JPH0974281A - 多層プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板およびその製造方法Info
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- JPH0974281A JPH0974281A JP25010795A JP25010795A JPH0974281A JP H0974281 A JPH0974281 A JP H0974281A JP 25010795 A JP25010795 A JP 25010795A JP 25010795 A JP25010795 A JP 25010795A JP H0974281 A JPH0974281 A JP H0974281A
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/20—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4685—Manufacturing of cross-over conductors
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精細なパターンを有する多層プリント配線
板と、このような多層プリント配線板をフォトリソグラ
フィー工程を含まず基板上への転写積層方式により製造
することが可能な製造方法とを提供する。 【解決手段】 少なくとも表面が導電性の導電性基板上
に所望パターンの絶縁層を形成し、導電性基板の導電性
面露出部に電着による導電性層と、当該導電性層上にス
クリーン印刷方式またはディスペンサーによる塗布方式
により絶縁樹脂層とを積層して転写用原版とし、この転
写用原版の上に設けた導電性層と絶縁樹脂層とからなる
配線パターン層を基板上に転写する操作を複数の配線パ
ターン層転写板について順次行うことにより、導電性層
と絶縁樹脂層とを有する配線パターン層材料を基板上に
積層して多層プリント配線板とする。
板と、このような多層プリント配線板をフォトリソグラ
フィー工程を含まず基板上への転写積層方式により製造
することが可能な製造方法とを提供する。 【解決手段】 少なくとも表面が導電性の導電性基板上
に所望パターンの絶縁層を形成し、導電性基板の導電性
面露出部に電着による導電性層と、当該導電性層上にス
クリーン印刷方式またはディスペンサーによる塗布方式
により絶縁樹脂層とを積層して転写用原版とし、この転
写用原版の上に設けた導電性層と絶縁樹脂層とからなる
配線パターン層を基板上に転写する操作を複数の配線パ
ターン層転写板について順次行うことにより、導電性層
と絶縁樹脂層とを有する配線パターン層材料を基板上に
積層して多層プリント配線板とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は多層プリント配線板
とその製造方法に係り、特に高精細なパターンを有する
多層プリント配線板と、このような多層プリント配線板
を低コストで製造することができる製造方法に関する。
とその製造方法に係り、特に高精細なパターンを有する
多層プリント配線板と、このような多層プリント配線板
を低コストで製造することができる製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体技術の飛躍的な発展により、半導
体パッケージの小型化、多ピン化、ファインピッチ化、
電子部品の極小化などが急速に進み、いわゆる高密度実
装の時代に突入した。それに伴って、プリント配線板も
片面配線から両面配線へ、さらに多層化、薄型化が進め
られている。
体パッケージの小型化、多ピン化、ファインピッチ化、
電子部品の極小化などが急速に進み、いわゆる高密度実
装の時代に突入した。それに伴って、プリント配線板も
片面配線から両面配線へ、さらに多層化、薄型化が進め
られている。
【0003】現在、プリント配線板の銅パターンの形成
には、主としてサブトラクティブ法と、アディティブ法
が用いられている。
には、主としてサブトラクティブ法と、アディティブ法
が用いられている。
【0004】サブトラクティブ法は、銅張り積層板に穴
を開けた後に、穴の内部と表面に銅メッキを行い、フォ
トエッチングによりパターンを形成する方法である。こ
のサブトラクティブ法は技術的に完成度が高く、またコ
ストも安いが、銅箔の厚さ等による制約から微細パター
ンの形成は困難である。
を開けた後に、穴の内部と表面に銅メッキを行い、フォ
トエッチングによりパターンを形成する方法である。こ
のサブトラクティブ法は技術的に完成度が高く、またコ
ストも安いが、銅箔の厚さ等による制約から微細パター
ンの形成は困難である。
【0005】一方、アディティブ法は無電解メッキ用の
触媒を含有した積層板上の回路パターン形成部以外の部
分にレジストを形成し、積層板の露出している部分に無
電解銅メッキ等により回路パターンを形成する方法であ
る。このアディティブ法は、微細パターンの形成が可能
であるが、コスト、信頼性の面で難がある。
触媒を含有した積層板上の回路パターン形成部以外の部
分にレジストを形成し、積層板の露出している部分に無
電解銅メッキ等により回路パターンを形成する方法であ
る。このアディティブ法は、微細パターンの形成が可能
であるが、コスト、信頼性の面で難がある。
【0006】多層基板の場合には、上記の方法等で作製
した片面あるいは両面のプリント配線板を、ガラス布に
エポキシ樹脂等を含浸させた半硬化状態のプリプレグと
一緒に加圧積層する方法が用いられている。この場合、
プリプレグは各層の接着剤の役割をなし、層間の接続は
スルーホールを作成し、内部に無電解メッキ等を施して
行っている。
した片面あるいは両面のプリント配線板を、ガラス布に
エポキシ樹脂等を含浸させた半硬化状態のプリプレグと
一緒に加圧積層する方法が用いられている。この場合、
プリプレグは各層の接着剤の役割をなし、層間の接続は
スルーホールを作成し、内部に無電解メッキ等を施して
行っている。
【0007】また、高密度実装の進展により、多層基板
においては薄型、軽量化と、その一方で単位面積当りの
高い配線能力が要求され、一層当たりの基板の薄型化、
層間の接続や部品の搭載方法等に工夫がなされている。
においては薄型、軽量化と、その一方で単位面積当りの
高い配線能力が要求され、一層当たりの基板の薄型化、
層間の接続や部品の搭載方法等に工夫がなされている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
サブトラクティブ法により作製された両面プリント配線
板を用いた多層基板の作製は、両面プリント配線板の穴
形成のためのドリル加工の精度と、微細化限界の面から
高密度化に限界があり、製造コストの低減も困難であっ
た。
サブトラクティブ法により作製された両面プリント配線
板を用いた多層基板の作製は、両面プリント配線板の穴
形成のためのドリル加工の精度と、微細化限界の面から
高密度化に限界があり、製造コストの低減も困難であっ
た。
【0009】一方、近年では上述のような要求を満たす
ものとして、基材上に導体パターン層と絶縁層とを順次
積層して作製される多層配線板が開発されている。この
多層配線板は、銅メッキ層のフォトエッチングと感光性
樹脂のパターニングを交互に行って作製されるため、高
精細な配線と任意の位置での層間接続が可能となってい
る。
ものとして、基材上に導体パターン層と絶縁層とを順次
積層して作製される多層配線板が開発されている。この
多層配線板は、銅メッキ層のフォトエッチングと感光性
樹脂のパターニングを交互に行って作製されるため、高
精細な配線と任意の位置での層間接続が可能となってい
る。
【0010】しかしながら、この方式では銅メッキとフ
ォトエッチングを交互に複数回行うため、工程が煩雑と
なり、また、基板上に1層づつ積み上げる直列プロセス
のため、中間工程でトラブルが発生すると、製品の再生
が困難となり、製造コストの低減に支障を来していた。
ォトエッチングを交互に複数回行うため、工程が煩雑と
なり、また、基板上に1層づつ積み上げる直列プロセス
のため、中間工程でトラブルが発生すると、製品の再生
が困難となり、製造コストの低減に支障を来していた。
【0011】さらに、従来の多層配線板においては、層
間の接続がバイアホールを作成することにより行われて
いたため、煩雑なフォトリソグラフィー工程が必要であ
り、製造コスト低減の妨げとなっていた。
間の接続がバイアホールを作成することにより行われて
いたため、煩雑なフォトリソグラフィー工程が必要であ
り、製造コスト低減の妨げとなっていた。
【0012】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、高精細なパターンを有する多層プリント
配線板と、このような多層プリント配線板をフォトリソ
グラフィー工程を含まず基板上への転写積層方式により
製造することが可能な製造方法を提供することを目的と
する。
たものであり、高精細なパターンを有する多層プリント
配線板と、このような多層プリント配線板をフォトリソ
グラフィー工程を含まず基板上への転写積層方式により
製造することが可能な製造方法を提供することを目的と
する。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の多層プリント配線板は、基板、該基
板上に順次転写された複数の配線パターン層を備え、該
配線パターン層は導電性層と該導電性層の下部に形成さ
れた絶縁樹脂層を有するとともに、該絶縁樹脂層によっ
て前記基板あるいは下層の配線パターン層に固着されて
いる多層プリント配線板において、前記絶縁樹脂層は、
スクリーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布方式
により形成された粘着剤あるいは接着剤であるような構
成とした。
るために、本発明の多層プリント配線板は、基板、該基
板上に順次転写された複数の配線パターン層を備え、該
配線パターン層は導電性層と該導電性層の下部に形成さ
れた絶縁樹脂層を有するとともに、該絶縁樹脂層によっ
て前記基板あるいは下層の配線パターン層に固着されて
いる多層プリント配線板において、前記絶縁樹脂層は、
スクリーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布方式
により形成された粘着剤あるいは接着剤であるような構
成とした。
【0014】また、本発明の多層プリント配線板の製造
方法は、導電性層と該導電性層上にスクリーン印刷方式
又はディスペンサーによる塗布方式により積層された粘
着性あるいは接着性の絶縁樹脂層とを有する配線パター
ン層を設けた転写用原版を複数作製し、次に、多層プリ
ント配線板用の基板の一方の面に前記転写用原版を圧着
し、前記導電性基板を剥離することにより前記配線パタ
ーン層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複
数の前記配線パターン層を形成するような構成とした。
方法は、導電性層と該導電性層上にスクリーン印刷方式
又はディスペンサーによる塗布方式により積層された粘
着性あるいは接着性の絶縁樹脂層とを有する配線パター
ン層を設けた転写用原版を複数作製し、次に、多層プリ
ント配線板用の基板の一方の面に前記転写用原版を圧着
し、前記導電性基板を剥離することにより前記配線パタ
ーン層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複
数の前記配線パターン層を形成するような構成とした。
【0015】また、本発明の多層プリント配線板の製造
に用いられる転写用原版の製造方法は、少なくとも表面
が導電性の導電性基板上に、所望パターンで絶縁層を形
成し、露出している前記導電性基板表面に電着法により
導電性層を形成するような構成とした。特に、第2層目
以降の配線パターン層の転写においては、前記導電性層
上にスクリーン印刷方式またはディスペンサーによる塗
布方式により粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層をさら
に形成するような構成とした。
に用いられる転写用原版の製造方法は、少なくとも表面
が導電性の導電性基板上に、所望パターンで絶縁層を形
成し、露出している前記導電性基板表面に電着法により
導電性層を形成するような構成とした。特に、第2層目
以降の配線パターン層の転写においては、前記導電性層
上にスクリーン印刷方式またはディスペンサーによる塗
布方式により粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層をさら
に形成するような構成とした。
【0016】基板に積層された配線パターン層は導電性
層と絶縁樹脂層を備え、絶縁樹脂層によって基板あるい
は下層の配線パターン層に固着された、いわゆる重ね刷
