JPH09259492A - Rotary magnetic head device and film forming device - Google Patents
Rotary magnetic head device and film forming deviceInfo
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- JPH09259492A JPH09259492A JP8063485A JP6348596A JPH09259492A JP H09259492 A JPH09259492 A JP H09259492A JP 8063485 A JP8063485 A JP 8063485A JP 6348596 A JP6348596 A JP 6348596A JP H09259492 A JPH09259492 A JP H09259492A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、斜めに巻き付けら
れた磁気テープに対して、回転ドラムに設けられた磁気
ヘッドを斜めに走査させることによって、データの記録
／再生を行う回転磁気ヘッド装置に関する。また、所望
の領域にのみ薄膜を成膜できる成膜装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotary magnetic head device for recording / reproducing data by obliquely scanning a magnetic tape provided on a rotary drum with respect to a magnetic tape wound obliquely. . Further, the present invention relates to a film forming apparatus capable of forming a thin film only in a desired region.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、磁気テープに音声や映像等の
データを記録／再生するビデオテープレコーダ装置（以
下、ＶＴＲと称す。）においては、磁気ヘッドを回転さ
せる回転ドラムを用いられ、この回転ドラムに斜めに巻
き付けた磁気テープの表面を磁気ヘッドによって斜めに
走査する、いわゆるヘリカルスキャンを行うことによっ
て、データの記録／再生が行われている。これにより、
磁気ヘッドと磁気テープの相対速度の向上による周波数
特性の向上と、記録／再生時の磁気テープの使用量の減
少を両立させることができる。なお、上述のような回転
ドラムは、これを支持する固定ドラムと組み合わされ、
回転磁気ヘッド装置として用いられる。2. Description of the Related Art Conventionally, in a video tape recorder (hereinafter referred to as VTR) for recording / reproducing data such as audio and video on a magnetic tape, a rotary drum for rotating a magnetic head has been used. Data recording / reproduction is performed by performing a so-called helical scan in which a magnetic head obliquely scans the surface of a magnetic tape wound obliquely around a drum. This allows
It is possible to improve the frequency characteristics by increasing the relative speed between the magnetic head and the magnetic tape and reduce the amount of the magnetic tape used during recording / reproduction. The rotary drum as described above is combined with a fixed drum that supports the rotary drum,
Used as a rotating magnetic head device.
【０００３】ヘリカルスキャンによる記録／再生を行う
に際しては、通常、ドラムに、磁気テープの上下の位置
合わせの基準となる段差（以下、リード部と称す。）を
設けておき、このリード部に磁気テープの端部を沿わせ
るようにしている。例えば、上側のドラムが回転ドラム
とされた場合、下側の固定ドラムにリード部が設けら
れ、このリード部に磁気テープの下端部を摺動させる。
なお、ドラムと磁気テープとの斜めの位置関係を保ち、
上述のリード部から磁気テープの下端が離れないように
するため、ドラムの上流側では、斜めのガイドポストに
よって磁気テープを支持している。このようにして、磁
気ヘッドと磁気テープとの相対位置を安定化させること
により、ヘリカルスキャンによる記録／再生を高精度に
行うことができるようになる。When performing recording / reproducing by helical scanning, a step (hereinafter referred to as a lead portion) that serves as a reference for the vertical alignment of the magnetic tape is usually provided on the drum, and the magnetic field is provided on the lead portion. The end of the tape is made to follow. For example, when the upper drum is a rotating drum, a lead portion is provided on the lower fixed drum, and the lower end portion of the magnetic tape slides on the lead portion.
In addition, maintaining the diagonal positional relationship between the drum and the magnetic tape,
In order to prevent the lower end of the magnetic tape from being separated from the above-mentioned lead portion, the magnetic tape is supported by an oblique guide post on the upstream side of the drum. By thus stabilizing the relative position between the magnetic head and the magnetic tape, recording / reproducing by helical scanning can be performed with high accuracy.
【０００４】しかしながら、磁気テープの下端をリード
部に摺動させると、長期の使用により、リード部が摩耗
するという問題が生じる。そして、リード部が摩耗して
しまうと、磁気テープの正確な位置合わせが不可能とな
り、高精度な記録／再生が困難となる。したがって、リ
ード部が３μｍ以上摩耗したら、ドラムの交換を行う必
要があった。However, when the lower end of the magnetic tape is slid on the lead portion, there is a problem that the lead portion is worn due to long-term use. Then, if the lead portion is worn out, accurate positioning of the magnetic tape becomes impossible, which makes it difficult to perform highly accurate recording / reproducing. Therefore, when the lead portion is worn by 3 μm or more, it is necessary to replace the drum.
【０００５】リード部の摩耗を抑制する方法としては、
磁気テープのテンションを小さくすることが考えられ
る。しかし、このためには、磁気テープを供給リールか
ら巻き出し、巻取りリールに巻き取るまでの間に磁気テ
ープに摺動させる様々な部材について、機構的な変更が
必要となってしまう。As a method of suppressing the wear of the lead portion,
It is possible to reduce the tension of the magnetic tape. However, for this purpose, it is necessary to mechanically change various members that are unwound from the supply reel and slid on the magnetic tape before being wound onto the take-up reel.
【０００６】また、リード部の摩耗を抑制するために
は、ドラムの表面に保護膜を設けることも考えられる。
しかし、ドラム周面の保護膜は磁気テープの磁性層形成
面側と摺動することとなるため、保護膜が磁気テープと
の摺動によって剥離した場合には、この保護膜の摩耗粉
が磁気テープの磁性層形成面を傷付けるという虞れがあ
る。Further, in order to suppress the wear of the lead portion, it may be considered to provide a protective film on the surface of the drum.
However, since the protective film on the peripheral surface of the drum slides on the magnetic layer forming surface side of the magnetic tape, if the protective film is peeled off by sliding on the magnetic tape, the abrasion powder of this protective film will be magnetic. There is a risk of damaging the magnetic layer forming surface of the tape.
【０００７】ところで、上述の保護膜をはじめ、種々の
薄膜の成膜を行うための成膜方法としては、化学的気相
成長（以下、ＣＶＤと称す。）法がある。ＣＶＤ法は、
気相中で原料ガスに化学反応を生じさせることにより所
望の薄膜を形成するものであり、化学反応を熱によって
生じさせる熱ＣＶＤ法や、プラズマのエネルギーを利用
するプラズマＣＶＤ法等が知られている。ＣＶＤ法は、
スパッタ法等の他の方法に比して成膜スピードが速いた
め、生産性に優れている。また、特に、プラズマＣＶＤ
法は、比較的低温での成膜が可能であるため、被成膜体
に熱によるダメージを与える虞れが少ない等の利点を有
している。By the way, as a film forming method for forming various thin films including the above-mentioned protective film, there is a chemical vapor deposition (hereinafter referred to as CVD) method. The CVD method is
A desired thin film is formed by causing a chemical reaction in a source gas in a gas phase, and a thermal CVD method in which a chemical reaction is generated by heat, a plasma CVD method utilizing plasma energy, etc. are known. There is. The CVD method is
Since the film formation speed is faster than other methods such as the sputtering method, the productivity is excellent. Also, in particular, plasma CVD
The method has an advantage that the film-forming target is less likely to be damaged by heat because the film can be formed at a relatively low temperature.
