JPH09260261A - リソグラフィー装置 - Google Patents

リソグラフィー装置

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JPH09260261A
JPH09260261A JP8072598A JP7259896A JPH09260261A JP H09260261 A JPH09260261 A JP H09260261A JP 8072598 A JP8072598 A JP 8072598A JP 7259896 A JP7259896 A JP 7259896A JP H09260261 A JPH09260261 A JP H09260261A
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wafer
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image
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JP8072598A
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Inventor
Shinji Mizutani
真士 水谷
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 異常が発生したときその過程や原因を知るこ
とができ、また異常状態からの回復を自動的に行うこと
のできるリソグラフィ装置を提供する。 【解決手段】 監視用のテレビカメラ等の撮像手段7
1,73,75,77を監視すべき工程の必要個所に配
置し、各撮像手段からの画像信号を画像処理装置81に
よって画像処理することで異常を検知する。主制御装置
87は、画像処理装置から異常発生の信号と分析結果等
を受け、ウエハリジェクション装置43を用いて可能な
限り自動回復を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路や
液晶表示装置の製造に用いられるリソグラフィ装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路や液晶表示装置の製造工
程にはリソグラフィ装置が用いられる。リソグラフィ装
置は、ウエハやガラスプレート等の基板(以下、ウエハ
という)にフォトレジストを塗布するレジストコータ、
レジストを塗布された感光基板にフォトマスクやレチク
ル(以下、レチクルという)のパターンを露光転写する
投影露光装置、露光されたフォトレジストを現像する現
像装置、各装置間に基板を自動搬送するウエハ搬送装置
等からなる。
【0003】リソグラフィ装置は、レジストコータ、投
影露光装置及び現像装置をインライン配置し、ウエハ搬
送装置によって各装置間でウエハを自動搬送しながら処
理を連続して行う場合と、各装置を別個に配置しウエハ
へのフォトレジストの塗布、ウエハへのレチクルパター
ンの転写、露光済みウエハの現像の各工程をそれぞれバ
ッチで処理する場合とがある。バッチ処理の場合におい
ても、各装置内でのウエハの取り扱いは自動化された装
置を用いて人手を介することなく行われる。例えば投影
露光装置では、フォトレジストが塗布されたウエハが所
定枚数収納されたウエハカセットを装置内にセットし、
ウエハカセットからウエハの取り出し、投影露光装置へ
のウエハの装着及び露光済みウエハのウエハカセットへ
の収納はウエハ自動搬送装置を用いて行われる。
【0004】従来、フォトリソグラフィ装置内での工程
監視、特にウエハの装着工程や搬送工程の異常検出は、
ウエハを真空吸着するウエハローダやウエハ搬送装置の
真空排気系に圧力センサを設け、あるいは移動部材に位
置センサを設け、それらのセンサの出力信号によって設
定されるステイタスを各工程のシーケンス管理の中で監
視することによって行われていた。たとえば、ウエハの
搬送シーケンス実行中にウエハ搬送アームのウエハを真
空吸着する排気系の圧力を検出し、その圧力が予め定め
られた値より高いときは、ウエハがウエハ搬送アームに
うまく装着されていない可能性があるということで異常
検知をする。また、あるシーケンスの実行開始ののち、
決められた時間内に所定の位置まで移動しているべき移
動部材が、その時間になっても所定の位置に到着したこ
とを示すステイタス信号が発せられていないときは、そ
のシーケンス実行中に何らかの異常が生じたものとして
続く処理を中止する。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】従来の異常検出方法
は、移動部材の位置等の誤りや真空排気系の圧力の異常
など装置の状態の異常を検出するのみであり、その異常
が発生した過程や原因までを知ることはできない。した
がって、装置は異常が発生した位置及び異常状態を単に
