JPH09312372A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPH09312372A
JPH09312372A JP8150267A JP15026796A JPH09312372A JP H09312372 A JPH09312372 A JP H09312372A JP 8150267 A JP8150267 A JP 8150267A JP 15026796 A JP15026796 A JP 15026796A JP H09312372 A JPH09312372 A JP H09312372A
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JP
Japan
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heat sink
lead
lead frame
pellet
frame
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JP8150267A
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Yukihiro Sato
幸弘 佐藤
Kazuo Shimizu
一男 清水
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 リードフレームの変形、製造コストの増加を
防止する。 【解決手段】 インナリード9群がアウタリード8群と
共にリード群保持枠2に保持された単位リードフレーム
1aが多数連結された多連リードフレーム1が準備され
る。ヒートシンク22がヒートシンク保持枠17に保持
された単位ヒートシンク組立体16aが複数連結された
多連ヒートシンク組立体16が準備される。各単位ヒー
トシンク組立体16aに各リードフレーム1aが、リー
ド群保持枠2に形成されたコ字形状孔13の舌片13b
をヒートシンク保持枠17に形成された段差部24の透
孔25にかしめ加工されて結合される。 【効果】 リードフレームが多連ヒートシンク組立体に
結合されるため、結合工程以後の組立作業でリードフレ
ームがヒートシンクの重量によって変形されることはな
い。高価な接着テープを使用せずに済むため、コストを
低減できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術、特に、表面実装形樹脂封止パッケージを備えてい
る半導体集積回路装置の放熱性能の向上技術に関するも
ので、例えば、多ピン、低熱抵抗で、小型かつ低価格化
が要求される半導体集積回路装置(以下、ICとい
う。)に利用して有効なものに関する。
【0002】
【従来の技術】ICの多機能化、高集積化、高速化が進
む最近、ピン数の多い表面実装形樹脂封止パッケージを
備えているICにおいては、熱放散性(放熱性)の良好
な低熱抵抗形パッケージの開発が要望されている。そこ
で、低熱抵抗形パッケージを備えているIC(以下、低
熱抵抗形パッケージICという。)として、ヒートシン
クに直接的にボンディングされた半導体ペレット(以
下、ペレットという。)の周囲に複数本のインナリード
が位置決め配設されているとともに、ペレットの各電極
パッドと各インナリードとの間にワイヤがそれぞれ橋絡
されており、ヒートシンクの少なくとも一部がペレッ
ト、インナリード群およびワイヤと共に樹脂封止体によ
って樹脂封止されているものがある。
【0003】このように構成された低熱抵抗形パッケー
ジICが製造されるに際しては、樹脂封止体が成形され
るまではペレットとインナリード群との位置関係を一定
に維持しておく必要があるため、インナリード群が形成
されたリードフレームとヒートシンクとを機械的に固定
する必要がある。リードフレームとヒートシンクとを機
械的に固定する従来技術としては、次のような固定方法
がある。第1の固定方法は、リードフレームに開設され
た透孔にヒートシンクにエンボス加工によって突設され
たかしめ加工用凸部が嵌入されてかしめ加工(所謂鳩目
加工)によって結合される方法である。第2の固定方法
は、リードフレームとヒートシンクとを接着テープによ
って接着する方法である。
【0004】なお、低熱抵抗形パッケージICを述べて
ある例としては、株式会社日経BP社1993年5月3
1日発行「VLSIパッケージング技術(下)」P20
0〜P204や、日本国特許庁公開公報特開平3−28
6558号がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
リードフレームとヒートシンクとの固定方法には次のよ
うな問題点がある。多連リードフレームが使用される場
合において、ヒートシンクの重量によってバランスが崩
れるため、リードフレームの変形不良が発生する。ペレ
ットボンディング工程やワイヤボンディング工程におい
て、ヒートシンクが加熱されるため、接着テープとして
高価な耐熱性テープが必要になり、製造コストが増加す
る。板厚の厚いヒートシンク側に形成したかしめ用凸部
にかしめ加工が実施されることにより、かしめ加工装置
が大型になるため、製造コストが増加する。
【0006】本発明の目的は、リードフレームの変形お
よび製造コストの増加を防止することができる低熱抵抗
形パッケージを備えた半導体装置の製造方法を提供する