【０００８】ＣＶＤ法を適用した成膜装置は、様々な分
野において種々の薄膜を成膜するために用いられるた
め、被成膜体の形状や成膜する薄膜の種類等に応じて様
々な構成のものが設計されている。しかしながら、被成
膜体の所定の領域のみに薄膜を成膜できる成膜装置は提
案されていなかった。Since the film forming apparatus to which the CVD method is applied is used for forming various thin films in various fields, it has various configurations depending on the shape of the film-forming target, the type of thin film to be formed, and the like. The ones are designed. However, there has not been proposed a film forming apparatus capable of forming a thin film only on a predetermined region of a film formation target.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】そこで、従来のかかる
実情を鑑み、本発明では、リード部の摩耗が抑制され、
また、磁気テープを傷付ける虞れのないような構成を有
する回転磁気ヘッド装置を提供することを目的とする。
また、被成膜体の所定の領域のみに薄膜を成膜できる成
膜装置を提供することを目的とする。Therefore, in view of such a conventional situation, the present invention suppresses the wear of the lead portion,
Another object of the present invention is to provide a rotary magnetic head device having a structure that does not damage the magnetic tape.
Another object of the present invention is to provide a film forming apparatus capable of forming a thin film only on a predetermined region of a film formation target.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明に係る回転磁気ヘ
ッド装置は、上述の目的を達成するものであり、磁気ヘ
ッドが設けられる回転ドラムと、この回転ドラムを支持
する固定ドラムとからなり、この固定ドラムには、磁気
テープの上下の位置合わせの基準となる段差が設けら
れ、この段差面のみに保護膜が設けられているものであ
る。なお、以下、上述の位置合わせの基準となる段差を
リード部と称し、固定ドラムの周面と垂直な段差面をリ
ード面と称することとする。SUMMARY OF THE INVENTION A rotary magnetic head device according to the present invention achieves the above-mentioned object and comprises a rotary drum provided with a magnetic head and a fixed drum for supporting the rotary drum. This fixed drum is provided with a step serving as a reference for the vertical alignment of the magnetic tape, and the protective film is provided only on the step surface. In addition, hereinafter, the step serving as a reference for the above-mentioned alignment is referred to as a lead portion, and the step surface perpendicular to the peripheral surface of the fixed drum is referred to as a lead surface.
【００１１】このような構成を有する回転磁気ヘッド装
置においては、磁気テープの端部をリード面に摺動させ
ても、リード面の摩耗が防止される。また、磁気テープ
の磁性層形成面側との摺動面に保護膜が設けられていな
いので、摺動によって保護膜が剥離して磁気テープを傷
付ける虞れがない。In the rotary magnetic head device having such a structure, even if the end portion of the magnetic tape is slid on the lead surface, abrasion of the lead surface is prevented. Further, since the protective film is not provided on the sliding surface of the magnetic tape with the magnetic layer forming surface side, there is no risk that the protective film is peeled off by the sliding to damage the magnetic tape.
【００１２】ここで、前記保護膜としては、カーボン膜
が設けられて好適である。特に、いわゆるダイヤモンド
ライクカーボン（ＤＬＣ）膜と呼ばれる硬質のカーボン
膜が設けられて好適である。このような保護膜は、帯電
防止効果も有するため、磁気テープの貼り付きを防止す
ることもできる。Here, a carbon film is preferably provided as the protective film. In particular, a hard carbon film called a so-called diamond-like carbon (DLC) film is preferably provided. Since such a protective film also has an antistatic effect, it is possible to prevent sticking of the magnetic tape.
【００１３】また、本発明に係る成膜装置は、真空室内
に所定のガスを供給するガス供給手段と、前記所定のガ
スのプラズマを生成させるプラズマ生成手段と、被成膜
体を支持する支持手段と、前記被成膜体にバイアス電圧
を印加するバイアス印加手段と、前記プラズマ中で生成
した化学種の入射を規制する入射規制手段とを備え、前
記化学種を前記被成膜体上の所定の範囲にのみ被着させ
るものである。Further, the film forming apparatus according to the present invention includes a gas supplying means for supplying a predetermined gas into the vacuum chamber, a plasma generating means for generating plasma of the predetermined gas, and a support for supporting the film-forming target. Means, bias applying means for applying a bias voltage to the film formation target, and incidence control means for restricting the incidence of the chemical species generated in the plasma, and the chemical species on the film formation target. It is applied only in a predetermined range.
【００１４】この成膜装置を用いれば、被成膜体に対す
る化学種の入射を入射規制手段で規制できるため、被成
膜体上の所定の範囲にのみ薄膜を成膜することができ
る。なお、被成膜体にバイアス電圧を印加することによ
り、化学種を被成膜体上に効率よく導くことができるよ
うになり、成膜された薄膜の付着力を高めることが可能
となる。When this film forming apparatus is used, the incidence of the chemical species on the film forming object can be restricted by the incident restricting means, so that the thin film can be formed only in a predetermined range on the film forming object. By applying a bias voltage to the film formation target, the chemical species can be efficiently introduced onto the film formation target, and the adhesion of the formed thin film can be increased.
【００１５】本発明は、平行平板型プラズマＣＶＤ装
置、有磁場マイクロ波プラズマＣＶＤ装置（ＥＣＲ−Ｃ
ＶＤ装置）、誘導結合プラズマＣＶＤ装置（ＩＣＰ−Ｃ
ＶＤ装置）、ヘリコン波プラズマＣＶＤ装置等、いわゆ
るプラズマＣＶＤ装置であれば、いずれの構成のものに
も適用可能である。例えば、平行平板型プラズマＣＶＤ
装置に適用する場合、前記プラズマ生成手段は対向する
一対の電極となる。そして、この場合、電極の一方（下
部電極）が前記入射規制手段を兼ねるような構成となさ
れて好適である。The present invention is directed to a parallel plate type plasma CVD apparatus, a magnetic field microwave plasma CVD apparatus (ECR-C).
