JPH09257285A - 湿度発生装置 - Google Patents
湿度発生装置Info
- Publication number
- JPH09257285A JPH09257285A JP9360496A JP9360496A JPH09257285A JP H09257285 A JPH09257285 A JP H09257285A JP 9360496 A JP9360496 A JP 9360496A JP 9360496 A JP9360496 A JP 9360496A JP H09257285 A JPH09257285 A JP H09257285A
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- Japan
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- tank
- saturating
- temperature
- humidifying
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】小型、コンパクト、高精度の湿度発生装置を提
供する。 【解決手段】２圧力法による湿度発生装置において、飽
和槽２と加湿槽９との間に加湿槽で発生した加湿空気を
室温に近づけ飽和させるための予備飽和槽１０を設ける
ようにした湿度発生装置である。
供する。 【解決手段】２圧力法による湿度発生装置において、飽
和槽２と加湿槽９との間に加湿槽で発生した加湿空気を
室温に近づけ飽和させるための予備飽和槽１０を設ける
ようにした湿度発生装置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、湿度計を校正す
るために湿度を発生する湿度発生装置に関するものであ
る。
るために湿度を発生する湿度発生装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】湿度計を校正するために使用する湿度発
生装置には、飽和槽の飽和空気と乾燥空気を混合させる
分流式を用いたもの、あるいは水蒸気が飽和している飽
和槽の温度、圧力と、目的とする湿度を得るための測定
・試験槽の温度、圧力との比を利用して所定の湿度を発
生する２温度法、２圧力法、２温度２圧力法を用いたも
の等がある。
生装置には、飽和槽の飽和空気と乾燥空気を混合させる
分流式を用いたもの、あるいは水蒸気が飽和している飽
和槽の温度、圧力と、目的とする湿度を得るための測定
・試験槽の温度、圧力との比を利用して所定の湿度を発
生する２温度法、２圧力法、２温度２圧力法を用いたも
の等がある。
【０００３】分流式では、飽和空気と乾燥空気との混合
比の精度の確保が難しく、又、２温度法、２圧力法で
は、０．１℃の温度差が湿度１％ＲＨであることから、
２温度法では、飽和槽、試験槽の各温度を精密に維持す
る必要があり、槽の温度を変化させるに時間を要するも
のであり、又、２圧力法では圧力の切換で済むので応答
は速いが、通常大きな恒温槽を必要とする。
比の精度の確保が難しく、又、２温度法、２圧力法で
は、０．１℃の温度差が湿度１％ＲＨであることから、
２温度法では、飽和槽、試験槽の各温度を精密に維持す
る必要があり、槽の温度を変化させるに時間を要するも
のであり、又、２圧力法では圧力の切換で済むので応答
は速いが、通常大きな恒温槽を必要とする。
【０００４】つまり、こうした湿度発生装置には、加湿
槽からの加湿空気から恒温恒湿の飽和空気を得るための
飽和槽（飽和器、飽和装置）等が用いられ、これにより
得られた飽和空気を試験槽に供給してるが、通常は飽和
槽や試験槽は大型の水温槽内に設置して一定温度とし所
望の飽和空気等を得るようにしている（これらの点につ
いては、ＪＩＳ Ｚ８８０６−１９８１、Ｂ７９２０−
１９９４等を参照）。