ことにある。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0009】すなわち、低熱抵抗形パッケージを備えて
いる半導体装置の製造方法は、インナリード群がアウタ
リード群と共にリード群保持枠に保持されたリードフレ
ームが準備されるリードフレーム準備工程と、ヒートシ
ンクがヒートシンク保持枠に保持された単位ヒートシン
ク組立体が複数配列された多連ヒートシンク組立体が準
備される多連ヒートシンク組立体準備工程と、前記多連
ヒートシンク組立体の各単位ヒートシンク組立体に前記
リードフレームが前記ヒートシンク保持枠とリード群保
持枠との間で機械的に結合されて結合体が製造される結
合工程とを備えている。
【0010】前記した半導体装置の製造方法によれば、
リードフレームが機械的に大きな強度を有する多連ヒー
トシンク組立体に組み付けられるため、結合工程以後の
組立作業において、リードフレームがヒートシンクの重
量によって変形されることはない。高価な接着テープを
使用せずに済むため、コストを低減することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態である
低熱抵抗形パッケージICの製造方法の概略を示す分解
斜視図である。図2以降はその各工程を説明するための
各説明図である。
【0012】本実施形態において、低熱抵抗形パッケー
ジICはヒートシンク付きクワッド・フラット・パッケ
ージを備えているIC(以下、HQFP・ICとい
う。)として構成されている。すなわち、図10に示さ
れているように、HQFP・IC36は、正方形の小板
形状に形成されているシリコン半導体ペレット(以下、
ペレットという。)31と、ペレット31がボンディン
グされているヒートシンク22と、ペレット31の四辺
において放射状に配線されている複数本のインナリード
9と、ペレット31の各電極パッド31aと各インナリ
ード9との間にその両端部をそれぞれボンディングされ
て橋絡されているワイヤ32と、各インナリード9にそ
れぞれ一体的に連結されているアウタリード8と、ペレ
ット31、ヒートシンク22の一部、インナリード9群
およびワイヤ32群を樹脂封止している樹脂封止体34
とを備えている。樹脂封止体34は絶縁性を有する樹脂
が使用されてペレット31によりも充分に大きい正方形
の平盤形状に樹脂成形されている。ヒートシンク22は
熱伝導性の良好な材料が使用されて、樹脂封止体34よ
りも小さくペレット31よりも大きい正方形の平板形状
に形成されている。アウタリード8はガルウイング形状
に屈曲されている。そして、このHQFP・IC36は
次に説明される製造方法によって製造されている。
【0013】以下、本発明の一実施形態であるHQFP
・ICの製造方法を説明する。この説明により、HQF
P・IC36の構成の詳細が共に明らかにされる。
【0014】本実施形態に係るHQFP・ICの製造方
法は、図2に示された多連リードフレーム1が準備され
るリードフレーム準備工程を備えている。多連リードフ
レーム1は銅系材料(銅または銅合金)からなる薄板が
用いられて、打ち抜きプレス加工またはエッチング加工
等の適当な手段により一体成形される。多連リードフレ
ーム1の表面には後述するワイヤボンディングを適正に
実施するためのめっき被膜(図示せず)が、銀(Ag)
等を用いためっき加工によって被着されている。多連リ
ードフレーム1は複数の単位リードフレーム(以下、リ
ードフレームという。)1aが一方向に1列に並設され
て構成されている。なお、多連リードフレーム1は同じ
パターンが繰り返されるため、説明および図示は原則と
して一単位について行われている。
【0015】リードフレーム1aは複数本のインナリー
ドおよびアウタリードを保持するためのリード群保持枠
2を備えており、リード群保持枠2はトップレール3、
ボトムレール4、フロントサイドレール5およびリアサ
イドレール6を正方形の枠形状に組まれて形成されてい
る。リードフレーム1aの正方形の枠内には、ペレット
に対応する大きさの正方形のペレット配置用空所7が相
似形に配されて仮想的に形成されている。トップレール
3、ボトムレール4、フロントサイドレール5およびリ
アサイドレール6の内周辺にはアウタリード8が複数本
ずつ、各辺において等間隔に配されてそれぞれ直角に突
設されている。各アウタリード8にはインナリード9が
それぞれ一体的に連結されており、各インナリード9は
空所7に対して放射状にそれぞれ配置されているととも
に、その内側先端が空所7の各辺において略一直線状に
それぞれ揃えられている。隣合うアウタリード8、8間
にはダム・バー10が直角に架設されており、各ダム・
バー10は一列のアウタリード8群において一直線状に
整列された状態になっている。
【0016】フロントサイドレール5にはフロント側ス
リット11がトップレール3およびボトムレール4と直
角に延在されて開設されており、リアサイドレール6に
はリア側スリット12がフロント側スリット11と平行
に開設されている。隣合うリードフレーム1a、1a同
士で一体になったフロントサイドレール5およびリアサ
イドレール6おけるフロント側スリット11とリア側ス
リット12との間にはコ字形状孔13が一対、トップレ
ール3の近傍とボトムレール4の近傍にそれぞれ開設さ
れている。コ字形状孔13において切り抜き孔13aに
よって舌片13bが形成されており、舌片13bは起こ