り型の構造であり、各配線パターン層の導電性層は部分
的に常に裸出されており、上記配線パターンの積層は、
転写用原版上の配線パターン層を基板上に順次転写する
ことにより行われるため、基板上におけるメッキおよび
フォトエッチング工程は不要であり、多層配線板の製造
工程の簡略化が可能となる。
層と絶縁樹脂層を備え、絶縁樹脂層によって基板あるい
は下層の配線パターン層に固着された、いわゆる重ね刷
り型の構造であり、各配線パターン層の導電性層は部分
的に常に裸出されており、上記配線パターンの積層は、
転写用原版上の配線パターン層を基板上に順次転写する
ことにより行われるため、基板上におけるメッキおよび
フォトエッチング工程は不要であり、多層配線板の製造
工程の簡略化が可能となる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。図1は本発明の多層プリント配線板の
一例を示す概略断面図である。図1において、多層プリ
ント配線板1は、基板2と、基板2上に設けられた第1
層目の配線パターン層3と、この配線パターン層3上に
積層された第2層目の配線パターン層4と、更に配線パ
ターン層4上に積層された第3層目の配線パターン層5
とを備えた3層構成の多層プリント配線板である。
ながら説明する。図1は本発明の多層プリント配線板の
一例を示す概略断面図である。図1において、多層プリ
ント配線板1は、基板2と、基板2上に設けられた第1
層目の配線パターン層3と、この配線パターン層3上に
積層された第2層目の配線パターン層4と、更に配線パ
ターン層4上に積層された第3層目の配線パターン層5
とを備えた3層構成の多層プリント配線板である。
【0018】この多層プリント配線板1を構成する各配
線パターン層3,4,5は、それぞれ導電性層3a,4
a,5aと、この導電性層の下部に形成された絶縁樹脂
層3b,4b,5bとを有している。そして、多層プリ
ント配線板1は、各配線パターン層3,4,5を基板2
の上、あるいは下層の配線パターン層の上に順次転写積
層した重ね刷り型の構造であり、各配線パターン層が相
互に交差する部位(交差部)では、上下の配線パターン
層間の絶縁は上層の配線パターン層を構成する絶縁樹脂
層により保たれている。
線パターン層3,4,5は、それぞれ導電性層3a,4
a,5aと、この導電性層の下部に形成された絶縁樹脂
層3b,4b,5bとを有している。そして、多層プリ
ント配線板1は、各配線パターン層3,4,5を基板2
の上、あるいは下層の配線パターン層の上に順次転写積
層した重ね刷り型の構造であり、各配線パターン層が相
互に交差する部位(交差部)では、上下の配線パターン
層間の絶縁は上層の配線パターン層を構成する絶縁樹脂
層により保たれている。
【0019】このため、本発明の多層プリント配線板1
は、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁層
による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層
3,4,5の導電性層3a,4a,5aは部分的に常に
裸出されており、後述するように、配線パターン層の交
差部あるいは各配線パターン層が相互に近接する部位
(近接部)における各配線パターン層相互の接続を容易
に行うことができる。
は、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁層
による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層
3,4,5の導電性層3a,4a,5aは部分的に常に
裸出されており、後述するように、配線パターン層の交
差部あるいは各配線パターン層が相互に近接する部位
(近接部)における各配線パターン層相互の接続を容易
に行うことができる。
【0020】本発明の多層プリント配線板1を構成する
基板2は、ガラスエポキシ基板、ポリイミド基板、アル
ミナセラミック基板、ガラスエポキシとポリイミドの複
合基板等、多層プリント配線板用の基板として公知の基
板を使用することができる。この基板2の厚さは5〜1
000μmの範囲であることが好ましい。
基板2は、ガラスエポキシ基板、ポリイミド基板、アル
ミナセラミック基板、ガラスエポキシとポリイミドの複
合基板等、多層プリント配線板用の基板として公知の基
板を使用することができる。この基板2の厚さは5〜1
000μmの範囲であることが好ましい。
【0021】各配線パターン層3,4,5の厚みは、後
述する積層転写における下層の配線パターン層の乗り越
えを欠陥なく行うために、100μm以下、好ましくは
10〜60μmの範囲とする。また、各配線パターン層
3,4,5を構成する導電性層3a,4a,5aの厚み
は、配線パターン層の電気抵抗を低く抑えるため1μm
以上、好ましくは5〜40μmの範囲とする。さらに、
絶縁樹脂層3b,4b,5bの厚みは、使用する絶縁樹
脂にもよるが、交差部において上下の配線パターン層間
の絶縁を保つために少なくとも1μm以上、好ましくは
5〜30μmの範囲とする。このような配線パターン層
3,4,5の線幅は、最小幅10μm程度まで任意に設
定することができる。
述する積層転写における下層の配線パターン層の乗り越
えを欠陥なく行うために、100μm以下、好ましくは
10〜60μmの範囲とする。また、各配線パターン層
3,4,5を構成する導電性層3a,4a,5aの厚み
は、配線パターン層の電気抵抗を低く抑えるため1μm
以上、好ましくは5〜40μmの範囲とする。さらに、
絶縁樹脂層3b,4b,5bの厚みは、使用する絶縁樹
脂にもよるが、交差部において上下の配線パターン層間
の絶縁を保つために少なくとも1μm以上、好ましくは
5〜30μmの範囲とする。このような配線パターン層
3,4,5の線幅は、最小幅10μm程度まで任意に設
定することができる。
【0022】導電性層3a,4a,5aの材料は、後述
するように電着法により薄膜形成が可能なものであれば
特に制限はなく、例えば、銅、銀、金、ニッケル、クロ
ム、亜鉛、すず、白金等を用いることができる。
するように電着法により薄膜形成が可能なものであれば
特に制限はなく、例えば、銅、銀、金、ニッケル、クロ
ム、亜鉛、すず、白金等を用いることができる。
【0023】また、絶縁樹脂層3b,4b,5bの材料
は、常温もしくは加熱により粘着性を示す絶縁物質であ
って、スクリーン印刷方式による印刷適性、あるいはデ
ィスペンサーによる塗布適性があるものであればよい。
例えば、使用する高分子としては、粘着性を有する合成
高分子樹脂で、具体的には、アクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、マレイン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン
樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等を単独で、ある
いは、これらの樹脂の任意の組み合わせによる混合物と
して使用できる。
は、常温もしくは加熱により粘着性を示す絶縁物質であ
って、スクリーン印刷方式による印刷適性、あるいはデ
ィスペンサーによる塗布適性があるものであればよい。
例えば、使用する高分子としては、粘着性を有する合成
高分子樹脂で、具体的には、アクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、マレイン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン
樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等を単独で、ある
いは、これらの樹脂の任意の組み合わせによる混合物と
して使用できる。
【0024】また、上記の高分子樹脂に粘着性を付与す
るためにロジン系、テルペン系、石油樹脂系等の粘着性
付与樹脂を必要に応じて添加することも可能である。
るためにロジン系、テルペン系、石油樹脂系等の粘着性
付与樹脂を必要に応じて添加することも可能である。
【0025】また、上記の粘着性を示す絶縁物質の絶縁
性、耐熱性等の信頼性を高める目的で、上記の高分子樹
脂にブロックイソシアネート等の熱重合性不飽和結合を
有する公知の熱硬化性樹脂を添加し、多層プリント配線
板の全層を転写形成後、熱処理によってすべての絶縁樹
脂層を硬化させてもよい。勿論、熱硬化性樹脂以外に
も、重合性不飽和結合(例えば、アクリル基、ビニル
基、アリル基等)を有する樹脂を絶縁物質に添加してお
けば、多層プリント配線板の全層を転写形成後、電子線
照射によってすべての絶縁樹脂層を硬化させることがで
きる。
性、耐熱性等の信頼性を高める目的で、上記の高分子樹
脂にブロックイソシアネート等の熱重合性不飽和結合を
有する公知の熱硬化性樹脂を添加し、多層プリント配線
板の全層を転写形成後、熱処理によってすべての絶縁樹
脂層を硬化させてもよい。勿論、熱硬化性樹脂以外に
も、重合性不飽和結合(例えば、アクリル基、ビニル
基、アリル基等)を有する樹脂を絶縁物質に添加してお
けば、多層プリント配線板の全層を転写形成後、電子線
照射によってすべての絶縁樹脂層を硬化させることがで
きる。
【0026】絶縁樹脂層の材料としては、上記の他に、
常温もしくは加熱により粘着性を示すものであれば、熱
可塑性樹脂はもちろんのこと、熱硬化性樹脂で硬化後は
粘着性を失うような粘着性樹脂でもよい。また、塗膜の
強度を出すために有機あるいは無機のフィラーを含むも
のでもよい。
常温もしくは加熱により粘着性を示すものであれば、熱
可塑性樹脂はもちろんのこと、熱硬化性樹脂で硬化後は
粘着性を失うような粘着性樹脂でもよい。また、塗膜の
強度を出すために有機あるいは無機のフィラーを含むも
のでもよい。
【0027】また、絶縁樹脂層3b,4b,5bの材料
は、常温もしくは加熱により流動性を示す接着剤であっ
てもよい。
は、常温もしくは加熱により流動性を示す接着剤であっ
てもよい。
【0028】絶縁樹脂層3b,4b,5bの材料が、ス
クリーン印刷方式あるいはディスペンサーにより塗布さ
れる際の粘度は、2000〜80000CPS、好まし
くは5000〜50000CPSの範囲にあるのがよ
い。その理由は2000CPS以下の溶融粘度ではスク
リーン印刷の際に、スクリーンの目から組成物が落下し
てしまうためであり、80000CPS以上の溶融粘度
になるとスクリーン印刷を均一に行い難くなるためであ
る。ディスペンサーによる塗布の場合も同様の問題が生
じる。
クリーン印刷方式あるいはディスペンサーにより塗布さ
れる際の粘度は、2000〜80000CPS、好まし
くは5000〜50000CPSの範囲にあるのがよ
い。その理由は2000CPS以下の溶融粘度ではスク
リーン印刷の際に、スクリーンの目から組成物が落下し
てしまうためであり、80000CPS以上の溶融粘度
になるとスクリーン印刷を均一に行い難くなるためであ
る。ディスペンサーによる塗布の場合も同様の問題が生
じる。
【0029】次に、上記の多層プリント配線板1の製造
を例にして図2乃至図5を参照しながら本発明の多層プ
リント配線板の製造方法を説明する。
を例にして図2乃至図5を参照しながら本発明の多層プ
リント配線板の製造方法を説明する。
【0030】まず、本発明の多層プリント配線板の製造
に用いられる転写用原版を作成するために、転写基板と
しての導電性基板11上にフォトレジストを塗布してフ
ォトレジスト層12を形成(図2(A))する。そし
て、所定のフォトマスクを用いてフォトレジスト層12
を密着露光し現像して絶縁層12´とし、導電性基板1
1のうち配線パターン部分11aを露出させる(図2
(B))。次に、導電性基板11の配線パターン部分1
1a上にメッキ法により導電性層14を形成する(図2
(C))。その後、導電性層14上にスクリーン印刷方
式又はディスペンサーによる塗布方式により粘着性ある
いは接着性の絶縁樹脂層15を形成する(図2
(D))。
に用いられる転写用原版を作成するために、転写基板と
しての導電性基板11上にフォトレジストを塗布してフ
ォトレジスト層12を形成(図2(A))する。そし
て、所定のフォトマスクを用いてフォトレジスト層12
を密着露光し現像して絶縁層12´とし、導電性基板1
1のうち配線パターン部分11aを露出させる(図2
(B))。次に、導電性基板11の配線パターン部分1
1a上にメッキ法により導電性層14を形成する(図2
(C))。その後、導電性層14上にスクリーン印刷方
式又はディスペンサーによる塗布方式により粘着性ある
いは接着性の絶縁樹脂層15を形成する(図2
(D))。
【0031】これにより、導電性層14と絶縁樹脂層1
5とを有する第1層目の配線パターン層13を設けた配
線パターン層用の転写用原版10が得られる。同様にし
て、図3および図4に示されるように、導電性基板2
