JPH09286929A - 艶消し被覆用光硬化性組成物及びそれを用いた合成樹脂成形品 - Google Patents
艶消し被覆用光硬化性組成物及びそれを用いた合成樹脂成形品Info
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- JPH09286929A JPH09286929A JP8122476A JP12247696A JPH09286929A JP H09286929 A JPH09286929 A JP H09286929A JP 8122476 A JP8122476 A JP 8122476A JP 12247696 A JP12247696 A JP 12247696A JP H09286929 A JPH09286929 A JP H09286929A
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Abstract
安定した艶消し度を有する艶消し硬化被膜を形成し、し
かも細かい艶消し柄目の硬化被膜を形成し得る光硬化性
組成物、及び該組成物を用いた合成樹脂成形品を提供す
る。 【解決手段】 分子中に1個以上の(メタ)アクリロ
イルオキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステル誘導
体、光重合開始剤、有機溶剤に分散された超微粒子
シリカとその超微粒子シリカを凝集させるに可能なアミ
ン化合物とから得られる凝集物、及び疎水性シリカを
含有することを特徴とする艶消し被覆用光硬化性組成
物、並びに該組成物を合成樹脂成型品に塗布した後、活
性エネルギー線を照射して表面に艶消し硬化被膜を形成
させた合成樹脂成型品。
Description
る光硬化性組成物、及び該組成物を用いた合成樹脂成形
品に関するものである。
するには、一般に艶消し塗料が使用されている。近年、
艶消し塗料として、活性エネルギー線を照射して表面に
艶消し硬化被膜を形成する、艶消し被覆用光硬化性組成
物が使用されている。艶消し被覆用光硬化性組成物は、
目的に応じた艶消し外観、即ち艶消し度をだすために母
体の光硬化性組成物に所定の艶消し剤を分散・混合して
調製されている。これに用いられる艶消し剤は無機系、
有機系の微粉末に大別される。無機系艶消し剤としては
タルク、硫酸バリウム、無水ケイ酸(シリカ)等の微粉
末、有機系艶消し剤としてはポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート等の微粉末が使用されている
が、これらの中でもシリカの微粉末が多用されている。
剤とする艶消し被覆用光硬化性組成物は、その経時分散
安定性が悪い。即ち、このものを長期間保存しておく
と、シリカ微粉末が沈降してしまい再分散が不可能なケ
ーキングが起こるという問題がある。また、従来艶消し
を発現し得るシリカ微粉末としては、数mμ〜数十μの
粒径のものが使用されているが、このシリカ微粉末では
細かい柄目の艶消し硬化被膜を得るのが困難であった。
そのため、本発明者らはこれらの問題を解決することの
できる艶消し剤として特願平7−269303号では有
機溶剤に分散された超微粒子シリカ(以下、コロイダル
シリカという。)とその超微粒子シリカを凝集させるに
可能なヒンダードアミン系光安定剤とから得られる凝集
物、特願平7−239123号ではコロイダルシリカと
その超微粒子シリカを凝集させるに可能な含窒素ポリマ
ーとから得られる凝集物等、及びこれらの凝集物を含有
する艶消し被覆用光硬化性組成物の提案を行っている。
当該艶消し被覆用光硬化性組成物について更に検討した
ところ、当該組成物に剪断力をかけると、その艶消し硬
化被膜は、剪断力を受けない場合に比べて艶消し度がか
なり低くなって安定しないという欠点があること、及び
この低下の原因が剪断力によって凝集物が崩れることに
あるという知見を得た。このように、先に本発明者らが
提案した艶消し被覆用光硬化性組成物は、剪断力がかか
ることによって所望の艶消し度を有する艶消し硬化被膜
が得がたいので、剪断力を受ける環境下での使用には満
足できるものではない。
を解決して、経時分散安定性に優れ且つ剪断力を受けて
も安定した艶消し度を有する艶消し硬化被膜を形成し、
しかも細かい艶消し柄目の硬化被膜を形成することがで
きる光硬化性組成物、及び該光硬化性組成物を用いた合
成樹脂成形品を提供することにある。
達成するために、分子中に1個以上の(メタ)アクリロ
イルオキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステル誘導
体(a)[以下、(メタ)アクリル酸エステル誘導体
(a)という。]、光重合開始剤(b)、有機溶剤に分
散された超微粒子シリカ(c)[以下、コロイダルシリ
カ(c)という。]とその超微粒子シリカを凝集させる
に可能なアミン化合物(d)[以下、アミン化合物
(d)という。]とから得られる凝集物、及び疎水性シ
リカ(e)を含有する光硬化性組成物について検討した
ところ、該光硬化性組成物は経時分散安定性に優れてお
り、剪断力の影響を受けにくく、その硬化被膜は安定し
た艶消し度を呈することを見出した。更に、コロイダル
シリカ(c)、アミン化合物(d)及び疎水性シリカ
(e)の種類、量等を適宜選べば細かい艶消し柄目の硬
化被膜が得られることを見出した。
得られる凝集物、及び 疎水性シリカ(e) を含有することを特徴とする艶消し被覆用光硬化性組成
物、並びに該艶消し被覆用光硬化性組成物を合成樹脂成
形品に塗布した後、活性エネルギー線を照射して表面に
艶消し硬化被膜を形成させた合成樹脂成形品に関するも
のである。
いては、コロイダルシリカ(c)とアミン化合物(d)
とから得られる凝集物及び疎水性シリカ(e)が艶消し
剤として機能するものであって、これらにより上記のよ
うな効果が得られるものと考えられる。
テル誘導体(a)とは、分子中に1個以上の(メタ)ア
クリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートモノ
マー[以下、(メタ)アクリレートモノマーとい
う。]、分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキ
シ基を有する(メタ)アクリレートオリゴマー[以下、
(メタ)アクリレートオリゴマーという。]等の(メ
タ)アクリロイルオキシ基含有化合物の少なくとも1種
である。なお、(メタ)アクリロイルオキシ基とはアク
リロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基を、(メ
タ)アクリル酸エステル誘導体とはアクリル酸エステル
誘導体及びメタクリル酸エステル誘導体を意味し、(メ
