JPH0950120A - Photosensitive planographic original printing plate and production of planographic printing plate - Google Patents
Photosensitive planographic original printing plate and production of planographic printing plateInfo
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- JPH0950120A JPH0950120A JP20444295A JP20444295A JPH0950120A JP H0950120 A JPH0950120 A JP H0950120A JP 20444295 A JP20444295 A JP 20444295A JP 20444295 A JP20444295 A JP 20444295A JP H0950120 A JPH0950120 A JP H0950120A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版原
版に関するものであり、特に現像処理が簡便で、不感脂
化処理を行なうことなく高いインキ反撥性を有し、湿し
水として純水を使用できる新規な感光性平版印刷版原版
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate precursor, which is particularly easy to develop, has high ink repulsion without desensitizing treatment, and is pure water as fountain solution. The present invention relates to a novel photosensitive lithographic printing plate precursor which can be used.
【０００２】[0002]
【従来の技術】平版印刷とは、画線部と非画線部とを基
本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容
性、非画線部をインキ反撥性として、インキの付着性の
差異を利用して、画線部のみにインキを着肉させた後、
紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方式を意味
する。またこのような平版印刷には通常、ＰＳ版が用い
られる。2. Description of the Related Art In planographic printing, the image area and the non-image area are basically on the same plane, and the image area is ink-receptive and the non-image area is ink repellent. After applying ink to only the image area using the difference in adhesion,
It means a method of printing by transferring ink to a printing medium such as paper. A PS plate is usually used for such lithographic printing.
【０００３】ここで言うＰＳ版とは、下記のものを意味
する。[0003] The PS plate mentioned here means the following.
【０００４】すなわち、米澤輝彦著「ＰＳ版概論」
（株）印刷学会出版部，p18 〜p81 （１９９３）に記載
されているように、親水化処理されたアルミニウム基板
上に親油性の感光性樹脂層を塗布し、フォトリソグラフ
ィの技術により画線部は感光層が残存し、一方非画線部
は上記したアルミ基板表面が露出し、該表面に湿し水層
を形成してインキ反撥し、画像形成する水ありＰＳ版
と、湿し水層の代わりにシリコーンゴム層をインキ反撥
層として用いる水なしＰＳ版、いわゆる水なし平版であ
る。[0004] That is, Teruhiko Yonezawa, "PS Version Overview"
As described in P18-p81 (1993), Press Society of Japan, Co., Ltd., a lipophilic photosensitive resin layer is coated on a hydrophilically treated aluminum substrate, and an image area is formed by a photolithography technique. The photosensitive layer remains, while the non-image area exposes the surface of the above-mentioned aluminum substrate, forms a dampening water layer on the surface to repel ink, and forms an image with water PS plate and dampening water layer Is a waterless PS plate which uses a silicone rubber layer as an ink repellent layer instead of, a so-called waterless planographic plate.
【０００５】ここで言う水なし平版とは、非画線部がシ
リコ−ンゴム、含フッ素化合物などの通常平版印刷で用
いられる油性インキに対してインキ反撥性を有する物質
からなり、湿し水を用いずにインキ着肉性の画線部との
間で画像形成し、印刷可能な印刷版を意味する。[0005] The term "waterless lithographic printing plate" used herein means that the non-image area is made of a substance having ink repellency to oil-based ink used in normal lithographic printing, such as silicone rubber or a fluorine-containing compound. This means a printing plate that can be used to form an image between an ink-impartable image portion and print without using the same.
【０００６】前者の水ありＰＳ版は実用上優れた印刷版
で、支持体に通常アルミニウムが用いられ、該アルミニ
ウム表面は保水性を有するとともに印刷中に親油性の感
光性樹脂層が該表面から剥離脱落しないように感光層と
の接着性に優れている必要があった。そのため、該アル
ミニウム表面は通常砂目立てされ、さらに必要に応じて
この砂目立てされた表面を陽極酸化するなどの処理が施
され、保水性の向上と該感光性樹脂層に対する接着性の
補強が計られてきた。また、該感光性樹脂層の保存安定
性を得るために該アルミニウム表面はフッ化ジルコニウ
ム、ケイ酸ナトリウムなどの化学処理が一般的に施され
ている。The former PS plate with water is a printing plate which is excellent in practical use, and aluminum is usually used for the support, and the surface of the aluminum has water retentivity and a lipophilic photosensitive resin layer is formed on the surface during printing. It was necessary to have excellent adhesiveness to the photosensitive layer so as not to peel off. Therefore, the aluminum surface is usually grained, and if necessary, a treatment such as anodizing is performed on the grained surface to improve water retention and reinforce adhesion to the photosensitive resin layer. I have been. Further, in order to obtain the storage stability of the photosensitive resin layer, the aluminum surface is generally subjected to a chemical treatment such as zirconium fluoride or sodium silicate.
【０００７】このように水ありＰＳ版は製造工程が複雑
であり、その簡易化が望まれていたが、該版の優れた印
刷特性（耐刷性、画像再現性など）から広く使用されて
いる。As described above, the PS plate with water has a complicated manufacturing process and its simplification has been desired. However, the PS plate has been widely used because of its excellent printing characteristics (printing durability, image reproducibility, etc.). I have.
【０００８】上記問題を解決すべく、アルミニウム基板
と同等もしくはそれ以上の印刷特性を有し、しかも材料
コストが安くかつ簡易な製造工程によるアルミニウム基
板とは異なる新規な平版材料の提案がある。例えば、特
公昭５６−２９３８号公報においては、アルミニウム基
板に代えて親水性高分子材料からなるインキ反撥層を塗
設した支持体を用い、該支持体上に感光層を形成する方
法が提案されている。しかしながら、該方法は、ポリ塩
化ビニル、ポリウレタン、ポリビニルアルコールのアル
デヒド縮合物の耐水性層上に親水性層として尿素樹脂が
単純塗布されているものであるため、該層はインキ反撥
性が不十分であるうえ、感光性樹脂層との密着性にも劣
るものであり、耐刷性が不十分なものであった。また、
特開昭５７−１７９８５２号公報においては、支持体上
に親水性ラジカル重合化合物を塗設し、活性光線の照射
によって該支持体表面を親水化処理し、感光性樹脂層を
塗設する方法が提案されている。しかしながら、該方法
によって形成された親水性表面層も剛直でインキ反撥性
は不十分であり、耐刷性にも乏しいものであった。また
これらの水ありＰＳ版の現像に際しては、感光層を溶解
してアルミ基板表面を露出させる方式であるため、感光
層成分が現像液中に溶解させることが必須で、該現像液
は短期間に大幅に組成変動が起こり疲労してしまうた
め、大量の現像廃液が発生する。In order to solve the above-mentioned problem, there is a proposal of a new planographic material having printing characteristics equal to or higher than that of an aluminum substrate, and having a low material cost and different from an aluminum substrate by a simple manufacturing process. For example, Japanese Patent Publication No. Sho 56-2938 proposes a method of forming a photosensitive layer on a support using an ink repellent layer made of a hydrophilic polymer material instead of an aluminum substrate. ing. However, in this method, since a urea resin is simply applied as a hydrophilic layer on a water-resistant layer of an aldehyde condensate of polyvinyl chloride, polyurethane, or polyvinyl alcohol, the layer has insufficient ink repellency. In addition, the adhesiveness to the photosensitive resin layer was poor, and the printing durability was insufficient. Also,
JP-A-57-179852 discloses a method in which a hydrophilic radical polymerizable compound is coated on a support, the surface of the support is hydrophilized by irradiation with actinic rays, and a photosensitive resin layer is coated. Proposed. However, the hydrophilic surface layer formed by this method is also rigid, the ink repulsion property is insufficient, and the printing durability is also poor. Further, in the development of these PS plates with water, since the photosensitive layer is dissolved to expose the surface of the aluminum substrate, it is essential that the components of the photosensitive layer be dissolved in the developing solution. Therefore, a large amount of developing waste liquid is generated because the composition is greatly changed and fatigue occurs.
【０００９】そのため、該現像液は頻繁にメンテナンス
し交換する必要があった。また発生した現像廃液の処理
には多大な労力と費用が必要であった。Therefore, the developer has to be frequently maintained and replaced. In addition, a great deal of labor and cost are required for treating the generated developing waste liquid.
【００１０】また、水ありＰＳ版の簡便な形態として、
紙などの支持体上に、トナーなどの画像受理層を有しＰ
ＰＣを用いて画像形成し、非画像部をエッチ液などで不
感脂化処理して該画像受理層をインキ反撥層に変換させ
て使用する直描型平版印刷原版が広く実用に供されてい
る。具体的には、耐水性支持体上に水溶性バインダポリ
マ、無機顔料、耐水化剤等からなる画像受理層を設けた
ものが一般的で、ＵＳＰ２５３２８６５号公報、特公昭
４０−２３５８１号公報、特開昭４８−９８０２号公
報、特開昭５７−２０５１９６号公報、特開昭６０−２
３０９号公報、特開昭５７−１７９１号公報、特開昭５
７−１５９９８号公報、特開昭５７−９６９００号公
報、特開昭５７−２０５１９６号公報、特開昭６３−１
６６５９０号公報、特開昭６３−１６６５９１号公報、
特開昭６３−３１７３８８号公報、特開平１−１１４４
８８号公報、特開平４−３６７８６８号公報などが挙げ
られる。これらの直描型平版印刷原版は、インキ反撥層
に変換させる画像受理層として、ＰＶＡ、澱粉、ヒドロ
キシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体などのような不感脂化処理す
る以前から親水性を示す水溶性バインダポリマおよびア
クリル系樹脂エマルジョン等の水分散性ポリマ、シリ
カ、炭酸カルシウム等のような無機顔料およびメラミン
・ホルムアルデヒド樹脂縮合物のような耐水化剤で構成
されているものが提案されている。また特開昭６３−２
５６４９３号公報などでは、不感脂化処理により加水分
解されて親水性基が発生する疎水性ポリマを主成分とし
て用いる直描型平版印刷原版が提案されている。Also, as a simple form of the PS plate with water,
An image receiving layer such as toner is formed on a support such as paper
A direct-drawing lithographic printing plate precursor that forms an image using a PC, desensitizes non-image areas with an etchant or the like, and converts the image receiving layer into an ink repellent layer for use is widely used. . Specifically, an image receiving layer comprising a water-soluble binder polymer, an inorganic pigment, a water-proofing agent and the like is generally provided on a water-resistant support, and is disclosed in US Pat. No. 2,532,865, Japanese Patent Publication No. 40-23581, and JP-A-48-9802, JP-A-57-205196, JP-A-60-2
309, JP-A-57-1791, JP-A-5-1791
JP-A-7-15998, JP-A-57-96900, JP-A-57-205196, JP-A-63-1
66590, JP-A-63-166593,
JP-A-63-317388, JP-A-1-1144
No. 88, JP-A-4-366868, and the like. These direct-drawing lithographic printing plate precursors include PVA, starch, hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer as an image receiving layer to be converted into an ink repellent layer. Water-dispersible polymers such as water-soluble binder polymers and acrylic resin emulsions that exhibit hydrophilicity before the desensitization treatment such as coalescence, inorganic pigments such as silica and calcium carbonate, and melamine-formaldehyde resin condensates There are proposals made of such a waterproofing agent. Also, JP-A-63-2
Japanese Patent No. 56493 proposes a direct drawing type lithographic printing plate precursor using as a main component a hydrophobic polymer which is hydrolyzed by a desensitizing treatment to generate a hydrophilic group.
【００１１】このような直描型平版印刷原版は、いずれ
も画像受理層をインキ反撥層に変換するために、不感脂
化処理が必須であり、該処理なしではインキ反撥性を殆
ど示さない性質のものであった。In order to convert the image receiving layer into an ink repellent layer, the direct drawing type lithographic printing plate requires a desensitizing treatment, and without such a treatment, shows little ink repellency. It was.
【００１２】すなわち、実用レベルのインキ反撥性を得
るためには、不感脂化処理および、親水性バインダポリ
マを大量に使用する必要があるが、耐水性に劣る傾向に
あり印刷耐久性が低下する。また親水性を高めるとトナ
ーなどの画像との接着性が低下する傾向にあるなどの問
題点があった。一方、印刷耐久性を向上するために耐水
化剤の添加量を多くしたり疎水性ポリマを添加したりし
て耐水性を増大させると、親水性が低下し、インキ反撥
性が大幅に低下してしまう問題点があった。That is, in order to obtain a practical level of ink repellency, it is necessary to desensitize the ink and to use a large amount of a hydrophilic binder polymer. However, the water resistance tends to be poor, and the printing durability deteriorates. . Further, when the hydrophilicity is increased, there is a problem that the adhesiveness to an image such as a toner tends to decrease. On the other hand, if the water resistance is increased by increasing the amount of a water-proofing agent or by adding a hydrophobic polymer in order to improve printing durability, the hydrophilicity is reduced, and the ink repellency is greatly reduced. There was a problem.
【００１３】また、ユニオンカーバイド社が開発した親
水性／疎水性変換反応を利用した現像、ラッカー盛りお
よび不感脂化処理が一切不要な、いわゆる露光のみの一
工程版の技術が、特公昭４２−１３１号公報、特公昭４
２−５３６５号公報、特公昭４２−１４３２８号公報、
特公昭４２−２０１２７号公報、米国特許3231377 、米
国特許3231381 、米国特許3231382 などによって開示さ
れている。該版はポリエチレンオキサイドとフェノール
樹脂の会合体を感光剤とともに塗設したものであるが、
非画線部が剛直で柔軟性に劣りインキ反撥性が不十分で
あり、また非画線部と画線部との間でのインキ反撥／イ
ンキ着肉差が小さく、実用性に乏しいものであった。A so-called one-step exposure-only technology developed by Union Carbide, which does not require development, lacquer embossing and desensitization treatment utilizing a hydrophilic / hydrophobic conversion reaction, is disclosed in No. 131, Japanese Patent Publication No. Sho 4
No. 2-5365, Japanese Patent Publication No. 42-14328,
It is disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 42-20127, U.S. Pat. No. 3,231,377, U.S. Pat. No. 3,231,381, U.S. Pat. The plate is an association of polyethylene oxide and phenol resin coated with a photosensitizer.
The non-image area is rigid and inferior in flexibility, the ink repulsion is insufficient, and the difference in ink repulsion / ink inking between the non-image area and the image area is small, which is not practical. there were.
【００１４】さらに、水ありＰＳ版は印刷に際して湿し
水の量を常時コントロールする必要があり、適性な湿し
水量を制御するには相当の技術や経験が必要とされてき
た。また、湿し水に必須成分として添加されるＩＰＡ
（イソプロパノール）が近年、労働衛生環境や廃水処理
の立場から使用が厳しく規制される方向にあり、その対
策が急務となっている。Further, the PS plate with water needs to constantly control the amount of dampening solution at the time of printing, and considerable skill and experience have been required to control an appropriate amount of dampening solution. IPA added as an essential component to the fountain solution
In recent years, the use of (isopropanol) has been strictly regulated from the standpoint of the occupational health environment and wastewater treatment, and countermeasures are urgently needed.
【００１５】一方、後者の湿し水の代わりにシリコーン
ゴム層をインキ反撥層とする水なしＰＳ版の場合、特公
昭５４−２６９２３号公報、特公昭５７−３０６０号公
報、特公昭５６−１２８６２号公報、特公昭５６−２３
１５０号公報、特公昭５６−３０８５６号公報、特公昭
６０−６００５１号公報、特公昭６１−５４２２０号公
報、特公昭６１−５４２２２号公報、特公昭６１−５４
２２３号公報、特公昭６１−６１６号公報、特公昭６３
−２３５４４号公報、特公平２−２５４９８号公報、特
公平３−５６６２２号公報、特公平４−２８０９８号公
報、特公平５−１９３４号公報、特開平２−６３０５０
号公報、特開平２−６３０５１号公報などに示されてい
るように湿し水を用いずに印刷できるため、前者の水あ
りＰＳ版で必要な湿し水のコントロール作業がいっさい
必要なく、印刷作業が極めて簡便となることから、近年
急速に普及しつつある実用性の高い版材であるが、イン
キ反撥性層として力学的強度が弱いシリコーンゴム層を
用いるため、耐久性の不足が指摘され、耐久性に優れた
インキ反撥性材料の必要性が強く求められている。また
現像に際しては該シリコーンゴム層をブラシ擦りによっ
て機械的に剥離除去する必要があるため、剥離除去され
たシリコーンゴムかすを含んだ現像廃液が大量に発生す
る。そのため、ブラシの使用寿命が短く頻繁にブラシを
交換する必要がありまた、該シリコーンゴムかすを捕集
廃棄するなどのメンテナンス処置が必要であった。On the other hand, in the case of a waterless PS plate in which a silicone rubber layer is used as an ink repellent layer instead of the fountain solution, JP-B-54-26923, JP-B-57-3060, and JP-B-56-12682. No., JP-B-56-23
No. 150, JP-B-56-30856, JP-B-60-60051, JP-B-61-54220, JP-B-61-54222, and JP-B-61-54.
No. 223, Japanese Patent Publication No. 61-616, Japanese Patent Publication No. 63
JP-A-23544, JP-B-2-25498, JP-B3-56622, JP-B4-28098, JP-B5-1934, and JP-A-2-63050.
As described in Japanese Patent Publication No. 2-63051 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-63051, it is possible to print without using dampening water, so the former printing with PS plate does not require any dampening water control work. Since the work is extremely simple, it is a plate material with high practicality that is rapidly spreading in recent years, but due to the use of a silicone rubber layer with weak mechanical strength as the ink repellent layer, lack of durability is pointed out. There is a strong demand for ink repellent materials with excellent durability. Further, at the time of development, it is necessary to mechanically peel and remove the silicone rubber layer by brush rubbing, so that a large amount of development waste liquid containing the peeled and removed silicone rubber residue is generated. Therefore, the service life of the brush is short and it is necessary to frequently replace the brush, and maintenance measures such as collecting and discarding the silicone rubber residue have been required.
【００１６】[0016]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、これら
従来の水ありＰＳ版の平版印刷の湿し水のコントロール
幅の拡大ならびに従来不可能とされてきた湿し水からの
ＩＰＡレス化を可能とし、また直描型平版印刷原版のよ
うにＰＰＣ方式で画像形成し不感脂化処理するなどの複
雑な製版工程を有することなく、更にシリコーンゴム層
をインキ反撥層とする水なし平版の欠点である耐久性の
不足を解消できる上、従来のＰＳ版で必須であった現像
メンテナンスを必要とせず、また製造工程が簡便な理想
的な平版材料の開発を鋭意検討した結果、感光性の親水
性膨潤層をインキ反撥層とした平版印刷版を用いること
で実現できることを見出した。DISCLOSURE OF INVENTION Problems to be Solved by the Invention The inventors of the present invention have expanded the control range of the fountain solution in the conventional lithographic printing of PS plates with water, and made IPA-less from the fountain solution, which has hitherto been impossible. In addition, a waterless planographic printing plate in which a silicone rubber layer is used as an ink repellent layer is provided without a complicated plate making process such as image formation by a PPC method and desensitizing treatment like a direct drawing planographic printing original plate. As a result of diligent studies on the development of an ideal lithographic material that can solve the drawback of lack of durability, does not require the development and maintenance that was essential for conventional PS plates, and has a simple manufacturing process, It has been found that it can be realized by using a lithographic printing plate having a hydrophilic swelling layer as an ink repellent layer.
【００１７】[0017]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。That is, the present invention has the following constitution.
