JPH09281617A - 放射線撮影における露出自動調整方法および装置 - Google Patents
放射線撮影における露出自動調整方法および装置Info
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- JPH09281617A JPH09281617A JP8335505A JP33550596A JPH09281617A JP H09281617 A JPH09281617 A JP H09281617A JP 8335505 A JP8335505 A JP 8335505A JP 33550596 A JP33550596 A JP 33550596A JP H09281617 A JPH09281617 A JP H09281617A
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 検知器から低ノイズで高品質の制御信号を供
給できる露出自動調整装置および方法を提供する。 【解決手段】 受像体7 の後方に所定間隔をおいて配置
され、受像体7 上の入射放射線強度を測定する複数の検
知器1a,1b,1c, と、撮影中に受像体7 の露出に影響を及
ぼす変数を調整する調整手段3 と、調整手段3 を制御す
る制御装置2 とを備えている。制御装置2 は、個々の検
知器1a,1b,1c, の出力に直接に接続された積算器と、個
々の検知器1a,1b,1c, に対応して設けられた複数の測定
チャンネルと、受像体7 の露出の基準値を蓄えている記
憶手段と、異なる測定チャンネル24から得られた各積算
値を記憶手段内にあらかじめ蓄えられている露出値と比
較して、調整手段3 に供給される比較結果を演算する演
算装置とを備えている。検知器1a,1b,1c, の個々の積算
間隔が全撮影期間よりも十分に短くされている。
給できる露出自動調整装置および方法を提供する。 【解決手段】 受像体7 の後方に所定間隔をおいて配置
され、受像体7 上の入射放射線強度を測定する複数の検
知器1a,1b,1c, と、撮影中に受像体7 の露出に影響を及
ぼす変数を調整する調整手段3 と、調整手段3 を制御す
る制御装置2 とを備えている。制御装置2 は、個々の検
知器1a,1b,1c, の出力に直接に接続された積算器と、個
々の検知器1a,1b,1c, に対応して設けられた複数の測定
チャンネルと、受像体7 の露出の基準値を蓄えている記
憶手段と、異なる測定チャンネル24から得られた各積算
値を記憶手段内にあらかじめ蓄えられている露出値と比
較して、調整手段3 に供給される比較結果を演算する演
算装置とを備えている。検知器1a,1b,1c, の個々の積算
間隔が全撮影期間よりも十分に短くされている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、放射線源から発
せられた放射線が、Ｘ線で検査される被写体を通過して
あるエリアから他のエリアまで進むとともに、一連のス
テップからなる１つの撮影期間中、受像体上に被写体を
同時に表示するパノラマ式や断層式などの放射線撮影法
において、受像体上における自動露出調整を行うための
方法に関する。この方法は、受像体の後方に配置された
少なくとも２つの検知器によって放射線の進行方向にあ
る受像体に入射する放射線強度を測定することを含んで
おり、検知器からの測定信号およびあらかじめ設定され
た基準値が、撮影中の受像体の露出値に影響を及ぼす少
なくとも１つの変数を調整するために用いられるもので
ある。この発明は、また、上記方法を実施するための装
置に関する。
せられた放射線が、Ｘ線で検査される被写体を通過して
あるエリアから他のエリアまで進むとともに、一連のス
テップからなる１つの撮影期間中、受像体上に被写体を
同時に表示するパノラマ式や断層式などの放射線撮影法
において、受像体上における自動露出調整を行うための
方法に関する。この方法は、受像体の後方に配置された
少なくとも２つの検知器によって放射線の進行方向にあ
る受像体に入射する放射線強度を測定することを含んで
おり、検知器からの測定信号およびあらかじめ設定され
た基準値が、撮影中の受像体の露出値に影響を及ぼす少
なくとも１つの変数を調整するために用いられるもので
ある。この発明は、また、上記方法を実施するための装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】パノラマ式放射線撮影法における露出自
動調整装置は、フィンランド特許第６９５５９号および
第９０６１７号に開示されている。この装置は、フィル
ム（受像体）の所定エリアにおける放射線強度が測定さ
れ、これに基づいて、Ｘ線管の電流またはＸ線装置の回
転速度が調整されるものである。フィンランド特許第６
９５５９号は、放射線検知器の位置を明示しておらず、
フィンランド特許第９０６１７号は、フィルムに接して
配置された蛍光板からの放射線を測定するものである。
これらの従来技術には、調整のために使用される基準値
についての開示はない。なお、パノラマ式Ｘ線装置の操
作中に、装置の回転速度の変化により露出時間を変化さ
せると、映像の品質が極めて悪くなる。
動調整装置は、フィンランド特許第６９５５９号および
第９０６１７号に開示されている。この装置は、フィル
ム（受像体）の所定エリアにおける放射線強度が測定さ
れ、これに基づいて、Ｘ線管の電流またはＸ線装置の回
転速度が調整されるものである。フィンランド特許第６
９５５９号は、放射線検知器の位置を明示しておらず、
フィンランド特許第９０６１７号は、フィルムに接して
配置された蛍光板からの放射線を測定するものである。
これらの従来技術には、調整のために使用される基準値
についての開示はない。なお、パノラマ式Ｘ線装置の操
作中に、装置の回転速度の変化により露出時間を変化さ
せると、映像の品質が極めて悪くなる。
【０００３】米国特許第４０２１６７２号には、Ｘ線フ
ィルムの後方に配置された検出器を用いるとともに、パ
ノラマ式Ｘ線装置の回転速度以外で露出に影響を及ぼす
変数を基準値に基づいて調整する類似の露出自動調整装
置が開示されている。
ィルムの後方に配置された検出器を用いるとともに、パ
ノラマ式Ｘ線装置の回転速度以外で露出に影響を及ぼす
変数を基準値に基づいて調整する類似の露出自動調整装
置が開示されている。
【０００４】さらに、欧州特許第２２９９７２号には、
フィルムの前方または後方に配置された１または複数の
検知器を用いるとともに、露出に影響を及ぼす変数を基
準値に基づいて調整する類似の露出自動調整装置が開示
されている。この従来技術は、顎構造の変化に対応して
あらかじめ設定された複数の露出スピードの中から適当
なスピードを選択する方法を示すものである。
フィルムの前方または後方に配置された１または複数の
検知器を用いるとともに、露出に影響を及ぼす変数を基
準値に基づいて調整する類似の露出自動調整装置が開示
されている。この従来技術は、顎構造の変化に対応して
あらかじめ設定された複数の露出スピードの中から適当
なスピードを選択する方法を示すものである。
【０００５】上記のすべての従来技術において、パノラ
マ式放射線撮影中に被写体を通過した信号は、連続的に
測定され、この測定に基づいて、パノラマ式放射線撮影
装置の回転速度またはＸ線管の電流または場合によりＸ
線管の電圧が調整される。このような装置は多くの欠点
を有している。
マ式放射線撮影中に被写体を通過した信号は、連続的に
測定され、この測定に基づいて、パノラマ式放射線撮影
装置の回転速度またはＸ線管の電流または場合によりＸ
線管の電圧が調整される。このような装置は多くの欠点
を有している。
【０００６】第１に、連続的な測定および連続的な調整
は、例えば患者の義歯内における局所的変動に非常に影
響されやすい。歯治療用充填物の影響と推定される原因
により、放射線強度が大幅に低下したことを検知器が検
知すると、露出自動調整装置は、これを補償するため
に、放射線を大幅に増加させる。したがって、Ｘ線フィ
ルムのこの箇所には際立った露出オーバーの線が発生す
る。逆に、歯がないことまたは義歯や顎骨の局所的変動
による他の露出不規則原因により、露出不足の線が発生
することもある。したがって、上記従来の装置による
と、例えば患者の義歯により、非常に不規則に露出され
たフィルムができることになる。
は、例えば患者の義歯内における局所的変動に非常に影
響されやすい。歯治療用充填物の影響と推定される原因
により、放射線強度が大幅に低下したことを検知器が検
知すると、露出自動調整装置は、これを補償するため
に、放射線を大幅に増加させる。したがって、Ｘ線フィ
ルムのこの箇所には際立った露出オーバーの線が発生す
る。逆に、歯がないことまたは義歯や顎骨の局所的変動
による他の露出不規則原因により、露出不足の線が発生
することもある。したがって、上記従来の装置による
と、例えば患者の義歯により、非常に不規則に露出され
たフィルムができることになる。
【０００７】そこで、フィンランド特許第９０６１８号
は、放射線の進行方向に沿って受像体の後方に配置され
た１または複数の検知器が、患者を通過した後の放射線
強度を短い間隔で測定する装置を開示している。しかし
ながら、この装置の一般的な実施形態のものでは、上記
と同様に、非常に不規則に露出されたフィルムを作ると
いう欠点を有しており、撮影中に複数の検知器からの信
号が結合されることにより、若干不具合は小さくなるも
のの、上記の問題は基本的には解消されていない。
は、放射線の進行方向に沿って受像体の後方に配置され
た１または複数の検知器が、患者を通過した後の放射線
強度を短い間隔で測定する装置を開示している。しかし
ながら、この装置の一般的な実施形態のものでは、上記
と同様に、非常に不規則に露出されたフィルムを作ると
いう欠点を有しており、撮影中に複数の検知器からの信
号が結合されることにより、若干不具合は小さくなるも
のの、上記の問題は基本的には解消されていない。
【０００８】フィンランド特許第９０６１８号は、ま
た、顎骨に続く骨髄層を測定し、この測定結果を露出値
の調整に使うことによって、全測定期間にわたって不変
となる露出値を得る測定技術を開示している。同様の技
術が、フィンランド特許第７６２３４号や米国特許第５
３８６４４８号に記載されている。これらの３つの従来
技術における好ましい実施形態によると、実際のＸ線検
査が始まる前に、顎骨の端のエリアにおいて被写体を通
過した放射線の強度を検知し、これによって得られた１
または複数の測定値に基づいて、パノラマ式Ｘ線撮影装
置の移動速さが撮影中一定に保たれ、また、Ｘ線管の電
圧および電流が撮影中一定に保たれる。これにより、上
述した連続測定および連続調整に基づく欠点が解消され
る。すなわち、患者の義歯内の局所的変動がＸ線フィル
ムの局所的露出エラーを引き起こさないようになる。し
かしながら、この方法によると、測定が実際の撮影の前
に行われるから、Ｘ線撮影中に測定されるべき測定値と
は関係がないこととなり、代表点とはならない箇所での
値が全エリアの代表値となるという問題が生じる。実
際、撮影前に測定した患者の顎骨の測定箇所が、義歯の
エリアよりも相対的に厚いか薄い厚みとなっていたり、
測定が代表点となるべき箇所で行われなかったりする
と、露出オーバーまたは露出不足であるフィルムを生じ
ることになる。上述したすべての装置において、問題
は、放射線強度検知が通常非常に小さい面積の１か所だ
けで行われ、そのため、これが代表値となりうるか疑わ
しいという事実に起因している。