VD equipment), inductively coupled plasma CVD equipment (ICP-C
A VD apparatus), a helicon wave plasma CVD apparatus, or the like, so-called plasma CVD apparatus can be applied. For example, parallel plate plasma CVD
When applied to an apparatus, the plasma generating means is a pair of electrodes facing each other. In this case, it is preferable that one of the electrodes (lower electrode) also serves as the incident regulating means.
【００１６】このような成膜装置は、様々な分野におい
て種々の薄膜を成膜するために用いることができるが、
前述した回転磁気ヘッド装置のリード面のみに保護膜を
設けるに際して用いて好適である。なお、この成膜装置
を用いると、比較的低温での成膜が可能となるため、被
成膜体となる固定ドラムの曲率を変化させずに済む。Such a film forming apparatus can be used for forming various thin films in various fields.
It is suitable for use when the protective film is provided only on the lead surface of the rotary magnetic head device described above. By using this film forming apparatus, since film formation can be performed at a relatively low temperature, it is not necessary to change the curvature of the fixed drum that is the film formation target.
【００１７】回転磁気ヘッド装置のリード面に保護膜を
設ける場合、支持手段を、回転磁気ヘッド装置用の固定
ドラムを所定の位置に支持させるごとく形成し、入射規
制手段を、前記固定ドラムの周囲に設けられたリード面
にのみ化学種を入射させるごとく形成すればよい。When the protective film is provided on the lead surface of the rotary magnetic head device, the supporting means is formed so as to support the fixed drum for the rotary magnetic head device at a predetermined position, and the incident regulating means is provided around the fixed drum. The chemical species may be formed only on the lead surface provided on the substrate.
【００１８】なお、回転磁気ヘッド装置を作製するに際
しては、固定ドラムのリード面に保護膜を設ける前に、
この固定ドラムの表面を滑らかにするため、固定ドラム
を回転させながら研磨することが一般的に行われる。こ
のとき、固定ドラムに予め回転磁気ヘッド装置の回転軸
を挿通させておけば、この回転軸を利用して、該固定ド
ラムを回転させることができる。このため、固定ドラム
のリード面に保護膜を設ける際には、回転軸が軸支され
た固定ドラムに対して成膜が行えることが好ましい。但
し、実際に固定ドラムに回転軸が軸支された状態とは、
ベアリングが設けられ、グリース等も塗布された状態で
ある。このため、回転軸が軸支された固定ドラムに対す
る成膜を行う成膜装置においては、該固定ドラムを支持
する支持手段が、回転軸近傍を包囲して真空室内の雰囲
気から遮断できるようなものとされて好適である。When manufacturing the rotary magnetic head device, before providing the protective film on the lead surface of the fixed drum,
In order to make the surface of the fixed drum smooth, it is common to perform polishing while rotating the fixed drum. At this time, if the rotary shaft of the rotary magnetic head device is inserted through the fixed drum in advance, the fixed drum can be rotated by using this rotary shaft. Therefore, when the protective film is provided on the lead surface of the fixed drum, it is preferable that the film can be formed on the fixed drum having the rotating shaft supported. However, the state in which the rotary shaft is actually supported by the fixed drum is
A bearing is provided and grease or the like is applied. For this reason, in a film forming apparatus for forming a film on a fixed drum whose rotary shaft is rotatably supported, a supporting means for supporting the fixed drum surrounds the vicinity of the rotary shaft and can shut off the atmosphere in the vacuum chamber. And is suitable.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２０】第１の実施の形態 先ず、本発明を適用した回転磁気ヘッド装置の構成例に
ついて説明する。ここでは、映像および音声をディジタ
ルデータとして磁気テープに記録／再生するディジタル
ビデオテープレコーダ装置（ディジタルＶＴＲ）に用い
られる、ヘリカルスキャン型の回転磁気ヘッド装置に本
発明を適用した。First Embodiment First, a configuration example of a rotary magnetic head device to which the present invention is applied will be described. Here, the present invention is applied to a helical scan type rotary magnetic head device used in a digital video tape recorder (digital VTR) for recording / reproducing video and audio as digital data on a magnetic tape.
【００２１】この回転磁気ヘッド装置は、図１に示され
るように、円柱状の固定下ドラム６と、同じく円柱状の
固定上ドラム７と、回転自在に設けられた円盤状の回転
中ドラム８とで構成されている。As shown in FIG. 1, this rotary magnetic head device has a cylindrical fixed lower drum 6, a cylindrical fixed upper drum 7, and a disk-shaped rotating drum 8 which is rotatably provided. It consists of and.
【００２２】固定上ドラム７には、円筒形状のベアリン
グ保持部７Ａが形成されており、当該ベアリング保持部
７Ａに保持されたベアリング４５Ａ、４５Ｂを介して回
転軸４４が回転自在に枢支されている。A cylindrical bearing holder 7A is formed on the fixed upper drum 7, and a rotary shaft 44 is rotatably supported by bearings 45A and 45B held by the bearing holder 7A. There is.
【００２３】回転軸４４の下端部は、フランジ４６の中
心部分に形成された円筒形状の嵌合部４６Ｂに嵌合固定
されている。このフランジ４６の取り付け面（上面）４
６Ａには回転中ドラム８が固定されている。また、当該
回転中ドラム８の周側部には、複数の磁気ヘッド９にそ
れぞれ対応するヘッド基板５６が締結されており、これ
らヘッド基板５６を介して磁気ヘッド９が回転中ドラム
８の周縁部からわずかに突出して固定されている。これ
により回転軸４４と一体に回転中ドラム８に取り付けら
れた磁気ヘッド９を回転し得るようになっている。The lower end of the rotary shaft 44 is fitted and fixed to a cylindrical fitting portion 46B formed at the center of the flange 46. Mounting surface (upper surface) 4 of this flange 46
A rotating drum 8 is fixed to 6A. Further, head substrates 56 respectively corresponding to the plurality of magnetic heads 9 are fastened to the circumferential side portion of the rotating drum 8, and the magnetic head 9 is attached to the peripheral portion of the rotating drum 8 via these head substrates 56. It is fixed by protruding slightly from. As a result, the magnetic head 9 attached to the rotating drum 8 can rotate together with the rotating shaft 44.
【００２４】また、固定下ドラム６には、ベアリング保
持部６Ｂが形成されており、当該ベアリング保持部６Ｂ
に保持されたベアリング５５Ａ、５５Ｂを介して回転軸
５４が回転可能に支持されている。この回転軸５４と、
固定上ドラム７側において設けられた回転軸４４とは、
それぞれフレキシブルジョイント４７によって結合され
ており、駆動モータ５９を回転駆動して回転軸５４を回
転した際にこれと一体に回転軸４４を回転させることが
できるようになっている。このため、駆動モータ５９を
駆動することにより回転軸５４、４４および回転中ドラ
ム８を介して磁気ヘッドを回転させることができる。A bearing holding portion 6B is formed on the lower fixed drum 6, and the bearing holding portion 6B is formed.
