JPH09312132A - Alternating current plasma display and its manufacture - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alternating current plasma display in which a film is formed simply, stably, at a low temperature by a chemical technique, and a discharge starting voltage and a driving voltage are decreased. SOLUTION: A rear face substrate 2 and a front face substrate 1 is facing arranged sandwiching gas discharge space 3, at least on one side substrate electrodes 4a, 4b, which are covered by a dielectric layer 5e, and are made into a pair mutually, are respectively formed, and on the dielectric layer 5 a protection layer 6 is formed so as to form an alternating current plasma display. In the plasma display the protection layer 6 is formed by a magnesium oxide containing layer which is formed by forming a coating layer on the dielectric layer 5 using coating solution formed by dispersing one part of magnesium acetate 4 hydrate and/or complete dehydrate in a medium mainly composed of water as colloidal particles, and by heating processing the coating layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は交流型プラズマディ
スプレイ及びその製造方法に関する。更に詳しくは、誘
電体層上に形成する酸化マグネシウム保護層に特徴を有
する交流型プラズマディスプレイ及びその製造方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an AC type plasma display and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to an AC plasma display having a magnesium oxide protective layer formed on a dielectric layer and a method for manufacturing the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】放電に伴う発光現象をディスプレイに利
用するいわゆるプラズマディスプレイ（以下ＰＤＰとい
う）は、その電極（主としてＩＴＯ）の構造から、放電
空間に金属電極が露出している直流型と、金属電極が誘
電体層で覆われている交流型とに大別される。特に、薄
型且つ大画面のカラーテレビ用に用いる場合には、メモ
リ機能を有して大型化に対応可能な交流型が好適であ
る。この交流型ＰＤＰは、電極の配向構造から、面放電
方式と対向電極方式とに分けられるが、いずれの方式に
おいても前記誘電体層表面には主として酸化マグネシウ
ムからなる保護層（膜）が形成されている。2. Description of the Related Art A so-called plasma display (hereinafter referred to as PDP), which utilizes a light emitting phenomenon caused by discharge for a display, has a structure of an electrode (mainly ITO) and a direct current type in which a metal electrode is exposed in a discharge space and a metal type. It is roughly classified into an AC type in which electrodes are covered with a dielectric layer. In particular, when used for a thin and large-screen color television, an AC type having a memory function and capable of coping with an increase in size is suitable. This AC type PDP is divided into a surface discharge method and a counter electrode method depending on the orientation structure of the electrodes. In either method, a protective layer (film) mainly made of magnesium oxide is formed on the surface of the dielectric layer. ing.

【０００３】ところで、保護層を形成する方法として
は、ＥＢ蒸着法を用いる薄膜法と厚膜法が代表的な方法
である。厚膜法では酸化マグネシウムの原料である塩基
性炭酸マグネシウムの溶液をスプレー等によって塗布し
て層を形成させ、次いで加熱処理して酸化マグネシウム
層を形成させる方法である（例えば、特公昭５７−１３
９８３号公報、特公昭６０−４２５７９号公報、特公昭
６３−５９２２１号公報等参照）。これら以外にもスパ
ッタ法、ＣＶＤ法やコーティング法等もある。By the way, as a method of forming the protective layer, a thin film method and a thick film method using an EB vapor deposition method are typical methods. In the thick film method, a solution of basic magnesium carbonate, which is a raw material of magnesium oxide, is applied by spraying or the like to form a layer, and then heat treatment is performed to form a magnesium oxide layer (for example, JP-B-57-13).
No. 983, Japanese Patent Publication No. 60-42579, Japanese Patent Publication No. 63-59221). Other than these, there are a sputtering method, a CVD method, a coating method and the like.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の方法のうち、Ｅ
Ｂ蒸着法、スパッタ法やＣＶＤ法等の真空プロセスを用
いる方法は、概して生産性が低く、製造コストも高価に
なるという欠点に加え、ＰＤＰのような大きな被付着体
を真空チャンバー内に収納することも非常に困難であ
り、大画面の該ディスプレイの保護層形成方法としては
適していない。コーティング法は手軽な方法であること
から鋭意検討されてきたが、従来から保護層形成用に使
用されている市販の酸化マグネシウム粒子が混入された
印刷ペーストは、保護層製造プロセスに合致せず、又、
必要なディスプレイのパネル特性が得られないという性
能上の問題がある。Of the above methods, E
The method using a vacuum process such as the B vapor deposition method, the sputtering method or the CVD method generally has low productivity and high manufacturing cost, and a large adherend such as PDP is housed in the vacuum chamber. It is also very difficult and is not suitable as a method for forming a protective layer for a large-screen display. Although the coating method has been earnestly studied because it is a simple method, a printing paste containing commercially available magnesium oxide particles conventionally used for forming a protective layer does not match the protective layer manufacturing process, or,
There is a performance problem that the required display panel characteristics cannot be obtained.

