JPH09255356A - 基板用ガラス組成物 - Google Patents

基板用ガラス組成物

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JPH09255356A
JPH09255356A JP8061297A JP6129796A JPH09255356A JP H09255356 A JPH09255356 A JP H09255356A JP 8061297 A JP8061297 A JP 8061297A JP 6129796 A JP6129796 A JP 6129796A JP H09255356 A JPH09255356 A JP H09255356A
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JP
Japan
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glass
strain point
substrate
thermal expansion
glass composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP8061297A
Other languages
English (en)
Inventor
Manabu Nishizawa
学 西沢
Takashi Maeda
敬 前田
Yasumasa Nakao
泰昌 中尾
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH09255356A publication Critical patent/JPH09255356A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】高い歪点を有し、比重の小さい基板用ガラス組
成物を得る。 【解決手段】重量%表示で実質的に、SiO2 :39〜
57、Al23 :0〜14、B23 :0〜5、Mg
O:0〜10、CaO:0〜10、SrO:5〜25、
BaO:5〜25、Na2 O:0〜7、K2 O:0〜1
5、Li2 O:0〜6、ZrO2 :0〜6からなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットディスプ
レイ、特にプラズマディスプレイパネル(PDP)に用
いるガラス基板組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】PDPは一般的に、基板ガラス上に金属
電極、絶縁ペースト、リブペースト等を550〜600
℃程度の最高温度で焼成した後、対向板と周囲をフリッ
トシールすることにより製造される。従来、このための
基板ガラスとして建築用あるいは自動車用として広く用
いられるソーダライムガラスが一般的に用いられてき
た。
【0003】しかし、ソーダライムガラスの歪点は50
0℃程度であるため、上記の最高温度で熱処理を受ける
と基板ガラスが変形、あるいは収縮をおこし、寸法が著
しく変化する。したがって、対向板との電極位置合わせ
を精度良く実現しにくいという課題があった。特に、生
産性の高いベルト炉のような連続式の焼成炉を使用して
製造を行う場合、焼成中にガラス板の先端と後端で温度
差がつき、ガラス板が前後に非対称な寸法変化を起こす
という問題があった。
【0004】このガラス基板の熱変形あるいは熱収縮の
問題を解決するため、米国特許明細書第5459109
号には、従来のPDP製作用の絶縁ペーストやリブペー
ストなどの材料をそのまま用いることができるように熱
膨張係数がソーダライムガラスと近く、歪点を630℃
以上に高めたガラスが開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】また、米国特許明細書
第5459109号に提案されている組成は、いずれも
比重が3.3を超え、部材の軽量化が困難であるという
問題点がある。
【0006】本発明の目的は、上記欠点を解決し、軽量
で大型PDPの製造に適するように高い歪点を有する基
板用ガラス組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は歪点が625℃
を超え、50〜350℃の平均熱膨張係数が70〜90
×10-7/℃、比重が3.3以下であって、実質的に重
量%で、 SiO2 : 39〜54、 Al23 : 0〜14、 B23 : 0〜 5、 MgO : 0〜10、 CaO : 0〜10、 SrO : 5〜25、 BaO : 5〜25、 Na2 O : 0〜 7、 K2 O : 0〜15、 Li2 O : 0〜 6、 ZrO2 : 0〜 6、 からなる基板用ガラス組成物である。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明による組成の限定理由は以
下の通りである。
【0009】SiO2 :ガラスの骨格を成す成分であ
る。含有量が39重量%(以下%と表記する)未満では
他の成分の割合が増し、熱膨張係数が大きくなりすぎ
る。他方、54%を超えると熱膨張係数が小さくなりす
ぎる。好ましくは41〜52%である。
【0010】Al23 :必須成分ではないが、歪点を
上げる効果があるため、含有することができる。しか
し、14%より多いとガラスの熔解性が低下し、失透温
度が高くなるおそれがある。好ましくは12%以下であ
る。
【0011】B23 :必須成分ではないが、失透抑制
の効果があるので、含有することができる。しかし、5
%を超えると歪点が低くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは4%以下である。
【0012】MgO:必須成分ではないが、ガラスの熔
解時の粘性を下げ、熔解を促進するので含有することが
できる。しかし、10%を超えると、失透温度が高くな
る。好ましくは8%以下である。
【0013】CaO:必須成分ではないが、ガラスの熔
解時の粘性を下げ、熔解を促進するので含有することが
できる。しかし、10%を超えると、失透温度が高くな
る。好ましくは8%以下である。
【0014】SrO:ガラスの熔解時の粘性を下げ、熔
解を促進する効果がある。5%未満では熱膨張係数が小
さくなりすぎる。一方、25%を超えると熱膨張係数が
大きくなりすぎる。好ましくは10〜20%である。
【0015】BaO:ガラスの熔解時の粘性を下げ、熔