1,31上に絶縁層32´と、導電性層24,34およ
び絶縁樹脂層25,35を有する配線パターン層23,
33を設けた第2層目の配線パターン層用の転写用原版
20、第3層目の配線パターン層用の転写用原版30を
作製する。
5とを有する第1層目の配線パターン層13を設けた配
線パターン層用の転写用原版10が得られる。同様にし
て、図3および図4に示されるように、導電性基板2
1,31上に絶縁層32´と、導電性層24,34およ
び絶縁樹脂層25,35を有する配線パターン層23,
33を設けた第2層目の配線パターン層用の転写用原版
20、第3層目の配線パターン層用の転写用原版30を
作製する。
【0032】次に、基板2上に、上記の配線パターン層
用の転写用原版10を絶縁樹脂層15が基板2に当接す
るように圧着する。この圧着は、ローラ圧着、プレート
圧着、真空圧着等、いずれの方法にしたがってもよい。
また、絶縁樹脂層が加熱により粘着性あるいは接着性を
発現する絶縁樹脂からなる場合には、熱圧着を行うこと
もできる。その後、導電性基板11を剥離して配線パタ
ーン層13を基板2上に転写することにより、導電性層
3aと絶縁樹脂層3bを有する第1層目の配線パターン
層3を基板2上に形成する(図5(A))。その後、第
1層目の配線パターン層3が転写形成された基板2上
に、第2層目の配線パターン層用の転写用原版20を用
いて第1層目の配線パターン層に対する位置合わせを行
ったうえで同様に配線パターン層の転写を行い、導電性
層4aと絶縁樹脂層4bを有する第2層目の配線パター
ン層4を形成する(図5(B))。さらに、第1層目の
配線パターン層3および第2層目の配線パターン層4が
転写形成された基板2上に、第3層目の配線パターン層
用の転写用原版30を用いて同様に位置合わせを行って
配線パターン層の転写を行い、導電性層5aと絶縁樹脂
層5bを有する第3層目の配線パターン層5を形成する
(図5(C))。
用の転写用原版10を絶縁樹脂層15が基板2に当接す
るように圧着する。この圧着は、ローラ圧着、プレート
圧着、真空圧着等、いずれの方法にしたがってもよい。
また、絶縁樹脂層が加熱により粘着性あるいは接着性を
発現する絶縁樹脂からなる場合には、熱圧着を行うこと
もできる。その後、導電性基板11を剥離して配線パタ
ーン層13を基板2上に転写することにより、導電性層
3aと絶縁樹脂層3bを有する第1層目の配線パターン
層3を基板2上に形成する(図5(A))。その後、第
1層目の配線パターン層3が転写形成された基板2上
に、第2層目の配線パターン層用の転写用原版20を用
いて第1層目の配線パターン層に対する位置合わせを行
ったうえで同様に配線パターン層の転写を行い、導電性
層4aと絶縁樹脂層4bを有する第2層目の配線パター
ン層4を形成する(図5(B))。さらに、第1層目の
配線パターン層3および第2層目の配線パターン層4が
転写形成された基板2上に、第3層目の配線パターン層
用の転写用原版30を用いて同様に位置合わせを行って
配線パターン層の転写を行い、導電性層5aと絶縁樹脂
層5bを有する第3層目の配線パターン層5を形成する
(図5(C))。
【0033】上述のように、各配線パターン層3,4,
5の積層は、配線パターン層用の転写用原版10,2
0,30の配線パターン層13,23,33を基板上に
順次転写することにより行われるため、多層プリント配
線板1は各配線パターン層3,4,5からなる、いわゆ
る重ね刷り型の構造である。
5の積層は、配線パターン層用の転写用原版10,2
0,30の配線パターン層13,23,33を基板上に
順次転写することにより行われるため、多層プリント配
線板1は各配線パターン層3,4,5からなる、いわゆ
る重ね刷り型の構造である。
【0034】尚、上述の例では、配線パターン層用の転
写用原版10,20,30は、フォトレジストからなる
絶縁層と導電性層と、この導電性層上に形成された粘着
性あるいは接着性の絶縁樹脂層とからなっているが、第
1層目の配線パターン層用の転写用原版10について
は、絶縁樹脂層15が形成されていないものでもよい。
この場合、予め基板2上に絶縁性の粘着剤層あるいは接
着剤層を設けておけば、第1層目の配線パターン層を基
板2上に転写することができる。
写用原版10,20,30は、フォトレジストからなる
絶縁層と導電性層と、この導電性層上に形成された粘着
性あるいは接着性の絶縁樹脂層とからなっているが、第
1層目の配線パターン層用の転写用原版10について
は、絶縁樹脂層15が形成されていないものでもよい。
この場合、予め基板2上に絶縁性の粘着剤層あるいは接
着剤層を設けておけば、第1層目の配線パターン層を基
板2上に転写することができる。
【0035】ここで、本発明の多層プリント配線板の製
造に用いられる転写用原版の他の態様を説明する。
造に用いられる転写用原版の他の態様を説明する。
【0036】図6は本発明の多層プリント配線板の製造
に用いられる転写用原版の一態様である凹版タイプの転
写用原版の概略構成図である。図6において、転写用原
版10Aは少なくとも表面が導電性を示す導電性基板1
1と、該導電性基板11にエッチングにより形成された
凹部18と、この凹部18内に設けられた絶縁性物質か
らなる絶縁層16とを備えている。絶縁層16はその表
面が導電性基板11の表面より所定の高さだけ突出して
形成されている。隣り合う絶縁層16により囲まれた凹
版部分は導電性層形成部19をなす。ここで、凹部18
はエッチング時のサイドエッチング効果により上面が広
い椀状をなしているため、導電性層形成部19はその底
面中央部に導電性基板11の表面が裸出し、辺縁部は絶
縁層16からなる。そして、この底面中央部の導電面裸
出部が出発電極となって導電性層形成部19内に導電性
層14が形成され、この導電性層14上に粘着性あるい
は接着性の絶縁樹脂層15が形成されている。
に用いられる転写用原版の一態様である凹版タイプの転
写用原版の概略構成図である。図6において、転写用原
版10Aは少なくとも表面が導電性を示す導電性基板1
1と、該導電性基板11にエッチングにより形成された
凹部18と、この凹部18内に設けられた絶縁性物質か
らなる絶縁層16とを備えている。絶縁層16はその表
面が導電性基板11の表面より所定の高さだけ突出して
形成されている。隣り合う絶縁層16により囲まれた凹
版部分は導電性層形成部19をなす。ここで、凹部18
はエッチング時のサイドエッチング効果により上面が広
い椀状をなしているため、導電性層形成部19はその底
面中央部に導電性基板11の表面が裸出し、辺縁部は絶
縁層16からなる。そして、この底面中央部の導電面裸
出部が出発電極となって導電性層形成部19内に導電性
層14が形成され、この導電性層14上に粘着性あるい
は接着性の絶縁樹脂層15が形成されている。
【0037】図7は、図6に示す凹版タイプの転写用原
版の製造方法の説明図である。図7において、まず公知
の方法によって導電性基板11上にフォトレジスト層を
形成し、所定パターンのフォトマスクを介して該フォト
レジスト層に紫外線を照射後、露光・除去(現像)して
所定パターンのマスキング層17を形成する(図7
(A))。次に、このマスキング層17をエッチング用
マスクとして導電性基板11のマスキング層非形成部分
をエッチングして凹部18を形成するが、この際、マス
キング層17縁辺下部の基板部分に入り込んでサイドエ
ッチング部が形成され、このサイドエッチング部を含む
凹部18の上面面積はマスキング層非形成部分の面積よ
りも大きく形成され、凹部18は椀状をなす(図7
(B))。
版の製造方法の説明図である。図7において、まず公知
の方法によって導電性基板11上にフォトレジスト層を
形成し、所定パターンのフォトマスクを介して該フォト
レジスト層に紫外線を照射後、露光・除去(現像)して
所定パターンのマスキング層17を形成する(図7
(A))。次に、このマスキング層17をエッチング用
マスクとして導電性基板11のマスキング層非形成部分
をエッチングして凹部18を形成するが、この際、マス
キング層17縁辺下部の基板部分に入り込んでサイドエ
ッチング部が形成され、このサイドエッチング部を含む
凹部18の上面面積はマスキング層非形成部分の面積よ
りも大きく形成され、凹部18は椀状をなす(図7
(B))。
【0038】次に、このように椀状に形成された凹部1
8内に絶縁性物質を電着させることによって絶縁層16
を形成する(図7(C))。絶縁層16の表面はマスキ
ング層17の表面と略同一の高さに形成される。その
後、このマスキング層17を除去して導電性基板11の
導電面を裸出して凹版状の導電性層形成部19とする
(図7(D))。そして、この導電性層形成部19に電
着により導電性層14を形成した後、導電性層14上に
スクリーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布方式
により粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層15を形成し
て転写用原版10Aとする(図7(E))。
8内に絶縁性物質を電着させることによって絶縁層16
を形成する(図7(C))。絶縁層16の表面はマスキ
ング層17の表面と略同一の高さに形成される。その
後、このマスキング層17を除去して導電性基板11の
導電面を裸出して凹版状の導電性層形成部19とする
(図7(D))。そして、この導電性層形成部19に電
着により導電性層14を形成した後、導電性層14上に
スクリーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布方式
により粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層15を形成し
て転写用原版10Aとする(図7(E))。
【0039】上述の転写用原版10Aでは、凹状の導電
性層形成部19の中央部分を出発電極として、導電性層
14が水平並びに垂直方向に等方的に成長するため、導
電性層14は表面が略均一な平面となって形成される。
そして、導電性層14は、底部の一部において導電性基
板11と接触しているにすぎず、その分導電性基板11
との密着性が低減できるため、転写時の導電性層14の
引き抜きが容易に行われ、絶縁層16に接触剥離力の影
響を与えない。また、導電性層14は、マスキング層1
7除去跡の導電性層形成部19内に形成されることか
ら、最終の配線パターンの面積は初期エッチングレジス
トパターンであるマスキング層17のパターンと同一面
積となり、マスキング層5を所定の微細パターンにて形
成しておけば、このパターン通りに導電性層14を形成
することができるので、寸法調整の必要のない高い寸法
精度で配線パターンを得ることができる。
性層形成部19の中央部分を出発電極として、導電性層
14が水平並びに垂直方向に等方的に成長するため、導
電性層14は表面が略均一な平面となって形成される。
そして、導電性層14は、底部の一部において導電性基
板11と接触しているにすぎず、その分導電性基板11
との密着性が低減できるため、転写時の導電性層14の
引き抜きが容易に行われ、絶縁層16に接触剥離力の影
響を与えない。また、導電性層14は、マスキング層1
7除去跡の導電性層形成部19内に形成されることか
ら、最終の配線パターンの面積は初期エッチングレジス
トパターンであるマスキング層17のパターンと同一面
積となり、マスキング層5を所定の微細パターンにて形
成しておけば、このパターン通りに導電性層14を形成
することができるので、寸法調整の必要のない高い寸法
精度で配線パターンを得ることができる。
【0040】図8は転写用原版の他の態様である平版タ
イプ電着転写用原版の概略構成図である。図8におい
て、転写用原版10Bは少なくとも表面が導電性を示す
導電性基板11と、該導電性基板11にエッチングによ
り上面面積か広く椀状に形成された凹部18と、この凹
部18内に設けられた絶縁性物質からなる絶縁層16と
を備えている。絶縁層16はその表面が導電性基板11
の表面と略同一の高さに形成されている。隣り合う絶縁
層16により囲まれた導電面裸出部分は導電性層形成部
19をなす。ここで、凹部18はエッチング時のサイド
エッチング効果により上面が広い椀状をなしているた
め、導電性層形成部19はその底面中央部が導電面裸出
部をなし、辺縁部が絶縁層16をなす。そして、この底
面中央部の狭められた導電面裸出部が出発電極となって
電着物が析出され、導電性層形成部19上に導電性層1
4が水平並びに垂直方向に等方的に形成されている。さ
らに、導電性層14上にスクリーン印刷方式又はディス
ペンサーによる塗布方式により粘着性あるいは接着性の
絶縁樹脂層15が形成されている。
イプ電着転写用原版の概略構成図である。図8におい
て、転写用原版10Bは少なくとも表面が導電性を示す
導電性基板11と、該導電性基板11にエッチングによ
り上面面積か広く椀状に形成された凹部18と、この凹