【０００５】従来の上記の保護層形成用印刷ペーストに
よる造膜のメカニズムは、該ペースト中の造膜性を有す
る有機金属化合物の熱分解による酸化マグネシウム層の
形成にあるが、該ペーストの使用では通常の熱処理温度
（６００℃以下）では膜強度や誘電体層との密着性等が
充分でなかったり、該化合物の熱分解時に膜に亀裂が生
じるという問題や該ペーストのコーティング性も満足で
きるものではない等の問題があった。又、混入されてい
る酸化マグネシウム粒子は粒径が大きく、該ペースト自
体の粘度も高いために、層厚の薄化が困難であり、その
結果、放電開始電圧や駆動電圧をできるだけ低下させた
いという要求を満足させることができない問題もあっ
た。The conventional mechanism for forming a film by the above-mentioned protective layer forming printing paste is to form a magnesium oxide layer by thermal decomposition of the organometallic compound having a film forming property in the paste. The film strength and adhesion to the dielectric layer are not sufficient at normal heat treatment temperature (600 ° C or lower), cracks are generated in the film during thermal decomposition of the compound, and the coating property of the paste is also satisfactory. There was a problem such as not. Further, since the mixed magnesium oxide particles have a large particle size and the paste itself has a high viscosity, it is difficult to reduce the layer thickness, and as a result, it is desirable to reduce the discharge start voltage and the drive voltage as much as possible. There was also a problem that the requirements could not be satisfied.

【０００６】本発明者等はコーティング法における上記
の問題点を解決するために、いわゆるゾル−ゲル法によ
り酸化マグネシウム化合物を加水分解して得られる水酸
化マグネシウムゾルを基板上に塗布した後、焼成して薄
膜の酸化マグネシウム含有層を形成する方法を先に提案
した（特願平６−２７１８２７号）。しかしながら、こ
の方法では水酸化マグネシウムゾルの基板への付着性が
極端に悪く、得られる酸化マグネシウム層の一部が容易
に剥れたり、膜厚が不均一となり、放電開始電圧及び駆
動電圧を満足できる程度に低下させることはできなかっ
た。更に、水酸化マグネシウムゾルを通常の熱処理温度
（６００℃以下）で処理しても、生成する酸化マグネシ
ウムの結晶化が進まず、低結晶性の膜しか得られないた
めに膜強度等も充分でなく、保護膜としての特性が充分
に発揮されない問題もあった。In order to solve the above problems in the coating method, the inventors of the present invention applied a magnesium hydroxide sol obtained by hydrolyzing a magnesium oxide compound by a so-called sol-gel method onto a substrate and then baking it. Then, a method of forming a thin film containing magnesium oxide was previously proposed (Japanese Patent Application No. 6-271827). However, in this method, the adhesion of the magnesium hydroxide sol to the substrate is extremely poor, a part of the obtained magnesium oxide layer is easily peeled off, and the film thickness becomes non-uniform, so that the discharge start voltage and the drive voltage are satisfied. It could not be lowered as much as possible. Further, even if the magnesium hydroxide sol is treated at a normal heat treatment temperature (600 ° C. or lower), the generated magnesium oxide does not crystallize and only a low crystalline film is obtained, so that the film strength is sufficient. There is also a problem that the characteristics as a protective film are not sufficiently exhibited.

【０００７】又、水酸化マグネシウムゾルの出発原料と
してマグネシウムアルコキシド等の有機金属化合物を用
いた場合には、基板密着性や膜の均一性が比較的良好な
酸化マグネシウムが得られるが、マグネシウムアルコキ
シド等は非常に高価であるというコストの点と、反応性
が高いために反応の制御が困難となり、生成する水酸化
マグネシウムの寿命も短いという取り扱いの点での問題
がある。そのために、通常はマグネシウムアルコキシド
等に代えて、酢酸マグネシウム等の有機金属塩や塩化マ
グネシウム、硫酸マグネシウム等の無機金属塩が使用さ
れるが、水酸化マグネシウムゾルを得るにはアンモニア
等のアルカリを多量に用いる必要があり、アルカリの除
去等製造工程が複雑となる問題がある。更に、酸化マグ
ネシウムの層の透明性や、水酸化マグネシウムの基体へ
の密着性を向上させるために粒子径を１μｍ以下にしな
ければならず、粒子の成長を抑えるためにエチレングリ
コール等の添加剤を水酸化マグネシウムゾル生成系に添
加する必要があるが、これらの添加剤は水酸化マグネシ
ウムゾル自体の生成をも抑制し、該ゾルの収率を著しく
低下させる問題がある。When an organometallic compound such as magnesium alkoxide is used as a starting material of magnesium hydroxide sol, magnesium oxide having relatively good substrate adhesion and film uniformity can be obtained. Is very expensive, and it is difficult to control the reaction because of its high reactivity, and the magnesium hydroxide to be produced has a short life. Therefore, an organic metal salt such as magnesium acetate or an inorganic metal salt such as magnesium chloride or magnesium sulfate is usually used in place of magnesium alkoxide, but a large amount of alkali such as ammonia is used to obtain magnesium hydroxide sol. Therefore, there is a problem that the manufacturing process is complicated, such as removal of alkali. Further, in order to improve the transparency of the layer of magnesium oxide and the adhesion of magnesium hydroxide to the substrate, the particle size must be 1 μm or less, and an additive such as ethylene glycol is added to suppress the growth of particles. Although it is necessary to add them to the magnesium hydroxide sol-forming system, these additives also suppress the production of the magnesium hydroxide sol itself, and there is a problem that the yield of the sol is significantly reduced.