た、顎骨に続く骨髄層を測定し、この測定結果を露出値
の調整に使うことによって、全測定期間にわたって不変
となる露出値を得る測定技術を開示している。同様の技
術が、フィンランド特許第７６２３４号や米国特許第５
３８６４４８号に記載されている。これらの３つの従来
技術における好ましい実施形態によると、実際のＸ線検
査が始まる前に、顎骨の端のエリアにおいて被写体を通
過した放射線の強度を検知し、これによって得られた１
または複数の測定値に基づいて、パノラマ式Ｘ線撮影装
置の移動速さが撮影中一定に保たれ、また、Ｘ線管の電
圧および電流が撮影中一定に保たれる。これにより、上
述した連続測定および連続調整に基づく欠点が解消され
る。すなわち、患者の義歯内の局所的変動がＸ線フィル
ムの局所的露出エラーを引き起こさないようになる。し
かしながら、この方法によると、測定が実際の撮影の前
に行われるから、Ｘ線撮影中に測定されるべき測定値と
は関係がないこととなり、代表点とはならない箇所での
値が全エリアの代表値となるという問題が生じる。実
際、撮影前に測定した患者の顎骨の測定箇所が、義歯の
エリアよりも相対的に厚いか薄い厚みとなっていたり、
測定が代表点となるべき箇所で行われなかったりする
と、露出オーバーまたは露出不足であるフィルムを生じ
ることになる。上述したすべての装置において、問題
は、放射線強度検知が通常非常に小さい面積の１か所だ
けで行われ、そのため、これが代表値となりうるか疑わ
しいという事実に起因している。
【０００９】そこで、日本特許第６０５９７００号は、
互いに近接して格子点（マトリックス）状に配置された
多数の検知ユニットからなる検知器を開示している。こ
の方法によると、すべての検知ユニットの出力が並列に
結合され、これらの検知ユニットの合計信号に基づいて
露出値を調整することにより、測定領域に含まれる不適
切な箇所の影響は、当然減少するであろう。しかしなが
ら、不適切な箇所を除去してしまうわけではないので、
すべての検知ユニットの信号を合計することによって、
複数の適切な測定値に１または複数の不適切な値が加わ
ることになる。結果的に、適切な測定値を示さないよう
になり、測定結果したがって調整結果は、１つの検知器
を備えた上述の装置と比較して、全く改良されないかわ
ずかしか改良されないことになる。
互いに近接して格子点（マトリックス）状に配置された
多数の検知ユニットからなる検知器を開示している。こ
の方法によると、すべての検知ユニットの出力が並列に
結合され、これらの検知ユニットの合計信号に基づいて
露出値を調整することにより、測定領域に含まれる不適
切な箇所の影響は、当然減少するであろう。しかしなが
ら、不適切な箇所を除去してしまうわけではないので、
すべての検知ユニットの信号を合計することによって、
複数の適切な測定値に１または複数の不適切な値が加わ
ることになる。結果的に、適切な測定値を示さないよう
になり、測定結果したがって調整結果は、１つの検知器
を備えた上述の装置と比較して、全く改良されないかわ
ずかしか改良されないことになる。
【００１０】上述の従来技術の装置のほとんどにおい
て、Ｘ線の放射強度を測定する検知器は、Ｘ線管の方向
に沿って、フィルムまたはフィルムカセットの後方に配
置されている。こうして、露出強化板を有するＸ線フィ
ルムが放射線強度を大幅に減ずるため、検知器に到達す
る放射線強度は非常に小さくなる。したがって、このよ
うに配置された検知器は、フィルム上に入射する放射線
のうちの約３０〜４０％しか受け取れないことになる。
このため、このように配置された検知器の信号は、かな
りの量の雑音を含み、そのＳＮ比（信号対雑音比）が極
めて悪くなり、露出調整精度も悪くなる。もし検知器が
フィルムカセットの前方に配置されるならば、検知器が
映像に影響を与えないようにイオン化チャンバーのよう
な非常に高価な検知器を使用するか、または、実際の撮
影が始まる前に検知を行い、撮影の時には検知器を移動
させるかしなければならない。フィンランド特許第９０
６１７号は、フィルムカセットの後方に配置された検知
器の前方に、光増強板を設けることについては示唆して
いないが、入射放射線は、Ｘ線フィルム上では、どんな
場合でも入射放射線の１／４から１／２は減少するの
で、このことが状況を大幅に改良するわけではない。日
本特許第６０５９７００号および米国特許４０２１６７
２号に記載されているように検知器を並列に接続するこ
とは、効果的な信号レベルと同じ程度に雑音電圧が増加
するので、ＳＮ比は少ししか改良されない。
て、Ｘ線の放射強度を測定する検知器は、Ｘ線管の方向
に沿って、フィルムまたはフィルムカセットの後方に配
置されている。こうして、露出強化板を有するＸ線フィ
ルムが放射線強度を大幅に減ずるため、検知器に到達す
る放射線強度は非常に小さくなる。したがって、このよ
うに配置された検知器は、フィルム上に入射する放射線
のうちの約３０〜４０％しか受け取れないことになる。
このため、このように配置された検知器の信号は、かな
りの量の雑音を含み、そのＳＮ比（信号対雑音比）が極
めて悪くなり、露出調整精度も悪くなる。もし検知器が
フィルムカセットの前方に配置されるならば、検知器が
映像に影響を与えないようにイオン化チャンバーのよう
な非常に高価な検知器を使用するか、または、実際の撮
影が始まる前に検知を行い、撮影の時には検知器を移動
させるかしなければならない。フィンランド特許第９０
６１７号は、フィルムカセットの後方に配置された検知
器の前方に、光増強板を設けることについては示唆して
いないが、入射放射線は、Ｘ線フィルム上では、どんな
場合でも入射放射線の１／４から１／２は減少するの
で、このことが状況を大幅に改良するわけではない。日
本特許第６０５９７００号および米国特許４０２１６７
２号に記載されているように検知器を並列に接続するこ
とは、効果的な信号レベルと同じ程度に雑音電圧が増加
するので、ＳＮ比は少ししか改良されない。
【００１１】なお、上述の従来技術には、断層式放射線
撮影における自動露出調整装置についての記載は、全く
ない。
撮影における自動露出調整装置についての記載は、全く
ない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記の従
来技術における欠点を解消することを課題とするもので
あり、第１の目的は、パノラマ式放射線撮影法および断
層式放射線撮影法の両撮影法に用いられて、撮影中の受
像体における露出を自動調整する、放射線撮影における
自動露出調整方法および装置を提供することにある。
来技術における欠点を解消することを課題とするもので
あり、第１の目的は、パノラマ式放射線撮影法および断
層式放射線撮影法の両撮影法に用いられて、撮影中の受
像体における露出を自動調整する、放射線撮影における
自動露出調整方法および装置を提供することにある。
【００１３】この発明の第２の目的は、放射線の進行方
向に位置する検知器を受像体の後方に配置しても、検知
器がノイズの少ない高品質の信号を出力することができ
る放射線撮影における露出自動調整方法および装置を提
供することにある。
向に位置する検知器を受像体の後方に配置しても、検知
器がノイズの少ない高品質の信号を出力することができ
る放射線撮影における露出自動調整方法および装置を提
供することにある。
【００１４】この発明の第３の目的は、被写体を通過後
の強度が放射線撮影中に検出でき、強度誤差が露出値の
正しい設定に悪影響を及ぼさないように、焦点位置に置
かれた被写体の各任意部分の露出を診断中に調整するこ
とができる放射線撮影における露出自動調整方法および
装置を提供することにある。
の強度が放射線撮影中に検出でき、強度誤差が露出値の
正しい設定に悪影響を及ぼさないように、焦点位置に置
かれた被写体の各任意部分の露出を診断中に調整するこ
とができる放射線撮影における露出自動調整方法および
装置を提供することにある。
【００１５】この発明の第４の目的は、簡単で経済的な
構成要素からなる放射線撮影における露出自動調整方法
および装置を提供することにある。
構成要素からなる放射線撮影における露出自動調整方法
および装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上述した従来技術の問題
点の解消およびこの発明の目的は、請求項１に記載した
方法および請求項１１に記載した装置によって達成され
る。
点の解消およびこの発明の目的は、請求項１に記載した
方法および請求項１１に記載した装置によって達成され
る。
【００１７】この発明の主たる利点は、受像体の後方、
すなわち、最終の映像に影響を与えない位置に配置され
た検知器から露出を制御する装置に、低ノイズで高品質
の制御信号を供給できることにある。この発明の次の利
点は、上記の利点が高価な特別の構成要素を使用するこ
となく、簡単で比較的安い構成要素を用いて達成できる
ことにある。この発明のさらなる利点は、この発明の方
法および装置の使用により、歯治療用充填物、空隙等の
患者の局所的変動が露出調整に与える影響を除去し、そ
の結果、受像体全体が正しくかつ均一に露出されること
にある。
すなわち、最終の映像に影響を与えない位置に配置され
た検知器から露出を制御する装置に、低ノイズで高品質
の制御信号を供給できることにある。この発明の次の利
点は、上記の利点が高価な特別の構成要素を使用するこ
となく、簡単で比較的安い構成要素を用いて達成できる
ことにある。この発明のさらなる利点は、この発明の方
法および装置の使用により、歯治療用充填物、空隙等の
患者の局所的変動が露出調整に与える影響を除去し、そ
の結果、受像体全体が正しくかつ均一に露出されること
にある。
【００１８】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、以下図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００１９】図１は、Ｘ線ビーム(5) を放射するＸ線管
（Ｘ線源）(4) を備えたパノラマ式Ｘ線装置を示してい
る。Ｘ線ビーム(5) は、わずかに広がりながらコーン形
状で図示されていない第１ブラインドを進んでいく。Ｘ
線ビーム(5) の高さは、映像面に対して垂直とされてい
る。図からわかるように、映像面内におけるＸ線ビーム
(5) の幅は非常に狭いものである。このＸ線ビーム(5)
は、焦点位置に置かれた被写体（この例では顎骨および
義歯）(6) を通過して、パノラマ式Ｘ線装置に設けられ
た受像体(7) に入射する。受像体(7) の前方には、Ｘ線
管(4) に対向して、スロット(13)を有する第２ブライン
ド(10a) が配置されている。スロット(13)の図１の面に
垂直な方向の高さＨは、作成される映像の高さに等し
く、スロット(13)の図１の面に沿う幅Ｗ１は、受像体
(7) の図１の面に沿う長さに比べて小さくなされてい
る。スロット(13)の幅Ｗ１は、１〜３ｍｍ程度であり、
従来の装置における値に近いものとされている。受像体
(7) はスタンド(8) に固定されており、これらの受像体
(7) およびスタンド(8) は受像体ケース(9) 内に収めら
れている。第２ブラインド(10a) は、受像体ケース(9)
に固定されている。スタンド(8) は、撮影中に受像体
(7) を矢印Ｂで示す方向に移動させる。また、Ｘ線管
(4) および受像体ケース(9) は、映像面にほぼ垂直な軸
を中心として矢印Ａで示す方向に回転する。したがっ
て、Ｘ線管(4) および受像体ケース(9) が、矢印Ａの方
向に回転し、受像体(7) が、スタンド(8) の回転に伴う