タ)アクリレートモノマー及び(メタ)アクリレートオ
リゴマーについても同様である。
分子中に1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する
単官能(メタ)アクリレートモノマー[以下、単官能
(メタ)アクリレートモノマーという。]、分子中に2
個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する2官能(メ
タ)アクリレートモノマー[以下、2官能(メタ)アク
リレートモノマーという。]及び分子中に少なくとも3
個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能(メ
タ)アクリレートモノマー[以下、多官能(メタ)アク
リレートモノマーという。]が挙げられる。(メタ)ア
クリレートモノマーは1種又は2種以上使用できる。
体例としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3
−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、イソブチ
ル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレ
ート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シク
ロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル
(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェノキシエ
チル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレ
ート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アク
リレートの他、カルボキシル基含有の(メタ)アクリレ
ートモノマーとして、2−(メタ)アクリロイルオキシ
エチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルヘキサヒドロフタル酸、カルボキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコ
ハク酸、N−(メタ)アクリロイルオキシ−N’,N’
−ジカルボキシ−p−フェニレンジアミン、4−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルトリメリット酸などが挙
げられる。また、単官能(メタ)アクリレートモノマー
には、N−ビニルピロリドンのようなビニル基含有モノ
マー及び4−(メタ)アクリロイルアミノ−1−カルボ
キシメチルピペリジンのような(メタ)アクリロイルア
ミノ基含有モノマーが包含される。
ては、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート
類、ポリオキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリ
レート類、ハロゲン置換アルキレングリコールジ(メ
タ)アクリレート類、脂肪族ポリオールのジ(メタ)ア
クリレート、ビスフェノールA又はビスフェノールFの
アルキレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート
類、ビスフェノールA又はビスフェノールFのエポキシ
ジ(メタ)アクリレート類等が代表的なものであるが、
これらに限定されるものではなく種々のものが使用でき
る。2官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例とし
ては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,
4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−
ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノ
ナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグ
リコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ
(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ートの他、シリコンジ(メタ)アクリレート、ヒドロキ
シピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタ)アクリ
ロイルオキシエトキシエトキシフェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシエトキ
シエトキシシクロヘキシル]プロパン、2,2−ビス
[4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシエトキシフ
ェニル]メタン、水添ジシクロペンタジエニルジ(メ
タ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレートジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
ては、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3価以上の脂
肪族ポリオールのポリ(メタ)アクリレートが代表的な
ものであり、その他に、3価以上のハロゲン置換ポリオ
ールのポリ(メタ)アクリレート、グリセリンのアルキ
レンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリ
(メタ)アクリレート、1,1,1−トリス[(メタ)
アクリロイルオキシエトキシエトキシ]プロパン、トリ
ス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)
アクリレート類、シリコンヘキサ(メタ)アクリレート
などが挙げられる。
は、2官能以上の多官能ウレタン(メタ)アクリレート
オリゴマー[以下、多官能ウレタン(メタ)アクリレー
トオリゴマーという。]、2官能以上の多官能ポリエス
テル(メタ)アクリレートオリゴマー[以下、多官能ポ
リエステル(メタ)アクリレートオリゴマーとい
う。]、2官能以上の多官能エポキシ(メタ)アクリレ
ートオリゴマー[以下、多官能エポキシ(メタ)アクリ
レートオリゴマーという。]などが挙げられる。(メ
タ)アクリレートオリゴマーは1種又は2種以上使用で