部18内に設けられた絶縁性物質からなる絶縁層16と
を備えている。絶縁層16はその表面が導電性基板11
の表面と略同一の高さに形成されている。隣り合う絶縁
層16により囲まれた導電面裸出部分は導電性層形成部
19をなす。ここで、凹部18はエッチング時のサイド
エッチング効果により上面が広い椀状をなしているた
め、導電性層形成部19はその底面中央部が導電面裸出
部をなし、辺縁部が絶縁層16をなす。そして、この底
面中央部の狭められた導電面裸出部が出発電極となって
電着物が析出され、導電性層形成部19上に導電性層1
4が水平並びに垂直方向に等方的に形成されている。さ
らに、導電性層14上にスクリーン印刷方式又はディス
ペンサーによる塗布方式により粘着性あるいは接着性の
絶縁樹脂層15が形成されている。
【0041】図9は、図8に示す平版タイプの転写用原
版10Bの製造方法の説明図である。図9において、図
7の場合と同様にして導電性基板11上にフォトレジス
ト層を形成し、所定パターンのフォトマスクを介して該
フォトレジスト層に紫外線を照射した後、露光・除去
(現像)して所定パターンのマスキング層17を形成す
る(図9(A))。次に、このマスキング層17をエッ
チング用マスクとして導電性基板11のマスキング層非
形成部分をエッチングして凹部18を形成するが、図7
の場合と同様にマスキング層17の縁辺の基板部分に入
り込んでサイドエッチング部が形成され、このサイドエ
ッチング部を含む凹部18の上面面積はマスキング層非
形成部分の面積よりも大きく形成され、凹部18は椀状
をなす(図9(B))。
版10Bの製造方法の説明図である。図9において、図
7の場合と同様にして導電性基板11上にフォトレジス
ト層を形成し、所定パターンのフォトマスクを介して該
フォトレジスト層に紫外線を照射した後、露光・除去
(現像)して所定パターンのマスキング層17を形成す
る(図9(A))。次に、このマスキング層17をエッ
チング用マスクとして導電性基板11のマスキング層非
形成部分をエッチングして凹部18を形成するが、図7
の場合と同様にマスキング層17の縁辺の基板部分に入
り込んでサイドエッチング部が形成され、このサイドエ
ッチング部を含む凹部18の上面面積はマスキング層非
形成部分の面積よりも大きく形成され、凹部18は椀状
をなす(図9(B))。
【0042】次に、このように椀状に形成された凹部1
8内に絶縁性物質を電着させることによって絶縁層16
を形成する(図9(C))が、平版タイプの原版におい
ては絶縁層16は導電性基板11の表面と略同一の高さ
に形成される。その後、マスキング層17を除去して導
電性基板11の導電面を裸出して導電性層形成部19と
する(図9(D))。そして、この導電性層形成部19
に電着により導電性層14を形成した後、導電性層14
上にスクリーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布
方式により粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層15を形
成して転写用原版10Bとする(図9(E))。
8内に絶縁性物質を電着させることによって絶縁層16
を形成する(図9(C))が、平版タイプの原版におい
ては絶縁層16は導電性基板11の表面と略同一の高さ
に形成される。その後、マスキング層17を除去して導
電性基板11の導電面を裸出して導電性層形成部19と
する(図9(D))。そして、この導電性層形成部19
に電着により導電性層14を形成した後、導電性層14
上にスクリーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布
方式により粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層15を形
成して転写用原版10Bとする(図9(E))。
【0043】上記の転写用原版10Bでは、導電性層形
成部19の導電面裸出部は、絶縁層16のサイドエッチ
ング部による幅広部分によって狭められており、この狭
められた導電面裸出部を出発電極として、電着物質が基
板上に水平並びに垂直方向に等方的に成長するため、導
電性層14は表面が略均一な平面となって形成される。
そして、導電性層14は、底部の一部において導電性基
板11と接触しているにすぎず、その分導電性基板11
との密着性が低減できるため、転写時の導電性層14の
剥離が容易に行われ、絶縁層16に接触剥離力の影響を
与えない。また、版の構造上、転写時に絶縁樹脂層15
と導電性層14が優先的且つ選択的に基板2に加圧密着
されるため、絶縁層16は接触剥離力を受けず、絶縁層
16が変形したり損傷を受けることがない。
成部19の導電面裸出部は、絶縁層16のサイドエッチ
ング部による幅広部分によって狭められており、この狭
められた導電面裸出部を出発電極として、電着物質が基
板上に水平並びに垂直方向に等方的に成長するため、導
電性層14は表面が略均一な平面となって形成される。
そして、導電性層14は、底部の一部において導電性基
板11と接触しているにすぎず、その分導電性基板11
との密着性が低減できるため、転写時の導電性層14の
剥離が容易に行われ、絶縁層16に接触剥離力の影響を
与えない。また、版の構造上、転写時に絶縁樹脂層15
と導電性層14が優先的且つ選択的に基板2に加圧密着
されるため、絶縁層16は接触剥離力を受けず、絶縁層
16が変形したり損傷を受けることがない。
【0044】図10は転写用原版の他の態様である凸版
タイプの転写用原版の概略構成図である。図10におい
て、転写用原版10Cは少なくとも表面が導電性を示す
導電性基板11と、該導電性基板11に形成された凹部
18と、この凹部18内に設けられた絶縁性物質からな
る絶縁層16とを備えている。絶縁層16はその表面が
導電性基板11の表面より所定の高さだけ低くなるよう
に形成されている。隣り合う絶縁層16により囲まれた
導電性基板11の導電面裸出部が導電性層形成部19を
なし、この導電性層形成部19に導電性層14が形成さ
れ、この導電性層14上に粘着性あるいは接着性の絶縁
樹脂層15がスクリーン印刷方式又はディスペンサーに
よる塗布方式により形成されている。
タイプの転写用原版の概略構成図である。図10におい
て、転写用原版10Cは少なくとも表面が導電性を示す
導電性基板11と、該導電性基板11に形成された凹部
18と、この凹部18内に設けられた絶縁性物質からな
る絶縁層16とを備えている。絶縁層16はその表面が
導電性基板11の表面より所定の高さだけ低くなるよう
に形成されている。隣り合う絶縁層16により囲まれた
導電性基板11の導電面裸出部が導電性層形成部19を
なし、この導電性層形成部19に導電性層14が形成さ
れ、この導電性層14上に粘着性あるいは接着性の絶縁
樹脂層15がスクリーン印刷方式又はディスペンサーに
よる塗布方式により形成されている。
【0045】図11は、図10に示す凸版タイプの転写
用原版10Cの製造方法の説明図である。図11におい
て、まず公知の方法によって導電性基板11上にフォト
レジスト層を形成し、所定パターンのフォトマスクを介
して該フォトレジスト層に紫外線を照射後、露光・除去
(現像)して所定パターンのマスキング層17を形成す
る(図11(A))。次に、このマスキング層17をエ
ッチング用マスクとして導電性基板11のマスキング層
非形成部分をエッチングしてマスクパターンに忠実な凹
部18を形成する(図11(B))。
用原版10Cの製造方法の説明図である。図11におい
て、まず公知の方法によって導電性基板11上にフォト
レジスト層を形成し、所定パターンのフォトマスクを介
して該フォトレジスト層に紫外線を照射後、露光・除去
(現像)して所定パターンのマスキング層17を形成す
る(図11(A))。次に、このマスキング層17をエ
ッチング用マスクとして導電性基板11のマスキング層
非形成部分をエッチングしてマスクパターンに忠実な凹
部18を形成する(図11(B))。
【0046】次に、このように形成された凹部18内に
絶縁性物質を電着させることによって絶縁層16を形成
する(図11(C))。絶縁層16の表面はマスキング
層17の表面より低くなるように形成される。その後、
このマスキング層17を除去して導電性基板11の導電
面を裸出して導電性層形成部19とする(図11
(D))。そして、この導電性層形成部19に電着によ
り導電性層14を形成した後、導電性層14上にスクリ
ーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布方式により
粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層15を形成して転写
用原版10Cとする(図11(E))。
絶縁性物質を電着させることによって絶縁層16を形成
する(図11(C))。絶縁層16の表面はマスキング
層17の表面より低くなるように形成される。その後、
このマスキング層17を除去して導電性基板11の導電
面を裸出して導電性層形成部19とする(図11
(D))。そして、この導電性層形成部19に電着によ
り導電性層14を形成した後、導電性層14上にスクリ
ーン印刷方式又はディスペンサーによる塗布方式により
粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層15を形成して転写
用原版10Cとする(図11(E))。
【0047】上述の転写用原版10Cでは、絶縁層16
の表面が導電性基板11よりも低くなるよにう形成され
ているため、転写時に絶縁層16が基板2と接触するこ
とがない。したがって、絶縁層16は接触剥離力の影響
を受けず、変形や損傷を防止することができる。さら
に、導電性層14は、マスキング層17除去跡の導電性
層形成部19に形成されることから、最終の配線パター
ンの面積は初期エッチングレジストパターンであるマス
キング層17のパターンと同一面積となり、マスキング
層5を所定の微細パターンにて形成しておけば、このパ
ターン通りに導電性層14を形成することができるの
で、寸法調整の必要のない高い寸法精度で配線パターン
を得ることができる。
の表面が導電性基板11よりも低くなるよにう形成され
ているため、転写時に絶縁層16が基板2と接触するこ
とがない。したがって、絶縁層16は接触剥離力の影響
を受けず、変形や損傷を防止することができる。さら
に、導電性層14は、マスキング層17除去跡の導電性
層形成部19に形成されることから、最終の配線パター
ンの面積は初期エッチングレジストパターンであるマス
キング層17のパターンと同一面積となり、マスキング
層5を所定の微細パターンにて形成しておけば、このパ
ターン通りに導電性層14を形成することができるの
で、寸法調整の必要のない高い寸法精度で配線パターン
を得ることができる。
【0048】本発明の多層プリント配線板の製造に用い
られる転写用原版において、導電性基板11,21,3
1としては、少なくとも表面が導電性を有するものであ
ればよく、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、ステンレ
ス、チタン等の導電性の金属板、あるいはガラス板、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチ
レン、アクリル等の樹脂フィルム等の絶縁性基板の表面
に導電性薄膜を形成したものを使用することができる。
このような導電性基板11,21,31の厚さは0.0
5〜1.0mm程度が好ましい。また、原版としての耐
久性を高めるために、導電性基板の表面に、クロム(C
r)、セラミックカニゼン(Kanigen社製 Ni
+P+SiC)等の薄膜を形成してもよい。この薄膜の
厚さは0.1〜1.0μm程度が好ましい。
られる転写用原版において、導電性基板11,21,3
1としては、少なくとも表面が導電性を有するものであ
ればよく、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、ステンレ
ス、チタン等の導電性の金属板、あるいはガラス板、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチ
レン、アクリル等の樹脂フィルム等の絶縁性基板の表面
に導電性薄膜を形成したものを使用することができる。
このような導電性基板11,21,31の厚さは0.0
5〜1.0mm程度が好ましい。また、原版としての耐
久性を高めるために、導電性基板の表面に、クロム(C
r)、セラミックカニゼン(Kanigen社製 Ni
+P+SiC)等の薄膜を形成してもよい。この薄膜の
厚さは0.1〜1.0μm程度が好ましい。
【0049】マスキング層17は、例えばイオンプレー
ティング法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学的気