告知するのみであり、異常の回復に当たってはオペレー
タが装置の現状を確認して手動操作で異常状態を排除す
ることが必要になる。そのため、オペレータによる手動
操作が行われるまでは装置は停止したままになり作業効
率が著しく低下する。また、異常が発生したことは分か
ってもその原因を知ることができないため、異常の原因
を根本的に除去することができず、同じ原因によって再
び異常が生じる可能性が残る。
【0006】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、異常が発生したときその過
程や原因を知ることができ、また異常状態からの回復を
自動的に行うことのできるリソグラフィ装置を提供する
ことを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明においては、監視
用のテレビカメラ等の撮像手段を監視すべき工程の全体
もしくは必要個所に1つ以上配置し、各撮像手段からの
画像信号を画像処理装置によって画像処理することで前
記目的を達成する。画像処理装置は異常発生時に、異常
箇所の特定と異常の程度の分析、すなわちその異常が自
動回復可能であるか否かの判定を行う。工程の管理を行
う主制御装置は、画像処理装置から異常発生の信号と自
動回復に関する判定信号を受け、可能な限り自動回復を
試みる。自動回復機能は、監視対象の処理工程とは独立
な処理系、すなわち回復専用の処理系を持つことによ
り、様々な状況に対しより柔軟に対処することが可能と
なる。
【0008】すなわち、本発明によるリソグラフィ装置
は、装置内の所定の工程部分を監視する撮像手段と、撮
像手段の出力を用いて工程の異常を検出する異常検出手
段と、異常の回復を行う異常回復手段と、工程を管理す
る管理手段とを備え、管理手段は異常検出手段が工程の
異常を検出したとき異常回復手段によって異常回復を行
うことを特徴とする。異常検出手段は画像処理手段を含
む。
【0009】撮像手段によって撮像された画像を表示す
るモニター手段を備えると、工程の進行状況、異常が生
じた場合にはその状態、異常回復動作の進行状態、異常
回復が適切に行われたかどうかの確認を容易に行うこと
ができる。また、撮像手段によって出力される画像信号
を記憶する記憶手段を備えると、異常状態発生時の画像
信号を再生することで異常の原因解明を行い、装置ユニ
ットの配置、構造あるいはシーケンスの改善に役立てる
ことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は、リソグラフィ装置の一部
を構成する投影露光装置へのウエハ搬送機構に本発明を
適用した例を示す。投影露光装置10は、照明系11、
レチクル13、投影光学系15、ウエハステージ17を
含み、照明系11で均一に照明されたレチクル13のパ
ターンを投影光学系15によってウエハステージ17上
に載置されたウエハWの所定領域に転写する。フォトレ
ジストを塗布されたウエハWはウエハカセット21内の
棚に1枚ずつ収納されている。カセット21から取り出
されたウエハWは、第1のウエハ搬送装置30によって
プリアライメント装置50に搬送され、プリアライメン
ト装置50によってウエハのオリエンテーションフラッ
トが所定の方向になるようにプリアライメントされた
後、第2のウエハ搬送装置60によって投影露光装置1
0のウエハステージ17上に載置される。
【0011】ウエハカセット21内のウエハは、ウエハ
取り出し装置23の可動アーム25によって1枚ずつカ
セット21の棚から取り出される。アーム25は上下方
向(Z方向)に可動であるとともに、カセット21の入
口と奥を結ぶ方向(X方向)に進退自在であり、アーム
25を伸ばしてカセット21内の1枚のウエハの下方空
間に挿入し、次にアーム25をわずかに上昇させてアー
ム25上にウエハを載せ、続いてアーム25をX方向に
後退させてカセット21から引き出すことによりカセッ
ト21からウエハWを取り出す。
【0012】ウエハカセット21から取り出されたウエ
ハWは、下方に待機している第1のウエハ搬送装置30
の搬送台31の一対のアーム33a,33b上に載置さ
れる。第1のウエハ搬送装置30の搬送台31のアーム
33a,33bには真空排気装置(図示せず)に接続さ
れた吸引孔35a,35bが設けられており、この吸引
孔35a,35によってウエハWを吸着保持する。搬送
台31は駆動モータ38によって回転駆動されるリード
ネジ37によって、ウエハカセット21の位置からプリ
アライメント装置50の方向(Y方向)に駆動される。
そして、搬送台31がプリアライメント装置50の位置
に達すると、アーム33a,33bの吸引孔35a,3
5bによるウエハWの真空吸引を解除し、昇降手段39
によってウエハ搬送装置30を全体に下降させること
で、アーム33a,33b上のウエハWをプリアライメ
ント装置50の回転テーブル51上に載置する。
【0013】回転テーブル51は表面に真空排気装置に