きる。
ゴマーとしては、1分子中に(メタ)アクリロイルオキ
シ基及び水酸基をそれぞれ少なくとも1個有する(メ
タ)アクリレートモノマーとポリイソシアネートとのウ
レタン化反応生成物、ポリオール類をポリイソシアネー
トと反応させて得られるイソシアネート化合物と1分子
中に(メタ)アクリロイルオキシ基及び水酸基をそれぞ
れ少なくとも1個有する(メタ)アクリレートモノマー
とのウレタン化反応生成物などが挙げられる。
なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基及び水酸
基を有する(メタ)アクリレートモノマーとしては、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)
アクリレートなどが挙げられる。
ネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リ
ジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、これら
ジイソシアネートのうち芳香族のイソシアネート類を水
素添加して得られるジイソシアネート(例えば水素添加
トリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソ
シアネートなどのジイソシアネート)、トリフェニルメ
タントリイソシアネート、ジメチレントリフェニルトリ
イソシアネートなどのジ又はトリのポリイソシアネー
ト、或はジイソシアネートを多量化させて得られるポリ
イソシアネートなどが挙げられる。
としては、一般的に芳香族、脂肪族及び脂環式のポリオ
ールの他、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリ
オール等が使用される。通常、脂肪族及び脂環式のポリ
オールとしては、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、
ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジメ
チロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチ
ロールブチリオン酸、グリセリン、水添ビスフェノール
Aなどが挙げられる。
ポリオール類と多塩基性カルボン酸(無水物)との脱水
縮合反応により得られるものである。多塩基性カルボン
酸の具体的な化合物としては、(無水)コハク酸、アジ
ピン酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、
(無水)トリメリット酸、(無水)ピロメリット酸、ヘ
キサヒドロ(無水)フタル酸、(無水)フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸などが挙げられる。また、ポリ
エーテルポリオールとしてはポリアルキレングリコール
の他、前記ポリオール又はフェノール類とアルキレンオ
キサイドとの反応により得られるポリオキシアルキレン
変性ポリオールが挙げられる。
レートオリゴマーは、(メタ)アクリル酸、多塩基性カ
ルボン酸(無水物)及びポリオールの脱水縮合反応によ
り得られる。脱水縮合反応に用いられる多塩基性カルボ
ン酸(無水物)としては、(無水)コハク酸、アジピン
酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、(無
水)トリメリット酸、(無水)ピロメリット酸、ヘキサ
ヒドロ(無水)フタル酸、(無水)フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸などが挙げられる。また、脱水縮合
反応に用いられるポリオールとしては1,4−ブタンジ
オール、1,6−ヘキサンジオール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリ
メチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプ
ロピオン酸、ジメチロールブチリオン酸、グリセリン、
水添ビスフェノールAなどが挙げられる。
トオリゴマーは、ポリグリシジルエーテルと(メタ)ア
クリル酸との付加反応により得られる。ポリグリシジル
エーテルとしては、エチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、
トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,
6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールAジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
ルギー線の照射による本発明の組成物の硬化を開始する
ものであり、一般に知られる光重合開始剤を使用するこ
とができる。具体的には、ベンゾイン、ベンゾフェノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセト
フェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイ
ルパーオキシドなどが挙げられるがこの限りではない。
て、分散溶剤である有機溶剤としては、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、エチレン
グリコール、エチレングリコールモノエチルエーテル
(以下、エチルセロソルブという。)、エチレングリコ
ールモノn−プロピルエーテル等のアルコール系溶剤、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジ
メチルアセトアミド等が挙げられ、これらの1種又は2
種以上を使用できる。
はその超微粒子シリカの粒径及び濃度は特に限定される
ものではなく、例えば市販品として入手が容易な分散液
中に超微粒子シリカを約20〜40重量%含有するもの
が使用できる。市販品のコロイダルシリカ(c)として
は、例えば、有機溶剤がメチルアルコールである商品名
メタノールシリカゾル[シリカ粒径:10〜15mμ、
固形分:30重量%、日産化学工業(株)製]、商品名
MA−ST−M[シリカ粒径:20〜25mμ、固形
分:40重量%、日産化学工業(株)製]もしくは商品
名OSCAL1132[シリカ粒径:10〜20mμ、
固形分:30〜31重量%、触媒化成工業(株)製]、
該溶剤がエチルアルコールである商品名OSCAL12
32[シリカ粒径:10〜20mμ、固形分:30〜3
1重量%、触媒化成工業(株)製]、該溶剤がn−プロ