相蒸着法(CVD法)等の各種の薄膜形成法により、基
板の上にシリカ(SiO2 )薄膜、チッ化シリコン(S
iNx )薄膜、96%アルミナ薄膜、ベリリヤ薄膜、フ
ォルステライト薄膜等の電気絶縁性の高い薄膜を形成
し、次に、この薄膜上にフォトレジストを塗布してから
所定形状のマスクを介して露光・現像することにより形
成することができる。あるいは薄膜を形成することなく
導電性基板11上にフォトレジストを塗布してマスキン
グ層を形成してもよい。これらマスキング層17の形成
に使用するフォトレジストとしては、ゼラチン、カゼイ
ン、ポリビニルアルコール等に重クロム酸塩等の感光剤
を添加したものを挙げることができる。このように形成
されるマスキング層17の厚さは0.5〜10.0μm
程度が好ましい。
ティング法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学的気
相蒸着法(CVD法)等の各種の薄膜形成法により、基
板の上にシリカ(SiO2 )薄膜、チッ化シリコン(S
iNx )薄膜、96%アルミナ薄膜、ベリリヤ薄膜、フ
ォルステライト薄膜等の電気絶縁性の高い薄膜を形成
し、次に、この薄膜上にフォトレジストを塗布してから
所定形状のマスクを介して露光・現像することにより形
成することができる。あるいは薄膜を形成することなく
導電性基板11上にフォトレジストを塗布してマスキン
グ層を形成してもよい。これらマスキング層17の形成
に使用するフォトレジストとしては、ゼラチン、カゼイ
ン、ポリビニルアルコール等に重クロム酸塩等の感光剤
を添加したものを挙げることができる。このように形成
されるマスキング層17の厚さは0.5〜10.0μm
程度が好ましい。
【0050】そして、このマスキング層17をエッチン
グ用マスクとしての導電性基板11のエッチングは、デ
ィップ、スプレー等のウェットエッチングや、ドライエ
ッチング等の公知の慣用的手段で行うことができるが、
例えば導電性基板がSUS板の場合は塩化第二鉄液に接
触(浸漬など)させることによって、導電性基板がTi
板の場合にはHF−H2 O2 −H2 O液に接触させるこ
と等によって、好適に行われる。なお、Ti基板の場
合、エッチング後にさらにHF−NH4 F液、HF液等
に数十秒間程度浸漬させることによって、凹部表面をよ
り粗面化させるようにしてもよい。このようにすること
により、凹部18内に電着形成される絶縁性物質の凹部
内への定着性のさらなる向上を図ることができる。
グ用マスクとしての導電性基板11のエッチングは、デ
ィップ、スプレー等のウェットエッチングや、ドライエ
ッチング等の公知の慣用的手段で行うことができるが、
例えば導電性基板がSUS板の場合は塩化第二鉄液に接
触(浸漬など)させることによって、導電性基板がTi
板の場合にはHF−H2 O2 −H2 O液に接触させるこ
と等によって、好適に行われる。なお、Ti基板の場
合、エッチング後にさらにHF−NH4 F液、HF液等
に数十秒間程度浸漬させることによって、凹部表面をよ
り粗面化させるようにしてもよい。このようにすること
により、凹部18内に電着形成される絶縁性物質の凹部
内への定着性のさらなる向上を図ることができる。
【0051】絶縁層16は絶縁性物質からなる電着材料
である。絶縁パターンの電着材料は、一般に有機材料
(高分子材料)からなり、その原形は電着塗装法として
よく知られている。電着塗装では、電気化学的な主電極
との反応によりカチオン電着とアニオン電着とがある。
これは、電着材料がカチオンとして存在するか、アニオ
ンとして挙動するかで分類される。電着に用いられる有
機高分子物質としては、天然油脂系、合成油脂系、アル
キッド樹脂系、ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系、
エポキシ樹脂系、ポリイミド樹脂系等の種々の有機高分
子物質が挙げられる。アニオン型では、古くからマレイ
ン化油やポリブタジエン系樹脂が知られており、電着物
質の硬化は酸化重合反応による。カチオン型はエポキシ
樹脂系が多く、単独あるいは変性されて使用できる。そ
の他に、メラミン樹脂系、アクリル樹脂系等のいわゆる
ポリアミノ系樹脂が多く用いられ、熱硬化や光硬化等に
より強固な絶縁層を形成できる。
である。絶縁パターンの電着材料は、一般に有機材料
(高分子材料)からなり、その原形は電着塗装法として
よく知られている。電着塗装では、電気化学的な主電極
との反応によりカチオン電着とアニオン電着とがある。
これは、電着材料がカチオンとして存在するか、アニオ
ンとして挙動するかで分類される。電着に用いられる有
機高分子物質としては、天然油脂系、合成油脂系、アル
キッド樹脂系、ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系、
エポキシ樹脂系、ポリイミド樹脂系等の種々の有機高分
子物質が挙げられる。アニオン型では、古くからマレイ
ン化油やポリブタジエン系樹脂が知られており、電着物
質の硬化は酸化重合反応による。カチオン型はエポキシ
樹脂系が多く、単独あるいは変性されて使用できる。そ
の他に、メラミン樹脂系、アクリル樹脂系等のいわゆる
ポリアミノ系樹脂が多く用いられ、熱硬化や光硬化等に
より強固な絶縁層を形成できる。
【0052】特に離型性を良好にするために、上記樹脂
にフッ素を導入したものや、フッ素系ポリマー粒子を分
散させたもの等が好適に用いられる。これらフッ素系樹
脂としては、四フッ化エチレン分散型電着樹脂やアクリ
ル主鎖あるいは側鎖へのフッ素結合型電着樹脂などが特
に好適に用いられ、四フッ化エチレン分散型電着樹脂と
してはフッ素アクリル樹脂(PAFC)等が例示的に挙
げられ、アクリル主鎖へのフッ素結合型電着樹脂として
は主鎖にフッ素を含むフルオロオレフィン−ビニルエー
テル共重合体等が例示的に挙げられる。また、塗膜の強
度を高めるために、熱硬化性メラミン樹脂を共折させ、
熱処理を行うとよい。
にフッ素を導入したものや、フッ素系ポリマー粒子を分
散させたもの等が好適に用いられる。これらフッ素系樹
脂としては、四フッ化エチレン分散型電着樹脂やアクリ
ル主鎖あるいは側鎖へのフッ素結合型電着樹脂などが特
に好適に用いられ、四フッ化エチレン分散型電着樹脂と
してはフッ素アクリル樹脂(PAFC)等が例示的に挙
げられ、アクリル主鎖へのフッ素結合型電着樹脂として
は主鎖にフッ素を含むフルオロオレフィン−ビニルエー
テル共重合体等が例示的に挙げられる。また、塗膜の強
度を高めるために、熱硬化性メラミン樹脂を共折させ、
熱処理を行うとよい。
【0053】次に、本発明に係る多層プリント配線板の
各配線パターン層の交差部あるいは近接部における接続
について説明する。
各配線パターン層の交差部あるいは近接部における接続
について説明する。
【0054】図12は、多層プリント配線板1を構成す
る配線パターン層3と配線パターン層4との交差部を示
す斜視図である。図12に示されるように、各配線パタ
ーン層の導電性層は部分的に常に裸出されたものとな
り、交差部では、配線パターン層3と配線パターン層4
との間の絶縁は上層である配線パターン層4を構成する
絶縁樹脂層4bにより保たれている。そして、各配線パ
ターン層の導電性層は部分的に常に裸出されているた
め、配線パターン層の交差部、あるいは、図13に示さ
れるように各配線パターン層が相互に近接する部位(近
接部、図示例では配線パターン層3と配線パターン層4
とが近接している)における各配線パターン層相互の接
続を容易に行うことができる。
る配線パターン層3と配線パターン層4との交差部を示
す斜視図である。図12に示されるように、各配線パタ
ーン層の導電性層は部分的に常に裸出されたものとな
り、交差部では、配線パターン層3と配線パターン層4
との間の絶縁は上層である配線パターン層4を構成する
絶縁樹脂層4bにより保たれている。そして、各配線パ
ターン層の導電性層は部分的に常に裸出されているた
め、配線パターン層の交差部、あるいは、図13に示さ
れるように各配線パターン層が相互に近接する部位(近
接部、図示例では配線パターン層3と配線パターン層4
とが近接している)における各配線パターン層相互の接
続を容易に行うことができる。
【0055】上記のような各配線パターン層の交差部あ
るいは近接部における接続としては、(1)リフトオフ
法、(2)印刷法、(3)ディスペンス法、(4)超微
粒子吹付け法、(5)レーザー描画法、(6)選択無電
解メッキ法、(7)選択蒸着法、(8)溶接接合法、
(9)ワイヤーボンディング法、(10)ワイヤーボン
ディング装置を用いた1ショット法、(11)レーザー
メッキ法、(12)導電体と半田メッキとの積層体の一
括転写法、(13)金属塊挿入法、(14)無電解メッ
キ法等が挙げられる。
るいは近接部における接続としては、(1)リフトオフ
法、(2)印刷法、(3)ディスペンス法、(4)超微
粒子吹付け法、(5)レーザー描画法、(6)選択無電
解メッキ法、(7)選択蒸着法、(8)溶接接合法、
(9)ワイヤーボンディング法、(10)ワイヤーボン
ディング装置を用いた1ショット法、(11)レーザー
メッキ法、(12)導電体と半田メッキとの積層体の一
括転写法、(13)金属塊挿入法、(14)無電解メッ
キ法等が挙げられる。
【0056】図14は上記(1)のリフトオフ法による
多層プリント配線板1の交差部の接続方法の一例を説明
するための図である。まず、交差部となる位置に予めス
ルーホールパターン41を形成した配線パターン層4を
配線パターン層3上に転写してある多層プリント配線板
1上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層を形
成した後、所定のフォトマスクを用いてフォトレジスト
層を密着露光し現像して、交差部のスルーホール41周
縁の導電性層4aをわずかに露出させるようにレジスト
層42を形成する(図14(A))。次に、多層プリン
ト配線板1上に無電解メッキ触媒を塗布して触媒層43
を形成する(図14(B))。その後、この触媒層43
に無電解メッキにより導電性物質を析出させて導電層4
4とし、この導電層44を電極としてメッキ法により導
電膜45を形成する(図14(C))。そして、レジス
ト層42を剥離してリフトオフすることにより、スルー
ホール41内に接合部46を形成する(図14
(D))。図15は、このようにして接合部46により
相互に接続された配線パターン層3と配線パターン層4
との状態を示す斜視図である。
多層プリント配線板1の交差部の接続方法の一例を説明
するための図である。まず、交差部となる位置に予めス
ルーホールパターン41を形成した配線パターン層4を
配線パターン層3上に転写してある多層プリント配線板
1上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層を形
成した後、所定のフォトマスクを用いてフォトレジスト
層を密着露光し現像して、交差部のスルーホール41周
縁の導電性層4aをわずかに露出させるようにレジスト
層42を形成する(図14(A))。次に、多層プリン
ト配線板1上に無電解メッキ触媒を塗布して触媒層43
を形成する(図14(B))。その後、この触媒層43
に無電解メッキにより導電性物質を析出させて導電層4
4とし、この導電層44を電極としてメッキ法により導
電膜45を形成する(図14(C))。そして、レジス
ト層42を剥離してリフトオフすることにより、スルー
ホール41内に接合部46を形成する(図14
(D))。図15は、このようにして接合部46により
相互に接続された配線パターン層3と配線パターン層4
との状態を示す斜視図である。
【0057】上記(2)の印刷法による多層プリント配
線板1の配線パターン層の交差部あるいは近接部の接続
は、印刷により各配線パターン層を構成する導電性層相
互間に跨がるように導電ペーストまたはハンダを固着し
て接合部を形成することにより行うものである。用いる
印刷方式は特に限定されるものではないが、一般に厚膜
の印刷に適し、電子工業分野で多用されているスクリー
ン印刷が好ましい。スクリーン印刷を行う場合には、予
め配線間の接続部に相当する部分に開孔部をもつスクリ
ーン印刷版を作成し、多層配線板上に位置を合わせて配
置し、銀ペースト等の導電性ペーストインキを印刷すれ
ばよい。
線板1の配線パターン層の交差部あるいは近接部の接続
は、印刷により各配線パターン層を構成する導電性層相
互間に跨がるように導電ペーストまたはハンダを固着し
て接合部を形成することにより行うものである。用いる
印刷方式は特に限定されるものではないが、一般に厚膜
の印刷に適し、電子工業分野で多用されているスクリー
ン印刷が好ましい。スクリーン印刷を行う場合には、予
め配線間の接続部に相当する部分に開孔部をもつスクリ
ーン印刷版を作成し、多層配線板上に位置を合わせて配
置し、銀ペースト等の導電性ペーストインキを印刷すれ
ばよい。
【0058】また、上記(3)のディスペンス法による