The rotating shaft 54 is rotatably supported via bearings 55A and 55B held by the shaft. This rotating shaft 54,
With the rotating shaft 44 provided on the fixed upper drum 7 side,
Each of them is connected by a flexible joint 47, and when the drive motor 59 is rotationally driven to rotate the rotary shaft 54, the rotary shaft 44 can be rotated integrally with the rotary shaft 54. Therefore, by driving the drive motor 59, the magnetic head can be rotated via the rotating shafts 54 and 44 and the rotating drum 8.
【００２５】フレキシブルジョイント４７の下端部に
は、ロータリートランス５３のロータ５３Ｂが固定され
ており、このロータ５３Ｂがフレキシブルジョイント４
７と一体に回転し得るようになっている。また、固定下
ドラム６のベアリング保持部６Ｂの表面には、ロータリ
ートランス５３のステータ５３Ａが固定されている。こ
れにより、回転中ドラム８側と固定下ドラム６側とで信
号の伝送を行うことができる。The rotor 53B of the rotary transformer 53 is fixed to the lower end of the flexible joint 47, and the rotor 53B is used for the flexible joint 4.
It can rotate together with 7. The stator 53A of the rotary transformer 53 is fixed to the surface of the bearing holding portion 6B of the fixed lower drum 6. As a result, signals can be transmitted between the rotating drum 8 side and the fixed lower drum 6 side.
【００２６】なお、図示しないが、上述した回転磁気ヘ
ッド装置を有するディジタルＶＴＲにおいては、固定下
ドラム６および固定上ドラム７をそれぞれ支持する支持
部、磁気テープの走行方向および走行速度を制御するた
めのリールおよびキャプスタン制御部、装置全体の制御
を行うシステムコントローラ等を備えている。そして、
このディジタルＶＴＲにおいては、外部から供給された
信号に基づいて記録データを形成して、上述した回転磁
気ヘッド装置に供給する記録系と、回転磁気ヘッド装置
により磁気テープから読み出された再生データから信号
を復元して出力する再生系を備えている。Although not shown, in the digital VTR having the above-mentioned rotary magnetic head device, in order to control the supporting portions respectively supporting the fixed lower drum 6 and the fixed upper drum 7, the running direction and running speed of the magnetic tape. It includes a reel and capstan control unit, a system controller for controlling the entire apparatus, and the like. And
In this digital VTR, recording data is formed on the basis of a signal supplied from the outside and is supplied to the rotary magnetic head device described above, and reproduction data read from a magnetic tape by the rotary magnetic head device. It has a playback system that restores and outputs signals.
【００２７】ところで、ヘリカルスキャンによる記録／
再生を行うに際しては、回転磁気ヘッド装置に対する磁
気テープの上下の位置合わせを高精度に行うことが必要
である。このため、図２に示されるように、上述の固定
下ドラム６の周面には、磁気テープの上下の位置合わせ
の基準となるリード部が設けられている。Recording by helical scan /
When performing reproduction, it is necessary to align the top and bottom of the magnetic tape with respect to the rotary magnetic head device with high accuracy. For this reason, as shown in FIG. 2, on the peripheral surface of the fixed lower drum 6 described above, a lead portion serving as a reference for the vertical alignment of the magnetic tape is provided.
【００２８】そして、本実施の形態に係る回転磁気ヘッ
ド装置においては、上述したリード部の段差面、即ち、
固定下ドラム６の周面に対して直交するリード面１０の
みに保護膜が形成されている。Then, in the rotary magnetic head device according to the present embodiment, the above-mentioned step surface of the lead portion, that is,
The protective film is formed only on the lead surface 10 orthogonal to the peripheral surface of the fixed lower drum 6.
【００２９】保護膜としては、カーボン膜やシリコン酸
化物膜、各種窒化物膜、セラミックス膜等、通常、いわ
ゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体において、金属磁性
薄膜表面に形成される保護膜と同様のものを設けること
ができるが、特に、ＤＬＣ膜と呼ばれる硬質のカーボン
膜を設けて好適である。カーボン膜には、グラファイト
構造を有するもの、ダイヤモンド構造を有するもの等が
知られており、ラマン分光スペクトルを測定すると、そ
れぞれに由来するピークが観測される。ここで言うＤＬ
Ｃ膜とは、少なくともその一部がダイヤモンド構造を有
するもので、ラマン分光スペクトルにおいて、ダイヤモ
ンド構造に由来するピークが観測されるものである。な
お、通常は、グラファイト構造に由来するピークととも
に、ダイヤモンド構造に由来するピークが現れる。As the protective film, a carbon film, a silicon oxide film, various nitride films, a ceramics film or the like, which is usually the same as the protective film formed on the surface of the metal magnetic thin film in a so-called metal magnetic thin film type magnetic recording medium. However, a hard carbon film called a DLC film is particularly preferable. As carbon films, those having a graphite structure, those having a diamond structure, and the like are known, and when Raman spectroscopy spectra are measured, peaks derived from each are observed. DL here
At least a part of the C film has a diamond structure, and a peak derived from the diamond structure is observed in the Raman spectrum. In addition, a peak derived from a diamond structure usually appears together with a peak derived from a graphite structure.
【００３０】リード面１０にこのような保護膜が設けら
れると、磁気テープの端部をリード面１０に摺動させて
も、リード面１０の摩耗が防止される。このため、リー
ド面１０の摩耗を抑制するために、磁気テープのテンシ
ョンを小さくする等の機構的な変更も必要ない。また、
リード面１０以外には保護膜が形成されていないので、
磁気テープの磁性層形成面側との摺動によって保護膜が
剥離して磁気テープを傷付ける虞れもない。なお、保護
膜としてＤＬＣ膜を形成した場合、この保護膜が帯電防
止効果も有するため、磁気テープの貼り付きも防止でき
る。When such a protective film is provided on the lead surface 10, abrasion of the lead surface 10 is prevented even if the end of the magnetic tape is slid on the lead surface 10. Therefore, in order to suppress the wear of the lead surface 10, it is not necessary to make a mechanical change such as reducing the tension of the magnetic tape. Also,
Since no protective film is formed on anything other than the lead surface 10,
There is no risk of the protective film peeling off by sliding on the magnetic layer forming surface side of the magnetic tape and damaging the magnetic tape. When the DLC film is formed as the protective film, the protective film also has an antistatic effect, and therefore sticking of the magnetic tape can be prevented.