【０００８】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、本発明の目的は、上記従来コーティング法にお
ける問題点を解消し、化学的手法により簡便且つ低温度
での安定製膜が可能であり、且つ安価に製造でき、放電
開始電圧及び駆動電圧の低下が図られる交流型ＰＤＰ及
びその製造方法を提供することである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the conventional coating method and to easily and stably form a film by a chemical method at a low temperature. It is an object of the present invention to provide an AC PDP that can be manufactured at low cost and that can reduce discharge start voltage and drive voltage, and a manufacturing method thereof.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
により達成される。即ち、本発明は、ガス放電空間を挟
んで背面基板と前面基板が対向配置され、少なくとも一
方の基板には誘電体層に覆われた互いに対となる電極が
夫々形成されると共に、誘電体層上には保護層が形成さ
れてなる交流型ＰＤＰにおいて、前記保護層が、酢酸マ
グネシウム４水和物の一部及び／又は完全脱水物が水を
主体とする媒体にコロイド粒子として分散してなるコー
ティング液を用いて誘電体層上に形成した塗膜層を加熱
処理してなる酸化マグネシウム含有層で形成されたこと
を特徴とする交流型ＰＤＰ及びその製造方法が提供され
る。The above object is achieved by the present invention described below. That is, according to the present invention, the back substrate and the front substrate are arranged so as to face each other with the gas discharge space interposed therebetween, and at least one of the substrates is formed with a pair of electrodes covered with the dielectric layer, and the dielectric layer is formed. In an AC PDP having a protective layer formed thereon, the protective layer is formed by dispersing a part and / or complete dehydration of magnesium acetate tetrahydrate as colloidal particles in a medium mainly containing water. Provided is an AC PDP, which is formed of a magnesium oxide-containing layer obtained by heat-treating a coating layer formed on a dielectric layer using a coating liquid, and a method for manufacturing the same.

【００１０】本発明によれば、保護層を酢酸マグネシウ
ムがコロイド粒子として水を主体とする媒体中に分散し
てなるコーティング液を使用して形成することにより、
真空系プロセスにおけるような高価な設備を必要とせず
に大面積のパネル上に製膜することができ、又、その膜
は誘電体層との密着性に優れ、膜強度、透明性、保護作
用等の優れた膜特性を有し、更に、酸化マグネシウム含
有層の膜厚を薄くすることが可能であるから、放電開始
電圧及び駆動電圧（消費電力）の低下が図られる交流型
ＰＤＰが提供される。According to the present invention, the protective layer is formed by using a coating liquid in which magnesium acetate is dispersed as colloidal particles in a medium mainly containing water,
A film can be formed on a large-area panel without the need for expensive equipment such as in a vacuum process, and the film has excellent adhesion to the dielectric layer, film strength, transparency, and protective action. An AC PDP having excellent film characteristics such as, and further capable of reducing the film thickness of the magnesium oxide-containing layer is provided, in which discharge start voltage and drive voltage (power consumption) are reduced. It

【００１１】[0011]

【発明の実施の形態】次に図面に示す実施形態に基づい
て本発明を更に詳細に説明する。図１は、本発明を適用
した好ましい実施例の面放電方式の交流型ＰＤＰの概略
構造を示す図である。図１において、交流型ＰＤＰはガ
ス放電空間３を挟んで互いに平行に対向配置された前面
基板１と背面基板２から構成されている。基板１及び２
は所定の厚さのガラス板で形成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in further detail with reference to the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic structure of a surface discharge type AC PDP according to a preferred embodiment of the present invention. In FIG. 1, the AC PDP is composed of a front substrate 1 and a rear substrate 2 which are arranged in parallel to each other with a gas discharge space 3 interposed therebetween. Substrates 1 and 2
Is formed of a glass plate having a predetermined thickness.

【００１２】背面基板２に対向する前面基板１の面に
は、Ｘ電極４ａとＹ電極４ｂからなる対電極４が形成さ
れている。これらの対電極４はガラス製であり、誘電体
層５で被覆されている。更にこの誘電体層５は、後に詳
述する酢酸マグネシウムコロイド粒子を水を主体とする
媒体に分散させてなるコーティング液を塗布し、乾燥及
び加熱処理（焼成）して形成された酸化マグネシウム膜
からなる保護層６で被覆されている。又、前面基板１に
対向する背面基板２の面には、アドレス電極７、障壁８
及び蛍光体層９が形成されている。更に、必要に応じて
前面基板１上には反射防止層として、例えば、二酸化チ
タン膜（高屈折率層）１０、及び二酸化ケイ素膜（低屈
折率層）１１が形成されている。A counter electrode 4 composed of an X electrode 4a and a Y electrode 4b is formed on the surface of the front substrate 1 facing the rear substrate 2. These counter electrodes 4 are made of glass and covered with a dielectric layer 5. Further, the dielectric layer 5 is formed from a magnesium oxide film formed by applying a coating liquid prepared by dispersing magnesium acetate colloidal particles, which will be described later in detail, in a medium mainly composed of water, and drying and heating (baking) the coating liquid. It is covered with a protective layer 6. Further, on the surface of the rear substrate 2 facing the front substrate 1, the address electrode 7 and the barrier 8 are provided.
And a phosphor layer 9 is formed. Further, a titanium dioxide film (high-refractive-index layer) 10 and a silicon dioxide film (low-refractive-index layer) 11, for example, are formed on the front substrate 1 as antireflection layers as required.