【００１８】基板上に少なくとも感光性の親水性膨潤層
を備えた感光性平版印刷版原版であって、該親水性膨潤
層が光酸発生剤を含有することを特徴とする感光性平版
印刷版原版。A photosensitive lithographic printing plate precursor having at least a photosensitive hydrophilic swelling layer on a substrate, wherein the hydrophilic swelling layer contains a photo-acid generator. Original version.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】本発明に用いられる感光性の親水
性膨潤層は、光酸発生剤を含有するものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photosensitive hydrophilic swelling layer used in the present invention contains a photo-acid generator.
【００２０】本発明で言う光酸発生剤とは、露光によっ
てルイス酸やブレンステッド酸を生成する化合物を意味
する。The photoacid generator in the present invention means a compound which produces a Lewis acid or a Bronsted acid upon exposure.
【００２１】発生したルイス酸やブレンステッド酸は、
あとで説明する親水性膨潤層の通常の構成成分である親
水性ポリマおよび疎水性ポリマに好ましく含まれる親水
性のカルボキシル基を疎水性の遊離酸に変換し、該層全
体の親水性を低下させる。The generated Lewis acid or Bronsted acid is
Converts the hydrophilic carboxyl groups preferably contained in the hydrophilic polymer and the hydrophobic polymer, which are the usual constituents of the hydrophilic swelling layer described later, into the hydrophobic free acid, and reduces the hydrophilicity of the entire layer. .
【００２２】光酸発生剤の具体例としては、ジアゾ化合
物、オルトキノンジアジド化合物、ポリハロゲン化合
物、オニウム塩化合物などが挙げられる。Specific examples of the photoacid generator include diazo compounds, orthoquinonediazide compounds, polyhalogen compounds, onium salt compounds and the like.
【００２３】ジアゾ化合物としては、例えば、米国特許
2063631 、米国特許2667415 などに開示されているジア
ゾニウム塩とアルドールやアセタールなどの反応性カル
ボニル基を含有する有機結合剤との反応生成物であるジ
フェニルアミン−ｐ−ジアゾニウム塩とフォルムアルデ
ヒド縮合生成物、またこれらの水溶性ジアゾニウム塩化
合物を特開昭５４−９８６１３号公報に開示された方法
により、ＢＦ4 - 、ＰＦ6 - などのアニオン成分などで
置換したハロゲン化ルイス酸塩、アリルジアゾニウム塩
化合物などが挙げられる。As the diazo compound, for example, US Patent
2063631, diphenylamine-p-diazonium salt, which is a reaction product of a diazonium salt disclosed in U.S. Pat. No. 2,667,415, and an organic binder containing a reactive carbonyl group such as aldol and acetal, and a formaldehyde condensation product; By the method disclosed in JP-A-54-98613, these water-soluble diazonium salt compounds are substituted with anionic components such as BF 4 − and PF 6 − to obtain halogenated Lewis acid salts and allyl diazonium salt compounds. Can be mentioned.
【００２４】オルトキノンジアジド化合物としては、１
分子中に少なくともひとつのオルトキノンジアジド基を
有する化合物で、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルフォン酸−エチルエステル、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルフォン酸−イソブチル
エステル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルフォン酸−フェニルエステル、１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジド−５−スルフォン酸−α−ナフチルエ
ステル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルフォン酸−ベンジルエステル、１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−４−スルフォン酸−フェニルエステ
ル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルフ
ォン酸−エチルアミド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−スルフォン酸−フェニルアミドなどが挙げ
られる。The orthoquinonediazide compound is 1
A compound having at least one orthoquinonediazide group in the molecule, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid-ethyl ester, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid-isobutyl ester, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-
Sulfonic acid-phenyl ester, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid-α-naphthyl ester, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid-benzyl ester, 1,2-naphthoquinone- 2-diazido-4-sulfonic acid-phenyl ester, 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic acid-ethylamide, 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic acid-phenylamide and the like can be mentioned. .
【００２５】ポリハロゲン化合物としては、ポリハロゲ
ンを含むアセトフェノン、例えばトリブロモアセトフェ
ノン、トリクロロアセトフェノン、ｏ−ニトロ−トリブ
ロモアセトフェノン、ｐ−ニトロ−トリブロモアセトフ
ェノン、ｍ−ニトロ−トリブロモアセトフェノン、ｍ−
ブロモ−トリブロモアセトフェノン、ｐ−ブロモ−トリ
ブロモアセトフェノンなど、また、ポリハロゲンを含む
スルフォキサイド、例えばビス（トリブロモメチル）ス
ルフォキサイド、ジブロモメチル−トリブロモメチルス
ルフォキサイド、トリブロモメチル−フェニルスルフォ
キサイドなど、またポリハロゲンを含むスルフォン、例
えばビス（トリブロモメチル）スルフォン、トリクロロ
メチル−フェニルスルフォン、トリブロモメチル−フェ
ニルスルフォン、トリクロロメチル−ｐ−クロロフェニ
ルスルフォン、トリブロモメチル−ｐ−ニトロフェニル
スルフォン２−トリクロロメチルベンゾチアゾールスル
フォン、２，４−ジクロロフェニル−トリクロロメチル
スルフォンなど、その他ポリハロゲンを含むピロン化合
物、トリアジン化合物、オキサジアゾール化合物などが
挙げられる。As the polyhalogen compound, acetophenone containing polyhalogen, such as tribromoacetophenone, trichloroacetophenone, o-nitro-tribromoacetophenone, p-nitro-tribromoacetophenone, m-nitro-tribromoacetophenone, m-
Bromo-tribromoacetophenone, p-bromo-tribromoacetophenone and the like, and sulfoxides containing polyhalogen, such as bis (tribromomethyl) sulfoxide, dibromomethyl-tribromomethylsulfoxide, tribromomethyl-phenylsulfone. Sulfon containing haloside, etc., and polyhalogen, such as bis (tribromomethyl) sulfone, trichloromethyl-phenyl sulfone, tribromomethyl-phenyl sulfone, trichloromethyl-p-chlorophenyl sulfone, tribromomethyl-p-nitrophenyl sulfone. 2-Trichloromethylbenzothiazole sulfone, 2,4-dichlorophenyl-trichloromethyl sulfone, and other pyrone-containing pyrone compounds, triazine formation Things, like oxadiazole compound.
【００２６】オニウム塩化合物およびその他の光酸発生
剤としては、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐａｓ，ｅｔ ａｌ．，Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，５，１，p104〜115
（１９８４）に記載されているオニウム塩化合物、また
色材，６６（２），p104〜115（１９９３）に紹介され
ている、Ｐｈ2 Ｉ+ ／ＳｂＦ6 - 等のジアリルヨードニ
ウム塩化合物に代表される光酸発生剤、トリアリルスル
フォニウム塩化合物、トリアリルセレノニウム塩化合
物、ジアルキルフェナシルスルフォニウム塩化合物、ジ
アルキル−４−フェナシルスルフォニウム塩化合物、α
−ヒドロキシメチルベンゾインスルフォン酸エステル、
Ｎ−ヒドロキシイミノスルフォネート、α−スルフォニ
ロキシケトン、β−スルフォニロキシケトン、鉄−アレ
ーン錯体化合物（ベンゼン−シクロペンタジエニル−鉄
（II）ヘキサフルオロフォスフェートなど）、ｏ−ニト
ロベンジルシリルエーテル化合物、ベンゾイントシレー
ト、トリ（ニトロベンジル）フォスフェートなどが挙げ
られる。Onium salt compounds and other photoacid generators include S. P. Papas, et al. , Po
lym. Photochem. , 5, 1, p104-115
Represented by the onium salt compounds described in (1984) and diallylodonium salt compounds such as Ph 2 I + / SbF 6 − introduced in Colorants, 66 (2), p104 to 115 (1993). Photo acid generator, triallyl sulfonium salt compound, triallyl selenonium salt compound, dialkyl phenacyl sulfonium salt compound, dialkyl-4-phenacyl sulfonium salt compound, α
-Hydroxymethyl benzoin sulfonate,
N-hydroxyiminosulfonate, α-sulfonyloxyketone, β-sulfonyloxyketone, iron-arene complex compound (benzene-cyclopentadienyl-iron (II) hexafluorophosphate, etc.), o-nitrobenzyl Examples thereof include silyl ether compounds, benzoin tosylate, and tri (nitrobenzyl) phosphate.
【００２７】本発明に用いられる親水性膨潤層は、親水
性ポリマを主成分とする相および疎水性ポリマを主成分
とする相の少なくとも２相から構成された相分離構造を
有することが好ましい。The hydrophilic swelling layer used in the present invention preferably has a phase-separated structure composed of at least two phases of a hydrophilic polymer as a main component and a hydrophobic polymer as a main component.
【００２８】親水性ポリマとは、水に対して実質的に不
溶でかつ水膨潤性を示す、公知の水溶性ポリマ（水に完
全溶解するものを意味する）、疑似水溶性ポリマ（両親
媒性を意味し、マクロには水に溶解するがミクロには非
溶解部分を含むものを意味する）、水膨潤性ポリマ（水
に膨潤するが溶解しないものを意味する）を意味する。
すなわち、通常の使用条件下で水を吸着または吸収する
ポリマを意味し、水に溶けるか或いは水に膨潤するポリ
マを意味する。The hydrophilic polymer is a known water-soluble polymer (meaning one completely soluble in water) or a pseudo-water-soluble polymer (amphiphilic polymer) which is substantially insoluble in water and shows water swelling property. The macro means that it is soluble in water, but the micro means that it contains an insoluble portion, and the water-swellable polymer (means that it swells in water but does not dissolve).
That is, it means a polymer that adsorbs or absorbs water under normal use conditions, and a polymer that dissolves in water or swells in water.
【００２９】本発明の親水性膨潤層に用いられる親水性
ポリマについて説明する。The hydrophilic polymer used in the hydrophilic swelling layer of the present invention will be described.
【００３０】本発明の効果を有効に発現する親水性ポリ
マとしては、カルボン酸塩系共重合体が挙げられる。Examples of the hydrophilic polymer that effectively exhibits the effects of the present invention include carboxylate salt copolymers.
【００３１】本発明に好ましく用いられるカルボン酸塩
系共重合体としては、吸水性および耐久性の観点から、
カルボキシル基、カルボン酸塩、カルボン酸アミド、カ
ルボン酸イミド、カルボン酸無水物などのカルボキシル
基またはカルボキシル基に誘導しうる基を分子中に１個
または２個有するα、β−不飽和化合物をモノマ成分と
して含有するカルボン酸系共重合体のケン化反応物が挙
げられる。The carboxylic acid salt-based copolymer preferably used in the present invention is, from the viewpoint of water absorption and durability,
Α, β-unsaturated compounds having one or two carboxyl groups or carboxyl group-derived groups such as carboxyl groups, carboxylate salts, carboxylic acid amides, carboxylic acid imides, carboxylic anhydrides, etc. A saponification reaction product of a carboxylic acid copolymer contained as a component is exemplified.
【００３２】α、β−不飽和化合物の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸アミド、メタク
リル酸アミド、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン
酸アミド、マレイン酸イミド、イタコン酸、クロトン
酸、フマル酸、メサコン酸などが挙げられ、本発明に必
要な親水性を示す範囲で共重合可能な他のモノマ成分と
組合わせることが可能である。Specific examples of α, β-unsaturated compounds include:
Acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, maleic anhydride, maleic acid, maleic amide, maleic imide, itaconic acid, crotonic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and the like, which are necessary for the present invention. It is possible to combine with another monomer component copolymerizable within a range showing hydrophilicity.
【００３３】共重合可能な他のモノマ成分の例として
は、エチレン、プロピレン、イソブチレン、１−ブチレ
ン、ジイソブチレン、メチルビニルエーテル、スチレ
ン、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、アクリロニトリルなどのα−オレフィン、ビニ
ル化合物、ビニリデン化合物などが挙げられる。Examples of other copolymerizable monomer components include α, such as ethylene, propylene, isobutylene, 1-butylene, diisobutylene, methyl vinyl ether, styrene, vinyl acetate, acrylic acid ester, methacrylic acid ester and acrylonitrile. Examples thereof include olefins, vinyl compounds and vinylidene compounds.
【００３４】他のモノマと組合わせる場合、カルボキシ
ル基もしくはこれに転化しうる基を含有するα、β−不
飽和化合物は、通常全モノマ成分中１０モル％以上で、
４０モル％以上であることがより好ましい。When combined with another monomer, the α, β-unsaturated compound containing a carboxyl group or a group convertible to this is usually 10 mol% or more in all the monomer components,
More preferably, it is at least 40 mol%.
【００３５】カルボキシル基またはこれに転化しうる基
を含有するα、β−不飽和化合物をモノマとして含有す
る重合体は、通常ラジカル重合により調整される。重合
度は特に限定されるものではない。The polymer containing, as a monomer, an α, β-unsaturated compound containing a carboxyl group or a group convertible to the carboxyl group is usually prepared by radical polymerization. The degree of polymerization is not particularly limited.
【００３６】このように調整される該重合体の中でも特
に、アクリル酸、メタクリル酸との重合体または共重合
体、α−オレフィン、ビニル化合物と無水マレイン酸と
の共重合体が好ましい。Among the polymers thus prepared, a polymer or copolymer of acrylic acid or methacrylic acid, a copolymer of α-olefin or vinyl compound and maleic anhydride is preferable.
【００３７】これらの重合体または共重合体は、ナトリ
ウム、カリウム、マグネシウム、バリウムなどのアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化物また
は炭酸塩などの化合物、アンモニア、アミンなどを用い
てケン化反応させることによる親水性付与が好ましく行
なわれる。これらの反応は、該重合体または該共重合体
を各種の有機溶媒または水に溶解または分散させ、そこ
に前記したアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合
物、アンモニア、アミンなどを撹拌下に添加することに
よって実施される。These polymers or copolymers are prepared by using compounds such as hydroxides, oxides or carbonates of alkali metals or alkaline earth metals such as sodium, potassium, magnesium and barium, ammonia, amines and the like. Hydrophilicity is preferably imparted by carrying out a saponification reaction. In these reactions, the polymer or the copolymer is dissolved or dispersed in various organic solvents or water, and the above-mentioned alkali metal compound, alkaline earth metal compound, ammonia, amine, etc. are added thereto with stirring. It is carried out by
【００３８】このようなカルボン酸塩系共重合体の中で
も、特にビニルエステル／（メタ）アクリル酸エステル
共重合体が、親水性膨潤層が適度な水膨潤性を示し、か
つ印刷耐久性およびインキ反撥性の両者を満足させる点
で好ましい。Among such carboxylic acid salt-based copolymers, vinyl ester / (meth) acrylic acid ester copolymers, in particular, have a hydrophilic swelling layer exhibiting appropriate water swelling property, printing durability and ink. It is preferable in that both of the resilience are satisfied.
【００３９】本発明に好ましく用いられるビニルエステ
ル／（メタ）アクリル酸エステル共重合体は公知の方法
を用いて製造することができる。例えば高分子化学、７
巻、p142（１９５０）。すなわち、重合方式によって適
宜選択されるが、例えばジ−ｔ−ブチルパーオキシド、
ベンゾイルパーオキシドなどのパーオキシド類、過硫酸
アンモニウムなどの過硫酸塩類、アゾビスイソブチロニ
トリルなどのアゾ化合物などの重合開始剤を用いたラジ
カル重合によって合成される。重合方式としては、溶液
重合、乳化重合、懸濁重合などが摘要される。該共重合
体中の（メタ）アクリル酸エステル成分が少ないと吸水
性が小さく、多すぎると高吸水状態となり膜強度が極端
に低下する傾向にある。The vinyl ester / (meth) acrylic acid ester copolymer preferably used in the present invention can be produced by a known method. For example, polymer chemistry, 7
Vol., P142 (1950). That is, although it is appropriately selected depending on the polymerization method, for example, di-t-butyl peroxide,
It is synthesized by radical polymerization using a polymerization initiator such as peroxides such as benzoyl peroxide, persulfates such as ammonium persulfate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. As the polymerization method, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and the like are required. When the amount of the (meth) acrylic acid ester component in the copolymer is small, the water absorption is small. When the amount is too large, the water absorption state is high and the film strength tends to be extremely lowered.
【００４０】従って、出発物質となる該共重合体中にお
ける（メタ）アクリル酸エステル成分の割合は、一般に
２０〜８０ｍｏｌ％の範囲にあることが好ましく、吸水
性および含水時の力学強度を両立させるためには３０〜
７０ｍｏｌ％であることが好ましい。Therefore, the proportion of the (meth) acrylic acid ester component in the copolymer as the starting material is generally preferably in the range of 20 to 80 mol%, which achieves both water absorption and mechanical strength when water is contained. 30 for
It is preferably 70 mol%.
【００４１】本発明に用いられるビニルエステルとして
は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビ
ニルなどが挙げられる。また（メタ）アクリル酸エステ
ルとしては、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、
具体的にはメチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチルエス
テル、ｔ−ブチルエステルが挙げられる。Examples of the vinyl ester used in the present invention include vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl stearate. As the (meth) acrylic acid ester, an alkyl ester of (meth) acrylic acid,
Specific examples include methyl ester, ethyl ester, n-propyl ester, isopropyl ester, n-butyl ester and t-butyl ester.
【００４２】上記に説明した共重合体はアルカリ触媒の
存在下でケン化反応することが好ましい。ケン化反応に
用いられる溶媒としてはアルコールおよびアルコール水
溶液が好ましい。また、ケン化反応に用いられる触媒と
しては公知のアルカリ触媒が用いられるが、特に水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化
物が好ましい。ケン化反応は２０〜８０℃で１〜１０時
間で終結する。また、本発明のケン化反応物は、公知の
方法によって塩を任意に変えることが可能である。通常
用いられる塩形成物質としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化アンモニウム、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルイソプロパノールアミン、シクロヘキシルアミ
ン、ベンジルアミン、アニリン、ピリジンなどが挙げら
れる。The above-described copolymer preferably undergoes a saponification reaction in the presence of an alkali catalyst. As the solvent used for the saponification reaction, alcohol and an aqueous alcohol solution are preferable. As the catalyst used for the saponification reaction, a known alkali catalyst is used, and an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is particularly preferable. The saponification reaction is completed at 20 to 80 ° C for 1 to 10 hours. The salt of the saponification reaction product of the present invention can be arbitrarily changed by a known method. Commonly used salt-forming substances include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, and monoethanolamine. , Diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-
Examples include dimethylisopropanolamine, cyclohexylamine, benzylamine, aniline, pyridine and the like.
【００４３】またマグネシウム、カルシウムなどのアル
カリ土類金属塩類の多価金属塩類も前記の塩と混合塩の
形態で添加することが可能である。It is also possible to add polyvalent metal salts of alkaline earth metal salts such as magnesium and calcium in the form of mixed salts with the above-mentioned salts.
【００４４】また、本発明の効果を有効に発現する親水
性ポリマとして、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド系共重合
体が挙げられる。Further, N-vinylcarboxylic acid amide type copolymers may be mentioned as hydrophilic polymers that effectively exhibit the effects of the present invention.
【００４５】Ｎ−ビニルカルボン酸アミド系共重合体と
は、下記一般式（Ｉ）で示されるＮ−ビニルカルボン酸
アミド（以下、ＮＶＡと略す）を必須の繰り返し単位と
する共重合体（以下、ＮＶＡ系共重合体と略する）を意
味する。The N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer is a copolymer (hereinafter, referred to as N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer) containing N-vinylcarboxylic acid amide (hereinafter abbreviated as NVA) represented by the following general formula (I) as an essential repeating unit. , And NVA-based copolymer).