解を促進する効果がある。5%未満では熱膨張係数が小
さくなりすぎる。一方、25%以上では熱膨張係数が大
きくなりすぎる。好ましくは7〜23%である。
【0016】MgO、CaO、SrOおよびBaOは、
溶解促進のため、合量で26%超含有することが好まし
い。より好ましくは、28%以上である。
【0017】Na2 O:必須成分ではないが、ガラスの
熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので含
有することができる。しかし、7%を超えると、歪点が
低下するおそれがある。好ましくは6%以下である。
【0018】K2 O:必須成分ではないが、ガラスの熔
解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので含有
することができる。15%を超えると、歪点が低下する
おそれがある。好ましくは12%以下である。
【0019】Li2 O:必須成分ではないが、ガラスの
熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので含
有することができる。6%を超えると、熱膨張係数が大
きくなりすぎ、また、化学的耐久性が低下する。好まし
くは、5%以下である。
【0020】Na2 O、K2 OおよびLi2 Oは多すぎ
ると、熱膨張係数が大きくなりすぎ、また、化学的耐久
性が低下するおそれがある。したがって、好ましくは、
合量で10%未満、特に好ましくは合量で5%以下であ
る。
【0021】ZrO2 :必須成分ではないが、歪点を上
げる効果があり、歪点調整のために、含有することがで
きる。6%を超えると、歪点が高くなりすぎる。好まし
くは、5%以下である。
【0022】以上の成分の他、SO3 、As23 、S
23 等の清澄剤、Fe23 、NiO、CoO、T
iO2 、Se、CeO2 等の着色剤等を適宜使用でき
る。また、CaO、MgOと同様の効果を得るために、
ZnOを2%以下添加することもできる。
【0023】本発明の基板用ガラス組成物は、比重が
3.3以下、好ましくは3.2以下であるので、ディス
プレイパネル部材の軽量化が容易である。
【0024】また、本発明の基板用ガラス組成物は、典
型的には、50〜350℃の平均熱膨張係数が70×1
-7〜90×10-7/℃の範囲にあるので、従来と同様
のフリット材料を用いて、PDPを組み立てることがで
きる。
【0025】また、本発明の基板用ガラス組成物の歪点
は、625℃を超えるので、PDP製造時の熱処理によ
る熱収縮を抑えることができる。特に好ましくは、63
5℃以上である。
【0026】本発明のガラスは、PDP用基板として好
適である。その分光透過率は425〜475nm、51
0〜560nm、600〜650nmの範囲でそれぞれ
85%以上となっていることが好ましい。これらの波長
範囲での発光が効率的に表示に利用できるからである。
【0027】本発明のガラスは、例えば次のような方法
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標組成
になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、
1500〜1650℃に加熱して溶融する。この溶融ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
【0028】
【実施例】各成分の原料を目標組成になるように調合
し、白金るつぼを用いて1550〜1650℃に加熱し
4〜5時間かけて溶融した。熔解にあたっては、白金ス
ターラーを挿入し2時間撹拌してガラスの均質化を行っ
た。以上のようにして得られたガラスの平均熱膨張係数
α、歪点Ts 、比重を測定し、表1、表2にガラス組成
とともに示した。
【0029】表のうち例17は比較例である。各特性の
測定は以下のような方法で行った。
【0030】平均熱膨脹係数α(単位:×10-7
℃):示差熱膨張計を用い、石英ガラスを参照試料とし
て毎分5℃で昇温しながら、室温〜屈伏点までの膨張曲
線を測定し、50〜350℃の平均熱膨張係数を読み取
り、記録した。
【0031】歪点Ts (単位:℃):JIS R310
3のファイバー法による。
【0032】比重:アルキメデス法による。
【0033】表1、表2より明らかなように、本発明の
実施例にかかるガラス組成物は、625℃を超える歪点
を有するため、大型PDPの製造において、ガラスが変
形したり、収縮してしまう等の問題がない一方で、比重
が3.3以下なので、パネル基板として使用したとき
に、部材の軽量化ができる。
【0034】また、熱膨張係数は70〜90×10-7
-1の範囲にあり、従来PDP用基板として用いられてい
たソーダライムガラスと同等の熱膨張係数を有するた
め、同種のフリット材料を用いてPDPを製造すること
が可能である。
【0035】一方、例17は歪点が高いが、比重が大き
く、パネルを軽量化できない。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
【発明の効果】本発明によるガラスは、高い歪点を有す
るため、大型PDPの製造において、ガラスが変形した
り、収縮してしまう等の問題がない一方で、密度が重す
ぎないので、ディスプレイが重くなりすぎるのを防止で
きる。
【0039】また、熱膨張係数がソーダライムガラスと
同等であるため、従来用いているフリット等を用いてP
DPを製造できる。
【0040】さらに本発明のガラスは、フロート法によ
る生産にも適したものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】歪点が625℃を超え、50〜350℃の
    平均熱膨張係数が70〜90×10-7/℃、比重が3.
    3以下であって、実質的に重量%で、 SiO2 : 39〜54、 Al23 : 0〜14、 B23 : 0〜 5、 MgO : 0〜10、 CaO : 0〜10、 SrO : 5〜25、 BaO : 5〜25、 Na2 O : 0〜 7、 K2 O : 0〜15、 Li2 O : 0〜 6、 ZrO2 : 0〜 6、 からなる基板用ガラス組成物。
JP8061297A 1996-03-18 1996-03-18 基板用ガラス組成物 Pending JPH09255356A (ja)

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