矢印Ａの方向とは逆向きとなる矢印Ｂの方向に移動す
る。受像体(7) は、公知の方法に基づいて、第２ブライ
ンド(10a) に設けられたスロット(13)を通過したＸ線に
より、その全表面にわたって露出させられるようになさ
れている。パノラマ式Ｘ線装置は、さらに、Ｘ線管(4)
の電流および印加電圧を制御するために、Ｘ線発生装置
(3) およびこれの制御装置(2) を備えている。
（Ｘ線源）(4) を備えたパノラマ式Ｘ線装置を示してい
る。Ｘ線ビーム(5) は、わずかに広がりながらコーン形
状で図示されていない第１ブラインドを進んでいく。Ｘ
線ビーム(5) の高さは、映像面に対して垂直とされてい
る。図からわかるように、映像面内におけるＸ線ビーム
(5) の幅は非常に狭いものである。このＸ線ビーム(5)
は、焦点位置に置かれた被写体（この例では顎骨および
義歯）(6) を通過して、パノラマ式Ｘ線装置に設けられ
た受像体(7) に入射する。受像体(7) の前方には、Ｘ線
管(4) に対向して、スロット(13)を有する第２ブライン
ド(10a) が配置されている。スロット(13)の図１の面に
垂直な方向の高さＨは、作成される映像の高さに等し
く、スロット(13)の図１の面に沿う幅Ｗ１は、受像体
(7) の図１の面に沿う長さに比べて小さくなされてい
る。スロット(13)の幅Ｗ１は、１〜３ｍｍ程度であり、
従来の装置における値に近いものとされている。受像体
(7) はスタンド(8) に固定されており、これらの受像体
(7) およびスタンド(8) は受像体ケース(9) 内に収めら
れている。第２ブラインド(10a) は、受像体ケース(9)
に固定されている。スタンド(8) は、撮影中に受像体
(7) を矢印Ｂで示す方向に移動させる。また、Ｘ線管
(4) および受像体ケース(9) は、映像面にほぼ垂直な軸
を中心として矢印Ａで示す方向に回転する。したがっ
て、Ｘ線管(4) および受像体ケース(9) が、矢印Ａの方
向に回転し、受像体(7) が、スタンド(8) の回転に伴う
矢印Ａの方向とは逆向きとなる矢印Ｂの方向に移動す
る。受像体(7) は、公知の方法に基づいて、第２ブライ
ンド(10a) に設けられたスロット(13)を通過したＸ線に
より、その全表面にわたって露出させられるようになさ
れている。パノラマ式Ｘ線装置は、さらに、Ｘ線管(4)
の電流および印加電圧を制御するために、Ｘ線発生装置
(3) およびこれの制御装置(2) を備えている。
【００２０】図３は、Ｘ線ビーム(5) を放射するＸ線管
(4) を備えた断層式Ｘ線装置を示している。Ｘ線ビーム
(5) は、わずかに広がりながらコーン形状で図示されて
いない第１ブラインドを進んでいく。Ｘ線ビーム(5) の
受像体(7) 上における断面積は、必要とされる映像の表
面積に等しい。こうして、図３からわかるように、Ｘ線
ビーム(5) は、図３に平行な面内およびこれに垂直な方
向にも広がりを持つようになされている。このＸ線ビー
ム(5) は、焦点位置に置かれた被写体（この例では顎骨
および義歯）(6) を通過して、受像体(7) の映像面(12)
全体にわたって入射する。図４に示すように、映像面(1
2)は、高さＫと幅Ｗ２とを有している。乱反射したＸ線
が好ましくないエリアに到達しないように、映像面(12)
は、通常、第２ブラインド(10b) に限定されている。こ
の場合、受像体(7) およびこれを支持するスタンド(8)
は、受像体ケース(9) に対して動かないように受像体ケ
ース(9) 内の適切な位置に収められる。Ｘ線ビーム(5)
が受像体(7) の映像面(12)に絶えず向くように、Ｘ線ビ
ーム(5) に垂直な面内またはＸ線ビーム(5) に垂直な球
面内におけるＸ線管(4) および受像体ケース(9) の動き
に伴って、物理的な実体のあるレンズではない見掛けの
レンズが生じるようになされており、これにより、受像
体(7) の映像面(12)には、Ｘ線ビーム(5) に垂直な被写
体(6) のある一定の面または層(40)が十分な鮮明さで表
示される。最も簡単な場合、Ｘ線管(4) および受像体ケ
ース(9) は、単一面内で動いて、リニア断層映像と呼ば
れる映像を作成する。しかし、ほとんどの場合、Ｘ線管
(4) および受像体ケース(9) は、Ｘ線ビーム(5) に垂直
な面内または垂直な球面内を異なる方向に、例えば、円
周に沿ってらせん状にまたはハイポサイクロイド曲線に
したがってまたは他の適当な曲線に沿って動く。このさ
いの受像体ケース(9) の動きは、Ｘ線ビーム(5)におけ
る任意の点を中心として、Ｘ線管(4) の動きと点対称に
なっている。Ｘ線管(4) および受像体ケース(9) の型式
および動きの程度に応じて、それぞれの場合ごとに、受
像体(7) に鮮明に表示されるように、受像体(7) の被写
体(6) の層(40)の厚みが調整される。この面を越えた被
写体(6) のエリアは、光学法則の見地から、受像体(7)
に鮮明には表示されない。また、焦点位置にある被写体
(6)のエリアを通過したＸ線ビーム(5) は、わずかしか
減衰しない。
(4) を備えた断層式Ｘ線装置を示している。Ｘ線ビーム
(5) は、わずかに広がりながらコーン形状で図示されて
いない第１ブラインドを進んでいく。Ｘ線ビーム(5) の
受像体(7) 上における断面積は、必要とされる映像の表
面積に等しい。こうして、図３からわかるように、Ｘ線
ビーム(5) は、図３に平行な面内およびこれに垂直な方
向にも広がりを持つようになされている。このＸ線ビー
ム(5) は、焦点位置に置かれた被写体（この例では顎骨
および義歯）(6) を通過して、受像体(7) の映像面(12)
全体にわたって入射する。図４に示すように、映像面(1
2)は、高さＫと幅Ｗ２とを有している。乱反射したＸ線
が好ましくないエリアに到達しないように、映像面(12)
は、通常、第２ブラインド(10b) に限定されている。こ
の場合、受像体(7) およびこれを支持するスタンド(8)
は、受像体ケース(9) に対して動かないように受像体ケ
ース(9) 内の適切な位置に収められる。Ｘ線ビーム(5)
が受像体(7) の映像面(12)に絶えず向くように、Ｘ線ビ
ーム(5) に垂直な面内またはＸ線ビーム(5) に垂直な球
面内におけるＸ線管(4) および受像体ケース(9) の動き
に伴って、物理的な実体のあるレンズではない見掛けの
レンズが生じるようになされており、これにより、受像
体(7) の映像面(12)には、Ｘ線ビーム(5) に垂直な被写
体(6) のある一定の面または層(40)が十分な鮮明さで表
示される。最も簡単な場合、Ｘ線管(4) および受像体ケ
ース(9) は、単一面内で動いて、リニア断層映像と呼ば
れる映像を作成する。しかし、ほとんどの場合、Ｘ線管
(4) および受像体ケース(9) は、Ｘ線ビーム(5) に垂直
な面内または垂直な球面内を異なる方向に、例えば、円
周に沿ってらせん状にまたはハイポサイクロイド曲線に
したがってまたは他の適当な曲線に沿って動く。このさ
いの受像体ケース(9) の動きは、Ｘ線ビーム(5)におけ
る任意の点を中心として、Ｘ線管(4) の動きと点対称に
なっている。Ｘ線管(4) および受像体ケース(9) の型式
および動きの程度に応じて、それぞれの場合ごとに、受
像体(7) に鮮明に表示されるように、受像体(7) の被写
体(6) の層(40)の厚みが調整される。この面を越えた被
写体(6) のエリアは、光学法則の見地から、受像体(7)
に鮮明には表示されない。また、焦点位置にある被写体
(6)のエリアを通過したＸ線ビーム(5) は、わずかしか
減衰しない。
【００２１】断層式Ｘ線装置は、さらに、Ｘ線管(4) の
電流および印加電圧を制御するために、Ｘ線発生装置
(3) およびこれの制御装置(2) を備えている。図３にお
いて、曲線の矢印Ａは、上述した受像体ケース(9) の動
きおよびこれに点対称なＸ線管(4) の動き（公知であ
る）を示している。
電流および印加電圧を制御するために、Ｘ線発生装置
(3) およびこれの制御装置(2) を備えている。図３にお
いて、曲線の矢印Ａは、上述した受像体ケース(9) の動
きおよびこれに点対称なＸ線管(4) の動き（公知であ
る）を示している。
【００２２】なお、受像体(7) は、普通、光増強板と呼
ばれている螢光板の片面に、フィルムが配置されること
により形成されている。なお、その他の公知の構成要素
は、図示省略しており、この明細書においては、これら
の詳細な説明を省略している。
ばれている螢光板の片面に、フィルムが配置されること
により形成されている。なお、その他の公知の構成要素
は、図示省略しており、この明細書においては、これら
の詳細な説明を省略している。
【００２３】この発明のパノラマ式Ｘ線装置によると、
少なくとも２つの検知器(1) が、スロット(13)の垂直方
向Ｈに沿ってかつＬ１の間隔で、Ｘ線ビーム(5) の入射
方向に対して受像体(7) の後方に、すなわち、第２ブラ
インド(10a) のスロット(13)の後方に配置されている。
この距離Ｌ１は、受像体(7) の移動方向Ｂおよびこれと
逆向きの受像体ケース(9) の移動方向Ａに対して、共に
垂直である。
少なくとも２つの検知器(1) が、スロット(13)の垂直方
向Ｈに沿ってかつＬ１の間隔で、Ｘ線ビーム(5) の入射
方向に対して受像体(7) の後方に、すなわち、第２ブラ
インド(10a) のスロット(13)の後方に配置されている。
この距離Ｌ１は、受像体(7) の移動方向Ｂおよびこれと
逆向きの受像体ケース(9) の移動方向Ａに対して、共に
垂直である。
【００２４】同様に、この発明の断層式Ｘ線装置による
と、少なくとも２つの検知器(1) が、Ｘ線ビーム(5) の
入射方向に対して受像体(7) の後方に、すなわち、第２
ブラインド(10b) によって区画された固定映像面(12)の
後方に配置されている。これらの検知器(1) は、垂直方
向にＬ１の間隔で、Ｌ１に垂直な水平方向にＬ２の間隔
で配置されている。
と、少なくとも２つの検知器(1) が、Ｘ線ビーム(5) の
入射方向に対して受像体(7) の後方に、すなわち、第２
ブラインド(10b) によって区画された固定映像面(12)の
後方に配置されている。これらの検知器(1) は、垂直方
向にＬ１の間隔で、Ｌ１に垂直な水平方向にＬ２の間隔
で配置されている。
【００２５】この明細書において、(1) という符号は、
パノラマ式Ｘ線装置および断層式Ｘ線装置の両方の検知
器に対して使用されており、個々の検知器を示す場合に
は、(1a)(1b)(1c)等の符号を使用している。
パノラマ式Ｘ線装置および断層式Ｘ線装置の両方の検知
器に対して使用されており、個々の検知器を示す場合に
は、(1a)(1b)(1c)等の符号を使用している。
【００２６】パノラマ式Ｘ線装置は、図２に示すよう
に、映像面の垂直方向Ｈに沿って、典型的には少なくと
も３つ、好ましくは４つまたは５つの検知器(1a)-(1e)
を有している。これらの検知器(1a)-(1e) 間の垂直距離
Ｌ１は、互いに等しくても異なっていてもよいが、映像
面の垂直方向の高さＨの全体にわたるように配置され
る。この配置において、パノラマ式Ｘ線装置の映像面の
長さは、受像体(7) のＢ方向の長さに少なくともほぼ等
しくされる。そして、受像体(7) のＢ方向の長さは、第
２ブラインド(10a) のスロット(13)の幅Ｗ１の複数倍に
なっている。この場合に、検知器(1a)-(1e) は、スロッ
ト(13)が狭いために、図２に破線で示すように、第２ブ
ラインド(10a) のスロット(13)に平行に配置される。し