ピルアルコールである商品名OSCAL1332[シリ
カ粒径:10〜20mμ、固形分:30〜31重量%、
触媒化成工業(株)製]、該溶剤がイソプロピルアルコ
ールである商品名IPA−ST[シリカ粒径:10〜1
5mμ、固形分:30重量%、日産化学工業(株)製]
もしくは商品名OSCAL1432[シリカ粒径:10
〜20mμ、固形分:30〜31重量%、触媒化成工業
(株)製]、該溶剤がn−ブチルアルコールである商品
名NBA−ST[シリカ粒径:10〜15mμ、固形
分:20重量%、日産化学工業(株)製]もしくは商品
名OSCAL1532[シリカ粒径:10〜20mμ、
固形分:30〜31重量%、触媒化成工業(株)製]、
該溶剤がエチレングリコールである商品名EG−ST
[シリカ粒径:10〜15mμ、固形分:20重量%、
日産化学工業(株)製]、該溶剤がエチルセロソルブで
ある商品名OSCAL1632[シリカ粒径:10〜2
0mμ、固形分:30〜31重量%、触媒化成工業
(株)製]、該溶剤がエチレングリコールモノn−プロ
ピルエーテルである商品名NPC−ST[シリカ粒径:
10〜15mμ、固形分:30重量%、日産化学工業
(株)製]もしくは商品名NPC−ST−2[シリカ粒
径:400〜500mμ、固形分:20重量%、日産化
学工業(株)製]、該溶剤がジメチルアセトアミドであ
る商品名DMAC−ST[シリカ粒径:10〜15m
μ、固形分:20重量%、日産化学工業(株)製]もし
くは商品名DMAC−ST−ZL[シリカ粒径:70〜
100mμ、固形分:20重量%、日産化学工業(株)
製]、該溶剤がキシレン及びn−ブチルアルコールの混
合溶剤である商品名XBA−ST[シリカ粒径:10〜
15mμ、固形分:30重量%、日産化学工業(株)
製]、該溶剤がメチルイソブチルケトンである商品名M
IBK−ST[シリカ粒径:10〜15mμ、固形分:
30重量%、日産化学工業(株)製]等が挙げられる。
コロイダルシリカ(c)は、これらの1種又は2種以上
使用できる。
のアミン構造を有する低分子化合物から高分子化合物ま
でのものを意味する。アミン構造としては第一級アミン
構造、第二級アミン構造、第三級アミン構造が挙げられ
る。アミン化合物(d)が有する複数個のアミン構造
は、同一であっても異なってもよい。
る低分子化合物 分子中に複数個のアミン構造を有する低分子化合物と
は、その分子量が約60から約1000未満であって分
子中のアミン構造が2個以上のものを指す。その具体例
としては、下記の脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミ
ン、芳香族ポリアミン、アミン構造としての環状ヒンダ
ードアミン構造を複数個分子内に有する含窒素複素環式
ポリアミン[以下、環状ヒンダードアミン化合物(1)
という。]、環状ヒンダードアミン化合物(1)以外の
含窒素複素環式ポリアミン等が挙げられる。
ミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、ヘキサメチレ
ンジアミン、2,5−ジアミノ−2,5−ジメチルヘキ
サン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、N,N−ジメチルアミノプロピルアミン、N,N−
ジエチルアミノプロピルアミン、アミノエチルエタノー
ルアミン等の脂肪族ジアミン;ジエチレントリアミン、
ジプロピレントリアミン、1,3,6−トリ(メチルア
ミノ)ヘキサン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、
N−(3−アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミ
ン、N−(3ーアミノプロピル)−N−メチル−1,3
−プロパンジアミン等の脂肪族トリアミン;トリエチレ
ンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族テ
トラもしくはペンタアミン;N−(アミノエチル)エタ
ノールアミン等のアルカノールジアミンなど。
シクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノシクロヘキ
シル)メタン、メンセンジアミン、ビス(アミノメチ
ル)シクロヘキサン、3,9−ビス(3−アミノプロピ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,
5)ウンデカン等。
−キシリレンジアミン、ビス(4−アミノフェニル)メ
タン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(4
−アミノ−3−エチルフェニル)メタン等。
ルキル基を示す。R5は水素原子、アルキル基、アセチ
ル基又はアルコキシ基を示す。)で表わされる一価の
基、当該一価の基からR5又はピペリジン環の4位の水
素原子を除いた二価の基、一般式(B):
わされる一価の基などが挙げられる。具体的には2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル基、1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル基、4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジル基、
2,2,6,6−テトラメチル−1,4−ピペリジンジ
イル基などが挙げられる。好ましい環状ヒンダードアミ
ン構造としては、2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル基、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル基が挙げられる。
例としては、セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)[市販品としては商品名スミ
ソーブ577、住友化学工業(株)製]、セバシン酸ビ
ス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)[市販品としては商品名サノールLS−765、三
共(株)製]、テトラキス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート[市販品としては商品名アデカスタブ
LA−57、旭電化工業(株)製]、テトラキス(1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,
2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート[市販品と