槽からの加湿空気から恒温恒湿の飽和空気を得るための
飽和槽（飽和器、飽和装置）等が用いられ、これにより
得られた飽和空気を試験槽に供給してるが、通常は飽和
槽や試験槽は大型の水温槽内に設置して一定温度とし所
望の飽和空気等を得るようにしている（これらの点につ
いては、ＪＩＳ Ｚ８８０６−１９８１、Ｂ７９２０−
１９９４等を参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな水温槽を用いると、水温槽全体の温度制御を必要と
し制御対象の熱容量が大きく、制御が困難で、また、均
一な温度分布を得るために水温槽全体を攪拌する等の必
要があり、温度分布の評価が難しく、かつ装置や付帯設
備が大型で複雑なものとなる問題点があった。
うな水温槽を用いると、水温槽全体の温度制御を必要と
し制御対象の熱容量が大きく、制御が困難で、また、均
一な温度分布を得るために水温槽全体を攪拌する等の必
要があり、温度分布の評価が難しく、かつ装置や付帯設
備が大型で複雑なものとなる問題点があった。
【０００６】この発明の目的は、以上の点に鑑み、簡単
な構成で、小形、コンパクト、高精度の湿度発生装置を
提供することである。
な構成で、小形、コンパクト、高精度の湿度発生装置を
提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、２圧力法に
よる湿度発生装置において、飽和槽と加湿槽との間に加
湿槽で発生した加湿空気をほぼ飽和させるための予備飽
和槽を設けるようにした湿度発生装置である。
よる湿度発生装置において、飽和槽と加湿槽との間に加
湿槽で発生した加湿空気をほぼ飽和させるための予備飽
和槽を設けるようにした湿度発生装置である。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１（ａ）は、この発明の一実施
例を示す２圧力法による湿度計校正用の湿度発生装置で
ある。
例を示す２圧力法による湿度計校正用の湿度発生装置で
ある。
【０００９】図において、試験槽５、飽和槽２の下部に
上下垂直、直列的に、予備飽和槽１０、加湿槽９が設け
られている。最も下に設けられた加湿槽９はたとえばバ
ブリング槽で、水Ｗを収容し下部よりコンプレッサ等で
導入され加圧されたエアＡは、多孔性を有する焼結金属
９１等から水Ｗの中をバブリングされほぼ飽和に近い湿
潤した加湿空気Ａｏとなって、配管９２を介して予備飽
和槽１０の下部に導入される。この加湿槽９の上部に直
列的に設けられた予備飽和槽１０は、外側にフィン状の
放熱体１０ａを有し外気との熱交換を促進し加湿空気Ａ
ｏの温度を室温に近づけてなじませ、ほぼ飽和空気とし
予備飽和槽２の上部に直列的に設けられた飽和槽２に導
入する。
上下垂直、直列的に、予備飽和槽１０、加湿槽９が設け
られている。最も下に設けられた加湿槽９はたとえばバ
ブリング槽で、水Ｗを収容し下部よりコンプレッサ等で
導入され加圧されたエアＡは、多孔性を有する焼結金属
９１等から水Ｗの中をバブリングされほぼ飽和に近い湿
潤した加湿空気Ａｏとなって、配管９２を介して予備飽
和槽１０の下部に導入される。この加湿槽９の上部に直
列的に設けられた予備飽和槽１０は、外側にフィン状の
放熱体１０ａを有し外気との熱交換を促進し加湿空気Ａ
ｏの温度を室温に近づけてなじませ、ほぼ飽和空気とし
予備飽和槽２の上部に直列的に設けられた飽和槽２に導
入する。
【００１０】この飽和槽２は、アルミニウム、銅等の熱
伝導の良好な金属ブロック等の高熱伝導体１の内部の下
方に設けられ、又、高熱伝導体１の内部の上方に試験槽
５が一体的に上下に直列的に設けられている。つまり、
飽和槽２、試験槽５は、高熱伝導体１内に、例えば、く
りぬき、又は密着組み合わせ等で一体化して形成する。
この飽和槽２は、高熱伝導体１内に密閉空間を形成し、
その内部の空間の底面を水Ｗを収容する水盤状とされ、