かし、これ以外の配置としても全く問題はない。
に、映像面の垂直方向Ｈに沿って、典型的には少なくと
も３つ、好ましくは４つまたは５つの検知器(1a)-(1e)
を有している。これらの検知器(1a)-(1e) 間の垂直距離
Ｌ１は、互いに等しくても異なっていてもよいが、映像
面の垂直方向の高さＨの全体にわたるように配置され
る。この配置において、パノラマ式Ｘ線装置の映像面の
長さは、受像体(7) のＢ方向の長さに少なくともほぼ等
しくされる。そして、受像体(7) のＢ方向の長さは、第
２ブラインド(10a) のスロット(13)の幅Ｗ１の複数倍に
なっている。この場合に、検知器(1a)-(1e) は、スロッ
ト(13)が狭いために、図２に破線で示すように、第２ブ
ラインド(10a) のスロット(13)に平行に配置される。し
かし、これ以外の配置としても全く問題はない。
【００２７】断層式Ｘ線装置において、複数の検知器
(1) が、典型的には垂直間隔Ｌ１および水平間隔Ｌ２を
おいて配置される。好ましくは、複数の検知器(1) は、
映像面(12)の１か所に集中させるのではなく、映像面(1
2)の数か所に分散させて、互いに距離をおいて配置され
る。複数の検知器(1) は、映像面(12)全面にわたって、
等しい垂直間隔Ｌ１および等しい水平間隔Ｌ２をおい
て、均等に配置されてもよい。断層式Ｘ線装置において
は、互いに垂直な方向Ｌ１およびＬ２に間隔をおいて配
置される少なくとも４つの検知器(1) が、典型的に使用
される。
(1) が、典型的には垂直間隔Ｌ１および水平間隔Ｌ２を
おいて配置される。好ましくは、複数の検知器(1) は、
映像面(12)の１か所に集中させるのではなく、映像面(1
2)の数か所に分散させて、互いに距離をおいて配置され
る。複数の検知器(1) は、映像面(12)全面にわたって、
等しい垂直間隔Ｌ１および等しい水平間隔Ｌ２をおい
て、均等に配置されてもよい。断層式Ｘ線装置において
は、互いに垂直な方向Ｌ１およびＬ２に間隔をおいて配
置される少なくとも４つの検知器(1) が、典型的に使用
される。
【００２８】例えば、図４を参照して、検知器(1) の数
が４つのときは、(1f)から(1i)までの検知器が使用され
る。そして、検知器(1) の数は好ましくは５つとされ、
このときは、(1a)の検知器と(1f)から(1i)までの検知器
とが使用される。検知器(1)の数が９つのときは、(1a)
から(1i)までの検知器が使用される。検知器(1) は、映
像面(12)において、水平間隔Ｌ２によってそれぞれ間隔
をおいた水平方向の少なくとも３か所と、垂直間隔Ｌ２
によってそれぞれ間隔をおいた垂直方向の少なくとも３
か所とに配置されるようにしてもよい。検知器(1) の数
が４つのときは、例えば映像面(12)内の仮想方形の各角
に配置するようにしてもよい。そして、検知器(1) の数
が５つ以上のときは、いくつかの検知器を仮想方形の内
側または外側に配置するようにしてもよい。どの場合で
も、検知器(1) は、垂直方向および水平方向の両方に配
置され、これにより、受像体移動方向Ａに対して垂直な
方向に間隔をおいて、したがって、断層式Ｘ線装置に採
用される受像体移動方向Ａが上述したうちのどれであっ
てもＸ線ビーム(5) の進行方向に対して垂直な方向に間
隔をおいて、検知器(1) が常に存在するようになされ
る。このようにして、断層式Ｘ線装置において、移動方
向Ａと高さＫの方向および幅Ｗ２の方向とが、連続的に
変化する値だけ違っているにもかかわらず、高さ方向は
垂直に、幅方向は水平になることが補償される。
が４つのときは、(1f)から(1i)までの検知器が使用され
る。そして、検知器(1) の数は好ましくは５つとされ、
このときは、(1a)の検知器と(1f)から(1i)までの検知器
とが使用される。検知器(1)の数が９つのときは、(1a)
から(1i)までの検知器が使用される。検知器(1) は、映
像面(12)において、水平間隔Ｌ２によってそれぞれ間隔
をおいた水平方向の少なくとも３か所と、垂直間隔Ｌ２
によってそれぞれ間隔をおいた垂直方向の少なくとも３
か所とに配置されるようにしてもよい。検知器(1) の数
が４つのときは、例えば映像面(12)内の仮想方形の各角
に配置するようにしてもよい。そして、検知器(1) の数
が５つ以上のときは、いくつかの検知器を仮想方形の内
側または外側に配置するようにしてもよい。どの場合で
も、検知器(1) は、垂直方向および水平方向の両方に配
置され、これにより、受像体移動方向Ａに対して垂直な
方向に間隔をおいて、したがって、断層式Ｘ線装置に採
用される受像体移動方向Ａが上述したうちのどれであっ
てもＸ線ビーム(5) の進行方向に対して垂直な方向に間
隔をおいて、検知器(1) が常に存在するようになされ
る。このようにして、断層式Ｘ線装置において、移動方
向Ａと高さＫの方向および幅Ｗ２の方向とが、連続的に
変化する値だけ違っているにもかかわらず、高さ方向は
垂直に、幅方向は水平になることが補償される。
【００２９】なお、必要に応じて、パノラマ式および断
層式のＸ線装置において、図２の(1a)から(1e)までの検
知器および図４の(1a)から(1i)までの検知器に加えてま
たはこれらに代えて、図４に鎖線で示しているように、
複数の検知器(1 j1 )-(1 j4),(1 k1 )-(1 k4 ) をマト
リックス状に集合させて１つのセット(1j)(1k)として使
用することもできる。図４には、４つの検知器(1 j1 )-
(1 j4 ),(1 k1 )-(1 k4 ) を方形のマトリックスに配置
する場合を示している。このようなマトリックス配置に
おける個々の検知器(1 j1 )-(1 j4 ),(1 k1 )-(1 k4 )
の出力は、しばしば、必ずしも必要ではないが、以下に
示すように、並列に接続される。
層式のＸ線装置において、図２の(1a)から(1e)までの検
知器および図４の(1a)から(1i)までの検知器に加えてま
たはこれらに代えて、図４に鎖線で示しているように、
複数の検知器(1 j1 )-(1 j4),(1 k1 )-(1 k4 ) をマト
リックス状に集合させて１つのセット(1j)(1k)として使
用することもできる。図４には、４つの検知器(1 j1 )-
(1 j4 ),(1 k1 )-(1 k4 ) を方形のマトリックスに配置
する場合を示している。このようなマトリックス配置に
おける個々の検知器(1 j1 )-(1 j4 ),(1 k1 )-(1 k4 )
の出力は、しばしば、必ずしも必要ではないが、以下に
示すように、並列に接続される。
【００３０】この発明で使用される検知器(1a)-(1e),(1
a)-(1i) は、任意のダイオードやトランジスターまたは
使用されるＸ線に感応する他の同様な手段とされる。こ
の場合、これらのダイオードやトランジスターのＸ線管
(4) に対向する面と受像体(7) との間に、蛍光板(14)が
介在されて、ダイオードやトランジスターと受像体(7)
との間に、間隔があけられることが好ましい。蛍光板(1
4)は、すべてまたは複数の検知器に共通とされてもよい
し、各検知器ごとに設けてもよい。一般的に、この蛍光
板(14)は、Ｘ線フィルムの光増強板として使用されてい
る材料と同じ材料で作られる。これにより、検知器は蛍
光板(14)からの出る放射線にも感応し、検知器から得ら
れる信号が強められる。もちろん、他の検知器、例え
ば、光電子増倍管(photomultiplying tube) のようなも
のを使用してもよい。しかし、光電子増倍管などは高価
であるという問題がある。
a)-(1i) は、任意のダイオードやトランジスターまたは
使用されるＸ線に感応する他の同様な手段とされる。こ
の場合、これらのダイオードやトランジスターのＸ線管
(4) に対向する面と受像体(7) との間に、蛍光板(14)が
介在されて、ダイオードやトランジスターと受像体(7)
との間に、間隔があけられることが好ましい。蛍光板(1
4)は、すべてまたは複数の検知器に共通とされてもよい
し、各検知器ごとに設けてもよい。一般的に、この蛍光
板(14)は、Ｘ線フィルムの光増強板として使用されてい
る材料と同じ材料で作られる。これにより、検知器は蛍
光板(14)からの出る放射線にも感応し、検知器から得ら
れる信号が強められる。もちろん、他の検知器、例え
ば、光電子増倍管(photomultiplying tube) のようなも
のを使用してもよい。しかし、光電子増倍管などは高価
であるという問題がある。
【００３１】パノラマ式Ｘ線装置における受像体ケース
(9) は、焦点位置にある被写体(6)の回りを受像体(7)
が方向Ａに回転するのに対応して移動する。そして、Ｘ
線ビーム(5) がこの動きに従い、検知器(1a)-(1e) は、
被写体(6) を通過した連続的に変化する放射線を撮影中
ずっと受けることになる。一方、断層式Ｘ線装置では、
受像体ケース(9) は、焦点位置にある被写体(6) に対し
てあらかじめ定められた経路Ａに沿って、Ｘ線ビーム
(5) に垂直な面または球面上を動き、Ｘ線ビーム(5) が
この動きに従うことにより、映像面(12)が、焦点位置に
ある被写体(6) を通過した連続的に変化する放射線を撮
影中ずっと受け、この結果、検知器(1a)-(1i) に、連続
的に変化する放射線が与えられることになる。
(9) は、焦点位置にある被写体(6)の回りを受像体(7)
が方向Ａに回転するのに対応して移動する。そして、Ｘ
線ビーム(5) がこの動きに従い、検知器(1a)-(1e) は、
被写体(6) を通過した連続的に変化する放射線を撮影中
ずっと受けることになる。一方、断層式Ｘ線装置では、
受像体ケース(9) は、焦点位置にある被写体(6) に対し
てあらかじめ定められた経路Ａに沿って、Ｘ線ビーム
(5) に垂直な面または球面上を動き、Ｘ線ビーム(5) が
この動きに従うことにより、映像面(12)が、焦点位置に
ある被写体(6) を通過した連続的に変化する放射線を撮
影中ずっと受け、この結果、検知器(1a)-(1i) に、連続
的に変化する放射線が与えられることになる。
【００３２】この発明によると、これらの検知器(1a)-
(1e),(1a)-(1i) に到達する変化する放射線強度によっ
て生じる連続的に変化する測定信号は、それぞれ、即座
にかつ別個に、他の検知器からの測定信号とは独立に積
算される。原理的には、各検知器(1a)-(1e),(1a)-(1i)
の出力から得られる測定信号は、中間の増幅器なしに即
座に積算され、普通、所定の時間間隔にわたってこの積
算が実行される。
(1e),(1a)-(1i) に到達する変化する放射線強度によっ
て生じる連続的に変化する測定信号は、それぞれ、即座
にかつ別個に、他の検知器からの測定信号とは独立に積
算される。原理的には、各検知器(1a)-(1e),(1a)-(1i)
の出力から得られる測定信号は、中間の増幅器なしに即
座に積算され、普通、所定の時間間隔にわたってこの積
算が実行される。
【００３３】この発明によると、各検知器(1a)-(1e),(1
a)-(1i) からの出力信号は、好ましくは一貫して積算さ
れ、積算出力は、上記の積算間隔に対応する時間間隔で
読み込まれる。各間隔の終了時点で次の積算を始めるよ
うにしてももちろんよい。いずれにしても、電子工学の
技術者であればよく理解できるように、これらは、カッ
プリングの詳細が異なるのみで、完全に同等の結果が得
られる。なお、これらのカップリングの説明について
は、この明細書では記載を省略する。
