JPH0930876A - 施釉ブースの釉薬回収装置 - Google Patents
施釉ブースの釉薬回収装置Info
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- JPH0930876A JPH0930876A JP12891396A JP12891396A JPH0930876A JP H0930876 A JPH0930876 A JP H0930876A JP 12891396 A JP12891396 A JP 12891396A JP 12891396 A JP12891396 A JP 12891396A JP H0930876 A JPH0930876 A JP H0930876A
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- glaze
- booth
- floorboard
- floor plate
- glazed
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/049—Recycling of the coating material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】大きい粒子の釉薬であっても回収することので
きる施釉ブースの釉薬回収装置を提供する。 【構成】施釉ブースの傾斜した床板に撥水材を塗布し、
余剰釉薬の流動性を良くして回収する。また施釉ブース
の床板を強制振動させて床板上に落下した余剰釉薬に強
制的な送りを付与して回収したり、床板に落下した余剰
釉薬をスクレーパーで強制的に掻き落としたり又は釉薬
を吐出するノズルで洗い流したり、エアーノズルで吹き
飛ばしたり、傾斜した又は水平のコンベアによって搬送
して回収する。
きる施釉ブースの釉薬回収装置を提供する。 【構成】施釉ブースの傾斜した床板に撥水材を塗布し、
余剰釉薬の流動性を良くして回収する。また施釉ブース
の床板を強制振動させて床板上に落下した余剰釉薬に強
制的な送りを付与して回収したり、床板に落下した余剰
釉薬をスクレーパーで強制的に掻き落としたり又は釉薬
を吐出するノズルで洗い流したり、エアーノズルで吹き
飛ばしたり、傾斜した又は水平のコンベアによって搬送
して回収する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、施釉ブース内で施
釉ノズルから霧状に釉薬を吹きつけてタイル表面へ施釉
する工程にあって、施釉ブースの床板に付着する余剰の
釉薬を回収する装置に関するものである。
釉ノズルから霧状に釉薬を吹きつけてタイル表面へ施釉
する工程にあって、施釉ブースの床板に付着する余剰の
釉薬を回収する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、タイルを製造する場合の施釉に
は、幕缶内へ貯溜した釉薬を細長いスリット状の出口か
ら流下させてタイル表面へ施釉する幕掛け方法と、施釉
ノズルによって霧状に吹きつける方法と、タイル全体を
タンク内へ貯溜した釉薬の中へどぶづけする浸漬法とが
ある。
は、幕缶内へ貯溜した釉薬を細長いスリット状の出口か
ら流下させてタイル表面へ施釉する幕掛け方法と、施釉
ノズルによって霧状に吹きつける方法と、タイル全体を
タンク内へ貯溜した釉薬の中へどぶづけする浸漬法とが
ある。
【0003】従来の施釉ノズルによる吹き付け方法は、
図9に示すように、タイル1を搬送するための平行に配
設された二本の丸棒状のエンドレスベルト2の途中に、
施釉ブース3を設置し、該ブース3内で施釉ノズル4に
よって釉薬5を霧状に噴霧して行っている。そして、余
剰の釉薬5は、施釉ブース3の傾斜した床板6の上に落
下するようになり、傾斜に沿って回収タンク7へ回収さ
れ、再使用されていた。
図9に示すように、タイル1を搬送するための平行に配
設された二本の丸棒状のエンドレスベルト2の途中に、
施釉ブース3を設置し、該ブース3内で施釉ノズル4に
よって釉薬5を霧状に噴霧して行っている。そして、余
剰の釉薬5は、施釉ブース3の傾斜した床板6の上に落
下するようになり、傾斜に沿って回収タンク7へ回収さ
れ、再使用されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、斑点模様を
形成するための釉薬粒子を、ベースとなる釉薬中に混入
させ、これを図9に示す施釉装置を用いて施釉すると、
斑点模様となる釉薬粒子のみが施釉ブース3の床板6上
に付着堆積し、ベースとなる釉薬のみが回収タンク7へ
回収されていた。これは、斑点模様となる釉薬粒子が極
めて大きく造粒されているために流動性に欠け、傾斜し