されて後記する結合爪を形成するようになっている。一
対のコ字形状孔13は同一形状に形成されて、両方の舌
片13b、13bが自由端側が内側になる状態で対称形
にそれぞれ配置されている。
【0017】隣合うリードフレーム1a、1a同士で一
体になったフロントサイドレール5およびリアサイドレ
ール6におけるフロント側スリット11とリア側スリッ
ト12との間であって、両コ字形状孔13、13の中央
には位置決め孔14が開設されている。トップレール3
とフロントサイドレール5とが直交したコーナ部には、
後記するトランスファ成形装置におけるサブランナを配
置するための切欠部15が切設されている。
【0018】本実施形態に係るHQFP・ICの製造方
法は、図3に示された多連ヒートシンク組立体16が準
備される多連ヒートシンク組立体準備工程を備えてい
る。多連ヒートシンク組立体16は銅系材料(銅または
銅合金)からなる板材であって、厚さが多連リードフレ
ーム1よりも4倍程度厚い板材が用いられて、打ち抜き
プレス加工により一体成形されている。多連ヒートシン
ク組立体16は複数の単位ヒートシンク組立体(以下、
ヒートシンク組立体という。)16aが、一方向に1列
に並設されて構成されており、各ヒートシンク組立体1
6aは前記した多連リードフレーム1の各リードフレー
ム1aに整合するように配列されている。なお、多連ヒ
ートシンク組立体16は同じパターンが繰り返されるた
め、説明および図示は原則として一単位について行われ
ている。
【0019】ヒートシンク組立体16aはヒートシンク
を保持するためのヒートシンク保持枠17を備えてい
る。ヒートシンク保持枠17はメイントップレール1
8、メインボトムレール19、メインフロントサイドレ
ール20およびメインリアサイドレール21を備えてお
り、4本のレールは正方形の枠形状に組まれている。メ
イントップレール18およびメインボトムレール19に
は送り孔18aおよび19aがそれぞれ適当に開設され
ている。
【0020】正方形の枠内には正方形の板形状に形成さ
れたヒートシンク22が配置されており、ヒートシンク
22の四隅は正方形枠の四隅に配置された4本のヒート
シンク吊りバー23によって吊持されている。ヒートシ
ンク22の正方形は樹脂封止体よりも小さく、ペレット
よりも大きくなるように設定されている。ヒートシンク
22におけるペレットボンディング側主面の表面には、
後述するペレットボンディングを適正に実施するための
めっき被膜(図示せず)が銀(Ag)等を用いためっき
加工によって被着されている。
【0021】ヒートシンク組立体16aのメインフロン
トサイドレール20およびメインリアサイドレール21
には、インナリード9をヒートシンク22から浮かせる
ための段差部24が一対ずつ、メイントップレール18
の近傍とメインボトムレール19の近傍にそれぞれ配置
されて、エンボス加工によってそれぞれ形成されてい
る。4個の段差部24は上面が同一平面に形成されてお
り、各段差部24の高さはインナリード9とヒートシン
ク22との間の絶縁ギャップを確保し得る寸法の最小値
に設定されている。各段差部24には機械的結合用の透
孔25がプレス加工によって一体的に開設されており、
透孔25は前記した舌片13bによって形成されて成る
爪部をかしめ着けられるようになっている。メインフロ
ントサイドレール20およびメインリアサイドレール2
1には各位置決め孔26が一対の段差部24、24の中
央にそれぞれ開設されている。
【0022】メイントップレール18とメインフロント
サイドレール20とが直交するコーナ部には後記するト
ランスファ成形装置におけるサブランナを配置するため
の突出部27が直角方向に内向きに突設されており、突
出部27は前記したリードフレーム1aにおけるサブラ
ンナ配置用の切欠部15に対応するようになっている。
突出部27のメイントップレール18から離れる方向の
長さは、サブランナの長さに対応するように設定されて
おり、長さ方向に直交する横幅はサブランナの幅よりも
大きくなるように設定されている。
【0023】前記構成に係る多連リードフレーム1と多
連ヒートシンク組立体16とは結合工程において、各単
位が図4に示されているように重なり合うように一体化
される。リードフレーム1aとヒートシンク組立体16
aとはペレット配置用空所7とヒートシンク22とが同
心になるように配置されて上下に重ね合わされる。この
際、リードフレーム1a側の各コ字形状孔13および位
置決め孔14と、ヒートシンク組立体16a側の段差部
24および位置決め孔26とがそれぞれ整合される。続
いて、各コ字形状孔13の舌片13bが各段差部24の
透孔25に挿入されて、段差部24の下端開口縁に内側
から係合するようにそれぞれ屈曲される。これにより、
リードフレーム1aとヒートシンク組立体16aとを機
械的に結合する各爪部28が形成される。各爪部28は
段差部24の透孔25における開口縁を挟む込むため、
リードフレーム1aとヒートシンク組立体16aとは重
ね合わされた状態で機械的に結合される。
【0024】この状態において、メインフロントサイド
レール20およびメインリアサイドレール21の互いに
向き合う一対の爪部28、28が互いに対向する側から
各透孔25、25をそれぞれ挟んだ状態になっているた
め、リードフレーム1aとヒートシンク組立体16aと
は互いに長さ方向に相対移動し得る状態になっている。