a)-(1i) からの出力信号は、好ましくは一貫して積算さ
れ、積算出力は、上記の積算間隔に対応する時間間隔で
読み込まれる。各間隔の終了時点で次の積算を始めるよ
うにしてももちろんよい。いずれにしても、電子工学の
技術者であればよく理解できるように、これらは、カッ
プリングの詳細が異なるのみで、完全に同等の結果が得
られる。なお、これらのカップリングの説明について
は、この明細書では記載を省略する。
【００３４】この発明によると、個々の積算の持続時間
は、パノラマ式および断層式のＸ線装置における撮影の
全時間よりも十分に短くなされる。この発明によると、
個々の積算値、すなわち、読み込まれた積算出力値は、
あらかじめ設定された対応する露出値の基準値と比較さ
れ、すべての検知器から読み込まれた積算結果の結合効
果を考慮に入れ、比較により得られた差異信号に基づい
て、受像体の露出に影響を与える少なくとも１つの変数
が調整される。基準露出値は、典型的な被写体を通過し
た放射線から得られる、撮影中に実行されるべき積算間
隔に対応するある時間間隔にわたる積算値であり、使用
されている受像体に対する正しい露出を得ることを補償
する露出値である。一旦測定された基準露出値は、もち
ろん他のタイプの受像体に対しても使用でき、さまざま
な感度を有している受像体に対しても使用できる。
は、パノラマ式および断層式のＸ線装置における撮影の
全時間よりも十分に短くなされる。この発明によると、
個々の積算値、すなわち、読み込まれた積算出力値は、
あらかじめ設定された対応する露出値の基準値と比較さ
れ、すべての検知器から読み込まれた積算結果の結合効
果を考慮に入れ、比較により得られた差異信号に基づい
て、受像体の露出に影響を与える少なくとも１つの変数
が調整される。基準露出値は、典型的な被写体を通過し
た放射線から得られる、撮影中に実行されるべき積算間
隔に対応するある時間間隔にわたる積算値であり、使用
されている受像体に対する正しい露出を得ることを補償
する露出値である。一旦測定された基準露出値は、もち
ろん他のタイプの受像体に対しても使用でき、さまざま
な感度を有している受像体に対しても使用できる。
【００３５】図５は、上述したこの発明による露出調整
を実施するためのカップリングを説明するブロックダイ
ヤグラムを示している。同図に示すように、個々の検知
器(1a)-(1e) の出力(30)が、積算器(20a)-(20e) に直接
に接続されており、各検知器(1a)-(1e) は、中間の増幅
器なしに検知器から出力された信号を積算する積算器(2
0a)-(20e) をそれぞれ有している。もし必要ならば、映
像面(12)または第２ブラインド(10b) のスロット(13)の
複数箇所に配置された検知器の出力は、互いに結合され
て、この結合箇所をこれら複数の検知器に共通の積算器
の入力部に直接接続するようにしてもよい。図５に示す
ように、図４中の例えば(1g)と(1f)の検知器の出力が、
互いに接続されて、積算器(20m) の入力部に直接接続さ
れており、これらの検知器(1g)(1f)は、１つの検知器列
(1m)を形成している。同様に、検知器マトリックス(1k)
を構成する４つの検知器(1 k1 )-(1 k4 ) の出力は、互
いに直接接続されてから、積算器(20n) の入力部に直接
接続されており、これらの検知器(1 k1 )-(1 k4 ) は、
別の検知器列(1n)を形成している。これらの場合、積算
は、中間の増幅器なしに検知器の出力から直接に実行さ
れる。上述した検知器の出力の並列接続は、もちろん１
つの例示に過ぎず、実際の操作では、検知器の出力は、
良好な成果を得られるときにのみ並列に接続される。
を実施するためのカップリングを説明するブロックダイ
ヤグラムを示している。同図に示すように、個々の検知
器(1a)-(1e) の出力(30)が、積算器(20a)-(20e) に直接
に接続されており、各検知器(1a)-(1e) は、中間の増幅
器なしに検知器から出力された信号を積算する積算器(2
0a)-(20e) をそれぞれ有している。もし必要ならば、映
像面(12)または第２ブラインド(10b) のスロット(13)の
複数箇所に配置された検知器の出力は、互いに結合され
て、この結合箇所をこれら複数の検知器に共通の積算器
の入力部に直接接続するようにしてもよい。図５に示す
ように、図４中の例えば(1g)と(1f)の検知器の出力が、
互いに接続されて、積算器(20m) の入力部に直接接続さ
れており、これらの検知器(1g)(1f)は、１つの検知器列
(1m)を形成している。同様に、検知器マトリックス(1k)
を構成する４つの検知器(1 k1 )-(1 k4 ) の出力は、互
いに直接接続されてから、積算器(20n) の入力部に直接
接続されており、これらの検知器(1 k1 )-(1 k4 ) は、
別の検知器列(1n)を形成している。これらの場合、積算
は、中間の増幅器なしに検知器の出力から直接に実行さ
れる。上述した検知器の出力の並列接続は、もちろん１
つの例示に過ぎず、実際の操作では、検知器の出力は、
良好な成果を得られるときにのみ並列に接続される。
【００３６】要するに、この発明の原理は、１または複
数の検知器から得られる出力信号が、何らかの中間増幅
器を介さずに即座に積算されることにある。この直接積
算の結果、従来技術に比べて、ＳＮ比が大幅に改良され
る。実際、検知器から得られた信号がまず増幅されたな
らば、増幅器自体の雑音とオフセット電圧が加わるため
に、ＳＮ比が検知器の出力比に比べて悪くなる。検知器
の感応面積の増加、すなわち、検知器の並列接続によっ
ても、ＳＮ比は改良されるが、これに比べて、この発明
の配置は、はるかに大幅にＳＮ比を改良する。上述した
ように、検知器の並列接続は、中間段階で増幅器を使用
しないようにするという点で有益である。また、検知器
の前方において使用される蛍光板の作用により、ＳＮ比
は改良される。実際、蛍光板の作用によるＳＮ比の改良
効果は、上述したこの発明の積算の方法とともに用いる
ことにより、より一層大きいものとなる。
数の検知器から得られる出力信号が、何らかの中間増幅
器を介さずに即座に積算されることにある。この直接積
算の結果、従来技術に比べて、ＳＮ比が大幅に改良され
る。実際、検知器から得られた信号がまず増幅されたな
らば、増幅器自体の雑音とオフセット電圧が加わるため
に、ＳＮ比が検知器の出力比に比べて悪くなる。検知器
の感応面積の増加、すなわち、検知器の並列接続によっ
ても、ＳＮ比は改良されるが、これに比べて、この発明
の配置は、はるかに大幅にＳＮ比を改良する。上述した
ように、検知器の並列接続は、中間段階で増幅器を使用
しないようにするという点で有益である。また、検知器
の前方において使用される蛍光板の作用により、ＳＮ比
は改良される。実際、蛍光板の作用によるＳＮ比の改良
効果は、上述したこの発明の積算の方法とともに用いる
ことにより、より一層大きいものとなる。
【００３７】結局、この発明の最も大きい特徴は、検知
器から得られた信号が検知器の出力にできるだけ近い所
定時間にわたって積算され、しかも、これができるだけ
中間増幅器を使用せずに行われることにある。そのよう
な積算手続は、従来技術のものに比べて大幅にＳＮ比を
改良し、より正確な露出調整を可能にする。
器から得られた信号が検知器の出力にできるだけ近い所
定時間にわたって積算され、しかも、これができるだけ
中間増幅器を使用せずに行われることにある。そのよう
な積算手続は、従来技術のものに比べて大幅にＳＮ比を
改良し、より正確な露出調整を可能にする。
【００３８】上述したように、各検知器(1a)-(1e) が個
々の測定チャンネル(24)の最初に置かれ、各検知器列(1
m)(1n)も対応する測定チャンネル(24)の最初に置かれて
いる。各測定チャンネル(24)は、それぞれ積算器(20a)-
(20e), (20m),(20n)を有している。必要に応じて、これ
らの積算器に続いて、緩衝増幅器(21)が設けられる。増
幅器(21)は、積算された信号の質を各測定チャンネル(2
4)に引き続いて設けられているＡ／Ｄ変換器(22)の入力
に適合させる。典型的には、信号は、増幅器(21)内で、
電流−電圧変換を受ける。これらの測定チャンネル(24)
のＡ／Ｄ変換器(22)の出力部はさらにマイクロプロセッ
サ(23)に接続されている。制御ユニット(2) は、さら
に、記憶手段(29)を備えており、記憶手段(29)には、各
測定チャンネル(24)ごとに少なくとも１つずつ対応させ
られた第１記憶ユニットが設けられている。第１記憶ユ
ニットには、複数のあらかじめ定められた基準露出値が
蓄えられている。この発明において、各基準露出値は、
一連の積算の時間間隔すなわち積算結果読込み時に対す
る期待値に対応している。マイクロプロセッサ(23)は、
個々の積算間隔の後に各測定チャンネルに読み込まれた
積算結果の値と、対応する記憶手段(29)の第１記憶ユニ
ットに蓄えられている対応する放射線の基準値とを比較
し、この結果、差異信号を得る。そのような差異信号の
数は、測定チャンネル(24)の数、第１記憶ユニットの数
およびこれらからの信号チャンネル(25)の数に等しい。
各積算間隔の終了時点では、信号チャンネル(25)の数に
等しい複数の差異信号が得られる。マイクロプロセッサ
(23)は、複数の差異信号から結合された比較結果を下記
の方法で演算し、その結果が、受像体に影響を及ぼす変
数を調整するため、Ｘ線発生器(3) に入力される。
々の測定チャンネル(24)の最初に置かれ、各検知器列(1
m)(1n)も対応する測定チャンネル(24)の最初に置かれて
いる。各測定チャンネル(24)は、それぞれ積算器(20a)-
(20e), (20m),(20n)を有している。必要に応じて、これ
らの積算器に続いて、緩衝増幅器(21)が設けられる。増
幅器(21)は、積算された信号の質を各測定チャンネル(2
4)に引き続いて設けられているＡ／Ｄ変換器(22)の入力
に適合させる。典型的には、信号は、増幅器(21)内で、
電流−電圧変換を受ける。これらの測定チャンネル(24)
のＡ／Ｄ変換器(22)の出力部はさらにマイクロプロセッ
サ(23)に接続されている。制御ユニット(2) は、さら
に、記憶手段(29)を備えており、記憶手段(29)には、各
測定チャンネル(24)ごとに少なくとも１つずつ対応させ
られた第１記憶ユニットが設けられている。第１記憶ユ
ニットには、複数のあらかじめ定められた基準露出値が
蓄えられている。この発明において、各基準露出値は、
一連の積算の時間間隔すなわち積算結果読込み時に対す
る期待値に対応している。マイクロプロセッサ(23)は、
個々の積算間隔の後に各測定チャンネルに読み込まれた
積算結果の値と、対応する記憶手段(29)の第１記憶ユニ
ットに蓄えられている対応する放射線の基準値とを比較
し、この結果、差異信号を得る。そのような差異信号の
数は、測定チャンネル(24)の数、第１記憶ユニットの数
およびこれらからの信号チャンネル(25)の数に等しい。
各積算間隔の終了時点では、信号チャンネル(25)の数に
等しい複数の差異信号が得られる。マイクロプロセッサ
(23)は、複数の差異信号から結合された比較結果を下記
の方法で演算し、その結果が、受像体に影響を及ぼす変
数を調整するため、Ｘ線発生器(3) に入力される。
【００３９】これに加えて、記憶手段(29)は、実際のパ
ノラマ式および断層式のＸ線装置の作動開始時に使用さ
れる初期露出値を蓄える第２記憶ユニットを有してい
る。プリセット初期露出値は複数あり、例えば、Ｘ線管