た床板6を流下できないためである。なお、斑点模様以
外の他の模様を形成する場合に、その釉薬成分に大きい
粒子を含むものも同じことであった。
形成するための釉薬粒子を、ベースとなる釉薬中に混入
させ、これを図9に示す施釉装置を用いて施釉すると、
斑点模様となる釉薬粒子のみが施釉ブース3の床板6上
に付着堆積し、ベースとなる釉薬のみが回収タンク7へ
回収されていた。これは、斑点模様となる釉薬粒子が極
めて大きく造粒されているために流動性に欠け、傾斜し
た床板6を流下できないためである。なお、斑点模様以
外の他の模様を形成する場合に、その釉薬成分に大きい
粒子を含むものも同じことであった。
【0005】このように調合した釉薬のうちの特定の成
分の釉薬粒子が回収されないと、その調合した釉薬の配
合割合が変化することになり、回収した釉薬は再使用で
きなくなるという欠点があった。そのため、タイル1の
表面へ施釉されずに床板6上へ落下した余剰の釉薬は、
その全部が廃棄処分となり、製造コストがアップする原
因となっていた。
分の釉薬粒子が回収されないと、その調合した釉薬の配
合割合が変化することになり、回収した釉薬は再使用で
きなくなるという欠点があった。そのため、タイル1の
表面へ施釉されずに床板6上へ落下した余剰の釉薬は、
その全部が廃棄処分となり、製造コストがアップする原
因となっていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は従来の前記課題
に鑑みてこれを改良除去したものであって、大きい粒子
の釉薬であっても回収することのできる施釉ブースの釉
薬回収装置を提供せんとするものである。
に鑑みてこれを改良除去したものであって、大きい粒子
の釉薬であっても回収することのできる施釉ブースの釉
薬回収装置を提供せんとするものである。
【0007】而して、前記課題を解決するために本発明
が採用した請求項1の手段は、施釉ブースの傾斜した床
板に撥水材をコーティングしたことを特徴とする施釉ブ
ースの釉薬回収装置である。
が採用した請求項1の手段は、施釉ブースの傾斜した床
板に撥水材をコーティングしたことを特徴とする施釉ブ
ースの釉薬回収装置である。
【0008】本発明が採用した請求項2の手段は、施釉
ブースの傾斜した床板に強制振動機構を設けたことを特
徴とする施釉ブースの釉薬回収装置である。
ブースの傾斜した床板に強制振動機構を設けたことを特
徴とする施釉ブースの釉薬回収装置である。
【0009】本発明が採用した請求項3の手段は、施釉
ブースの傾斜した床板に、撥水材をコーティングすると
共に、強制振動機構を設けたことを特徴とする施釉ブー
スの釉薬回収装置である。
ブースの傾斜した床板に、撥水材をコーティングすると
共に、強制振動機構を設けたことを特徴とする施釉ブー
スの釉薬回収装置である。
【0010】本発明が採用した請求項4の手段は、施釉
ブースの傾斜した床板を、コンベア等の無端搬送手段で
構成したことを特徴とする施釉ブースの釉薬回収装置で
ある。
ブースの傾斜した床板を、コンベア等の無端搬送手段で
構成したことを特徴とする施釉ブースの釉薬回収装置で
ある。
【0011】本発明が採用した請求項5の手段は、施釉
ブースの傾斜した床板に、付着した釉薬を掻き落とすた
めのスクレーパーを設けたことを特徴とする施釉ブース
の釉薬回収装置である。
ブースの傾斜した床板に、付着した釉薬を掻き落とすた
めのスクレーパーを設けたことを特徴とする施釉ブース
の釉薬回収装置である。
【0012】本発明が採用した請求項6の手段は、施釉
ブースの傾斜した床板の表面に、施釉する釉薬と同じ釉
薬を吐出するノズルを設けたことを特徴とする施釉ブー
スの釉薬回収装置である。
ブースの傾斜した床板の表面に、施釉する釉薬と同じ釉
薬を吐出するノズルを設けたことを特徴とする施釉ブー
スの釉薬回収装置である。
【0013】本発明が採用した請求項7の手段は、施釉
ブースの傾斜した床板の表面に、付着した釉薬を吹き飛
ばすためのエアーノズルを設けたことを特徴とする施釉
ブースの釉薬回収装置である。
ブースの傾斜した床板の表面に、付着した釉薬を吹き飛
ばすためのエアーノズルを設けたことを特徴とする施釉
ブースの釉薬回収装置である。
【0014】本発明が採用した請求項8の手段は、施釉
ブース内を通過するタイル搬送手段の下方側に、コンベ
ア等の無端搬送手段を水平状に設置し、該無端搬送手段
の終端側に付着した釉薬を掻き取るためのスクレーパを
配設したことを特徴とする施釉ブースの釉薬回収装置で
ある。
ブース内を通過するタイル搬送手段の下方側に、コンベ
ア等の無端搬送手段を水平状に設置し、該無端搬送手段
の終端側に付着した釉薬を掻き取るためのスクレーパを
配設したことを特徴とする施釉ブースの釉薬回収装置で
