下した洗浄液は、第2隔板3の上面に落下滞留し、こ
こから洗浄液抜出し管13を通って洗浄液槽14へ返送
される。
にガス噴出孔を有するものや、下端がノズル構造に形成
されたもの等の各種のものを用いることができる。図5
に下端部の周壁面にガス噴出孔を有する排ガス分散管の
斜視図を示す。図5において、9は排ガス分散管を示
し、45はその下端部周壁面に形成されたガス噴出孔を
示す。
第2隔板3の上面に滞留する洗浄液L2を一時的に貯留
させる貯槽としての作用とともに、補給用の洗浄液の受
槽としての作用を示す。補給用の洗浄液は、洗浄液槽1
4に対し、洗浄液補給管20を通して供給される。ま
た、図1に示した洗浄液槽14の設置は必ずしも必要と
はされず、洗浄液抜出し管13は、これを循環ポンプ1
5に直接連結させることもできる。この場合には、補給
用の洗浄液は、その洗浄液抜出し管13又は洗浄液供給
管16に供給することができる。
レーノズル17に循環される洗浄液の一部は、これを循
環ライン、例えば、洗浄液抜出し管13や、図1に示す
ように洗浄液供給管16から抜出し、系外へ排出させる
ことができるが、好ましくは図1に示すように、導管2
5を通って吸収液L1中に導入させる。このような操作
により、衝突板の液分散機構やスプレーノズル17に循
環される洗浄液の成分組成を常に所定の範囲に保持し、
洗浄液の排ガス中固形分の除去能力を高く保持させるこ
とができる。
させる洗浄液の量は、排ガス上昇筒10から上昇する標
準状態に換算された排ガス1m3/hr当り、通常、
0.1〜10kg/hr好ましくは0.2〜2kg/h
rである。このような洗浄液量を衝突板26の液体流下
壁から液幕状に流下させることにより、排ガス上昇筒1
0を上昇する排ガス中に含まれている粉塵を効果的に除
去することができる。
応性を示す各種のものが用いられる。このようなものと
しては、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金
属化合物等のアルカリ性物質を含む溶液やスラリーが用
いられ、特に水酸化カルシウムスラリーや、炭酸カルシ
ウムスラリーが用いられる。また、吸収液として炭酸カ
ルシウムスラリーや水酸化カルシウムスラリーを用いる
場合、これらのカルシウム化合物は亜硫酸ガスと反応し
て亜硫酸カルシウムを形成するが、この場合、吸収液中
に空気や酸素を導入することにより、硫酸カルシウム
(石コウ)を得ることができる。
ようなものでも用いることができる。このような洗浄液
は、水、海水等の入手容易な任意の液体を用いることも
できる。特に水の使用は、その液滴粒子が処理した排ガ
ス中に残存しても粉塵とならないので好ましい。
する。 実施例1 図1に示した構造の排ガス処理装置(但し、スプレーノ
ズル17を省略)を用いて、粉塵:150mg/N
m3、SO2:800volppm、O2:5vol%を
含む排煙を除去除塵塔31で処理した後、脱硫装置1で
処理した。この場合の脱硫装置条件を示すと次の通りで
ある。 (1)密閉槽1の直径:3.2m (2)第1室5の高さ:4m (3)第2室6の高さ:2m (4)第3室7の高さ:2.5m (5)ガス分散管9の直径:4インチ及び本数:110
本 (6)排ガス上昇管10の直径:410mm及び本数:
6本 (7)排ガス衝突板の構造:図2に示した構造のもの (8)第1室5における吸収液の静止液面の高さ:3m ガス分散管9としては、図6に示す構造のものを用い、
その下端部周壁面に設けたガス噴出孔45の位置は、吸
収液面下180mmの位置に設定した。また、図1に示
す構造の密閉槽1の第1室5内に、あらかじめ、吸収液
として、石こう濃度:20重量%の水スラリー液を高さ
3mになるように収容させた。
た排ガス(SO2:800ppm、粉塵:150mg/
Nm3)を排ガス導入ダクト8から、40,000Nm3
/hの供給量で脱硫装置1における第2室6内に供給し
て脱硫処理した。この場合、吸収液の静止液面下250
0mmの位置に配設した酸素含有ガス噴出ノズル22か
ら空気を200Nm3/hで噴出させるとともに、撹拌
機24を回転させて吸収液の撹拌を行った。また、第1
室5内の第1吸収液L1に対しては、排液管23を通し
て石こう濃度の高い吸収液を抜出し、石こうを分離した
液に炭酸カルシウムを添加混合して、pHが4.5を維
持するように吸収液供給管18より供給した。さらに、
密閉槽1の外部に設置した洗浄液槽14から洗浄液を第
3室7内に配設した衝突板26の液分散機構に8.0m
3/hで供給し、液体流下壁先端から液幕状で流下させ
た。第2隔板上の洗浄液は、第3室の床面近傍に開口す
る洗浄液抜出し管13を介して洗浄液槽14に返送し
た。前記のようにして排煙を処理した結果、ミストエリ
ミネータを通過した排ガス中の粉塵は2.0mg/Nm