しては商品名アデカスタブLA−52、旭電化工業
(株)製]、(混合2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル/トリデシル)1,2,3,4−ブタンテ
トラカルボキシレート[市販品としては商品名アデカス
タブLA−67、旭電化工業(株)製]、(混合1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル/トリ
デシル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレー
ト[市販品としては商品名アデカスタブLA−62、旭
電化工業(株)製]、8−アセチル−3−ドデシル−
7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザ
スピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン[市販品とし
ては商品名サノ−ルLS−440、三共(株)製]等が
挙げられる。
含窒素複素環式ポリアミン N−アミノエチルピペラジン、1,3−ジ(4−ピペリ
ジル)プロパン、2−アミノピリジン、3−アミノピリ
ジン、4−アミノピリジン、2,3−ジアミノピリジ
ン、2,5−ジアミノピリジン、2,6−ジアミノピリ
ジン、2−ピリジンメタンアミン、3−ピリジンメタン
アミン、4−ピリジンメタンアミン、4,4´−ジピリ
ジル、1,3−ジ(4−ピリジル)エチレン、ビニルピ
リジン系テロマー、ビニルピリジン系オリゴマー等。
る高分子化合物 分子中に複数個のアミン構造を有する高分子化合物と
は、その分子量が1000以上であって分子中のアミン
構造が平均2個以上の含窒素オリゴマーもしくはポリマ
ー(以下、これらを総称して単に含窒素ポリマーとい
う。)を指す。この含窒素ポリマーには、上記のような
環状ヒンダードアミン構造を分子中に平均2個以上有す
るオリゴマータイプもしくはポリマータイプの光安定
剤、当該環状ヒンダードアミン構造を分子中に1個有す
る重合性光安定剤のポリマー[以下、これらを総称して
環状ヒンダードアミン化合物(2)という。]、重合性
アミンの単独重合体、重合性アミンの2種以上の共重合
体、重合性アミンの1種又は2種以上とオレフィン性不
飽和基を有するモノマー(ただし、重合性アミンを除
く。)との共重合体等が挙げられる。
は、分子量約2000の混合{1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジル/β,β,β′,β′−テ
トラメチル−3,9−〔2,4,8,10−テトラオキ
サスピロ(5.5)ウンデカン〕ジエチル}−1,2,
3,4−ブタンテトラカルボキシレート[市販品として
は商品名アデカスタブLA−63又は63P、旭電化工
業(株)製]、分子量約1900の混合{2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル/β,β,β′,
β′−テトラメチル−3,9−〔2,4,8,10−テ
トラオキサスピロ(5.5)ウンデカン〕ジエチル}−
1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート[市販
品としては商品名アデカスタブLA−68LD、旭電化
工業(株)製]、2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルメタアクリレート[市販品としては商品名ア
デカスタブLA−87、旭電化工業(株)製]の単独重
合体、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピぺリ
ジルメタアクリレート[市販品としては商品名アデカス
タブLA−82、旭電化工業(株)製]の単独重合体等
が挙げられる。
ミン構造を有するビニルモノマー、分子中に1個のアミ
ン構造を有するイソプロペニルモノマーなどの重合性モ
ノアミンが好ましい。重合性モノアミンとしては、ビニ
ルアミン、アリルアミン等の分子中に第一級アミン構造
を有するビニルモノマー;ジアリルアミン、N−メチル
アリルアミン、N−エチルアリルアミン等の分子中に第
二級アミン構造を有するビニルモノマー;2−ビニルピ
リジン、3−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン等の
ビニルピリジン、2−メチル−5−ビニルピリジン、2
−メチル−6−ビニルピリジン、5−メチル−2−ビニ
ルピリジン等のアルキル−ビニルピリジンなどの異原子
として窒素原子を有する複素芳香環を分子中の第三級ア
ミン構造とするビニルモノマー;N−ビニル−2−ピロ
リドン、N−ビニルカルバゾール、N−アクリロイルモ
ルホリン等の異原子が窒素原子であってその窒素原子が
置換基を有する非芳香性複素環を分子中の第三級アミン
構造とするビニルモノマー;トリアリルアミン、N−メ
チルジアリルアミン、N,N−ジメチルアリルアミン、
N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等
のN,N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレ
ート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエ
チルアクリルアミド、N−[3−(ジメチルアミノ)プ
ロピル]メタアクリルアミド等の分子中に脂肪族第三級
アミン構造を有するビニルもしくはイソプロペニルモノ
マーなどが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。
オレフィン性不飽和基を有するモノマー(ただし、重合
性アミンは除く。)としては、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アク
リレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー
ト、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、ブチル(メタ)アクリレートなどのアルキル
(メタ)アクリレート、スチレン、酢酸ビニル、アクリ
ロニトリル等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
状ヒンダードアミン化合物(1)及び(2)、異原子と
して窒素原子を有する複素芳香環を分子中のアミン構造
とするビニルモノマーの単独重合体もしくは共重合体、
並びにN,N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アク