下部より導入された空気Ａ０を水Ｗの表面を通過させる
構造で外方から温度Ｔ１、圧力Ｐ１の１００％ＲＨの十
分な飽和空気Ａ１を取り出す。なお、高熱伝導体１を構
成するアルミニウム、銅の熱伝導率は、水の約４２０〜
７２０倍で、極めて熱伝導が高く、全体として０．１℃
以内の均熱性が容易に得られる。
伝導の良好な金属ブロック等の高熱伝導体１の内部の下
方に設けられ、又、高熱伝導体１の内部の上方に試験槽
５が一体的に上下に直列的に設けられている。つまり、
飽和槽２、試験槽５は、高熱伝導体１内に、例えば、く
りぬき、又は密着組み合わせ等で一体化して形成する。
この飽和槽２は、高熱伝導体１内に密閉空間を形成し、
その内部の空間の底面を水Ｗを収容する水盤状とされ、
下部より導入された空気Ａ０を水Ｗの表面を通過させる
構造で外方から温度Ｔ１、圧力Ｐ１の１００％ＲＨの十
分な飽和空気Ａ１を取り出す。なお、高熱伝導体１を構
成するアルミニウム、銅の熱伝導率は、水の約４２０〜
７２０倍で、極めて熱伝導が高く、全体として０．１℃
以内の均熱性が容易に得られる。
【００１１】そして、飽和槽２からの飽和空気Ａ１は、
圧力調整弁３で減圧され、断熱膨脹による温度低下を防
止するための加温手段４を有する配管３１を介し、この
減圧された空気は、飽和槽２の上部に設けられた試験槽
５の外周に螺旋状に形成された熱伝導体１内の通路５１
を上方から下方に通過して試験槽５に供給される。試験
槽５の蓋等で密閉された空間５０に空気Ａ２の圧力は減
圧されたＰ２、温度はＴ２（Ｔ１＝Ｔ２）で室温、飽和
槽２、試験槽５の圧力Ｐ１、Ｐ２は圧力計６１、６２で
測定される。なお、切換手段により１個の圧力計６２の
みで、飽和槽２の圧力、及び試験槽５の圧力を測定で
き、簡素化ができる。又、飽和槽２の圧力のみを測定す
るようにし、これと試験槽５の圧力と同等の大気圧とを
１個の圧力計６１で切換測定してもよい。
圧力調整弁３で減圧され、断熱膨脹による温度低下を防
止するための加温手段４を有する配管３１を介し、この
減圧された空気は、飽和槽２の上部に設けられた試験槽
５の外周に螺旋状に形成された熱伝導体１内の通路５１
を上方から下方に通過して試験槽５に供給される。試験
槽５の蓋等で密閉された空間５０に空気Ａ２の圧力は減
圧されたＰ２、温度はＴ２（Ｔ１＝Ｔ２）で室温、飽和
槽２、試験槽５の圧力Ｐ１、Ｐ２は圧力計６１、６２で
測定される。なお、切換手段により１個の圧力計６２の
みで、飽和槽２の圧力、及び試験槽５の圧力を測定で
き、簡素化ができる。又、飽和槽２の圧力のみを測定す
るようにし、これと試験槽５の圧力と同等の大気圧とを
１個の圧力計６１で切換測定してもよい。
【００１２】そして、加湿槽９の温度Ｔ０は温度計７１
で検出され、又、飽和槽２又は試験槽５の温度Ｔ２（＝
Ｔ１）は高熱伝導体１内に設けられた温度センサ７２で
検出され、両温度Ｔ０，Ｔ２は制御手段７に入力され、
制御手段７は、温度センサ７１で検出した加湿槽１の温
度Ｔ０が、温度センサ７２で検出した室温Ｔ２よりもや
や高くなるよう（Ｔ０＞Ｔ２）に操作端８でヒータ７０
に供給する電源Ｅを制御する。そこで湿度計等を試験槽
５の空間５０に挿入し、湿度計の校正が行われる。又、
飽和槽２、予備飽和槽１０等でやや冷却されて発生する
余分な水Ｗは、垂直的に直列配置された予備飽和槽１
０、加湿槽９へと流下、落下し、途中で停滞する等の不
都合を生じることがなく、ポンプ等による循環等は不要
で、加湿槽９を設けることで加湿された飽和空気を大量
に発生でき、長期運転に好適である。
で検出され、又、飽和槽２又は試験槽５の温度Ｔ２（＝
Ｔ１）は高熱伝導体１内に設けられた温度センサ７２で
検出され、両温度Ｔ０，Ｔ２は制御手段７に入力され、
制御手段７は、温度センサ７１で検出した加湿槽１の温
度Ｔ０が、温度センサ７２で検出した室温Ｔ２よりもや
や高くなるよう（Ｔ０＞Ｔ２）に操作端８でヒータ７０
に供給する電源Ｅを制御する。そこで湿度計等を試験槽