ある。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の構成を図面に示
す実施の形態に基づいて説明すると次の通りである。な
お、従来の場合と同一符号は同一部材である。図1は本
発明の第1の実施の形態に係る施釉ブース3を示す縦断
面図である。この実施例にあっては、施釉ブース3の床
板6の表面側に、テフロン等の撥水材8をコーティング
している。施釉ノズル4からの噴霧による釉薬5の施釉
に際し、床板6上へ落下した余剰の釉薬5は、撥水材8
の水をはじく性質により水玉状になり、床板6の傾斜に
沿って容易に流れ落ちるようになり、全ての釉薬成分が
回収タンク7へ回収され、再利用が可能となる。
す実施の形態に基づいて説明すると次の通りである。な
お、従来の場合と同一符号は同一部材である。図1は本
発明の第1の実施の形態に係る施釉ブース3を示す縦断
面図である。この実施例にあっては、施釉ブース3の床
板6の表面側に、テフロン等の撥水材8をコーティング
している。施釉ノズル4からの噴霧による釉薬5の施釉
に際し、床板6上へ落下した余剰の釉薬5は、撥水材8
の水をはじく性質により水玉状になり、床板6の傾斜に
沿って容易に流れ落ちるようになり、全ての釉薬成分が
回収タンク7へ回収され、再利用が可能となる。
【0016】つまり、従来のように、斑点模様釉薬成分
等の特定の釉薬成分のみが床板6上に付着して堆積し、
ベースとなる釉薬成分のみが回収されて、回収された釉
薬の配合割合が異なるようなことはない。
等の特定の釉薬成分のみが床板6上に付着して堆積し、
ベースとなる釉薬成分のみが回収されて、回収された釉
薬の配合割合が異なるようなことはない。
【0017】図2は本発明の第2の実施の形態に係る施
釉ブース3の縦断面図である。この第2の実施例にあっ
ては、施釉ブース3の床板6の下方側に位置するフレー
ム9に、電磁式のフィーダ等の強制振動機構10を設置
している。この強制振動機構10は、床板6に取り付け
られた鉄板11を、電磁石によって引きつけたり、解放
したりし、これを短いサイクルで繰り返すことにより、
床板6上に落下した釉薬5に下り方向の送りを与え、強
制的に回収タンク7へ流れ落ちるようにしたものであ
る。回収された釉薬は、再利用に供される。
釉ブース3の縦断面図である。この第2の実施例にあっ
ては、施釉ブース3の床板6の下方側に位置するフレー
ム9に、電磁式のフィーダ等の強制振動機構10を設置
している。この強制振動機構10は、床板6に取り付け
られた鉄板11を、電磁石によって引きつけたり、解放
したりし、これを短いサイクルで繰り返すことにより、
床板6上に落下した釉薬5に下り方向の送りを与え、強
制的に回収タンク7へ流れ落ちるようにしたものであ
る。回収された釉薬は、再利用に供される。
【0018】ところで、前記図1に示す床板6の表面に
撥水材8をコーティングして釉薬が流れやすいようにす
る技術と、図2に示す強制振動機構10により強制的に
送りを与える技術とは、これを組み合わせて用いること
も可能である。
撥水材8をコーティングして釉薬が流れやすいようにす
る技術と、図2に示す強制振動機構10により強制的に
送りを与える技術とは、これを組み合わせて用いること
も可能である。
【0019】図3は、本発明の第3の実施の形態に係る
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では施
釉ブース3の床板としてベルトコンベア等の無端搬送手
段12を設置している。そして、無端搬送手段12の回
収タンク7側において、掻取具13を設置している。無
端搬送手段12で搬送されて来た余剰の釉薬5は、掻取
具13によって無端搬送手段12から強制的に掻き落と
され、回収タンク7へ回収されて再利用される。
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では施
釉ブース3の床板としてベルトコンベア等の無端搬送手
段12を設置している。そして、無端搬送手段12の回
収タンク7側において、掻取具13を設置している。無
端搬送手段12で搬送されて来た余剰の釉薬5は、掻取
具13によって無端搬送手段12から強制的に掻き落と
され、回収タンク7へ回収されて再利用される。
【0020】図4は、本発明の第4の実施の形態に係る
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、
施釉ブース3の床板6上に自動車のワイパー等のような
モーター駆動が可能なスクレーパー14を設けている。
施釉するときには、スクレーパー14を枢支部15を中
心にして扇形状に往復回動させておけば、床板6上へ落