の電流値（ｍＡ）および電圧値（ｋＶ）、装置の移動速
さＡなどが、男女別、年齢別、その他種々の方法で区分
された患者の群に応じて用意されている。これらの初期
露出値は、実際の撮影の前に行われる予備測定に基づい
て選択されるようにしてもよい。このような第２記憶ユ
ニットの必要数は、露出に影響を与える上述の３つの変
数が必要な患者の数に対して蓄えられる数だけあればよ
い。初期露出値の選択は、加減器(28)の操作によるか、
前もって蓄えられておりこれによって適当な初期露出値
を仮決めすることができる患者のデータに基づくかして
行われる。
ノラマ式および断層式のＸ線装置の作動開始時に使用さ
れる初期露出値を蓄える第２記憶ユニットを有してい
る。プリセット初期露出値は複数あり、例えば、Ｘ線管
の電流値（ｍＡ）および電圧値（ｋＶ）、装置の移動速
さＡなどが、男女別、年齢別、その他種々の方法で区分
された患者の群に応じて用意されている。これらの初期
露出値は、実際の撮影の前に行われる予備測定に基づい
て選択されるようにしてもよい。このような第２記憶ユ
ニットの必要数は、露出に影響を与える上述の３つの変
数が必要な患者の数に対して蓄えられる数だけあればよ
い。初期露出値の選択は、加減器(28)の操作によるか、
前もって蓄えられておりこれによって適当な初期露出値
を仮決めすることができる患者のデータに基づくかして
行われる。
【００４０】この発明によると、積算器(20a)-(20n) の
積算持続時間は、全撮影過程に対して十分に短く、各検
知器または各検知器列の測定信号は、少なくとも５回積
算される。好ましい実施形態によると、積算持続時間
は、装置のすべての積算器に対して一定かつ同一にされ
る。パノラマ式および断層式のＸ線装置による撮影中の
全期間にわたって、少なくとも１０回の積算、典型的に
は３０から１００回の積算が行われるように、積算間隔
が短くされることが好ましい。そして、この場合には、
上述したように、各積算は、その積算値を内蔵するとと
もに、必要に応じて、積算器をリセットする。積算持続
時間は、２０ミリ秒から１０００ミリ秒までの範囲とさ
れ、好ましくは、７０ミリ秒から３００ミリ秒までの範
囲とされる。装置の記憶手段(29)の第１記憶ユニットに
は、各検知器または検知器列に対応しかつ各積算間隔の
終了時点に対応する基準露出値が、差異信号を得るため
に蓄えられている。したがって、もし例えば図２のパノ
ラマ式Ｘ線装置において、上記５つの検知器(1a)-(1e)
により５つの積算が行われたならば、記憶手段(29)には
全部で２５の読込み値が蓄えられる。これらの２５の読
込み値のうち、最初の５つの読込み値は、例えば、焦点
位置にある被写体(6) のエリア、すなわち、顎骨の左端
のエリアにある検知器(1a)-(1e) に期待される読込み値
に対応している。そして次の５つの読込み値は、顎骨の
左半部の中央エリアにある５つの検知器(1a)-(1e) に期
待される読込み値に対応している。３番目の５つの読込
み値は、顎骨の先のエリアにある検知器(1a)-(1e) に期
待される読込み値に対応し、そして４番目および５番目
の５つの読込み値は、それぞれ顎骨の右半部の中央エリ
アにある検知器(1a)-(1e) および右端のエリアにある検
知器(1a)-(1e) に期待される読込み値に対応している。
上の例は、理解を容易なものとするために単純化したも
のであり、もっと複雑な仕様で操作される実際の装置と
完全に一致しているものではない。
積算持続時間は、全撮影過程に対して十分に短く、各検
知器または各検知器列の測定信号は、少なくとも５回積
算される。好ましい実施形態によると、積算持続時間
は、装置のすべての積算器に対して一定かつ同一にされ
る。パノラマ式および断層式のＸ線装置による撮影中の
全期間にわたって、少なくとも１０回の積算、典型的に
は３０から１００回の積算が行われるように、積算間隔
が短くされることが好ましい。そして、この場合には、
上述したように、各積算は、その積算値を内蔵するとと
もに、必要に応じて、積算器をリセットする。積算持続
時間は、２０ミリ秒から１０００ミリ秒までの範囲とさ
れ、好ましくは、７０ミリ秒から３００ミリ秒までの範
囲とされる。装置の記憶手段(29)の第１記憶ユニットに
は、各検知器または検知器列に対応しかつ各積算間隔の
終了時点に対応する基準露出値が、差異信号を得るため
に蓄えられている。したがって、もし例えば図２のパノ
ラマ式Ｘ線装置において、上記５つの検知器(1a)-(1e)
により５つの積算が行われたならば、記憶手段(29)には
全部で２５の読込み値が蓄えられる。これらの２５の読
込み値のうち、最初の５つの読込み値は、例えば、焦点
位置にある被写体(6) のエリア、すなわち、顎骨の左端
のエリアにある検知器(1a)-(1e) に期待される読込み値
に対応している。そして次の５つの読込み値は、顎骨の
左半部の中央エリアにある５つの検知器(1a)-(1e) に期
待される読込み値に対応している。３番目の５つの読込
み値は、顎骨の先のエリアにある検知器(1a)-(1e) に期
待される読込み値に対応し、そして４番目および５番目
の５つの読込み値は、それぞれ顎骨の右半部の中央エリ
アにある検知器(1a)-(1e) および右端のエリアにある検
知器(1a)-(1e) に期待される読込み値に対応している。
上の例は、理解を容易なものとするために単純化したも
のであり、もっと複雑な仕様で操作される実際の装置と
完全に一致しているものではない。
【００４１】この発明によると、各積算間隔の終了時点
において、各検知器からの積算によって得られた値は、
上述したように、記憶手段の第１記憶ユニットに読み込
まれて蓄えられている該当箇所の基準値と比較される。
この場合に、５つの重なり合わされた検知器によって与
えられる積算測定結果は、第１記憶ユニットに蓄えられ
ている対応する基準露出値と比較される。この対応する
基準露出値は、顎骨のこの箇所において期待されている
値でかつ受像体に対して正しい露出を行わせる値となっ
ている。この比較によって得られた差異信号により、マ
イクロプロセッサ(23)は、Ｘ線発生器(3) を介してＸ線
管(4) の電流および／または電圧を調整する。マイクロ
プロセッサ(23)は、本来的には、バス(26)によってＸ線
管(4) の電流を調整し、同時にバス(27)によってＸ線管
(4) の電圧も調整する。マイクロプロセッサ(23)は、積
算測定値が次に読み込まれるまで、これらのＸ線管(4)
調整用の値を一定に保つ。図１の場合において、上述し
たように５つの検知器が使われ、積算が１０回行われた
ならば、記憶手段(29)の第１記憶ユニットには、５０の
基準露出値が蓄えられる。もし、積算が１００回行われ
たならば、第１記憶ユニットには５００の基準露出値が
蓄えられる。同様に、断層式Ｘ線装置においては、図４
において、９つの検知器がそれぞれ別個に使われ、積算
が１０回行われたならば、記憶手段には９０の基準露出
値が蓄えられ、積算が１００回行われたならば、記憶手
段には９００の基準露出値が蓄えられる。蓄えられる基
準露出値が積算持続時間および検知器の数したがって測
定チャンネルの数によることは明らかである。記憶手段
(29)の第１記憶ユニットに蓄えられた基準露出値の数値
は、典型的な被写体における同様の積算によって得られ
た値に対応しており、瞬間的な信号値には対応していな
い。これらの蓄えられた基準露出値は、測定値と比較さ
れる。
において、各検知器からの積算によって得られた値は、
上述したように、記憶手段の第１記憶ユニットに読み込
まれて蓄えられている該当箇所の基準値と比較される。
この場合に、５つの重なり合わされた検知器によって与
えられる積算測定結果は、第１記憶ユニットに蓄えられ
ている対応する基準露出値と比較される。この対応する
基準露出値は、顎骨のこの箇所において期待されている
値でかつ受像体に対して正しい露出を行わせる値となっ
ている。この比較によって得られた差異信号により、マ
イクロプロセッサ(23)は、Ｘ線発生器(3) を介してＸ線
管(4) の電流および／または電圧を調整する。マイクロ
プロセッサ(23)は、本来的には、バス(26)によってＸ線
管(4) の電流を調整し、同時にバス(27)によってＸ線管
(4) の電圧も調整する。マイクロプロセッサ(23)は、積
算測定値が次に読み込まれるまで、これらのＸ線管(4)
調整用の値を一定に保つ。図１の場合において、上述し
たように５つの検知器が使われ、積算が１０回行われた
ならば、記憶手段(29)の第１記憶ユニットには、５０の
基準露出値が蓄えられる。もし、積算が１００回行われ
たならば、第１記憶ユニットには５００の基準露出値が
蓄えられる。同様に、断層式Ｘ線装置においては、図４
において、９つの検知器がそれぞれ別個に使われ、積算
が１０回行われたならば、記憶手段には９０の基準露出
値が蓄えられ、積算が１００回行われたならば、記憶手
段には９００の基準露出値が蓄えられる。蓄えられる基
準露出値が積算持続時間および検知器の数したがって測
定チャンネルの数によることは明らかである。記憶手段
(29)の第１記憶ユニットに蓄えられた基準露出値の数値
は、典型的な被写体における同様の積算によって得られ
た値に対応しており、瞬間的な信号値には対応していな
い。これらの蓄えられた基準露出値は、測定値と比較さ
れる。
【００４２】必然的に、この発明による方法および装置
は、次のように操作される。撮影期間が始まる前に、装
置は、与えられるか蓄えている患者タイプのデータまた
は適当な初期測定のデータに基づいて、Ｘ線撮影される
べき患者の被写体部分に適当と考えられる露出値を決定
し、さらに、Ｘ線管(4) および受像体ケース(9) の速さ
とＸ線管(4) の電圧値および電流値とを決定する。この
発明による露出自動調整によると、良い撮影結果を得る
ために、撮影期間中は、装置の速さＡおよびＢを少なく
とも初期においては変更しない。この後、実際のパノラ
マ式または断層式放射線撮影が始まる。この間、受像体
(7) の後方に配置された(1a)-(1e),(1a)-(1i) の検知器
または他の同様の検知器が、被写体(6) の各点における
浸透量により変化する所定の放射線量を受け取る。撮影
期間中、検知器(1) で受け取られた信号は、上述のよう
に積算される。例えば、一定の積算間隔の終了時点で
は、積算によって得られた各測定値が、記憶手段の第１
記憶ユニットに蓄えられている基準値と比較される。こ
の比較によって得られた差異信号を使って、マイクロプ
ロセッサは、以下に詳述されるプログラムにより、Ｘ線
管の電流値または電圧値を変更する。普通は、Ｘ線管の
電流値だけが調整される。撮影の全期間中、パノラマ式
または断層式放射線撮影は一定の割合で続行される。そ
して、各積算間隔の終了時点で上記操作が行われ、その
後は、Ｘ線管の設定値は、次の積算間隔の終了時点まで
一定に保たれる。このようにして、受像体(7) の全部
が、露出値の急激な変化なしに、かつ、被写体の各点に
おける浸透量を考慮に入れて露出される。上記操作過程
によると、雑音などの妨害信号の影響が最小化されるた
め、非常に優れた調整結果が得られる。なお、上述の放
射線撮影によると、放射線の検知は、Ｘ線ビームが動い
ているときでも行うことができる。
は、次のように操作される。撮影期間が始まる前に、装
置は、与えられるか蓄えている患者タイプのデータまた
は適当な初期測定のデータに基づいて、Ｘ線撮影される
べき患者の被写体部分に適当と考えられる露出値を決定
し、さらに、Ｘ線管(4) および受像体ケース(9) の速さ