５の空間５０に挿入し、湿度計の校正が行われる。又、
飽和槽２、予備飽和槽１０等でやや冷却されて発生する
余分な水Ｗは、垂直的に直列配置された予備飽和槽１
０、加湿槽９へと流下、落下し、途中で停滞する等の不
都合を生じることがなく、ポンプ等による循環等は不要
で、加湿槽９を設けることで加湿された飽和空気を大量
に発生でき、長期運転に好適である。
【００１３】つまり、一般に相対湿度Ｕは次式で与えら
れる。
れる。
【００１４】 Ｕ＝（Ｐ２／Ｐ１）・（ｅ１／ｅ２）×１００ （１） ここでＰ１は飽和槽２の圧力、Ｐ２は試験槽５の圧力、
ｅ１は飽和槽２の温度Ｔ１における飽和水蒸気圧、ｅ２
は試験槽５の温度Ｔ２における飽和水蒸気圧である。
ｅ１は飽和槽２の温度Ｔ１における飽和水蒸気圧、ｅ２
は試験槽５の温度Ｔ２における飽和水蒸気圧である。
【００１５】この図１では２圧力法で、温度Ｔ１、温度
Ｔ２は室温で等温なので、ｅ１＝ｅ２で、圧力Ｐ１、Ｐ
２を用い、次式から１００％ＲＨ以下の相対湿度が得ら
れる。
Ｔ２は室温で等温なので、ｅ１＝ｅ２で、圧力Ｐ１、Ｐ
２を用い、次式から１００％ＲＨ以下の相対湿度が得ら
れる。
【００１６】 Ｕ＝（Ｐ２／Ｐ１）×１００ （２） 図１（ｂ）は、予備飽和槽１０のやや詳細な一実施例を
示す構成説明図で、図１と同一符号は同等の構成要素を
示す。この予備飽和槽１０は、金属円筒の本体の外周に
下方から上方に螺旋状の通路１０ｂが密閉されて形成さ
れ、その外側に放射状に複数のフィン状の放熱体１０ａ
設け、加湿空気Ａｏの温度を室温Ｔ１に近づけ、螺旋状
に形成された通路１０ｂを加湿槽９からの加湿空気Ａ０
を下方から上方に通過させ室温になじませ飽和状態とし
上部に直列的に設けられた飽和槽２に導入する。
示す構成説明図で、図１と同一符号は同等の構成要素を
示す。この予備飽和槽１０は、金属円筒の本体の外周に
下方から上方に螺旋状の通路１０ｂが密閉されて形成さ
れ、その外側に放射状に複数のフィン状の放熱体１０ａ
設け、加湿空気Ａｏの温度を室温Ｔ１に近づけ、螺旋状
に形成された通路１０ｂを加湿槽９からの加湿空気Ａ０
を下方から上方に通過させ室温になじませ飽和状態とし
上部に直列的に設けられた飽和槽２に導入する。
【００１７】なお、予備飽和槽１０は、加湿槽９と飽和
槽２との間にあれば、垂直配置でなく、どのような配置
であっても、同等の効果が得られる。
槽２との間にあれば、垂直配置でなく、どのような配置
であっても、同等の効果が得られる。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、この発明は、２圧力
法による湿度発生装置において、飽和槽と加湿槽との間
に加湿槽で発生した加湿空気をほぼ飽和させるための予
備飽和槽を設けるようにした湿度発生装置である。この
ため、小形、コンパクトで簡易な構成とでき、大型の恒
温水槽が不要で、きわめて正確な湿度を発生させること
ができ、湿度計の校正に好適である。又、飽和槽と加湿
槽との間に加湿槽で発生した加湿空気を室温に近づけ飽
和させるための予備飽和槽を設けるようにしたので、加
湿空気は十分に室温になじむことができ、更に、外方に
放熱体を設けたり、螺旋状に形成された通路を加湿槽か
らの加湿空気を下方から上方に通過させることにより、
いっそう室温の十分な飽和空気とできる。更に、飽和槽
の下方に予備飽和槽、予備飽和槽の下方に加湿槽を例え
ば直列的に設けているので、飽和槽、予備飽和槽で冷却
されて発生する余分な水は、直列配置された加湿槽、予
備飽和槽へと流下、落下し、途中で停滞する等の不都合
を生じることがなく、ポンプによる循環等は不要であ
る。又、加湿槽を設けることで、いっそう加湿された飽
和空気を大量に発生でき、長期運転に好適である。全体
として、恒温水槽のような大型の装置は不要で、湿度計
校正装置として小型、コンパクト化を図ることができ、