接続された吸引孔を有し、第1のウエハ搬送装置30の
搬送台31から渡されたウエハを吸着して保持する。プ
リアライメント装置50は、例えば特開昭63−280
435号公報に記載されているように、回転テーブル5
1上に載置されたウエハを挟んで上下に配置された照明
光源及びCCDリニアセンサ(図示せず)を備える。照
明光源を回転テーブル51の回転に同期してパルス発光
させてウエハ周縁部の像をCCDリニアセンサで検出す
ることでウエハ全体の外周形状を検出し、ウエハのオリ
エンテーションフラットがY方向に平行になる位置で回
転テーブル51を停止させる。
【0014】ウエハのプリアライメントが終了すると、
回転テーブル51によるウエハの真空吸着が解除され、
回転テーブル51上のウエハは第2のウエハ搬送装置6
0の搬送台61のアーム63a,63b上に載置され
る。搬送台61の一対のアーム63a,63bは真空排
気装置(図示せず)によって真空排気される吸引孔65
a,65bを有し、アーム63a,63b上に載置され
たウエハを吸着保持する。搬送台61は駆動モータ68
によって回転駆動されるリードネジ67によってY方向
に移動し、ウエハ受け渡し位置に移動している投影露光
装置10のウエハステージ17上に到達した後、アーム
63,63bの吸引孔65a,65bによるウエハの真
空吸着を解除し、昇降手段69によって第2のウエハ搬
送装置60を全体にわずかに下降させることによってア
ーム63a,63b上のウエハをウエハステージ17上
に載置する。ウエハWが載置されたウエハステージ17
は、投影光学系15の下方位置に移動され、所定のアラ
イメントを行った後、レチクル13の像が露光される。
【0015】ウエハカセット21から投影露光装置10
のウエハステージ17に到るウエハ搬送経路の上方には
TVカメラ等の撮像装置71,73,75,77が配置
され、ウエハWの搬送状態を逐次監視している。各撮像
装置71,73,75,77の画像出力は画像処理装置
81に供給される。また、各撮像装置の画像出力は、オ
ペレータが装置内の状況を観察できるようにモニター8
3に表示するとともに、ビデオレコーダ等の画像記憶装
置85に記憶される。画像処理装置81は逐次、入力画
像の解析を行い、工程進行状況の把握及び誤り検出を行
う。
【0016】このようにして、動作異常が発生した場合
に異常箇所の特定と異常程度の解析を画像処理装置81
にて行い、その結果を主制御装置87に出力する。画像
処理装置81から信号を受けた主制御装置87は、自動
回復が可能な場合は異常回復動作を行い、自動回復が不
可能な場合には装置を停止させる。異常回復動作は、例
えばウエハリジェクション装置43によって行われる。
ウエハリジェクション装置43は、Z方向に移動自在及
びX方向に進退自在のリジェクションアーム41を備
え、第1の搬送装置30の搬送台31で搬送されてくる
ウエハWをリジェクションアーム41で取り上げ、対面
に位置するウエハ回収箱45の空いている棚に収納す
る。画像記憶装置85に記憶した異常発生時前後の画像
は、異常発生原因の解析に用いることができる。
【0017】図2は、図1のウエハ搬送機構を上方から
見た図である。図中、破線で囲んだ矩形領域A,B,
C,Dは、各々撮像装置71,73,75,77の撮像
視野を表す。すなわち、撮像装置71は、ウエハカセッ
ト21に収納されたウエハがウエハ取り出し装置23の
可動アーム25によってカセット21から取り出され、
第1のウエハ搬送装置30に受け渡される工程を監視す
る。撮像装置73は第1のウエハ搬送装置30によるウ
エハの搬送工程の一部を監視し、撮像装置75は第1の
ウエハ搬送装置30によるウエハの搬送工程の一部ある
いはウエハリジェクション装置43によるウエハの回収
作業を監視する。また撮像装置77は、第1のウエハ搬
送装置30からプリアライメント装置50へのウエハの
受け渡し工程、プリアライメント工程、及びプリアライ
メント装置50から第2のウエハ搬送装置60へのウエ
ハの受け渡し工程を監視する。ただし、図1,2に示し
たようにウエハの搬送経路を最初から最後まで全て監視
する必要はなく、異常監視上重要性の低い箇所、例えば
視野Bでの監視を省略することもできる。その場合に
は、撮像装置73が不必要となる。
【0018】画像処理装置81による異常検出は、例え
ば各装置の動作をモデル化して記憶しておき、逐次その
モデルと実際の動作を比較して誤りを検出する方法で行
うことができる。例えば、撮像装置71が監視している
視野AにおけるウエハWの運動は、ウエハ取り出し装置
23の可動アーム25によるX方向の直線運動と第1の
ウエハ搬送装置30によるY方向の直線運動の組み合わ
せである。したがって、ウエハ取り出し装置23と第1
のウエハ搬送装置30が設計通り作動しているとき、視
野A内のウエハWは、ウエハの輪郭が図3に破線で示す
2本の曲線91,92に接するようにしてその2本の曲
線91,92で挟まれた帯状領域90内を移動すること