すなわち、各爪部28は熱膨張係数差等による多連リー
ドフレーム1と多連ヒートシンク組立体16との長さ方
向の変位(伸縮)を吸収し得るように、多連リードフレ
ーム1と多連ヒートシンク組立体16とを機械的に結合
した状態になっている。
【0025】なお、重ね合わせ作業、挿入作業およびか
しめ加工は、複数個のリードフレーム1aおよびヒート
シンク組立体16aについて同時に実施することができ
る。したがって、作業性はきわめて良好である。
【0026】リードフレーム1aとヒートシンク組立体
16aとが上下に重ね合わされて結合された結合体29
において、上側のリードフレーム1aにおけるインナリ
ード9群の内側先端部は、下側のヒートシンク組立体1
6aにおけるヒートシンク22の外周縁部に上から見て
所定の寸法だけ内側に入って重なった状態になっている
とともに、ヒートシンク22の上面に対しては段差部2
4の高さだけ極僅かに浮かされた状態になっている。
【0027】以上のようにして多連リードフレーム1と
多連ヒートシンク組立体16とが結合された結合体29
には、ペレットボンディング工程においてペレットボン
ディング作業が各ヒートシンク22毎に実施され、続い
て、ワイヤボンディング工程において各ペレットおよび
リードフレーム1a毎にワイヤボンディングが実施され
る。この際、結合体29が多連に構成されているため、
これらボンディング作業は結合体29が長手方向にピッ
チ送りされることにより各単位毎に順次実施される。こ
の際、多連ヒートシンク組立体16のメイントップレー
ル18およびメインボトムレール19が送り装置のガイ
ドレール(図示せず)によって支持された状態で案内さ
れるため、多連ヒートシンク組立体16の自重によって
多連リードフレーム1が撓んだり変形したりすることは
ない。
【0028】図5に示されているように、ペレット31
はヒートシンク22よりも小さい正方形の板形状に形成
されている。ペレット31は半導体装置の製造工程にお
ける所謂前工程においてウエハの状態で半導体素子群や
配線回路等からなる集積回路を作り込まれた後に、ダイ
シング工程において所定の形状に分断されて製造され
る。ペレット31はヒートシンク22の上面に相似形に
配されて、ヒートシンク22とペレット31との間に半
田層によって形成されたボンディング層30によって固
着されている。すなわち、ヒートシンク22の上面に半
田箔が置かれて加熱された状態で、半田箔にペレット3
1が擦り付けられて形成された半田ボンディング層30
によってペレット31はヒートシンク22上にボンディ
ングされている。
【0029】なお、ペレットボンディングは結合工程前
にヒートシンク22にボンディングしてもよい。ボンデ
ィング層としては、半田層以外に、金−シリコン共晶層
や銀ペースト接着層等々を使用することができる。但
し、形成されたボンディング層はペレット31からヒー
トシンク22への熱伝達の障壁にならないように形成す
ることが望ましい。ちなみに、半田ボンディング層30
は熱伝達率が高いばかりでなく、柔軟性に富むため、ペ
レット31とヒートシンク22との間に作用する機械的
応力を吸収することができる。
【0030】図5に示されているように、ペレット31
と各インナリード9とを電気的に接続するためのワイヤ
32は、その両端部をペレット31の電極パッド31a
とインナリード9の先端部とにそれぞれボンディングさ
れて両者間に橋絡される。この際、インナリード9の内
側先端部がヒートシンク22の外周辺部に重なった状態
になっていることにより、インナリード9側のワイヤボ
ンディング作業に際して、ワイヤ32の押接に対する反
力をヒートシンク22に求めることができる。したがっ
て、ワイヤボンディング作業の実施に際して、従来の熱
圧着式ワイヤボンディング装置や超音波熱圧着式ワイヤ
ボンディング装置および超音波式ワイヤボンディング装
置を使用することができる。
【0031】以上のペレットボンディング作業およびワ
イヤボンディング作業によって、ペレット31に作り込
まれている集積回路は、電極パッド31a、ボンディン
グワイヤ32、インナリード9を介して電気的に外部に
引き出される。
【0032】結合体29にペレット31およびワイヤ3
2がボンディングされた図5に示されている組立体(以
下、成形ワークという。)33には、樹脂封止体成形工
程において、図6〜図8に示されているトランスファ成
形装置40が使用されて図9に示されている樹脂封止体
34が各単位について同時に成形される。
【0033】図6〜図8に示されているトランスファ成
形装置40は、シリンダ装置等(図示せず)によって互
いに型締めされる一対の上型41と下型42とを備えて
いる。上型41と下型42との合わせ面には上型キャビ
ティー凹部43aと下型キャビティー凹部43bとが複
数組、互いに協働してキャビティー43を形成するよう
にそれぞれ没設されている。但し、図示および説明は多
連リードフレームおよび多連ヒートシンク組立体と同様
に一単位について行われている。キャビティー43は成
形ワーク33におけるリードフレーム1aのダム・バー
10が画成する正方形に対応されている。キャビティー
43の全高は成形ワーク33の全高よりも僅かに大きく
設定されている。上型キャビティー凹部43aの深さ
は、成形ワーク33におけるワイヤ32のリードフレー
ム1aからの上方突出高さよりも僅かに大きくなるよう
に設定されている。下型キャビティー凹部43bの深さ