【００３１】以上、本発明を適用した回転磁気ヘッド装
置の構成例について説明したが、本発明は上述の実施の
形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
例えば、上述の実施の形態では、中ドラムが回転するタ
イプの回転磁気ヘッド装置を示したが、磁気ヘッドと共
に上ドラムが回転するタイプや、磁気ヘッドと共に下ド
ラムが回転するタイプの回転磁気ヘッド装置に適用して
もよい。但し、下ドラムが回転する場合、リード面は磁
気テープの上側から位置合わせを行うこととなる。ま
た、ロータリートランスとしては、いわゆる縦型のもの
を示したが、円盤状の磁性コアが上下に対向配置され
る、いわゆる平型のものであってもよい。The configuration example of the rotary magnetic head device to which the present invention is applied has been described above, but it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments.
For example, although the rotary magnetic head device of the type in which the middle drum rotates has been shown in the above-described embodiment, a rotary magnetic head device of the type in which the upper drum rotates with the magnetic head or the type in which the lower drum rotates with the magnetic head. May be applied to. However, when the lower drum rotates, the lead surface is aligned from the upper side of the magnetic tape. Further, as the rotary transformer, a so-called vertical type is shown, but a so-called flat type in which disk-shaped magnetic cores are vertically opposed to each other may be used.
【００３２】第２の実施の形態 次に、本発明を適用した成膜装置の構成例について説明
する。ここでは、上述した回転磁気ヘッド装置の固定下
ドラム６のリード面１０にのみ保護膜を成膜できるよう
なプラズマＣＶＤ装置を示す。Second Embodiment Next, a structural example of a film forming apparatus to which the present invention is applied will be described. Here, there is shown a plasma CVD apparatus capable of forming a protective film only on the lead surface 10 of the fixed lower drum 6 of the rotary magnetic head apparatus described above.
【００３３】このプラズマＣＶＤ装置は、図３に示され
るように、排気口６８より排気されて内部が真空状態と
なされた真空室６０内に所定のガスを供給するガス供給
管６２と、所定のガスのプラズマを生成させるための一
対の対向電極６３と、固定下ドラム６を支持する支持部
材６９と、固定下ドラム６にバイアス電圧を印加するた
めのバイアス電源７２とを備えている。As shown in FIG. 3, this plasma CVD apparatus has a gas supply pipe 62 for supplying a predetermined gas into a vacuum chamber 60 which is evacuated from an exhaust port 68 and has a vacuum inside, and a predetermined gas supply pipe 62. A pair of opposing electrodes 63 for generating gas plasma, a support member 69 for supporting the fixed lower drum 6, and a bias power source 72 for applying a bias voltage to the fixed lower drum 6 are provided.
【００３４】ガス供給管６２は、図示しないガス供給源
に接続され、真空室６０上方の側壁面から所定のガスを
供給できるようになされている。The gas supply pipe 62 is connected to a gas supply source (not shown) so that a predetermined gas can be supplied from the side wall surface above the vacuum chamber 60.
【００３５】対向電極６３は、ガス供給管６２の下方に
配設された円筒状の反応管６１内に、該反応管６１の内
径と略等しい直径を有して設けられている。この対向電
極６３は、上部電極６４が陽極、下部電極６５が陰極と
なるように、直流（以下、ＤＣと称す。）電源６７に接
続されている。ここで、上部電極６４は、上述したガス
供給管６２より供給された所定のガスを下方へ通過させ
ることができるように、メッシュ状となされている。一
方、下部電極６５には、固定下ドラム６の外周と同じ直
径から少し大きい直径にかけて（ここでは、直径８０ｍ
ｍから直径８１ｍｍまでの領域にかけて）開口する円弧
状のスリット６６が設けられている。The counter electrode 63 is provided in a cylindrical reaction tube 61 disposed below the gas supply tube 62 and has a diameter substantially equal to the inner diameter of the reaction tube 61. The counter electrode 63 is connected to a direct current (hereinafter referred to as DC) power supply 67 so that the upper electrode 64 serves as an anode and the lower electrode 65 serves as a cathode. Here, the upper electrode 64 has a mesh shape so that the predetermined gas supplied from the gas supply pipe 62 described above can pass downward. On the other hand, the lower electrode 65 has a diameter from the same diameter as the outer circumference of the fixed lower drum 6 to a slightly larger diameter (here, a diameter of 80 m).
An arcuate slit 66 is provided which opens from the area from m to the diameter of 81 mm).
【００３６】なお、排気口６８は真空室６０の底部に設
けられているため、排気を行いながら、ガス供給管６２
から所定のガスの供給を行うと、スリット６６の幅に依
存して、下部電極６４より上方と下方とで差圧が生じる
こととなる。Since the exhaust port 68 is provided at the bottom of the vacuum chamber 60, the gas supply pipe 62 is exhausted while exhausting.
When a predetermined gas is supplied from above, a pressure difference is generated between above and below the lower electrode 64 depending on the width of the slit 66.
【００３７】支持部材６９は、固定下ドラム６の下側か
ら該固定下ドラム６を所定の位置に支持する支持台７０
と、固定下ドラム６の上側から位置決めしつつ支持する
位置決め棒７１とからなる。The support member 69 is a support base 70 for supporting the fixed lower drum 6 at a predetermined position from the lower side of the fixed lower drum 6.
And a positioning rod 71 that supports the lower fixed drum 6 while positioning it from above.
【００３８】ここでは、支持台７０、位置決め棒７１
は、回転軸５４が軸支された固定下ドラム６を支持でき
るような構成となされている。なお、固定下ドラム６に
回転軸５４が軸支された状態とは、固定下ドラム６のベ
アリング保持部６Ｂにベアリング５５Ａ、５５Ｂが保持
され、これを介して回転軸５４が回転可能に支持され、
グリース等も塗布されている状態である。このため、固
定下ドラム６に軸支された回転軸５４の近傍を包囲でき
るように、支持台７０、位置決め棒７１には凹部が設け
られており、また、該回転軸５４近傍を包囲する空間を
真空室６０内の雰囲気から遮断できるように、支持台７
０、位置決め棒７１における固定下ドラム６と当接する
先端部にはＯリング７４、７５がそれぞれが設けられて
いる。なお、支持台７０および位置決め棒７１は、いず
れも図示しない支持棒によって真空室６０の内壁に固定
されている。Here, the support base 70 and the positioning rod 71 are used.