多層プリント配線板1の配線パターン層の交差部あるい
は近接部の接続は、上記の印刷法に類似しているが、導
電性のインキを微細なノズルから噴出させ、配線間に接
合部を直接描画形成することにより行うものである。具
体的には、一般に接着剤等を必要箇所に少量付着させる
ために用いられている針状の噴出口を有するディスペン
サーが使用できる。また、使用する導電性インキの粘度
によっては、コンピュータ等の出力装置に使用されてい
るインクジェット方式も使用可能である。
多層プリント配線板1の配線パターン層の交差部あるい
は近接部の接続は、上記の印刷法に類似しているが、導
電性のインキを微細なノズルから噴出させ、配線間に接
合部を直接描画形成することにより行うものである。具
体的には、一般に接着剤等を必要箇所に少量付着させる
ために用いられている針状の噴出口を有するディスペン
サーが使用できる。また、使用する導電性インキの粘度
によっては、コンピュータ等の出力装置に使用されてい
るインクジェット方式も使用可能である。
【0059】上記(4)の超微粒子吹付け法は、超微粒
子を高速の気流に乗せて搬送し、多層プリント配線板に
近接して設けられた微細なノズルから多層プリント配線
板に吹き付けることによって、超微粒子と多層プリント
配線板との衝突エネルギーにより相互に凝結して膜を形
成する方法であり、ガスデポジション法と呼ばれている
方法が利用できる。この方法に用いる装置は、基本的に
は高真空と低真空の2つの真空槽と、各真空槽を接続す
る接続パイプからなる。そして、超微粒子は、アルゴン
ガス等を導入した低真空槽内において真空蒸着法により
形成され、また、基板は高真空槽内に設置されている。
上記の接続パイプは、低真空槽内の超微粒子の発生する
近傍と、高真空槽内の多層プリント配線板の近傍部であ
って、この配線板に直交する方向とに開口部を有してい
る。各真空槽は、それぞれ真空排気系によって一定の圧
力に保たれているため、各真空槽間の圧力差により接続
パイプ内には低真空槽から高真空槽へ向かう高速の気流
(ガス流)が発生し、低真空槽内で発生した超微粒子は
この気流に乗せられて高真空槽側へ搬送され、多層プリ
ント配線板の配線パターン層に衝突して互いに凝結し膜
状になる。金、銀、銅、ニッケル等の金属を母材にこの
方法を用いることにより、配線間の接続を必要とする箇
所に選択的に導電体(接合部)を形成することができ
る。
子を高速の気流に乗せて搬送し、多層プリント配線板に
近接して設けられた微細なノズルから多層プリント配線
板に吹き付けることによって、超微粒子と多層プリント
配線板との衝突エネルギーにより相互に凝結して膜を形
成する方法であり、ガスデポジション法と呼ばれている
方法が利用できる。この方法に用いる装置は、基本的に
は高真空と低真空の2つの真空槽と、各真空槽を接続す
る接続パイプからなる。そして、超微粒子は、アルゴン
ガス等を導入した低真空槽内において真空蒸着法により
形成され、また、基板は高真空槽内に設置されている。
上記の接続パイプは、低真空槽内の超微粒子の発生する
近傍と、高真空槽内の多層プリント配線板の近傍部であ
って、この配線板に直交する方向とに開口部を有してい
る。各真空槽は、それぞれ真空排気系によって一定の圧
力に保たれているため、各真空槽間の圧力差により接続
パイプ内には低真空槽から高真空槽へ向かう高速の気流
(ガス流)が発生し、低真空槽内で発生した超微粒子は
この気流に乗せられて高真空槽側へ搬送され、多層プリ
ント配線板の配線パターン層に衝突して互いに凝結し膜
状になる。金、銀、銅、ニッケル等の金属を母材にこの
方法を用いることにより、配線間の接続を必要とする箇
所に選択的に導電体(接合部)を形成することができ
る。
【0060】上記(5)のレーザー描画法は、導電性の
微粒子を分散した溶液を多層プリント配線板に塗布し、
この塗膜の所望の箇所をレーザーによって加熱すること
により、樹脂バインダーを分解あるいは蒸発させて除去
し、この加熱箇所に導電性微流子を析出、凝集させて選
択的に導電体を形成するものである。溶液としては、ポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂等に金、銀等の導電性微
粒子を分散したものを用い、アルゴンレーザー等を絞っ
て照射することにより、数十μm程度の細線を描画する
ことができる。
微粒子を分散した溶液を多層プリント配線板に塗布し、
この塗膜の所望の箇所をレーザーによって加熱すること
により、樹脂バインダーを分解あるいは蒸発させて除去
し、この加熱箇所に導電性微流子を析出、凝集させて選
択的に導電体を形成するものである。溶液としては、ポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂等に金、銀等の導電性微
粒子を分散したものを用い、アルゴンレーザー等を絞っ
て照射することにより、数十μm程度の細線を描画する
ことができる。
【0061】上記(6)の選択無電解メッキ法は、一般
にフォトフォーミング法として知られている選択的な無
電解メッキ技術を用いることができる。この技術は、還
元可能で、かつ無電解メッキに対して触媒となる酸化状
態の金属を含む感光剤層を多層プリント配線板上に形成
し、この感光剤層を選択的に露光させることにより、無
電解メッキに対して触媒となる金属粒子を析出させ、そ
の後、無電解メッキ液に浸漬することにより露光部にの
み選択的なメッキを施すものである。
にフォトフォーミング法として知られている選択的な無
電解メッキ技術を用いることができる。この技術は、還
元可能で、かつ無電解メッキに対して触媒となる酸化状
態の金属を含む感光剤層を多層プリント配線板上に形成
し、この感光剤層を選択的に露光させることにより、無
電解メッキに対して触媒となる金属粒子を析出させ、そ
の後、無電解メッキ液に浸漬することにより露光部にの
み選択的なメッキを施すものである。
【0062】また、上記(7)の選択蒸着法は、薄膜形
成技術の一つである選択的膜堆積技術を用いるものであ
る。すなわち、真空槽内に金属、炭素等の導電性元素を
含む有機金属ガス、あるいは、導電性元素を含む有機物
の蒸気を導入し、真空槽内に設置した多層プリント配線
板表面に上記のガスあるいは蒸気を吸着させ、次に、レ
ーザーあるいはイオンビームを、集光あるいは収束して
基板に照射し、その部分に吸着しているガスあるいは蒸
気を熱または衝突エネルギーによって分解して、金属、
炭素等の導電性物質を多層プリント配線板上に堆積させ
るものである。このような選択蒸着法は、LSIの配線
修正技術として実用化されている。具体的には、集光し
たアルゴンレーザーによってクロム、コバルト、白金、
タングステン等を含む有機金属ガスを分解して、これら
の金属を所望の修正箇所に堆積する技術、あるいは、ガ
リウムのイオンビームによってピレン等の有機材料の蒸
気を分解して炭素膜を堆積する技術を用いることができ
る。
成技術の一つである選択的膜堆積技術を用いるものであ
る。すなわち、真空槽内に金属、炭素等の導電性元素を
含む有機金属ガス、あるいは、導電性元素を含む有機物
の蒸気を導入し、真空槽内に設置した多層プリント配線
板表面に上記のガスあるいは蒸気を吸着させ、次に、レ
ーザーあるいはイオンビームを、集光あるいは収束して
基板に照射し、その部分に吸着しているガスあるいは蒸
気を熱または衝突エネルギーによって分解して、金属、
炭素等の導電性物質を多層プリント配線板上に堆積させ
るものである。このような選択蒸着法は、LSIの配線
修正技術として実用化されている。具体的には、集光し
たアルゴンレーザーによってクロム、コバルト、白金、
タングステン等を含む有機金属ガスを分解して、これら
の金属を所望の修正箇所に堆積する技術、あるいは、ガ
リウムのイオンビームによってピレン等の有機材料の蒸
気を分解して炭素膜を堆積する技術を用いることができ
る。
【0063】さらに、上記(8)の溶接接合法は、配線
パターン層の交差部をレーザーで選択的に加熱し、上下
の配線パターン層の導電性層間に存在する絶縁樹脂層
(上層を構成する絶縁樹脂層)を溶融・蒸発させ、さら
に、導電性層自体も高温に加熱することによって、各配
線パターン層を構成する導電性層を相互に融着して接合
部を形成し接続するものである。
パターン層の交差部をレーザーで選択的に加熱し、上下
の配線パターン層の導電性層間に存在する絶縁樹脂層
(上層を構成する絶縁樹脂層)を溶融・蒸発させ、さら
に、導電性層自体も高温に加熱することによって、各配
線パターン層を構成する導電性層を相互に融着して接合
部を形成し接続するものである。
【0064】上記(9)のワイヤーボンディング法は、
例えば、図20に示されるように配線パターン層3,4
の導通されていない近接部(交差部においても同様に対
処可能である)を、ワイヤーボンディング装置を用い
て、ワイヤーボンディングを行い導電性層3aと4aと
をワイヤーブリッジ150により接続する方法である。
例えば、図20に示されるように配線パターン層3,4
の導通されていない近接部(交差部においても同様に対
処可能である)を、ワイヤーボンディング装置を用い
て、ワイヤーボンディングを行い導電性層3aと4aと
をワイヤーブリッジ150により接続する方法である。
【0065】上記(10)のワイヤーボンディング装置
を用いた1ショット法は、例えば、図21に示されるよ
うに配線パターン層3,4の導通されていない近接部
(交差部においても同様に対処可能である)を、ワイヤ
ーボンディング装置を用いて、1ショット(1回)のボ
ンディングを行い、ブリッジなしの状態で導電性層3a
と4aとをボンディング塊(パッド)155により接続
する方法である。
を用いた1ショット法は、例えば、図21に示されるよ
うに配線パターン層3,4の導通されていない近接部
(交差部においても同様に対処可能である)を、ワイヤ
ーボンディング装置を用いて、1ショット(1回)のボ
ンディングを行い、ブリッジなしの状態で導電性層3a
と4aとをボンディング塊(パッド)155により接続
する方法である。
【0066】上記(11)のレーザーメッキ法は、例え
ば、パラジウムメッキ液中に、接続操作前の多層プリン
ト配線板を浸漬させた状態で、所定のスポット径、照射
面でのパワー等を調整したレーザー(例えば、アルゴン
レーザー)を、導通すべき近接部ないしは交差部に所定
時間照射し、照射部分に例えばPd膜を所定厚さに析出
させて接続する方法である。なお、好ましくは、パラジ
ウムメッキ液を循環させながらレーザーを照射させるの
がよい。また、メッキ液は水洗により除去され、図22
に示されるごとく析出したメッキ膜157により導電性
層3aと4aとの接続がなされる。
ば、パラジウムメッキ液中に、接続操作前の多層プリン
ト配線板を浸漬させた状態で、所定のスポット径、照射
面でのパワー等を調整したレーザー(例えば、アルゴン
レーザー)を、導通すべき近接部ないしは交差部に所定
時間照射し、照射部分に例えばPd膜を所定厚さに析出
させて接続する方法である。なお、好ましくは、パラジ
ウムメッキ液を循環させながらレーザーを照射させるの
がよい。また、メッキ液は水洗により除去され、図22
に示されるごとく析出したメッキ膜157により導電性
層3aと4aとの接続がなされる。
【0067】上記(12)の導電体と半田メッキとの積
層体の一括転写法は、図23(A),(B)に示される
ごとく行われる。まず最初に、図23(B)に示される
ように導電体層161と半田メッキ層162の積層体1
60を以下の要領で作製する。すなわち、導電性の基板
169上に、レジスト法を用いて現像し所望のパターン
(導電性パターン)を形成した転写基板の上に、例え
ば、電解メッキを施し導電体層161を形成し、この導
電体層上に所定の半田メッキ浴組成物を用いて半田メッ
キを行い、半田メッキ層162を形成する。なお、半田
メッキ層162は、半田メッキの他、半田ペーストのス
クリーン印刷、ディッピングでも同様に形成可能であ
る。このようにして積層した積層体160を、図23
(A)に示されるように配線パターン層3,4の導通さ
れていない近接部(交差部においても同様に対処可能で
ある)に一括熱転写し、導電性層3aと4aとの接続を
行う。この際、熱転写温度は半田メッキ層162が溶融
変形可能な温度である200〜300℃程度の温度範囲
で行われる。
層体の一括転写法は、図23(A),(B)に示される
ごとく行われる。まず最初に、図23(B)に示される
ように導電体層161と半田メッキ層162の積層体1
60を以下の要領で作製する。すなわち、導電性の基板
169上に、レジスト法を用いて現像し所望のパターン
(導電性パターン)を形成した転写基板の上に、例え
ば、電解メッキを施し導電体層161を形成し、この導
電体層上に所定の半田メッキ浴組成物を用いて半田メッ
キを行い、半田メッキ層162を形成する。なお、半田
メッキ層162は、半田メッキの他、半田ペーストのス
クリーン印刷、ディッピングでも同様に形成可能であ