は、成形ワーク33におけるヒートシンク22の下面か
ら段差部24の上面迄の高さと等しくなるように設定さ
れている。
【0034】下型42の合わせ面にはポット44が開設
されており、ポット44にはシリンダ装置(図示せず)
により進退されるプランジャ45が成形材料としての樹
脂(以下、レジンという。)を送給し得るように挿入さ
れている。上型41の合わせ面にはカル46がポット4
4との対向位置に配されて没設されているとともに、互
いに連通されたメインランナ47およびサブランナ48
がメインランナ47の一端をカル46に接続されて没設
されている。サブランナ48の他端は上型キャビティー
凹部43aにおける後記する所定のコーナ部に形成され
たゲート49に接続されており、ゲート49は後記する
レジン50をキャビティー43内に注入し得るように形
成されている。
【0035】下型42の合わせ面にはヒートシンク吊り
バー収容穴51が4個、下型キャビティー凹部43bの
4箇所のコーナ部に配されて、その深さが下型キャビテ
ィー凹部43bに一体的に連続するようにそれぞれ没設
されている。したがって、下型キャビティー凹部43b
の各コーナ部は角を切り欠かれて開口した状態になって
いる。各ヒートシンク吊りバー収容穴51の平面形状は
ヒートシンク組立体16aのヒートシンク吊りバー23
の平面形状に対応されており、各ヒートシンク吊りバー
収容穴51は各ヒートシンク吊りバー23をそれぞれ収
容するようになっている。
【0036】さらに、下型42の合わせ面における上型
41のゲート49に対応する位置のヒートシンク吊りバ
ー収容穴51の外側には突出部収容穴52が、その深さ
がヒートシンク吊りバー収容穴51に連続し、かつ、そ
の一部がヒートシンク吊りバー収容穴51に重なるよう
に没設されている。突出部収容穴52はヒートシンク組
立体16aの突出部27の平面形状に対応されており、
突出部収容穴52は突出部27を収容するようになって
いる。下型42の合わせ面には逃げ凹所53が、下型キ
ャビティー凹部43bから適度に離れた位置から外側に
全体的に没設されている。
【0037】他方、上型41の合わせ面にはヒートシン
ク吊りバー収容穴埋め戻し用の凸部54が4個、上型キ
ャビティー凹部43aの4箇所のコーナ部にそれぞれ配
されて没設されている。各凸部54の平面形状はヒート
シンク吊りバー収容穴51の平面形状に対応されてお
り、各凸部54の高さは、ヒートシンク吊りバー収容穴
51の深さからヒートシンク吊りバー23の厚さを減じ
た値に設定されている。したがって、ヒートシンク吊り
バー収容穴51はこの凸部54とヒートシンク吊りバー
23とによって埋め戻されるようになっている。つま
り、下型キャビティー凹部43bの各コーナ部にヒート
シンク吊りバー収容穴51によって開設された切欠部
は、各凸部54によって閉塞されるようになっている。
【0038】さらに、上型41の合わせ面におけるゲー
ト49に対応する位置のヒートシンク吊りバー収容穴埋
め戻し用の凸部54の外側には、突出部収容穴埋め戻し
用の凸部55が、その高さがヒートシンク吊りバー収容
穴埋め戻し用の凸部54に連続するように突設されてい
る。この凸部55の平面形状は前記ヒートシンク組立体
16aの突出部27の平面形状に対応されており、した
がって、凸部55は突出部27と協働して突出部収容穴
52を埋め戻すようになっている。この凸部55の突出
部27との合わせ面にはサブランナ48が没設されてお
り、この凸部55に連続する前記凸部54におけるヒー
トシンク吊りバー23との合わせ面には、ゲート49が
没設されている。また、上型41の合わせ面には逃げ凹
所56が、上型キャビティー凹部43aから適度に離れ
た位置から外側に全体的に没設されている。
【0039】次に、前記構成に係るトランスファ成形装
置40による成形ワーク33への樹脂封止体34の成形
工程について説明する。
【0040】成形ワーク33は下型42に装填される。
この際、ヒートシンク22は下型キャビティー凹部43
b内に収容され、各コーナ部のヒートシンク吊りバー2
3および突出部27は各収容穴51および52にそれぞ
れ収容される。この収容状態において、ヒートシンク2
2、ヒートシンク吊りバー23および突出部27の下面
はキャビティー凹部43b、各収容穴51、52の底面
に当接した状態になっている。また、リードフレーム1
aの下面は下型42における上型41との合わせ面に当
接した状態になっている。
【0041】続いて、上型41と下型42とが型締めさ
れる。型締めされると、リードフレーム1aのダム・バ
ー10の周りは上型41と下型42の合わせ面間で上下
から挟まれた状態になる。上型41の合わせ面にそれぞ
れ突設された各凸部54、55は、下型42の合わせ面
にそれぞれ没設された各収容穴51、52にそれぞれ嵌
入され、各凸部54、55の下面は各収容穴51、52
に収容されたヒートシンク吊りバー23および突出部2
7の上面に押接した状態になる。この状態において、下
型キャビティー凹部43bの各コーナ部にヒートシンク
吊りバー収容穴51によって開設された切欠部は、各凸
部54によって閉塞された状態になるため、上型キャビ
ティー凹部43aと下型キャビティー凹部43bとによ
って形成されたキャビティー43は、実質的に完全に密
封された状態になる。
【0042】次いで、成形材料としてのレジン50がポ
ット44からプランジャ45によりメインランナ47、