下した釉薬5を強制的に回収タンク7へ掻き落して回収
することが可能であり、再利用が図れる。
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、
施釉ブース3の床板6上に自動車のワイパー等のような
モーター駆動が可能なスクレーパー14を設けている。
施釉するときには、スクレーパー14を枢支部15を中
心にして扇形状に往復回動させておけば、床板6上へ落
下した釉薬5を強制的に回収タンク7へ掻き落して回収
することが可能であり、再利用が図れる。
【0021】図5は本発明の第5の実施の形態に係る施
釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、床
板6の上部側に釉薬5の吐出ノズル16を設置し、回収
タンク7に回収された釉薬5をポンプ17で汲み上げて
吐出するようにしている。この回収タンク7で回収され
た釉薬5は、施釉ノズル4から霧状に噴出される釉薬5
と同じ成分であり、施釉ノズル4から噴出されて床板6
上へ落下した余剰の釉薬5を前記吐出ノズル16から吐
出される釉薬5によって洗い落とすようにしている。こ
れであれば、同一成分の釉薬5を繰り返し使用すること
が可能となるものである。
釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、床
板6の上部側に釉薬5の吐出ノズル16を設置し、回収
タンク7に回収された釉薬5をポンプ17で汲み上げて
吐出するようにしている。この回収タンク7で回収され
た釉薬5は、施釉ノズル4から霧状に噴出される釉薬5
と同じ成分であり、施釉ノズル4から噴出されて床板6
上へ落下した余剰の釉薬5を前記吐出ノズル16から吐
出される釉薬5によって洗い落とすようにしている。こ
れであれば、同一成分の釉薬5を繰り返し使用すること
が可能となるものである。
【0022】図6は、本発明の第6の実施の形態に係る
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、
前記第5の実施の形態の吐出ノズル16に代えてエアー
ノズル18を設置し、床板6上へ落下した余剰の釉薬5
を圧縮エアーによって回収タンク7へ吹き飛ばして回収
し、再利用するようにしている。
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、
前記第5の実施の形態の吐出ノズル16に代えてエアー
ノズル18を設置し、床板6上へ落下した余剰の釉薬5
を圧縮エアーによって回収タンク7へ吹き飛ばして回収
し、再利用するようにしている。
【0023】図7は、本発明の第7の実施の形態に係る
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、
タイル1の無端搬送手段として水洗いが可能なメッシュ
コンベア19を用い、これを二列に併設している。そし
て、これらのメッシュコンべア19,19の下方に、釉
薬回収用の水平コンベア20を、前記メッシュコンベア
19,19と直交する方向に水平状に設置している。
施釉ブース3の縦断面図である。この実施の形態では、
タイル1の無端搬送手段として水洗いが可能なメッシュ
コンベア19を用い、これを二列に併設している。そし
て、これらのメッシュコンべア19,19の下方に、釉
薬回収用の水平コンベア20を、前記メッシュコンベア
19,19と直交する方向に水平状に設置している。
【0024】前記水平コンベア20は、釉薬をはじきや
すいようにフッ素コーティングが施されており、またゴ
ム、ウレタン等の耐摩耗性に優れた材料とされている。
更に、この水平コンベア20の終端側には、固定式のス
クレーパ21と、釉薬回収用のホッパ22及びタンク7
とが配設されている。スクレーパ21は、水平コンベア
20を傷つけないようにゴム等で成形されており、フッ
素コーティングの施された水平コンベア20よりも摩耗
し易い。従って、メンテナンスに際しては、水平コンベ
ア20の方のフッ素コーティング等を見直したりする必
要はなく、スクレーパ21を交換するだけでよく、その
作業が容易であり、またランニングコストも安価にでき
る。更にまた、施釉ブース3の前後には、集塵フード2
3a及び23bが配設されており、浮遊する釉薬を回収
するようにしている。
すいようにフッ素コーティングが施されており、またゴ
ム、ウレタン等の耐摩耗性に優れた材料とされている。
更に、この水平コンベア20の終端側には、固定式のス
クレーパ21と、釉薬回収用のホッパ22及びタンク7
とが配設されている。スクレーパ21は、水平コンベア
20を傷つけないようにゴム等で成形されており、フッ
素コーティングの施された水平コンベア20よりも摩耗
