JPH09255354A - 基板用ガラス組成物 - Google Patents
基板用ガラス組成物Info
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- JPH09255354A JPH09255354A JP8061295A JP6129596A JPH09255354A JP H09255354 A JPH09255354 A JP H09255354A JP 8061295 A JP8061295 A JP 8061295A JP 6129596 A JP6129596 A JP 6129596A JP H09255354 A JPH09255354 A JP H09255354A
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- thermal expansion
- substrate
- glass composition
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
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- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
る基板用ガラス組成物を得る。 【解決手段】重量%表示で実質的に、SiO2 :35〜
54、Al2 O3 :0〜14、B2 O3 :0〜8、Mg
O:0〜10、CaO:0〜10、SrO:8〜25、
BaO:8〜25、Na2 O:0〜16、K2 O:0〜
16、Li2 O:0〜6、ZrO2 :0〜6からなる。
Description
レイ、特にプラズマディスプレイパネル(PDP)に用
いるガラス基板組成物に関するものである。
電極、絶縁ペースト、リブペースト等を550〜600
℃程度の最高温度で焼成した後、対向板と周囲をフリッ
トシールすることにより製造される。従来、このための
基板ガラスとして建築用あるいは自動車用として広く用
いられるソーダライムガラスが一般的に用いられてき
た。
0℃程度であるため、上記の最高温度で熱処理を受ける
と基板ガラスが変形、あるいは収縮をおこし、寸法が著
しく変化する。したがって、対向板との電極位置合わせ
を精度良く実現しにくいという課題があった。特に、生
産性の高いベルト炉のような連続式の焼成炉を使用して
製造を行う場合、焼成中にガラス板の先端と後端で温度
差がつき、ガラス板が前後に非対称な寸法変化を起こす
という問題があった。
問題を解決するため、特開平3−40933や特開平7
−257937に開示されたような、熱膨張係数がソー
ダライムガラスと近く、ガラス転移点、歪点が高いガラ
スが知られている。このようなガラスを用いると、連続
式の焼成炉でPDP製造の熱処理を行っても、ソーダラ
イムガラスで問題となるような前後に非対称な寸法変化
を起こしにくいため、高い精度でパネルを焼成すること
が可能となる。
うなガラス組成でもフロート法などの大量生産型の徐冷
設備で生産した場合は、熱収縮率は依然と大きく、PD
P等の作製の前に熱収縮をあらかじめ充分行わせる「前
熱処理」を必要とする場合がある。すなわち、フロート
設備での徐冷は切断を可能とするための最低限の熱処理
であり、PDP生産の熱処理工程で熱収縮を生じさせな
いようにするための熱処理には足りないからである。
するのに要する前熱処理時間を考えたとき、この時間を
最低限の時間で効率的に行うためには、徐冷点が余りに
高いと適当ではない。一方、徐冷点が余りに低いと、前
述の非対象の寸法変化を起こすおそれがある。本発明者
らの検討の結果、PDP作製時の温度が、ガラスの徐冷
点からその上約50℃の範囲にあることが望ましいこと
がわかった。ガラスの歪点と徐冷点の温度差はガラス組
成により異なるが、一般に徐冷点は歪点より約50℃高
いこと、PDP作製時の熱処理温度が500〜600℃
であることを考えあわせると、効率的に熱収縮を低減で
きるガラスの歪点の条件は、500〜625℃になる。
適当な高さの歪点を有し、かつ50〜350℃の平均熱
膨張係数がソーダライムガラスと同等の基板用ガラスを
提示することにある。
625℃、50〜350℃の平均熱膨張係数が70〜9
0×10-7/℃であって、実質的に重量%で、 SiO2 : 35〜54、 Al2 O3 : 0〜14、 B2 O3 : 0〜 8、 MgO : 0〜10、 CaO : 0〜10、 SrO : 8〜25、 BaO : 8〜25、 Na2 O : 0〜16、 K2 O : 0〜16、 Li2 O : 0〜 6、 ZrO2 : 0〜 6、 からなる基板用ガラス組成物である。
下の通りである。
る。含有量が35重量%(以下%と表記する)未満では
他の成分の割合が増し、熱膨張係数が大きくなりすぎ
る。54%を超えると歪点が高くなる。好ましくは37
〜52%である。
上げる効果があるため、歪点の調整のために、含有する
ことができる。しかし、14%より多いと歪点が高くな
りすぎる。好ましくは12%以下である。
熔解性、失透抑制の効果があり、また歪点低下の効果が
あるので歪点調整のために含有することができる。しか
し、8%を超えると歪点が低くなりすぎるおそれがあ
る。好ましくは6%以下である。
解時の粘性を下げ、熔解を促進するので含有することが
できる。しかし、10%を超えると、失透温度が高くな
る。好ましくは8%以下である。
解時の粘性を下げ、熔解を促進するので含有することが
できる。しかし、10%を超えると、失透温度が高くな
る。好ましくは8%以下である。
解を促進する効果がある。8%未満では熱膨張係数が小
さくなりすぎる。一方、25%を超えると熱膨張係数が
大きくなりすぎる。好ましくは9〜22%である。
解を促進する効果がある。8%未満では熱膨張係数が小
さくなりすぎる。一方、25%以上では熱膨張係数が大
きくなりすぎる。好ましくは9〜22%である。
溶解促進のため、合量で26%超含有することが好まし
い。より好ましくは、28%以上である。
熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので含