になる。ところが、ウエハ取り出し装置23に支障があ
ってウエハカセット21からウエハがうまく取り出せな
かった場合、あるいはウエハ取り出し装置23の可動ア
ーム25から搬送台31へのウエハの受け渡し位置がず
れて搬送台31のアーム33a,33bにウエハが正常
に載置されなかった場合には、ウエハの移動経路は図3
に示した帯状領域90からはみ出すことになる。ウエハ
が第1の搬送装置の搬送台31に適切に載置されていな
いと、ウエハをうまく搬送できなかったり、たとえ搬送
できたとしても搬送したウエハをプリアライメント装置
50の回転テーブル51上に正常に載置することができ
ないといった異常事態が生じる。
【0019】そこで本発明では、正常に受け渡され、正
常に搬送されているウエハWであれば通過することはな
いが、カセット21からのウエハの取り出し動作に失敗
した場合、あるいは搬送台31へのウエハ載置に際して
後続の工程に支障を生じるような位置ずれを生じた場合
にのみウエハWが通過する視野A内の領域をウエハの運
動禁止領域94,95として予め求め、それを画像処理
装置81内に記憶しておく。画像処理装置81は、撮像
装置71の出力する信号を画像処理して視野A内でのウ
エハの位置を逐次求め、ウエハWが運動禁止領域94,
95を通過していないかどうかを判定する。ウエハWが
視野A内の運動禁止領域94,95を通過していなけれ
ば、ウエハの取り扱いが正常に行われていることを示す
ステイタス信号を主制御装置87に送る。
【0020】画像処理装置81での画像処理の結果、例
えば図4に示すように、ウエハWが運動禁止領域95に
食い込んで移動していることが判明したような場合、画
像処理装置81は主制御装置87に異常発生の信号を送
るとともに、その異常の程度を判定して判定結果を主制
御装置87に送る。
【0021】例えば、画像処理装置81によって、ウエ
ハの位置ずれの程度が第1の搬送装置30への受け渡し
には支障がない範囲であると判定された場合、画像処理
装置81は主制御装置87に自動回復が可能であること
を示す信号を送る。自動回復可能の信号を受けた主制御
装置87は、第1のウエハ搬送装置30に指令してウエ
ハをウエハリジェクション装置43の前方位置まで搬送
させたのち停止させ、次いでウエハリジェクション装置
43に指令してリジェクションアーム41で搬送台31
上のウエハを取り上げ、ウエハ回収箱45の空いている
棚に収納することで異常回復動作を行う。一方、ウエハ
の位置ずれの程度が著しく第1の搬送装置30の搬送ア
ーム33a,33bに安定に載置することが困難である
と判定された場合、画像処理装置81は主制御装置87
に自動回復が不可能であることを示す信号を送る。主制
御装置87は、自動回復不可能の信号を受けると、直ち
にウエハ取り出し装置23及び第1の搬送装置30の運
転を停止させるとともに警報を発し、オペレータが手動
で異常回復を行うのを待つ。自動回復が可能であるか否
かの判定基準は、予め画像処理装置81に設定されてい
る。
【0022】ウエハ回収箱45に回収されたウエハは、
オペレータによって回収され、再びウエハカセット21
に挿入されてリソグラフィ工程に投入される。装置の運
転状況あるいは装置が自動的に異常回復を行っている状
況は、いつでもモニター83で監視することができる。
また、手動で異常回復を行わなければならない場合で
も、オペレータはモニター83によって大まかな状況を
把握できるので迅速に異常回復を行うことができる。そ
して、異常が生じた経過はビデオ装置等の画像記憶装置
85に記憶されているので、それを再生して解析するこ
とで異常発生の原因解明に役立てることができ、その結
果をもとに装置の調整あるいは改修を行って再び同じ原
因で異常が生じることがないようにすることができる。
【0023】ここでは、撮像装置71の視野A中での装
置動作のモデル化についてのみ説明したが、他の撮像装
置73,75,77の視野B,C,Dにおいても同様に
モデル化を行い、画像処理装置81は各視野に設定され
たモデルをもとに異常検出を行う。
【0024】上の例では、画像処理装置81による異常
検出にあたって、ウエハの運動領域によって装置の動作
をモデル化する例について説明したが、ウエハの運動領
域によるモデルに作業シーケンスのタイミングを利用し
たモデルを加えることもできる。
【0025】図5はその一例を説明するもので、この例
では図1に示した撮像装置71,75,77を使用し、
図2に図示した視野Bを監視する撮像装置73を省略し
ている。図5(a)は撮像装置71による撮像視野Aを
示し、図5(b)は撮像装置75による撮像視野Cを示
す。撮像装置71の視野領域A中には、図3で説明した
ウエハの運動禁止領域94,95とともにタイミング検
出ライン97を設定し、撮像装置75の視野領域C中に
はウエハの運動禁止領域101,103とともにタイミ
ング検出ライン105を設定する。
【0026】画像処理装置81は、ウエハの先端部分が