し易い。従って、メンテナンスに際しては、水平コンベ
ア20の方のフッ素コーティング等を見直したりする必
要はなく、スクレーパ21を交換するだけでよく、その
作業が容易であり、またランニングコストも安価にでき
る。更にまた、施釉ブース3の前後には、集塵フード2
3a及び23bが配設されており、浮遊する釉薬を回収
するようにしている。
【0025】このように構成された水平コンベア20に
よる釉薬回収装置にあっては、メッシュコンベア19,
19によって搬送されたタイル1,1は、施釉ブース3
内において、施釉ノズル4によって釉薬が塗布される。
そして、タイル1,1以外のメッシュコンベア19,1
9を通過した釉薬及び該コンベア19,19以外の領域
に噴出された釉薬は、メッシュコンベア19,19の下
方を直交して駆動する水平コンベア20上に付着し、そ
の終端側へ搬送される。終端側には、スクレーパ21と
ホッパ22及び回収タンク7とが配設されており、スク
レーパ21によって水平コンベア20から強制的に剥離
除去された釉薬は、回収用のホッパー22を経て回収タ
ンク7へ落下し、これに回収される。釉薬回収による効
果は、前述した各実施の形態の場合と同じである。
よる釉薬回収装置にあっては、メッシュコンベア19,
19によって搬送されたタイル1,1は、施釉ブース3
内において、施釉ノズル4によって釉薬が塗布される。
そして、タイル1,1以外のメッシュコンベア19,1
9を通過した釉薬及び該コンベア19,19以外の領域
に噴出された釉薬は、メッシュコンベア19,19の下
方を直交して駆動する水平コンベア20上に付着し、そ
の終端側へ搬送される。終端側には、スクレーパ21と
ホッパ22及び回収タンク7とが配設されており、スク
レーパ21によって水平コンベア20から強制的に剥離
除去された釉薬は、回収用のホッパー22を経て回収タ
ンク7へ落下し、これに回収される。釉薬回収による効
果は、前述した各実施の形態の場合と同じである。
【0026】ところで、本発明は上述した実施の形態に
限定されるものではなく、適宜の変更が可能である。例
えば、施釉ブース3内の傾斜した床板6は、付着した釉
薬5の剥離除去(回収)が容易であるか又は強制的に剥
離除去(回収)する実施の形態にあっては、水平状に設
置することも可能である。また無端搬送手段としては、
メッシュコンベア19,19の場合を説明しているが、
二本のコード状ベルト又は紐状のコンベアベルトでタイ
ルを搬送するようにしてもよく、ステンレス丸棒を搬送
方向と直交する方向に長手方向が来るようにして所定間
隔ごとに多数のものを配列し、これらの両端側をチエー
ンで連結したバーチエーン等でタイルを搬送するように
してもよい。
限定されるものではなく、適宜の変更が可能である。例
えば、施釉ブース3内の傾斜した床板6は、付着した釉
薬5の剥離除去(回収)が容易であるか又は強制的に剥
離除去(回収)する実施の形態にあっては、水平状に設
置することも可能である。また無端搬送手段としては、
メッシュコンベア19,19の場合を説明しているが、
二本のコード状ベルト又は紐状のコンベアベルトでタイ
ルを搬送するようにしてもよく、ステンレス丸棒を搬送
方向と直交する方向に長手方向が来るようにして所定間
隔ごとに多数のものを配列し、これらの両端側をチエー
ンで連結したバーチエーン等でタイルを搬送するように
してもよい。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項1の
手段にあっては、施釉ブースの傾斜した床板に撥水材を
塗布し、余剰釉薬の流動性を良くして回収タンクへ容易
に回収できるようにしたから余剰釉薬の全成分を同時に
回収することができ、回収した釉薬の再利用が可能であ
る。
手段にあっては、施釉ブースの傾斜した床板に撥水材を
塗布し、余剰釉薬の流動性を良くして回収タンクへ容易
に回収できるようにしたから余剰釉薬の全成分を同時に
回収することができ、回収した釉薬の再利用が可能であ
る。
【0028】また本発明の請求項2〜8の手段にあって
は、床板を強制振動させて床板上に落下した余剰釉薬に
強制的な送りを付与して回収したり、床板に落下した余
剰釉薬を強制的に掻き落としたり又は洗い流したり、吹
き飛ばしたりして回収しており、いずれの方法によって
も余剰釉薬の全成分を同時に回収して再利用を図ること
が可能である。
は、床板を強制振動させて床板上に落下した余剰釉薬に
強制的な送りを付与して回収したり、床板に落下した余
剰釉薬を強制的に掻き落としたり又は洗い流したり、吹
き飛ばしたりして回収しており、いずれの方法によって
も余剰釉薬の全成分を同時に回収して再利用を図ること
が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る施釉ブースの縦断