リレートの単独重合体、N,N−ジアルキルアミノアル
キル(メタ)アクリレートとスチレン又はヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートとの共重合体である。異原
子として窒素原子を有する複素芳香環を分子中のアミン
構造とするビニルモノマーの単独重合体もしくは共重合
体の中では、ビニルピリジン、アルキル−ビニルピリジ
ンなどのビニルピリジン類の単独重合体、N,N−ジア
ルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、スチレン
又はヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとビニル
ピリジン類との共重合体等のビニルピリジン系ポリマー
が好ましい。
水性シリカ粉末などが挙げられ、これらはいかなる製造
方法で得られたものでも差し支えない。好ましい疎水性
シリカ(e)としては親水性シリカ粉末の表面にあるシ
ラノール基を有機ケイ素化合物で処理したものである。
は、商品名ニップシールSS−50F[平均粒子径:
1.0μ、日本シリカ工業(株)製]、商品名ニップシ
ールSS−50[平均粒子径:1.3μ、日本シリカ工
業(株)製]、商品名サイロホービック100[平均粒
子径:1.4μ、富士シリシア化学(株)製]、商品名
ニップシールSS−20[平均粒子径:1.7μ、日本
シリカ工業(株)製]、商品名サイロホービック200
[平均粒子径:1.8μ、富士シリシア化学(株)
製]、商品名ニップシールSS−15[平均粒子径:
2.5μ、日本シリカ工業(株)製]、商品名サイロホ
ービック702[平均粒子径:2.5μ、富士シリシア
化学(株)製]、商品名ニップシールSS−50A[平
均粒子径:2.3μ、日本シリカ工業(株)製]、商品
名ニップシールSS−40[平均粒子径:2.5μ、日
本シリカ工業(株)製]、商品名ニップシールSS−1
0[平均粒子径:2.7μ、日本シリカ工業(株)
製]、商品名サイロホービック704[平均粒子径:
3.5μ、富士シリシア化学(株)製]、商品名ニップ
シールSS−70[平均粒子径:4.1μ、日本シリカ
工業(株)製]、商品名ニップシールSS−30p[平
均粒子径:8.6μ、日本シリカ工業(株)製]などの
市販品が挙げられ、これらの1種又は2種以上使用でき
る。
(メタ)アクリル酸エステル誘導体(a)、光重合開始
剤(b)、コロイダルシリカ(c)及び疎水性シリカ
(e)を混合し、次にこの混合物にアミン化合物(d)
を添加、混合するだけで得ることができる。また先ず凝
集物を製造するためコロイダルシリカ(c)とアミン化
合物(d)とを混合し、次いでこの混合物に(メタ)ア
クリル酸エステル誘導体(a)、光重合開始剤(b)及
び疎水性シリカ(e)を添加、混合しても得ることがで
きる。後者の方法は(メタ)アクリル酸エステル誘導体
(a)としてアミノ基含有の(メタ)アクリル酸エステ
ルを使用するときに好適である。
アクリル酸エステル誘導体(a)100重量部に対し1
〜10重量部、好ましくは2〜5重量部使用される。光
重合開始剤の使用量が上記範囲よりも多いと硬化被膜が
着色したり、また上記範囲よりも少ないと充分な硬化速
度が得られない。
(d)との配合割合は、通常、コロイダルシリカ(c)
中の超微粒子シリカ100重量部に対してアミン化合物
(d)が0.5〜60重量部、好ましくは1〜50重量
部である。アミン化合物(d)の配合量が、上記範囲よ
りも多いとコロイダルシリカ(c)とアミン化合物
(d)とから得られる凝集物の凝集をコントロールする
ことが困難となり、硬化被膜に艶ブレないしブツが生じ
るなど良好な外観を有する艶消し硬化被膜が得られ難
い。また上記範囲よりも少ないと艶消しを発現し得る大
きさまでの凝集物が得られ難い。
クリル酸エステル誘導体(a)100重量部に対して1
〜30重量部、好ましくは2〜20重量部使用される。
疎水性シリカの重量が30重量部よりも多いと、硬化被
膜に艶ブレないしブツが生じるなど良好な外観を有する
艶消し硬化被膜が得られ難い。また疎水性シリカの重量
が上記範囲よりも少ないと、剪断力により安定した艶消
し度を呈する硬化被膜が得られがたい。
子シリカと、疎水性シリカ(e)との配合割合は10重
量%:90重量%〜90重量%〜10重量%、好ましく
は20重量%:80重量%〜80重量%:20重量%で
ある。コロイダルシリカ(c)の超微粒子シリカが10
重量%よりも少ないと、経時分散安定性が不良となり、
90重量%を越えると剪断力によりコロイダルシリカ
(c)とアミン化合物(d)とから得られる凝集物が壊
れ易くなるので好ましくない。
は、アミン化合物(d)に環状ヒンダードアミン化合物
を使用した場合、環状ヒンダードアミン化合物の使用量
が前述したアミン化合物(d)の使用範囲内にあれば、
環状ヒンダードアミン化合物が本来の光安定剤としての
性質を発現し、耐候性のある硬化被膜を形成するものと
なる。
には、分子中に1個の環状ヒンダードアミン構造を有す
る化合物からなる光安定剤を配合してもよい。具体的に
は、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン[市販品としては商品名サノールLS−
744、三共(株)製]、1−[2−{3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ}エチル]−4−{3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン[市販品と
しては商品名サノールLS−2626、三共(株)製]
等が挙げられる。
は、溶剤、種々の添加剤、例えば増粘剤、酸化防止剤、
紫外線吸収剤を配合しても差し支えない。
ピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチル
アルコール等のアルコール類、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチルセロソルブ、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル
等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類等の
アルコール系溶剤がコロイダルシリカ(c)とアミン化
合物(d)とから得られる凝集物の分散安定性の面で特
に好ましく、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類等も用いること
ができる。
通常、適切な溶剤と混合し合成樹脂成形品に塗布した
後、紫外線を照射して硬化させる。紫外線以外の活性エ