る。このようにして積層した積層体160を、図23
(A)に示されるように配線パターン層3,4の導通さ
れていない近接部(交差部においても同様に対処可能で
ある)に一括熱転写し、導電性層3aと4aとの接続を
行う。この際、熱転写温度は半田メッキ層162が溶融
変形可能な温度である200〜300℃程度の温度範囲
で行われる。
【0068】上記(13)の金属塊挿入法は、図24
(A)に示されるように配線パターン層3,4の導通さ
れていない近接部の配線間隙に、例えば、直径30〜1
00μm程度の金属ボール71を配置し、しかる後、図
24(B)に示されるようにその上から感圧接着剤を塗
布したシート72を圧着し、導電性層3aと4aとを接
続する方法である。なお、金属ボールの使用は、より好
ましい使用態様であるが、球形でないいわゆる金属片
(塊)のようなものでも使用可能である。また、このよ
うな金属ボール(塊)は、前記印刷法、ディスペンス法
においても接続部の信頼性をより向上させるために使用
することもできる。すなわち、金属ボールを設置した後
に、前記の印刷ないしはディスペンスを行うのである。
(A)に示されるように配線パターン層3,4の導通さ
れていない近接部の配線間隙に、例えば、直径30〜1
00μm程度の金属ボール71を配置し、しかる後、図
24(B)に示されるようにその上から感圧接着剤を塗
布したシート72を圧着し、導電性層3aと4aとを接
続する方法である。なお、金属ボールの使用は、より好
ましい使用態様であるが、球形でないいわゆる金属片
(塊)のようなものでも使用可能である。また、このよ
うな金属ボール(塊)は、前記印刷法、ディスペンス法
においても接続部の信頼性をより向上させるために使用
することもできる。すなわち、金属ボールを設置した後
に、前記の印刷ないしはディスペンスを行うのである。
【0069】上記(14)の無電解メッキ法を図25
(A)〜(F)に基づいて説明する。まず、最初に図2
5(A)に示されるような配線パターン層3,4を備え
る多層プリント配線板上に無電解メッキ触媒を全面に塗
布して触媒層81を形成する(図25(B))。次い
で、この上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト
を形成したのち、所定のフォトマスクを用いてレジスト
層83,83を密着露光、現像し、配線パターンの接続
すべき位置に相当する部分Hを露出させる(図25
(C))。その後、この露出部分Hを活性化させた後、
無電解メッキを行い接続部85を形成させ導電性層3a
と4aを接続する(図25(D))。しかる後、残余の
不要なレジストおよび触媒層を順次、除去して、接続部
85(触媒層81a)のみを残す(図25(E))。
(A)〜(F)に基づいて説明する。まず、最初に図2
5(A)に示されるような配線パターン層3,4を備え
る多層プリント配線板上に無電解メッキ触媒を全面に塗
布して触媒層81を形成する(図25(B))。次い
で、この上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト
を形成したのち、所定のフォトマスクを用いてレジスト
層83,83を密着露光、現像し、配線パターンの接続
すべき位置に相当する部分Hを露出させる(図25
(C))。その後、この露出部分Hを活性化させた後、
無電解メッキを行い接続部85を形成させ導電性層3a
と4aを接続する(図25(D))。しかる後、残余の
不要なレジストおよび触媒層を順次、除去して、接続部
85(触媒層81a)のみを残す(図25(E))。
【0070】なお、上述のような(2)〜(14)の方
法による交差部の接続では、可能である範囲において図
16に示されるように交差部の一部に接合部51を形成
して配線パターン層3の導電性層3aと配線パターン層
4の導電性層4aとを接続してもよく、あるいは図17
に示されるように、配線パターン層3と配線パターン層
4との交差部を覆うような接合部52を形成してもよ
い。また、近接部における接続においても、図18に示
されるように近接部の一部に跨がるように接合部61を
形成して配線パターン層3の導電性層3aと配線パター
ン層4の導電性層4aとを接続してもよく、あるいは図
19に示されるように、配線パターン層3と配線パター
ン層4との近接部を覆うような接合部62を形成しても
よい。
法による交差部の接続では、可能である範囲において図
16に示されるように交差部の一部に接合部51を形成
して配線パターン層3の導電性層3aと配線パターン層
4の導電性層4aとを接続してもよく、あるいは図17
に示されるように、配線パターン層3と配線パターン層
4との交差部を覆うような接合部52を形成してもよ
い。また、近接部における接続においても、図18に示
されるように近接部の一部に跨がるように接合部61を
形成して配線パターン層3の導電性層3aと配線パター
ン層4の導電性層4aとを接続してもよく、あるいは図
19に示されるように、配線パターン層3と配線パター
ン層4との近接部を覆うような接合部62を形成しても
よい。
【0071】本発明の多層プリント配線板は、上述した
(2)〜(14)のような接続方式を用いることによ
り、スルーホールの形成箇所に拘束されずに任意の箇所
で各配線パターン層間の接続ができるため、多層プリン
ト配線板を作製した後の回路設計の変更の自由度が、従
来の多層プリント配線板に比べて大きいものである。
(2)〜(14)のような接続方式を用いることによ
り、スルーホールの形成箇所に拘束されずに任意の箇所
で各配線パターン層間の接続ができるため、多層プリン
ト配線板を作製した後の回路設計の変更の自由度が、従
来の多層プリント配線板に比べて大きいものである。
【0072】尚、上記の例では多層プリント配線板1は
3層構成であるが、本発明の多層プリント配線板の製造
方法は、同様の積層転写を繰り返し行うことにより所望
の数の配線パターン層を備えた多層プリント配線板を製
造することができる。
3層構成であるが、本発明の多層プリント配線板の製造
方法は、同様の積層転写を繰り返し行うことにより所望
の数の配線パターン層を備えた多層プリント配線板を製
造することができる。
【0073】また、本発明の多層プリント配線板は、例
えば、上記の3層構造の多層プリント配線板1を、ガラ
ス布にエポキシ樹脂を含浸させた半硬化状態のプリプレ
グと一緒に加圧積層して、より多層化を図ったものとす
ることができる。
えば、上記の3層構造の多層プリント配線板1を、ガラ
ス布にエポキシ樹脂を含浸させた半硬化状態のプリプレ
グと一緒に加圧積層して、より多層化を図ったものとす
ることができる。
【0074】さらに、2層構造の本発明の多層プリント
配線板は、従来の両面プリント配線板の問題点、すなわ
ち、両面プリント配線板の穴形成のためのドリル加工の
精度から生じる高密度化における問題を解決することが
できる。これは、上述したように、本発明の多層プリン
ト配線板では、各配線パターン層の導電性層が部分的に
常に裸出しており、スルーホールを形成することなく配
線パターン層の交差部、あるいは、近接部における各配
線パターン層相互の接続を容易に行うことができるから
である。
配線板は、従来の両面プリント配線板の問題点、すなわ
ち、両面プリント配線板の穴形成のためのドリル加工の
精度から生じる高密度化における問題を解決することが
できる。これは、上述したように、本発明の多層プリン
ト配線板では、各配線パターン層の導電性層が部分的に
常に裸出しており、スルーホールを形成することなく配
線パターン層の交差部、あるいは、近接部における各配
線パターン層相互の接続を容易に行うことができるから
である。
【0075】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 (1) 転写用原版における導電性層の形成(図2
(C)対応)。 導電性基板として、表面を研磨した厚さ0.2mmのス
テンレス板を準備し、このステンレス板上に市販のメッ
キ用フォトレジスト(東京応化工業(株)製PMER
P−AR900)を厚さ20μmに塗布乾燥し、配線パ
ターンが形成されている3種のフォトマスクを用いてそ
れぞれ密着露光を行った後、現像・水洗・乾燥し、さら
に熱硬化を行って絶縁層を備えた転写用原版(3種)を
作製した。
説明する。 (1) 転写用原版における導電性層の形成(図2
(C)対応)。 導電性基板として、表面を研磨した厚さ0.2mmのス
テンレス板を準備し、このステンレス板上に市販のメッ
キ用フォトレジスト(東京応化工業(株)製PMER
P−AR900)を厚さ20μmに塗布乾燥し、配線パ
ターンが形成されている3種のフォトマスクを用いてそ
れぞれ密着露光を行った後、現像・水洗・乾燥し、さら
に熱硬化を行って絶縁層を備えた転写用原版(3種)を
作製した。
【0076】上記の転写用原版と白金電極を対向させて
下記の組成のピロ燐酸銅メッキ浴(pH=8,液温=5
5℃)中に浸漬し、直流電源の陽極に白金電極を陰極に
上記の転写基板を接続し、電流密度10A/dm2 で5
分間の通電を行い、フォトレジストで被覆されていない
導電性基板の裸出部に厚さ10μmの銅メッキ膜を形成
し導電性層とした。この導電性層形成を3種の転写用原
版について行った。
下記の組成のピロ燐酸銅メッキ浴(pH=8,液温=5
5℃)中に浸漬し、直流電源の陽極に白金電極を陰極に
上記の転写基板を接続し、電流密度10A/dm2 で5
分間の通電を行い、フォトレジストで被覆されていない
導電性基板の裸出部に厚さ10μmの銅メッキ膜を形成
し導電性層とした。この導電性層形成を3種の転写用原
版について行った。
【0077】 (ピロ燐酸銅メッキ浴の組成) ピロ燐酸銅 … 94g/l ピロ燐酸銅カリウム … 340g/l アンモニア水 … 3cc/l (2) 転写用原版における絶縁樹脂層Aの形成(図2
(D)対応) 上記(1)において導電性層を形成した3種の転写用原
版の各々にスクリーン印刷版を用いて絶縁樹脂(信越化
学工業(株)製 KE3479)を印刷し、導電性層上
に厚さ15μmの接着性を有する絶縁樹脂層Aを形成し
て3種の配線パターン層用の転写用原版A1、A2、A
3とした。 (3) 転写用原版における絶縁樹脂層Bの形成(図2
(D)対応) 上記(1)において導電性層を形成した3種の転写用原
版の各々を、(株)飯沼ゲージ製作所製の自動塗布装置
(XYD4550ZCZ−2型)に装着し、ディスペン
サーに接続された内径0.1mmのニードル(針状の噴
出口)を配線パターン上に移動させ、絶縁樹脂(信越化
学工業(株)製 KE3479)を噴出させ、導電性層
上に厚さ15μmの絶縁樹脂層Bを形成して3種の配線
パターン層用の転写用原版B1、B2、B3とした。 (4)多層プリント配線板の作製1(図5対応) 上記の(2)において作製した3種の配線パターン層用
の転写用原版A1、A2、A3を、この順序で厚さ25
μmのポリイミドフィルム基板上に下記の条件で圧着し
て導電性層と絶縁樹脂層Aからなる3種の配線パターン
層をフィルム基板上に転写して多層プリント配線板を作
製した。 (圧着条件) 圧 力 : 10kgf/cm2 温 度 : 室温
(D)対応) 上記(1)において導電性層を形成した3種の転写用原
版の各々にスクリーン印刷版を用いて絶縁樹脂(信越化
学工業(株)製 KE3479)を印刷し、導電性層上
に厚さ15μmの接着性を有する絶縁樹脂層Aを形成し
て3種の配線パターン層用の転写用原版A1、A2、A
3とした。 (3) 転写用原版における絶縁樹脂層Bの形成(図2
(D)対応) 上記(1)において導電性層を形成した3種の転写用原
版の各々を、(株)飯沼ゲージ製作所製の自動塗布装置
(XYD4550ZCZ−2型)に装着し、ディスペン
サーに接続された内径0.1mmのニードル(針状の噴
出口)を配線パターン上に移動させ、絶縁樹脂(信越化
学工業(株)製 KE3479)を噴出させ、導電性層
上に厚さ15μmの絶縁樹脂層Bを形成して3種の配線
パターン層用の転写用原版B1、B2、B3とした。 (4)多層プリント配線板の作製1(図5対応) 上記の(2)において作製した3種の配線パターン層用
の転写用原版A1、A2、A3を、この順序で厚さ25
μmのポリイミドフィルム基板上に下記の条件で圧着し
て導電性層と絶縁樹脂層Aからなる3種の配線パターン
層をフィルム基板上に転写して多層プリント配線板を作
製した。 (圧着条件) 圧 力 : 10kgf/cm2 温 度 : 室温
【0078】(5) 多層プリント配線板の作製2(図
5対応) 上記の(3)において作製した3種の配線パターン層用
の転写用原版B1、B2、B3を、この順序で厚さ25
μmのポリイミドフィルム基板上に下記の条件で圧着し
て導電性層と絶縁樹脂層Bからなる3種の配線パターン
層をフィルム基板上に転写し、その後、フィルム基板を
ホットプレート上で180℃、1時間の熱処理を施し、
転写された絶縁樹脂層Bを硬化させて多層プリント配線