サブランナ48およびゲート49を通じてキャビティー
43に送給されて注入される。サブランナ48を流通す
るレジン50はヒートシンク組立体16aにおける突出
部27の上面に沿って流れ、突出部27と下型42に没
設されたゲート49とによって囲まれた流路を通ってキ
ャビティー43内に注入される。
【0043】そして、樹脂封止体34はレジン50がキ
ャビティー43に充填されるとともに、レジン50が熱
硬化されることにより樹脂成形される。樹脂封止体34
が樹脂成形された後に、上型41および下型42は型開
きされる。この型開きと同時に、樹脂封止体34は上型
41および下型42に対してエジェクタ・ピン(図示せ
ず)により突き上げられて離型される。この離型に際し
て、エジェクタ・ピンは成形ワーク33のヒートシンク
22の部位も突き上げるように設定することが望まし
い。
【0044】以上のようにして成形ワーク33に樹脂封
止体34が樹脂成形されて離型された状態において、図
9に示されている成形品35が製造された状態になる。
この成形品35におけるペレット31、インナリード
9、ワイヤ32、ヒートシンク22の一部および4個の
ヒートシンク吊りバー23の一部は、樹脂封止体34の
内部に樹脂封止された状態になっている。すなわち、ヒ
ートシンク22および各ヒートシンク吊りバー23の一
主面は樹脂封止体34の一主面から露出し、他の主面お
よび側面は樹脂封止体34の内部に植え込まれた状態に
なっている。
【0045】詳細な説明および図示は省略するが、樹脂
成形時のランナやカルの成形痕、ばり(flash)は
除去工程において適宜除去される。その後、半田めっき
工程において、成形品35は樹脂封止体34からの露出
面全体にわたって半田めっき被膜(図示せず)を被着さ
れる。半田めっき処理の際、成形品35は多連リードフ
レーム1および多連ヒートシンク組立体16において電
気的に全て接続されているため、電解めっき処理は一括
して実施することができる。
【0046】その後、成形品35はリード切断成形工程
において、HQFPを成形される。すなわち、ダム・バ
ー10は隣合うアウタリード8、8間において切り落と
される。各アウタリード8は各トップレール3、ボトム
レール4、フロントサイドレール5、リアサイドレール
6から切り離された後に、ガルウイング形状に屈曲成形
される。各ヒートシンク22は各ヒートシンク吊りバー
23の樹脂封止体34との境目から切り離される。
【0047】以上のようにして図10に示されている前
記構成に係るHQFP・IC36が製造されたことにな
る。このHQFP・IC36は図11に示されているよ
うにプリント配線基板に実装される。
【0048】図10に示されているプリント配線基板6
0は、ガラス含浸エポキシ樹脂等の絶縁性の板材が使用
されて形成された本体61を備えている。本体61の一
主面にはアウタリード8の平坦部に対応する長方形の小
平板形状に形成されたマウントパッド62が複数個、実
装対象物となるHQFP・IC36におけるアウタリー
ド8群の列に対応する正方形枠形状にそれぞれ配列され
ている。本体61の一主面(上面とする。)には放熱用
のランド63が、マウントパッド62群列が構成する正
方形枠の中央部に配設されており、ランド63はHQF
P・IC36におけるヒートシンク22に対応されてい
る。
【0049】HQFP・IC36がプリント配線基板6
0に表面実装されるに際して、各マウントパッド62お
よびランド63の上にはクリーム半田等の半田材料(図
示せず)がスクリーン印刷法等の適当な手段によって塗
布される。次いで、半田材料が塗布されたマウントパッ
ド62およびランド63にHQFP・IC36の各アウ
タリード8の平坦部およびヒートシンク22がそれぞれ
接着される。この状態で、半田材料はリフロー半田付け
処理によって溶融された後に固化される。リフロー半田
付け処理によって、アウタリード8とマウントパッド6
2との間、およびヒートシンク22とランド63との間
のそれぞれには、各半田付け部64および65がそれぞ
れ形成される。この状態において、HQFP・IC36
はプリント配線基板60に電気的かつ機械的に接続され
て表面実装された状態になる。
【0050】この実装状態での稼働中、ペレット31が
発熱すると、ペレット31はヒートシンク22に直接ボ
ンディングされているため、その熱はヒートシンク22
に熱伝導によって伝達される。ヒートシンク22はリー
ドフレームの厚さに比較して遙かに厚く、かつ、面積が
大きいため、熱容量がきわめて大きい。したがって、ペ
レット31の発熱はきわめて高い効率をもってヒートシ
ンク22に汲み上げられ、ペレット31はきわめて効果
的に冷却される。そして、ヒートシンク22に直接伝達
された熱は、ランド63を通じてプリント配線基板60
に熱伝導によって放出される。また、ペレット31の発
熱はヒートシンク22に直接的に熱伝導されるととも
に、ヒートシンク22の広い表面積から樹脂封止体34
の全体に拡散される。したがって、ヒートシンク22に
よるペレット31の冷却効果はきわめて高くなる。
【0051】前記実施形態によれば次の効果が得られ
る。 (1) ペレット31がヒートシンク22に直接的にボ
ンディングされていることにより、ペレット31の発熱
はヒートシンク22に熱伝導によって伝達されるため、
相対的にペレット31はきわめて効果的に冷却されるこ
とになる。
【0052】(2) ヒートシンク22が樹脂封止体3