【００４６】[0046]
【化１】 （ここで、Ｒ1 は水素原子または炭素数１〜４のアルキ
ル基、Ｒ2 は水素原子またはメチル基、フェニル基、Ｒ
3 は水素原子または炭素数１〜８の直鎖または分岐アル
キル基を表す。） ＮＶＡの具体例としては、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ
−ビニルプロピオン酸アミド、Ｎ−ビニル安息香酸アミ
ド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニル安息香酸アミド、Ｎ−フェ
ニル−Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−フェニル−Ｎ−ビ
ニル安息香酸アミドなどが挙げられるが、本発明はこれ
らの例に限定されるものではない。Embedded image (Where R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, a phenyl group, a R
3 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ) Specific examples of NVA include N-vinylformamide, N
-Vinylpropionic acid amide, N-vinylbenzoic acid amide, N-methyl-N-vinylbenzoic acid amide, N-phenyl-N-vinylacetamide, N-phenyl-N-vinylbenzoic acid amide, etc. The invention is not limited to these examples.
【００４７】本発明に好ましく用いられるＮＶＡ共重合
体は、吸水性および耐久性の観点から、カルボキシル
基、カルボン酸塩、カルボン酸アミド、カルボン酸イミ
ド、カルボン酸無水物などのカルボキシル基またはカル
ボキシル基に誘導しうる基を分子中に１個または２個有
するα、β−不飽和化合物を共重合単位として含有する
ことが好ましい。From the viewpoint of water absorption and durability, the NVA copolymer preferably used in the present invention is a carboxyl group such as a carboxyl group, a carboxylate, a carboxylic acid amide, a carboxylic acid imide or a carboxylic acid anhydride, or a carboxyl group. It is preferable to contain, as a copolymerized unit, an α, β-unsaturated compound having one or two groups capable of being derived into
【００４８】α、β−不飽和化合物の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸アミド、メタク
リル酸アミド、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン
酸アミド、マレイン酸イミド、イタコン酸、クロトン
酸、フマル酸、メサコン酸などが挙げられ、本発明に必
要な親水性を示す範囲で共重合可能な他のモノマ成分と
組合わせることが可能である。Specific examples of the α, β-unsaturated compound include:
Acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, maleic anhydride, maleic acid, maleic amide, maleic imide, itaconic acid, crotonic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and the like, which are necessary for the present invention. It is possible to combine with another monomer component copolymerizable within a range showing hydrophilicity.
【００４９】共重合可能な他のモノマ成分の例として
は、エチレン、プロピレン、イソブチレン、１−ブチレ
ン、ジイソブチレン、メチルビニルエーテル、スチレ
ン、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、アクリロニトリルなどのα−オレフィン、ビニ
ル化合物、ビニリデン化合物などが挙げられる。Examples of other copolymerizable monomer components include ethylene, propylene, isobutylene, 1-butylene, diisobutylene, methyl vinyl ether, styrene, vinyl acetate, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and acrylonitrile. Examples thereof include olefins, vinyl compounds and vinylidene compounds.
【００５０】他のモノマと組合わせる場合、ＮＶＡ単位
は、通常全モノマ成分中１０モル％以上で、４０モル％
以上であることがより好ましい。When combined with other monomers, the NVA unit is usually not less than 10 mol% and not more than 40 mol% in all the monomer components.
More preferably, it is the above.
【００５１】ＮＶＡを含有する重合体は、通常ラジカル
重合により調製される。重合度は特に限定されるもので
はない。Polymers containing NVA are usually prepared by radical polymerization. The degree of polymerization is not particularly limited.
【００５２】このように調製される該重合体の中でも特
に、ＮＶＡとアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸などカルボン酸塩系の共重合体は、親水性膨潤層が適
度な水膨潤性を示し、かつ印刷耐久性およびインキ反発
性の両者を満足させる点から好ましい。Among the above-prepared polymers, NVA and carboxylic acid salt-based copolymers such as acrylic acid, methacrylic acid, and maleic anhydride have a hydrophilic swelling layer showing an appropriate water swelling property. In addition, it is preferable from the viewpoint of satisfying both printing durability and ink resilience.
【００５３】本発明において、感光性を付与する目的か
ら、親水性ポリマにエチレン性不飽和基を好ましく導入
することができる。In the present invention, for the purpose of imparting photosensitivity, an ethylenically unsaturated group can be preferably introduced into the hydrophilic polymer.
【００５４】すなわち本発明の感光性平版印刷版原版は
親水性膨潤層のうち、露光部が光架橋硬化し、未露光部
と比較して高い初期弾性率を示しかつ、水膨潤性の低下
した物性に変化することを利用して画像形成するもので
あり、親水性ポリマに感光性を付与することによって、
露光部の親水性ポリマを光架橋し、上記の物性に変化さ
せることが好ましく行なわれる。That is, in the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention, the exposed portion of the hydrophilic swelling layer was photo-crosslinking-cured to exhibit a higher initial elastic modulus as compared with the unexposed portion and the water swelling property was lowered. An image is formed by utilizing changes in physical properties, and by imparting photosensitivity to a hydrophilic polymer,
It is preferable that the hydrophilic polymer in the exposed area is photocrosslinked to change the above physical properties.
【００５５】エチレン性不飽和基の導入方法としては、
親水性ポリマに存在するカルボキシル基や水酸基などの
反応性官能基を利用して、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどのエポキシ基をカルボキシル基と反応させて
（メタ）アクリル基を導入する方法や、（メタ）アクリ
ル酸クロライドなどを水酸基と反応させる方法が挙げら
れる。The method for introducing the ethylenically unsaturated group is as follows:
Using a reactive functional group such as a carboxyl group or a hydroxyl group existing in a hydrophilic polymer, a method of reacting an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate with a carboxyl group to introduce a (meth) acrylic group, or (meth ) A method of reacting acrylic acid chloride or the like with a hydroxyl group can be mentioned.
【００５６】反応に際しては、アルカリ金属の水酸化物
やアミン類などの公知の触媒が好ましく添加される。In the reaction, known catalysts such as alkali metal hydroxides and amines are preferably added.
【００５７】また、共重合成分としてグリシジル基、フ
ェニル基、ヒドロキシアルキル基などの反応性官能基を
有するモノマを加え、これらの反応性官能基を利用して
エチレン性不飽和化合物を導入することも可能である。It is also possible to add a monomer having a reactive functional group such as a glycidyl group, a phenyl group or a hydroxyalkyl group as a copolymerization component and introduce an ethylenically unsaturated compound by utilizing these reactive functional groups. It is possible.
【００５８】エチレン性不飽和基の導入量は、親水性ポ
リマの全官能基に対して１〜５０ｍｏｌ％の範囲が好ま
しい。The amount of the ethylenically unsaturated group introduced is preferably in the range of 1 to 50 mol% with respect to all the functional groups of the hydrophilic polymer.
【００５９】また、感光性や水膨潤性を調製する目的か
ら、エチレン性不飽和基を含まない親水性ポリマとのブ
レンドや導入量の異なる親水性ポリマとのブレンドも自
由である。Further, for the purpose of adjusting photosensitivity and water swelling property, blending with a hydrophilic polymer containing no ethylenically unsaturated group or blending with hydrophilic polymers having different introduction amounts is also free.
【００６０】エチレン性不飽和基を過度に導入すると、
感光性は向上するが、未露光部の親水性膨潤層のインキ
反撥性が低下する傾向にあり、また導入量が不足すると
感光性が低下する。If the ethylenically unsaturated group is introduced excessively,
Although the photosensitivity is improved, the ink repellency of the hydrophilic swelling layer in the unexposed area tends to decrease, and the photosensitivity decreases when the amount introduced is insufficient.
【００６１】また本発明の親水性膨潤層には発明の効果
を損わない範囲で、公知の親水性ポリマを加えることが
可能である。公知の親水性ポリマとしては、以下の例を
挙げることができる。Further, a known hydrophilic polymer can be added to the hydrophilic swelling layer of the present invention within a range that does not impair the effects of the invention. The following examples can be given as known hydrophilic polymers.
【００６２】（Ａ）天然高分子類。(A) Natural polymers.
【００６３】デンプン−アクリロニトリル系グラフト重
合体加水分解物、デンプン−アクリル酸系グラフト重合
体、デンプン−スチレンスルフォン酸系グラフト重合
体、デンプン−ビニルスルフォン酸系グラフト重合体、
デンプン−アクリルアミド系グラフト重合体、カルボキ
シル化メチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、キサントゲン酸セルロース、セルロース−アクリ
ロニトリル系グラフト重合体、セルロース−スチレンス
ルフォン酸系グラフト重合体、カルボキシメチルセルロ
ース系架橋体、ヒアルロン酸、アガロース、コラーゲ
ン、ミルクカゼイン、酸カゼイン、レンネットカゼイ
ン、アンモニアカゼイン、カリ化カゼイン、ホウ砂カゼ
イン、グルー、ゼラチン、グルテン、大豆蛋白、アルギ
ン酸塩、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸カリウ
ム、アルギン酸ナトリウムアラビヤガム、トラガカント
ガム、カラヤガム、グアールガム、ロカストビーンガ
ム、アイリッシュモス、大豆レシチン、ペクチン酸、澱
粉、カルボキシル化澱粉、寒天、デキストリン、マンナ
ンなど。Starch-acrylonitrile-based graft polymer hydrolyzate, starch-acrylic acid-based graft polymer, starch-styrene sulfonic acid-based graft polymer, starch-vinyl sulfonic acid-based graft polymer,
Starch-acrylamide graft polymer, carboxylated methyl cellulose, methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, cellulose xanthate, cellulose-acrylonitrile graft polymer, cellulose-styrene sulfonic acid graft polymer, carboxymethyl cellulose cross-linked product, hyaluronic acid Acid, agarose, collagen, milk casein, acid casein, rennet casein, ammonia casein, potash casein, borax casein, glue, gelatin, gluten, soybean protein, alginate, ammonium alginate, potassium alginate, sodium alginate arabia gum, Tragacanth gum, Karaya gum, Guar gum, Locust bean gum, Irish moss, Large Lecithin, pectin acid, starch, carboxylated starch, agar, dextrin, mannan, etc..
【００６４】（Ｂ）合成高分子類。(B) Synthetic polymers.
【００６５】ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキ
サイド、ポリ（エチレンオキサイド-co-プロピレンオキ
サイド）、水性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル、ヒ
ドロキシエチル （メタ）アクリレート系ポリマ（以下
の説明で（メタ）□□□□とあるのは、□□□□または
メタ□□□□を略したものである。）、ポリ（ビニルメ
チルエーテル-co-無水マレイン酸）、無水マレイン酸系
共重合体、ビニルピロリドン系共重合体、ポリエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート系架橋重合体、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート系架橋重
合体など。Polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, poly (ethylene oxide-co-propylene oxide), aqueous urethane resin, water-soluble polyester, hydroxyethyl (meth) acrylate polymer ((meth) □□□□ in the following description. Is an abbreviation for □□□□ or meta □□□□), poly (vinyl methyl ether-co-maleic anhydride), maleic anhydride-based copolymer, vinylpyrrolidone-based copolymer, Polyethylene glycol di (meth) acrylate cross-linked polymer, polypropylene glycol di (meth) acrylate cross-linked polymer and the like.
【００６６】なお、上記の親水性ポリマは発明の効果を
損わない範囲で、柔軟性を付与したり、親水性を制御す
る目的から置換基が異なるモノマや共重合成分を、１種
または２種以上を適宜混合して用いることが可能であ
る。The above-mentioned hydrophilic polymers may be one or two monomers or copolymer components having different substituents for the purpose of imparting flexibility or controlling hydrophilicity, within the range that does not impair the effects of the invention. It is possible to appropriately mix and use one or more species.
【００６７】次に本発明の親水性膨潤層に用いられる疎
水性ポリマについて説明する。Next, the hydrophobic polymer used in the hydrophilic swelling layer of the present invention will be described.
【００６８】本発明に用いられる疎水性ポリマとしては
共役ジエン系ラテックスが好ましく、特にカルボキシル
基を有する共役ジエン系ラテックスから主として構成さ
れたものが好ましい。The hydrophobic polymer used in the present invention is preferably a conjugated diene latex, and particularly preferably one mainly composed of a conjugated diene latex having a carboxyl group.
【００６９】本発明に言うラテックスとは、微細なポリ
マ粒子と必要に応じて該粒子を包囲する保護層からなる
粒子を水中に分散させた疎水性ポリマ懸濁水溶液を意味
する。The latex referred to in the present invention means a hydrophobic polymer suspension aqueous solution in which particles comprising fine polymer particles and, if necessary, a protective layer surrounding the particles are dispersed in water.
【００７０】すなわち、基本的に分散質としてのポリマ
粒子と必要に応じて形成される保護層からなるエマルジ
ョン粒子と分散媒としての希釈水溶液から構成される自
己乳化または強制乳化水溶液を意味する。That is, it means a self-emulsification or forced emulsification aqueous solution basically composed of emulsion particles composed of polymer particles as a dispersoid and a protective layer formed as necessary, and a dilute aqueous solution as a dispersion medium.
【００７１】共役ジエン系ラテックスとしては、スチレ
ン／ブタジエン系（以下、ＳＢ系と略す）、アクリロニ
トリル／ブタジエン系（以下、ＮＢ系と略す）、メタク
リル酸メチル／ブタジエン系（以下、ＭＢ系と略す）、
クロロプレン系などの共役ジエン系化合物を含有する共
重合ゴムが挙げられる。Examples of the conjugated diene latex include styrene / butadiene type (hereinafter abbreviated as SB type), acrylonitrile / butadiene type (hereinafter abbreviated as NB type), methyl methacrylate / butadiene type (hereinafter abbreviated as MB type). ,
A copolymer rubber containing a conjugated diene compound such as a chloroprene compound may be mentioned.
【００７２】ここで言う共役ジエン系化合物としては、
１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン
（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエ
ン、２−クロル−１，３−ブタジエン（クロロプレン）
など１，３−位に炭素−炭素二重結合を有する非置換ま
たは置換１，３−ブタジエン骨格を有する化合物を意味
する。As the conjugated diene compound referred to here,
1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 2-chloro-1,3-butadiene (chloroprene)
Etc. means a compound having an unsubstituted or substituted 1,3-butadiene skeleton having a carbon-carbon double bond at the 1,3-position.
【００７３】共重合ゴムとしては、１，３−ブタジエ
ン、２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレン）な
どの１，３−ジエンと、常温でガラス状重合体を与える
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの
モノビニル置換芳香族化合物とのブロック共重合体が挙
げられる。Copolymer rubbers include 1,3-dienes such as 1,3-butadiene and 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), and styrene and α-methylstyrene which give glassy polymers at room temperature. , Block copolymers with monovinyl-substituted aromatic compounds such as vinyltoluene.
【００７４】このような共重合ゴムとしては、種々の公
知のタイプが例示できるが、Ａ−Ｂ−Ａタイプのブロッ
ク共重合ゴム（ここでＡはモノビニル置換芳香族化合物
からなり、好ましくはガラス転移点が７０℃以上で、重
合度が１０〜２５００である重合体セグメントを意味
し、Ｂは１，３−ジエンを意味し、好ましくは数平均分
子量が５００〜２５０００である非晶性重合体セグメン
トを意味する）などを好ましく挙げることができる。ま
た該ブロック共重合ゴムの水素添加物も同様である。As such a copolymer rubber, various known types can be exemplified, but an ABA type block copolymer rubber (where A is a monovinyl-substituted aromatic compound, preferably a glass transition) is used. An amorphous polymer segment having a point of 70 ° C. or higher and a degree of polymerization of 10 to 2500, B means 1,3-diene, and preferably a number average molecular weight of 500 to 25,000. (Meaning) and the like. The same applies to the hydrogenated product of the block copolymer rubber.
【００７５】本発明に用いられる単独および共重合ゴム
の具体例としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン
（天然ゴムを含む）、ポリクロロプレン、スチレン−ブ
タジエン共重合体、カルボキシ変性スチレン−ブタジエ
ン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体
（例えばブタジエン−２−エチルヘキシルアクリレート
共重合体、ブタジエン−ｎ−オクタデシルアクリレート
共重合体）、メタクリル酸エステル−ブタジエン共重合
体、イソブチレン−イソプレン共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体、カルボキシ変性アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソ
プレン共重合体、ビニルピリジン−ブタジエン共重合
体、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエン共重合体、
スチレン−クロロプレン共重合体、スチレン−イソプレ
ン共重合体などが挙げられる。Specific examples of the homo- and copolymer rubbers used in the present invention include polybutadiene, polyisoprene (including natural rubber), polychloroprene, styrene-butadiene copolymer, carboxy-modified styrene-butadiene copolymer and acrylic. Acid ester-butadiene copolymer (for example, butadiene-2-ethylhexyl acrylate copolymer, butadiene-n-octadecyl acrylate copolymer), methacrylic acid ester-butadiene copolymer, isobutylene-isoprene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer Polymer, carboxy-modified acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, vinylpyridine-butadiene copolymer, vinylpyridine-styrene-butadiene copolymer,
Examples thereof include a styrene-chloroprene copolymer and a styrene-isoprene copolymer.
【００７６】本発明に好ましく用いられる共役ジエン系
ラテックスは、公知の方法で作製され、例えば必須成分
として共役ジエン系化合物を含むビニルモノマ組成物に
対して０．１〜２０重量％の乳化重合分散剤（界面活性
剤など）と２〜５０重量％の水を含む水性媒体中で脱気
窒素置換し、乳化させ、必要に応じて通常の乳化重合に
用いられる添加剤（分子量調整剤、酸化防止剤など）を
加えたのち、乳化重合用開始剤（例えば過酸化水素、過
硫酸カリウムなど）を添加し、常法に従って乳化重合さ
せることによって得ることができる。The conjugated diene latex preferably used in the present invention is produced by a known method, and for example, 0.1 to 20% by weight of an emulsion polymerization dispersant with respect to a vinyl monomer composition containing a conjugated diene compound as an essential component. Additives (molecular weight modifiers, antioxidants) used for ordinary emulsion polymerization by degassing and nitrogen-substituting in an aqueous medium containing (surfactant etc.) and 2 to 50% by weight of water and emulsifying. Etc.) and then an initiator for emulsion polymerization (for example, hydrogen peroxide, potassium persulfate, etc.) is added, and emulsion polymerization is carried out according to a conventional method.
【００７７】原料ビニルモノマ組成物中、共役ジエン系
化合物以外に用いられるビニルモノマとしては特に限定
されないが、主として下記のＩ群：疎水性モノマ、II
群：親水性モノマ、III 群：架橋性モノマの３つの群に
分類できる。The vinyl monomers used in the raw material vinyl monomer composition other than the conjugated diene compounds are not particularly limited, but mainly the following Group I: hydrophobic monomers, II.
Group: hydrophilic monomers, Group III: can be classified into three groups of crosslinkable monomers.
【００７８】Ｉ群：疎水性モノマとしては、１つのビニ
ル基を有する疎水性ビニルモノマ（ここで言う疎水性と
は２０℃において、水に対する溶解度が８重量％以下の
ものを意味する）で、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレン類、オレ
フィン類などが挙げられる。Group I: As the hydrophobic monomer, a hydrophobic vinyl monomer having one vinyl group (hydrophobicity as used herein means one having a solubility in water of 8% by weight or less at 20 ° C.) and acrylic Examples thereof include acid esters, methacrylic acid esters, vinyl esters, styrenes and olefins.
【００７９】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブ
チルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチル
アクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２
−クロロエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、フェニルアクリレート、２−メトキシエ
チルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレートな
どが挙げられる。Specific examples of acrylic acid esters include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2
-Chloroethyl acrylate, benzyl acrylate,
Examples include cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, and 2-ethoxyethyl acrylate.
【００８０】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ
−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ベンジルメタクリレート、アセトアセトキ
シエチルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリ
レート、２−メトキシエチルメタクリレート、２−エト
キシエチルメタクリレートなどが挙げられる。Specific examples of the methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n
-Propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, acetoacetoxyethyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofur Furyl methacrylate, phenyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate and the like can be mentioned.