Is configured so that it can support the fixed lower drum 6 on which the rotating shaft 54 is supported. The state in which the rotary shaft 54 is rotatably supported by the fixed lower drum 6 means that the bearings 55A and 55B are held by the bearing holding portion 6B of the fixed lower drum 6, and the rotary shaft 54 is rotatably supported therethrough. ,
Grease or the like is also applied. Therefore, the support base 70 and the positioning rod 71 are provided with recesses so that the vicinity of the rotary shaft 54 pivotally supported by the fixed lower drum 6 can be surrounded, and the space surrounding the rotary shaft 54 is surrounded. So that it can be isolated from the atmosphere inside the vacuum chamber 60.
0, O-rings 74 and 75 are provided at the tip end portions of the positioning rod 71 that come into contact with the fixed lower drum 6. The support base 70 and the positioning rod 71 are both fixed to the inner wall of the vacuum chamber 60 by a support rod (not shown).
【００３９】このような支持部材６９は、下部電極６５
のスリット６６の内側に固定下ドラム６の周面が沿うご
とく、該固定下ドラム６を支持することができる。ここ
では、直径が８０ｍｍである固定下ドラム６の周面に垂
直に設けられた幅０．２ｍｍのリード面１０が、下部電
極６５のスリット６６に対向することとなる。The supporting member 69 as described above is used for the lower electrode 65.
The fixed lower drum 6 can be supported so that the peripheral surface of the fixed lower drum 6 extends along the inside of the slit 66. Here, the lead surface 10 having a width of 0.2 mm and provided perpendicularly to the peripheral surface of the fixed lower drum 6 having a diameter of 80 mm faces the slit 66 of the lower electrode 65.
【００４０】なお、このプラズマＣＶＤ装置において
は、被成膜体である固定下ドラム６にバイアス電圧を印
加できるように、バイアス電源７２も備えている。ま
た、下部電極６５の下面と固定下ドラム６との間には、
固定下ドラム６の外周と同じ直径、即ち直径８０ｍｍの
円盤状の絶縁体７３が介在する。The plasma CVD apparatus is also provided with a bias power source 72 so that a bias voltage can be applied to the fixed lower drum 6 which is the film-forming target. Further, between the lower surface of the lower electrode 65 and the fixed lower drum 6,
A disc-shaped insulator 73 having the same diameter as the outer circumference of the fixed lower drum 6, that is, a diameter of 80 mm is interposed.
【００４１】したがって、以上のようなプラズマＣＶＤ
装置においては、真空室６０内を減圧し、ガス供給管６
２から所定のガスを供給した状態で、対向電極６３間に
放電を生じさせてプラズマ生成を行うと、このプラズマ
中で生じた化学種が、バイアス電圧と差圧によって加速
されて、下部電極６５のスリット６６を通過し、固定下
ドラム６のリード面１０に向かって入射することとな
る。これによって、この化学種の入射方向と垂直である
リード面１０にのみ保護膜を成膜することができる。な
お、固定下ドラム６の周面は化学種の入射方向と平行と
なるため、ここには化学種が被着することなく排気され
る。Therefore, the plasma CVD as described above
In the apparatus, the pressure in the vacuum chamber 60 is reduced and the gas supply pipe 6
When a predetermined gas is supplied from 2 to generate a plasma between the opposing electrodes 63 to generate plasma, the chemical species generated in the plasma are accelerated by the bias voltage and the differential pressure, and the lower electrode 65 is generated. After passing through the slit 66, the light enters the lead surface 10 of the fixed lower drum 6. Thereby, the protective film can be formed only on the lead surface 10 which is perpendicular to the incident direction of the chemical species. Since the peripheral surface of the fixed lower drum 6 is parallel to the incident direction of the chemical species, the chemical species are exhausted here without being deposited.
【００４２】また、このプラズマＣＶＤ装置において
は、支持部材６９が、固定下ドラム６に軸支された回転
軸５４近傍を包囲して真空室６０内の雰囲気から遮断す
ることができるため、固定下ドラム６に回転軸５４が軸
支された状態のまま成膜を行っても、ベアリング５５
Ａ、５５Ｂやグリースを真空雰囲気に露出させずに済
む。このため、固定下ドラム６に回転軸５４を軸支させ
た状態で固定下ドラム６の表面を滑らかにする工程を行
った後、そのまま成膜工程に移行させることが可能とな
り、回転磁気ヘッド装置の製造工程の効率化を図ること
にもなる。Further, in this plasma CVD apparatus, since the supporting member 69 can surround the vicinity of the rotary shaft 54 pivotally supported by the fixed lower drum 6 and shut off the atmosphere in the vacuum chamber 60, the fixed lower Even if the film is formed while the rotary shaft 54 is rotatably supported on the drum 6, the bearing 55
It is not necessary to expose A, 55B and grease to a vacuum atmosphere. Therefore, after performing the step of smoothing the surface of the fixed lower drum 6 with the fixed lower drum 6 pivotally supporting the rotary shaft 54, it is possible to directly shift to the film forming step, and the rotary magnetic head device is provided. It also aims to improve the efficiency of the manufacturing process.
【００４３】以上のようなプラズマＣＶＤ装置を用い
て、実際に、Ａｌよりなる固定下ドラム６のリード面１
０に保護膜としてＤＬＣ膜を成膜した。Using the plasma CVD apparatus as described above, the lead surface 1 of the fixed lower drum 6 made of Al was actually used.
A DLC film was formed as a protective film on No. 0.
【００４４】先ず、回転軸５４が軸支された固定下ドラ
ム６のリード面１０をアルコール等によって洗浄した
後、上述したプラズマＣＶＤ装置内に収容し、支持部材
６９によって所定の位置に支持させた。そして、ガス供
給管６２からＯ2 ガスを導入した状態で対向電極６３間
に放電を生じさせることにより、酸素プラズマを生成さ
せた。これにより、固定下ドラム６のリード面１０に付
着していた有機物が除去され、さらに、該リード面１０
表面が酸化される。その後、下記の条件にて成膜を行っ
た。First, after cleaning the lead surface 10 of the fixed lower drum 6 on which the rotary shaft 54 is supported by alcohol or the like, the lead surface 10 is housed in the above-mentioned plasma CVD apparatus and supported by the supporting member 69 at a predetermined position. . Then, an oxygen plasma was generated by causing a discharge between the counter electrodes 63 in a state where O 2 gas was introduced from the gas supply pipe 62. As a result, the organic substances attached to the lead surface 10 of the fixed lower drum 6 are removed, and the lead surface 10 is further removed.
The surface is oxidized. After that, film formation was performed under the following conditions.
【００４５】 この成膜により、固定下ドラム６のリード面１０にＤＬ
Ｃ膜を約４００ｎｍなる厚さに形成することができた。[0045] By this film formation, DL is formed on the lead surface 10 of the fixed lower drum 6.