【００１３】図２は、本発明を適用した好ましい実施例
の対向放電方式の交流型ＰＤＰの概略構造を示す図であ
る。図２においては背面基板２に対向する前面基板１の
面には、ガラス製のＸ電極４ａが形成され、該Ｘ電極４
ａは誘電体層５で被覆されており、更にこの誘電体層は
前記と同様にして形成された酸化マグネシウムからなる
保護層６で被覆されている。又、前面基板１に対向する
背面基板２の面には、Ｙ電極４ｂ、誘電体層５前記と同
様に形成された保護層６及び障壁８及び蛍光体層９が形
成されている。更に、必要に応じて前面基板１上には反
射防止層として、例えば、二酸化チタン膜（高屈折率
層）１０、及び二酸化ケイ素膜（低屈折率層）１１が形
成されている。FIG. 2 is a diagram showing a schematic structure of a counter discharge type AC PDP of a preferred embodiment to which the present invention is applied. In FIG. 2, an X electrode 4a made of glass is formed on the surface of the front substrate 1 facing the rear substrate 2.
A is covered with a dielectric layer 5, and this dielectric layer is further covered with a protective layer 6 made of magnesium oxide formed in the same manner as described above. Further, on the surface of the rear substrate 2 facing the front substrate 1, the Y electrode 4b, the dielectric layer 5, the protective layer 6 formed in the same manner as described above, the barrier 8 and the phosphor layer 9 are formed. Further, a titanium dioxide film (high-refractive-index layer) 10 and a silicon dioxide film (low-refractive-index layer) 11, for example, are formed on the front substrate 1 as antireflection layers as required.

【００１４】次に本発明を主として特徴づけ、本発明の
交流型ＰＤＰの誘電体層の保護層を形成するコーティン
グ液について説明する。本発明で使用するコーティング
液は、水を主体とする媒体に酢酸マグネシウムがコロイ
ド粒子として分散してなるゾル溶液である。通常市販さ
れている酢酸マグネシウムは４水和物であり、これは水
に完全に溶解する。ところが、水和した水を一部乃至完
全に除去した部分脱水水和酢酸マグネシウム及び無水酢
酸マグネシウムは水に不溶性となること、これらの酢酸
マグネシウムを水に添加すると粒子表面の酢酸マグネシ
ウムの少なくとも一部は加水分解を受けて親水性の水酸
化マグネシウムを形成し、安定なコロイド粒子として水
中に分散することを本発明者が見出した。Next, the coating liquid for forming the protective layer of the dielectric layer of the AC type PDP of the present invention will be described, which characterizes the present invention. The coating liquid used in the present invention is a sol solution in which magnesium acetate is dispersed as colloidal particles in a medium containing water as a main component. The commercially available magnesium acetate is tetrahydrate, which is completely soluble in water. However, the partially dehydrated hydrated magnesium acetate and anhydrous magnesium acetate obtained by partially or completely removing the hydrated water become insoluble in water, and when these magnesium acetates are added to water, at least a part of the magnesium acetate on the particle surface is obtained. The present inventors have found that is hydrolyzed to form hydrophilic magnesium hydroxide, which is dispersed in water as stable colloidal particles.

【００１５】本発明における酢酸マグネシウムがコロイ
ド粒子として水を主体とする媒体に分散してなるコーテ
ィング液を得るためには、酢酸マグネシウムとして酢酸
マグネシウム４水和物の水和した水の少なくとも２０重
量％を除去することが好ましい。特に好ましくは完全脱
水して無水酢酸マグネシウムとすることである。脱水方
法はどのような方法でもよく全く制限されない。例え
ば、減圧下に加熱する方法が簡便で好ましい。In order to obtain a coating liquid in which magnesium acetate in the present invention is dispersed as colloidal particles in a medium containing water as a main component, at least 20% by weight of hydrated water of magnesium acetate tetrahydrate as magnesium acetate is used. Is preferably removed. Particularly preferred is complete dehydration to give anhydrous magnesium acetate. Any dehydration method may be used without any limitation. For example, a method of heating under reduced pressure is simple and preferable.

【００１６】無水〜部分水和酢酸マグネシウムを分散さ
せる媒体は、水を主体とするものであり、水１００％及
び／又は水と水溶性溶剤との混合溶液である。特に、粒
子表面の酢酸マグネシウムの少なくとも一部の加水分解
反応を均一で効率よく進行させ、安定なコーティング液
を形成するうえから、水溶性溶剤としてはアルコール
類、グリコール類、エステル類、エーテル類あるいはプ
ロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン等の有機高
誘電率溶剤の使用が好ましい。水に対する使用割合は混
合溶液中の水の割合が５０重量％以下とならない範囲で
あれば特に制限されない。水を主体とする媒体中の無水
〜部分水和酢酸マグネシウムの量（固形分）は、通常
０．１〜９０重量％であるが、均一なコーティング液と
するためには０．１〜６０重量％の範囲が好ましい。The medium in which anhydrous to partially hydrated magnesium acetate is dispersed is mainly composed of water and is 100% water and / or a mixed solution of water and a water-soluble solvent. In particular, as a water-soluble solvent, alcohols, glycols, esters, ethers or ethers are used as a water-soluble solvent in order to uniformly and efficiently proceed the hydrolysis reaction of at least a part of magnesium acetate on the particle surface and form a stable coating solution. It is preferable to use an organic high dielectric constant solvent such as propylene carbonate or γ-butyrolactone. The proportion of water to be used is not particularly limited as long as the proportion of water in the mixed solution does not fall below 50% by weight. The amount (an amount of solid content) of anhydrous to partially hydrated magnesium acetate in a medium mainly composed of water is usually 0.1 to 90% by weight, but 0.1 to 60% by weight in order to obtain a uniform coating solution. % Range is preferred.