【００８１】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレー
ト、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルアセトアセテー
ト、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香
酸ビニルなどが挙げられる。Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl acetoacetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, chlorobenzoic acid. Examples thereof include vinylate.
【００８２】スチレン類の具体例としては、スチレン、
α−メチルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフル
オルメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メト
キシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ト
リクロルスチレン、ブロムスチレンなどが挙げられる。Specific examples of styrenes include styrene,
Examples thereof include α-methylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene and bromostyrene.
【００８３】オレフィン類の具体例としては、プロピレ
ン、塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビ
ニリデン、フッ化ビニリデンなどを挙げることができ
る。Specific examples of olefins include propylene, vinyl chloride, vinyl bromide, vinylidene chloride, vinylidene bromide, vinylidene fluoride and the like.
【００８４】その他アクリロニトリル、無水マレイン酸
なども挙げられる。Other examples include acrylonitrile and maleic anhydride.
【００８５】II群：親水性モノマとしては、１つのビニ
ル基を有する親水性ビニルモノマで、（ここで言う親水
性とは、水に対する溶解度が大きく単独での水系乳化重
合が不可能なモノマを意味する）アミノ基、カルボキシ
ル基、スルフォン酸基、アミド基、水酸基などの官能基
を有するモノマが挙げられ、特にカルボキシル基を有す
るモノマを用いることが好ましい。Group II: The hydrophilic monomer is a hydrophilic vinyl monomer having one vinyl group, and the term "hydrophilic" as used herein means a monomer having a large solubility in water and incapable of aqueous emulsion polymerization by itself. Examples thereof include monomers having a functional group such as an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amide group and a hydroxyl group, and it is particularly preferable to use a monomer having a carboxyl group.
【００８６】アミノ基を有するモノマの具体例として
は、ジメチルアミノメチルアクリレート、ジメチルアミ
ノメチルメタクリレート、ジエチルアミノメチルアクリ
レート、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ｔｅｒ
ｔ−ブチルアミノエチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノエチルメタクリレートなどが挙げられる。Specific examples of the monomer having an amino group include dimethylaminomethyl acrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, diethylaminomethyl acrylate, diethylaminomethyl methacrylate and ter.
Examples thereof include t-butylaminoethyl acrylate and tert-butylaminoethyl methacrylate.
【００８７】カルボキシル基を有するモノマの具体例と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレ
イン酸、クロトン酸、フマル酸、メチレンマロン酸、イ
タコン酸モノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、
イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、
マレイン酸モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチ
ル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブチルな
ど）、シトラコン酸、アクリル酸ナトリウム、アクリル
酸アンモニウム、メタクリル酸アンモニウムなどが挙げ
られる。Specific examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, crotonic acid, fumaric acid, methylenemalonic acid, monoalkyl itaconate (for example, monomethyl itaconate,
Monoethyl itaconate, monobutyl itaconate, etc.),
Examples thereof include monoalkyl maleate (eg, monomethyl maleate, monoethyl maleate, monobutyl maleate), citraconic acid, sodium acrylate, ammonium acrylate, ammonium methacrylate and the like.
【００８８】スルフォン基を有するモノマの具体例とし
ては、スチレンスルフォン酸、ビニルベンジルスルフォ
ン酸、ビニルスルフォン酸、ビニルスルフォン酸、アク
リロイルオキシアルキルスルフォン酸（例えばアクリロ
イルオキシメチルスルフォン酸、アクリロイルオキシプ
ロピルスルフォン酸、アクリロイルオキシブチルスルフ
ォン酸など）、メタクリロイルオキシアルキルスルフォ
ン酸（例えばメタクリロイルオキシメチルスルフォン
酸、メタクリロイルオキシメチルスルフォン酸、メタク
リロイルオキシプロピルスルフォン酸、メタクリロイル
オキシブチルスルフォン酸など）、アクリルアミドアル
キルスルフォン酸（例えば２−アクリルアミド−２−メ
チルエタンスルフォン酸、２−アクリルアミド−２−メ
チルプロパンスルフォン酸、２−アクリルアミド−２−
メチルブタンスルフォン酸など）、メタクリルアミドア
ルキルスルフォン酸（例えば２−メタクリルアミド−２
−メチルエタンスルフォン酸，２−メタクリルアミド−
２−メチルプロパンスルフォン酸、２−メタクリルアミ
ド−２−メチルブタンスルフォン酸など）が挙げられ
る。Specific examples of the monomer having a sulfonic group include styrene sulfonic acid, vinylbenzyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, acryloyloxyalkyl sulfonic acid (eg acryloyloxymethyl sulfonic acid, acryloyloxypropyl sulfonic acid, Acryloyloxybutyl sulfonic acid, etc.), methacryloyloxyalkyl sulfonic acid (eg, methacryloyloxymethyl sulfonic acid, methacryloyloxymethyl sulfonic acid, methacryloyloxypropyl sulfonic acid, methacryloyloxybutyl sulfonic acid, etc.), acrylamidoalkyl sulfonic acid (eg, 2-acrylamido) 2-Methylethanesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropane sulfone Phosphate, 2-acrylamido-2
Methyl butane sulfonic acid, etc.), methacrylamide amido alkyl sulfonic acid (eg 2-methacrylamide-2)
-Methylethanesulfonic acid, 2-methacrylamide-
2-methylpropanesulfonic acid, 2-methacrylamido-2-methylbutanesulfonic acid, etc.).
【００８９】アミド基を有するモノマの具体例として
は、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、プロピル
アクリルアミドなどが挙げられる。Specific examples of the monomer having an amide group include acrylamide, methyl acrylamide and propyl acrylamide.
【００９０】水酸基を有するモノマの具体例としては、
アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、多価アルコールのアリールエーテルなど
が挙げられる。Specific examples of the monomer having a hydroxyl group include:
Examples include allyl alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and aryl ethers of polyhydric alcohols.
【００９１】その他にＮ−アクリロイルピペリジン、ビ
ニルピリジン、ビニルピロピドなども挙げられる。Other examples include N-acryloylpiperidine, vinyl pyridine, vinyl pyropide and the like.
【００９２】III 群：架橋性モノマとしては、反応性架
橋基（グリシジル基、ヒドロキシメチルアミド基、アル
コキシメチルアミド基、アシロキシメチルアミド基、イ
ソシアネート基など）を有するモノマ類および２つ以上
のビニル基を有する多官能性モノマが挙げられる。Group III: As the crosslinkable monomers, monomers having a reactive crosslinkable group (glycidyl group, hydroxymethylamide group, alkoxymethylamide group, acyloxymethylamide group, isocyanate group, etc.) and two or more vinyls. Mention may be made of polyfunctional monomers having groups.
【００９３】グリシジル基を有するモノマの具体例とし
ては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、ｐ−ビニル安息香酸グリシジル、グリシジルクロ
トネート、ジグリシジルイタコネート、ジグリシジルマ
レエート、ジグリシジルメチレンマロネート、グリシジ
ルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシ
ジル−α−クロルアクリレートなどが挙げられる。Specific examples of the monomer having a glycidyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl p-vinylbenzoate, glycidyl crotonate, diglycidyl itaconate, diglycidyl maleate, diglycidyl methylene malonate, glycidyl vinyl ether, Examples thereof include allyl glycidyl ether and glycidyl-α-chloroacrylate.
【００９４】ヒドロキシメチルアミド基を有するモノマ
の具体例としては、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
ヒドロキシメチルメタクリルアミドなどが挙げられる。Specific examples of the monomer having a hydroxymethylamide group include hydroxymethylacrylamide,
And hydroxymethyl methacrylamide.
【００９５】アルコキシメチルアミド基を有するモノマ
の具体例としては、メトキシメチルアクリルアミド、メ
トキシメチルメタクリルアミド、エトキシメチルアクリ
ルアミド、エトキシメチルメタクリルアミド、ブトキシ
メチルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリルアミ
ド、ヘキシルオキシメチルメタクリルアミドなどが挙げ
られる。Specific examples of the monomer having an alkoxymethylamide group include methoxymethylacrylamide, methoxymethylmethacrylamide, ethoxymethylacrylamide, ethoxymethylmethacrylamide, butoxymethylacrylamide, butoxymethylmethacrylamide, and hexyloxymethylmethacrylamide. Can be mentioned.
【００９６】アシロキシメチルアミド基を有するモノマ
の具体例としては、アセトキシメチルアクリルアミド、
アセトキシメチルメタクリルアミド、プロピオニルオキ
シメチルアクリルアミドなどが挙げられる。Specific examples of the monomer having an acyloxymethylamide group include acetoxymethylacrylamide,
Examples include acetoxymethyl methacrylamide and propionyloxymethyl acrylamide.
【００９７】イソシアネート基を有するモノマの具体例
としては、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネー
トなどが挙げられる。Specific examples of the monomer having an isocyanate group include vinyl isocyanate and allyl isocyanate.
【００９８】多官能モノマの具体例としては、ジビニル
ベンゼン、ポリエチレングリコールジアクリレート（エ
チレン数ｎ＝１〜２３）、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート（エチレン数ｎ＝１〜２３）、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートなどが挙げられる。Specific examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, polyethylene glycol diacrylate (ethylene number n = 1 to 23), polyethylene glycol dimethacrylate (ethylene number n = 1 to 23), trimethylolpropane triacrylate, triethylene. Methylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate and the like can be mentioned.
【００９９】本発明に好ましく用いられる共役ジエン系
ラテックスを作製する際の適当なモノマの組合わせとし
ては、必須成分である共役ジエン系化合物に加えて （１）少なくとも１種以上のＩ群モノマの共重合体 （２）少なくとも１種以上のＩ群モノマおよび少なくと
も１種以上のII群モノマとの共重合体 （３）少なくとも１種以上のＩ群モノマおよび少なくと
も１種以上のII群モノマおよび少なくとも１種以上のII
I 群モノマとの共重合体 （４）少なくとも１種以上のＩ群モノマおよびIII 群モ
ノマの共重合体 などの組合わせが挙げられる。Suitable monomer combinations for preparing the conjugated diene latex preferably used in the present invention include (1) at least one or more group I monomers in addition to the conjugated diene compound which is an essential component. Copolymer (2) Copolymer with at least one or more group I monomer and at least one or more group II monomer (3) At least one or more group I monomer and at least one or more group II monomer and at least One or more II
Copolymer with Group I Monomer (4) A combination of at least one or more kinds of group I monomer and group III monomer copolymer.
【０１００】本発明に好ましく用いられるラテックスの
具体例としては、ＪＳＲ０５６１（ＳＢ共重合ラテック
ス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０５８９（ＳＢ共
重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６
０２（ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）
製）、ＪＳＲ０７００（ブタジエン重合ラテックス：日
本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ２１０８（ＳＢ共重合ラ
テックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６５０
（ビニルピリジン−ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴ
ム（株）製）、ＪＳＲ０６５２（ビニルピリジン−ＳＢ
共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）などが挙げ
られる。Specific examples of the latex preferably used in the present invention include JSR0561 (SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0589 (SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR06.
02 (SB copolymer latex: Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
Manufactured), JSR0700 (butadiene polymerized latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR2108 (SB copolymerized latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0650
(Vinyl pyridine-SB copolymer latex: manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0652 (vinyl pyridine-SB)
Copolymerized latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. and the like.
【０１０１】特に好ましく用いられるカルボキシル基を
有する共役ジエン系ラテックスの具体例としては、ＪＳ
Ｒ０５４５（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日
本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０５４８（カルボキシ変
性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、Ｊ
ＳＲ０５９６（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：
日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０５９７（カルボキシ
変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、
ＪＳＲ０５９８（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテック
ス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６１９（カルボ
キシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）
製）、ＪＳＲ０６２４（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテ
ックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６４０（カ
ルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム
（株）製）、ＪＳＲ０６９３（カルボキシ変性ＳＢ共重
合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６９
６（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴ
ム（株）製）、ＪＳＲ０８５４（カルボキシ変性ＳＢ共
重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０８
６３（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成
ゴム（株）製）、ＪＳＲ０８９８（カルボキシ変性ＳＢ
共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ラックス
ター４９４０Ｂ（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテック
ス：大日本インキ化学工業（株）製）、ラックスター６
８−０７３Ｓ（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：
大日本インキ化学工業（株）製）、ラックスターＤＮ−
７０４（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：大日本
インキ化学工業（株）製）、ラックスターＤＮ−７０２
（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：大日本インキ
化学工業（株）製）、ラックスター６８−０７４（カル
ボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：大日本インキ化学工
業（株）製）、ラックスターＤＮ−７０３（カルボキシ
変性ＮＢ共重合ラテックス：大日本インキ化学工業
（株）製）、ラックスターＤＭ−８０１（カルボキシ変
性ＭＢ共重合ラテックス：大日本インキ化学工業（株）
製）、ラックスターＤＭ−４０１（カルボキシ変性ＭＢ
共重合ラテックス：大日本インキ化学工業（株）製）、
ラックスター４９５０Ｃ（カルボキシ変性ＭＢ共重合ラ
テックス：大日本インキ化学工業（株）製）、ラックス
ターＤＭ−８０６（カルボキシ変性ＭＢ共重合ラテック
ス：大日本インキ化学工業（株）製）などが挙げられ
る。Specific examples of the conjugated diene latex having a carboxyl group which is particularly preferably used include JS
R0545 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0548 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), J
SR0596 (carboxy modified SB copolymer latex:
Manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., JSR0597 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.),
JSR0598 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0619 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.)
JSR0624 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0640 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0693 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber) Rubber Co., Ltd., JSR069
6 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0854 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR08
63 (carboxy modified SB copolymer latex: manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), JSR0898 (carboxy modified SB
Copolymerized latex: manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., Rack Star 4940B (carboxy modified NB copolymerized latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.), Rack Star 6
8-073S (carboxy modified NB copolymer latex:
Dainippon Ink and Chemicals, Inc., Rack Star DN-
704 (carboxy modified NB copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Rack Star DN-702
(Carboxy-modified NB copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Luck Star 68-074 (carboxy modified NB copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Lack Star DN-703 (carboxy) Modified NB Copolymer Latex: Dainippon Ink and Chemicals, Inc., LACSTAR DM-801 (Carboxy Modified MB Copolymer Latex: Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
Made), Rackstar DM-401 (carboxy modified MB
Copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
Lackstar 4950C (carboxy modified MB copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Lackstar DM-806 (carboxy modified MB copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and the like.
【０１０２】また本発明の疎水性ポリマ、好ましくはカ
ルボキシル基を有する共役ジエン系ラテックスには、感
光性を付与する目的からエチレン性不飽和基が好ましく
導入される。An ethylenically unsaturated group is preferably introduced into the hydrophobic polymer of the present invention, preferably a conjugated diene latex having a carboxyl group for the purpose of imparting photosensitivity.
【０１０３】すなわち本発明の感光性平版印刷版原版
は、親水性膨潤層のうち、露光部が必要に応じて光架橋
硬化し、未露光部と比較して高い初期弾性率を示しか
つ、水膨潤性の低下した物性に変化することを利用して
画像形成するものであり、疎水性ポリマに感光性を付与
することによって、露光部の疎水性ポリマを光架橋し、
初期弾性率を向上させることが好ましい。That is, in the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention, the exposed portion of the hydrophilic swelling layer is photo-crosslinked and cured if necessary, and exhibits a high initial elastic modulus as compared with the unexposed portion, and the An image is formed by utilizing the change in physical properties with reduced swelling property, and by imparting photosensitivity to the hydrophobic polymer, the hydrophobic polymer in the exposed area is photocrosslinked,
It is preferable to improve the initial elastic modulus.
【０１０４】エチレン性不飽和基の導入方法としては、
疎水性ポリマとして好ましく用いられるカルボキシル基
を有する共役ジエン系ラテックスに共重合成分として、
カルボキシル基の他に、水酸基、メチロールアミド基、
エポキシ基、カルボニル基、アミノ基などの反応性官能
基を存在させてこれらの反応性官能基を利用して、グリ
シジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ基をカルボ
キシル基と反応させて（メタ）アクリル基を導入する方
法や、（メタ）アクリル酸クロライドなどを水酸基と反
応させる方法が挙げられる。As a method of introducing an ethylenically unsaturated group,
As a copolymerization component in a conjugated diene latex having a carboxyl group preferably used as a hydrophobic polymer,
In addition to carboxyl groups, hydroxyl groups, methylolamide groups,
Reactive functional groups such as epoxy groups, carbonyl groups, amino groups, etc. are present, and these reactive functional groups are used to react epoxy groups such as glycidyl (meth) acrylate with carboxyl groups to obtain (meth) acrylic groups. And a method of reacting (meth) acrylic acid chloride with a hydroxyl group.
【０１０５】反応に際しては、アルカリ金属の水酸化物
やアミン類などの公知の触媒が好ましく添加される。In the reaction, known catalysts such as alkali metal hydroxides and amines are preferably added.
【０１０６】また、共役ジエン系ラテックスを合成する
際、グリシジル基、フェニル基、ヒドロキシアルキル基
などの反応性官能基を有するモノマを加え、これらの反
応性官能基を利用してエチレン性不飽和化合物を導入す
ることも可能である。Further, when synthesizing the conjugated diene latex, a monomer having a reactive functional group such as a glycidyl group, a phenyl group and a hydroxyalkyl group is added, and the ethylenically unsaturated compound is utilized by utilizing these reactive functional groups. It is also possible to introduce.
【０１０７】エチレン性不飽和基の導入量は、疎水性ポ
リマの全官能基に対して１〜９０ｍｏｌ％の範囲が好ま
しい。The introduction amount of the ethylenically unsaturated group is preferably in the range of 1 to 90 mol% with respect to all the functional groups of the hydrophobic polymer.
【０１０８】また、感光性や水膨潤性を調製する目的か
ら、エチレン性不飽和基を含まない疎水性ポリマとのブ
レンドや導入量の異なる疎水性ポリマとのブレンドも自
由である。For the purpose of adjusting photosensitivity and water swelling property, blending with a hydrophobic polymer containing no ethylenically unsaturated group and blending with hydrophobic polymers having different introduction amounts are also free.
【０１０９】エチレン性不飽和基を過度に導入すると感
光性は向上するが、カルボキシル基を有する共役ジエン
系ラテックスの水溶液中での分散が不安定化する傾向に
あり、また導入量が不足すると感光性が低下する。If the ethylenically unsaturated group is excessively introduced, the photosensitivity is improved, but the dispersion of the conjugated diene latex having a carboxyl group in the aqueous solution tends to be unstable. Sex decreases.
【０１１０】本発明に用いられる疎水性ポリマとして
は、好ましく用いられるカルボキシル基を有する共役ジ
エン系ラテックスの他にも、ビニルポリマ系ラテック
ス、水性または水分散ポリウレタン樹脂などを適宜添加
することも任意である。As the hydrophobic polymer used in the present invention, in addition to the conjugated diene latex having a carboxyl group preferably used, vinyl polymer latex, aqueous or water-dispersed polyurethane resin, etc. may be optionally added. .
【０１１１】ビニルポリマ系ラテックスとしては、アク
リル系、酢酸ビニル系、塩化ビニリデン系などが挙げら
れる。Examples of the vinyl polymer type latex include acrylic type, vinyl acetate type and vinylidene chloride type.
【０１１２】アクリル系ラテックスとしては、アクリル
酸エステルおよびメタクリル酸エステルを必須成分とし
た共重合体が挙げられる。具体的には、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸オクチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン
などの少なくとも１種以上を共重合したものが挙げられ
る。Examples of the acrylic latex include copolymers containing acrylic acid ester and methacrylic acid ester as essential components. Specific examples include those obtained by copolymerizing at least one or more of methyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and styrene.