4の外部に露出されていることにより、ヒートシンク2
2が汲み上げた熱を外気中に放出させることができるた
め、前記(1)の効果をより一層高めることができる。
【0053】(3) HQFP・IC36の製造工程に
おいて、リードフレーム1aとヒートシンク組立体16
aとを機械的に結合する爪部28は樹脂封止体34の内
部に埋め込まれないため、爪部28によって樹脂封止体
34の内部におけるインナリード9の配線レイアウトが
規制されることはない。したがって、放熱フィンおよび
それをタブに連結するための放熱フィンリードを有しな
いQFP・ICであってもHQFP・ICとして製造す
ることができる。
【0054】(4) 板厚の薄いリードフレームに形成
されたコ字形状孔13の舌片13bをヒートシンクの透
孔25に挿入して屈曲させて機械的結合用爪部28を形
成することにより、板厚の厚いヒートシンクに形成され
たかしめ用凸部をかしめ加工(所謂鳩目加工)して機械
的結合用かしめ部(所謂鳩目部)を形成する場合に比べ
て、結合用の加工装置を小型かつ簡単化することができ
るため、HQFP・ICの製造方法のコスト増を防止す
ることができる。
【0055】(5) リードフレーム1aとヒートシン
ク組立体16aとの結合は機械的結合によって実施され
るため、高価な接着テープの使用を省略してコスト増を
回避することができるとともに、結合時におけるガス発
生等がないため、当該ガス発生等によるペレット等の汚
染を未然に回避することができる。
【0056】(6) ヒートシンク組立体16aにリー
ドフレーム1aが結合されることにより、ペレット31
およびインナリード9に対する各種作業が実施される際
や、その結合体29が移送される際に、ヒートシンク組
立体16aの重量によるリードフレーム1aの撓みや変
形が発生するのを防止することができる。
【0057】(7) 結合前には、ヒートシンク組立体
16aはリードフレーム1aと別体になっているため、
ヒートシンク22をリードフレーム1aに比べて厚く形
成することができ、その結果、放熱性能を簡単により一
層向上させることができる。他方、リードフレーム1a
は薄く形成することができるため、配線密度を高めるこ
とができる。
【0058】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0059】例えば、樹脂封止体およびヒートシンクの
形状は、正方形に限らず、長方形等の四辺形に形成して
もよい。特に、ヒートシンクは正四辺形に限らず、円形
や多角形に形成してもよい。
【0060】リードフレームは多連構造に構成するに限
らず、単体に構成して多連ヒートシンク組立体に順次組
み付けて行ってもよい。
【0061】ヒートシンクは樹脂封止体の内部に一部が
埋め込まれるように構成するに限らず、全体が埋め込ま
れるように構成してもよい。ヒートシンクの一部が樹脂
封止体の一主面が露出される場合には、外付けの放熱フ
ィンを付設することができるように構成してもよい。こ
のような場合には、アウタリードはヒートシンクと反対
側の主面の方向に屈曲させてもよい。
【0062】ヒートシンク組立体を形成する材料として
は、銅系材料を使用するに限らず、アルミニウム系材料
(アルミニウムまたはその合金)等の熱伝導性の良好な
他の金属材料を使用することができる。特に、炭化シリ
コン(SiC)等のように熱伝導性に優れ、かつ、熱膨
張率がペレットの材料であるシリコンのそれと略等しい
材料を使用することが望ましい。
【0063】前記実施形態では、ヒートシンクがプリン
ト配線基板のランドに半田付けされる場合について説明
したが、ヒートシンクは半田付けしなくとも充分な放熱
性能を発揮する。
【0064】また、ヒートシンクはグランド端子や給電
端子等のための導電部材と使用してもよい。
【0065】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるQFP
・ICに適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、QFJ・IC、QFI・IC、S
OP・IC等の表面実装形樹脂封止パッケージを備えた
IC、さらには、それらのパッケージを備えたパワート
ランジスタや、その他の電子装置全般に適用することが
できる。特に、本発明は、小型軽量、多ピンで、しか
も、低価格であり、高い放熱性能が要求される半導体装
置に利用して優れた効果が得られる。
【0066】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0067】リードフレームを機械的強度の大きい多連
ヒートシンク組立体に結合することにより、結合工程以
後の組立作業において、リードフレームがヒートシンク
の重量によって変形されるのを防止することができる。
リードフレームを多連ヒートシンク組立体に機械的に結
合することにより、高価な接着テープを使用せずに済む
ため、コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態であるHQFP・ICの製
造方法の主要部を示す分解斜視図である。
【図2】多連リードフレームを示しており、(a)は一
部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図
である。
【図3】多連ヒートシンク組立体を示しており、(a)