また、２圧力法以外の装置にも使用できる。
法による湿度発生装置において、飽和槽と加湿槽との間
に加湿槽で発生した加湿空気をほぼ飽和させるための予
備飽和槽を設けるようにした湿度発生装置である。この
ため、小形、コンパクトで簡易な構成とでき、大型の恒
温水槽が不要で、きわめて正確な湿度を発生させること
ができ、湿度計の校正に好適である。又、飽和槽と加湿
槽との間に加湿槽で発生した加湿空気を室温に近づけ飽
和させるための予備飽和槽を設けるようにしたので、加
湿空気は十分に室温になじむことができ、更に、外方に
放熱体を設けたり、螺旋状に形成された通路を加湿槽か
らの加湿空気を下方から上方に通過させることにより、
いっそう室温の十分な飽和空気とできる。更に、飽和槽
の下方に予備飽和槽、予備飽和槽の下方に加湿槽を例え
ば直列的に設けているので、飽和槽、予備飽和槽で冷却
されて発生する余分な水は、直列配置された加湿槽、予
備飽和槽へと流下、落下し、途中で停滞する等の不都合
を生じることがなく、ポンプによる循環等は不要であ
る。又、加湿槽を設けることで、いっそう加湿された飽
和空気を大量に発生でき、長期運転に好適である。全体
として、恒温水槽のような大型の装置は不要で、湿度計
校正装置として小型、コンパクト化を図ることができ、
また、２圧力法以外の装置にも使用できる。
【図１】この発明の一実施例を示す構成説明図である。
１ 高熱伝導体 ２ 飽和槽 ３ 圧力調整弁 ４ 加熱手段 ５ 試験槽 ６１、６２ 圧力計 ７ 制御手段 ７０ ヒータ ８ 操作端 ９ 加湿槽
Claims (3)
- 【請求項１】２圧力法による湿度発生装置において、飽
和槽と加湿槽との間に加湿槽で発生した加湿空気をほぼ
飽和させるための予備飽和槽を設けたことを特徴とする
湿度発生装置。 - 【請求項２】前記予備飽和槽は、外方に放熱体を設けた
ことを特徴とする請求項１記載の湿度発生装置。 - 【請求項３】前記予備飽和槽は、螺旋状に形成された通
路を加湿槽からの加湿空気を下方から上方に通過させる
ことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の湿度発生
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9360496A JPH09257285A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 湿度発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9360496A JPH09257285A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 湿度発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09257285A true JPH09257285A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=14086941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9360496A Pending JPH09257285A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 湿度発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09257285A (ja) |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP9360496A patent/JPH09257285A/ja active Pending
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