ネルギー線、例えばα線、β線、γ線、電子線等を照射
して硬化させることもできる。
面塗布する合成樹脂成形品の基材としては、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂の区別なく使用され、例えば、ポリメ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリルジ
グリコールカーボネート樹脂、ABS樹脂、ポリスチロ
ール、PVC、ポリエステル樹脂、アセテート樹脂等が
用いられる。また、合成樹脂成形品の形状としては、一
般の成形品の他、シート、フィルム等も対象となる。
装、スプレー塗装、ロール塗装、浸漬法等公知の方法を
適宜用いればよい。要は所望の均一な厚みと、平滑な表
面が得られる方法であればよく、被塗布物の形状に応じ
て、適宜選ぶことができる。被膜の厚みとしては、通常
0.5〜20μ、好ましくは1.0〜10μの範囲であ
る。
れらは例示的なものであり、本発明はこれらに限定され
るものではない。なお以下の実施例及び比較例において
使用した、(メタ)アクリル酸エステル誘導体(a)、
コロイダルシリカ(c)、疎水性シリカ(e)及びアミ
ン化合物(d)についての略称は以下の通りである。
(a)> A:ペンタエルリスリトールトリアクリレート88重量
部とヘキサメチレンジイソシアネート12重量部との反
応により得られるウレタンアクリレートオリゴマー[数
平均分子量:450〜550] B:ペンタエリスリトールトリアクリレート82重量部
とイソホロンジイソシアネート18重量部との反応によ
り得られるウレタンアクリレートオリゴマー[数平均分
子量:550〜600] C:エベクリルEB−220[ウレタンアクリレート、
ダイセル・ユーシービー(株)製] D:エベクリルEB−1830[ポリエステルアクリレ
ート、ダイセル・ユーシービー(株)製] E:カヤラッドR−712[ビスフェノールFエチレン
オキシド付加ジアクリレート、日本化薬(株)製]
リカ(e)> a:IPA−ST[平均粒径10〜15mμのシリカの
30重量%のイソプロパノール分散液、日産化学工業
(株)製] b:サイロホービック200[平均粒径1.8μの疎水
性シリカ、富士シリシア化学(株)製] c:サイロホービック100[平均粒径1.4μの疎水
性シリカ、富士シリシア化学(株)製] d:ニップシールSS−50F[平均粒径1.0μの疎
水性シリカ、日本シリカ工業(株)製]
混合{1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル/β,β,β′,β′−テトラメチル−3,9−
〔2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウ
ンデカン〕ジエチル}−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、旭電化工業(株)製] f:スミソーブ577[セバシン酸ビス(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)、住友化学工業
(株)製]
コロイダルシリカ(c)、疎水性シリカ(e)、光重合
開始剤(b)及びアミン化合物(d)を用いて艶消し被
覆用光硬化性組成物を製造した。即ち、(メタ)アクリ
ル酸エステル誘導体(a)、コロイダルシリカ(c)、
疎水性シリカ(e)、光重合開始剤(b)及びエチルセ
ロソルブを混合し、次いでスリーワンモーター300r
pmでの撹拌下でこの混合物にアミン化合物(d)を徐
々に添加しながら30分間混合して、凝集物を含有する
艶消し被覆用光硬化性組成物を得た。光重合開始剤
(b)としては1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトンを使用した。またエチルセロソルブは、得られる
艶消し被覆用光硬化性組成物の不揮発分が40重量%に
なる量を使用した。表1において配合量は重量部であ
り、コロイダルシリカ(c)については超微粒子シリカ
の重量部である。
組成物を、厚さ2mmのメタクリル樹脂板[住友化学工
業(株)製スミペックス#000]にバーNo.8のバ
ーを使用してバーコートし被膜を形成させ、70℃で1
分間乾燥後、当該樹脂板を空気中にて高圧水銀灯[アイ
グラフィックス社製、アイキュアーUE021−403
C、500V、H02−L41(2)]を用いて150
mmの距離から80W/cm、5秒間紫外線を照射して
被膜を硬化させて、メタクリル樹脂板に硬化被膜[以
下、硬化被膜(I)という。]を形成した。
力のかかるホモミキサー[特殊機化工業(株)製]によ
って1000rpmで30分間撹拌した後、上記と同様
にしてメタクリル樹脂板に硬化被膜[以下、硬化被膜
(II)という。]を形成した。
定性の評価結果、メタクリル樹脂板に形成された硬化被
膜の艶消し柄目及び物性評価結果を表3及び表4に示
す。
し柄目及び物性評価は以下のようにして実施した。 1)経時分散安定性:40℃で艶消し被覆用光硬化性組
成物の放置後の状態を観察 〇:4ケ月以上放置しても均一な状態を保持していた。 ×:放置後1ケ月で沈降したシリカが再分散不能であっ
た。 2)艶消し柄目:10倍率ルーペによる目視 3)全光線透過率(%)及び曇価:ヘーズコンピュータ
での測定 4)光沢度:光沢度計60°での測定 5)耐摩耗性:#0000のスチールウールによる擦傷
テスト A:強くこすっても傷がつかない B:強くこするとわずかに傷がつく C:軽くこするとわずかに傷がつく D:軽くこすっても著しく傷がつく 6)密着性;クロスカットセロハンテープ剥離テスト 硬化被膜に1mm間隔に基材に達する被膜切断線を縦横
それぞれ11本入れて、1mmの目数を100個作り、そ
の上にセロハンテープを貼付け急激に剥がす。このセロ
ハンテープの操作を同一箇所で3回繰り返した後、剥離
しなかった目数の数で表わす。
した。光重合開始剤(b)としては1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトンを使用し、また得られる光硬
化性組成物の不揮発分が40重量%になる量のエチルセ
ロソルブを使用した。表1において配合量は重量部であ
り、コロイダルシリカ(c)については超微粒子シリカ
の重量部である。これらの光硬化性組成物について実施
例1と同様にして経時分散安定性の評価並びにメタクリ
ル樹脂板に形成された硬化被膜の艶消し柄目及び物性評
価を行った。その結果を表3及び表4に示す。
Claims (6)
- 【請求項1】 分子中に1個以上の(メタ)アクリロ
イルオキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステル誘導
体(a)、 光重合開始剤(b)、 有機溶剤に分散された超微粒子シリカ(c)とその超