は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断
面図である。
【図4】多連リードフレームと多連ヒートシンク組立体
の結合工程後の結合体を示しており、(a)は一部省略
平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図であ
る。
【図5】ペレットおよびワイヤ・ボンディング工程後の
組立体を示しており、(a)は一部省略平面図、(b)
は(a)のb−b線に沿う断面図である。
【図6】樹脂封止体成形工程を示しており、(a)は一
部省略正面断面図、(b)はキャビティーの略対角線に
沿う縦断面図である。
【図7】樹脂封止体成形工程で使用される上型を示して
おり、(a)は一部省略底面図、(b)は(a)のb−
b線に沿う断面図、(c)は(a)のc−c線に沿う断
面図である。
【図8】同じく下型を示しており、(a)は一部省略平
面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図、(c)
は(a)のc−c線に沿う断面図である。
【図9】樹脂封止体成形後を示しており、(a)は一部
省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図で
ある。
【図10】製造されたHQFP・ICを示しており、
(a)は一部切断平面図、(b)は一部切断正面図、
(c)は対角線に沿う断面図である。
【図11】製造されたHQFP・ICの実装状態を示し
ており、(a)は平面図、(b)は一部切断正面図であ
る。
【符合の説明】
1…多連リードフレーム、1a…単位リードフレーム
(リードフレーム)、2…リード群保持枠、3…トップ
レール、4…ボトムレール、5…フロントサイドレー
ル、6…リアサイドレール、7…ペレット配置用空所、
8…アウタリード、9…インナリード、10…ダム・バ
ー、11…フロント側スリット、12…リア側スリッ
ト、13…コ字形状孔、13a…切り抜き孔、13b…
舌片、14…位置決め孔、15…切欠部、16…多連ヒ
ートシンク組立体、16a…単位ヒートシンク組立体
(ヒートシンク組立体)、17…ヒートシンク保持枠、
18…メイントップレール、19…メインボトムレー
ル、20…メインフロントサイドレール、21…メイン
リアサイドレール、22…ヒートシンク、23…ヒート
シンク吊りバー、24…段差部、25…機械的結合用透
孔、26…位置決め孔、27…サブランナ配置用の突出
部、28…爪部、29…多連リードフレームと多連ヒー
トシンク組立体の結合体、30…ボンディング層、31
…ペレット、32…ワイヤ、33…結合体にペレット・
ワイヤボンディングされた組立体(成形ワーク)、34
…樹脂封止体、35…成形品、36…HQFP・IC
(半導体装置)、40…トランスファ成形装置、41…
上型、42…下型、43…キャビティー、43a…上型
キャビティー凹部、43b…下型キャビティー凹部、4
4…ポット、45…プランジャ、46…カル、47…メ
インランナ、48…サブランナ、49…ゲート、50…
レジン、51…ヒートシンク吊りバー収容穴、52…突
出部収容穴、53…逃げ凹所、54…ヒートシンク吊り
バー収容穴埋め戻し用の凸部、55…突出部収容穴埋め
戻し用の凸部、56…逃げ凹所、60…プリント配線基
板、61…基板本体、62…マウントパッド、63…ラ
ンド、64、65…半田付け部。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ペレットがヒートシンクにボンデ
    ィングされているとともに複数本のインナリードに電気
    的に接続されており、ヒートシンクの少なくとも一部が
    ペレット、インナリード群と共に樹脂封止体によって樹
    脂封止されている半導体装置の製造方法は次の工程を備
    えている、(a) 前記インナリード群がアウタリード
    群と共にリード群保持枠に保持されたリードフレームが
    準備されるリードフレーム準備工程、(b) 前記ヒー
    トシンクがヒートシンク保持枠に保持された単位ヒート
    シンク組立体が複数配列された多連ヒートシンク組立体
    が準備される多連ヒートシンク組立体準備工程、(c)
    前記多連ヒートシンク組立体の各単位ヒートシンク組
    立体に前記リードフレームが前記ヒートシンク保持枠と
    リード群保持枠との間で機械的に結合されて結合体が製
    造される結合工程。
  2. 【請求項2】 前記リードフレーム準備工程において、
    前記多連ヒートシンク組立体の単位ヒートシンク組立体
    の配置に対応して前記リードフレームが複数配列された
    多連リードフレームが準備されることを特徴とする請求
    項1に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記リード群保持枠にコ字形状孔が形成
    され、前記ヒートシンク保持枠に突設された段差部に透
    孔が形成され、前記コ字形状孔の舌片が前記透孔に挿入
    されて屈曲された爪部により、前記単位ヒートシンク組
    立体に前記リードフレームが結合されることを特徴とす
    る請求項1または請求項2に記載の半導体装置の製造方
    法。
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