【００１７】又、コーティング液の安定性を高めるため
に、分散安定化剤をコーティング液中に含有させること
ができる。分散安定化剤としては、例えば、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチル
セルロース等のセルロース類、ポリアクリル酸、ポリア
クリルアミド等のアクリル系ポリマー、ポリビニルアル
コール及びその部分ケン化物等のビニルポリマー等の水
溶性高分子が好ましい分散安定化剤として挙げられる。
これらは１種又は２種以上で使用され、コーティング液
中の含有量は、通常０．０１〜１０重量％の範囲であ
る。Further, in order to improve the stability of the coating liquid, a dispersion stabilizer can be contained in the coating liquid. Examples of the dispersion stabilizer include celluloses such as hydroxypropylmethylcellulose and hydroxypropylmethylcellulose, acrylic polymers such as polyacrylic acid and polyacrylamide, and water-soluble polymers such as vinyl polymers such as polyvinyl alcohol and partially saponified products thereof. Are preferred dispersion stabilizers.
These are used alone or in combination of two or more, and the content in the coating liquid is usually 0.01 to 10% by weight.

【００１８】本発明の酢酸マグネシウム粒子がコロイド
状に分散したコーティング液は、水を主体とする媒体
に、必要に応じ、水溶性溶剤、分散安定化剤を溶解し、
無水〜部分水和酢酸マグネシウムを添加して、攪拌する
ことにより得られる。コロイド形成反応は室温でも速や
かに進行するが、例えば３０〜８０℃に加熱することに
よって反応を促進することができる。The coating liquid in which the magnesium acetate particles of the present invention are dispersed in a colloidal form is prepared by dissolving a water-soluble solvent and a dispersion stabilizer in a medium mainly composed of water, if necessary.
Obtained by adding anhydrous to partially hydrated magnesium acetate and stirring. The colloid-forming reaction proceeds rapidly even at room temperature, but the reaction can be promoted by heating to, for example, 30 to 80 ° C.

【００１９】又、コロイド粒子径を所定の範囲にコント
ロールするために、エチレングリコール或いはジエチレ
ングリコール、メチルセロソルブ等のエチレングリコー
ルの誘導体を上記の反応系に添加することができる。コ
ーティング液中の添加量は、通常０．０１〜８０重量％
程度であり、添加量が増加するとコロイド粒子径は小さ
くなる。これは、エチレングリコール、又はその誘導体
分子内の酸素原子が酢酸マグネシウムのマグネシウム原
子に配位して、酢酸マグネシウムコロイド粒子の分散性
を安定化するためと推測される。本発明のコーティング
液の好ましいコロイド粒子径は、３〜３００ｎｍであ
る。In order to control the colloidal particle diameter within a predetermined range, ethylene glycol or a derivative of ethylene glycol such as diethylene glycol or methyl cellosolve can be added to the above reaction system. The amount added in the coating liquid is usually 0.01 to 80% by weight.
The colloidal particle size decreases as the amount added increases. It is presumed that this is because the oxygen atom in the ethylene glycol or its derivative molecule is coordinated with the magnesium atom of magnesium acetate to stabilize the dispersibility of the magnesium acetate colloidal particles. The preferred colloidal particle size of the coating liquid of the present invention is 3 to 300 nm.

【００２０】本発明のコーティング液においては、酢酸
マグネシウムコロイド粒子表面の酢酸マグネシウムの少
なくとも一部は加水分解を受けて水酸化マグネシウムと
なっており、その結果、安定なゾル溶液が形成されると
ともに、本発明のコーティング液を基体上に塗布して膜
を形成させた場合には、従来の酢酸マグネシウム溶液に
アンモニア水を添加して水酸化マグネシウムを強制的に
形成させたコーティング液を用いて製膜した場合に比
べ、該コロイド粒子層（膜）と基体との密着性は著しく
向上し、粒子径の揃った緻密な酸化マグネシウム層とす
ることができる。In the coating liquid of the present invention, at least a part of the magnesium acetate on the surface of the magnesium acetate colloidal particles is hydrolyzed to magnesium hydroxide, and as a result, a stable sol solution is formed and When the coating solution of the present invention is applied to a substrate to form a film, a coating solution prepared by forcibly forming magnesium hydroxide by adding aqueous ammonia to a conventional magnesium acetate solution is used to form a film. Compared with the case, the adhesion between the colloidal particle layer (film) and the substrate is remarkably improved, and a dense magnesium oxide layer having a uniform particle size can be obtained.

【００２１】本発明の交流型ＰＤＰの製造方法は、以上
の如きコーティング液を、前記誘電体層上に塗布し、乾
燥及び加熱処理（焼成）することにより酸化マグネシウ
ムからなる保護層を形成することを特徴とする。コーテ
ィング液の誘電体層上への塗布方法は、任意の方法でよ
く、例えば、スピンコート法、ディップコート法、スプ
レーコート法、ロールコート法、メニスカスコート法、
バーコート法、流延法等の種々の塗布法を適用すること
ができる。In the method for producing an AC PDP of the present invention, the coating liquid as described above is applied onto the dielectric layer, and dried and heated (baked) to form a protective layer made of magnesium oxide. Is characterized by. The coating method on the dielectric layer may be any method, for example, spin coating method, dip coating method, spray coating method, roll coating method, meniscus coating method,
Various coating methods such as a bar coating method and a casting method can be applied.