【０１１３】酢酸ビニル系ラテックスとしては、酢酸ビ
ニル単独またはアクリル酸エステル、高級酢酸ビニルエ
ステル、エチレンなどとの共重合体が挙げられる。Examples of the vinyl acetate latex include vinyl acetate alone or copolymers with acrylic acid ester, higher vinyl acetate, ethylene and the like.
【０１１４】塩化ビニリデン系ラテックスとしては、塩
化ビニリデンとアクリル酸メチル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリロニトリ
ル、塩化ビニルなどとの共重合体が挙げられる。Examples of the vinylidene chloride latex include copolymers of vinylidene chloride and methyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acrylonitrile, vinyl chloride and the like.
【０１１５】水性または水分散ポリウレタン樹脂として
は、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオー
ル、ポリ（エステル／エーテル）ポリオールとポリイソ
シアネートからなる疎水性のポリウレタン樹脂を界面活
性剤を用いて強制的に乳化させた強制乳化型、樹脂自身
に親水性基または、親水性セグメントを付与し、自己分
散性にして乳化させた自己乳化型が挙げられ、両者にお
いて非反応性のものおよびブロック剤でイソシアネート
基などの反応基をブロックした反応性のものが挙げられ
る。As the aqueous or water-dispersed polyurethane resin, a hydrophobic polyurethane resin composed of polyester polyol, polyether polyol, poly (ester / ether) polyol and polyisocyanate is compulsorily emulsified by using a surfactant. Emulsion type, a hydrophilic group or a hydrophilic segment is added to the resin itself, and self-emulsifying type obtained by self-dispersing and emulsifying. In both cases, a non-reactive one and a blocking group such as an isocyanate group are reactive groups. The reactive ones that are blocked are mentioned.
【０１１６】本発明の親水性膨潤層は上記の親水性ポリ
マと疎水性ポリマとを混合し、必要に応じて架橋または
疑似架橋し、水に不溶化せしめることによって基板上に
積層形成される。The hydrophilic swelling layer of the present invention is laminated on the substrate by mixing the above-mentioned hydrophilic polymer and hydrophobic polymer, crosslinking or pseudo-crosslinking them if necessary, and insolubilizing them in water.
【０１１７】架橋には親水性ポリマおよび疎水性ポリマ
が有する反応性官能基を用いて架橋反応することが好ま
しい。架橋反応は、共有結合性の架橋であっても、イオ
ン結合性の架橋であってもよい。For cross-linking, it is preferable to carry out the cross-linking reaction using the reactive functional groups of the hydrophilic polymer and the hydrophobic polymer. The cross-linking reaction may be a covalent bond or an ionic bond.
【０１１８】架橋反応に用いられる化合物としては、架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ（メ
タ）アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリアル
コキシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化
合物、アルデヒド化合物、ポリビニル化合物、ヒドラジ
ンなどが挙げられ、該架橋反応は公知の触媒を添加し、
反応を促進することが行なわれる。Examples of the compound used in the crosslinking reaction include known polyfunctional compounds having a crosslinking property, such as polyepoxy compounds, polyisocyanate compounds, poly (meth) acrylic compounds, polymercapto compounds, polyalkoxysilyl compounds, Polyvalent metal salt compounds, polyamine compounds, aldehyde compounds, polyvinyl compounds, hydrazine and the like can be mentioned. The crosslinking reaction is carried out by adding a known catalyst,
The reaction is promoted.
【０１１９】また本発明の疎水性ポリマとして好ましく
用いられるカルボキシル基を有する共役ジエン系ラテッ
クスを作製する際に、共重合成分として、カルボキシル
基の他に、水酸基、メチロールアミド基、エポキシ基、
アルボニル基、アミノ基などの反応性官能基を存在させ
て自己架橋させる方法および、架橋剤として上記の多官
能性化合物を用いて架橋構造を形成させる方法が挙げら
れる。When a conjugated diene latex having a carboxyl group, which is preferably used as the hydrophobic polymer of the present invention, is prepared, a hydroxyl group, a methylolamide group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a methylolamide group, an epoxy group,
Examples thereof include a method of allowing a reactive functional group such as an arbonyl group and an amino group to be present to self-crosslink, and a method of forming a crosslinked structure by using the above polyfunctional compound as a crosslinking agent.
【０１２０】架橋性を有する公知の多官能性化合物の具
体例としては、下記の化合物が挙げられる。The following compounds may be mentioned as specific examples of known polyfunctional compounds having crosslinkability.
【０１２１】（１）昇華硫黄、硫化水素を酸化して生成
させる副生硫黄、硫化水素を湿式で酸化して生成するコ
ロイド硫黄など。また、加熱すると分解して硫黄を発生
するジチオモルフォリン、チオプラストテトラメチルチ
ウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフ
ィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドなど
のチウラム系化合物、ピペリジンペンタメチレンチオカ
ルバメート、ピペコリンピペコリルジチオカルバメー
ト、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウムなどのジチ
オカルバメート系化合物、イソプロピルキサントゲン酸
ナトリウム、ブチルキサントゲン酸亜鉛などのキサンテ
ート化合物、チオウレア、チオカルバニリドなどのチオ
ウレア化合物、ジフェニルグアニジンなどのチアゾール
の亜鉛塩、メルカプトベンゾチアゾールのナトリウム
塩、ジベンゾチアジルジスルフィド、メルカプトベンゾ
チアゾールのシクロヘキシルアミン塩などのチアゾール
系化合物など。(1) Sublimation sulfur, by-product sulfur produced by oxidizing hydrogen sulfide, colloidal sulfur produced by wet-oxidizing hydrogen sulfide, and the like. In addition, thiuram compounds such as dithiomorpholine, thioplast tetramethyl thiuram disulfide, tetramethyl thiuram monosulfide, dipentamethylene thiuram tetrasulfide, which decompose to generate sulfur when heated, piperidine pentamethylene thiocarbamate, pipecoline pipecolic Dithiocarbamate compounds such as ludithiocarbamate and sodium dimethyldithiocarbamate, xanthate compounds such as sodium isopropylxanthogenate and zinc butylxanthate, thiourea compounds such as thiourea and thiocarbanilide, zinc salts of thiazole such as diphenylguanidine, and mercaptobenzothiazole Sodium salt, dibenzothiazyl disulfide, cyclohexylamine salt of mercaptobenzothiazole Such as thiazole-based compound.
【０１２２】（２）ブチルアルデヒド−モノブチルアミ
ン縮合物、ブチルアルデヒド−アニリン縮合物、ヘプタ
アルデヒド−アニリン反応物、塩エチル−ホルムアルデ
ヒド−アンモニア反応物などのアルデヒドアミン系化合
物、酸化亜鉛、テルリウム、セレニウム、炭酸ジルコニ
ウムアンモニアや、ベンゾイルパーオキシド、ジクミル
パーオキシドなどの有機過酸化物など。(2) Butyraldehyde-monobutylamine condensate, butyraldehyde-aniline condensate, heptaaldehyde-aniline reaction product, salt ethyl-formaldehyde-ammonia reaction product, and other aldehyde amine compounds, zinc oxide, tellurium, selenium, Zirconium carbonate ammonia, organic peroxides such as benzoyl peroxide and dicumyl peroxide.
【０１２３】さらに架橋促進剤としては、炭酸亜鉛、ス
テアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸亜
鉛、ジブチルアンモニウムオレエート、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、ジエチレングリコールな
どが挙げられる。Further, examples of the crosslinking accelerator include zinc carbonate, stearic acid, oleic acid, lauric acid, zinc stearate, dibutylammonium oleate, diethanolamine, triethanolamine, diethylene glycol and the like.
【０１２４】（３）ポリエポキシ化合物、尿素樹脂、ポ
リアミン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、酸無
水物など。(3) Polyepoxy compounds, urea resins, polyamines, melamine resins, benzoguanamine resins, acid anhydrides, etc.
【０１２５】ポリエポキシ化合物の具体例としては、グ
リセリンジポリリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテルな
どが挙げられる。Specific examples of the polyepoxy compound include glycerin dipolylysidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether and the like. Is mentioned.
【０１２６】ポリアミンの具体例としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、
ポリアミドアミンなどが挙げられる。Specific examples of the polyamine include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine,
And polyamidoamine.
【０１２７】（４）ポリイソシアネート化合物など。(4) Polyisocyanate compounds and the like.
【０１２８】ポリイソシアネート化合物の例としては、
トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンイソシアネート、液状ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニ
ルイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、シク
ロヘキシルジイソシアネート、シクロヘキサンフェニレ
ンジイソシアネート、ナフタリン−１，５−ジイソシア
ネート、イソプロピルベンゼン−２，４−ジイソシアネ
ート、ポリプロピレングリコール／トリレンジイソシア
ネート付加反応物が挙げられる。Examples of polyisocyanate compounds include:
Tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane isocyanate, liquid diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, xylylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, cyclohexane phenylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, isopropylbenzene-2,4-diisocyanate, polypropylene Glycol / tolylene diisocyanate addition reactants.
【０１２９】これらの架橋剤は単独または２種以上を混
合して使用することが可能である。分散媒としては主と
して水が用いられるが、必要に応じて公知の有機溶剤を
添加することが可能である。有機溶剤の添加方法として
は重合溶媒として添加する方法、および乳化重合後エマ
ルジョン溶液に混合溶媒として添加する方法が可能であ
る。These cross-linking agents can be used alone or in admixture of two or more. Water is mainly used as the dispersion medium, but a known organic solvent can be added as necessary. As a method of adding the organic solvent, a method of adding as a polymerization solvent and a method of adding as a mixed solvent to an emulsion solution after emulsion polymerization are possible.
【０１３０】本発明の親水性膨潤層の親水性ポリマと疎
水性ポリマを混合する方法としては、３本ロールなどの
ロールミキサ、ニーダーなど混合機を用いて混練りする
方法、ホモジナイザー、ボールミルなどのディスパーサ
ーを用いて湿式混合分散する方法など、塗料やパテを製
造する際に用いられる公知の方法で好ましく混合され
る。As a method for mixing the hydrophilic polymer and the hydrophobic polymer of the hydrophilic swelling layer of the present invention, a kneading method using a mixer such as a roll mixer with three rolls, a kneader, a homogenizer, a ball mill, etc. The mixing is preferably carried out by a known method used for producing a paint or putty, such as a method of wet mixing and dispersing using a disperser.
【０１３１】また本発明の親水性膨潤層を形成する方法
としては、疎水性ポリマとして水性のエマルジョンを好
ましく用いることから、水溶液系で各成分（親水性ポリ
マ、疎水性ポリマなど）を混合し、必要に応じて架橋剤
が添加される方法が、均質な相分離構造を実現しインキ
反撥性を向上させる点から好ましい。As a method for forming the hydrophilic swelling layer of the present invention, since an aqueous emulsion is preferably used as the hydrophobic polymer, each component (hydrophilic polymer, hydrophobic polymer, etc.) is mixed in an aqueous solution system, A method in which a crosslinking agent is added as necessary is preferable from the viewpoint of realizing a uniform phase-separated structure and improving ink repulsion.
【０１３２】従って、用いられる架橋剤としては、水溶
性の多官能性化合物を用いることが特に好ましい。すな
わち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリアミン化合
物、メラミン化合物などを用いることが好ましい。Therefore, it is particularly preferable to use a water-soluble polyfunctional compound as the crosslinking agent used. That is, it is preferable to use a water-soluble polyepoxy compound, polyamine compound, melamine compound, or the like.
【０１３３】次に本発明に言う親水性膨潤層の相分離構
造について説明する。Next, the phase separation structure of the hydrophilic swelling layer according to the present invention will be described.
【０１３４】親水性ポリマを主成分とする相と疎水性ポ
リマを主成分とする相から構成された相分離構造とする
ことにより、インキ反発性と印刷耐久性の両者を広い組
成範囲において実現することが可能となる。By adopting a phase-separated structure composed of a phase containing a hydrophilic polymer as a main component and a phase containing a hydrophobic polymer as a main component, both ink resilience and printing durability are realized in a wide composition range. It becomes possible.
【０１３５】該相分離構造を構成する親水性ポリマ相と
疎水性ポリマ相の組成比は自由であり、 （１）いずれか一方が連続相で、他方が分散相である形
態、 （２）親水性および疎水性ポリマ相がそれぞれ連続相お
よび分散相を有する形態 （３）親水性および疎水性ポリマ相がいずれも連続相と
なる形態 の中から自由に選択することができる。The composition ratio of the hydrophilic polymer phase and the hydrophobic polymer phase constituting the phase-separated structure is arbitrary, and (1) either one is a continuous phase and the other is a dispersed phase, (2) hydrophilic A form in which the hydrophilic and hydrophobic polymer phases have a continuous phase and a dispersed phase, respectively (3) A form in which the hydrophilic and hydrophobic polymer phases are both continuous phases can be freely selected.
【０１３６】上記（１）〜（３）の相分離構造の一例を
それぞれ図１〜３に示す。Examples of the phase-separated structures (1) to (3) are shown in FIGS.
【０１３７】すなわち親水性ポリマが比較的強い親水性
を示す材料を選択した場合（水溶性ポリマおよび疑似水
溶性ポリマなど）、親水性膨潤層に含まれる該親水性ポ
リマの割合は、インキ反撥性および印刷耐久性の点から
比較的少量で十分であり、疎水性ポリマの割合が相対的
に多くなるため、親水性ポリマを分散相とする上記の
（１）または（２）の形態となることが好ましい。一
方、親水性ポリマが比較的弱い親水性を示す材料を選択
した場合（水膨潤性ポリマなど）、親水性膨潤層に含ま
れる該親水性ポリマの割合は、インキ反撥性および印刷
耐久性の点から比較的多量に必要であり、疎水性ポリマ
の割合が相対的に少なくなるため、上記の（１）、
（２）または（３）の形態となることが好ましい。That is, when a material in which the hydrophilic polymer exhibits relatively strong hydrophilicity is selected (such as a water-soluble polymer and a pseudo-water-soluble polymer), the proportion of the hydrophilic polymer contained in the hydrophilic swelling layer depends on the ink repulsion property. Further, from the viewpoint of printing durability, a relatively small amount is sufficient, and since the proportion of the hydrophobic polymer is relatively large, the above-mentioned form (1) or (2) in which the hydrophilic polymer is used as the dispersed phase is obtained. Is preferred. On the other hand, when a material whose hydrophilic polymer shows relatively weak hydrophilicity (such as a water-swellable polymer) is selected, the ratio of the hydrophilic polymer contained in the hydrophilic swelling layer is determined in terms of ink repellency and printing durability. From a relatively large amount, and the proportion of the hydrophobic polymer is relatively small.
It is preferable to take the form of (2) or (3).
【０１３８】すなわち本発明に用いられる親水性膨潤層
の好ましい相分離構造は、該層が有するゴム弾性および
水膨潤性によって異なるが、親水性ポリマの親水性の程
度によって異なる。That is, the preferred phase-separated structure of the hydrophilic swelling layer used in the present invention depends on the rubber elasticity and water swelling property of the layer, but depends on the degree of hydrophilicity of the hydrophilic polymer.
【０１３９】（１）の形態をとる場合、疎水性ポリマ相
が主として連続相であるためには、疎水性ポリマの組成
が５０重量％以上であり、６０〜９５重量％であること
が好ましく、７０〜９０重量％であることが更に好まし
い。疎水性ポリマの組成比が５０重量％以下となると親
水性膨潤層のインキ反撥層としての性能は印刷初期にお
いては向上するが、印刷耐久性が急激に低下する傾向に
ある。一方、疎水性ポリマの組成比が９５重量％を越え
ると親水性膨潤層内の親水性ポリマが十分に吸水でき
ず、親水性が不足してインキ反撥性が極端に低下する傾
向にある。In the case of the form (1), since the hydrophobic polymer phase is mainly a continuous phase, the composition of the hydrophobic polymer is 50% by weight or more, preferably 60 to 95% by weight, It is more preferably 70 to 90% by weight. When the composition ratio of the hydrophobic polymer is 50% by weight or less, the performance of the hydrophilic swelling layer as an ink repellent layer is improved in the initial stage of printing, but the printing durability tends to sharply decrease. On the other hand, when the composition ratio of the hydrophobic polymer exceeds 95% by weight, the hydrophilic polymer in the hydrophilic swelling layer cannot sufficiently absorb water, and the hydrophilicity is insufficient, and the ink repulsion tends to be extremely reduced.
【０１４０】（２）および（３）の形態をとる場合、親
水性ポリマおよび疎水性ポリマの両者が２０重量％以上
であり、４０重量％以上であることが好ましい。In the cases of the forms (2) and (3), both the hydrophilic polymer and the hydrophobic polymer are 20% by weight or more, preferably 40% by weight or more.
【０１４１】該親水性膨潤層はゴム弾性を有することが
好ましい。The hydrophilic swelling layer preferably has rubber elasticity.
【０１４２】親水性膨潤層のゴム弾性は以下に説明する
方法によって測定された初期弾性率の値によって特徴付
けられる。The rubber elasticity of the hydrophilic swelling layer is characterized by the value of the initial elastic modulus measured by the method described below.
【０１４３】［親水性膨潤層の初期弾性率の測定方法］
測定しようとする感光性平版印刷版原版の親水性膨潤層
の組成と同一組成の溶液をテフロンシャーレ上に展開
し、６０℃×２４時間乾燥硬化させる。得られた乾燥硬
化膜は剃刀刃などを用いて、長さ４０ｍｍ、幅１．９５
ｍｍ、厚み約０．２ｍｍの短冊状のテストピースに裁断
する。[Method of measuring initial elastic modulus of hydrophilic swelling layer]
A solution having the same composition as the hydrophilic swelling layer of the photosensitive lithographic printing plate precursor to be measured is spread on a Teflon dish and dried and cured at 60 ° C. for 24 hours. The obtained dried and cured film is 40 mm long and 1.95 wide using a razor blade or the like.
mm, and a thickness of about 0.2 mm.
【０１４４】得られたテストピースは、測定前に２５℃
５０％ＲＨの環境にて２４時間以上放置し調湿したの
ち、厚みをマイクロゲージにて測定し、下記の引張り条
件で初期弾性率を測定した。データ処理はＪＩＳ Ｋ６
３０１に準じて行なった。The test piece thus obtained was measured at 25 ° C. before measurement.
After being left to stand in an environment of 50% RH for 24 hours or more to adjust the humidity, the thickness was measured with a micro gauge, and the initial elastic modulus was measured under the following tensile conditions. Data processing is JIS K6
It was carried out according to 301.
【０１４５】引張り速度 ２００ｍｍ／分 チャック間距離 ２０ｍｍ 繰り返し数 ４回 測定機 「ＲＴＭ−１００」テンシロン万能試
験機（（株）オリエンテック製） 本発明の感光性平版印刷版原版に用いられる親水性膨潤
層の初期弾性率は、０．０１〜１０ｋｇｆ／ｍｍ2 の範
囲にあることがインキ反撥性および形態保持性の観点か
ら好ましい。より好ましくは、０．０１〜５ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 の範囲であり、０．０１〜２ｋｇｆ／ｍｍ2 の範囲
が更に好ましい。Tensile speed 200 mm / min Chuck distance 20 mm Number of repetitions 4 times Measuring machine "RTM-100" Tensilon universal testing machine (manufactured by Orientec Co., Ltd.) Hydrophilic swelling used in the photosensitive lithographic printing plate precursor of the invention. The initial elastic modulus of the layer is preferably in the range of 0.01 to 10 kgf / mm 2 from the viewpoint of ink resilience and shape retention. More preferably 0.01 to 5 kgf / m
The range is m 2, and the range of 0.01 to 2 kgf / mm 2 is more preferable.