タイミング検出ライン97あるいは105を通過したと
き主制御装置87にウエハ通過信号を送る。ウエハ取り
出し装置23、第1のウエハ搬送装置30、第2のウエ
ハ搬送装置60等は主制御装置87によって各々シーケ
ンス制御されており、ウエハの搬送が正常に行われてい
る場合、装置中の各位置をウエハが通過する時刻はほぼ
決まっている。換言すると、装置中のある位置でウエハ
の通過時刻を監視し、予定時刻になってもウエハがその
位置を通過しないときは何らかの異常が発生したことが
想定されるので、この例ではこのことを異常検出に利用
する。
【0027】図5の例では、ウエハが第1のウエハ搬送
装置30によってタイミング検出ライン97と105の
間を移動するのに要する時間Δtを予め求め、主制御装
置87に記憶しておく。画像処理装置81から時刻t1
にウエハがタイミング検出ライン97を通過した信号が
送られると、主制御装置87は時刻t2 =t1 +Δt
に、画像処理装置81からウエハがタイミング検出ライ
ン105を通過したことを示す信号が送られているかど
うかをチェックし、ウエハ通過信号が送られていないと
きは異常と判定する。この時刻t2 は、ある許容時間幅
を持たせたものであってもよい。
【0028】このように作業シーケンスのタイミングを
利用したモデルを用いると、撮像装置で監視を行ってい
ないウエハ搬送経路での異常チェックを行うことができ
る。この作業シーケンスのタイミングを用いた異常判定
は、ウエハの運動領域を用いる異常判定と併用すること
ができる。
【0029】本発明は、リソグラフィー装置を構成する
投影露光装置内のウエハ搬送機構だけでなく、レジスト
コータや現像装置内の異常検出、あるいはレジストコー
タから投影露光装置へのウエハの受け渡し、投影露光装
置から現像装置へのウエハの受け渡し等、他のユニット
に対しても適用可能である。
【0030】
【発明の効果】本発明によると、リソグラフィ装置内の
各工程での動作異常による本体停止が軽減され、製造コ
ストを下げることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】投影露光装置へのウエハ搬送機構に本発明を適
用した例を示す概略図。
【図2】図1の上面図。
【図3】視野Aにおける装置動作のモデル化の例を示す
図。
【図4】視野中を移動するウエハの説明図。
【図5】装置動作のモデル化の他の例を説明する図。
【符号の説明】
W…ウエハ、10…投影露光装置、11…照明系、13
…レチクル、15…投影光学系、17…ウエハステー
ジ、21…ウエハカセット、23…ウエハ取り出し装
置、25…可動アーム、30…第1のウエハ搬送装置、
31…搬送台、33a,33b…アーム、35a,35
b…吸引孔、37…リードネジ、38…駆動モータ、3
9…昇降手段、41…リジェクションアーム、43…ウ
エハリジェクション装置、45…ウエハ回収箱、50…
プリアライメント装置、51…回転テーブル、60…第
2のウエハ搬送装置、61…搬送台、63a,63b…
アーム、65a,65b…吸引孔、67…リードネジ、
68…駆動モータ、69…昇降手段、71,73,7
5,77…撮像装置、81…画像処理装置、83…モニ
ター、85…画像記憶装置、87…主制御装置、94,
95…ウエハの運動禁止領域、97…タイミング検出ラ
イン、101,103…ウエハの運動禁止領域、105
…タイミング検出ライン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 装置内の所定の工程部分を監視する撮像
    手段と、前記撮像手段の出力を用いて工程の異常を検出
    する異常検出手段と、異常の回復を行う異常回復手段
    と、工程を管理する管理手段とを備え、前記管理手段は
    前記異常検出手段が工程の異常を検出したとき前記異常
    回復手段によって異常回復を行うことを特徴とするリソ
    グラフィー装置。
  2. 【請求項2】 前記異常検出手段は画像処理手段を含む
    ことを特徴とする請求項1記載のリソグラフィー装置。
  3. 【請求項3】 前記回復手段は前記工程から独立した処
    理系統を有することを特徴とする請求項1又は2記載の
    リソグラフィー装置。
  4. 【請求項4】 前記撮像手段によって撮像された画像を
    表示するモニタ手段を備えることを特徴とする請求項
    1、2又は3記載のリソグラフィー装置。
  5. 【請求項5】 前記撮像手段によって出力される画像信
    号を記憶する記憶手段を備えることを特徴とする請求項
    1〜4のいずれか1項記載のリソグラフィー装置。
JP8072598A 1996-03-27 1996-03-27 リソグラフィー装置 Pending JPH09260261A (ja)

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