微粒子シリカを凝集させるに可能なアミン化合物(d)
とから得られる凝集物、及び 疎水性シリカ(e) を含有することを特徴とする艶消し被覆用光硬化性組成
物。 - 【請求項2】 超微粒子シリカを凝集させるに可能なア
ミン化合物(d)が、分子中に平均2個以上の環状ヒン
ダードアミン構造を有する光安定剤である請求項1記載
の組成物。 - 【請求項3】 超微粒子シリカ100重量部に対して超
微粒子シリカを凝集させるに可能なアミン化合物(d)
を0.5〜60重量部使用する請求項1又は2記載の組
成物。 - 【請求項4】 超微粒子シリカと疎水性シリカ(e)の
配合割合が10重量%:90重量%〜90重量%:10
重量%である請求項1、2又は3記載の組成物。 - 【請求項5】 請求項1記載の艶消し被覆用光硬化性組
成物を、合成樹脂成形品に塗布した後、活性エネルギー
線を照射して表面に艶消し硬化被膜を形成させた合成樹
脂成形品。 - 【請求項6】 請求項4記載の艶消し被覆用光硬化性組
成物を、合成樹脂成形品に塗布した後、活性エネルギー
線を照射して表面に艶消し硬化被膜を形成させた合成樹
脂成形品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8122476A JPH09286929A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 艶消し被覆用光硬化性組成物及びそれを用いた合成樹脂成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8122476A JPH09286929A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 艶消し被覆用光硬化性組成物及びそれを用いた合成樹脂成形品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09286929A true JPH09286929A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14836798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8122476A Pending JPH09286929A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 艶消し被覆用光硬化性組成物及びそれを用いた合成樹脂成形品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09286929A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10180950A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-07 | Lintec Corp | 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法 |
WO1999010437A1 (en) * | 1997-08-27 | 1999-03-04 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Frosting composition and frosted glass container |
KR20060032444A (ko) * | 2004-10-12 | 2006-04-17 | 천일합성목재(주) | 피브이씨 하드코팅용 조성물과 그 제조방법 및 그를이용한 피브이씨 가공 프로세스 |
JP2015533877A (ja) * | 2012-08-31 | 2015-11-26 | アームストロング ワールド インダストリーズ インコーポレーテッド | 耐久性のあるuv硬化性コーティング |
EP3418782B1 (en) * | 2016-12-26 | 2023-05-03 | LG Chem, Ltd. | Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film |
-
1996
- 1996-04-19 JP JP8122476A patent/JPH09286929A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10180950A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-07 | Lintec Corp | 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法 |
WO1999010437A1 (en) * | 1997-08-27 | 1999-03-04 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Frosting composition and frosted glass container |
US6476093B1 (en) | 1997-08-27 | 2002-11-05 | Sumitomo Seiki Chemicals Co., Ltd. | Frosting composition and frosted glass container |
KR20060032444A (ko) * | 2004-10-12 | 2006-04-17 | 천일합성목재(주) | 피브이씨 하드코팅용 조성물과 그 제조방법 및 그를이용한 피브이씨 가공 프로세스 |
JP2015533877A (ja) * | 2012-08-31 | 2015-11-26 | アームストロング ワールド インダストリーズ インコーポレーテッド | 耐久性のあるuv硬化性コーティング |
EP3418782B1 (en) * | 2016-12-26 | 2023-05-03 | LG Chem, Ltd. | Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071001 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071002 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20071002 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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