【０１４６】すなわち初期弾性率が、０．０１ｋｇｆ／
ｍｍ2 未満になると親水性膨潤層の形態保持性が極端に
低下し、印刷時の耐久性が極端に低下する傾向にある。That is, the initial elastic modulus is 0.01 kgf /
If it is less than mm 2 , the shape retention of the hydrophilic swelling layer tends to be extremely lowered, and the durability during printing tends to be extremely lowered.
【０１４７】一方該初期弾性率が１０ｋｇｆ／ｍｍ2 よ
り大きくなるとゴム弾性が不足し、インキ反撥性が極端
に低下する傾向にある。On the other hand, when the initial elastic modulus is more than 10 kgf / mm 2 , rubber elasticity is insufficient and ink repulsion tends to be extremely lowered.
【０１４８】本発明に用いられる親水性膨潤層は以下の
定義に従って測定した水膨潤率の値が特定の範囲である
ことが好ましい。The hydrophilic swelling layer used in the present invention preferably has a water swelling ratio measured in accordance with the following definition within a specific range.
【０１４９】[0149]
【数１】 ただし、吸水量とは、以下の定義に従って測定した値を
意味する。[Equation 1] However, the water absorption amount means a value measured according to the following definition.
【０１５０】吸水量（ｇ／ｍ2 ）＝ＷWET −ＷDRY ＷDRY ：乾燥状態における重量（ｇ／ｍ2 ） ＷWET ：水中に２５℃×１０分間浸漬した後の重量（ｇ
／ｍ2 ） ［吸水量の測定方法］測定しようとする感光性平版印刷
版原版を所定面積に裁断し、２５℃の精製水に浸漬す
る。１０分間浸漬した後、該原版の親水性膨潤層表面お
よび裏面に付着した余分の水分を「ハイゼガーゼ」（コ
ットン布：旭化成工業（株）製）にて素速く拭き取り、
該原版の膨潤重量ＷWET を秤量する。その後、該原版を
６０℃のオーブンにて約３０分間乾燥し、乾燥重量Ｗ
DRY を秤量する。[0150] water absorption (g / m 2) = W WET -W DRY W DRY: Weight in dry state (g / m 2) W WET : Weight after immersing 25 ° C. × 10 minutes in water (g
/ M 2 ) [Measurement method of water absorption amount] The photosensitive lithographic printing plate precursor to be measured is cut into a predetermined area and immersed in purified water at 25 ° C. After soaking for 10 minutes, excess water adhering to the front and back surfaces of the hydrophilic swelling layer of the original plate was quickly wiped off with "Hize Gauze" (cotton cloth: Asahi Chemical Industry Co., Ltd.),
The swelling weight W WET of the master is weighed. Then, the original plate is dried in an oven at 60 ° C. for about 30 minutes to obtain a dry weight W
Weigh DRY .
【０１５１】本発明に用いられる親水性膨潤層の水膨潤
率は、１０〜１０００％で用いることが可能であるが、
インキ反撥性および形態保持性の観点から、好ましくは
５０〜５００％である。該水膨潤率が１０％未満になる
と、インキ反撥性が極端に低下する傾向にあり、また塗
工時にピンホ−ルなどの欠陥が生じ易くなる。また１０
００％より大きくなると形態保持性が極端に低下する傾
向にある。The hydrophilic swelling layer used in the present invention may have a water swelling rate of 10 to 1000%.
From the viewpoint of ink repellency and shape retention, it is preferably 50 to 500%. If the water swelling ratio is less than 10%, the ink repelling property tends to be extremely reduced, and defects such as pinholes are likely to occur during coating. Again 10
When it is more than 00%, the shape retention tends to be extremely lowered.
【０１５２】本発明で言う親水性膨潤層厚さとは、基板
上に塗設された乾燥させた感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の塗布層を剥離し、重量法によって測定した値
を意味する。親水性膨潤層厚さは下記式に従って測定し
た。The hydrophilic swelling layer thickness referred to in the present invention is a value measured by a gravimetric method after peeling off the coating layer of the hydrophilic swelling layer of the dried photosensitive lithographic printing plate precursor coated on the substrate. means. The thickness of the hydrophilic swelling layer was measured according to the following equation.
【０１５３】 親水性膨潤層厚さ（ｇ／ｍ2 ）＝（Ｗ−Ｗ0 ）／α Ｗ：感光性平版印刷版原版の乾燥重量 （ｇ） Ｗ0 ：上記Ｗから親水性膨潤層を剥離脱落した後の乾燥
重量（ｇ） α：感光性平版印刷版原版の測定面積（ｍ2 ） ［親水性膨潤層厚さの測定方法］測定しようとする感光
性平版印刷版原版を所定面積αに裁断した後、６０℃の
オーブンにて約３０分間乾燥し、乾燥重量Ｗを秤量す
る。その後、該原版を精製水に浸漬し、親水性膨潤層を
膨潤させ、スクレーパーなどを用いて該膨潤層を剥離脱
落させる。親水性膨潤層を剥離脱落させた原版を再度６
０℃のオーブンにて約３０分間乾燥し、乾燥重量Ｗ0 を
秤量する。Hydrophilic swelling layer thickness (g / m 2 ) = (W−W 0 ) / α W: Dry weight of photosensitive lithographic printing plate precursor (g) W 0 : Peeling off hydrophilic swelling layer from W Dry weight after removal (g) α: Measurement area of photosensitive lithographic printing plate precursor (m 2 ) [Measurement method of hydrophilic swelling layer thickness] The photosensitive lithographic printing plate precursor to be measured has a predetermined area α. After cutting, it is dried in an oven at 60 ° C. for about 30 minutes, and the dry weight W is weighed. Then, the original plate is immersed in purified water to swell the hydrophilic swelling layer, and the swelling layer is peeled off using a scraper or the like. The original plate from which the hydrophilic swelling layer was peeled off and dropped again 6
Dry in an oven at 0 ° C. for about 30 minutes and weigh dry weight W 0 .
【０１５４】本発明に用いられる親水性膨潤層厚さは、
０．１〜１００ｇ／ｍ2 で用いることが可能であるが、
インキ反撥性および形態保持性の観点から、好ましくは
０．３〜１０ｇ／ｍ2 である。該厚みが０．３ｇ／ｍ2
未満になると、インキ反撥性が極端に低下する傾向にあ
り、また塗工時にピンホ−ルなどの欠陥が生じ易くな
る。また１０ｇ／ｍ2 以上は水膨潤時の形態保持性が劣
化する傾向にあり経済的にも不利である。The thickness of the hydrophilic swelling layer used in the present invention is
It can be used at 0.1 to 100 g / m 2 ,
From the viewpoint of ink repellency and shape retention, it is preferably 0.3 to 10 g / m 2 . The thickness is 0.3 g / m 2
If it is less than 1, the ink repellency tends to be extremely reduced, and defects such as pinholes are likely to occur during coating. If it is 10 g / m 2 or more, the shape retention during water swelling tends to deteriorate, which is economically disadvantageous.
【０１５５】本発明に用いられる親水性膨潤層には上記
した親水性ポリマ、疎水性ポリマおよび必要に応じて加
えられる架橋剤の他にも、ゴム組成物において通常添加
される公知の老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止
剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、可塑剤などを添加する
ことが可能である。In the hydrophilic swelling layer used in the present invention, in addition to the above-mentioned hydrophilic polymer, hydrophobic polymer and a crosslinking agent optionally added, a known anti-aging agent usually added in a rubber composition. It is possible to add an antioxidant, an antiozonant, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, a plasticizer and the like.
【０１５６】また下層との接着性向上などの目的から、
公知のシランカップリング剤やイソシアネート化合物、
触媒などを添加したり基板との間に中間層として設ける
ことも可能である。For the purpose of improving the adhesiveness with the lower layer,
Known silane coupling agents and isocyanate compounds,
It is also possible to add a catalyst or the like or to provide an intermediate layer between the substrate and the substrate.
【０１５７】本発明の感光性平版印刷版原版の親水性膨
潤層の表面には、該親水性膨潤層を保護する目的で適当
な保護層をコーティングにより該親水性膨潤層上に形成
したり、保護フィルムをラミネートすることが好ましく
行なわれる。また、該保護層中には感光性基を曝光（露
光光源以外の光で、本来非照射部分に光が照射されるこ
とを意味する）から保護する目的で、光退色性物質を含
有せしめることもできる。On the surface of the hydrophilic swelling layer of the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention, a suitable protective layer may be formed on the hydrophilic swelling layer by coating for the purpose of protecting the hydrophilic swelling layer, It is preferable to laminate a protective film. In addition, the protective layer contains a photobleaching substance for the purpose of protecting the photosensitive group from exposure to light (meaning that the non-irradiated portion is originally irradiated with light other than the exposure light source). You can also
【０１５８】本発明においては、親水性膨潤層が感光性
基としてエチレン性不飽和基を有する場合、該層を外気
から遮断し、露光時における該官能基の光硬化を促進す
る上から保護層を形成することが好ましい。In the present invention, when the hydrophilic swelling layer has an ethylenically unsaturated group as a photosensitive group, the layer is shielded from the outside air to accelerate the photo-curing of the functional group at the time of exposure. Is preferably formed.
【０１５９】保護フィルムの具体例としては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファンなどが挙げられる。また、これらの
保護フィルムは画像露光時の焼枠における真空密着性を
改良するために、凹凸加工を施したり、表面をマット処
理したり、シリカ粒子などを含むプラスチック層を上記
保護フィルムの表面に塗布積層することも好ましく行な
われる。Specific examples of the protective film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate and cellophane. In addition, these protective films are subjected to unevenness processing, matte treatment of the surface, or a plastic layer containing silica particles or the like on the surface of the protective film in order to improve the vacuum adhesion in the flame during image exposure. Coating and lamination are also preferably performed.
【０１６０】次に本発明の感光性平版印刷版原版を用い
た平版印刷版の製造方法について説明する。Next, a method for producing a lithographic printing plate using the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.
【０１６１】本発明の感光性平版印刷版原版は、基板上
に形成された親水性膨潤層に活性光線が照射されること
によって画像形成される。すなわち、画線部および非画
線部の初期弾性率等の差が版表面に照射される活性光線
によって生じることを特徴としている。The photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention is image-formed by irradiating the hydrophilic swelling layer formed on the substrate with an actinic ray. That is, it is characterized in that the difference in the initial elastic modulus between the imaged area and the non-imaged area is caused by the actinic rays applied to the plate surface.
【０１６２】また本発明の感光性平版印刷版原版はネガ
ティブワーキング用の画像形成を行なう。すなわち、ネ
ガ原画フィルムを通じて、通常の露光光源によって画像
露光される。この露光工程で用いられる光源としては、
例えば高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メ
タルハライド灯、蛍光灯などが挙げられる。The photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention forms an image for negative working. That is, image exposure is performed through a negative original image film by a normal exposure light source. As the light source used in this exposure process,
For example, a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp and the like can be mentioned.
【０１６３】露光により、親水性膨潤層の活性光線が照
射されなかった部分（以下未露光部と称する）と比較し
て活性光線が照射された部分（以下露光部と称する）が
疎水化し、初期弾性率が上昇し、水膨潤性が低下してイ
ンキ着肉性の画線部となり、未露光部はインキ反撥性の
非画線部となる。Upon exposure, the portion of the hydrophilic swelling layer that was exposed to actinic rays (hereinafter referred to as the unexposed area) was made hydrophobic compared to the portion that was not exposed to the actinic ray (hereinafter referred to as the unexposed area). The elastic modulus increases, the water swelling property decreases, and the ink receptive image area is formed, and the unexposed area becomes the ink repellent non-image area.
【０１６４】このような通常の露光を行なったのち、親
水性膨潤層上の好ましく配置される保護層を剥離除去
し、水または現像液でリンスすると、未露光部の親水性
膨潤層内に存在する光酸発生剤および必要に応じて添加
される下記の感光性化合物が溶解除去または不感光化さ
れ、インキ反撥するのに適した相分離構造および水膨潤
性を有する非画線部となり、露光部は光酸発生剤が親水
性ポリマおよび／または疎水性ポリマが有するカルボキ
シル基を疎水性の遊離酸に変換し、必要に応じて感光性
化合物が光架橋硬化し未露光部と比較して、高い初期弾
性率を示しかつ、水膨潤性の低下したインキ着肉性の画
線部となる。After such ordinary exposure, the protective layer which is preferably disposed on the hydrophilic swelling layer is peeled off and rinsed with water or a developing solution, so that it is present in the unexposed hydrophilic swelling layer. The photo-acid generator to be used and the photosensitive compound described below, which is added as necessary, are dissolved and desensitized to form a non-image area having a phase-separated structure and water swelling property suitable for ink repulsion, and exposed. The photo-acid generator converts the carboxyl group of the hydrophilic polymer and / or the hydrophobic polymer into a hydrophobic free acid, and the photosensitive compound is photo-crosslinked and cured, if necessary, as compared with the unexposed part, The ink has a high initial elastic modulus and has a reduced water swelling property, resulting in an ink receptive image area.
【０１６５】上記のように該感光性平版印刷版原版は、
光酸発生剤のカルボキシル基の遊離酸変換による疎水化
および感光性のエチレン性不飽和基の光架橋反応の助け
を借りて親水性膨潤層の相分離構造が有するゴム弾性や
水膨潤性を変化させることによって画像形成するもので
ある。As described above, the photosensitive lithographic printing plate precursor is
Changes in rubber elasticity and water swelling property of the phase-separated structure of hydrophilic swelling layer with the help of hydrophobization by conversion of carboxyl group of photoacid generator to free acid and photocrosslinking reaction of photosensitive ethylenically unsaturated group By doing so, an image is formed.
【０１６６】本発明の親水性膨潤層には、上記のエチレ
ン性不飽和基の光反応を促進、補助する目的から、公知
の光架橋または光硬化性の感光性化合物が添加され、下
記の（１）〜（５）の具体例が挙げられる。A known photocrosslinking or photocurable photosensitive compound is added to the hydrophilic swelling layer of the present invention for the purpose of accelerating and assisting the above-mentioned photoreaction of the ethylenically unsaturated group. Specific examples of 1) to (5) are given.
【０１６７】（１）光重合性モノマまたはオリゴマ アルコール類（エタノール、プロパノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、シクロヘキサノール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、イソ
アミルアルコール、ラウリルアルコール、ステアリルア
ルコール、ブトキシエチルアルコール、エトキシエチレ
ングリコール、メトキシエチレングリコール、メチキシ
プロピレングリコール、フェノキシエタノール、フェノ
キシジエチレングリコール、テトラヒドロフルフリルア
ルコールなど）の（メタ）アクリル酸エステル、カルボ
ン酸類（酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、
メタクリル酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石
酸、クエン酸など）と（メタ）アクリル酸グリシジルま
たはテトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミンまたは
テトラグリシジル−ｍ−テトラヒドロキシリレンジアミ
ンとの付加反応物、アミド誘導体（アクリルアミド、メ
タクリルアミド、ｎ−メチロールアクリルアミド、メチ
レンビスアクリルアミドなど）、エポキシ化合物と（メ
タ）アクリル酸との付加反応物などを挙げることができ
る。(1) Photopolymerizable monomer or oligomer Alcohols (ethanol, propanol, hexanol, octanol, cyclohexanol, glycerin,
(Meth) acrylic acid of trimethylolpropane, pentaerythritol, isoamyl alcohol, lauryl alcohol, stearyl alcohol, butoxyethyl alcohol, ethoxyethylene glycol, methoxyethylene glycol, methoxypropylene glycol, phenoxyethanol, phenoxydiethylene glycol, tetrahydrofurfuryl alcohol, etc. Esters, carboxylic acids (acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid,
An addition reaction product of methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid, etc.) with glycidyl (meth) acrylate or tetraglycidyl-m-xylylenediamine or tetraglycidyl-m-tetrahydroxylylenediamine; Examples include amide derivatives (acrylamide, methacrylamide, n-methylolacrylamide, methylenebisacrylamide, and the like), addition products of an epoxy compound and (meth) acrylic acid, and the like.
【０１６８】さらに具体的には、特公昭４８−４１７０
８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−
３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレー
ト、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３
１９１号公報、特公昭５２−３０４９０号公報に記載さ
れているポリエステルアクリレート、エポキシ樹脂と
（メタ）アクリル酸を反応させた多官能エポキシ（メ
タ）アクリレート、米国特許4540649 に記載されている
Ｎ−メチロールアクリルアミド誘導体などを挙げること
ができる。更に日本接着協会誌VOL.20,No.7,p300〜308
に紹介されている光硬化性モノマおよびオリゴマを用い
ることができる。More specifically, Japanese Examined Patent Publication No. 48-4170.
No. 8, JP-B-50-6034, JP-A-51-
Urethane acrylates described in JP-A-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43
No. 191 and JP-B-52-30490, polyfunctional epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, and N-methylol described in U.S. Pat. No. 4,540,649. Acrylamide derivatives and the like can be mentioned. Furthermore, Japan Adhesion Association Magazine VOL.20, No.7, p300-308
Photocurable monomers and oligomers described in (1) can be used.
【０１６９】また、本発明の親水性膨潤層には下記一般
式（Ｉ）で表わされる親油性のエチレン性不飽和化合物
が、露光部のインキ着肉性を向上させる点から好ましく
用いられる。In the hydrophilic swelling layer of the present invention, a lipophilic ethylenically unsaturated compound represented by the following general formula (I) is preferably used from the viewpoint of improving the ink receptivity of the exposed area.
【０１７０】 ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ1 ）−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ2 ）ｎ −Ｒ2 （Ｉ） （ここで、Ｒ1 は水素またはメチル基を表わす。Ｒ2 は
水素、炭素数１〜２０の置換または無置換のアルキル
基、ニトロ基、アジド基、炭素数２〜２０のアルケニル
基、炭素数４〜２０の置換または無置換のアリール基、
置換または無置換のアラルキル基、アクリロキシ基、メ
タアクリロイロキシ基を表す。ｎは１〜３０の整数。） 具体例としては、下記の化合物が挙げられる。CH 2 ═C (R 1 ) —CO—O— (CH 2 ) n—R 2 (I) (wherein, R 1 represents hydrogen or a methyl group. R 2 represents hydrogen or a carbon number of 1 to 1). 20 substituted or unsubstituted alkyl group, nitro group, azido group, alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 20 carbon atoms,
Represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, acryloxy group or methacryloyloxy group. n is an integer of 1 to 30. Specific examples include the following compounds.
【０１７１】[0171]
【化２】 ｎは上記一般式で表わされる化合物の平均値を意味す
る。すなわち、上記一般式で表わされる化合物はｎに分
布を持った混合物からなる。Embedded image n means the average value of the compound represented by the above general formula. That is, the compound represented by the above general formula comprises a mixture having a distribution of n.
【０１７２】これらの化合物はインキ着肉性の点からｎ
は４〜３０の整数であることが好ましく、８〜１３が更
に好ましい。ｎが３以下の場合、親油性が不足し、イン
キ着肉性が不足する傾向にある。ｎが３１以上である
と、重量あたりの不飽和基当量が不足し感光性が低下す
る。例えば、ｎが４，５，６，７，８，９，１０，１
３，２２等の化合物を用いることができる。From the viewpoint of ink receptivity, these compounds are n
Is preferably an integer of 4 to 30, and more preferably 8 to 13. When n is 3 or less, the lipophilicity tends to be insufficient, and the ink deposition property tends to be insufficient. If n is 31 or more, the equivalent weight of the unsaturated group per weight is insufficient, and the photosensitivity is reduced. For example, n is 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 1
Compounds such as 3,22 can be used.