The C film could be formed to a thickness of about 400 nm.
【００４６】なお、成膜後、固定下ドラム６を観察した
ところ、リード面１０以外にはＤＬＣ膜が殆ど付着して
いなかった。これより、上述のプラズマＣＶＤ装置を用
いると、所望の薄膜が所望の範囲のみに確実に成膜でき
ることがわかる。After the film formation, the fixed drum 6 was observed, and it was found that the DLC film was scarcely attached to the parts other than the lead surface 10. From this, it can be understood that a desired thin film can be reliably formed only in a desired range by using the above-described plasma CVD apparatus.
【００４７】ここで、このようにしてリード面１０にＤ
ＬＣ膜が形成された固定下ドラム６を用いて回転磁気ヘ
ッド装置を構成し、磁気テープに対する記録／再生を行
ったところ、長期に亘って、リード面１０の摩耗が抑制
された。これより、上述のプラズマＣＶＤ装置を用いる
と、付着力が高いＤＬＣ膜を成膜できることがわかっ
た。なお、通常、Ａｌ上に成膜されたカーボン膜は付着
力が不十分なものとなるのに対して、ここでは付着力が
高いＤＬＣ膜を成膜することができた理由としては、被
成膜体である固定下ドラム６にバイアス電圧を印加し
て、化学種を効率よく導くことができたことの他、ＤＬ
Ｃ膜の成膜に先立って酸素プラズマ処理を行ったため、
リード面１０の有機物を除去できたとともに、リード面
１０に酸化膜よりなる中間層が形成されたことが挙げら
れる。Here, in this way, the D is formed on the lead surface 10.
When the rotary magnetic head device was constructed using the fixed lower drum 6 on which the LC film was formed, and recording / reproducing was performed on the magnetic tape, wear of the lead surface 10 was suppressed for a long period of time. From this, it was found that a DLC film having high adhesiveness can be formed by using the above plasma CVD apparatus. Incidentally, the carbon film formed on Al usually has insufficient adhesion, whereas the reason why the DLC film having high adhesion can be formed here is that By applying a bias voltage to the fixed lower drum 6 which is a film body, chemical species could be efficiently guided, and DL
Since the oxygen plasma treatment was performed prior to the formation of the C film,
It can be mentioned that the organic substance on the lead surface 10 can be removed and the intermediate layer made of an oxide film is formed on the lead surface 10.
【００４８】以上、本発明を適用した成膜装置の構成例
について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限定
されるものではないことは言うまでもない。上述の実施
の形態では、固定下ドラム６のリード面１０にＤＬＣ膜
を成膜するためのものを示したが、成膜される薄膜はＤ
ＬＣ膜に限られず、また、被成膜体も固定下ドラム６に
限られない。即ち、下部電極６５のスリット６６の形状
を変形させると共に、被成膜体を支持する支持部材６９
の構成を変更することによって、様々な被成膜体の所望
の範囲に所望の薄膜を成膜することができる。Although the configuration example of the film forming apparatus to which the present invention is applied has been described above, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments. In the above embodiment, the DLC film is formed on the lead surface 10 of the fixed lower drum 6, but the formed thin film is D.
The fixed film is not limited to the LC film, and the film formation target is not limited to the fixed lower drum 6. That is, the shape of the slit 66 of the lower electrode 65 is deformed and the supporting member 69 that supports the film formation target is formed.
By changing the configuration of (1), it is possible to form a desired thin film in a desired range of various film formation objects.
【００４９】例えば、図４に示されるようなプラズマＣ
ＶＤ装置を用いて、半導体ウェハの所定範囲にのみシリ
コン酸化物膜を成膜することもできる。なお、このプラ
ズマＣＶＤ装置においては、前述した図３に示されるプ
ラズマＣＶＤ装置と共通する部材には共通符号を付し、
重複説明は省略する。図４に示されるプラズマＣＶＤ装
置においては、被成膜体である半導体ウェハ８６を支持
する支持部材６９が表面が平滑化された載置台となされ
ており、これにバイアス電圧が印加可能となされてい
る。また、このプラズマＣＶＤ装置においては、下部電
極６５のスリット６６が直径１ｍｍの円形の孔となされ
ている。したがって、半導体ウェハ８６を載置台上に載
置させた状態で、ＳｉＨ4 ガス、Ｏ2 ガスのごとき原料
ガスを用いたプラズマＣＶＤを行うと、上述したスリッ
ト６６に対向する領域にのみシリコン酸化物膜が成膜さ
れることとなる。なお、載置台をｘｙステージとし、成
膜中に、半導体ウェハのスリット６６に対する相対位置
を変化させることができるようにしてもよく、これによ
り、シリコン酸化物膜をいかなる形状にも成膜できるよ
うになる。For example, plasma C as shown in FIG.
It is also possible to form a silicon oxide film only on a predetermined area of a semiconductor wafer using a VD device. In this plasma CVD apparatus, members common to those in the plasma CVD apparatus shown in FIG.
Duplicate description is omitted. In the plasma CVD apparatus shown in FIG. 4, the supporting member 69 that supports the semiconductor wafer 86 that is the film formation target is a mounting table having a smooth surface, and a bias voltage can be applied to the mounting table. There is. Moreover, in this plasma CVD apparatus, the slit 66 of the lower electrode 65 is a circular hole having a diameter of 1 mm. Therefore, when plasma CVD using a raw material gas such as SiH 4 gas and O 2 gas is performed with the semiconductor wafer 86 placed on the mounting table, silicon oxide is formed only in the region facing the slit 66 described above. A film will be formed. The mounting table may be an xy stage so that the relative position of the semiconductor wafer with respect to the slit 66 can be changed during film formation, so that the silicon oxide film can be formed into any shape. become.
【００５０】その他、上述の実施の形態では、被成膜体
に印加するバイアス電圧としてＤＣ電圧を用いたが、交
流（ＲＦ）電圧を用いてもよい。また、下部電極を被成
膜体の下方に配設し、上部電極と被成膜体との間に、絶
縁体よりなる入射規制手段を配し、これに設けられたス
リットを介して被成膜体の所定の範囲に所望の薄膜を成
膜することも考えられる。この場合、下部電極がバイア
ス印加手段を兼ねることとなる。In addition, although the DC voltage is used as the bias voltage applied to the film formation target in the above-described embodiment, an alternating current (RF) voltage may be used. Further, the lower electrode is arranged below the film-forming target, and the incident-regulating means made of an insulator is arranged between the upper electrode and the film-forming target. It is also conceivable to form a desired thin film in a predetermined range of the film body. In this case, the lower electrode also serves as the bias applying means.