有することができる。16%を超えると、熱膨張係数が
大きくなりすぎ、また、化学的耐久性が低下する。好ま
しくは15%以下である。
解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので含有
することができる。16%を超えると、熱膨張係数が大
きくなりすぎ、また、化学的耐久性が低下する。好まし
くは15%以下である。
熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので含
有することができる。6%を超えると、熱膨張係数が大
きくなりすぎ、また、化学的耐久性が低下する。好まし
くは、5%以下である。
ると、熱膨張係数が大きくなりすぎ、また、化学的耐久
性が低下するおそれがある。したがって、好ましくは、
合量で10%未満、特に好ましくは合量で5%以下であ
る。
げる効果があり、歪点調整のために、含有することがで
きる。6%を超えると、歪点が高くなりすぎる。好まし
くは、5%以下である。
b2 O3 等の清澄剤、Fe2 O3 、NiO、CoO、T
iO2 、Se、CeO2 等の着色剤等を適宜使用でき
る。また、CaO、MgOと同様の効果を得るために、
ZnOを2%以下添加することもできる。
は、50〜350℃の平均熱膨張係数が70×10-7〜
90×10-7/℃の範囲にあるので、従来と同様のフリ
ット材料を用いて、PDPを組み立てることができる。
は、前熱処理を効率的に行うため、500〜625℃の
範囲にあることが好ましい。特に好ましくは、525〜
600℃の範囲である。
適である。その分光透過率は425〜475nm、51
0〜560nm、600〜650nmの範囲でそれぞれ
85%以上となっていることが好ましい。これらの波長
範囲での発光が効率的に表示に利用できるからである。
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標組成
になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、
1500〜1650℃に加熱して溶融する。この溶融ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
し、白金るつぼを用いて1550〜1650℃に加熱し
4〜5時間かけて溶融した。熔解にあたっては、白金ス
ターラーを挿入し2時間撹拌してガラスの均質化を行っ
た。以上のようにして得られたガラスの平均熱膨張係数
α、歪点Ts 、比重を測定し、表1〜3にガラス組成と
ともに示した。また、例1、6、10、19、20につ
いては前処理に要する時間を3種類のプロセス温度(6
00℃、550℃、500℃)について示した。
各特性の測定は以下のような方法で行った。
℃):示差熱膨張計を用い、石英ガラスを参照試料とし
て毎分5℃で昇温しながら、室温〜屈伏点までの膨張曲
線を測定し、50〜350℃の平均熱膨張係数を読み取
り、記録した。
3に記載のファイバー法による。
℃、550℃、500℃)に1時間保持する熱処理で、
熱収縮量が50ppm以下となるのに要する熱処理時間
を示した。前熱処理の最高温度と徐冷速度はプロセス温
度に最適となるように設定した。
施例にかかるガラスの歪点は500〜625℃の範囲に
あり、効率的な前熱処理が可能である。また、50〜3
50℃の平均熱膨張係数は70〜90×10-7/℃の間
にあり、ソーダライムガラスと同等である。
理に時間を要する。
ための前熱処理が効率的に行えるため、プラズマディス
プレイ用基板等、製造時に熱処理を受ける用途に好適で
ある。また、熱膨張係数がソーダライムガラスと同等で
あるため、従来用いているフリット等を用いてPDPを
製造できる。さらに本発明のガラスは、フロート法によ
る生産にも適したものである。
Claims (2)
- 【請求項1】歪点が500〜625℃、50〜350℃
の平均熱膨張係数が70〜90×10-7/℃であって、
実質的に重量%で、 SiO2 : 35〜54、 Al2 O3 : 0〜14、 B2 O3 : 0〜 8、 MgO : 0〜10、 CaO : 0〜10、 SrO : 8〜25、 BaO : 8〜25、 Na2 O : 0〜16、 K2 O : 0〜16、 Li2 O : 0〜 6、 ZrO2 : 0〜 6、 からなる基板用ガラス組成物。 - 【請求項2】歪点が525〜600℃であることを特徴
とする請求項1に記載の基板用ガラス組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8061295A JPH09255354A (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 基板用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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JPH09255354A true JPH09255354A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13167070
Family Applications (1)
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JP8061295A Pending JPH09255354A (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 基板用ガラス組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH09255354A (ja) |
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- 1996-03-18 JP JP8061295A patent/JPH09255354A/ja active Pending
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