【０１７３】上記一般式（Ｉ）以外の本発明に好ましく
用いられる親油性のエチレン性不飽和化合物の具体例と
しては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチル
ヘキシルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレ
ート、イソオクチルアクリレート、イソオクチルメタク
リレートなどが挙げられる。Specific examples of the lipophilic ethylenically unsaturated compound preferably used in the present invention other than the above general formula (I) are 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, neopentyl glycol diacrylate and neopentyl. Examples thereof include glycol dimethacrylate, isooctyl acrylate, isooctyl methacrylate and the like.
【０１７４】（２）光二量化型の感光性樹脂組成物 例えばポリ桂皮酸ビニルなどを含む感光層、例えば、Ｐ
−フェニレンジアクリル酸と１，４−ジヒドロキシエチ
ルオキシシクロヘキサンの１：１重縮合不飽和ポリエス
テルやシンナミリデンマロン酸と２官能性グリコ−ル類
とから誘導される感光性ポリエステル、ポリビニルアル
コ−ル、デンンプン、セルロ−スなどのような水酸基含
有ポリマのケイ皮酸エステルなど。(2) Photodimerization type photosensitive resin composition A photosensitive layer containing, for example, polyvinyl cinnamate, for example, P
1: 1 polycondensed unsaturated polyester of phenylenediacrylic acid and 1,4-dihydroxyethyloxycyclohexane, photosensitive polyester derived from cinnamylidene malonic acid and difunctional glycols, polyvinyl alcohol , Cinnamic acid esters of hydroxyl group-containing polymers such as Denn Pun, Cellulose, etc.
【０１７５】（３）アリル基および／またはビニル基を
有するモノマ、オリゴマまたはポリマとメルカプト基を
有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの組成物 これは露光するとメルカプト基がアリル基およびまたは
ビニル基に付加し架橋する。(3) Composition of Monomer, Oligomer or Polymer Having Allyl Group and / or Vinyl Group and Monomer, Oligomer or Polymer Having Mercapto Group This is because the mercapto group is added to the allyl group and / or vinyl group when exposed to light. Crosslink.
【０１７６】（４）ジアゾニウム塩化合物と水酸基含有
化合物との組成物 本発明に用いられるジアゾ化合物としては、ｐ−ジアゾ
ジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で代表
される水不溶で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂などが挙げ
られる。(4) Composition of Diazonium Salt Compound and Hydroxyl Group-Containing Compound The diazo compound used in the present invention is a water-insoluble organic solvent-soluble diazo resin represented by a condensation product of p-diazodiphenylamine and formaldehyde. And so on.
【０１７７】具体的には特公昭４７−１１６７号公報お
よび特公昭５７−４３８９０号公報に記載されているよ
うなものが挙げられる。Specific examples include those described in JP-B-47-1167 and JP-B-57-43890.
【０１７８】本発明に好ましく用いられるジアゾ樹脂に
おけるジアゾモノマーとしては、例えば４−ジアゾ−ジ
フェニルアミン、１−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルアミノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、１−ジアゾ
−２，５−ジエトキシ−４−ベンゾイルアミノベンゼ
ン、１−ジアゾ−４−Ｎ−ベンジルアミノベンゼン、１
−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゼン、１−
ジアゾ−４−モルフォリノベンゼン、１−ジアゾ−２，
５−ジメトキシ−４−ｐ−トリルメルカプトベンゼン、
１−ジアゾ−２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノベンゼン、ｐ−ジアゾ−ジメチルアニリン、１−ジア
ゾ−２，５−ジブトキシ−４−モルフォリノベンゼン、
１−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−４−モルフォリノベ
ンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジメトキシ−４−モルフ
ォリノベンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−４
−ｐ−トリルメルカプトベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ
−エチル−Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、１−
ジアゾ−３−エトキシ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジル
アミノベンゼン、１−ジアゾ−３−クロロ−４−ジエチ
ルアミノベンゼン、１−ジアゾ−３−メチル−４−ピロ
リジノベンゼン、１−ジアゾ−２−クロロ−４−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ−５−メトキシベンゼン、１−ジアゾ
−３−メトキシ−４−ピロリジノベンゼン、３−メトキ
シ−４−ジアゾジフェニルアミン、３−エトキシ−４−
ジアゾジフェニルアミン、３−（ｎ−プロポキシ）−４
−ジアゾジフェニルアミン、３−（イソプロポキシ）−
４−ジアゾジフェニルアミンなどが挙げられる。Examples of the diazo monomer in the diazo resin preferably used in the present invention include 4-diazo-diphenylamine, 1-diazo-4-N, N-dimethylaminobenzene and 1-diazo-4-N, N-diethylaminobenzene. , 1-diazo-4-N-ethyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-4-N-methyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-benzoylaminobenzene , 1-diazo-4-N-benzylaminobenzene, 1
-Diazo-4-N, N-dimethylaminobenzene, 1-
Diazo-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,
5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzene,
1-diazo-2-ethoxy-4-N, N-dimethylaminobenzene, p-diazo-dimethylaniline, 1-diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholinobenzene,
1-diazo-2,5-diethoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4
-P-tolylmercaptobenzene, 1-diazo-4-N
-Ethyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-
Diazo-3-ethoxy-4-N-methyl-N-benzylaminobenzene, 1-diazo-3-chloro-4-diethylaminobenzene, 1-diazo-3-methyl-4-pyrrolidinobenzene, 1-diazo-2 -Chloro-4-N, N
-Dimethylamino-5-methoxybenzene, 1-diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzene, 3-methoxy-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4-
Diazodiphenylamine, 3- (n-propoxy) -4
-Diazodiphenylamine, 3- (isopropoxy)-
4-diazodiphenylamine and the like.
【０１７９】また、これらのジアゾモノマーとの縮合剤
として用いられるアルデヒドとしては、例えば、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズ
アルデヒドなどが挙げられる。更に陰イオンとしては、
塩素イオンやトリクロロ亜鉛酸などを用いることにより
水溶性のジアゾ樹脂を得ることができ、また四フッ化ホ
ウ素、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンスル
フォン酸、４，４’−ビフェニルスルフォン酸、２、５
−ジメチルベンゼンスルフォン酸、２−ニトロベンゼン
スルフォン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベ
ンゾイル−ベンゼンスルフォン酸などを用いることによ
り、有機溶剤可溶性のジアゾ樹脂を得ることができる。Examples of the aldehyde used as a condensing agent with these diazo monomers include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, benzaldehyde and the like. Furthermore, as anions,
A water-soluble diazo resin can be obtained by using chloride ion, trichlorozinc acid, or the like, and boron tetrafluoride, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4,4′-biphenylsulfonic acid, 2, 5
By using -dimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, or the like, an organic solvent-soluble diazo resin can be obtained.
【０１８０】またこれらのジアゾ樹脂は下記に説明する
ような水酸基を有する高分子化合物が通常混合して使用
される。Further, these diazo resins are usually mixed with a polymer compound having a hydroxyl group as described below.
【０１８１】すなわち、水酸基を有する高分子化合物と
しては、アルコール性水酸基を有するモノマー、例えば
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒ
ドロキシブチル（メタ）アクリレート、２、３−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリルアミド、トリエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、１、３−プロパンジオール
モノ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールモ
ノ（メタ）アクリレート、ジ（２−ヒドロキシエチル）
マレエートなどの中から選ばれる少なくとも１種類以上
のモノマーと他の水酸基を有さないモノマーとの間での
共重合体や、フェノール性水酸基を有するモノマー、例
えば Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミ
ド、ｏ−、ｍ−、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ
−、ｐ−ヒドロキフェニル（メタ）アクリレート、など
との共重合体、また、ｐ−ヒドロキシ安息香酸とグリシ
ジル（メタ）アクリレートとの開環反応生成物、サリチ
ル酸と２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの
反応生成物などの水酸基含有モノマーなどとの共重合体
が挙げられる。また、ポリビニルアルコール、セルロー
ス、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、グリセリン、ペンタエリスリトールなどやこれらの
エポキシ付加反応物、その他の水酸基含有天然高分子化
合物なども用いることができる。That is, as the polymer compound having a hydroxyl group, a monomer having an alcoholic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2,3-hydroxypropyl (meth) acrylate is used. , 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, 1,3-propanediol mono (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) Acrylate, di (2-hydroxyethyl)
Copolymers of at least one or more monomers selected from maleates and other monomers having no hydroxyl group, and monomers having a phenolic hydroxyl group, for example, N- (4-hydroxyphenyl) (meta ) Acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide, o-, m-, p-hydroxystyrene, o-, m
-, A copolymer with p-hydroxyphenyl (meth) acrylate, or the like; a ring-opening reaction product of p-hydroxybenzoic acid with glycidyl (meth) acrylate; salicylic acid and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; And a copolymer with a hydroxyl group-containing monomer such as a reaction product of the above. Further, polyvinyl alcohol, cellulose, polyethylene glycol, polypropylene glycol, glycerin, pentaerythritol, and the like, an epoxy addition reaction product thereof, and other hydroxyl-containing natural polymer compounds can also be used.
【０１８２】（５）ビスアジド化合物と環化したポリイ
ソプレンゴムやポリブタジエンゴム、またはクレゾール
ノボラック樹脂を主成分とする感光性組成物など。(5) A bisazide compound-cyclized polyisoprene rubber or polybutadiene rubber, or a photosensitive composition containing cresol novolac resin as a main component.
【０１８３】これらの感光性化合物は親水性膨潤層を形
成する際に組成物に添加し、該層内に存在させる方法、
または親水性膨潤層を形成した後、感光性組成物を該層
上に塗布し、該層内に含浸させる方法などを用いて添加
される。These photosensitive compounds are added to the composition when the hydrophilic swelling layer is formed, and are allowed to exist in the layer.
Alternatively, after the formation of the hydrophilic swelling layer, the photosensitive composition is applied on the layer and added by a method of impregnating the inside of the layer.
【０１８４】比較的高分子量のポリマ、オリゴマなどを
用いた感光性組成物の場合には、前者の親水性膨潤層形
成時に同時添加する方法が有利に行なわれ、比較的低分
子量のモノマ、オリゴマなどを用いた感光性組成物の場
合には、後者の含浸方法が有利である。In the case of a photosensitive composition using a polymer or oligomer having a relatively high molecular weight, the former method of simultaneous addition at the time of forming the hydrophilic swelling layer is advantageously performed, and a monomer or an oligomer having a relatively low molecular weight is used. The latter impregnation method is advantageous in the case of a photosensitive composition using, for example,
【０１８５】また原版の親水性膨潤層には光酸発生剤お
よびエチレン性不飽和基の光架橋反応を増感させる目的
から公知の光増感剤を添加することが可能である。公知
の光増感剤としては、公知の光増感剤が自由に選択でき
るが、各種の置換ベンゾフェノン系化合物、置換チオキ
サントン系化合物、置換アクリドン系化合物などが好ま
しく用いられる。また、米国特許236766に記載されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許236766
1 、 米国特許2367670 に開示されているα−カルボニル
化合物、米国特許2722512 に開示されているα−炭化水
素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許3046
127 、米国特許2951758 に開示されている多核キノン化
合物、米国特許3549367 に開示されているトリアリール
イミダゾールダイマ／ｐ−アミノフェニルケトンの組合
わせ、米国特許3870524 に開示されているベンゾチアゾ
ール系化合物、米国特許4239850 に開示されているベン
ゾチアゾール系化合物／トリハロメチル−ｓ−トリアジ
ン系化合物および米国特許3751259 に開示されているア
クリジンおよびフェナジン化合物、米国特許4212970 に
開示されているオキサジアゾール化合物、米国特許3954
475 、米国特許4189323 などに開示されている発色団基
を有するトリハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物、特
開昭５９−１９７４０１号公報、特開昭６０−７６５０
３号公報に開示されているベンゾフェノン基含有ペルオ
キシエステル化合物などが具体例として挙げられる。Further, a known photosensitizer can be added to the hydrophilic swelling layer of the original plate for the purpose of sensitizing the photocrosslinking reaction of the photoacid generator and the ethylenically unsaturated group. As the known photosensitizer, a known photosensitizer can be freely selected, and various substituted benzophenone-based compounds, substituted thioxanthone-based compounds, and substituted acridone-based compounds are preferably used. Also, vicinal polyketaldonyl compounds described in US Pat. No. 236766, US Pat.
1, α-carbonyl compounds disclosed in U.S. Pat. No. 2,367,670, α-hydrocarbon substituted aromatic acyloin compounds disclosed in U.S. Pat.
127, polynuclear quinone compounds disclosed in U.S. Pat. No. 2951758, triarylimidazole dimer / p-aminophenyl ketone combinations disclosed in U.S. Pat. No. 3,549,367, benzothiazole compounds disclosed in U.S. Pat. Benzothiazole compounds / trihalomethyl-s-triazine compounds disclosed in U.S. Pat. No. 4,239,850 and acridine and phenazine compounds disclosed in U.S. Pat. No. 3,751,259, oxadiazole compounds disclosed in U.S. Pat.
475, U.S. Pat. No. 4,189,323, etc., and trihalomethyl-s-triazine compounds having a chromophore group, JP-A-59-197401, JP-A-60-7650.
Specific examples thereof include benzophenone group-containing peroxyester compounds disclosed in JP-A-3.
【０１８６】本発明に用いられる感光性平版印刷版原版
の基板としては、通常の平版印刷機に取り付けられるた
わみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要
がある以外には一切制限を受けない。The substrate of the photosensitive lithographic printing plate precursor used in the invention is not limited except that it must be flexible enough to be attached to an ordinary lithographic printing machine and capable of withstanding the load applied during printing. Absent.
【０１８７】代表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、
などの金属板、ポリエステルフィルムやポリプロピレン
フィルムなどのプラスチックフィルムあるいはコート
紙、ゴムシートなどが挙げられる。また、該基板は上記
の素材が複合されたものであってもよい。Typical examples include aluminum, copper, iron,
Examples thereof include a metal plate, a plastic film such as a polyester film and a polypropylene film, coated paper, and a rubber sheet. Further, the substrate may be a composite of the above materials.
【０１８８】また、該基板表面は検版性向上や接着性向
上の目的から、電気化学的処理や酸塩基処理、コロナ放
電処理など各種に表面処理を施すことも可能である。Further, the surface of the substrate may be subjected to various surface treatments such as electrochemical treatment, acid-base treatment and corona discharge treatment for the purpose of improving plate inspection property and adhesiveness.
【０１８９】またこれらの基板上には接着性向上やハレ
ーション防止の目的からコーティングなどを施してプラ
イマー層を形成し、基板とすることも可能である。It is also possible to form a primer layer on these substrates by coating or the like for the purpose of improving the adhesiveness and preventing halation, and use them as substrates.
【０１９０】次に本発明の平版印刷版を用いた印刷方法
について説明する。Next, a printing method using the planographic printing plate of the invention will be described.
【０１９１】本発明の平版印刷には公知の平版印刷機が
用いられる。すなわち、オフセットおよび直刷り方式の
枚葉および輪転印刷機などが用いられる。A known lithographic printing machine is used for the lithographic printing of the present invention. That is, sheet-fed and rotary printing machines of the offset and direct printing type are used.
【０１９２】本発明の平版印刷版を画像形成したのち、
これらの平版印刷機の版胴に装着し、該版面には接触す
るインキ着けローラーからインキが供給される。After image formation of the lithographic printing plate of the present invention,
Ink is attached to the plate cylinder of these planographic printing machines, and ink is supplied to the plate surface from an inking roller in contact therewith.
【０１９３】該版面上の親水性膨潤層を有する非画線部
分は湿し水供給装置から供給される湿し水によって膨潤
し、インキを反撥する。一方、画線部分はインキを受容
し、オフセットブランケット胴表面または被印刷体表面
にインキを供給して印刷画像を形成する。The non-image area having the hydrophilic swelling layer on the plate surface swells with the dampening water supplied from the dampening water supply device to repel the ink. On the other hand, the image area receives the ink and supplies the ink to the surface of the offset blanket cylinder or the surface of the printing medium to form a printed image.
【０１９４】本発明の平版印刷版を印刷する際に使用さ
れる湿し水は、水ありＰＳ版で使用されるエッチ液を用
いることはもちろん可能であるが、添加物を一切含有し
ない純水を使用することができる。The fountain solution used when printing the lithographic printing plate of the present invention may be the etchant used in the PS plate with water, but it is pure water containing no additives. Can be used.
【０１９５】本発明の感光性平版印刷版を用いて印刷す
る際には添加物を一切有さない純水を使用することが好
ましい。When printing using the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, it is preferable to use pure water containing no additives.
【０１９６】以下に、実施例により本発明をさらに詳し
く説明する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
【０１９７】[0197]
［親水性ポリマの合成例］酢酸ビニル６０ｇとアクリル
酸４０ｇに重合開始剤としてベンゾイルパーオキシド
０．５ｇを加えたものを、これに分散安定剤として部分
ケン化ポリビニルアルコール３ｇとＮａＣｌ１０ｇを含
む水３００ｍｌ中に分散させた。[Synthesis Example of Hydrophilic Polymer] 60 g of vinyl acetate and 40 g of acrylic acid to which 0.5 g of benzoyl peroxide was added as a polymerization initiator, and 300 ml of water containing 3 g of partially saponified polyvinyl alcohol and 10 g of NaCl as a dispersion stabilizer. Dispersed in.
【０１９８】該分散液を６５℃×６時間撹拌し、懸濁重
合を行なった。得られた共重合体のアクリル酸メチル成
分はＮＭＲスペクトルから同定した結果４８モル％であ
った。また３０℃におけるベンゼン溶液中での極限粘度
は２．１０であった。The dispersion was stirred at 65 ° C. for 6 hours to carry out suspension polymerization. The methyl acrylate component of the obtained copolymer was identified from the NMR spectrum to be 48 mol%. The intrinsic viscosity in a benzene solution at 30 ° C. was 2.10.
【０１９９】次に、該共重合体８．６ｇを２００ｇのメ
タノールと１０ｇの水および５ｇのＮａＯＨ４０ｍｌか
らなるケン化反応液中に添加し撹拌懸濁させ、２５℃×
１時間ケン化反応を行なった後、温度を６５℃に昇温
し、さらに５時間ケン化反応を行なった。得られたケン
化反応物はメタノールで十分に洗浄し、凍結乾燥した。
ケン化度は９８．３モル％であり、赤外吸収スペクトル
の測定の結果、１５７０ｃｍ-1に−ＣＯＯ- 基に帰属さ
れる強い吸収が確認された。Next, 8.6 g of the copolymer was added to a saponification reaction solution consisting of 200 g of methanol, 10 g of water and 40 g of 5 g of NaOH, and the mixture was stirred and suspended at 25 ° C.
After performing the saponification reaction for 1 hour, the temperature was raised to 65 ° C., and the saponification reaction was further performed for 5 hours. The saponification reaction product obtained was thoroughly washed with methanol and freeze-dried.
The degree of saponification was 98.3 mol%, and as a result of measuring the infrared absorption spectrum, strong absorption attributed to the —COO − group was confirmed at 1570 cm −1 .
【０２００】［エチレン性不飽和基を有する親水性ポリ
マの合成例］上記で得られた共重合体ケン化反応物を高
速撹拌下、精製水に添加溶解させ、５％水溶液（５ｇを
９５ｇに溶解）とした後、空気気流下でピリジンを触媒
量添加し、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）１ｇを
７０℃×５時間反応させた。 ［エチレン性不飽和基を有する水性ラテックスの合成
例］カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合ラテッ
クス「５２１５Ａ：大日本インキ化学工業（株）製」１
００ｇ（固形分濃度５０％）を空気気流下でピリジンを
触媒量添加し、グリシジルメタクリレート５ｇを７０℃
×５時間反応させた。[Synthesis Example of Hydrophilic Polymer Having Ethylenically Unsaturated Group] The saponification product of the copolymer obtained above was added and dissolved in purified water under high speed stirring to dissolve a 5% aqueous solution (5 g to 95 g). After dissolution), a catalytic amount of pyridine was added under an air stream, and 1 g of glycidyl methacrylate (GMA) was reacted at 70 ° C. for 5 hours. [Synthesis Example of Aqueous Latex Having Ethylenically Unsaturated Group] Carboxy-modified styrene-butadiene copolymer latex "5215A: Dainippon Ink and Chemicals, Inc." 1
A catalytic amount of pyridine was added to 00 g (solid content concentration 50%) under an air stream, and 5 g of glycidyl methacrylate was added at 70 ° C.