【００５１】さらに、平行平板型プラズマＣＶＤ装置の
みならず、ＥＣＲ−ＣＶＤ装置、ＩＣＰ−ＣＶＤ装置、
ヘリコン波プラズマＣＶＤ装置等に本発明を適用するこ
とも可能である。Further, not only the parallel plate type plasma CVD apparatus, but also the ECR-CVD apparatus, ICP-CVD apparatus,
The present invention can also be applied to a helicon wave plasma CVD apparatus or the like.
【００５２】[0052]
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る回転磁気ヘッド装置は、リード面の摩耗が抑制
され、また、磁気テープを傷付ける虞れもない。As is apparent from the above description, in the rotary magnetic head device according to the present invention, wear of the lead surface is suppressed and there is no fear of damaging the magnetic tape.
【００５３】したがって、本発明を適用することによ
り、ヘリカルスキャンによる記録／再生を長期に亘って
高精度に行うことができる、信頼性の高い回転磁気ヘッ
ド装置を提供できるようになる。Therefore, by applying the present invention, it is possible to provide a highly reliable rotary magnetic head device capable of performing recording / reproducing by helical scanning with high accuracy over a long period of time.
【００５４】また、本発明に係る成膜装置は、被成膜体
の所定の領域のみに薄膜を成膜できる。このため、例え
ば、回転磁気ヘッド装置のリード面のみに保護膜を成膜
することも可能となり、上述したような信頼性の高い回
転磁気ヘッド装置の製造も可能となる。Further, the film forming apparatus according to the present invention can form a thin film only on a predetermined region of the film-forming target. Therefore, for example, it is possible to form a protective film only on the lead surface of the rotary magnetic head device, and it is possible to manufacture the rotary magnetic head device having high reliability as described above.
【図１】本発明に係る回転磁気ヘッド装置の一構成例を
示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a rotary magnetic head device according to the present invention.
【図２】本発明に係る回転磁気ヘッド装置の一構成例を
示す模式的斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view showing a configuration example of a rotary magnetic head device according to the present invention.
【図３】本発明に係る成膜装置の一構成例を示す模式的
断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a film forming apparatus according to the present invention.
【図４】本発明に係る成膜装置の他の構成例を示す模式
的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another configuration example of the film forming apparatus according to the present invention.
６ 固定下ドラム ７ 固定上ドラム ８ 回転中ドラム ９ 磁気ヘッド １０ リード面 ６０ 真空室 ６２ ガス供給管 ６３ 対向電極 ６９ 支持部材 ７２ バイアス電源 ６６ スリット 6 Fixed Lower Drum 7 Fixed Upper Drum 8 Rotating Drum 9 Magnetic Head 10 Lead Surface 60 Vacuum Chamber 62 Gas Supply Pipe 63 Counter Electrode 69 Supporting Member 72 Bias Power Supply 66 Slit
フロントページの続き (72)発明者 天野 俊二 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 林 弘志 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内Front page continuation (72) Inventor Shunji Amano 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Hiroshi Hayashi 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation Shares In the company
Claims (6)
この回転ドラムを支持する固定ドラムとからなり、 前記固定ドラムの周囲の少なくとも一部に、磁気テープ
の上下の位置合わせの基準となる段差が設けられ、 前記段差面のみに保護膜が設けられていることを特徴と
する回転磁気ヘッド装置。1. A rotating drum provided with a magnetic head,
A fixed drum that supports the rotating drum is provided, and a step that serves as a reference for vertical alignment of the magnetic tape is provided on at least a part of the periphery of the fixed drum, and a protective film is provided only on the step surface. A rotary magnetic head device characterized in that
徴とする請求項１記載の回転磁気ヘッド装置。2. The rotary magnetic head device according to claim 1, wherein the protective film is a carbon film.
給手段と、 前記所定のガスのプラズマを生成させるプラズマ生成手
段と、 被成膜体を支持する支持手段と、 前記被成膜体にバイアス電圧を印加するバイアス印加手
段と、 前記プラズマ中で生成した化学種の入射を規制する入射
規制手段とを備え、 前記化学種を前記被成膜体上の所定の範囲にのみ被着さ
せることを特徴とする成膜装置。3. A gas supply means for supplying a predetermined gas into the vacuum chamber, a plasma generation means for generating plasma of the predetermined gas, a support means for supporting the film-forming target, and a film-forming target for the film-forming target. A bias applying unit that applies a bias voltage, and an incident regulating unit that regulates the incidence of the chemical species generated in the plasma, and deposit the chemical species only in a predetermined range on the film formation target. A film forming apparatus characterized by:
電極であり、該電極の一方が前記入射規制手段を兼ねて
いることを特徴とする請求項３記載の成膜装置。4. The film forming apparatus according to claim 3, wherein the plasma generating means is a pair of electrodes facing each other, and one of the electrodes also serves as the incidence regulating means.
の固定ドラムを所定の位置に支持させるごとく形成さ
れ、前記入射規制手段が、前記固定ドラムの周囲に設け
られた段差面にのみ化学種を入射させるごとく形成され
ていることを特徴とする請求項３記載の成膜装置。5. The support means is formed so as to support a fixed drum for a rotary magnetic head device at a predetermined position, and the incident regulation means is provided only on a step surface provided around the fixed drum. The film-forming apparatus according to claim 3, wherein the film-forming apparatus is formed so as to make incident light.
可能に支持されており、この固定ドラムを支持する前記
支持手段は、前記回転軸近傍を包囲して真空室内の雰囲
気から遮断可能とするものであることを特徴とする請求
項５記載の成膜装置。6. A rotating shaft is rotatably supported at the center of the fixed drum, and the supporting means for supporting the fixed drum surrounds the rotating shaft and can shut off the atmosphere in the vacuum chamber. The film forming apparatus according to claim 5, wherein the film forming apparatus comprises:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8063485A JPH09259492A (en) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | Rotary magnetic head device and film forming device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8063485A JPH09259492A (en) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | Rotary magnetic head device and film forming device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09259492A true JPH09259492A (en) | 1997-10-03 |
Family
ID=13230603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8063485A Withdrawn JPH09259492A (en) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | Rotary magnetic head device and film forming device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09259492A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005256047A (en) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Ulvac Japan Ltd | SURFACE TREATMENT METHOD AND SURFACE TREATMENT APPARATUS FOR Mg ALLOY MEMBER |
-
1996
- 1996-03-19 JP JP8063485A patent/JPH09259492A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005256047A (en) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Ulvac Japan Ltd | SURFACE TREATMENT METHOD AND SURFACE TREATMENT APPARATUS FOR Mg ALLOY MEMBER |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030603 |