【００２２】塗布によって形成された湿潤塗膜を乾燥及
び加熱処理（焼成）を施すことによって、誘電体層に密
着した透明な酸化マグネシウム膜が形成される。乾燥
は、湿潤塗膜中の水及び水溶性溶剤が実質的に揮散する
温度及び時間で行えばよく、例えば、約１００〜２００
℃の温度で約１〜２時間程度行えば十分である。又、焼
成は３００〜６００℃の温度で約１〜５時間程度行うこ
とが好ましい。室温での乾燥でも均一な酸化マグネシウ
ム膜は得られるが、水酸化マグネシウムから酸化マグネ
シウムへの移行を完全なものとし、膜の結晶性を高めて
膜特性を向上させるためには、上記の温度で加熱処理す
ることが好ましい。The wet coating film formed by coating is dried and heat-treated (baked) to form a transparent magnesium oxide film in close contact with the dielectric layer. The drying may be performed at a temperature and a time at which water and a water-soluble solvent in the wet coating film are substantially vaporized, and for example, about 100 to 200.
It is sufficient to carry out the treatment at a temperature of ° C for about 1 to 2 hours. Further, the firing is preferably performed at a temperature of 300 to 600 ° C. for about 1 to 5 hours. A uniform magnesium oxide film can be obtained even by drying at room temperature, but in order to complete the transition from magnesium hydroxide to magnesium oxide and enhance the crystallinity of the film to improve the film properties, the above temperature is used. Heat treatment is preferable.

【００２３】本発明において、交流型ＰＤＰにおける２
次電子放出比を上げる観点からは、保護層を形成してい
る酸化マグネシウム微粒子のその表面積を大きくするこ
とが必要であり、酸化マグネシウム微粒子の粒子径は、
５〜１００ｎｍの範囲、好ましくは５〜３０ｎｍの範囲
であることが望ましい。粒子径を１００ｎｍ以下にして
粒子間の隙間をなくすことにより表面積を大きくし、通
常の熱処理プロセスでも効率よく酸化マグネシウム膜が
形成される。形成される酸化マグネシウム膜の厚さは特
に限定されないが、透明性の点から１０μｍ以下で、特
に１μｍ以下のものが好ましい。以上の如く得られる本
発明の交流型ＰＤＰにおける保護層は、その膜厚が１μ
ｍ以下の薄膜のものが実現でき、このような膜厚は従来
のバインダーを用いたペーストでは実現不可能なもので
ある。In the present invention, 2 in the AC PDP is used.
From the viewpoint of increasing the secondary electron emission ratio, it is necessary to increase the surface area of the magnesium oxide fine particles forming the protective layer, and the particle diameter of the magnesium oxide fine particles is
A range of 5 to 100 nm, preferably a range of 5 to 30 nm is desirable. The surface area is increased by making the particle diameter 100 nm or less and eliminating the gaps between the particles, and the magnesium oxide film can be formed efficiently even in the normal heat treatment process. The thickness of the formed magnesium oxide film is not particularly limited, but from the viewpoint of transparency, it is preferably 10 μm or less, and particularly preferably 1 μm or less. The protective layer in the AC PDP of the present invention obtained as described above has a thickness of 1 μm.
A thin film having a thickness of m or less can be realized, and such a film thickness cannot be realized by a paste using a conventional binder.

【００２４】[0024]

【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて更に具体的に
本発明を説明する。文中の部は重量基準である。 実施例１ 図１に示される面放電交流型ＰＤＰを次のようにして作
製した。ガラス基板上に真空蒸着法によりＣｒ電極（膜
厚：０．２μｍ）を形成し、パターニングした後スクリ
ーン印刷でバリアブを形成後、蛍光体を塗布して背面基
板を作製した。又、前面基板をガラス基板上に真空蒸着
法によりＣｒ電極（膜厚：０．２μｍ）を形成し、パタ
ーニングした後、同様に真空蒸着法によって絶縁層（誘
電体層：膜厚０．８μｍ）を形成して作製した。EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. Parts in the text are based on weight. Example 1 The surface discharge AC PDP shown in FIG. 1 was manufactured as follows. A Cr electrode (film thickness: 0.2 μm) was formed on a glass substrate by a vacuum deposition method, patterned, and after forming a barrier by screen printing, a phosphor was applied to form a back substrate. In addition, after forming a Cr electrode (film thickness: 0.2 μm) on the front substrate on a glass substrate by vacuum vapor deposition and patterning it, an insulating layer (dielectric layer: film thickness 0.8 μm) is also formed by vacuum vapor deposition. Was formed.

【００２５】前面ガラス基板の誘電体層上に、下記のコ
ーティング液をディップコーティング法によって室温、
大気中で塗布した後、１２０℃で１時間乾燥させた。乾
燥後、５００℃のオーブン中で２時間熱処理（焼成）を
行った。熱処理後、水分を蒸発させるために上記温度で
ベーキングを施した。かくして、透明な酸化マグネシウ
ム含有層（保護層）が形成された。膜厚は０．３μｍで
あった。The following coating liquid was applied on the dielectric layer of the front glass substrate at room temperature by dip coating.
After coating in air, it was dried at 120 ° C. for 1 hour. After drying, heat treatment (baking) was performed in an oven at 500 ° C. for 2 hours. After the heat treatment, baking was performed at the above temperature to evaporate water. Thus, a transparent magnesium oxide-containing layer (protective layer) was formed. The thickness was 0.3 μm.