It was made to react for x 5 hours.
【０２０１】実施例 １ 厚さ０．２mmのアルミ板（住友軽金属（株）製）に、下
記組成物を塗布したのち、１５０℃×２分間熱処理して
３ｇ／ｍ2 の厚みを有する親水性膨潤層を塗設した。Example 1 A 0.2 mm thick aluminum plate (produced by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) was coated with the following composition and then heat-treated at 150 ° C. for 2 minutes to give a hydrophilic property having a thickness of 3 g / m 2 . A swelling layer was applied.
【０２０２】 ＜親水性膨潤層組成（重量％）＞ （１）親水性ポリマ ２重量％ （２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル １重量％ （３）水性ラテックス「ＪＳＲ０６９６」 ６．８重量％ ［カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス：大日本インキ 化学工業（株）製］ （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン ０．２重量％ （５）精製水 ９０重量％ 上記の様にして塗設した親水性膨潤層上に、下記組成の
光酸発生剤を含む感光性組成物を塗布し、１００℃×２
分間熱処理して感光性成分２ｇ／ｍ2 を親水性膨潤層中
に含浸させた。<Hydrophilic swelling layer composition (% by weight)> (1) Hydrophilic polymer 2% by weight (2) Tetraethylene glycol diglycidyl ether 1% by weight (3) Aqueous latex "JSR0696" 6.8% by weight [carboxy Modified styrene-butadiene copolymer latex: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.] (4) 2-aminopropyltrimethoxysilane 0.2% by weight (5) Purified water 90% by weight Hydrophilic coating as described above A photosensitive composition containing a photo-acid generator having the following composition is applied onto the functional swelling layer, and the temperature is 100 ° C. × 2.
The hydrophilic component was impregnated with 2 g / m 2 of the photosensitive component by heat treatment for 1 minute.
【０２０３】その後カバーフィルムとして、厚さ７ミク
ロンのポリエチレンテレフタレートフィルムをカレンダ
ーローラーを用いてラミネートし、ネガ型の平版印刷用
原版を得た。Thereafter, as a cover film, a 7-micron-thick polyethylene terephthalate film was laminated using a calendar roller to obtain a negative type lithographic printing plate precursor.
【０２０４】得られた平版印刷版は、メタルハライド灯
「アイドルフィン２０００ 2kW ：アイグラフィックス
（株）製」を用い、「ＵＧＲＡオフセット検査カイル１
９８２」（販売元：コーハンデンシトグラフ販売
（株））を貼込んだネガフィルムを通して６０秒間密着
露光（11mW/cm 2 ）した。次いで、カバーフィルムを剥
離し、版全面を水道水でリンスし、未露光部の増感剤を
洗浄して刷版とした。The lithographic printing plate thus obtained was subjected to "UGRA Offset Inspection Kyle 1" using a metal halide lamp "Idol Fin 2000 2kW: manufactured by Eye Graphics Co., Ltd."
Contact exposure (11 mW / cm 2 ) for 60 seconds through a negative film on which "982" (sold by: Cohanden Cytograph Sales Co., Ltd.) is attached. Then, the cover film was peeled off, the entire surface of the plate was rinsed with tap water, and the sensitizer in the unexposed area was washed to obtain a printing plate.
【０２０５】得られた刷版のインキ反撥部分に対応した
親水性膨潤層を水膨潤させたのち、ＯｓＯ4 染色し、Ｔ
ＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察した。The hydrophilic swelling layer corresponding to the ink repellent portion of the obtained printing plate was swollen with water and then dyed with OsO 4 to give T.
It was observed by EM (transmission electron microscope).
【０２０６】観察の結果、親水性膨潤層が、図２に示さ
れるような親水性ポリマを主成分とする相および疎水性
ポリマを主成分とする相から構成された相分離構造を有
することが確認された。また、画線部においては、露光
により親水性ポリマに含まれるエチレン性不飽和基が光
架橋し、水膨潤を阻害していることが確認された。As a result of the observation, the hydrophilic swelling layer has a phase-separated structure composed of a phase containing a hydrophilic polymer as a main component and a phase containing a hydrophobic polymer as a main component as shown in FIG. confirmed. In the image area, it was confirmed that the ethylenically unsaturated groups contained in the hydrophilic polymer were photocrosslinked by exposure to light, thereby inhibiting water swelling.
【０２０７】 ＜感光性組成物（重量％）＞ （１）ミヒラー氏ケトン ５重量％ （２）Ｐｈ2 Ｉ+ ・ＳｂＦ6 - ５重量％ （３）エチルセロソルブ ９０重量％ 得られた刷版は、枚葉オフセット印刷機「スプリント２
５：小森コーポレーション（株）製」に装着したのち、
湿し水として市販の精製水を供給しながら上質紙（62.5
kg／菊）を用いて印刷した。インキ反撥性およびインキ
着肉性は印刷物を目視観察することにより評価した。約
１０００枚の印刷を行なった時点で、刷版にインキ汚れ
は発生せず、十分にコントラストを有する明瞭な印刷物
が得られた。[0207] <Photosensitive composition (wt%)> (1) Michler said ketone 5 wt% (2) Ph 2 I + · SbF 6 - 5 wt% (3) Ethyl cellosolve 90 weight percent resulting press plate Sheet-fed offset printing machine "Sprint 2
5: Komori Corporation Co., Ltd. "
While supplying commercially available purified water as dampening water, use high quality paper (62.5
kg / chrysanthemum). The ink repellency and ink adhesion were evaluated by visually observing the printed matter. After printing about 1000 sheets, ink stains did not occur on the printing plate, and clear printed matter having sufficient contrast was obtained.
【０２０８】実施例 ２ 実施例１のと同様の親水性膨潤層を塗設したのち、下記
組成の光酸発生剤を含む感光性組成物を塗布した以外は
同様にして、ネガ型の平版印刷用原版を得た。 ＜感光性組成物（重量％）＞ （１）ミヒラー氏ケトン ５重量％ （２）Ｐｈ2 Ｉ+ ・ＳｂＦ6 - ５重量％ （３）１，９−ノナンジアクリレート ３０重量％ （４）エチルセロソルブ ６０重量％ 得られた原版は、図１に示されるような親水性ポリマを
主成分とする相および疎水性ポリマを主成分とする相か
ら構成された相分離構造を有することが確認された。実
施例１と同様に製版処理し刷版としたのち、枚葉オフセ
ット印刷機「スプリント２５：小森コーポレーション
（株）製」に装着し、湿し水として市販の精製水を供給
しながら上質紙（62.5kg／菊）を用いて印刷した。Example 2 Negative lithographic printing was performed in the same manner as in Example 1 except that the same hydrophilic swelling layer as in Example 1 was applied and then a photosensitive composition containing a photoacid generator having the following composition was applied. I got the original plate. <Photosensitive composition (wt%)> (1) Michler said ketone 5 wt% (2) Ph 2 I + · SbF 6 - 5 wt% (3) 1,9-acrylate 30 wt% (4) Ethyl Cellosolve 60% by weight It was confirmed that the obtained original plate had a phase-separated structure composed of a phase containing a hydrophilic polymer as a main component and a phase containing a hydrophobic polymer as a main component as shown in FIG. . A plate-making process was carried out in the same manner as in Example 1 to form a printing plate, which was then mounted on a sheet-fed offset printing machine “Sprint 25: made by Komori Corporation”, while supplying commercially available purified water as fountain solution 62.5 kg / chrysanthemum) was used for printing.
【０２０９】インキ反撥性およびインキ着肉性は印刷物
を目視観察することにより評価した。約１０００枚の印
刷を行なった時点で、刷版にインキ汚れは発生せず、十
分にコントラストを有する明瞭な印刷物が得られた。The ink repellency and the ink receptivity were evaluated by visually observing the printed matter. After printing about 1000 sheets, ink stains did not occur on the printing plate, and clear printed matter having sufficient contrast was obtained.
【０２１０】実施例 ３ 親水性膨潤層の親水性ポリマおよび水性ラテックスを下
記組成物に替えた以外は、実施例１と同様にして、ネガ
型の平版印刷用原版を得た。Example 3 A negative lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrophilic polymer and the aqueous latex of the hydrophilic swelling layer were changed to the following composition.
【０２１１】 （１）エチレン性不飽和基を有する親水性ポリマ ２重量％ （２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル ０．５重量％ （３）エチレン性不飽和基を有する水性ラテックス ７．３重量％ （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン ０．２重量％ （５）精製水 ９０重量％ 得られた原版は、図１に示されるような親水性ポリマを
主成分とする相および疎水性ポリマを主成分とする相か
ら構成された相分離構造を有することが確認された。実
施例１と同様に製版処理し刷版としたのち、枚葉オフセ
ット印刷機「スプリント２５：小森コーポレーション
（株）製」に装着し、湿し水として市販の精製水を供給
しながら上質紙（62.5kg／菊）を用いて印刷した。(1) Hydrophilic polymer having ethylenically unsaturated group 2% by weight (2) Tetraethylene glycol diglycidyl ether 0.5% by weight (3) Aqueous latex having ethylenically unsaturated group 7.3% by weight (4) 2-Aminopropyltrimethoxysilane 0.2% by weight (5) Purified water 90% by weight The obtained original plate contains a phase and a hydrophobic polymer having a hydrophilic polymer as a main component as shown in FIG. It was confirmed to have a phase-separated structure composed of the phase as the main component. A plate-making process was carried out in the same manner as in Example 1 to form a printing plate, which was then mounted on a sheet-fed offset printing machine “Sprint 25: made by Komori Corporation”, while supplying commercially available purified water as fountain solution 62.5 kg / chrysanthemum) was used for printing.
【０２１２】インキ反撥性およびインキ着肉性は印刷物
を目視観察することにより評価した。約１０００枚の印
刷を行なった時点で、刷版にインキ汚れは発生せず、十
分にコントラストを有する明瞭な印刷物が得られた。The ink repellency and the ink receptivity were evaluated by visually observing the printed matter. After printing about 1000 sheets, ink stains did not occur on the printing plate, and clear printed matter having sufficient contrast was obtained.
【０２１３】実施例 ４ 実施例３の感光性成分を下記組成物に替えた以外は、同
様にして、ネガ型の平版印刷用原版を得た。Example 4 A negative type lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner except that the photosensitive component of Example 3 was replaced by the following composition.
【０２１４】 （１）１，９−ノナンジメタクリレート ２０重量％ （２）ミヒラー氏ケトン ５重量％ （３）Ｐｈ2 Ｉ+ ・ＳｂＦ6 - ５重量％ （４）エチルセロソルブ ７０重量％ 得られた原版は、図１に示されるような親水性ポリマを
主成分とする相および疎水性ポリマを主成分とする相か
ら構成された相分離構造を有することが確認された。実
施例１と同様に製版処理し刷版としたのち、枚葉オフセ
ット印刷機「スプリント２５：小森コーポレーション
（株）製」に装着し、湿し水として市販の精製水を供給
しながら上質紙（62.5kg／菊）を用いて印刷した。[0214] (1) 1,9-methacrylate 20 wt% (2) Michler said ketone 5 wt% (3) Ph 2 I + · SbF 6 - 5 wt% (4) was obtained ethyl cellosolve 70 wt% It was confirmed that the original plate had a phase-separated structure composed of a phase containing a hydrophilic polymer as a main component and a phase containing a hydrophobic polymer as a main component as shown in FIG. A plate-making process was carried out in the same manner as in Example 1 to form a printing plate, which was then mounted on a sheet-fed offset printing machine “Sprint 25: made by Komori Corporation”, while supplying commercially available purified water as fountain solution 62.5 kg / chrysanthemum) was used for printing.
【０２１５】インキ反撥性およびインキ着肉性は印刷物
を目視観察することにより評価した。約１０００枚の印
刷を行なった時点で、刷版にインキ汚れは発生せず、十
分にコントラストを有する明瞭な印刷物が得られた。The ink repellency and the ink receptivity were evaluated by visually observing the printed matter. After printing about 1000 sheets, ink stains did not occur on the printing plate, and clear printed matter having sufficient contrast was obtained.
【０２１６】実施例 ５ 実施例１に用いた平版印刷版と通常のＰＳ版（ＦＰＱ；
富士写真フィルム（株）製）を露光、現像処理して刷版
としたものを、同じ版胴に装着し、湿し水として市販の
精製水を供給しながら実施例１と同様にして印刷を行っ
た。Example 5 The planographic printing plate used in Example 1 and an ordinary PS plate (FPQ;
A plate obtained by exposing and developing Fuji Photo Film Co., Ltd. to a printing plate was mounted on the same plate cylinder, and printing was performed in the same manner as in Example 1 while supplying commercially available purified water as dampening water. went.
【０２１７】湿し水を供給量を標準条件から増量した場
合、ＰＳ版を用いた部分では、画線部のインキ濃度が極
端に低下し、いわゆる「水負け」によるインキの着肉不
良が発生した。一方、実施例１に用いた平版印刷版を用
いた部分では、着肉不良の程度が軽微であった。When the amount of dampening water supplied was increased from the standard conditions, the ink density in the image area was extremely reduced in the area where the PS plate was used, and so-called "water loss" caused defective ink replenishment. did. On the other hand, in the portion where the planographic printing plate used in Example 1 was used, the degree of inking failure was slight.
【０２１８】また、湿し水の供給量を標準条件から減量
した場合、ＰＳ版を用いた部分では、全面にインキ汚れ
が発生した。一方、実施例１に用いた平版印刷版を用い
た部分では、良好な印刷物が得られた。When the amount of dampening water supplied was reduced from the standard condition, ink stains were generated on the entire surface of the portion using the PS plate. On the other hand, good printed matter was obtained in the area where the planographic printing plate used in Example 1 was used.
【０２１９】[0219]
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版原版は、親水
性膨潤層の水膨潤性およびゴム弾性等が、相内に含まれ
る光酸発生剤が光反応することによって変化し、露光部
と未露光部の間でインキ反撥性差を生じ、画像形成を行
なう。INDUSTRIAL APPLICABILITY In the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention, the water swelling property and the rubber elasticity of the hydrophilic swelling layer are changed by the photoreaction of the photoacid generator contained in the phase, and the exposed portion is exposed. Ink repulsion difference occurs between the unexposed area and the unexposed area, and an image is formed.
【０２２０】このため、従来のＰＳ版で必要な物理的現
像工程が一切不要で製版工程が極めて簡便となる。また
インキ反撥性を発現するために必要な基板への特殊な表
面処理も不要であるため、安価な平版印刷版を製造する
ことが可能となる。Therefore, the physical development step required in the conventional PS plate is not necessary at all, and the plate making step becomes extremely simple. In addition, it is possible to manufacture an inexpensive lithographic printing plate because no special surface treatment is required on the substrate necessary for exhibiting ink repellency.
【図１】 本発明にかかる感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の相分離構造の一例を表す。FIG. 1 shows an example of a phase separation structure of a hydrophilic swelling layer of a photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention.
【図２】 本発明にかかる感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の相分離構造の一例を表す。FIG. 2 shows an example of a phase separation structure of a hydrophilic swelling layer of a photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention.
【図３】 本発明にかかる感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の相分離構造の一例を表す。FIG. 3 shows an example of a phase separation structure of a hydrophilic swelling layer of a photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention.
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成７年１２月１３日[Submission date] December 13, 1995
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Correction target item name] Brief description of drawings
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】 本発明にかかる感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の相分離構造の一例を模式的に表したものであ
る。FIG. 1 schematically shows an example of a phase separation structure of a hydrophilic swelling layer of a photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention.
【図２】 本発明にかかる感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の相分離構造の一例を模式的に表したものであ
る。FIG. 2 is a schematic view showing an example of the phase separation structure of the hydrophilic swelling layer of the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention.
【図３】 本発明にかかる感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の相分離構造の一例を模式的に表したものであ
る。FIG. 3 schematically shows an example of a phase separation structure of a hydrophilic swelling layer of the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention.
【手続補正２】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】全図[Correction target item name] All figures
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図１】 FIG.
【図２】 [Fig. 2]
【図３】 [Figure 3]
Claims (9)
層を備えた感光性平版印刷版原版であって、該親水性膨
潤層が光酸発生剤を含有することを特徴とする感光性平
版印刷版原版。1. A photosensitive lithographic printing plate precursor having at least a photosensitive hydrophilic swelling layer on a substrate, wherein the hydrophilic swelling layer contains a photo-acid generator. Original printing plate.
とする相および疎水性ポリマを主成分とする相の少なく
とも２相から構成された相分離構造を有することを特徴
とする請求項１記載の光性平版印刷版原版。2. The hydrophilic swelling layer has a phase-separated structure composed of at least two phases, a phase containing a hydrophilic polymer as a main component and a phase containing a hydrophobic polymer as a main component. 1. The photolithographic printing plate precursor as described in 1.
共役ジエン系ラテックスから主として構成されることを
特徴とする請求項２記載の感光性平版印刷版原版。3. The photosensitive lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the hydrophobic polymer is mainly composed of a conjugated diene latex having a carboxyl group.
から主として構成されることを特徴とする請求項２記載
の感光性平版印刷版原版。4. The photosensitive lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the hydrophilic polymer is mainly composed of a carboxylate type copolymer.
ミド系共重合体から主として構成されることを特徴とす
る請求項２記載の感光性平版印刷版原版。5. The photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 2, wherein the hydrophilic polymer is mainly composed of an N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer.
することを特徴とする請求項２記載の感光性平版印刷版
原版。6. The photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 2, wherein the hydrophobic polymer has an ethylenically unsaturated group.
することを特徴とする請求項２記載の感光性平版印刷版
原版。7. The photosensitive lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the hydrophilic polymer has an ethylenically unsaturated group.
和化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の感
光性平版印刷版原版。8. The photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the hydrophilic swelling layer contains a lipophilic ethylenically unsaturated compound.
平版印刷版原版の版表面に活性光線を照射し、親水性膨
潤層中の画線部に対応した部分の光酸発生剤から酸を発
生させることを特徴とする平版印刷版の製造方法。9. A photoacid generator of a portion corresponding to an image area in the hydrophilic swelling layer by irradiating the plate surface of the photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 1 with an actinic ray. A method for producing a lithographic printing plate, which comprises generating an acid from the lithographic printing plate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20444295A JPH0950120A (en) | 1995-08-10 | 1995-08-10 | Photosensitive planographic original printing plate and production of planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20444295A JPH0950120A (en) | 1995-08-10 | 1995-08-10 | Photosensitive planographic original printing plate and production of planographic printing plate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0950120A true JPH0950120A (en) | 1997-02-18 |
Family
ID=16490601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20444295A Pending JPH0950120A (en) | 1995-08-10 | 1995-08-10 | Photosensitive planographic original printing plate and production of planographic printing plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0950120A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021241688A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 富士フイルム株式会社 | Original plate for on-machine development type lithographic printing plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method |
-
1995
- 1995-08-10 JP JP20444295A patent/JPH0950120A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021241688A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 富士フイルム株式会社 | Original plate for on-machine development type lithographic printing plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method |
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