3であり、高除塵率を得ることができた。次に、比較の
ために、排ガス衝突板の配設を省略して排ガス処理を行
なったところ、ミストエリミネータを通過した排ガス中
の粉塵は4.0mg/Nm3であった。
高除塵率を格別の処理コストの増加を必要とせずに、低
消費動力で容易に得ることができ、その産業的意義は多
大である。
式図を示す。
についての説明図を示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを処理す
る方法において、 (i)排ガスを冷却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と
接触させた後、その冷却除塵塔から抜出すこと、 (ii)冷却除塵塔から抜出された排ガスを、第1隔板と
その上方に位置する第2隔板とによってその内部が第1
室と第1室の上方に隣接する第2室と第2室の上方に隣
接する第3室とに区画された密閉槽におけるその第2室
に供給すること、 (iii)第2室に供給された排ガスを第1隔板に形成さ
れた透孔に垂設された排ガス分散管を通して第1室に収
容されている吸収液中に吹込むこと、 (iv)第1室の上部空間に存在する排ガスを第1室と第
3室との間を連絡し、その上端が第2隔板表面より上方
に位置する排ガス上昇筒内を上昇させること、 (v)排ガス上昇筒を通して第3室に上昇してきた排ガ
スをその排ガス上昇筒の上方に配設されている液体流下
壁を有し、その先端から洗浄液が液幕状に流下している
排ガス衝突板に衝突させるとともに、排ガスをその液幕
と接触させること、 (vi)第3室内において前記液幕と接触させた後の排ガ
スを第3室に配設された排ガス出口から排出させるこ
と、 (vii)第3室から排出された後の排ガスをミストエリ
ミネータに導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去
した後、ミストエリミネータから抜出すこと、 (viii)ミストエリミネータから抜出した排ガスを湿式
電気集塵処理することなく大気中へ放出させること、を
特徴とする排ガスの処理方法。 - 【請求項2】 排ガスを冷却除塵する排ガス冷却除塵塔
と、冷却除塵塔からの排ガスを脱硫するための脱硫装置
と、脱硫装置から排出された排ガス中の液滴粒子を除去
するためのミストエリミネータと、ミストエリミネータ
からの排ガスを大気中へ放出させる排ガス排出筒を備え
たものであって、前記脱硫装置は、第1隔板とその上方
に位置する第2隔板とによってその内部が第1室と第1
室の上方に隣接する第2室と第2室の上方に隣接する第
3室とに区画された密閉槽と、第2室の周壁に形成され
た排ガス入口と、第3室に配設された脱硫排ガス出口
と、第1隔板に形成された透孔と、その透孔に垂設され
たガス分散管と、第1室と第3室とを連絡し、その上端
が第2隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒と、第
3室において排ガス上昇筒の上方に配設され、液体流下
壁とその液体流下壁に洗浄液を供給する液分散機構を有
する排ガス衝突板を備えたことを特徴とする排ガスの処
理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17669595A JP3621159B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 排ガスの処理方法及び装置 |
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JP17669595A JP3621159B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 排ガスの処理方法及び装置 |
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JPH09865A true JPH09865A (ja) | 1997-01-07 |
JP3621159B2 JP3621159B2 (ja) | 2005-02-16 |
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ID=16018131
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP17669595A Expired - Lifetime JP3621159B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 排ガスの処理方法及び装置 |
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