【００２６】上記２種の基板をそれぞれの処理面を対向
させて貼り合わせ、Ｎｅ−Ａｒ（１．１％）ペニングガ
スを５００Ｔｏｒｒ封入して測定用パネルを作製した。
駆動周波数１５ＫＨｚの駆動波形で、デューティ比２３
％のパルスで最小点火電圧及び最小維持電圧を測定し
た。測定結果は、最小点火電圧（Ｖｆ）は１８０Ｖ、最
小維持電圧（Ｖｓｍ）は１５０Ｖ、メモリーマージン
（Ｖｆ−Ｖｓｍ）は３０Ｖであった。The above two types of substrates were bonded to each other with their treated surfaces facing each other, and Ne-Ar (1.1%) Penning gas was sealed at 500 Torr to prepare a measurement panel.
A drive waveform with a drive frequency of 15 KHz and a duty ratio of 23
The minimum ignition voltage and minimum sustaining voltage were measured in% pulse. As a result of measurement, the minimum ignition voltage (Vf) was 180V, the minimum sustaining voltage (Vsm) was 150V, and the memory margin (Vf-Vsm) was 30V.

【００２７】コーティング液の調整 酢酸マグネシウム４水和物を減圧乾燥機を用い、１２０
℃で５時間乾燥して無水酢酸マグネシウムを得た。この
無水酢酸マグネシウム３部を、水９７部に０．１部のヒ
ドロキシプロピルメチルセルロースを溶解した水溶液に
添加し、室温で３時間攪拌した。粒径が１２０ｎｍの酢
酸マグネシウムのコロイド粒子が水に分散したコーティ
ング液が得られた。このコーティング液を室温で１日放
置したが、安定で酢酸マグネシウム粒子の沈降は観察さ
れなかった。Preparation of Coating Liquid Magnesium acetate tetrahydrate was dried at 120 ° C. using a vacuum dryer.
It was dried at ℃ for 5 hours to obtain anhydrous magnesium acetate. 3 parts of this anhydrous magnesium acetate was added to an aqueous solution in which 0.1 part of hydroxypropylmethylcellulose was dissolved in 97 parts of water, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. A coating liquid was obtained in which colloidal particles of magnesium acetate having a particle diameter of 120 nm were dispersed in water. The coating solution was allowed to stand at room temperature for one day, but was stable and no precipitation of magnesium acetate particles was observed.

【００２８】比較例１ 実施例１において、酸化マグネシウム膜からなる保護層
６を真空蒸着法により形成した点を除き、他は実施例と
同様にして面放電交流型ＰＤＰを作製した。真空蒸着機
は、電子ビーム蒸着機（日本真空技術（株）製 ＥＸ
−９００−Ｃ１６）を用いて、基板温度３００℃、成膜
速度０．５ｎｍ／ｓの条件で成膜し、膜厚０．５μｍと
した。最小添加電圧及び最小維持電圧の値は、実施例１
の同じ構造のパネルのこれらの値よりいずれも３０Ｖ低
いものであったが、メモリーマージンはほぼ同等の３０
Ｖであった。Comparative Example 1 A surface discharge AC PDP was produced in the same manner as in Example 1 except that the protective layer 6 made of a magnesium oxide film was formed by vacuum vapor deposition. The vacuum vapor deposition machine is an electron beam vapor deposition machine (EX manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.).
-900-C16) was used to form a film under the conditions of a substrate temperature of 300 ° C. and a film forming rate of 0.5 nm / s to a film thickness of 0.5 μm. The values of the minimum addition voltage and the minimum sustaining voltage are the same as those in Example 1.
The same margins were 30V lower than those of the panels of the same structure, but the memory margin was almost the same.
It was V.

【００２９】比較例２ 実施例１において、酸化マグネシウム膜からなる保護層
６を、酸化マグネシウムのペーストをスクリーン印刷法
で塗布した点を除き、他は実施例と同様にして面放電交
流型ＰＤＰを作製した。上記で使用した酸化マグネシウ
ムのペーストは、平均一次粒子径が０．１８〜０．２５
μｍの酸化マグネシウム粉末（宇部興産（株）製 ＵＢ
Ｅ２０００Ａ）をＳｉ系バインダー（ＳｉＯ₂ １０重
量部）中に２６重量％の割合で分散させ、粘度７，００
０ｃｐｓ／２５℃に調製したものを使用した。Comparative Example 2 A surface discharge AC PDP was prepared in the same manner as in Example 1, except that the protective layer 6 made of a magnesium oxide film was coated with a magnesium oxide paste by a screen printing method. It was made. The magnesium oxide paste used above has an average primary particle size of 0.18 to 0.25.
μm magnesium oxide powder (UB manufactured by Ube Industries, Ltd.)
E2000A) was dispersed in a Si-based binder (10 parts by weight of SiO ₂ ) at a ratio of 26% by weight to give a viscosity of 7,000.
The one prepared at 0 cps / 25 ° C. was used.

【００３０】又、印刷条件は、版ギャップ２．３ｍｍ、
スキージ押込み量１ｍｍ、スクレッパー押込み量１μｍ
とし、スクリーン版のメッシュは４００、乳剤厚は１０
μｍとした。尚、焼成条件は、大気圧下において焼成温
度５８０℃で１時間とした。得られた保護層は不透明で
あり、膜厚は３．０μｍであった。この面放電交流型Ｐ
ＤＰの最小点火電圧は２４０Ｖ、最小維持電圧は１７５
Ｖであった。The printing conditions are: plate gap 2.3 mm,
Squeegee pushing amount 1mm, scraper pushing amount 1μm
The screen plate has a mesh of 400 and an emulsion thickness of 10
μm. The firing conditions were an atmospheric pressure and a firing temperature of 580 ° C. for 1 hour. The obtained protective layer was opaque and had a film thickness of 3.0 μm. This surface discharge AC type P
The minimum ignition voltage of DP is 240V, the minimum sustaining voltage is 175
It was V.