面図である。
面図である。
【図2】本発明の第2の実施例に係る施釉ブースの縦断
面図である。
面図である。
【図3】本発明の第3の実施例に係る施釉ブースの縦断
面図である。
面図である。
【図4】本発明の第4の実施例に係る施釉ブースの縦断
面図である。
面図である。
【図5】本発明の第5の実施例に係る施釉ブースの縦断
面図である。
面図である。
【図6】本発明の第6の実施例に係る施釉ブースの縦断
面図である。
面図である。
【図7】本発明の第7の実施の形態に係る施釉ブースの
斜視図である。
斜視図である。
【図8】本発明の第7の実施の形態に係る施釉ブースの
側面図である。
側面図である。
【図9】従来の施釉ブースを示す縦断面図である。
1…タイル 2…タイル搬
送手段 3…施釉ブース 4…施釉ノズ
ル 5…釉薬 6…床板 7…回収タンク 8…撥水材 10…強制振動機構 12…無端搬
送手段 14…スクレーパー 16…吐出ノ
ズル 18…エアーノズル 19…メッシ
ュコンベア 20…水平コンベア
送手段 3…施釉ブース 4…施釉ノズ
ル 5…釉薬 6…床板 7…回収タンク 8…撥水材 10…強制振動機構 12…無端搬
送手段 14…スクレーパー 16…吐出ノ
ズル 18…エアーノズル 19…メッシ
ュコンベア 20…水平コンベア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平林 和夫 岐阜県恵那郡明智町大田字吉原1125−3 株式会社明智イナックス内
Claims (8)
- 【請求項1】施釉ブースの傾斜した床板に撥水材をコー
ティングしたことを特徴とする施釉ブースの釉薬回収装
置。 - 【請求項2】施釉ブースの傾斜した床板に強制振動機構
を設けたことを特徴とする施釉ブースの釉薬回収装置。 - 【請求項3】施釉ブースの傾斜した床板に、撥水材をコ
ーティングすると共に、強制振動機構を設けたことを特
徴とする施釉ブースの釉薬回収装置。 - 【請求項4】施釉ブースの傾斜した床板を、コンベア等
の無端搬送手段で構成したことを特徴とする施釉ブース
の釉薬回収装置。 - 【請求項5】施釉ブースの傾斜した床板に、付着した釉
薬を掻き落とすためのスクレーパーを設けたことを特徴
とする施釉ブースの釉薬回収装置。 - 【請求項6】施釉ブースの傾斜した床板の表面に、施釉
する釉薬と同じ釉薬を吐出するノズルを設けたことを特
徴とする施釉ブースの釉薬回収装置。 - 【請求項7】施釉ブースの傾斜した床板の表面に、付着
した釉薬を吹き飛ばすためのエアーノズルを設けたこと
を特徴とする施釉ブースの釉薬回収装置。 - 【請求項8】施釉ブース内を通過するタイル搬送手段の
下方側に、コンベア等の無端搬送手段を水平状に設置
し、該無端搬送手段の終端側に付着した釉薬を掻き取る
ためのスクレーパを配設したことを特徴とする施釉ブー
スの釉薬回収装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12891396A JPH0930876A (ja) | 1995-05-15 | 1996-04-15 | 施釉ブースの釉薬回収装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-159722 | 1995-05-15 | ||
JP15972295 | 1995-05-15 | ||
JP12891396A JPH0930876A (ja) | 1995-05-15 | 1996-04-15 | 施釉ブースの釉薬回収装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0930876A true JPH0930876A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=26464476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12891396A Pending JPH0930876A (ja) | 1995-05-15 | 1996-04-15 | 施釉ブースの釉薬回収装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0930876A (ja) |
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1996
- 1996-04-15 JP JP12891396A patent/JPH0930876A/ja active Pending
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