とＸ線管(4) の電圧値および電流値とを決定する。この
発明による露出自動調整によると、良い撮影結果を得る
ために、撮影期間中は、装置の速さＡおよびＢを少なく
とも初期においては変更しない。この後、実際のパノラ
マ式または断層式放射線撮影が始まる。この間、受像体
(7) の後方に配置された(1a)-(1e),(1a)-(1i) の検知器
または他の同様の検知器が、被写体(6) の各点における
浸透量により変化する所定の放射線量を受け取る。撮影
期間中、検知器(1) で受け取られた信号は、上述のよう
に積算される。例えば、一定の積算間隔の終了時点で
は、積算によって得られた各測定値が、記憶手段の第１
記憶ユニットに蓄えられている基準値と比較される。こ
の比較によって得られた差異信号を使って、マイクロプ
ロセッサは、以下に詳述されるプログラムにより、Ｘ線
管の電流値または電圧値を変更する。普通は、Ｘ線管の
電流値だけが調整される。撮影の全期間中、パノラマ式
または断層式放射線撮影は一定の割合で続行される。そ
して、各積算間隔の終了時点で上記操作が行われ、その
後は、Ｘ線管の設定値は、次の積算間隔の終了時点まで
一定に保たれる。このようにして、受像体(7) の全部
が、露出値の急激な変化なしに、かつ、被写体の各点に
おける浸透量を考慮に入れて露出される。上記操作過程
によると、雑音などの妨害信号の影響が最小化されるた
め、非常に優れた調整結果が得られる。なお、上述の放
射線撮影によると、放射線の検知は、Ｘ線ビームが動い
ているときでも行うことができる。
【００４３】記憶手段(29)の第１記憶ユニットに蓄えら
れている基準露出値のほかに、記憶手段には、あらかじ
め定められた露出値の最大および／または最小値が蓄え
られる。これらの値は、次のように使用される。もしも
検知器(1) から得られた積算された測定信号が、あらか
じめ定められた露出値の最大値よりも大きいか最小値よ
りも小さいとき、歯治療用充填物か空洞のような例外的
なエリアが焦点位置にある被写体内にあると結論付けら
れる。この場合、マイクロプロセッサ(23)は、基準露出
値と測定値との間の差異信号がこの例外箇所では使用さ
れないようにプログラムされる。例外箇所の差異信号
は、検知器の前回の積算値、前回までの平均積算値、前
回までの重み付き平均積算値またはその他のあらかじめ
定められた値により置き換えられる。これは、基準露出
値に比較して測定値が非常に大きく違うとき、すなわ
ち、所定の範囲を越えて大きくなった場合、この測定値
が削除されて、上述の他の値が使用されることを意味し
ている。
れている基準露出値のほかに、記憶手段には、あらかじ
め定められた露出値の最大および／または最小値が蓄え
られる。これらの値は、次のように使用される。もしも
検知器(1) から得られた積算された測定信号が、あらか
じめ定められた露出値の最大値よりも大きいか最小値よ
りも小さいとき、歯治療用充填物か空洞のような例外的
なエリアが焦点位置にある被写体内にあると結論付けら
れる。この場合、マイクロプロセッサ(23)は、基準露出
値と測定値との間の差異信号がこの例外箇所では使用さ
れないようにプログラムされる。例外箇所の差異信号
は、検知器の前回の積算値、前回までの平均積算値、前
回までの重み付き平均積算値またはその他のあらかじめ
定められた値により置き換えられる。これは、基準露出
値に比較して測定値が非常に大きく違うとき、すなわ
ち、所定の範囲を越えて大きくなった場合、この測定値
が削除されて、上述の他の値が使用されることを意味し
ている。
【００４４】上述の記載は、この発明の好ましい実施形
態に関するもので、積算持続時間は一定に保たれてい
る。そして、各積算間隔の終了時点で積算された差異信
号が、記憶手段(29)に蓄えられている対応する基準値と
比較される。しかし、積算持続時間は変数としてもよ
く、この場合には、測定信号と第１記憶ユニットに蓄え
られている信号値との比較は、次の２つの方法のいずれ
かで行われる。
態に関するもので、積算持続時間は一定に保たれてい
る。そして、各積算間隔の終了時点で積算された差異信
号が、記憶手段(29)に蓄えられている対応する基準値と
比較される。しかし、積算持続時間は変数としてもよ
く、この場合には、測定信号と第１記憶ユニットに蓄え
られている信号値との比較は、次の２つの方法のいずれ
かで行われる。
【００４５】第１は、検知器(1) によって供給されたす
べての積算測定信号のうちのあらかじめ定められた割合
に相当する値が、あらかじめ定められかつ第１記憶ユニ
ットに蓄えられている露出値に等しいかこれを越えたと
き、この瞬間を測定信号と記憶手段に蓄えられている露
出値との比較の瞬間とするものである。この場合には、
各検知器から得られた測定信号が、対応する記憶手段の
第１記憶ユニットに蓄えられている基準露出値とこの瞬
間に比較され、次いで、マイクロプロセッサが、差異信
号に基づいて、Ｘ線管の値を調整する。
べての積算測定信号のうちのあらかじめ定められた割合
に相当する値が、あらかじめ定められかつ第１記憶ユニ
ットに蓄えられている露出値に等しいかこれを越えたと
き、この瞬間を測定信号と記憶手段に蓄えられている露
出値との比較の瞬間とするものである。この場合には、
各検知器から得られた測定信号が、対応する記憶手段の
第１記憶ユニットに蓄えられている基準露出値とこの瞬
間に比較され、次いで、マイクロプロセッサが、差異信
号に基づいて、Ｘ線管の値を調整する。
【００４６】第２は、各検知器から得られる値が第１記
憶ユニットに蓄えられているあらかじめ定められた値に
到達するまでに要する時間と、あらかじめ定められた基
準積算時間間隔との差異に基づいて比較の瞬間を決める
ものである。この場合には、マイクロプロセッサは、各
検知器から得られた時間差に基づいて、Ｘ線管の値を調
整する。これらの２つの方法の違いは、第１の方法で
は、ある一定の瞬間に検知器から得られた積算測定信号
の強度が、記憶手段内の強度の基準値と比較されるのに
対し、第２の方法では、ある一定の信号強度に達するま
での実測積算間隔と基準積算間隔とが互いに比較される
ものである。
憶ユニットに蓄えられているあらかじめ定められた値に
到達するまでに要する時間と、あらかじめ定められた基
準積算時間間隔との差異に基づいて比較の瞬間を決める
ものである。この場合には、マイクロプロセッサは、各
検知器から得られた時間差に基づいて、Ｘ線管の値を調
整する。これらの２つの方法の違いは、第１の方法で
は、ある一定の瞬間に検知器から得られた積算測定信号
の強度が、記憶手段内の強度の基準値と比較されるのに
対し、第２の方法では、ある一定の信号強度に達するま
での実測積算間隔と基準積算間隔とが互いに比較される
ものである。
【００４７】上述の異なる方法に基づく最終の成果は、
実際の操作においては同じとなる。しかし、装置の詳細
およびマイクロプロセッサのプログラムは、各方法に応
じて適切に使用されなければならないことはもちろんで
ある。
実際の操作においては同じとなる。しかし、装置の詳細
およびマイクロプロセッサのプログラムは、各方法に応
じて適切に使用されなければならないことはもちろんで
ある。
【００４８】この発明による装置に使用されている検知
器(1) には、目的に合致する従来の型式のものが用いら
れ、積算器(20)、緩衝増幅器(21)およびＡ／Ｄ変換器(2
2)には、市場で手に入る適当な型式のものが用いられ
る。マイクロプロセッサ(23)は、ファームロジックを有
し結合効果の結果を演算できる普通のものでよく、固定
されかつあらかじめ定められた一連の規則を用いるタイ
プでも、一連の変化する規則を用いるタイプすなわちフ
ァジーロジックに対応するファジープログラムを用いる
ものであってもよい。ファームロジックを有しないマイ
クロプロセッサも使用可能であり、この場合には、結合
効果の結果は、一連の変化する規則を用いるファジーロ
ジックにより演算される。どの場合でも、バス(26)(27)
を介してＸ線管を調整するために、何種類かの平均値が
上述した差異信号から演算される。マイクロプロセッサ
で使用されているプログラムの型式によって、この平均
値は、かなり違った方法で演算され、特に、上述したフ
ァジープログラムまたはファジーロジックが使われると
きには、種々の方法で演算される。
器(1) には、目的に合致する従来の型式のものが用いら
れ、積算器(20)、緩衝増幅器(21)およびＡ／Ｄ変換器(2
2)には、市場で手に入る適当な型式のものが用いられ
る。マイクロプロセッサ(23)は、ファームロジックを有
し結合効果の結果を演算できる普通のものでよく、固定
されかつあらかじめ定められた一連の規則を用いるタイ
プでも、一連の変化する規則を用いるタイプすなわちフ
ァジーロジックに対応するファジープログラムを用いる
ものであってもよい。ファームロジックを有しないマイ
クロプロセッサも使用可能であり、この場合には、結合
効果の結果は、一連の変化する規則を用いるファジーロ
ジックにより演算される。どの場合でも、バス(26)(27)
を介してＸ線管を調整するために、何種類かの平均値が
上述した差異信号から演算される。マイクロプロセッサ
で使用されているプログラムの型式によって、この平均
値は、かなり違った方法で演算され、特に、上述したフ
ァジープログラムまたはファジーロジックが使われると
きには、種々の方法で演算される。
【図１】この発明によるパノラマ式Ｘ線装置を概略的に
示す平面図である。
示す平面図である。
【図２】同装置内の受像体の前方にある第２ブラインド
の開口と、Ｘ線ビームの進行方向から見て受像体の後方
に配置された検知器とを示す図である。
の開口と、Ｘ線ビームの進行方向から見て受像体の後方
に配置された検知器とを示す図である。
【図３】この発明による断層式Ｘ線装置を概略的に示す
平面図である。
平面図である。
【図４】図３の装置の映像面と、Ｘ線ビームの進行方向
から見て受像体の後方に配置された検知器とを示す図で
ある。
から見て受像体の後方に配置された検知器とを示す図で
ある。
【図５】この発明による方法および装置において使用す
ることができるカップリングのブロックダイヤグラムを
示す図である。
ることができるカップリングのブロックダイヤグラムを
示す図である。
(1) 検知器 (1a)-(1n) 個々の検知器 (2) 制御装置 (3) Ｘ線発生器（調整手段） (4) 放射線源 (5) Ｘ線ビーム（放射線） (6) 被写体 (7) 受像体 (12) 映像面 (13) スロット (20) 積算器 (20a)-(20n) 個々の積算器 (23) マイクロプロセッサ（演算装置） (24) 測定チャンネル (26)(27) バス (28) 加減器 (29) 記憶手段
Claims (17)
- 【請求項１】 放射線源より発せられた放射線が、焦点
位置に置かれた被写体中を１つのエリアから他のエリア
へと順次通過し、これらの一連のステップからなる撮影
期間にわたって被写体を受像体に表示する、パノラマ式
放射線撮影、断層式放射線撮影等の放射線撮影に際し、
受像体の後方に配置された少なくとも２つの検知器によ
って、受像体上における入射放射線強度が放射線の進行
方向に沿って測定され、これらの検知器からの測定信号
とあらかじめ設定された基準値とに基づいて、撮影中に
受像体の露出に影響を与える変数のうちの少なくとも１
つが調整される、放射線撮影における露出自動調整方法
において、 各検知器から得られかつ撮影中に変化する測定信号が、
即座にかつ別個に、他の検知器からの測定信号とは独立
に所定の時間間隔で積算され、この積算が全撮影期間に