【００３１】[0031]

【発明の効果】以上の本発明によれば、従来の酸化マグ
ネシウム含有層形成に用いられるペーストの使用では実
現不可能であった膜厚２μｍ以下の酸化マグネシウム含
有層の形成が可能であり、交流型ＰＤＰの放電開始電圧
及び駆動電圧（消費電圧）の制御が促進されて消費電力
の大幅な低下とともにディスプレイ自体の厚さの薄化が
実現できるという効果が奏される。更に、本発明によれ
ば、コーティング法を使用することから、安価に大面積
の保護層を形成することができるので、大型カラーテレ
ビ（例えば対角４０インチ等の）用のディスプレイを低
コストで製造することが可能である。As described above, according to the present invention, it is possible to form a magnesium oxide containing layer having a film thickness of 2 μm or less, which cannot be realized by using the paste used for forming the conventional magnesium oxide containing layer. The control of the discharge start voltage and the drive voltage (consumption voltage) of the type PDP is promoted, and the power consumption is significantly reduced, and the thickness of the display itself can be reduced. Further, according to the present invention, since a large area protective layer can be formed at low cost by using the coating method, a display for a large color television (for example, a diagonal of 40 inches) can be manufactured at low cost. It is possible to manufacture.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 本発明の面放電方式の交流型ＰＤＰの概略構
造を示す断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a surface discharge type AC PDP of the present invention.

【図２】 本発明の対向放電方式の交流型ＰＤＰの概略
構造を示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an AC-type PDP of the opposed discharge type according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１：前面基板 ２：背面基板 ３：放電空間 ４：対電極 ４ａ：Ｘ電極 ４ｂ：Ｙ電極 ５：誘電体層 ６：保護層 ７：アドレス電極 ８：蛍光体 ９：障壁 1: Front substrate 2: Rear substrate 3: Discharge space 4: Counter electrode 4a: X electrode 4b: Y electrode 5: Dielectric layer 6: Protective layer 7: Address electrode 8: Phosphor 9: Barrier

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基
板が対向配置され、少なくとも一方の基板には誘電体層
に覆われた互いに対となる電極が夫々形成されると共
に、誘電体層上には保護層が形成されてなる交流型プラ
ズマディスプレイにおいて、前記保護層が、酢酸マグネ
シウム４水和物の一部及び／又は完全脱水物が水を主体
とする媒体にコロイド粒子として分散してなるコーティ
ング液を用いて誘電体層上に形成した塗膜層を加熱処理
してなる酸化マグネシウム含有層で形成されたことを特
徴とする交流型プラズマディスプレイ。1. A back substrate and a front substrate are arranged so as to face each other with a gas discharge space interposed therebetween, and at least one of the substrates is formed with a pair of electrodes covered with a dielectric layer, and on the dielectric layer. In an AC type plasma display in which a protective layer is formed, the protective layer is formed by dispersing a part and / or complete dehydration of magnesium acetate tetrahydrate as colloidal particles in a medium mainly containing water. An alternating-current plasma display comprising a magnesium oxide-containing layer obtained by heat-treating a coating layer formed on a dielectric layer using a coating liquid. 【請求項２】 酢酸マグネシウムコロイド粒子表面の少
なくとも一部が水酸化マグネシウムとなっている請求項
１に記載の交流型プラズマディスプレイ。2. The AC type plasma display according to claim 1, wherein at least a part of the surface of the magnesium acetate colloidal particles is magnesium hydroxide. 【請求項３】 コーティング液中のコロイド粒子の粒径
が３〜３００ｎｍである請求項１に記載の交流型プラズ
マディスプレイ。3. The AC type plasma display according to claim 1, wherein the particle size of the colloidal particles in the coating liquid is 3 to 300 nm. 【請求項４】 ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基
板が対向配置され、少なくとも一方の基板には誘電体層
に覆われた互いに対となる電極が夫々形成されると共
に、誘電体層上には保護層が形成されてなる交流型プラ
ズマディスプレイの製造において、前記保護層を酢酸マ
グネシウム４水和物の一部及び／又は完全脱水物が水を
主体とする媒体にコロイド粒子として分散してなるコー
ティング液を誘電体層上に塗布、乾燥して塗膜層を形成
させ、塗膜層を加熱処理して酸化マグネシウム含有層を
形成させることを特徴とする交流型プラズマディスプレ
イの製造方法。4. A back substrate and a front substrate are arranged so as to face each other with a gas discharge space interposed therebetween, and at least one of the substrates is formed with a pair of electrodes covered with a dielectric layer, and on the dielectric layer. In the production of an AC plasma display in which a protective layer is formed, the protective layer is prepared by dispersing a part and / or complete dehydration of magnesium acetate tetrahydrate as a colloidal particle in a medium mainly composed of water. A method for manufacturing an AC type plasma display, comprising: applying a coating liquid of the following onto a dielectric layer, drying the coating layer to form a coating layer, and heat treating the coating layer to form a magnesium oxide-containing layer. 【請求項５】 酢酸マグネシウムコロイド粒子表面の少
なくとも一部が水酸化マグネシウムとなっている請求項
４に記載の交流型プラズマディスプレイの製造方法。5. The method for manufacturing an AC plasma display according to claim 4, wherein at least a part of the surface of the magnesium acetate colloidal particles is magnesium hydroxide. 【請求項６】 コロイド粒子の粒径が３〜３００ｎｍで
ある請求項４に記載の交流型プラズマディスプレイの製
造方法。6. The method of manufacturing an AC plasma display according to claim 4, wherein the colloidal particles have a particle size of 3 to 300 nm.