板を作製した。 (圧着条件) 圧 力 : 10kgf/cm2 温 度 : 室温
5対応) 上記の(3)において作製した3種の配線パターン層用
の転写用原版B1、B2、B3を、この順序で厚さ25
μmのポリイミドフィルム基板上に下記の条件で圧着し
て導電性層と絶縁樹脂層Bからなる3種の配線パターン
層をフィルム基板上に転写し、その後、フィルム基板を
ホットプレート上で180℃、1時間の熱処理を施し、
転写された絶縁樹脂層Bを硬化させて多層プリント配線
板を作製した。 (圧着条件) 圧 力 : 10kgf/cm2 温 度 : 室温
【0079】上記のようにして作製された多層プリント
配線板を使用して作動試験を行ったところ、層間の短絡
等は見られず正しく作動することが確認された。
配線板を使用して作動試験を行ったところ、層間の短絡
等は見られず正しく作動することが確認された。
【0080】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば転
写用原版上に設けた導電性層あるいは導電性層と絶縁樹
脂層とからなる配線パターン層を基板上に転写すること
により、上部に導電性層を下部に絶縁樹脂層を備えた配
線パターン層を基板上に多層に積層することができ、こ
の多層積層は、所定の配線パターン層を形成した転写用
原版を並行して複数作製し、これらの転写用原版を用い
て順次転写する並直列プロセスであるため、転写前の検
査により不良品を排除することができ、製造歩留が向上
するとともに、スループットが高く、さらに、従来基板
上で行っていた配線層の形成やパターニングのためのメ
ッキ、およびフォトエッチング工程は不要となり、製造
工程の簡略化が可能となる。また、多層プリント配線板
には、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁
層による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層
を構成する導電性層は部分的に常に裸出されており、各
配線パターン層の交差部あるいは各配線パターン層が相
互に近接する部位における各配線パターン層相互の接続
を容易に行うことができ、汎用性の極めて高い多層プリ
ント配線板が可能となる。また、本発明では絶縁樹脂層
の形成を電着によらずスクリーン印刷方式又はディスペ
ンサーによる塗布方式を採用したので材料選択の幅が広
がると共に製造プロセスが簡易となるメリットを有する
ものである。
写用原版上に設けた導電性層あるいは導電性層と絶縁樹
脂層とからなる配線パターン層を基板上に転写すること
により、上部に導電性層を下部に絶縁樹脂層を備えた配
線パターン層を基板上に多層に積層することができ、こ
の多層積層は、所定の配線パターン層を形成した転写用
原版を並行して複数作製し、これらの転写用原版を用い
て順次転写する並直列プロセスであるため、転写前の検
査により不良品を排除することができ、製造歩留が向上
するとともに、スループットが高く、さらに、従来基板
上で行っていた配線層の形成やパターニングのためのメ
ッキ、およびフォトエッチング工程は不要となり、製造
工程の簡略化が可能となる。また、多層プリント配線板
には、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁
層による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層
を構成する導電性層は部分的に常に裸出されており、各
配線パターン層の交差部あるいは各配線パターン層が相
互に近接する部位における各配線パターン層相互の接続
を容易に行うことができ、汎用性の極めて高い多層プリ
ント配線板が可能となる。また、本発明では絶縁樹脂層
の形成を電着によらずスクリーン印刷方式又はディスペ
ンサーによる塗布方式を採用したので材料選択の幅が広
がると共に製造プロセスが簡易となるメリットを有する
ものである。
【図1】本発明の多層プリント配線板の一例を示す概略
断面図である。
断面図である。
【図2】本発明の多層プリント配線板の製造方法を説明
するための図面である。
するための図面である。
【図3】本発明の多層プリント配線板の製造方法に用い
られる転写用原版の一例を示す概略断面図である。
られる転写用原版の一例を示す概略断面図である。
【図4】本発明の多層プリント配線板の製造方法に用い
られる転写用原版の一例を示す概略断面図である。
られる転写用原版の一例を示す概略断面図である。
【図5】本発明の多層プリント配線板の製造方法を説明
するための図面である。
するための図面である。
【図6】本発明の多層プリント配線板の製造方法に用い
られる転写用原版の他の態様を示す概略断面図である。
られる転写用原版の他の態様を示す概略断面図である。
【図7】図6に示される転写用原版の製造方法を説明す
るための図面である。
るための図面である。
【図8】本発明の多層プリント配線板の製造方法に用い
られる転写用原版の他の態様を示す概略断面図である。
られる転写用原版の他の態様を示す概略断面図である。
【図9】図8に示される転写用原版の製造方法を説明す
るための図面である。
るための図面である。
【図10】本発明の多層プリント配線板の製造方法に用
いられる転写用原版の他の態様を示す概略断面図であ
る。
いられる転写用原版の他の態様を示す概略断面図であ
る。
【図11】図10に示される転写用原版の製造方法を説
明するための図面である。
明するための図面である。
【図12】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の交差部を示す斜視図である。
層の交差部を示す斜視図である。
【図13】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部を示す斜視図である。
層の近接部を示す斜視図である。
【図14】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層相互の接続方法を説明するための図面である。
層相互の接続方法を説明するための図面である。
【図15】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
【図16】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
【図17】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
【図18】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図19】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図20】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図21】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図22】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図23】(A)は、本発明の多層プリント配線板の配
線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図で
ある。(B)は、多層プリント配線板の配線パターン層
の近接部を接続するために使用される接続体を形成させ
た状態を示す図である。
線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図で
ある。(B)は、多層プリント配線板の配線パターン層
の近接部を接続するために使用される接続体を形成させ
た状態を示す図である。
【図24】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続を順次形成させる状態を示す斜
視図である。
層の近接部における接続を順次形成させる状態を示す斜
視図である。
【図25】本発明の多層プリント配線板の配線パターン
層の近接部における接続を順次形成させる状態を示す断
面図である。
層の近接部における接続を順次形成させる状態を示す断
面図である。
1…多層プリント配線板 2…基板 3,4,5…配線パターン層 3a,4a,5a…導電性層 3b,4b,5b…絶縁樹脂層 10,10A,10B,10C,20,30…転写用原
版 11,21,31…導電性基板 13,23,33…配線パターン層 14…導電性層 15…絶縁樹脂層 16…絶縁層 46,51,52,61,62…接合部
版 11,21,31…導電性基板 13,23,33…配線パターン層 14…導電性層 15…絶縁樹脂層 16…絶縁層 46,51,52,61,62…接合部
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/20 6921−4E H05K 3/20 A 3/40 6921−4E 3/40 A
Claims (6)
- 【請求項1】 基板、該基板上に順次転写された複数の
配線パターン層を備え、該配線パターン層は導電性層と
該導電性層の下部に形成された絶縁樹脂層を有するとと
もに、該絶縁樹脂層によって前記基板あるいは下層の配
線パターン層に固着されている多層プリント配線板にお
いて、前記絶縁樹脂層は、スクリーン印刷方式により形
成された粘着剤あるいは接着剤であることを特徴とする
多層プリント配線板。 - 【請求項2】 基板、該基板上に順次転写された複数の
配線パターン層を備え、該配線パターン層は導電性層と
該導電性層の下部に形成された絶縁樹脂層を有するとと
もに、該絶縁樹脂層によって前記基板あるいは下層の配
線パターン層に固着されている多層プリント配線板にお
いて、前記絶縁樹脂層は、ディスペンサーによる塗布方
式により形成された粘着剤あるいは接着剤であることを
特徴とする多層プリント配線板。 - 【請求項3】 前記配線パターン層が相互に交差する部
位および/または近接する部位を有し、該交差部では上
下の配線パターン層間の絶縁は上層の配線パターン層を
構成する絶縁樹脂層により保たれることを特徴とする請
求項1または請求項2に記載の多層プリント配線板。 - 【請求項4】 前記交差部および/または前記近接部の
必要箇所において配線パターン層相互間の接続がなされ
ていることを特徴とする請求項3に記載の多層プリント
配線板。 - 【請求項5】 導電性基板の上に、導電性層と該導電性
層上にスクリーン印刷方式により積層された粘着性ある
いは接着性の絶縁樹脂層とを有する配線パターン層を設
けた転写用原版を複数作製し、次に、多層プリント配線
板用の基板の一方の面に前記転写用原版を圧着し、前記
導電性基板を剥離することにより前記配線パターン層を
転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複数の前記
配線パターン層を形成することを特徴とする多層プリン
ト配線板の製造方法。 - 【請求項6】 導電性基板の上に、導電性層と該導電性
層上にディスペンサー塗布方式により積層された粘着性
あるいは接着性の絶縁樹脂層とを有する配線パターン層
を設けた転写用原版を複数作製し、次に、多層プリント
配線板用の基板の一方の面に前記転写用原版を圧着し、
前記導電性基板を剥離することにより前記配線パターン
層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複数の
前記配線パターン層を形成することを特徴とする多層プ
リント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25010795A JPH0974281A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25010795A JPH0974281A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0974281A true JPH0974281A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=17202932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25010795A Withdrawn JPH0974281A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0974281A (ja) |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP25010795A patent/JPH0974281A/ja not_active Withdrawn
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