わたって実行されるとともに、個々の積算ステップの持
続期間が全撮影期間よりも十分に短くなされており、個
々の積算ステップの結果が、対応するあらかじめ設定さ
れた基準露出値と比較され、この比較結果に基づいて、
受像体の露出に影響を与える少なくとも１つの変数が調
整されることを特徴とする放射線撮影における露出自動
調整方法。 - 【請求項２】 撮影中の全期間にわたって、少なくとも
５回、好ましくは少なくとも１０回、典型的には３０か
ら１００回の積算が行われるように、個々の積算ステッ
プの持続時間が短くされており、必要ならば、各積算ス
テップの終了時点で行われる比較により得られる比較結
果に基づいて、受像体の露出に影響を及ぼす変数が調整
され、基準露出値が、目標の露出に対応しかつ所定の時
間間隔にわたって積算された強度の値として設定されて
いることを特徴とする請求項１の方法。 - 【請求項３】 少なくとも各撮影期間中は積算の時間間
隔が一定に保たれ、検知器から得られた測定信号値が、
各積算時間の終了時点であらかじめ設定された基準露出
値と比較されようになされているか、または、上記積算
の時間間隔が変化し、各撮影期間は、検知器によって供
給されたすべての積算測定信号のうちあらかじめ定めら
れた割合を掛けた値があらかじめ定められた露出値に等
しいかこれを越えた瞬間によって区分された複数の時間
間隔からなるようになされていることを特徴とする請求
項１または２の方法。 - 【請求項４】 積算間隔が一定に保たれる場合には、各
検知器の測定信号から積算された値は、この一定の時間
間隔の終了時点において、あらかじめ定められた基準露
出値と比較され、その後、測定された積算値と基準露出
値との差異信号からあらかじめ定められた方法で計算さ
れた差異信号平均値に基づいて、少なくともＸ線管の電
流値が調整されることを特徴とする請求項３の方法。 - 【請求項５】 一定の積算間隔は、すべての積算器に対
して同一でかつ撮影期間中一定に保たれ、この間隔が、
２０ミリ秒から１０００ミリ秒までの範囲、好ましく
は、７０ミリ秒から３００ミリ秒までの範囲とされるこ
とを特徴とする請求項４の方法。 - 【請求項６】 積算間隔が変化する場合、各検知器の実
際の積算間隔が、この間隔の終了時点において、あらか
じめ定められた基準積算間隔と比較され、その後、あら
かじめ定められた方法で計算された時間差異信号の平均
値に基づいて、少なくともＸ線管の電流値が調整される
ことを特徴とする請求項３の方法。 - 【請求項７】 積算間隔が変化する場合、各検知器の測
定信号から積算された値が、この間隔の終了時点におい
て、あらかじめ定められた基準露出値と比較され、その
後、あらかじめ定められた方法で計算されたこれらの強
度の差異信号の平均値に基づいて、少なくともＸ線管の
電流値が調整されることを特徴とする請求項３の方法。 - 【請求項８】 個々の測定信号の強度が、あらかじめ定
められた基準露出値に比べて一定値以上大きいか小さい
とき、この積算間隔に対する測定信号が、対応する検知
器の前回までの積算ステップの平均値、所定の積算ステ
ップの前回までの全平均値またはその他のあらかじめ定
められた値により置き換えられ、各撮影期間中は、装置
を構成する要素の機械的運動の速さが、設定された値に
実質的に一定に保たれることを特徴とする請求項１から
７までの方法。 - 【請求項９】 パノラマ式放射線撮影、断層式放射線撮
影等の放射線撮影が、装置に蓄えられかつあらかじめ定
められた被写体のタイプに対応する初期露出値によって
初期化されていることを特徴とする請求項１から８まで
の方法。 - 【請求項１０】 複数の検知器を実質的に全映像面にわ
たる所定箇所に配置することにより、または、検知器を
Ｘ線ビームに沿って移動可能に配置することにより、ま
たは、検知器をＸ線ビームの範囲内の所定箇所に保つと
ともに、受像体がＸ線ビームを横切って動くようにする
ことにより、測定信号を得るための放射線検知が、実質
的に全映像面にわたって実行されることを特徴とする請
求項１の方法。 - 【請求項１１】 放射線源(4) および受像体(7) と、放
射線源(4) から発せられ、放射線源(4) および受像体
(7) の間に配置された被写体を通過して映像面を形成す
る受像体(7) に到達する放射線(5) と、放射線(5) の進
行方向における受像体(7) の後方に所定間隔をおいて配
置され、受像体(7) 上の入射放射線強度を測定する少な
くとも２つの検知器(1) と、受像体(7) の露出の基準値
を蓄えている記憶手段(29)と、検知器(1) からの信号お
よび基準値に基づいて、撮影中に受像体(7) の露出に影
響を及ぼす少なくとも１つの変数を調整する調整手段
(3)とを備えており、被写体の１つのエリアから他のエ
リアへと一連のステップからなる撮影期間にわたってＸ
線撮影が行われる、パノラマ式放射線撮影、断層式放射
線撮影等の放射線撮影に際して、受像体(7) の露出を調
整する露出自動調整装置において、 個々の検知器(1a,1b,1c,…) または１つの検知器列(1m,
1n) に対応して設けられ、検知器(1) の出力に直接に接
続された積算器(20a,20b,20c…;20m;20n) と、個々の検
知器(1a,1b,1c,…) または１つの検知器列(1m,1n) に対
応して設けられた複数の測定チャンネル(24)と、記憶手
段(29)に設けられ、各測定チャンネル(24)ごとに少なく
とも１つずつ対応させられ、複数のあらかじめ定められ
た基準露出値が蓄えられている第１記憶ユニットと、異
なる測定チャンネル(24)から得られた各積算値を、これ
に対応する測定チャンネル(24)の第１記憶ユニット内に
あらかじめ蓄えられている露出値と比較して、調整手段
(3) に供給される(26,27)比較結果を演算する演算装置
(23)とをさらに備え、検知器(1) の個々の積算間隔が全
撮影期間よりも十分に短くされていることを特徴とする
放射線撮影における露出自動調整装置。 - 【請求項１２】 調整手段(3) が、比較結果に基づいて
撮影中に放射線源(4) であるＸ線管の電流を調整する手
段を有し、積算器(20)が、２０ミリ秒から１０００ミリ
秒までの範囲、好ましくは、７０ミリ秒から３００ミリ
秒までの範囲の積算間隔値を有し、演算装置(23)が、フ
ァームロジックを有し固定されかつあらかじめ定められ
た一連の規則を用いて比較結果を演算するプロセッサ
か、ファジーロジックを有し一連の変化する規則を用い
て結合効果の結果を演算するプロセッサかであることを
特徴とする請求項１１の装置。 - 【請求項１３】 装置がパノラマ式Ｘ線撮影用であり、
検知器(1) が、受像体(7) および／またはＸ線ビーム
(5) の進行方向（Ｂ，Ａ）に少なくとも垂直、したがっ
て映像面の高さＨに平行である間隔Ｌ１をおいて配置さ
れており、好ましくは、Ｘ線ビーム(5) に対して映像面
の高さ方向に並列とされるとともに、検知器の数が、少
なくとも３つ、好ましくは４つまたは５つとされている
ことを特徴とする請求項１１の装置。 - 【請求項１４】 装置が断層式Ｘ線撮影用であり、検知
器(1) が、互いに垂直な２方向に間隔（Ｌ１，Ｌ２）を
おいて配置され、好ましくは、検知器(1) が、Ｘ線ビー
ム(5) のエリア内の互いに間隔をおいた所定箇所に配置
され、映像面の互いに垂直な２方向にそれぞれ間隔をお
いて少なくとも４つの検知器(1) が、互いに間隔をおい
て各方向に少なくと２つまたは３つ並ぶように配置さ
れ、検知器(1) の数は好ましくは５つから９つとされ
て、これらの検知器(1) が、互いに間隔をおいて各方向
に少なくと３つ並ぶように配置され、検知器(1) は、受
像体(7) の移動方向および／またはＸ線ビーム(5) の進
行方向Ａに垂直な方向に十分な距離をおいて配置されて
いることを特徴とする請求項１１の装置。 - 【請求項１５】 Ｘ線撮影が始まる前に、測定チャンネ
ル(24)におけるすべての積算間隔の終了時点で期待され
かつ焦点位置にある被写体(6) の所定の表示エリアに対
応する積算露出値が、各記憶ユニットに蓄えられている
ことを特徴とする請求項１１の装置。 - 【請求項１６】 検知器(1) は、放射線に感応するダイ
オードまたはトランジスターとされ、検知器(1) の前方
には、得られた測定信号を増幅するために、Ｘ線源(4)
に対向する蛍光板(14)が配置されていることを特徴とす
る請求項１１の装置。 - 【請求項１７】 記憶手段(29)が、パノラマ式放射線撮
影、断層式放射線撮影等の放射線撮影が実際に始まるさ
いに使用されるプリセット初期露出値を蓄える第２の記
憶ユニットを有しており、プリセット初期露出値は、複
数個あり、装置には、これら複数のプリセット初期露出
値の中から個々のＸ線撮影に適した値を選択するための
手段(28)が設けられていることを特徴とする請求項１１
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI956003A FI100296B (fi) | 1995-12-14 | 1995-12-14 | Röntgenkuvauslaitteen valotusautomatiikka |
| FI956003 | 1995-12-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09281617A true JPH09281617A (ja) | 1997-10-31 |
Family
ID=8544543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8335505A Withdrawn JPH09281617A (ja) | 1995-12-14 | 1996-12-16 | 放射線撮影における露出自動調整方法および装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5828720A (ja) |
| JP (1) | JPH09281617A (ja) |
| DE (1) | DE19651722A1 (ja) |
| FI (1) | FI100296B (ja) |
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| JP2006087919A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | General Electric Co <Ge> | 放射線投射型断層撮影用の装置 |
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| CN111603187A (zh) * | 2019-02-25 | 2020-09-01 | 上海西门子医疗器械有限公司 | 自适应图像质量优化方法和装置、存储介质和医疗设备 |
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- 1995-12-14 FI FI956003A patent/FI100296B/fi active
-
1996
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- 1996-12-12 DE DE19651722A patent/DE19651722A1/de not_active Withdrawn
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